KR102084433B1 - Manufacturing method of negative-type color filter, negative-type color filter and image display device manufactured by the same - Google Patents
Manufacturing method of negative-type color filter, negative-type color filter and image display device manufactured by the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR102084433B1 KR102084433B1 KR1020170024166A KR20170024166A KR102084433B1 KR 102084433 B1 KR102084433 B1 KR 102084433B1 KR 1020170024166 A KR1020170024166 A KR 1020170024166A KR 20170024166 A KR20170024166 A KR 20170024166A KR 102084433 B1 KR102084433 B1 KR 102084433B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- color filter
- photosensitive resin
- resin composition
- colored photosensitive
- negative
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70458—Mix-and-match, i.e. multiple exposures of the same area using a similar type of exposure apparatus, e.g. multiple exposures using a UV apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
본 발명은 네가티브형 컬러필터의 제조 시 포스트베이크 단계 전에 자외선 조사 단계를 더 포함함으로써, 저온에서 포스트베이크하여도 내화학성이 우수하고, 공정성 및 신뢰성이 우수한 컬러필터 제조를 위한 네가티브형 컬러필터의 제조방법, 이를 이용하여 제조된 네가티브형 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것이다. The present invention further comprises an ultraviolet irradiation step before the post-baking step in the manufacture of the negative color filter, thereby producing a negative color filter for producing a color filter having excellent chemical resistance, excellent processability and reliability even after post-baking at a low temperature. The present invention relates to a method, a negative color filter manufactured by using the same, and an image display apparatus.
Description
본 발명은 네가티브형 컬러필터의 제조방법, 이로부터 제조된 네가티브형 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing a negative color filter, a negative color filter and an image display device manufactured therefrom.
디스플레이 분야에 있어서, 착색 감광성 수지 조성물은 포토레지스트, 절연막, 보호막, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 등의 다양한 광경화 패턴을 형성하기 위해 사용된다. 구체적으로, 착색 감광성 수지 조성물을 포토리소그래피 공정에 의해 선택적으로 노광 및 현상하여 원하는 광경화 패턴을 형성하는데, 이 과정에서 공정상의 수율을 향상시키고, 적용 대상의 물성을 향상시키기 위해, 고감도를 가지는 착색 감광성 수지 조성물이 요구되고 있다.In the field of display, colored photosensitive resin compositions are used to form various photocuring patterns such as photoresists, insulating films, protective films, black matrices, column spacers, and the like. Specifically, the photosensitive resin composition is selectively exposed and developed by a photolithography process to form a desired photocuring pattern. In this process, coloring having a high sensitivity in order to improve the yield of the process and to improve the physical properties of the application target Photosensitive resin compositions are desired.
착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성은 포토리소그래피, 즉 광반응에 의해 일어나는 고분자의 극성변화 및 가교반응에 의한다. 특히, 노광 후 알칼리 수용액 등의 용매에 대한 용해성의 변화 특성을 이용한다.The pattern formation of the colored photosensitive resin composition is caused by photolithography, that is, the polarity change and the crosslinking reaction of the polymer caused by the photoreaction. In particular, the change characteristic of solubility to solvents, such as aqueous alkali solution after exposure, is used.
근래에는 터치 패널을 구비한 터치 스크린의 사용이 폭발적으로 증가하고 있으며, 최근에는 플렉서블한 터치 스크린이 크게 주목받고 있다. 이에 따라 터치 스크린에 사용되는 각종 기판 등의 소재로 플렉서블한 특성을 구비해야 하는 바, 그에 따라 사용 가능한 소재도 플렉서블한 고분자 소재로 제한이 발생하여, 제조 공정 역시 보다 온화한 조건에서의 수행이 요구되고 있는 실정이며, 그에 따라 착색 감광성 수지 조성물의 포스트베이크 조건 역시 종래의 고온 경화(200 내지 250℃)가 아닌 저온 경화의 필요성이 대두되고 있는데, 이와 같은 저온 경화는 내화학성이 저하되는 문제가 있어, 이를 개선하기 위한 기술 개발이 필요한 실정이다. Recently, the use of a touch screen with a touch panel is exploding, and recently, a flexible touch screen has attracted much attention. Accordingly, the flexible characteristics of materials such as various substrates used in the touch screen should be provided. Accordingly, the materials that can be used are also limited to the flexible polymer materials, and the manufacturing process is also required to be performed under milder conditions. As a result, post-baking conditions of the colored photosensitive resin composition also require the need for low-temperature curing rather than conventional high-temperature curing (200 to 250 ° C). Such low-temperature curing has a problem of lowering chemical resistance, There is a need for technology development to improve this.
이와 관련하여, 대한민국 공개특허 제10-2008-0083944호에는 포스트 베이크 공정을 자외선 조사 방식으로 대체하는 컬러필터 기판의 제조방법에 대하여 기재되어 있으나, 이는 단순히 컬러필터의 생산 효율을 증가시키기 위함일 뿐, 저온 경화에 대한 필요성을 전혀 인지하고 있지 못한 문제가 있다. In this regard, Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2008-0083944 discloses a method of manufacturing a color filter substrate that replaces a post bake process by ultraviolet irradiation, but this is merely to increase the production efficiency of the color filter. There is a problem in that there is no recognition of the need for low temperature curing.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로서, 네가티브형 컬러필터의 제조 시 포스트베이크 단계 전에 자외선 조사 단계를 추가 실시함으로써, 포스트베이크를 저온에서 실시함에도 불구하고 우수한 공정성, 신뢰성 및 내화학성을 보이는 네가티브형 컬러필터의 제조방법, 이로부터 제조된 네가티브형 컬러필터 및 화상표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention is to solve the above problems, by the addition of the ultraviolet irradiation step before the post-baking step in the manufacture of the negative color filter, even though the post-baking at a low temperature shows excellent processability, reliability and chemical resistance It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a negative color filter, a negative color filter and an image display device manufactured therefrom.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 a) 착색 감광성 수지 조성물을 기재의 일 면 상에 도포하는 단계; b) 상기 도포된 착색 감광성 수지 조성물을 건조 및 소프트베이크 하는 단계; c) 상기 소프트베이크 된 착색 감광성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계; d) 상기 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 현상액으로 현상한 후, 수세처리하는 단계; e) 상기 수세 처리 된 착색 감광성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계; 및 f) 상기 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 포스트베이크 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터의 제조방법을 제공한다. The present invention to achieve the above object is a) applying a colored photosensitive resin composition on one side of the substrate; b) drying and softbaking the applied colored photosensitive resin composition; c) irradiating ultraviolet rays to the soft baked colored photosensitive resin composition; d) developing the colored photosensitive resin composition irradiated with ultraviolet rays with a developer, followed by washing with water; e) irradiating ultraviolet light to the washed photosensitive resin composition; And f) post-baking the colored photosensitive resin composition irradiated with the ultraviolet rays.
또한, 본 발명은 전술한 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터를 제공한다. In addition, the present invention provides a negative color filter characterized in that the manufacturing method described above.
또한, 본 발명은 전술한 네가티브형 컬러필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상표시장치를 제공한다. In addition, the present invention provides an image display apparatus comprising the aforementioned negative color filter.
본 발명에 따른 네가티브형 컬러필터의 제조방법은 컬러필터의 제조 시 포스트베이크 단계 전에 자외선 조사 단계를 추가로 실시함으로써, 포스트베이크를 저온에서 실시함에도 불구하고 공정성, 신뢰성 및 내화학성이 우수하여 플렉서블한 화상표시장치에 적용할 수 있는 컬러필터를 제조할 수 있는 이점이 있다. In the manufacturing method of the negative color filter according to the present invention, the ultraviolet ray irradiation step is further performed before the post-baking step in the manufacture of the color filter, so that the post-baking is performed at low temperature, and thus the processability, reliability and chemical resistance are excellent. There is an advantage that a color filter that can be applied to an image display device can be manufactured.
또한, 본 발명에 따른 네가티브형 컬러필터는 전술한 네가티브형 컬러필터의 제조방법으로 제조됨으로써 공정성, 신뢰성 및 내화학성이 우수하여 플렉서블한 화상표시장치에 적용될 수 있는 이점이 있다. In addition, since the negative color filter according to the present invention is manufactured by the method for manufacturing the negative color filter described above, there is an advantage that it can be applied to a flexible image display device having excellent processability, reliability, and chemical resistance.
또한, 본 발명에 따른 화상표시장치는 전술한 네가티브형 컬러필터를 포함함으로써 상기와 같은 이점이 있다. In addition, the image display device according to the present invention has the above advantages by including the above-described negative color filter.
도 1은 본 발명의 네가티브형 컬러필터 제조방법으로 제조된 컬러필터에 잔사 실험을 수행한 결과를 나타낸 도이다.
도 2는 본 발명의 네가티브형 컬러필터 제조방법으로 제조되지 않은 컬러필터에 잔사 실험을 수행한 결과를 나타낸 도이다. 1 is a view showing a result of performing a residue experiment on a color filter manufactured by the method of manufacturing a negative color filter of the present invention.
2 is a view showing the results of performing a residue experiment on a color filter not manufactured by the negative color filter manufacturing method of the present invention.
본 발명에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. In the present invention, when a member is located "on" another member, this includes not only when one member is in contact with another member but also when another member exists between the two members.
본 발명에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In the present invention, when a part is said to "include" a certain component, it means that it may further include other components, except for the other components unless otherwise stated.
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명의 한 양태에 따른 네가티브형 컬러필터의 제조방법은 a) 착색 감광성 수지 조성물을 기재의 일 면 상에 도포하는 단계; b) 상기 도포된 착색 감광성 수지 조성물을 건조 및 소프트베이크 하는 단계; c) 상기 소프트베이크 된 착색 감광성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계; d) 상기 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 현상액으로 현상한 후, 수세 처리하는 단계; e) 상기 수세 처리 된 착색 감광성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계; 및 f) 상기 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 포스트베이크 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 네가티브형 컬러필터의 제조방법은 전술한 바와 같이 f) 포스트베이크 단계 전에 자외선을 조사하는 e) 단계를 더 포함하여 착색 감광성 수지 조성물을 사전 경화시킴으로써 f) 포스트베이크 단계에서 경화 온도를 낮출 수 있는 이점이 있다. 구체적으로, 상기와 같이 f) 포스트베이크 단계의 경화 온도를 낮춤으로써, 공정성, 신뢰성 및 내화학성이 우수하여 플렉서블한 화상표시장치에 적용할 수 있는 네가티브형 컬러필터를 제조할 수 있는 이점이 있다. Method for producing a negative color filter according to an aspect of the present invention comprises the steps of: a) applying a coloring photosensitive resin composition on one side of the substrate; b) drying and softbaking the applied colored photosensitive resin composition; c) irradiating ultraviolet rays to the soft baked colored photosensitive resin composition; d) developing the colored photosensitive resin composition irradiated with ultraviolet rays with a developer, followed by washing with water; e) irradiating ultraviolet light to the washed photosensitive resin composition; And f) post-baking the colored photosensitive resin composition irradiated with the ultraviolet rays. The method of manufacturing the negative color filter of the present invention further comprises the step of f) irradiating ultraviolet rays before the post-baking step, as described above, to pre-cure the colored photosensitive resin composition, thereby reducing the curing temperature in the post-bake step. There is an advantage to this. Specifically, as described above, by lowering the curing temperature of the post-bake step, there is an advantage in that a negative color filter that can be applied to a flexible image display device having excellent processability, reliability, and chemical resistance can be manufactured.
상기 a) 단계는 기재의 일 면 상에 패턴층을 위한 착색 감광성 수지 조성물을 도포하는 단계로서, 이 때 사용되는 기재 및 착색 감광성 수지 조성물은 당 업계에서 사용되는 것이라면 특별한 제한 없이 사용될 수 있고, 각 패턴층의 용도에 맞는 기재 및 착색 감광성 수지 조성물이 적절히 선택되어 사용될 수 있다. 상기 패턴층은 예를 들면, 접착제층, 어레이 평탄화막, 보호막, 절연막 패턴, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서, 블랙 컬럼 스페이서, 포토레지스트 등을 들 수 있고, 포토레지스트층이 바람직하게 적용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이를 구성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물이 다양하게 선택되어 사용될 수 있다. Step a) is a step of applying a colored photosensitive resin composition for a pattern layer on one side of the substrate, the substrate and the colored photosensitive resin composition used at this time can be used without particular limitation, if used in the art, each The base material and coloring photosensitive resin composition suitable for the use of a pattern layer can be selected suitably, and can be used. The pattern layer may include, for example, an adhesive layer, an array planarization film, a protective film, an insulating film pattern, a black matrix, a column spacer, a black column spacer, a photoresist, and the like, but a photoresist layer may be preferably applied thereto. The coloring photosensitive resin composition for constituting the same may be variously selected and used.
상기 기재는 예를 들면, 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 고분자 기재 등을 들 수 있고, 상기 고분자 기판은 예를 들면, 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The substrate may be, for example, glass, silicon (Si), silicon oxide (SiOx) or a polymer substrate, and the polymer substrate may be, for example, polyethersulfone (PES) or polycarbonate (polycarbonate, PC) and the like, but is not limited thereto.
상기 기재의 일면 상에 패턴층을 형성하기 위해 착색 감광성 수지 조성물을 도포하는 방법은 본 발명에서 특별한 한정되지 않으며, 당 업계에서 사용되는 방법이라면 제한 없이 사용 가능하다. 예를 들면, 슬릿 도포, 슬릿 앤드 스핀 코터, 잉크젯법, 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등을 들 수 있다. The method of applying the coloring photosensitive resin composition to form a pattern layer on one surface of the substrate is not particularly limited in the present invention, and any method used in the art may be used without limitation. For example, a slit coating, a slit and spin coater, an inkjet method, a rotary coating, casting | coating, roll coating, the screen printing method, etc. are mentioned.
또한, 사전에 가지지체 상에 상기 도포법에 의해 형성된 도포막을 기판 상에 전사하는 부여 방법을 적용할 수도 있다. Moreover, the provision method which transfers the coating film formed by the said apply | coating method on a support body previously on a board | substrate can also be applied.
네가티브형 컬러필터를 제공하기 위해 이용되는 착색 감광성 수지 조성물은 본 발명에서 특별히 한정하는 것은 아니나, 통상적으로 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색제 내지 용제 등을 포함할 수 있다. Although the coloring photosensitive resin composition used for providing a negative color filter is not specifically limited in this invention, Usually, alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, a coloring agent, a solvent, etc. can be included.
상기 알칼리 가용성 수지는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 컬러패턴을 형성할 때, 처리 공정 중 현상 단계에서 사용되는 알칼리 현상액에 대한 가용성을 증대시키 위해 사용되는 것으로서, 본 발명에서는 특별히 한정하지 않고 당 업계에서 사용되는 어느 것을 사용해도 무방하다. The alkali-soluble resin is used to increase the solubility of the alkaline developer used in the developing step during the treatment process when forming a color pattern using the colored photosensitive resin composition, and is not particularly limited in the present invention and is used in the art. Any of those used may be used.
상기 광중합성 화합물은 광의 조사에 의해 광중합 개시제로부터 발생하는 활성 라디칼, 산 등에 의해 중합될 수 있는 화합물로서, 관능성기를 1개 이상 가지는 단량체를 의미할 수 있으며, 상기 관능성기의 개수에 따라 1관능, 2관능, 다관능 등으로 구분될 수 있다. 상기 광중합성 화합물은 본 발명에서 특별히 한정하지 않으며, 당 업계에서 사용되는 어느 것을 사용해도 무방하다. The photopolymerizable compound is a compound that can be polymerized by an active radical, an acid, etc. generated from a photopolymerization initiator by irradiation of light, and may mean a monomer having one or more functional groups, and monofunctional according to the number of functional groups. , Bifunctional, multifunctional and the like. The photopolymerizable compound is not particularly limited in the present invention, and any of those used in the art may be used.
상기 광중합 개시제는 전술한 바와 같이 광의 조사에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생시키며, 알칼리 가용성 수지 및 광중합성 화합물을 중합시키는 역할을 한다. 이 때, 착색 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위한 목적으로 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수도 있다. 상기 광중합 개시제 및 광중합 개시 보조제는 본 발명에서 특별히 한정되지 않으며, 당 업계에서 사용되는 어느 것을 사용해도 무방하다. As described above, the photopolymerization initiator generates an active radical, an acid, or the like by irradiation with light, and serves to polymerize the alkali-soluble resin and the photopolymerizable compound. At this time, a photopolymerization start adjuvant may be further included for the purpose of improving the sensitivity of a coloring photosensitive resin composition. The photopolymerization initiator and the photopolymerization initiation assistant are not particularly limited in the present invention, and any of those used in the art may be used.
상기 착색제는 컬러필터층의 색을 내기 위해 포함되는 것으로서, 필요에 따라 안료 내지 염료 등을 선택적으로 사용할 수 있다. 상기 안료 내지 염료는 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 안료 내지 염료로써 분류되어 있는 화합물들을 예로 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 안료 내지 염료의 분산성을 향상시키기 위해 분산제를 함께 포함할 수도 있다. 본 발명에서는 상기 착색제 내지 분산제를 특별히 한정하지 않으며, 당 업계에서 사용되는 것이라면 어느 것을 사용해도 무방하다. The colorant is included to give a color of the color filter layer, and may optionally use pigments or dyes as necessary. The pigments and dyes may include, but are not limited to, compounds classified as pigments or dyes in the color index (Published by The society of Dyers and Colourists). In addition, a dispersant may be included together to improve dispersibility of the pigment to dye. In the present invention, the coloring agent or dispersant is not particularly limited, and any one may be used as long as it is used in the art.
상기 용제는 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 각 구성 성분들을 용해시키는 역할을 하는 것으로서, 본 발명에서는 그 종류를 특별히 한정하지 않고, 당 업계에서 사용되는 용제라면 어느 것이든 사용해도 무방하다. The solvent serves to dissolve the respective constituents contained in the colored photosensitive resin composition. The solvent is not particularly limited in the present invention, and any solvent may be used as long as it is used in the art.
상기 착색 감광성 수지 조성물은 전술한 성분들 이외에도 필요에 따라 산화방지제, 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 밀착 촉진제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 더 포함할 수도 있다. The colored photosensitive resin composition may further include additives such as antioxidants, fillers, other polymer compounds, curing agents, adhesion promoters, ultraviolet absorbers, and anti-agglomerating agents, if necessary.
상기 b) 단계는 상기 a) 단계에서 도포된 착색 감광성 수지 조성물을 건조 및 소프트베이크함으로써 용매 등의 휘발 성분을 휘발시키는 단계이다. Step b) is a step of volatilizing a volatile component such as a solvent by drying and softbaking the colored photosensitive resin composition applied in the step a).
상기 건조 단계는 예를 들면, 자연건조, 에어건조, 원적외선 건조, 마이크로파 건조, 가열건조, 열풍건조, 감압건조 등을 들 수 있으며, 도포된 착색 감광성 수지 조성물이 균일하게 도포된 상태를 유지하기 위해, 감압건조인 것이 바람직하며, 상기 감압 건조의 압력 조건은 65 내지 100Pa인 것이 바람직하며, 상기 소프트베이크 온도 조건은 80 내지 120℃인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 건조 압력 조건 및 소프트베이크 온도 조건이 상기 범위를 만족하는 경우, 다음 단계를 위해 도포된 착색 감광성 수지 조성물을 흐트러짐 없이 안정된 상태로 유지할 수 있어 바람직하다. 또한, 상기 소프트베이크 시간은 1분 내지 10분일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The drying step may include, for example, natural drying, air drying, far-infrared drying, microwave drying, heat drying, hot air drying, reduced pressure drying, and the like to maintain a uniformly coated state of the coated photosensitive resin composition. It is preferable that the vacuum drying is carried out, and the pressure condition of the vacuum drying is preferably 65 to 100 Pa, and the soft baking temperature condition is preferably 80 to 120 ° C., but is not limited thereto. When the drying pressure condition and the soft bake temperature condition satisfy the above range, it is preferable because the colored photosensitive resin composition applied for the next step can be kept in a stable state without being disturbed. In addition, the soft bake time may be 1 minute to 10 minutes, but is not limited thereto.
상기 c) 단계는 상기 b) 단계에서 소프트베이크 된 착색 감광성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계로서, 구체적으로 상기 b) 단계에서 소프트베이크 된 착색 감광성 수지 조성물에 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사하여 원하는 패턴대로 착색 감광성 수지 조성물을 경화시키는 단계이다. 이 때 상기 착색 감광성 수지 조성물의 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시될 수 있도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용할 수도 있다. Step c) is a step of irradiating ultraviolet light to the colored photosensitive resin composition soft-baked in the step b), specifically a mask for forming a target pattern on the colored photosensitive resin composition soft-baked in the step b) Irradiating ultraviolet rays through the step of curing the colored photosensitive resin composition in a desired pattern. At this time, a device such as a mask aligner or a stepper may be used so that parallel light rays are uniformly irradiated to the entire exposed portion of the colored photosensitive resin composition, and accurate alignment of the mask and the substrate can be performed.
상기 자외선으로는 g선(436nm), h선(405nm), i선(365nm) 등을 사용할 수 있다. 상기 자외선의 적산광량은 10 내지 200mJ인 것이 바람직하다. 상기 자외선 적산광량이 상기 범위 내로 포함될 경우, 노광량이 충분하여 포토레지스트가 안정적으로 개시되며, 패턴형성의 직진성 우수하고 패턴의 눌러붙음 현상을 방지할 수 있는 이점이 있다.As the ultraviolet ray, g line (436 nm), h line (405 nm), i line (365 nm) and the like can be used. It is preferable that the accumulated light quantity of the said ultraviolet-ray is 10-200mJ. When the amount of ultraviolet light accumulated is included in the above range, the exposure amount is sufficient, the photoresist is stably initiated, and there is an advantage in that the linearity of the pattern formation is excellent and the adhesion of the pattern can be prevented.
상기 d) 단계는 상기 c) 단계에서 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 현상액으로 현상 및 수세처리 하는 단계로서, 상기 c) 단계의 노광 후 패턴층의 미경화부를 현상에 의해 제거하여 패턴의 모양을 형성시키는 단계이다. 즉, 상기 c) 단계의 노광에 의해 노광부는 패턴 모양으로 경화되고, 상기 d) 단계의 현상처리에서는 알칼리 현상 처리를 함으로써, 노광 공정에서의 미경화 부분을 알칼리 수용액에 용출시켜서 제거하고, 광경화한 부분만 남김으로써 패턴을 형성시킬 수 있다. The step d) is a step of developing and washing the colored photosensitive resin composition irradiated with ultraviolet rays in the step c) with a developer, and removing the uncured portion of the pattern layer after exposure in step c) by developing to form a pattern. Forming a step. That is, the exposure part is cured into a pattern shape by the exposure of step c), and in the development treatment of step d), the alkali development treatment is performed to elute and remove the uncured portion of the exposure step in the aqueous alkali solution, and to photocure. The pattern can be formed by leaving only one part.
상기 현상 방법은 당 업계에서 사용되는 것이라면 본 발명에서는 특별한 한정하지 않는다. 예를 들면, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등을 들 수 있다. 또한, 현상 시 기판을 임의의 각도로 기울일 수 있다. 상기 현상액은 특별히 한정되지 않으나, 알칼리성 화합물과 게면 활성제를 함유하는 수용액일 수 있다. The developing method is not particularly limited in the present invention as long as it is used in the art. For example, a liquid addition method, a dipping method, a spray method, etc. are mentioned. In addition, the substrate can be tilted at any angle during development. The developing solution is not particularly limited, but may be an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.
상기 알칼리성 화합물은 무기 또는 유기 알칼리성 화합물 그 어느 것을 사용해도 무방하다. 상기 무기 알칼리성 화합물은 예를 들면, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 인산수소 2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소 2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산 2수소칼륨, 규산 나트륨, 규산 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소나트륨, 탄산 수소칼륨, 붕산 나트륨, 붕산 칼륨, 암모니아 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 상기 유기 알칼리성 화합물은 예를 들면, 테트라메틸암모늄히드록사이드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound. The inorganic alkaline compound is, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, carbonate Potassium, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia, and the like, but are not limited thereto. The organic alkaline compound is, for example, tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono Isopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, and the like, but is not limited thereto.
상기 계면활성제는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 및 양이온계 게면활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다. The surfactant may be one or more selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants and cationic surfactants.
상기 비이온계 계면 활성제는 예를 들면, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖에 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. The nonionic surfactant is, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivative, oxyethylene / oxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester , Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like, but is not limited thereto.
상기 음이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에스테르나트륨, 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산 에스테르염류, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨, 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned, It is not limited to this.
상기 양이온계 계면활성제는 예를 들면, 스테아릴아민염산염, 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염, 4급 암모늄염 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. Examples of the cationic surfactant include, but are not limited to, amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, and quaternary ammonium salts.
전술한 알칼리성 화합물 및 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 미경화부만을 효과적으로 제거하기 위하여 상기 알칼리 현상액 내 각 성분들의 함량은 알칼리 현상액 100중량%에 대하여, 알칼리성 화합물 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.03 내지 5중량%; 계면활성제 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 8중량%일 수 있으나, 상기 함량은 현상 정도를 고려하여 적절히 조절될 수 있다. The above-mentioned alkaline compound and surfactant can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively. In order to effectively remove only the uncured portion, the content of each component in the alkaline developer is 0.01 to 10% by weight, preferably 0.03 to 5% by weight, based on 100% by weight of the alkaline developer; The surfactant may be 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, but the content may be appropriately adjusted in consideration of the degree of development.
전술한 바와 같이 알칼리성 수용액으로 이루어진 현상액을 통해 현상된 기판은 현상 수 순수로 세정하는 과정을 거친다. As described above, the substrate developed through the developer composed of the alkaline aqueous solution is washed with the developing pure water.
상기 d) 단계의 현상 온도는 20 내지 35℃인 것이 바람직하고, 현상 시간은 30초 내지 120초인 것이 바람직하다. 또한, 샤워압은 0.01 내지 0.5Pa인 것이 바람직한데, 이들 조건을 상기 범위 내로 조절함으로써 패턴의 형상을 사각형으로 하거나, 순테이퍼로 하는 등 임의로 설계 가능한 이점이 있다. It is preferable that the developing temperature of the said d) is 20-35 degreeC, and developing time is 30 second-120 second. In addition, the shower pressure is preferably 0.01 to 0.5 Pa. By controlling these conditions within the above range, there is an advantage that the design of the pattern can be arbitrarily designed such as square or forward taper.
상기 e) 단계는 착색 감광성 수지 조성물을 완전히 경화시키기 위해 포스트베이크를 수행하기 전 자외선을 조사하여 착색 감광성 수지 조성물을 사전 경화시키는 단계로서, 본 발명의 한 양태에 따른 네가티브형 컬러필터의 제조 방법은 상기 e) 단계를 더 포함하여 사전 경화되어 충분한 경화도를 얻음으로써 후에 이어지는 포스트베이크의 온도를 낮출 수 있는 이점이 있다. Step e) is a step of pre-curing the colored photosensitive resin composition by irradiating ultraviolet rays before performing the post-baking to completely cure the colored photosensitive resin composition, the method of producing a negative color filter according to an aspect of the present invention Further comprising the step e) is pre-cured to obtain a sufficient degree of curing has the advantage of lowering the temperature of the subsequent post-baking.
이 때, 상기 자외선은 예를 들면, g선(436nm), h선(405nm), i선(365nm) 등을 들 수 있으며, 상기 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있으나, 착색 감광성 수지 조성물을 충분히 경화시키기 위해 적산광량이 10mJ 이상일 수 있으며, 경화도를 보다 향상시키기 위해서 40mJ 이상인 것이 바람직하다. In this case, the ultraviolet rays may include, for example, g-rays (436 nm), h-rays (405 nm), i-rays (365 nm), and the like. The irradiation dose of ultraviolet rays may be appropriately selected as necessary, but the colored photosensitive resin may be used. The amount of accumulated light may be 10 mJ or more in order to sufficiently cure the composition, and in order to further improve the degree of curing, the amount is preferably 40 mJ or more.
상기 f) 단계는 착색 감광성 수지 조성물을 완전히 경화시키기 위해 포스트베이킹하는 단계로서, 본 발명의 한 양태에 따른 네가티브형 컬러필터의 제조방법은 포트스베이크 단계 이전에 자외선을 조사하여 사전 경화시키는 e) 단계를 포함함으로써, 저온에서 포스트베이킹을 실시할 경우에도 공정성, 신뢰성 및 내화학성이 우수한 네가티브형 컬러필터를 제조할 수 있는 이점이 있다. 이 때, 본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 포스트 베이크 온도는 80 내지 150℃일 수 있다. 이와 같이 포스트베이크를 종래의 온도(200 내지 250℃)보다 저온에서 수행하게 되면, 플렉서블한 화상표시장치에 적용할 수 있는 네가티브형 컬러필터를 제조할 수 있는 이점이 있고, 또한, 이를 통해 제조된 네가티브형 컬러필터를 OLED에 적용할 경우 휘도가 향상되는 이점이 있다. The step f) is a step of post-baking to completely cure the colored photosensitive resin composition, the method of manufacturing a negative color filter according to an aspect of the present invention is e) pre-cured by irradiation with ultraviolet rays before the potsbake step By including the step, even when performing the post-baking at a low temperature there is an advantage that can be produced a negative color filter excellent in processability, reliability and chemical resistance. At this time, according to one embodiment of the present invention, the post bake temperature may be 80 to 150 ℃. When the postbaking is performed at a lower temperature than the conventional temperature (200 to 250 ° C.), there is an advantage in that a negative color filter that can be applied to the flexible image display apparatus can be manufactured and manufactured through the same. Applying a negative color filter to the OLED has the advantage that the brightness is improved.
상기 포스트베이킹 방법은 본 발명에서는 특별히 한정하지 않으나, 예를 들면 e) 단계에서 자외선으로 사전 경화된 기판을 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여 연속식 또는 일괄식으로 가열하는 방법을 들 수 있다.The post-baking method is not particularly limited in the present invention, but for example, the substrate pre-cured with ultraviolet rays in the step e) is continuous by using heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), or a high frequency heater. Or the method of heating in batch is mentioned.
본 발명의 다른 양태에 따른 네가티브형 컬러필터는 전술한 네가티브형 컬러필터의 제조방법을 통해 제조된 것을 특징으로 한다. 이와 같이 본 발명의 네가티브형 컬러필터의 제조방법으로 제조된 네가티브형 컬러필터의 경우 저온에서 포스트베이킹을 실시하더라도 충분한 경화도를 얻을 수 있어 공정성 및 신뢰성이 우수하며, 이러한 특성을 이용하여 플렉서블한 화상표시장치에 적용될 수 있는 이점이 있다. 또한, 저온에서 포스트베이킹을 실시함에도 불구하고 내화학성이 우수한 이점이 있다. The negative color filter according to another aspect of the present invention is characterized in that it is produced through the manufacturing method of the negative color filter described above. As described above, in the case of the negative color filter manufactured by the method of manufacturing the negative color filter of the present invention, even when postbaking is performed at a low temperature, sufficient curing degree can be obtained, and thus the processability and reliability are excellent. There is an advantage that can be applied to the device. In addition, despite the post-baking at a low temperature there is an advantage of excellent chemical resistance.
본 발명의 또 다른 양태에 따른 화상표시장치는 전술한 네가티브형 컬러필터를 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 화상표시장치는 예를 들면, 액정디스플레이, OLED, 플렉서블 디스플레이 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 화상표시장치는 전술한 바와 같이 저온경화에서도 공정성, 신뢰성 및 내화학성이 우수한 네가티브형 컬러필터를 포함함으로써, 플렉서블 디스플레이에 적용이 보다 유리한 이점이 있고, OLED에 적용할 경우 휘도가 향상될 수 있어 바람직하다. An image display apparatus according to another aspect of the present invention is characterized by including the aforementioned negative color filter. The image display device may include, for example, a liquid crystal display, an OLED, a flexible display, but is not limited thereto. As described above, the image display device of the present invention includes a negative color filter having excellent processability, reliability, and chemical resistance even at low temperature curing, and thus has an advantage of being more advantageous for flexible displays, and when applied to OLEDs, brightness may be improved. It is preferable to be able.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당 업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다. 이하의 실시예 및 비교예에서 함량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다. Hereinafter, preferred examples are provided to aid the understanding of the present invention, but the following examples are merely for exemplifying the present invention, and various changes and modifications within the scope and spirit of the present invention are apparent to those skilled in the art. Naturally, such modifications and variations fall within the scope of the appended claims. In the following Examples and Comparative Examples, "%" and "parts" indicating contents are by weight unless otherwise specified.
합성예Synthesis Example 1: 트리아진 화합물 1: triazine compound
물 100 중량부에 2-클로로-4,6-디아미노-1,3,5-트리아진 18.4 중량부와 3-(2-에틸헥실옥시)프로필아민 21 중량부를 가하고, 10℃에서 1시간 동안 반응시켰다. 얻어진 반응물을, 85℃에서 5시간 동안 더 반응시켰다. 얻어진 반응물을 침출시켜 얻어진 잔사를 수세한 후, 100℃의 항온조에 밤새 정치해서 건조시켜서 하기 화학식 1의 화합물을 얻었다.To 100 parts by weight of water, 18.4 parts by weight of 2-chloro-4,6-diamino-1,3,5-triazine and 21 parts by weight of 3- (2-ethylhexyloxy) propylamine were added, followed by 1 hour at 10 ° C. Reacted for a while. The resulting reaction was further reacted at 85 ° C. for 5 hours. The obtained reaction product was leached and the resulting residue was washed with water, and then allowed to stand overnight in a 100 ° C. thermostat, followed by drying to obtain a compound of formula (1).
[화학식 1][Formula 1]
합성예Synthesis Example 2: 수지 2: resin
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하로트로서, 벤질말레이미드 74.8g(0.20몰), 아크릴산 43.2g(0.30몰), 비닐톨루엔 118.0g(0.50몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40g를 투입 후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6g, PGMEA 24g를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395g를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2시간 동안 진행하고 1시간 후에 110℃로 승온하여 3시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 28.4g[(0.10몰), (본 반응에 사용한 아크릴산의 카르복시기에 대하여 33몰%)], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4g 및 트리에틸아민 0.8g를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 동안 반응을 계속하여, 고형분 산가가 70㎎KOH/g인 수지를 얻었다. 상기 수지는 GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 16,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping lot and a nitrogen inlet tube was prepared, and as a monomer dropping lot, 74.8 g (0.20 mole) of benzylmaleimide, 43.2 g (0.30 mole) of acrylic acid, and vinyltoluene 118.0 g (0.50 mol), 4 g of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were added thereto, followed by stirring and mixing. As a chain transfer agent dropping tank, n-dodecanethiol 6g and PGMEA24g were added, and the thing mixed with stirring was prepared. Thereafter, 395 g of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Subsequently, dropping of the monomer and the chain transfer agent was started from the dropping lot. The dropwise addition was performed for 2 hours while maintaining 90 ° C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C and maintained for 3 hours, and then a gas introduction tube was introduced to provide oxygen / nitrogen = 5/95 (v / v) mixed gas. Bubbling of was started. Next, 28.4 g of glycidyl methacrylate [(0.10 mol), (33 mol% with respect to the carboxyl group of acrylic acid used for this reaction)], 2,2'- methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol ) 0.4 g and 0.8 g of triethylamine were added to the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 8 hours to obtain a resin having a solid acid value of 70 mgKOH / g. The said resin had a weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC in 16,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.
제조예 1: 착색제 분산액의 제조Preparation Example 1 Preparation of Colorant Dispersion
트리아진 유도체로서 상기 합성예 1에서 제조된 화학식 1의 화합물 20.48 중량부, C.I. 피그먼트 블루 15:6 9.12 중량부, C.I. 애시드 레드 52 2.88 중량부, 아크릴계 분산제[Disperbyk(등록상표) 2000; 빅케미사 제조] 3.84 중량부, 상기 합성예 2에서 제조된 수지 2.88 중량부, 용제 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 55.04 중량부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 5.76 중량부를, 0.2 ㎜ 직경의 지르코니아 비드 360중량부와 함께, 용량 140 ㎖의 마요네스 병에 투입하고, 페인트 컨디셔너로 60℃에서 10시간 동안 혼련하여 분산 처리를 행하였다. 그 후, 지르코니아 비드를 제거하고 분산액을 얻었다. 상기 분산액을, 공경(pore size) 1.0 ㎛의 멤브레인 필터로 여과하여 착색제 분산액을 얻었다.20.48 parts by weight of the compound of formula 1 prepared in Synthesis Example 1 as the triazine derivative, C.I. Pigment Blue 15: 6 9.12 parts by weight, C.I. 2.88 parts by weight of Acid Red 52, an acrylic dispersant [Disperbyk® 2000; BIC Chem Co., Ltd.] 3.84 parts by weight, 2.88 parts by weight of the resin prepared in Synthesis Example 2, 55.04 parts by weight of solvent propylene glycol monomethyl ether acetate, and 5.76 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, 360 parts by weight of 0.2 mm diameter zirconia beads In addition, it put in the volume 140 ml mayonne bottle, knead | mixed for 10 hours at 60 degreeC with the paint conditioner, and the dispersion process was performed. Thereafter, zirconia beads were removed and a dispersion was obtained. The dispersion was filtered through a membrane filter having a pore size of 1.0 μm to obtain a colorant dispersion.
제조예Production Example 2: 착색 감광성 수지 조성물의 제조 2: Preparation of colored photosensitive resin composition
착색 감광성 수지 조성물 전체 100중량%에 대하여, 상기 제조예 1에서 제조된 착색제 분산액 12중량%, 광중합성 화합물로서 디펜타에리스리톨헥사크릴레이트(KAYARAD DPHA, 닛폰 가야꾸(주)) 8중량%, 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산 및 벤질메타크릴레이트의 공중합체(메타크릴산 단위와 벤질메타크릴레이트 단위의 몰비는 31:69, 산가는 100mgKOH/g, 폴리스티렌 환산 중량평균분자량은 20,000) 8중량%, 광중합 개시제로서 Irgacure(BASF 사) 3중량%, 첨가제로서 SH-8400(다우코닝 사) 0.5중량% 및 용제로서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 68.5중량%를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. To 100% by weight of the total color photosensitive resin composition, 12% by weight of the colorant dispersion prepared in Preparation Example 1, 8% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a photopolymerizable compound (KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), alkali 8% by weight of copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate (molar ratio of methacrylic acid unit and benzyl methacrylate unit is 31:69, acid value 100mgKOH / g, polystyrene equivalent weight average molecular weight 20,000), A colored photosensitive resin composition was prepared by mixing 3% by weight of Irgacure (BASF) as a photopolymerization initiator, 0.5% by weight of SH-8400 (Dow Corning) as an additive, and 68.5% by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent.
실시예Example : : 네가티브형Negative 컬러필터의 제조 Manufacture of color filter
① a) 단계: 상기 제조예 2에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 가로, 세로가 각각 5cm인 유리기판(Eagle 2000, 코닝사 제조) 상에 도포하여 스핀코팅하였다. ① step a): The colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 2 was spin-coated by coating on a glass substrate (Eagle 2000, manufactured by Corning Corporation) having a length of 5 cm.
② b) 단계: 상기 착색 감광성 수지 조성물이 도포된 기판을 80Pa의 압력 하에서 5분 동안 건조시킨 후, 핫 플레이트(Hot plate)를 이용하여 100℃에서 3분 간 소프트베이크하였다. ② b) step: After drying the substrate coated with the colored photosensitive resin composition for 5 minutes under a pressure of 80Pa, using a hot plate (soft plate) at 100 ℃ for 3 minutes.
③ c) 단계: 상기 소프트베이크한 기판을 상온으로 냉각시킨 후, 포토마스크와의 간격을 200㎛로 하고, 노광기(UX-1100SM, Ushino(주) 제조)를 이용하여, 250mJ/cm2의 노광량(365nm 기준)으로 적산광량이 40mJ이 되도록 노광하였다. ③ c) step: After cooling the soft-baked substrate to room temperature, the distance to the photomask is 200㎛, using an exposure machine (UX-1100SM, manufactured by Ushino Co., Ltd.), the exposure amount of 250mJ / cm 2 (365nm It exposed so that accumulated light amount might be 40mJ as a reference.
④ d) 단계: 상기 광 조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃에서 60초간 침지하여 현상하였고, 순수를 이용하여 수세하였다. ④ d) step: After the light irradiation, the coating film was developed by dipping at 25 ° C. for 60 seconds in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide, and washed with pure water.
⑤ e) 단계: 상기 수세한 도막에 노광기(UX-1100SM, Ushino(주) 제조)를 사용하여 250mJ/cm2의 노광량(365nm 기준)으로 적산광량이 40mJ이 되도록 광을 조사하였다. ⑤ e) step: The water was irradiated to the accumulated light film so that the accumulated light amount might be 40 mJ at an exposure amount of 250 mJ / cm 2 (365 nm standard) using an exposure machine (UX-1100SM, manufactured by Ushino Corporation).
⑥ f) 단계: 상기 광이 조사된 도막을 핫플레이트를 이용하여 150℃에서 20분간 포스트베이크하였다. ⑥ f) step: The light-irradiated coating film was post-baked at 150 ° C. for 20 minutes using a hot plate.
비교예Comparative example : : 네가티브형Negative 컬러필터의 제조 Manufacture of color filter
① a) 단계: 상기 제조예 2에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 가로, 세로가 각각 5cm인 유리기판(Eagle 2000, 코닝사 제조) 상에 도포하여 스핀코팅하였다. ① step a): The colored photosensitive resin composition prepared in Preparation Example 2 was spin-coated by coating on a glass substrate (Eagle 2000, manufactured by Corning Corporation) having a length of 5 cm.
② b) 단계: 상기 착색 감광성 수지 조성물이 도포된 기판을 80Pa의 압력 하에서 5분 동안 건조시킨 후, 핫플레이트(Hot plate)를 이용하여 100℃에서 3분 간 소프트베이크하였다. ② b) step: After drying the substrate coated with the colored photosensitive resin composition for 5 minutes under a pressure of 80Pa, using a hot plate (soft plate) for 3 minutes at 100 ℃.
③ c) 단계: 상기 소프트베이크한 기판을 상온으로 냉각시킨 후, 포토마스크와의 간격을 200㎛로 하고, 노광기(UX-1100SM, Ushino(주) 제조)를 이용하여 250mJ/cm2의 노광량(365nm 기준)으로 적산광량이 40mJ이 되도록 노광하였다. ③ c) step: After cooling the soft-baked substrate to room temperature, the distance from the photomask to 200㎛, using an exposure machine (UX-1100SM, manufactured by Ushino Co., Ltd.), the exposure amount of 250mJ / cm 2 (365nm It exposed so that accumulated light amount might be 40mJ.
④ d) 단계: 상기 광 조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃에서 60초간 침지하여 현상하였고, 순수를 이용하여 수세하였다. ④ d) step: After the light irradiation, the coating film was developed by dipping at 25 ° C. for 60 seconds in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide, and washed with pure water.
⑤ f) 단계: 상기 광이 조사된 도막을 핫플레이트를 이용하여 150℃에서 20분간 포스트베이크하였다. ⑤ f) step: The light-irradiated coating film was post-baked at 150 ° C. for 20 minutes using a hot plate.
실험예Experimental Example 1: One: 내용제성Solvent resistance 평가 evaluation
상기 실시예 및 비교예에서 제조한 컬러필터를 상온의 N-메틸 피롤리돈(NMP) 용액에 30분 간 침지시킨 후, 초순수로 세정하고, 120℃의 핫플레이트에 올려 2분 동안 건조시킨 후, 침지 전후의 색도를 측정하였다. After immersing the color filter prepared in Examples and Comparative Examples in a solution of N-methyl pyrrolidone (NMP) at room temperature for 30 minutes, washing with ultrapure water, and drying on a hot plate at 120 ° C. for 2 minutes. , Chromaticity before and after immersion was measured.
이 때, 색도의 측정을 위해 사용된 식은 L*, a*, b*로 정의되는 3차원 색도계에서의 색 변화를 나타내는 하기 [수학식 1]을 이용하여 계산하였다. 내용제성의 평가 기준은 하기와 같이 하였으며, 그 결과는 하기 표 1에 기재하였다. At this time, the equation used for the measurement of chromaticity was calculated using the following [Equation 1] indicating the color change in the three-dimensional colorimeter defined by L *, a *, b *. Evaluation criteria of solvent resistance were as follows, the results are shown in Table 1 below.
[수학식 1][Equation 1]
△Eab* = [(△L*)2 + (△a*)2 + (△b*)2]1 /2 △ Eab * = [(△ L *) 2 + (△ a *) 2 + (△ b *) 2] 1/2
<평가 기준><Evaluation Criteria>
○: 0 < △Eab* < 1.5○: 0 <ΔEab * <1.5
△: 1.5 ≤ △Eab* < 2.0△: 1.5 ≤ ΔEab * <2.0
×: 2.0 ≤ △Eab*×: 2.0 ≤ ΔEab *
실험예Experimental Example 2: 2: 잔사Residue 평가 evaluation
상기 실시예 및 비교예의 방법으로 패턴이 이루어진 컬러필터 상에 동일한 방법으로 R, G, B 순의 다른 컬러필터층을 더 적층하였다. 이와 같이 컬러필터층이 더 적층된 기판을 반사형 광학현미경(관찰배율 50배)로 관찰한 후, 하기 기준에 따라 적층 잔사 발생 정도를 평가하였다. 상기 적층 잔사의 결과는 표 1에 기재하였다.Another color filter layer in the order of R, G, and B was further laminated in the same manner on the color filter in which the pattern was formed by the method of the above Examples and Comparative Examples. Thus, the board | substrate with which the color filter layer was further laminated | stacked was observed with the reflective optical microscope (observation magnification 50x), and the grade of laminated residue generation was evaluated according to the following reference | standard. The results of the laminated residues are shown in Table 1.
<평가 기준><Evaluation Criteria>
○: 잔사 미발생○: no residue
×: 잔사 발생×: residue generation
상기 표 1을 참고하면, 저온에서 포스트베이킹을 실시할 경우, 자외선으로 사전 경화시키는 단계를 더 포함하는 본 발명의 컬러필터의 제조방법으로 네가티브형 컬러필터 제조 시(실시예), 자외선으로 사전 경화시키는 단계를 포함하지 않는 종래의 컬러필터의 제조방법으로 네가티브형 컬러필터를 제조하는 경우(비교예)보다 내용제성이 우수하고, 잔사 또한 발생하지 않는 것을 확인할 수 있다. Referring to Table 1, when performing the post-baking at a low temperature, when manufacturing a negative color filter in the manufacturing method of the color filter of the present invention further comprises the step of pre-curing with ultraviolet (Example), pre-cured with ultraviolet It can be seen that the solvent resistance is superior to that of producing a negative color filter (comparative example) by a conventional method of manufacturing a color filter which does not include the step of making the residue, and no residue is generated.
구체적으로 도 1 및 도 2를 참고하면, 저온에서 포스트베이킹을 실시할 경우, 본 발명의 컬러필터 제조방법으로 제조된 제가티브형 컬러필터(도 1)의 경우 잔사가 발생하지 않는 것을 확인할 수 있었고, 종래의 컬러필터 제조방법으로 제조된 네가티브형 컬러필터(도 2)의 경우 잔사가 발생하는 것을 확인할 수 있었다. Specifically, referring to Figures 1 and 2, when performing the post-baking at a low temperature, it was confirmed that the residue does not occur in the case of the negative color filter (Fig. 1) manufactured by the color filter manufacturing method of the present invention. In the case of the negative color filter (FIG. 2) manufactured by the conventional color filter manufacturing method, it was confirmed that a residue occurred.
Claims (9)
b) 상기 도포된 착색 감광성 수지 조성물을 건조 및 소프트베이크 하는 단계;
c) 상기 소프트베이크 된 착색 감광성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계;
d) 상기 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 함유하는 수용액인 현상액으로 현상한 후, 수세처리하는 단계;
e) 상기 수세처리 된 착색 감광성 수지 조성물에 적산광량이 10mJ 이상인 자외선을 조사하는 단계; 및
f) 상기 자외선이 조사된 착색 감광성 수지 조성물을 80 내지 150℃의 온도 범위 내에서만 포스트베이크 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터의 제조방법.a) applying the colored photosensitive resin composition on one side of the substrate;
b) drying and softbaking the applied colored photosensitive resin composition;
c) irradiating ultraviolet rays to the soft baked colored photosensitive resin composition;
d) developing the colored photosensitive resin composition irradiated with ultraviolet rays with a developing solution which is an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant, and then washing with water;
e) irradiating the water-treated colored photosensitive resin composition with ultraviolet light having an accumulated light amount of 10 mJ or more; And
f) post-baking the colored photosensitive resin composition irradiated with ultraviolet rays only within a temperature range of 80 to 150 ° C .;
상기 b)단계에서의 건조 방식은 감압 건조인 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1,
Drying method in the step b) is a method for producing a negative color filter, characterized in that the drying under reduced pressure.
상기 감압 건조의 압력 조건은 65 내지 100Pa인 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터의 제조방법. The method of claim 4, wherein
The pressure condition of the said vacuum drying is a manufacturing method of the negative color filter characterized by the above-mentioned.
상기 b)단계의 소프트베이크의 온도는 80 내지 120℃인 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1,
The temperature of the soft bake of step b) is 80 to 120 ℃ manufacturing method of the negative color filter.
상기 c)단계에서의 자외선 적산광량은 10 내지 200mJ인 것을 특징으로 하는 네가티브형 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1,
Ultraviolet accumulated light amount in the step c) is 10 to 200mJ manufacturing method of the negative color filter.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170024166A KR102084433B1 (en) | 2017-02-23 | 2017-02-23 | Manufacturing method of negative-type color filter, negative-type color filter and image display device manufactured by the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170024166A KR102084433B1 (en) | 2017-02-23 | 2017-02-23 | Manufacturing method of negative-type color filter, negative-type color filter and image display device manufactured by the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20180097319A KR20180097319A (en) | 2018-08-31 |
| KR102084433B1 true KR102084433B1 (en) | 2020-03-04 |
Family
ID=63407880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020170024166A KR102084433B1 (en) | 2017-02-23 | 2017-02-23 | Manufacturing method of negative-type color filter, negative-type color filter and image display device manufactured by the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102084433B1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000086726A (en) * | 1998-08-26 | 2000-03-28 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | Photoresist monomer, its production, photoresist copolymer, its production, photoresist composition, formation of photoresist pattern and semiconductor element |
| JP2013080203A (en) | 2011-09-22 | 2013-05-02 | Fujifilm Corp | Positive photosensitive acrylic resin and positive photosensitive resin composition |
| JP2013117732A (en) | 2013-02-08 | 2013-06-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display unit |
| JP2014191298A (en) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition, production method of interlayer insulating film, cured film, liquid crystal display device and organic electroluminescence (el) display device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101363110B1 (en) | 2007-03-14 | 2014-02-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | Manufacturing method of color filter substrate and infrared heating apparatus for the same |
| KR20160063616A (en) * | 2014-11-27 | 2016-06-07 | 동우 화인켐 주식회사 | A color photosensitive resin composition |
-
2017
- 2017-02-23 KR KR1020170024166A patent/KR102084433B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000086726A (en) * | 1998-08-26 | 2000-03-28 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | Photoresist monomer, its production, photoresist copolymer, its production, photoresist composition, formation of photoresist pattern and semiconductor element |
| JP2013080203A (en) | 2011-09-22 | 2013-05-02 | Fujifilm Corp | Positive photosensitive acrylic resin and positive photosensitive resin composition |
| JP2013117732A (en) | 2013-02-08 | 2013-06-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display unit |
| JP2014191298A (en) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition, production method of interlayer insulating film, cured film, liquid crystal display device and organic electroluminescence (el) display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20180097319A (en) | 2018-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2020144396A (en) | Coloring photosensitive resin composition suitable for both column spacer and black matrix | |
| TWI417664B (en) | Negative photosensitive resin composition | |
| CN104950600B (en) | Method of manufacturing black column spacer, black column spacer and color filter | |
| CN103946747A (en) | Negative-type photosensitive resin composition, partition wall, black matrix, and optical element | |
| TW201324041A (en) | Blue photosensitive resin composition for color filters and uses thereof | |
| JP2017102431A (en) | Colored photosensitive resin composition, and color filter and image display device manufactured by using the same | |
| JP7256247B2 (en) | Resin, curable resin composition and cured film | |
| TWI697736B (en) | Black photosensitive resin composition and column spacer comprising the same | |
| KR100855601B1 (en) | Negative photosensitive thermosetting resin composition, transfer material for negative photosensitive thermosetting resin layer, and method of forming image having negative resistance | |
| KR101860580B1 (en) | A black photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same | |
| TWI767904B (en) | Colored photosensitive resin composition and color filter comprising the same | |
| KR101962481B1 (en) | A colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same | |
| TW201835122A (en) | Black photo sensitive resin composition, color filter comprising column spacer, black matrix or black column spacer prepared by using the composition, and display device comprising the color filter for improving adhesion of the black matrix or black column spacer | |
| TWI751966B (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom | |
| KR102084433B1 (en) | Manufacturing method of negative-type color filter, negative-type color filter and image display device manufactured by the same | |
| KR102319892B1 (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same | |
| KR20150081554A (en) | Photosensitive resin composition | |
| KR20150028463A (en) | A black photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same | |
| CN109283791B (en) | Negative colored photosensitive resin composition, optical filter, and liquid crystal display device | |
| KR101401763B1 (en) | A colored photosensitive resin composition, color filter using the same, and flat panel display device comprising the color filter | |
| KR102195690B1 (en) | Photosensitive resin comopsition, photocurable pattern formed from the same and image display comprising the pattern | |
| KR20180108217A (en) | Pattern forming method | |
| KR20150022172A (en) | A color photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same | |
| KR101861067B1 (en) | Black photosensitive resin composition | |
| KR102012524B1 (en) | A color photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| X091 | Application refused [patent] | ||
| AMND | Amendment | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
| GRNT | Written decision to grant |