KR102089977B1 - Assist light projection apparatus, Flash apparatus, and Photographing apparatus - Google Patents

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Abstract

자동 초점 검출용 패턴의 초점 거리의 변화에 대한 로버스트성을 향상시키는 기술에 관한 것으로서, 보조광 투영부(32)(보조광 투영장치)는 초점 검출부(16)(자동 초점 검출장치)를 구비한 카메라(10)(촬상장치)에 장착되어, 초점 검출부(16)가 자동 초점 검출을 행하기 위해 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴(P)을 피사체(F)에 투영하는 것이다. 자동 초점 검출용 패턴(P)은 조 패턴 영역(Pr), 조 패턴 영역(Pr)보다 빽빽한 중 패턴 영역(Pm), 중 패턴 영역(Pm)보다 빽빽한 밀 패턴 영역(Pc)을 포함한다. 자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 조 패턴 영역(Pr)의 중심 좌표(prc)와 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc)와 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 카메라(10)의 촬영 렌즈(20)(촬상 광학계)와 보조광 투영부(32)의 투영계의 시차를 고려하여 서로 떨어져 있다.A technique for improving robustness against a change in a focal length of a pattern for autofocus detection, wherein the auxiliary light projection unit 32 (auxiliary light projection device) is a camera equipped with a focus detection unit 16 (autofocus detection device) (10) It is mounted on the (imaging device), and the focus detection unit 16 projects the pattern P for auto focus detection onto the subject F as an auxiliary light in order to perform auto focus detection. The pattern P for autofocus detection includes a rough pattern area Pr, a heavy pattern area Pm denser than the rough pattern area Pr, and a wheat pattern area Pc denser than the heavy pattern area Pm. In the pattern P for autofocus detection, the center coordinates (prc) of the jaw pattern area Pr and the center coordinates (pmc) of the middle pattern area Pm and the center coordinates (pcc) of the mill pattern area Pc are the cameras. In consideration of the parallax between the photographing lens 20 (imaging optical system) of (10) and the projection system of the auxiliary light projection unit 32, they are separated from each other.

Description

보조광 투영장치, 섬광장치, 및 촬상장치{Assist light projection apparatus, Flash apparatus, and Photographing apparatus}Assist light projection apparatus, flash apparatus, and photographing apparatus

본 발명은 보조광 투영장치, 섬광장치, 및 카메라에 관한 것이다.The present invention relates to an auxiliary light projection device, a flash device, and a camera.

본 발명과 관련된 기술로서, 일본 공개특허 2010-008689호는 자동 초점 검출장치를 구비한 카메라에 장착되거나 내장되며, 보조광으로서 초점 검출용 패턴을 피사체에 투영하고, 이 피사체에서 반사된 초점 검출용 패턴을 자동 초점 검출장치에서 검출하는 보조광 투영장치를 개시하고 있다.As a technique related to the present invention, Japanese Patent Application Publication No. 2010-008689 is mounted or embedded in a camera equipped with an auto focus detection device, and projects a pattern for focus detection as an auxiliary light onto a subject, and a pattern for focus detection reflected from the subject Disclosed is an auxiliary light projection device that detects an autofocus detection device.

이 초점 검출용 패턴은 촬영 화면의 중앙 부근에서 빽빽(密)하게 되고, 그 이외의 영역에서는 성기게(粗) 된다. 이에 의해 광각 렌즈와 망원 렌즈 중 어는 것을 사용하는 경우에도 측거 에리어(auto-focusing area)와 초점 검출용 패턴의 관계를 적절하게 하는 것이 가능하기 때문에 항상 정확하게 자동 초점 검출을 할 수 있게 된다. This focus detection pattern becomes dense in the vicinity of the center of the photographing screen, and sparsely in other areas. As a result, even when a wide-angle lens or a telephoto lens is used, it is possible to properly adjust the relationship between the auto-focusing area and the pattern for focus detection, so that auto-focus detection is always performed accurately.

그런데, 보조광 투영장치는 촬영 렌즈로부터 떨어진 위치에 배치되어 있기 때문에, 초점 검출용 패턴 내에서 측거 에리어는 초점 거리에 따라 이동하게 된다. 따라서, 상술한 특허 문헌의 초점 검출용 패턴을 채용하면, 초점 거리가 큰 경우, 측거 에리어의 중심이 초점 검출용 패턴의 빽빽한 영역에서 벗어나게 된다. 그 결과, 보조광 투영에 의한 자동 초점 검출의 정도를 충분하게 확보할 수 없는 경우가 있다. However, since the auxiliary light projection apparatus is disposed at a position away from the photographing lens, the range area in the focus detection pattern moves according to the focal length. Therefore, when the focus detection pattern of the above-mentioned patent document is employed, when the focal length is large, the center of the distance measurement area deviates from the dense region of the focus detection pattern. As a result, the degree of automatic focus detection by auxiliary light projection may not be sufficiently secured.

본 발명은 자동 초점 검출용 패턴의 초점 거리의 변화에 대한 로버스트성(robust 性)(강건성)을 향상시킬 수 있는 기술을 제공하는 것에 관련된다.The present invention relates to providing a technique capable of improving robustness (robustness) to a change in the focal length of a pattern for automatic focus detection.

본 발명의 제1관점에 의하면, 자동 초점 검출장치를 구비한 촬상장치에 장착되거나 내장되어 상기 자동 초점 검출장치가 자동 초점 검출을 행하기 위해 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴을 피사체에 투영하는 보조광 투영장치에 있어서, 상기 자동 초점 검출용 패턴은 조 패턴 영역, 상기 조 패턴 영역보다 빽빽한 밀 패턴 영역을 포함하고, 상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 조 패턴 영역의 중심 좌표와 상기 밀 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 촬상장치의 촬상 광학계와 상기 보조광 투영장치의 투영계의 시차를 고려하여 떨어져 있는 보조광 투영장치가 제공될 수 있다. According to the first aspect of the present invention, an auxiliary light projection that is mounted on or built in an imaging device having an autofocus detection device and that the autofocus detection device projects an autofocus detection pattern as an auxiliary light on an object to perform autofocus detection In the apparatus, the pattern for autofocus detection includes a rough pattern region, a wheat pattern region denser than the rough pattern region, and in the autofocus detection pattern, a center coordinate of the rough pattern region and a center of the mill pattern region Coordinates may be provided with a separate auxiliary light projection device in consideration of the parallax between the imaging optical system of the imaging device and the projection system of the auxiliary light projection device.

본 발명의 제2관점에 의하면, 자동 초점 검출장치를 구비한 촬상장치에 장착되거나 내장되며, 상기 자동 초점 검출장치가 자동 초점 검출을 수행하기 위한 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴을 피사체에 투영하는 보조광 투영장치에 있어서, 상기 자동 초점 검출용 패턴은 조 패턴 영역, 상기 조 패턴 영역보다 빽빽한 중 패턴 영역과, 상기 중 패턴 영역보다 빽빽한 밀(密) 패턴 영역을 포함하고, 상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 조 패턴 영역의 중심 좌표와, 상기 중 패턴 영역의 중심 좌표와, 상기 밀 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 촬상장치의 촬상 광학계와 상기 보조광 투영장치의 투영계의 시차를 고려하여 서로 떨어져 있는 보조광 투영장치가 제공될 수 있다.According to the second aspect of the present invention, an auxiliary light that is mounted on or embedded in an imaging device equipped with an autofocus detection device, and the autofocus detection device projects an autofocus detection pattern onto a subject as an auxiliary light for performing autofocus detection. In the projection apparatus, the pattern for auto focus detection includes a rough pattern region, a heavy pattern region denser than the rough pattern region, and a dense pattern region denser than the heavy pattern region, and in the auto focus detection pattern. , The center coordinates of the rough pattern area, the center coordinates of the middle pattern area, and the center coordinates of the mill pattern area are auxiliary lights spaced apart from each other in consideration of the parallax between the imaging optical system of the imaging device and the projection system of the auxiliary light projection device. A projection device can be provided.

본 발명의 제3관점에 의하면, 상기 촬상장치에 장착되며, 상기 촬상장치의 동작 지시에 기초하여 섬광을 발광하는 섬광장치에 있어서, 상기 보조광 투영장치를 탑재한 섬광장치가 제공될 수 있다. According to a third aspect of the present invention, in a scintillation device mounted on the imaging device and emitting flash based on an operation instruction of the imaging device, a scintillation device equipped with the auxiliary light projection device may be provided.

본 발명의 제4관점에 의하면, 상기 보조광 투영장치를 탑재한 촬상장치가 제공될 수 있다.According to the fourth aspect of the present invention, an imaging device equipped with the auxiliary light projection device can be provided.

본 발명에 의하면, 자동 초점 검출용 패턴의 초점 거리의 변화에 대한 로버스트성질이 향상된다. Advantageous Effects of Invention According to the present invention, robustness against a change in a focal length of a pattern for automatic focus detection is improved.

도 1은 섬광장치가 탑재된 카메라의 기능 블록도;
도 2는 섬광장치가 탑재된 카메라의 정면도;
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 의한 자동 초점 검출용 패턴;
도 4는 광각측으로 줌(zoom)한 모습을 이미지화한 평면도;
도 5는 광각측으로 줌한 경우에, 투영계로부터 피사체의 모양을 이미지화한 도면;
도 6은 망원측으로 줌한 모습을 이미지화한 평면도;
도 7은 망원측으로 줌한 경우에, 투영계로부터 피사체의 모양을 이미지화한 도면;
도 8은 보조광 투영부를 내장한 카메라의 정면도이다.
1 is a functional block diagram of a camera equipped with a flash device;
2 is a front view of a camera equipped with a flash device;
3 is a pattern for auto focus detection according to an embodiment of the present invention;
4 is a plan view image of a zoomed view toward the wide-angle side;
Fig. 5 is an image of the shape of the subject from the projection system when zoomed to the wide-angle side;
6 is a plan view image of a zoomed view toward the telephoto side;
Fig. 7 is an image of the shape of the subject from the projection system when zoomed to the telephoto side;
8 is a front view of a camera incorporating an auxiliary light projection.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 보조광 투영장치, 섬광장치, 및 촬상장치의 실시 예들에 대하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, embodiments of the auxiliary light projection apparatus, the scintillation apparatus, and the imaging apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하에서 설명되는 실시 예는 본 발명의 이해를 돕기 위하여 예시적으로 나타낸 것이며, 본 발명은 여기서 설명되는 실시 예들과 다르게 다양하게 변형되어 실시될 수 있음이 이해되어야 할 것이다. 다만, 이하에서 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성요소에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명 및 구체적인 도시를 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 발명의 이해를 돕기 위하여 실제 축척대로 도시된 것이 아니라 일부 구성요소의 치수가 과장되게 도시될 수 있다.It should be understood that the embodiments described below are illustratively shown to help the understanding of the present invention, and the present invention can be implemented in various ways different from the embodiments described herein. However, in the following description of the present invention, when it is determined that a detailed description of related known functions or components may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description and specific illustration will be omitted. In addition, the accompanying drawings may not be drawn to scale in order to aid the understanding of the invention, but the dimensions of some components may be exaggerated.

도 1에서, 카메라(촬상장치)(10)는, 예를 들면, 촬상 광학계인 촬영 렌즈(20)가 착탈 가능하도록 구성된 일안 레프(single lens reflex) 카메라일 수 있다. 또한, 카메라(10)는 일안 레프 카메라 대신에 컴팩트 디지털 카메라(compact digital camera)일 수도 있다. 카메라(10)는 퀵 리턴 미러(quick-return mirror)(11), 서브 미러(12), 셔터(13), 촬상소자(14), 렌즈 장착부(15), 초점 검출부(자동 초점 검출장치)(16), 중앙처리부(CPU, Central Processing Unit)(17), 및 핫 슈(hot shoe)(18)를 포함하고 있다. In FIG. 1, the camera (imaging apparatus) 10 may be, for example, a single lens reflex camera configured to be detachably attached to the imaging lens 20 which is an imaging optical system. Further, the camera 10 may be a compact digital camera instead of a single-lens left camera. The camera 10 includes a quick-return mirror 11, a sub-mirror 12, a shutter 13, an imaging device 14, a lens mounting unit 15, a focus detection unit (automatic focus detection device) ( 16), a Central Processing Unit (CPU) 17, and a hot shoe 18.

촬영 렌즈(20)는 렌즈 장착부(15)를 통해 카메라(10)에 착탈 가능하고, 초점 거리가 긴 망원 렌즈나, 초점 거리가 짧은 광각 렌즈, 혹은 초점 거리가 가변되는 줌 렌즈 등이 장착될 수 있다. 이하의 설명에서, 광각 렌즈와 망원 렌즈라고 하는 것은 줌 렌즈의 광각측과 망원측을 포함한다.The shooting lens 20 is detachable to the camera 10 through the lens mounting unit 15, and a telephoto lens with a long focal length, a wide-angle lens with a short focal length, or a zoom lens with a variable focal length can be mounted. have. In the following description, the wide-angle lens and the telephoto lens include the wide-angle side and the telephoto side of the zoom lens.

렌즈 장착부(15)에는 촬영 렌즈(20) 측에 설치된 접점부(20a)와 전기적으로 접속할 수 있는 접점부(15a)가 설치되어 있다. The lens mounting portion 15 is provided with a contact portion 15a that can be electrically connected to a contact portion 20a provided on the photographing lens 20 side.

섬광장치(30)는 본 실시 예에서 외부에 부착되는 섬광장치로서, 싱크로(synchro) 접점인 핫 슈(hot shoe)(18)를 통해 카메라(10)에 부착되어 있다. 이 섬광장치(30)는 카메라(10)와 관련되어 판매된다. 섬광장치(30)는 카메라(10)의 전용품이거나, 또는 상기 카메라(10)를 포함하는 복수의 카메라용으로 사용되는 공용품일 수 있다. 이 섬광장치(30)는 촬영 시에 피사체를 조명하기 위해 섬광을 발광하는 발광부(31), 보조광인 자동 초점 검출용 패턴(P)(도 3을 참조)을 투영하는 보조광 투영부(보조광 투영장치)(32), 및 CPU(33)을 포함하고 있다.The flash device 30 is a flash device attached to the outside in this embodiment, and is attached to the camera 10 through a hot shoe 18 that is a synchro contact. This scintillation device 30 is sold in connection with the camera 10. The flash device 30 may be a dedicated product of the camera 10 or a common product used for a plurality of cameras including the camera 10. The scintillation device 30 includes a light emitting unit 31 that emits flash to illuminate a subject during shooting, and an auxiliary light projection unit that projects an auxiliary light autofocus detection pattern P (see FIG. 3) (see auxiliary light projection). Device) 32, and a CPU 33.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시 예에서 섬광장치(30)는 카메라(10)의 정면에서 볼 때, 촬영 렌즈(20)의 좌측 위쪽에 탑재되어 있다. 따라서, 보조광 투영부(32)는 카메라(10)의 정면에서 볼 때, 촬영 렌즈(20)의 좌측 위쪽에 위치한다. As shown in FIG. 2, in this embodiment, the flash device 30 is mounted on the upper left of the photographing lens 20 when viewed from the front of the camera 10. Therefore, the auxiliary light projection unit 32 is positioned at the upper left of the photographing lens 20 when viewed from the front of the camera 10.

이상의 구성에서, 촬영 렌즈(20)를 통해 입사된 피사체의 광은 퀵 리턴 미러(11)에서 도시되지 않은 파인더 계와 초점 검출계로 분할된다. 이 중, 파인더계로 향하는 광은, 예를 들면, 파인더 스크린, 펜타 프리즘(pentaprism), 및 접안 렌즈 등의 광학계를 통해 촬영자가 눈으로 보는 도시하지 않은 파인더부로 인도된다. 한편, 초점 검출계로 향하는 광은 퀵 리턴 미러(11)를 통과한 후, 서브 미러(12)에 의해 반사되어 초점 검출부(16)로 입사된다. In the above configuration, the light of the object incident through the photographing lens 20 is divided into a finder system and a focus detection system, which are not shown in the quick return mirror 11. Among them, the light directed to the finder system is led to a finder unit (not shown), which is seen by the photographer through an optical system such as a finder screen, a pentaprism, and an eyepiece, for example. On the other hand, the light directed to the focus detection system passes through the quick return mirror 11 and is reflected by the sub-mirror 12 to enter the focus detection unit 16.

그래서, 파인더부에 표시되는 피사체 이미지를 보면서 촬영자가 도시하지 않은 릴리스 버튼을 반 정도 누르면, 초점 검출부(16)는 자동 또는 수동으로 선택된 도시하지 않은 측거 에리어에 대해 입사된 피사체 광에 기초하여 자동으로 초점 검출을 행하고, 이 초점 검출정보를 기초로 하여 접점부(15a) 및 접점부(20a)를 통해 촬영 렌즈(20)를 구동하여 초점을 조정한다.Thus, while the photographer presses the release button not shown halfway while looking at the subject image displayed on the finder unit, the focus detection unit 16 automatically or automatically selects the subject light incident on the selected non-illustrated range area. Focus is detected, and the focus is adjusted by driving the photographing lens 20 through the contact portion 15a and the contact portion 20a based on the focus detection information.

또한, 초점 검출부(16)로 입사한 피사체 광의 휘도 또는 콘트라스트(contrast)에 관한 정보, 자동 또는 수동으로 선택된 측거 에리어에 관한 정보 등은 CPU(17)로 전송된다.In addition, information about luminance or contrast of the subject light incident on the focus detection unit 16, information about an automatically or manually selected range area, etc. is transmitted to the CPU 17.

CPU(17)에서는 피사체의 휘도 또는 콘트라스트가 낮다고 판단한 경우에 섬광장치(30)의 CPU(33)에 동작 지시 신호를 송신하여, 보조광 투영부(32)로부터 피사체를 향해 자동 초점 검출용 패턴(P)을 투영시킨다. 초점 검출부(16)는 피사체로부터 반사된 자동 초점 검출용 패턴(P)을 검출하여 상술한 바와 같이 자동으로 초점 검출을 수행하고, 이 초점 검출정보에 기초하여 촬영 렌즈(20)를 구동하여 초점 조정을 행한다.When the CPU 17 determines that the luminance or contrast of the subject is low, an operation instruction signal is sent to the CPU 33 of the flash device 30, and the pattern P for autofocus detection from the auxiliary light projection unit 32 toward the subject ). The focus detection unit 16 detects the auto focus detection pattern P reflected from the subject and automatically performs focus detection as described above, and drives the photographing lens 20 based on this focus detection information to adjust the focus Do it.

또한, 피사체의 휘도 또는 콘트라스트가 낮은지 아닌지에 대한 판단은 섬광장치(30)의 CPU(33)가 실행할 수도 있다.In addition, the CPU 33 of the scintillation device 30 may perform the determination as to whether or not the luminance or contrast of the subject is low.

그래서, 촬영자에 의해 도시하지 않은 릴리스 버튼이 눌려지면, CPU(17)는 퀵 리턴 미러(11)와 서브 미러(12)를 촬영 광 경로 상에서 벗어나게 하여 셔터(13)를 개방한다. 이에 의해 촬영 렌즈(20)에 의해 결상된 피사체 상(image)이, 예를 들면, CCD나 CMOS 등으로 구성된 촬영소자(14)에 의해 촬상되어, 화상을 취득할 수 있게 된다.Thus, when the release button (not shown) is pressed by the photographer, the CPU 17 moves the quick return mirror 11 and the sub-mirror 12 off the shooting light path to open the shutter 13. Thereby, the image of the object formed by the photographing lens 20 is imaged by a photographing element 14 composed of, for example, a CCD or CMOS, and an image can be acquired.

다음으로, 도 3을 참조하여, 본 실시 예에 의한 자동 초점 검출용 패턴(P)에 대해 상세하게 설명한다.Next, with reference to FIG. 3, the pattern P for autofocus detection according to this embodiment will be described in detail.

도 3에 도시된 바와 같이, 자동 초점 검출용 패턴(P)은 조(粗) 패턴 영역(Pr), 중(中) 패턴 영역(Pm), 밀(密) 패턴 영역(Pc)을 포함하여 구성되어 있다. 중 패턴 영역(Pm)은 조 패턴 영역(Pr)보다 패턴의 무늬가 빽빽한(패턴 무늬의 간격이 좁은) 자동 초점 검출용 패턴이다. 밀 패턴 영역(Pc)은 중 패턴 영역(Pm)보다도 패턴의 무늬가 빽빽한(패턴 무늬의 간격이 좁은) 자동 초점 검출용 패턴이다. 중 패턴 영역(Pm)은 조 패턴 영역(Pr)의 내측에 중첩된 형태로 배치되어 있다. 밀 패턴 영역(Pc)은 중 패턴 영역(Pm)의 내측에 중첩된 형태로 배치되어 있다.As shown in FIG. 3, the pattern P for autofocus detection includes a rough pattern area Pr, a middle pattern area Pm, and a wheat pattern area Pc. It is done. The middle pattern area Pm is a pattern for autofocus detection in which the pattern of the pattern is denser (the interval between the pattern patterns is narrower) than the rough pattern area Pr. The wheat pattern area Pc is a pattern for autofocus detection in which the pattern of the pattern is denser (the interval between the pattern patterns is narrower) than the middle pattern area Pm. The middle pattern region Pm is disposed in an overlapping shape inside the jaw pattern region Pr. The wheat pattern area Pc is disposed in an overlapping form inside the middle pattern area Pm.

도 3에 있어서, 조 패턴 영역(Pr)의 외곽선(pr)은 조 패턴 영역(Pr)의 외곽을 용이하게 파악할 수 있도록 설명의 편의상 그려진 가상선이다. 마찬가지로, 중 패턴 영역(Pm)의 외곽선(pm)은 중 패턴 영역(Pm)의 외곽을 용이하게 파악할 수 있도록 설명의 편의상 그려진 가상선이다. 마찬가지로, 밀 패턴 영역(Pc)의 외곽선(pc)은 밀 패턴 영역(Pc)의 외곽을 용이하게 파악할 수 있도록 설명의 편의상 그려진 가상선이다.In FIG. 3, the outline pr of the jaw pattern region Pr is a virtual line drawn for convenience of description so that the outline of the jaw pattern region Pr can be easily grasped. Similarly, the outline (pm) of the middle pattern area (Pm) is a virtual line drawn for convenience of description so that the outline of the middle pattern area (Pm) can be easily grasped. Similarly, the outline (pc) of the wheat pattern area (Pc) is a virtual line drawn for convenience of explanation so that the outline of the wheat pattern area (Pc) can be easily grasped.

여기서, 조 패턴 영역(Pr)의 중심 좌표(prc)는 조 패턴 영역(Pr)의 외곽선(pr)에 기초하여 정해지는 조 패턴 영역(Pr)의 중심 좌표이다. 본 실시 예에서는 조 패턴 영역(Pr)의 외곽선(pr)은 정사각형이므로 그 중심 좌표(prc)는 정사각형의 2개의 대각선의 교점의 좌표로 정해진다. Here, the center coordinates prc of the jaw pattern region Pr are the center coordinates of the jaw pattern region Pr determined based on the outline pr of the jaw pattern region Pr. In this embodiment, since the outline pr of the jaw pattern area Pr is square, the center coordinate prc is determined as the coordinate of the intersection of two diagonals of the square.

마찬가지로, 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc)는 중 패턴 영역(Pm)의 외곽선(pm)에 기초하여 정해지는 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표이다. 본 실시 예에서는 중 패턴 영역(Pm)의 외곽선(pm)은 평행사변형이므로, 그 중심 좌표(pmc)는 평행사변형의 2개의 대각선의 교점의 좌표로 정해진다.Similarly, the center coordinates pmc of the middle pattern area Pm are the center coordinates of the middle pattern area Pm determined based on the outline pm of the middle pattern area Pm. In this embodiment, since the outline (pm) of the middle pattern area Pm is a parallelogram, its center coordinate pmc is determined as the coordinate of the intersection of two diagonals of the parallelogram.

마찬가지로, 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 밀 패턴 영역(Pc)의 외곽선(pc)에 기초하여 정해지는 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표이다. 본 실시 예에서는 밀 패턴 영역(Pc)의 외곽선(pc)은 평행사변형이므로, 그 중심 좌표(pcc)는 평행사변형의 2개의 대각선의 교점의 좌표로 정해진다.Similarly, the center coordinates pcc of the wheat pattern area Pc are the center coordinates of the wheat pattern area Pc determined based on the outline pc of the wheat pattern area Pc. In this embodiment, since the outline (pc) of the wheat pattern area Pc is a parallelogram, the center coordinate pcc is determined as the coordinate of the intersection of two diagonals of the parallelogram.

도 3에는 카메라(10)의 촬영 렌즈(촬상 광학계)(20)와 보조광 투영부(32)의 투영계의 시차에 기초하여 정해지는 에피폴러선(epipolar line)(E)이 그려져 있다. 에피폴러선(E)은 자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 카메라(10)의 촬영 렌즈(20)의 광축에 상당하는 선이다. In FIG. 3, an epipolar line E, which is determined based on the parallax between the imaging lens (imaging optical system) 20 of the camera 10 and the projection system of the auxiliary light projection unit 32, is drawn. The epipolar line E is a line corresponding to the optical axis of the photographing lens 20 of the camera 10 in the pattern P for autofocus detection.

그래서, 본 실시 예에서는 자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 조 패턴 영역(Pr)의 중심 좌표(prc), 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc), 및 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 카메라(10)의 촬영 렌즈(촬상 광학계)(20)와 보조광 투영부(32)의 투영계의 시차(視差)를 고려하여 떨어져 있다. 그래서, 자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 중 패턴 영역(Pm) 및 밀 패턴 영역(Pc)은 에피폴러선(E)을 따라 가늘고 길게 배치되어 있다. 또한, 자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc) 및 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 에피폴러선(E) 근처에 위치한다. 구체적으로, 자동 초점 검출용 패턴(P)에서 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc) 및 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 에피폴러선(E) 위에 위치한다. 조 패턴 영역(Pr)의 중심 좌표(prc), 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc), 및 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 이 순서대로 자동 초점 검출용 패턴(P)의 우측의 위 방향을 향하여 에피폴러선(E) 상에 늘어서 있다. Thus, in this embodiment, in the pattern P for autofocus detection, the center coordinates prc of the rough pattern area Pr, the center coordinates pmc of the middle pattern area Pm, and the mill pattern area Pc The center coordinates pcc are separated in consideration of the parallax between the imaging lens (imaging optical system) 20 of the camera 10 and the projection system of the auxiliary light projection unit 32. Thus, in the pattern P for autofocus detection, the middle pattern area Pm and the wheat pattern area Pc are arranged elongately along the epipolar line E. In addition, in the pattern P for autofocus detection, the center coordinates pmc of the middle pattern area Pm and the center coordinates pcc of the mill pattern area Pc are located near the epipolar line E. Specifically, in the pattern P for autofocus detection, the center coordinates pmc of the middle pattern area Pm and the center coordinates pcc of the wheat pattern area Pc are located on the epipolar line E. The center coordinates (prc) of the rough pattern area Pr, the center coordinates (pmc) of the middle pattern area Pm, and the center coordinates (pcc) of the mill pattern area Pc in this order are the patterns P for autofocus detection. ) On the epipolar line E toward the upper right side.

이상과 같은 자동 초점 검출용 패턴(P)에 의하면, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 초점 거리의 변화에 대한 로버스트성이 향상된다. 즉, 초점 거리가 변화하는 경우에도 자동 초점 검출용 패턴(P)을 사용하여 자동 초점 조정을 할 수 있게 된다. 그 이유를 이하에서 첨부된 도 3 내지 도 7을 참조하여 상세하게 설명한다.According to the pattern P for autofocus detection as described above, the robustness against a change in the focal length of the pattern P for autofocus detection is improved. That is, even when the focal length changes, it is possible to perform autofocus adjustment using the pattern P for autofocus detection. The reason will be described in detail below with reference to FIGS. 3 to 7 attached.

도 4 및 도 6에는 피사체(F)를 도시하고 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 피사체(F)를 광각측에서 촬영하는 경우에, 도 5에 도시된 바와 같이, 자동 초점 검출용 패턴(P) 중에서 자동 초점 검출에 있어서 유효하게 기능하는 범위(Q)(측거 에리어에 상당)는 자동 초점 검출용 패턴(P)의 전체와 대략적으로 동일하게 되고, 그 범위(Q)의 중심은 자동 초점 검출용 패턴(P)의 중심과 대략적으로 동일하다.4 and 6 show the subject F. As shown in Fig. 4, when the subject F is photographed from the wide-angle side, as shown in Fig. 5, a range (Q) that effectively functions in autofocus detection among the patterns P for autofocus detection ) (Corresponding to the measurement area) is approximately equal to the entirety of the pattern P for autofocus detection, and the center of the range Q is approximately the same as the center of the pattern P for autofocus detection.

이에 대해, 도 6에 도시된 바와 같이, 피사체(F)를 망원측에서 촬상하는 경우에는, 도 7에 도시된 바와 같이, 자동 초점 검출용 패턴(P) 중에서 자동 초점 검출에 있어서 유효하게 기능하는 범위(Q)는 자동 초점 검출용 패턴(P)의 우측 위쪽의 좁은 영역이 된다.On the other hand, as shown in Fig. 6, when the subject F is imaged from the telephoto side, as shown in Fig. 7, the autofocus detection pattern P effectively functions in autofocus detection. The range Q becomes a narrow area at the upper right of the pattern P for autofocus detection.

이처럼, 자동 초점 검출용 패턴(P) 중에서 자동 초점 검출에 있어서 유효하게 기능하는 범위(Q)는 촬영 렌즈(20)의 초점 거리의 변화에 따라 고정되어 있지 않고 이동한다. 결국, 자동 초점 검출용 패턴(P)으로서 적절한 패턴 해상도와 패턴 위치(범위(Q)의 위치)는 촬영 렌즈(20)의 초점 거리에 따라 변화한다.   As described above, the range Q effective in autofocus detection among the patterns P for autofocus detection moves without being fixed according to a change in the focal length of the photographing lens 20. As a result, an appropriate pattern resolution and pattern position (position of the range Q) as the pattern P for autofocus detection changes according to the focal length of the photographing lens 20.

자동 초점 검출용 패턴(P) 중에서, 자동 초점 검출에서 유효하게 기능하는 범위(Q)의 이동방향에 대해 말하면, 도 2에 도시한 정면도에서 보조광 투영부(32)가 촬영 렌즈(20)의 좌측 위쪽에 배치된 경우, 범위(Q)는 (a)망원으로 됨에 따라 자동 초점 검출용 패턴(P)이 우측 윗 방향으로 이동하고, (b)광각으로 됨에 따라 자동 초점 검출용 패턴(P)의 좌측 아래 방향으로 이동한다. 따라서, 이 경우에, 도 3에 도시된 바와 같이, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 우측 윗 방향을 향해 자동 초점 검출용 패턴(P)이 고해상도가 되고, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 좌측 아래 방향을 향해 자동 초점 검출용 패턴(P)이 저해상도가 되는 것이 바람직하다. In the autofocus detection pattern P, when referring to the movement direction of the range Q that effectively functions in autofocus detection, the auxiliary light projection 32 in the front view shown in FIG. 2 is the left side of the photographing lens 20 When placed above, the range (Q) is (a) the telephoto detection pattern (P) moves to the upper right as it becomes telephoto, and (b) the wide-angle autofocus detection pattern (P) of the Move to the bottom left. Thus, in this case, as shown in FIG. 3, the pattern P for auto focus detection becomes high resolution toward the upper right direction of the pattern P for auto focus detection, and the pattern P for auto focus detection is It is preferable that the pattern P for auto focus detection toward the lower left direction becomes a low resolution.

만일, 도 2에 도시된 정면도에서, 보조광 투영부(32)가 촬영 렌즈(20)의 우측 위쪽에 배치된 경우에, 범위(Q)는 (a)망원으로 됨에 따라 자동 초점 검출용 패턴(P)이 좌측 윗 방향으로 이동하고, (b)광각으로 됨에 따라 자동 초점 검출용 패턴(P)의 우측 아래 방향으로 이동한다. 따라서, 이 경우에, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 좌측 윗 방향을 향해 자동 초점 검출용 패턴(P)이 고해상도가 되고, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 우측 아래 방향을 향해 자동 초점 검출용 패턴(P)이 저해상도가 되는 것이 바람직하다. If, in the front view shown in Fig. 2, when the auxiliary light projection 32 is disposed on the upper right of the photographing lens 20, the range Q is (a) a telephoto pattern for automatic focus detection as it becomes telephoto ) Moves to the upper left, and (b) moves to the lower right of the pattern P for autofocus detection as it becomes wide angle. Therefore, in this case, the pattern P for autofocus detection becomes high resolution toward the upper left direction of the pattern P for autofocus detection, and autofocus detection toward the lower right direction of the pattern P for autofocus detection. It is preferable that the dragon pattern P becomes a low resolution.

그래서, 자동 초점 검출시에 상기 범위(Q)(측거 에리어)가 에피폴러선(E) 상을 초점 거리에 따라 이동하는 것을 감안하여, 도 3에서 밀 패턴 영역(Pc)이나 중 패턴 영역(Pm)을 에피폴러선(E)을 따라 배치하거나, 다시 말해, 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc) 및 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc)를 에피폴러선(E) 근처, 바람직하게는 에피폴러선(E) 상에 배치하는 것에 의해, 망원측으로 줌(zoom)한 경우에 확대되는 부분이 핀 포인트(pinpoint)에서 고해상도로 되는 것이 가능하다. 그 결과, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 초점 거리의 변화에 대한 로버스트성이 향상된다.Thus, in consideration of the movement of the range (Q) (faring area) on the epipolar line E according to the focal length at the time of autofocus detection, the mill pattern area Pc or the medium pattern area Pm in FIG. ) Along the epipolar line E, that is, the center coordinates pcc of the mill pattern area Pc and the center coordinates pmc of the middle pattern area Pm are near the epipolar line E, Preferably, by arranging on the epipolar line E, it is possible to enlarge the portion to be enlarged at a pinpoint when zooming to the telephoto side. As a result, robustness to a change in the focal length of the pattern P for autofocus detection is improved.

즉, 본 발명에 따르는 실시 예에 의하면, 미리 촬상 광학계와 자동 초점을 위한 보조광 투영 광학계의 광학 배치를 고려하여, 줌(zoom)한 경우에 확대되는 부분에만 해상도가 높은 패턴을 심어 둔다. 그러면, 촬상 광학계를 줌한 경우에, 줌하기 전의 일반 해상도의 자동 초점 검출용 패턴은 너무 크게 되어 자동 초점 검출을 위한 패턴으로 사용할 수 없게 되나, 에피폴러선(E) 근처의 해상도가 높은 패턴은 자동 초점 검출을 위한 패턴으로 유효하게 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면, 초점 거리의 변화에 따라 자동 초점 검출용 패턴(P)의 해상도가 적절하게 변화하므로 초점 거리의 변화에 관계없이 자동 초점 검출을 용이하게 수행할 수 있다.That is, according to the embodiment according to the present invention, in consideration of the optical arrangement of the imaging optical system and the auxiliary light projection optical system for autofocus in advance, a pattern having a high resolution is planted only in the portion to be enlarged when zoomed. Then, when the imaging optical system is zoomed, the pattern for autofocus detection of the normal resolution before zooming becomes too large to be used as a pattern for autofocus detection, but a pattern with a high resolution near the epipolar line E is automatically It can be effectively used as a pattern for focus detection. Therefore, according to the present invention, since the resolution of the pattern P for autofocus detection is appropriately changed according to the change in the focal length, autofocus detection can be easily performed regardless of the change in the focal length.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해 설명하였으나, 상술한 실시예는 아래의 장점을 갖는다.The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the above-described embodiment has the following advantages.

보조광 투영부(32)(보조광 투영장치)는 초점 검출부(16)(자동 초점 검출장치)를 구비한 카메라(10)(촬영장치)에 장착되어, 초점 검출부(16)가 자동 초점 검출을 수행하기 위한 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴(P)을 피사체(F)에 투영하는 것이다. 자동 초점 검출용 패턴(P)은 조 패턴 영역(Pr), 조 패턴 영역(Pr)보다 빽빽한 중 패턴 영역(Pm), 및 중 패턴 영역(Pm)보다 더 빽빽한 밀 패턴 영역(Pc)을 포함한다. 자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 조 패턴 영역(Pr)의 중심 좌표(prc), 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc), 및 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 카메라(10)의 촬영 렌즈(20)(촬상 광학계)와 보조광 투영부(32)의 투영계의 시차를 고려하여 서로 떨어져 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 촬영 렌즈(20)의 초점 거리의 변화에 수반하는 측거 에리어의 이동에 부응하는 자동 초점 검출용 패턴(P)이 실현될 수 있다. 그 결과, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 초점 거리의 변화에 대한 로버스트성이 향상된다. The auxiliary light projection unit 32 (auxiliary light projection apparatus) is mounted on the camera 10 (shooting apparatus) equipped with the focus detection unit 16 (autofocus detection apparatus), so that the focus detection unit 16 performs automatic focus detection As an auxiliary light for this, the auto focus detection pattern P is projected onto the subject F. The pattern P for autofocus detection includes a rough pattern area Pr, a heavy pattern area Pm denser than the rough pattern area Pr, and a wheat pattern area Pc denser than the heavy pattern area Pm. . In the pattern P for autofocus detection, the center coordinates (prc) of the jaw pattern region Pr, the center coordinates (pmc) of the middle pattern region Pm, and the center coordinates (pcc) of the mill pattern region Pc are Considering the parallax between the imaging lens 20 (imaging optical system) of the camera 10 and the projection system of the auxiliary light projection unit 32, they are separated from each other. According to such a structure, the pattern P for autofocus detection in response to the movement of the range area accompanying the change in the focal length of the photographing lens 20 can be realized. As a result, robustness to a change in the focal length of the pattern P for autofocus detection is improved.

자동 초점 검출용 패턴(P)에서, 중 패턴 영역(Pm) 및 밀 패턴 영역(Pc)은 시차에 기초하여 정해지는 에피폴러선(E)을 따라 가늘고 길게 배치되어 있다. 이런 구성에 의하면, 촬영 렌즈(20)의 초점 거리의 변화에 수반하는 측거 에리어의 이동을 반영한 자동 초점 검출용 패턴(P)이 실현될 수 있다. In the pattern P for autofocus detection, the middle pattern area Pm and the wheat pattern area Pc are arranged elongately along the epipolar line E determined based on the parallax. According to such a structure, the pattern P for autofocus detection reflecting the movement of the range area accompanying the change in the focal length of the photographing lens 20 can be realized.

자동 초점 검출용 패턴(P)에 있어서, 중 패턴 영역(Pm)의 중심 좌표(pmc) 및 밀 패턴 영역(Pc)의 중심 좌표(pcc)는 시차에 기초하여 정해지는 에피폴러선(E) 근처에 위치한다. 이런 구성에 의하면, 촬영 렌즈(20)의 초점 거리의 변화에 수반하는 측거 에리어의 이동을 강력하게 반영한 자동 초점 검출용 패턴(P)이 실현될 수 있다. In the pattern P for autofocus detection, the center coordinates pmc of the middle pattern area Pm and the center coordinates pcc of the mill pattern area Pc are near the epipolar line E determined based on the parallax. Is located in According to this configuration, the pattern P for autofocus detection that strongly reflects the movement of the range area accompanying the change in the focal length of the photographing lens 20 can be realized.

이상에서, 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하였으나, 보조광 투영부(32)는 도 8에 도시된 바와 같이 카메라(10)에 내장할 수도 있다.In the above, although the preferred embodiment of the present invention has been described, the auxiliary light projection unit 32 may be embedded in the camera 10 as shown in FIG. 8.

또한, 상기의 설명에서, 자동 초점 검출용 패턴(P)으로서 수직 줄무늬(vertical stripe)를 예로 들어 설명하였으나, 자동 초점 검출용 패턴(P)의 형상은 이에 한정되는 것은 아니다. In addition, in the above description, although the vertical stripe is described as an example of the pattern P for autofocus detection, the shape of the pattern P for autofocus detection is not limited thereto.

또한, 상기의 설명에서 자동 초점 검출용 패턴(P)은 3개의 해상도를 갖는 패턴, 즉 조 패턴 영역(Pr), 중 패턴 영역(Pm), 및 밀 패턴 영역(Pc)이 중첩적으로 형성된, 다시 말해 조 패턴 영역(Pr)의 내부에 중 패턴 영역(Pm)이 있고, 중 패턴 영역(Pm)의 내부에 밀 패턴 영역(Pc)이 있는 구조의 패턴을 예로 들어 설명하였으나, 자동 초점 검출용 패턴(P)은 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 일 실시 예에 의한 보조광 투영장치에 사용되는 자동 초점 검출용 패턴(P)은 2개의 다른 해상도 또는 4개 이상의 다른 해상도를 갖는 동일한 형태의 패턴을 중첩하여 형성할 수도 있다. In addition, in the above description, the pattern P for autofocus detection is formed by overlapping patterns having three resolutions, that is, the rough pattern region Pr, the middle pattern region Pm, and the wheat pattern region Pc, In other words, the structure pattern having the middle pattern area Pm inside the jaw pattern area Pr and the mill pattern area Pc inside the middle pattern area Pm is described as an example, but for automatic focus detection. The pattern P is not limited to this. The pattern P for autofocus detection used in the auxiliary light projection apparatus according to an embodiment of the present invention may be formed by overlapping patterns of the same shape having two different resolutions or four or more different resolutions.

10; 카메라
20; 촬영 렌즈
32; 보조광 투영부
P; 자동 초점 검출용 패턴
Pr; 조 패턴 영역
Pm; 중 패턴 영역
Pc; 밀 패턴 영역
prc; 중심 좌표
pmc; 중심 좌표
pcc; 중심 좌표
E; 에피폴러선
Q; 범위
F; 피사체
10; camera
20; Shooting lens
32; Auxiliary light projection
P; Auto focus detection pattern
Pr; Joe pattern area
Pm; Medium pattern area
Pc; Wheat pattern sphere
prc; Center coordinates
pmc; Center coordinates
pcc; Center coordinates
E; Epipolar Line
Q; range
F; Subject

Claims (12)

퀵 리턴 미러와 자동 초점 검출장치를 구비한 촬상장치에 장착 또는 내장되어, 상기 자동 초점 검출장치가 자동 초점 검출을 수행하기 위한 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴을 피사체에 투영하는 보조광 투영장치에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴은 조 패턴 영역, 및 상기 조 패턴 영역보다 빽빽한 밀한 패턴 영역을 포함하고,
상기 자동 초점 검출용 패턴에 있어서, 상기 조 패턴 영역의 중심 좌표와 상기 밀한 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 촬상장치의 촬상 광학계와 상기 보조광 투영장치의 투영계의 시차를 고려하여 떨어져 있는 것을 특징으로 하는 보조광 투영장치.
In the auxiliary light projection device mounted or embedded in an imaging device having a quick return mirror and an auto focus detection device, the auto focus detection device projects an auto focus detection pattern as an auxiliary light for performing auto focus detection to a subject,
The auto focus detection pattern includes a rough pattern region and a dense pattern region denser than the rough pattern region,
In the auto focus detection pattern, the center coordinates of the rough pattern area and the center coordinates of the dense pattern area are separated in consideration of the parallax between the imaging optical system of the imaging device and the projection system of the auxiliary light projection device. Auxiliary light projection device.
제 1 항에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴에 있어서, 상기 밀한 패턴 영역은 상기 시차에 기초하여 정해지는 에피폴러선을 따라 가늘고 길게 배치되는 것을 특징으로 하는 보조광 투영장치.
According to claim 1,
In the pattern for auto focus detection, the dense pattern area is arranged in an elongated shape along an epipolar line determined based on the parallax.
제 1 항에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴에 있어서, 상기 밀한 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 시차를 기초로 하여 정해지는 에피폴러선 근처에 위치하는 것을 특징으로 하는 보조광 투영장치.
According to claim 1,
In the pattern for auto focus detection, the center coordinates of the dense pattern region are located near an epipolar line determined based on the parallax, and the auxiliary light projection apparatus.
퀵 리턴 미러와 자동 초점 검출장치를 구비한 촬상장치에 장착되거나 내장되며, 상기 자동 초점 검출장치가 자동 초점 검출을 수행하기 위한 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴을 피사체에 투영하는 보조광 투영장치에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴은 조 패턴 영역, 상기 조 패턴 영역보다 빽빽한 중 패턴 영역, 및 상기 중 패턴 영역보다 빽빽한 밀(密) 패턴 영역을 포함하고,
상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 조 패턴 영역의 중심 좌표, 상기 중 패턴 영역의 중심 좌표, 및 상기 밀 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 촬상장치의 촬상 광학계와 상기 보조광 투영장치의 투영계의 시차를 고려하여 떨어져 있는 것을 특징으로 하는 보조광 투영장치.
In the auxiliary light projection device mounted on or built in an imaging device having a quick return mirror and an auto focus detection device, the auto focus detection device projects an auto focus detection pattern onto a subject as an auxiliary light for performing auto focus detection,
The pattern for autofocus detection includes a rough pattern region, a heavy pattern region denser than the rough pattern region, and a dense pattern region denser than the heavy pattern region,
In the pattern for autofocus detection, the center coordinates of the rough pattern area, the center coordinates of the middle pattern area, and the center coordinates of the mill pattern area indicate the parallax between the imaging optical system of the imaging device and the projection system of the auxiliary light projection device. Auxiliary light projection device, characterized in that apart from consideration.
제 4 항에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 중 패턴 영역과 상기 밀 패턴 영역은 상기 시차에 기초하여 정해지는 에피폴러선을 따라 가늘고 길게 배치되는 것을 특징으로 하는 보조광 투영장치.
The method of claim 4,
In the auto-focus detection pattern, the auxiliary pattern projection apparatus characterized in that the middle pattern area and the wheat pattern area are arranged elongately along an epipolar line determined based on the parallax.
제 4 항에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 중 패턴 영역의 중심 좌표 및 상기 밀 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 시차를 기초로 하여 정해지는 에피폴러선 근처에 위치하는 것을 특징으로 하는 보조광 투영장치.
The method of claim 4,
In the automatic focus detection pattern, the center coordinates of the middle pattern area and the center coordinates of the wheat pattern area are located near an epipolar line determined based on the parallax.
촬상장치에 장착되며, 상기 촬상장치의 동작 지시에 기초하여 섬광을 발광하는 섬광장치에 있어서,
상기 청구항 1항 내지 청구항 6항 중의 어느 한 항의 보조광 투영장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 섬광장치.
A scintillation device mounted on an imaging device and emitting light based on an operation instruction of the imaging device,
Claim 1 to claim 6, wherein any one of the auxiliary light projection device; flash device comprising a.
상기 청구항 1항 내지 청구항 6항 중의 어느 한 항의 보조광 투영장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 촬상장치.Claim 1 to claim 6, wherein any one of the auxiliary light projection apparatus; Imaging apparatus comprising a. 퀵 리턴 미러와 자동 초점 검출장치를 포함하는 촬상장치;
상기 촬상장치의 전면에 설치되는 촬영 렌즈; 및
상기 촬영 렌즈의 우측 위쪽으로 상기 촬상장치에 설치되며, 상기 자동 초점 검출장치가 자동으로 초점을 검출하도록 보조광으로서 자동 초점 검출용 패턴을 피사체에 투영하는 보조광 투영장치를 포함하는 섬광장치;를 포함하며,
상기 자동 초점 검출용 패턴은 조 패턴 영역, 상기 조 패턴 영역보다 빽빽한 중 패턴 영역, 및 상기 중 패턴 영역보다 빽빽한 밀(密) 패턴 영역을 포함하고,
상기 중 패턴 영역은 상기 조 패턴 영역의 내부에 위치하며, 상기 밀 패턴 영역은 상기 중 패턴 영역의 내부에 위치하고,
상기 조 패턴 영역의 중심 좌표, 상기 중 패턴 영역의 중심 좌표, 및 상기 밀 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 촬상장치의 촬상 광학계와 상기 보조광 투영장치의 투영계의 시차를 고려하여 서로 떨어져 있는 것을 특징으로 하는 촬상장치.
An imaging device including a quick return mirror and an automatic focus detection device;
A photographing lens installed on the front surface of the imaging device; And
It includes a scintillation device that is installed on the imaging device to the upper right of the photographing lens, and includes an auxiliary light projection device that projects an auto focus detection pattern onto an object as an auxiliary light so that the auto focus detection device automatically detects focus. ,
The pattern for autofocus detection includes a rough pattern region, a heavy pattern region denser than the rough pattern region, and a dense pattern region denser than the heavy pattern region,
The middle pattern region is located inside the rough pattern region, and the wheat pattern region is located inside the middle pattern region,
The center coordinates of the rough pattern region, the center coordinates of the middle pattern region, and the center coordinates of the mill pattern region are separated from each other in consideration of the parallax between the imaging optical system of the imaging device and the projection system of the auxiliary light projection device. Image pickup device.
제 9 항에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 중 패턴 영역과 상기 밀 패턴 영역은 상기 시차에 기초하여 정해지는 에피폴러선을 따라 가늘고 길게 배치되는 것을 특징으로 하는 촬상장치.
The method of claim 9,
In the auto focus detection pattern, the middle pattern area and the wheat pattern area are arranged elongately along an epipolar line determined based on the parallax.
제 9 항에 있어서,
상기 자동 초점 검출용 패턴에서, 상기 중 패턴 영역의 중심 좌표 및 상기 밀 패턴 영역의 중심 좌표는 상기 시차를 기초로 하여 정해지는 에피폴러선 근처에 위치하는 것을 특징으로 하는 촬상장치.
The method of claim 9,
In the pattern for autofocus detection, the center coordinates of the middle pattern area and the center coordinates of the wheat pattern area are located near an epipolar line determined based on the parallax.
제 11 항에 있어서,
상기 에피폴러선은 상기 자동 초점 검출용 패턴에 우측 윗 방향으로 경사지게 위치하는 직선인 것을 특징으로 하는 촬상장치.

The method of claim 11,
The epipolar line is an imaging device, characterized in that the straight line is inclined in the upper right direction to the auto focus detection pattern.

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