KR102094064B1 - Align System For Large Area Substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 얼라인 챔버에서의 공정 단계를 줄여 택타임을 줄이고 그에 따라 전체적인 증착시스템의 택타임을 줄이고자 하는 것이다.
얼라인 챔버에서 실시되는 공정 중 일부를 기존의 마스크 로더 중 하나에서 실시하게 함으로써 얼라인 챔버에서의 공정을 단순화하여 얼라인 챔버에서의 택타임을 단축시켰다.
즉, 얼라인 챔버에서 마스크와 척 플레이트의 합착 및 얼라인이 모두 실시되던 방식에서 벗어나 마스크 로더A에서 마스크와 척 플레이트 합착 공정을 실시하고 이들이 합착된 상태로 얼라인 챔버에 반입되면 얼라이너의 후크가 척 플레이트를 바로 들어올려 얼라인할 수 있게 하였다. It is an object of the present invention to reduce the tack time by reducing the process steps in the alignment chamber, thereby reducing the tack time of the overall deposition system.
By performing some of the processes performed in the alignment chamber in one of the existing mask loaders, the process in the alignment chamber is simplified to shorten the tack time in the alignment chamber.
In other words, the mask loader A performs the process of bonding the mask and the chuck plate from the method in which the mask and the chuck plate are all bonded and aligned in the alignment chamber, and when they are brought into the alignment chamber in a bonded state, the aligner's hook is released. The chuck plate was directly lifted to allow alignment.

Description

대면적 기판 얼라인 시스템{Align System For Large Area Substrate} Align System For Large Area Substrate

본 발명은 척 플레이트를 사용하여 기판에 박막을 증착하는 공정에 적용되는 마스크 얼라인 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a mask alignment system applied to a process of depositing a thin film on a substrate using a chuck plate.

디스플레이, 반도체 등을 제작은 공정 시간을 단축할수록 생산량이 증대된다. 그에 따라 대면적 기판을 사용하고 공정 시스템을 효율적으로 설계하고 있다. 대면적 기판의 경우, 기판 처짐을 방지하기 위해 척 플레이트를 사용하며, 기판에 합착되는 마스크와의 얼라인 공정은 상대적으로 긴 시간이 걸린다. In the case of manufacturing a display, a semiconductor, etc., the production time increases as the processing time is shortened. Accordingly, large area substrates are used and process systems are designed efficiently. In the case of a large area substrate, a chuck plate is used to prevent sagging of the substrate, and the alignment process with the mask adhered to the substrate takes a relatively long time.

기존의 증착시스템(등록특허 10-1448347 참조)은 도 1과 같이 마스크는 마스크 로더 B(100)로부터 마스크 로더 A(200)로 반입되고 척 플레이트(기판 척킹 상태)는 마스크 로더 A의 외부에서 마스크 로더 A로 반입되고 마스크와 척 플레이트는 각각 이송 수단에 의해 얼라인 챔버(300)로 반입된다. 얼라인 챔버에서 척 플레이트에 척킹된 기판을 마스크 위치까지 이동시켜 마스크와 얼라인을 진행한 후 합착된다. 도 1에서 마스크 로더 B와 A에서는 공정이 신속히 진행되지만 얼라인 챔버에서는 시간이 오래 걸린다. 마스크 로더 A에서 마스크는 마스크 반송 수단에 의해 척 플레이트에 비해 하방으로 반입되고, 척 플레이트는 별도의 반송 수단에 의해 상방으로 반입되어 서로 합착 되지 않고 상당한 간격을 둔 상태 그대로 각각의 반송 수단에 의해 얼라인 챔버로 반입된다. 그에 따라 얼라인 챔버에서 반입된 척플레이트를 얼라이너 후크에 의해 인수한 후 척 반송 수단이 후퇴하고, 마스크와의 얼라인을 위해 하강하게 되는 공정들이 모두 진행되기 때문에 마스크 로더들은 장시간 동안 별다른 공정 실시없이 대기상태에 있게 된다. 상기에서 반입된 척 플레이트를 마스크 위에 내려놓는 합착 과정이 상당히 긴 시간을 차지한다. 궁극적으로 얼라인 챔버에서의 긴 택타임이 전체 공정의 택 타임의 제한 요인이 되어 택 타임을 그 이하로 단축시킬 수 없게 된다. In the existing deposition system (refer to the registered patent 10-1448347), the mask is carried from the mask loader B 100 to the mask loader A 200 as shown in FIG. 1, and the chuck plate (substrate chucking state) is masked from the outside of the mask loader A It is carried into the loader A, and the mask and the chuck plate are respectively carried into the alignment chamber 300 by the conveying means. In the alignment chamber, the substrate chucked on the chuck plate is moved to the position of the mask to advance the alignment with the mask and then bonded. In Figure 1, the mask loader B and A process proceeds rapidly, but it takes a long time in the alignment chamber. In the mask loader A, the mask is carried downward compared to the chuck plate by the mask conveying means, and the chuck plate is carried upward by the separate conveying means and is not adhered to each other, and is frozen by each conveying means without leaving a significant gap. It is brought into the in-chamber. Accordingly, after the chuck plate brought in from the alignment chamber is taken over by the aligner hook, the chuck conveying means retreats, and the processes of descending for alignment with the mask are all performed, so the mask loaders perform a different process for a long time. Without waiting. The bonding process of placing the chuck plate carried in from above on the mask takes a very long time. Ultimately, the long tack time in the alignment chamber becomes a limiting factor of the tack time of the entire process, and the tack time cannot be shortened below that.

따라서 본 발명의 목적은 얼라인 챔버에서의 공정 단계를 줄여 택타임을 줄이고 그에 따라 전체적인 증착시스템의 택타임을 줄이고자 하는 것이다. Accordingly, it is an object of the present invention to reduce the process step in the alignment chamber to reduce the tack time, thereby reducing the overall deposition system tack time.

상기 목적에 따라 본 발명은 얼라인 챔버에서 실시되는 공정 중 일부를 기존의 마스크 로더 중 하나에서 실시하게 함으로써 얼라인 챔버에서의 공정을 단순화하여 얼라인 챔버에서의 택타임을 단축시켰다.According to the above object, the present invention simplifies the process in the alignment chamber and shortens the tack time in the alignment chamber by allowing some of the processes performed in the alignment chamber to be performed in one of the existing mask loaders.

즉, 얼라인 챔버에서 마스크와 척 플레이트의 합착 및 얼라인이 모두 실시되던 방식에서 벗어나 마스크 로더A에서 마스크와 척 플레이트 합착 공정을 실시하고 이들이 합착된 상태로 얼라인 챔버에 반입되면 얼라이너의 후크가 척 플레이트를 바로 들어올려 얼라인할 수 있게 하였다. In other words, the mask loader A performs the process of bonding the mask and the chuck plate from the method in which the mask and the chuck plate are all bonded and aligned in the alignment chamber, and if they are brought into the alignment chamber in a bonded state, the hook of the aligner is released. The chuck plate was directly lifted to allow alignment.

본 발명에 따르면, 기존 얼라인 챔버에서만 진행되었던 공정을 하나의 챔버가 아닌 두 개의 챔버에서 분리 진행되게 함으로서 얼라인 챔버에서의 택타임을 기존 방식에 비해 30% 이상 단축시킨다. 즉, 얼라인 챔버의 기능을 일부 분리하여 상대적으로 택타임의 여유가 있는 마스크 로더 A에 분배하여 얼라인 챔버의 택타임을 줄여 전체 공정의 택타임을 줄였다. According to the present invention, the process performed only in the existing alignment chamber is separated from two chambers rather than one chamber, thereby reducing the tack time in the alignment chamber by 30% or more compared to the conventional method. That is, the function of the alignment chamber was partially separated and distributed to the mask loader A, which has a relatively tactical time, to reduce the tack time of the alignment chamber, thereby reducing the tack time of the entire process.

또한, 얼라인 공정 중 마스크와 척 플레이트의 합착 과정을 마스크 로더 A에 일임하였기 때문에 얼라인 챔버에 척 반송부와 마스크 반송부를 별도로 구성할 필요가 없고 척 센터링 유닛도 필요가 없으며, 얼라인 장비의 후크도 업다운 구동없이 마스크 센터링 후 바로 후크의 회전 구동만으로 척 플레이트를 후크에 걸리게 할 수 있어 장치 구성과 운용을 간소화할 수 있다. In addition, since the process of bonding the mask and the chuck plate during the alignment process is dedicated to the mask loader A, there is no need to separately configure the chuck transfer part and the mask transfer part in the alignment chamber, and no chuck centering unit is required. It is possible to simplify the device configuration and operation by hooking the chuck plate to the hook just by rotating the hook immediately after centering the mask without up-down driving.

도 1은 종래 얼라인 공정이 실시되는 챔버들의 레이아웃이다.
도 2는 본 발명에 따라 얼라인 공정을 분담시킨 챔버들의 배열을 보여준다.
도 3은 본 발명에 따라 후크의 업다운 기능이 없는 얼라이너를 보여주는 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 얼라인 시스템에서 공정 흐름을 보여주는 순서도이다. 1 is a layout of chambers in which a conventional alignment process is performed.
Figure 2 shows the arrangement of the chambers sharing the alignment process in accordance with the present invention.
3 is a perspective view showing an aligner without an up-down function of a hook according to the present invention.
4 is a flow chart showing the process flow in the alignment system according to the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 얼라인 시스템의 레이아웃이다. 2 is a layout of an alignment system according to the present invention.

기존의 마스크 로더 중 하나를 제1 얼라인 챔버(250)로 구성하였다. One of the existing mask loaders was configured as the first alignment chamber 250.

마스크 로더(100)로부터 마스크가 제1 얼라인 챔버(250)로 반입되고, 제1 얼라인 챔버(250) 외부로부터 척 플레이트(기판 척킹 상태)가 제1 얼라인 챔버(250)로 반입된다. 이때 마스크와 척 플레이트는 각각의 반송 기구를 통해 반입되며, 척 플레이트는 마스크에 비해 상대적으로 위쪽에서 반입된다. A mask is brought into the first alignment chamber 250 from the mask loader 100, and a chuck plate (substrate chucking state) is brought into the first alignment chamber 250 from outside the first alignment chamber 250. At this time, the mask and the chuck plate are carried through each conveying mechanism, and the chuck plate is brought in from the upper side relative to the mask.

제1 얼라인 챔버(250)는 반입되는 척 플레이트와 마스크를 각각 로딩하고 반입된 척플레이트를 얼라이너 후크에 의해 인수한 후 척 플레이트 반송 수단이 후퇴하고, 마스크와 합착하게 된다. 척 플레이트의 기판과 마스크를 얼라인 하는 공정 못지않게 긴 시간을 차지하는 합착 과정을 제1얼라인 챔버(250)에서 실시함에 따라 제2 얼라이너(350)에서의 공정 시간이 줄어들게 된다. The first alignment chamber 250 loads the chuck plate and the mask, respectively, and the chuck plate conveying means is retracted after being brought in by the aligner hook, and the chuck plate conveying means is retracted and cemented with the mask. The process time in the second aligner 350 is reduced as the bonding process, which takes a longer time than the process of aligning the substrate and the mask of the chuck plate, is performed in the first alignment chamber 250.

상술한 바와 같이 제1 얼라인 챔버(250)에서 척 플레이트와 합착된 마스크를 반송 수단에 의해 제2 얼라인 챔버(350)로 이송한다. As described above, the mask bonded to the chuck plate in the first alignment chamber 250 is transferred to the second alignment chamber 350 by the conveying means.

제2 얼라인 챔버(350)는 척 플레이트와 마스크 합착체를 반입 받아 마스크 센터링 수단으로 마스크 하부를 지지하여 인수한다. 얼라이너의 후크(360)에 척 플레이트가 걸려 고정되고 마스크 센터링 수단은 하강하여 마스크와 척 플레이트가 이격된 상태에서 얼라인되므로 제2 얼라인 챔버(350)에서의 공정시간은 기존 도 1의 구성에 비해 크게 단축된다. 실제로 도 1에 의한 얼라인 공정은 70초가 소요되지만 본 발명에 따르면 제1 얼라인 챔버에서의 공정 시간이 48초, 제2 얼라인 챔버(350)에서의 시간이 48초로 전체적인 택타임이 줄어든다. The second alignment chamber 350 receives and takes in the chuck plate and the mask assembly by supporting the lower portion of the mask with a mask centering means. Since the chuck plate is hung on the hook 360 of the aligner and the mask centering means descends and is aligned in a state where the mask and the chuck plate are separated, the processing time in the second alignment chamber 350 is based on the configuration of FIG. 1. It is greatly shortened. In practice, the alignment process according to FIG. 1 takes 70 seconds, but according to the present invention, the process time in the first alignment chamber is 48 seconds, and the time in the second alignment chamber 350 is 48 seconds, thereby reducing the overall tack time.

도 3과 도 4를 참조하여 얼라인 공정을 좀 더 상세히 설명한다.The alignment process will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4.

도 3은 얼라이너의 후크(360)를 보여준다. 스테이지(370)에 장착되어 있고 스테이지 아래로 후크 단부가 놓이며, 후크(360)는 회전 구동될 수 있다. 이러한 구조로 인해 척 플레이트 상에 형성된 후크 체결부에 체결될 수 있다. 후크 체결부는 후크 형상과 같은 오목부와 후크가 회전되었을 때의 안착부가 오목부보다 좀 더 깊이 들어간 곳에 형성되어 있다. 후크가 오목부에 넣어진 다음 회전 구동되어 안착부에 안착 되면 후크에 걸려 잠긴 상태가 됨으로써 척 플레이트가 후크에 걸린 채 미세 조종될 수 있다. 3 shows the hook 360 of the aligner. It is mounted on the stage 370 and a hook end is placed under the stage, and the hook 360 can be rotationally driven. Due to this structure, it can be fastened to the hook fastener formed on the chuck plate. The hook fastening portion is formed in a concave portion such as a hook shape and a seating portion when the hook is rotated more deeply than the concave portion. When the hook is put into the recess and then rotated to be seated on the seat, the hook is locked to the hook so that the chuck plate can be finely controlled while hooked.

상기에서 척 플레이트가 미세 조종되어 기판과 마스크가 얼라인 되는 구성은 기구부를 변경하여 마스크가 미세조종되어 얼라인되게 변형될 수 있다. 예를 들면, 척 플레이트는 후크, 로딩 핀, 또는 탑재부와 같은 지지체에 의해 지지되고, 마스크는 미세 구동이 가능한 스테이지, 지지체, 또는 암(arm)과 같은 기구에 의해 고정된 기판에 미세 조종되어 얼라인될 수 있다. The configuration in which the chuck plate is finely manipulated to align the substrate and the mask may be modified such that the mask is finely manipulated and aligned by changing the mechanism. For example, the chuck plate is supported by a support such as a hook, a loading pin, or a mounting portion, and the mask is finely manipulated and frozen on a substrate fixed by a stage, a support, or an instrument such as an arm capable of fine driving. Can be.

도 4는 본 발명에 따라 얼라인 공정이 두 개의 챔버에서 분리 실시될 때 제2 얼라인 챔버(350)에서 실시되는 얼라인 공정을 순서대로 보여준다. 4 shows an alignment process performed in the second alignment chamber 350 in order when the alignment process is performed in two chambers according to the present invention.

제2 얼라인 챔버의 슬롯 밸브가 열려 척 플레이트가 마스크와 합착된 상태로 제2 얼라인 챔버 안으로 반입된다. 정속으로 이송되다가 점차 감속하여 정지하면, 마스크 센터링 수단이 상승하여 마스크와 척 플레이트 합착체를 지지하여 인수한다. The slot valve of the second alignment chamber is opened, and the chuck plate is brought into the second alignment chamber in a state where it is bonded to the mask. When it is transferred at constant speed and gradually decelerates and stops, the mask centering means rises to support and take over the mask and chuck plate assembly.

마스크 센터링 수단이 상승하여 마스크 위에 놓인 척 플레이트가 얼라이너의 후크(360)의 체결부에 체결되게 한다. The mask centering means is raised so that the chuck plate placed on the mask is fastened to the fastening portion of the hook 360 of the aligner.

후크가 회전하여 척 플레이트는 후크에 걸려 잠김 상태로 된다.As the hook rotates, the chuck plate is locked by the hook.

마스크 센터링 수단은 하강하여 후크에 걸린 척 플레이트로부터 마스크가 분리하강 된다.The mask centering means descends to separate the mask from the chuck plate hanging on the hook.

후크가 미세 조종되면서 기판과 마스크가 얼라인된다.As the hook is finely maneuvered, the substrate and mask are aligned.

얼라인 되면 마스크 센터링 수단이 상승하여 척 플레이트와 합착되고 비젼으로 얼라인 여부를 확인한다. 만일 얼라인이 잘못되었다면 다시 마스크 센터링 수단이 하강하고 얼라인이 재실시되고, 얼라인이 잘 되었다면 마스크 센터링 수단이 상승된 상태를 유지하며 후크는 원위치로 회전하여 잠금 상태가 풀려 척 플레이트의 체결부를 벗어날 수 있게 위치된다. When aligned, the mask centering means rises and adheres to the chuck plate, and it is checked whether it is aligned by vision. If the alignment is wrong, the mask centering means again descends and the alignment is re-executed. If alignment is good, the mask centering means remains elevated, and the hook is rotated to the original position to release the locking state and release the fastening part of the chuck plate. It is positioned to escape.

마스크 센터링 수단이 하강하면서 얼라인 된 척 플레이트와 마스크 합착체는 반송 수단(예를 들면 롤러)에 탑재된다.The chuck plate aligned with the mask centering means descending, and the mask assembly is mounted on a conveying means (for example, a roller).

이와 같이 얼라인 공정을 분리 분배함에 따라 종래 얼라인 챔버에서 70초의 택타임을 소요하던 것과 달리 48초만에 얼라인이 완료된다.In this way, as the alignment process is separated and distributed, alignment is completed in 48 seconds, unlike that of the conventional alignment chamber, which takes 70 seconds.

그에 따라 전체 공정 사이클이 빨라져 생산성을 향상시킨다. This speeds up the entire process cycle, improving productivity.

또한, 제2얼라인 챔버에서 후크가 업다운 할 필요가 없이 단순 회전 동작만 하기 때문에 후크 샤프트 길이가 짧아져 얼라인 시 진동이 줄어 안정적인 얼라인 동작이 이루어지며, 무거운 척 플레이트를 업다운시키는 기구부와 구동부가 필요 없고 척 플레이트를 업다운시키지 않아 전력소모도 줄어든다. In addition, since the hook does not need to be up and down in the second alignment chamber, the hook shaft length is shortened and vibration is reduced when aligning, resulting in stable alignment operation, and a mechanism part and a driving part for up and down the heavy chuck plate. It does not need and does not up-down the chuck plate, reducing power consumption.

마스크와 척 플레이트가 별도의 반송 수단을 타고 들어오지 않고 하나의 반송 수단에 의해 반입되기 때문에 반송 수단도 간소화된다. The conveying means is also simplified because the mask and the chuck plate are carried in by one conveying means without coming in on separate conveying means.

척 플레이트는 마스크와 합착되어 반입되고 마스크만 센터링 기구로 업다운시키기 때문에 척 플레이트에 대한 센터링 기구도 필요치 않고 다만 마스크 센터링 수단부의 업다운 행정이 약간 더 길어질 뿐이다.Since the chuck plate is brought into contact with the mask and only the mask is brought up and down with the centering mechanism, no centering mechanism is required for the chuck plate, but the up-down stroke of the mask centering means portion is only slightly longer.

한편, 상기에서 얼라이너의 후크는 척 플레이트를 지지하여 얼라인 동작을 실시할 수 있는 대체 수단으로 대체될 수 있다. 각종 손잡이부와 그 결합부 등의 기구로 척 플레이트 제어기구를 구성할 수 있다. On the other hand, the hook of the aligner in the above may be replaced with an alternative means for performing an alignment operation by supporting the chuck plate. The chuck plate control mechanism can be configured with mechanisms such as various handle portions and coupling portions thereof.

상기와 같이 하여 장비 간소화와 얼라인의 정확성 향상 및 택타임 단축의 효과를 거둘 수 있다. As described above, it is possible to achieve the effect of simplifying equipment, improving the accuracy of alignment, and shortening the tack time.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시 예에 한정되지 않고 청구범위에 기재The rights of the present invention are not limited to the embodiments described above and are described in the claims.

된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.It is defined by the bar, and it is obvious that a person having ordinary knowledge in the field of the present invention can make various modifications and adaptations within the scope of the claims.

100: 마스크 로더 A
200: 마스크 로더 B
300, 250, 350: 얼라인 챔버
360: 스테이지100: mask loader A
200: mask loader B
300, 250, 350: Align chamber
360: Stage

Claims (5)

기판에 마스크를 합착하여 물질을 증착하는 증착 시스템에 포함되는 얼라인 시스템에 있어서,
마스크를 공급하는 챔버로서 마스크 로더;
상기 마스크 로더에 인접하는 제1 얼라인 챔버; 및
상기 제1 얼라인 챔버에 인접하는 제2 얼라인 챔버;를 포함하고,
상기 마스크 로더로부터 마스크가 상기 제1 얼라인 챔버로 반입되고, 제1 얼라인 챔버 외부로부터 기판 척킹 상태의 척 플레이트가 상기 제1 얼라인 챔버로 반입되며,
상기 제1 얼라인 챔버에서,
상기 마스크 로더로부터 반입되는 마스크를 로딩하고, 외부로부터 반입되는 기판이 척킹된 척 플레이트를 반입 받아 로딩하되, 척플레이트를 얼라이너 후크로 인수한 후 척 플레이트 반송 수단은 제1 얼라인 챔버로부터 후퇴하고, 척 플레이트와 마스크를 합착하고, 마스크와 척 플레이트 합착체를 반송 기구를 이용하여 상기 제2 얼라인 챔버로 반출하고,
상기 제2 얼라인 챔버에서, 마스크와 척 플레이트 합착체를 반입 받아 마스크와 척 플레이트의 기판을 서로 얼라인 하며,
마스크 센터링 수단이 상승하여 상기 마스크와 척 플레이트 합착체를 지지하여 인수하고, 마스크 위에 놓인 척 플레이트가 얼라이너의 후크에 걸려 잠김 상태로 되고, 마스크 센터링 수단은 하강하여 후크에 걸린 척 플레이트로부터 마스크가 분리하강 되고, 상기 기판과 마스크가 얼라인되고,
얼라인이 완료 되면 마스크 센터링 수단이 상승하여 척 플레이트와 합착되고, 상기 후크의 잠금 상태가 풀리고, 상기 마스크 센터링 수단이 하강하면서 얼라인 된 척 플레이트와 마스크 합착체는 반송 수단에 탑재되는 것을 특징으로 하는 얼라인 시스템.
In the alignment system included in the deposition system for depositing a material by bonding the mask to the substrate,
A mask loader as a chamber for supplying a mask;
A first alignment chamber adjacent to the mask loader; And
Including; a second alignment chamber adjacent to the first alignment chamber;
A mask is brought into the first alignment chamber from the mask loader, and a chuck plate in a state of chucking the substrate from outside the first alignment chamber is brought into the first alignment chamber,
In the first alignment chamber,
The mask loaded from the mask loader is loaded, and a substrate loaded from the outside receives and loads a chucked chuck plate, but after taking over the chuck plate with the aligner hook, the chuck plate conveying means retracts from the first alignment chamber. , The chuck plate and the mask are adhered, and the mask and chuck plate assembly is carried out to the second alignment chamber using a conveying mechanism,
In the second alignment chamber, the mask and the chuck plate assembly are brought in, and the substrates of the mask and the chuck plate are aligned with each other,
The mask centering means rises to support and take over the mask and chuck plate assembly, and the chuck plate placed on the mask is locked by the hook of the aligner, and the mask centering means descends to separate the mask from the chuck plate caught by the hook. Descending, the substrate and the mask are aligned,
When the alignment is completed, the mask centering means rises to join the chuck plate, the hook is unlocked, and the chuck plate and the mask assembly aligned with the mask centering means descend is mounted on the conveying means. Alignment system.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 제2 얼라인 챔버는, 마스크를 지지하고 업다운 시킬 수 있는 마스크 센터링 수단을 구비하여, 마스크와 척 플레이트 합착체가 반입되면, 상기 마스크 센터링 수단이 상승하여 마스크를 지지하여 인수하고, 척 플레이트 제어부가 척 플레이트를 인수하되 업다운 동작이 없이 인수하고, 상기 마스크 센터링 수단이 하강하여 마스크를 척 플레이트로부터 분리하고, 척 플레이트의 기판과 상기 마스크를 얼라인하고, 상기 마스크 센터링 수단이 상승하여 마스크를 척 플레이트와 합착시키는 것을 특징으로 하는 얼라인 시스템.  According to claim 1, The second alignment chamber is provided with a mask centering means capable of supporting and up-down the mask, when the mask and the chuck plate assembly is carried, the mask centering means rises to support the mask to take over And the chuck plate control unit takes over the chuck plate but without the up-down operation, the mask centering means descends to separate the mask from the chuck plate, aligns the substrate of the chuck plate and the mask, and the mask centering means Alignment system characterized by ascending and bonding the mask to the chuck plate. 제3항에 있어서, 상기 척 플레이트의 기판과 상기 마스크를 얼라인 하기 위해 상기 척 플레이트 제어부가 후크를 구비하여 상기 척 플레이트를 걸어 회전 동작으로 잠금하고 후크에 걸린 척 플레이트를 미세 구동하여 얼라인하는 것을 특징으로 하는 얼라인 시스템. According to claim 3, In order to align the substrate and the mask of the chuck plate, the chuck plate control unit is provided with a hook to hook the chuck plate to lock it in a rotational motion, and finely align the chuck plate hooked on the hook. Alignment system characterized in that. 제3항에 있어서, 상기 척 플레이트의 기판과 상기 마스크를 얼라인 하기 위해 마스크가 미세 구동이 가능한 기구에 연동 되어 마스크를 미세 구동하여 얼라인 하는 것을 특징으로 하는 얼라인 시스템.



The alignment system according to claim 3, wherein the mask is interlocked with a mechanism capable of fine driving to align the substrate and the mask of the chuck plate to finely drive the mask.



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