KR102081796B1 - 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법 - Google Patents

자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 말초신경의 두께에 대응하여 적절한 압력으로 고정될 수 있으며, 고정 후에도 고정 압력의 조절이 용이한 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 구성은 말초신경을 감쌀 수 있도록 마련된 기판유닛; 상기 기판유닛의 내부에 마련되며, 상기 기판유닛의 길이 방향으로 연장 형성된 유로유닛; 상기 유로유닛의 길이방향을 따라 복수로 마련되며, 상호 기설정된 간격만큼 이격되어 마련되는 풍선유닛; 및 각각의 상기 풍선유닛 상에 마련되는 전극유닛을 포함하며, 상기 기판유닛은, 상기 풍선유닛의 팽창도에 대응하여 곡률이 변화하도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치를 제공한다.

Description

자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법{SELF-FIXABLE CUFF ELECTRODE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 말초신경의 두께에 대응하여 적절한 압력으로 고정될 수 있으며, 고정 후에도 고정 압력의 조절이 용이한 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
종래의 커프 전극은 말초신경을 감싼 상태에서, 커프를 기계적인 방식으로 체결하여 고정하였다.
일 예로, 종래에는 커프의 내부에 말초신경을 위치시켜 커프가 말초신경을 감싸도록 한 상태에서, 커프의 내측면을 말초신경의 두께와 대응되도록 조였다. 그리고, 이처럼 조인 상태에서 커프를 클립이나, 기타 체결구조를 통해 고정하였다.
그러나, 이처럼 마련된 종래의 커프 전극은 말초신경에 체결시키기 위한 구조가 복잡하고, 한번 말초신경을 감싸도록 한 상태에서 고정시킨 후에, 말초신경의 움직임에 따라 조임 정도를 변경하는 것이 어려웠다.
구체적으로, 종래의 커프 전극은 말초 신경에 체결을 한 이후에, 말초신경에 대한 조임 정도를 변경하고자 할 경우, 체결구조를 해제한 다음 조임 정도를 변경한 이후에 다시 체결구조를 결합하여 고정해야 했다.
또한, 종래의 커프 전극은 다양한 말초신경의 두께에 따라 말초신경을 고정하기 위한 힘을 세밀하게 조절하기 어려웠으며, 다양한 말초신경의 두께에 대응하여 여러 종류의 커프 전극을 제조해야 하기 때문에 경제적이지 못한 문제가 있었다.
일본등록특허 제5575113호
상기와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은 말초신경의 두께에 대응하여 적절한 압력으로 고정될 수 있으며, 고정 후에도 고정 압력의 조절이 용이한 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 말초신경을 감쌀 수 있도록 마련된 기판유닛; 상기 기판유닛의 내부에 마련되며, 상기 기판유닛의 길이 방향으로 연장 형성된 유로유닛; 상기 유로유닛의 길이방향을 따라 복수로 마련되며, 상호 기설정된 간격만큼 이격되어 마련되는 풍선유닛; 및 각각의 상기 풍선유닛 상에 마련되는 전극유닛을 포함하며, 상기 기판유닛은, 상기 풍선유닛의 팽창도에 대응하여 곡률이 변화하도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치를 제공한다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 풍선유닛은, 상기 유로유닛을 통해 유체가 유입되어 팽창하거나, 유체가 배출되어 수축하도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 복수의 상기 풍선유닛은, 상기 기판유닛의 폭 방향으로 연장되어 마련되며, 상호 평행하도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 복수의 상기 풍선유닛은, 상기 기판유닛의 사선 방향으로 마련되며, 상호 평행하도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기판유닛은, 탄성중합체로 이루어지며, 상기 풍선유닛 내에 유체가 주입되어 상기 풍선유닛이 팽창할수록 상기 말초신경을 감싸도록 곡률이 증가하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 풍선유닛은, 말초신경의 두께에 대응하여 유체가 주입되도록 마련되어, 상기 기판유닛이 상기 말초신경을 감싸는 압력을 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 기판유닛이 연장되도록 마련된 어레이유닛을 더 포함하며, 상기 어레이유닛의 일측면에는 길이 방향을 따라 복수의 기판유닛이 상호 이격되어 연장되도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 a) 하부기판 및 상부기판을 준비하는 단계; b) 준비된 상기 상부기판 및 상기 하부기판을 접착하는 단계; c) 접착이 이루어진 상기 상부기판의 상부에 금속전극층을 형성하는 단계; d) 상기 금속전극층상에 절연층을 형성하는 단계; 및 e) 상기 하부기판에 포함된 캐리어기판을 제거하고 약물을 주입하는 단계를 포함하며, 상기 상부기판은 상기 하부기판에 비해 두께가 얇게 형성된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 a) 단계에서, 상기 하부기판은, 캐리어기판(carrier substrate)의 상부에 제1 PDMS(polydimethylsiloane) 스핀 코팅(spin-coating)층을 형성하고, 상기 제1 PDMS 스핀 코팅층 상부에 파릴렌(Parylene)을 도포하여 제1 파릴렌층을 형성하여 준비하도록 마련되고, 상기 상부기판은, 상기 제1 파릴렌층의 상부에 제2 PDMS 스핀 코팅층을 형성하여 준비하도록 마련되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 b) 단계는, b1) 준비된 상기 상부기판의 상부에 제1 마스킹패턴층(masking pattern)을 형성하는 단계; b2) 상기 제1 마스킹패턴층에 플라즈마(plasma)를 조사하는 단계; 및 b3) 상기 제1 마스킹패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 b1) 단계에서, 상기 제1 마스킹패턴층은, 상기 상부기판과 상기 하부기판이 접합되지 않도록 기설정된 부위에 패턴이 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 b2) 단계에서, 상기 제1 마스킹패턴층에 조사된 플라즈마는 상기 제1 마스킹패턴층의 바깥측에 위치한 제1 파릴렌층을 상기 상부기판과 접착시키는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 c) 단계는, c1) 상기 상부기판의 상부에 파릴렌을 도포하여 제2 파릴렌층을 형성하는 단계; c2) 상기 제2 파릴렌층의 상부에 금속박막을 도포하여 금속박막층을 형성하는 단계; c3) 도포된 상기 금속박막층의 상부에 제2 마스킹패턴층을 형성하는 단계; c4) 상기 제2 마스킹패턴층을 이용하여 상기 금속박막층을 패터닝하여 상기 금속전극층을 형성하는 단계; 및 c5) 상기 제2 마스킹패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 c3) 단계는, 상기 제2 마스킹패턴층은, 상기 상부기판과 접착되지 않은 제1 파릴렌층의 상부에 위치하도록 상호 이격되어 복수개로 마련되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 d) 단계는, d1) 상기 금속전극층상에 파릴렌을 도포하여 제3 파릴렌층을 형성하는 단계; d2) 상기 제3 파릴렌층의 상부에 제3 마스킹패턴층을 형성하는 단계; d3) 상기 제3 마스킹패턴층에 플라즈마를 조사하여 상기 제3 마스킹패턴층의 패턴에 따라 상기 제3 파릴렌층을 식각하여 상기 절연층을 형성하는 단계; 및 d4) 상기 제3 마스킹패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 d3) 단계에서, 상기 제3 마스킹패턴층에 O2 플라즈마를 조사하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 실시예에 있어서, 상기 d2) 단계에서, 상기 제3 마스킹패턴층은, 상기 제3 파릴렌층의 상부에 형성되되, 각각의 상기 금속전극층의 양단부와 대응되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.
상기와 같은 구성에 따르는 본 발명의 효과는, 유압의 조절만으로 말초신경에 적정 압력으로 커프를 밀착 고정시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 전극유닛은 말초신경에 밀착되어 정확하게 전기 신호를 측정하거나, 전기 자극을 가할 수 있다.
또한, 본 발명은 유압의 조절만으로 기판의 곡률을 변경하여 말초신경을 고정하는 힘을 조절할 수 있기 때문에 말초신경의 두께에 대응하여 용이하게 고정할 수 있다. 즉, 본 발명은 다양한 말초신경의 두께에 대응하여 말초신경에 대한 압력의 세밀한 조절이 가능하다.
그리고, 본 발명의 기판유닛은 탄성중합체의 유연한 소재로 이루어져 있어, 장기간 삽입되어도 인체에 손상을 주지 않는다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치가 말초신경을 감싸는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법의 순서도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 접착하는 단계의 순서도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 준비하는 단계 및 접착하는 단계의 공정예시도이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속전극층을 형성하는 단계의 순서도이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속전극층을 형성하는 단계의 공정예시도이다.
도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 절연층을 형성하는 단계의 순서도이다.
도 9는 본 발명의 제1 실시예에 따른 절연층을 형성하는 단계의 공정예시도이다.
도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치에 유체를 주입하는 방법을 나타낸 공정예시도이다.
도 11은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사진이다.
도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사시도이다.
도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치가 말초신경을 감싸는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 14는 본 발명의 제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사시도이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치가 말초신경(n)을 감싸는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 것처럼, 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(10)는 기판유닛(11), 유로유닛(12), 풍선유닛(13) 및 전극유닛(14)을 포함하며, 상기 기판유닛(11)은, 상기 풍선유닛(13)의 팽창도에 대응하여 곡률이 변화하도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.
상기 기판유닛(11)은 말초신경(n)을 감쌀 수 있도록 마련된다. 여기서, 상기 말초신경(n)은 말초신경다발을 포함하는 것으로 이해됨이 바람직하다.
그리고, 상기 기판유닛(11)은 한 쌍의 실리콘 층을 기반으로 한 탄성중합체로 이루어질 수 있다. 이처럼, 탄성중합체 소재로 마련된 상기 기판유닛(11)은 상기 풍선유닛(13)이 유연한 풍선 형태로 팽창하도록 할 수 있기 때문에 말초신경(n)의 움직임에 따라, 형상 보상이 용이하게 이루어질 수 있다. 따라서, 상기 기판유닛(11)은 장기간 안정적으로 말초신경(n)에 고정되어도 말초신경(n)에 손상을 주지 않을 수 있다. 단, 상기 기판유닛(11)의 소재를 탄성중합체로 한정하는 것은 아니며, 이와 유사한 효과를 낼 수 있는 소재를 모두 포함한다.
상기 기판유닛(11)은 소정의 두께 및 길이를 갖는 기판형태로 마련될 수 있으며, 한 쌍의 실리콘 층은 부분적으로 접착되어 상기 유로유닛(12) 및 상기 풍선유닛(13)이 형성되도록 할 수 있다. 즉, 상기 기판유닛(11)의 내부에는 접착이 이루어지 않은 부분을 통로로 하여 유체가 주입 및 배출될 수 있다.
또한, 상기 기판유닛(11)은, 한 쌍의 기판 층 중 상기 전극유닛(14)이 형성되는 측의 기판의 두께가 반대편 기판의 두께보다 얇게 형성되도록 마련될 수 있다.
상기 유로유닛(12)은 상기 기판유닛(11)의 내부에 마련되며, 상기 기판유닛(11)의 길이 방향으로 연장 형성될 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 유로유닛(12)은 두 개의 층이 선택적으로 접합되어 상기 기판유닛(11)의 내부에 형성되어 유체의 통로를 형성할 수 있다.
상기 풍선유닛(13)은 상기 유로유닛(12)의 길이방향을 따라 복수로 마련되며, 상호 기설정된 간격만큼 이격되어 형성될 수 있다.
구체적으로, 상기 풍선유닛(13)은 상기 기판유닛(11)의 길이 방향으로 형성된 상기 유로유닛(12)에 복수로 마련되되, 상호 기설정된 간격만큼 이격되어 형성될 수 있다. 이때, 제1 실시예에 따른 복수의 상기 풍선유닛(13)은, 상기 기판유닛(11)의 폭 방향으로 연장 형성되며, 상호 평행하도록 마련될 수 있다.
그리고, 상기 풍선유닛(13)은, 상기 유로유닛(12)을 통해 유체 등의 유체가 유입되면 팽창하도록 마련되며, 상기 유로유닛(12)을 통해 유체 등의 유체가 배출되면 수축되도록 마련될 수 있다.
이처럼 마련된 상기 풍선유닛(13) 내에 유체가 주입되어 상기 풍선유닛(13)이 팽창할수록 상기 기판유닛(11)은 상기 말초신경(n)을 감싸도록 곡률이 증가할 수 있다.
일 예로, 상기 유로유닛(12) 내에 유체가 주입되어 상기 풍선유닛(13) 내로 유체가 주입되면, 상기 기판유닛(11) 내 복수의 상기 풍선유닛(13)은 팽창하게 된다. 이처럼 상기 풍선유닛(13)이 팽창하게 되면, 한 쌍의 기판으로 이루어진 상기 기판유닛(11)은 상대적으로 두께가 얇은 기판측으로 점차 말리게 되어 곡률이 점증할 수 있다.
즉, 상기 풍선유닛(13)에 유체를 주입할수록 상기 기판유닛(11)은 더욱 곡률이 커지면서 말려지게 되며, 이에 따라, 상기 기판유닛(11)은 말초신경(n)을 감싸게 될 수 있다. 그리고, 상기 기판유닛(11)이 상기 말초신경(n)을 감싸게 되면, 팽창된 상기 풍선유닛(13)은 상기 말초신경(n)과 접하여 상기 말초신경(n)과 상기 기판유닛(11)을 고정시킬 수 있다.
또한, 상기 류프유닛(13)은 상기 기판유닛(11)이 상기 말초신경(n)을 기설정된 적정 압력으로 감싸서 고정할 수 있도록 팽창 정도가 제어될 수 있다.
상기 전극유닛(14)은 상기 풍선유닛(13) 상에 마련될 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 전극유닛(14)은 상기 풍선유닛(13) 상에 마련되되, 두께가 상대적으로 얇은 기판측에 마련될 수 있다. 즉, 상기 전극유닛(14)은 상기 기판유닛(11)이 상기 말초신경(n)을 감쌀 때, 상기 상기 기판유닛(11)의 내측면에 위치하여 상기 말초신경(n)과 접촉하도록 마련될 수 있다.
상기 전극유닛(14)은 상기 말초신경(n)에 전기 자극을 가하거나, 상기 말초신경(n)으로부터 전기 신호를 측정하도록 마련될 수 있다.
또한, 상기 전극유닛(14)은 상기 기판유닛(11)이 상기 말초신경(n)에 가하는 압력을 측정하는 장치를 내장하여 상기 풍선유닛(13)에 주입되는 유체량을 제어하도록 마련될 수도 있다.
한편, 도시하지는 않았으나, 상기 기판유닛(11)에는 전극유닛(14)과 연결된 IC회로칩이 더 장착될 수도 있다. 이처럼 마련된 상기 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)는 상기 전극유닛(14)과 IC회로칩이 부착된 일체형으로 이루어져 부가적인 장치 없이도 말초신경(n)의 전기신호를 측정하고, 말초신경(n)에 전기 자극을 가하도록 마련되어 사용이 편리하다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법의 순서도이고, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 접착하는 단계의 순서도이며, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 준비하는 단계 및 접착하는 단계의 공정예시도이다.
도 3 내지 도 5에 도시된 것처럼, 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)의 제조방법은 먼저, 하부기판 및 상부기판을 준비하는 단계(S110)를 수행할 수 있다.
하부기판 및 상부기판을 준비하는 단계(S110)에서, 먼저, 상기 하부기판(110)은, 도 5의 (a)에 도시된 것처럼, 캐리어기판(carrier substrate, 111)의 상부에 제1 PDMS(polydimethylsiloane, 112) 스핀 코팅(spin-coating)층을 형성하고, 상기 제1 PDMS 스핀 코팅층(112) 상부에 파릴렌(Parylene)을 도포하여 결합되어 제1 파릴렌층(113)을 형성하여 준비하도록 마련될 수 있다.
상기 상부기판(120)은, 도 5의 (b)에 도시된 것처럼, 상기 제1 파릴렌층(113)의 상부에 제2 PDMS 스핀 코팅층(120)을 형성하여 준비하도록 마련되는 것을 특징으로 할 수 있다.
여기서, 상기 하부기판(110) 및 상기 상부기판(120)은 동시에 준비가 이루어질 수 있고, 상기 상부기판(120)이 상기 하부기판(110) 보다 먼저 준비될 수도 있다.
상기 상부기판(120)은 상기 하부기판(110)에 비해 두께가 얇게 형성될 수 있다. 더욱 상세하게는, 상기 상부기판(120)은 상기 제1 PDMS 스핀 코팅층(112)보다 얇게 형성될 수 있다.
일 예로, 상기 상부기판(120)은 200마이크로미터의 두께로 형성되고, 상기 제1 PDMS 스핀 코팅층(112)은 400마이크로미터의 두께로 형성될 수 있다.
이처럼 상기 상부기판(120)이 상기 하부기판(110)에 비해 얇게 형성될 경우, 상기 상부기판(120)이 상기 하부기판(110)에 비해 유연하기 때문에, 상기 풍선유닛(13)이 팽창할 때, 상기 상부기판(120)이 상기 말초신경(n)과 접하도록 말릴 수 있다.
상기 하부기판(110) 및 상기 상부기판(120)은 상기 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)의 상기 기판유닛(11)과 대응된다.
하부기판 및 상부기판을 준비하는 단계(S110) 이후에는, 준비된 상기 상부기판 및 상기 하부기판을 접착하는 단계(S120)를 수행할 수 있다.
준비된 상기 상부기판 및 상기 하부기판을 접착하는 단계(S120)는 먼저, 준비된 상기 상부기판의 상부에 제1 마스킹패턴층(masking pattern)을 형성하는 단계(S121)가 수행된다.
준비된 상기 상부기판의 상부에 제1 마스킹패턴층(masking pattern)을 형성하는 단계(S121)에서, 상기 제1 마스킹패턴층(130)은, 도 5의 (c)에 도시된 것처럼, 상기 상부기판(120)과 상기 하부기판(110)이 접합하지 않는 부위에 패턴이 형성된 것을 특징으로 할 수 있다.
즉, 상기 제1 마스킹패턴층(130)의 패턴에 따라, 상기 상부기판(120)과 상기 하부기판(110)이 접착될 때, 접착되는 위치가 결정될 수 잇다.
제1 실시예에 따르면, 상기 제1 마스킹패턴층(130)의 패턴은 상기 상부기판(120)의 길이 방향을 따라 상호 이격되어 복수로 마련될 수 있으며, 상기 상부기판(120)의 폭 방향으로 연장되어 상호 평행하도록 마련될 수 있다.
준비된 상기 상부기판의 상부에 제1 마스킹패턴층(masking pattern)을 형성하는 단계(S121) 이후에는, 상기 제1 마스킹패턴층에 플라즈마(plasma)를 조사하는 단계(S122)가 수행될 수 있다.
상기 제1 마스킹패턴층에 플라즈마(plasma)를 조사하는 단계(S122)에서, 상기 제1 마스킹패턴층(130)에 조사된 플라즈마는, 도 5의 (d)에 도시된 것처럼, 상기 제1 마스킹패턴층(130)의 바깥측에 위치한 제1 파릴렌층(113)과 상기 상부기판(120)을 접착시킬 수 있다.
즉, 상기 제1 파릴렌층(113)를 향해 조사된 플라즈마는 상기 제1 마스킹패턴층(130)에 의해 차단되지 않은 부분에서 상기 상부기판(120)과 상기 하부기판(110)을 접착시킬 수 있다.
또한, 상기 플라즈마는 N2/O2 플라즈마일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이처럼 마련된 상기 제1 마스킹패턴층(130)에 의해 상기 상부기판(120)과 접착되지 않은 상기 제1 파릴렌층(113)은 유체가 통과할 수 있는 통로를 형성할 수 있다. 즉, 상기 유로유닛(12) 및 상기 풍선유닛(13)을 형성할 수 있다.
상기 제1 마스킹패턴층에 플라즈마(plasma)를 조사하는 단계(S122) 이후에는, 도 5의 (e)에 도시된 것처럼, 상기 제1 마스킹패턴층을 제거하는 단계(S123)가 수행될 수 있다.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속전극층을 형성하는 단계의 순서도이고, 도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속전극층을 형성하는 단계의 공정예시도이다.
도 3, 도 6 및 도 7에 도시된 것처럼, 준비된 상기 상부기판 및 상기 하부기판을 접착하는 단계(S120) 이후에는, 접착이 이루어진 상기 상부기판의 상부에 금속전극층을 형성하는 단계(S130)를 수행할 수 있다.
그리고, 접착이 이루어진 상기 상부기판의 상부에 금속전극층을 형성하는 단계(S130)는, 먼저, 상기 상부기판의 상부에 파릴렌을 도포하여 제2 파릴렌층을 형성하는 단계(S131)가 수행될 수 있다.
상기 상부기판의 상부에 파릴렌을 도포하여 제2 파릴렌층을 형성하는 단계(S131)에서, 상기 상부기판(110)의 상부에는 도 7의 (f)에 도시된 것처럼, 금속전극을 도포하기 위한 파릴렌이 도포되어 제2 파릴렌층(140)이 형성될 수 있다.
상기 상부기판의 상부에 파릴렌을 도포하여 제2 파릴렌층을 형성하는 단계(S131) 이후에는, 상기 제2 파릴렌층의 상부에 금속박막을 도포하여 금속박막층을 형성하는 단계(S132)가 수행될 수 있다.
상기 제2 파릴렌층의 상부에 금속박막을 도포하여 금속박막층을 형성하는 단계(S132)에서, 상기 제2 파릴렌층(140)의 상부에는 도 7의 (g)에 도시된 것처럼, 금속박막이 도포되어 도포됨으로써, 금속박막층(150a)을 형성할 수 있다.
여기서, 상기 금속박막층(150a)의 금속박막은 Cr, Ti, Au, Pt 등을 포함할 수 있다.
또한, 금속막박층(150a)을 형성하기 위해 금속박막을 도포할 때, 스퍼터(Sputter) 및 증발증착기(evaporator)를 이용할 수 있다.
상기 제2 파릴렌층의 상부에 금속박막을 도포하여 금속박막층을 형성하는 단계(S132) 이후에는, 도포된 상기 금속박막의 상부에 제2 마스킹패턴층을 형성하는 단계(S133)가 수행될 수 있다.
도포된 상기 금속박막의 상부에 제2 마스킹패턴층을 형성하는 단계(S133)에서, 상기 금속박막층(150a)의 상부에는 도 7의 (h)에 도시된 것처럼, 제2 마스킹패턴층(160)이 형성될 수 있다.
상기 제2 마스킹패턴층(160)은 상기 금속박막층(150a)을 패터닝하여 금속전극층(150b)을 형성하기 위해 마련되며, 이를 위해 상기 제2 마스킹패턴층(160)은 기설정된 금속전극층(150b)의 형상에 대응되는 패턴을 갖도록 마련될 수 있다.
도포된 상기 금속박막의 상부에 제2 마스킹패턴층을 형성하는 단계(S133) 이후에는, 상기 제2 마스킹패턴층을 이용하여 상기 금속박막층을 패터닝하여 상기 금속전극층을 형성하는 단계(S134)가 수행될 수 있다.
상기 제2 마스킹패턴층을 이용하여 상기 금속박막층을 패터닝하여 상기 금속전극층을 형성하는 단계(S134)에서, 상기 제2 마스킹패턴층(160)의 패턴에 따라 상기 금속박막층(150a)을 패터닝하여 금속전극층(150b)을 형성할 수 있다. 보다 구체적으로, 도 7의 (i)에 도시된 것처럼, 상기 제2 마스킹패턴층을 이용하여 상기 금속박막층을 패터닝하여 상기 금속전극층을 형성하는 단계(S134)에서, 상기 금속박막층(150a)은 습식 식각(wet etching) 공정에 의해 상기 제2 마스킹패턴층(160)의 패턴 형상에 따라 식각되어 패터닝됨으로써, 상기 금속전극층(150b)을 형성할 수 있다.
상기 금속박막층(150a)은 상부에 상기 제2 마스킹패턴층(160)을 안착한 상태에서 습식 식각 공정이 이루어지기 때문에 저비용으로, 신속하고 정확하게 식각이 이루어질 수 있다.
상기 제2 마스킹패턴층을 이용하여 상기 금속박막층을 패터닝하여 상기 금속전극층을 형성하는 단계(S134) 이후에는, 도 7의 (j)에 도시된 것처럼, 상기 제2 마스킹패턴층을 제거하는 단계(S135)가 수행될 수 있다.
이처럼 마련된 상기 금속전극층(150b)은 상기 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)의 전극유닛(14)과 대응된다.
도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 절연층을 형성하는 단계의 순서도이고, 도 9는 본 발명의 제1 실시예에 따른 절연층을 형성하는 단계의 공정예시도이다.
도 3, 도 8 및 도 9에 도시된 것처럼, 접착이 이루어진 상기 상부기판의 상부에 금속전극층을 형성하는 단계(S130) 이후에는, 상기 금속전극층상에 절연층을 형성하는 단계(S140)를 수행할 수 있다.
상기 금속전극층상에 절연층을 형성하는 단계(S140)는 먼저, 상기 금속전극층상에 파릴렌을 도포하여 제3 파릴렌층을 형성하는 단계(S141)가 수행될 수 있다.
상기 금속전극층상에 파릴렌을 도포하여 제3 파릴렌층을 형성하는 단계(S141)에서, 상기 금속전극층(150b)상에는 제3 파릴렌층(170a)이 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 금속전극층(150b)은 습식 식각되어 기설정된 패턴을 형성하고 있다. 상기 제3 파릴렌층(170a)은 도 9의 (k)에 도시된 것처럼, 상기 금속전극층(150b)의 패턴에 따라 형성된 공간을 채우고 및 상기 금속전극층(150b)의 상부를 덮도록 파릴렌이 도포되어 형성될 수 있다.
상기 금속전극층상에 파릴렌을 도포하여 제3 파릴렌층을 형성하는 단계(S141) 이후에는, 상기 제3 파릴렌층의 상부에 제3 마스킹패턴층을 형성하는 단계(S142)가 수행될 수 있다.
상기 제3 파릴렌층의 상부에 제3 마스킹패턴층을 형성하는 단계(S142)에서, 상기 제3 파릴렌층(170a)의 상부에는 제3 마스킹패턴층(180)이 형성될 수 잇다. 상기 제3 마스킹패턴층(180)은 도 9의 (l)에 도시된 것처럼, 상기 제3 파릴렌층(170a)이 절연층(170b)을 형성할 수 있도록 기설정된 패턴으로 형성될 수 있다.
상기 제3 파릴렌층의 상부에 제3 마스킹패턴층을 형성하는 단계(S142) 이후에는, 상기 제3 마스킹패턴층에 플라즈마를 조사하여 상기 제3 마스킹패턴층의 패턴에 따라 상기 제3 파릴렌층을 식각하여 절연층을 형성하는 단계(S143)가 수행될 수 있다.
상기 제3 마스킹패턴층에 플라즈마를 조사하여 상기 제3 마스킹패턴층의 패턴에 따라 상기 제3 파릴렌층을 식각하여 절연층을 형성하는 단계(S143)에서, 상기 제3 마스킹패턴층(180)을 향해 조사된 플라즈마는 도 9의 (m)에 도시된 것처럼, 상기 제3 마스킹패턴층(180)의 패턴에 따라 상기 제3 파릴렌층(170a)을 식각하여 상기 절연층(170b)을 형성할 수 있다.
이처럼 마련된 상기 절연층(170b)은 상기 금속전극층(150b)의 일부분이 상기 말초신경(n) 등의 대상체에 접촉할 수 있도록 상기 금속전극층(150b)의 상부 일부분에 패터닝될 수 있다. 즉, 상기 절연층(170b)은 상기 금속전극층(150b)에 대한 절연 기능을 수행할 수 있다.
또한, 상기 절연층(170b)은 상기 금속전극층(150b)이 상기 말초신경(n) 등의 대상체에 접촉할 때, 상기 금속전극층(150b)에 가해지는 응력을 감소시킬 수 있다.
그리고, 상기 제3 파릴렌층(170a)을 식각하기 위해 조사되는 플라즈마는 O2플라즈마일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
특히, 이처럼 식각된 상기 제3 파릴렌층(170a)은 상기 금속전극층(150b)의 유연성을 향상시킬 수 있다.
상기 제3 마스킹패턴층에 플라즈마를 조사하여 상기 제3 마스킹패턴층의 패턴에 따라 상기 제3 파릴렌층을 식각하여 절연층을 형성하는 단계(S143) 이후에는, 도 9의 (n)에 도시된 것처럼, 상기 제3 마스킹패턴층을 제거하는 단계(S144)가 수행될 수 있다.
상기 금속전극층상에 절연층을 형성하는 단계(S140) 이후에는, 도 9의 (o)에 도시된 것처럼 상기 하부기판에 포함된 캐리어기판(111)을 제거하는 단계(S150)를 수행할 수 있다.
도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치에 유체를 주입하는 방법을 나타낸 공정예시도이고, 도 11은 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사진이다.
도 10 및 도 11을 더 참조하여 전술한 바와 같이 마련된 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)에 유체를 주입하는 방법을 설명하도록 한다.
우선, 전술한 바와 같이 선택적으로 상기 하부기판(110)과 상기 상부기판(120)이 접합된 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)를 준비한다. 그리고, 상기 제1 파릴렌층(113) 중 상기 접착층(113a)이 형성되지 않은 부분에 관통홀(H)을 형성할 수 있다.
상기 관통홀(H)은 상기 상부기판(120)부터 상기 제1 PDMS 스핀 코팅층(112)의 소정의 깊이까지 관통되어 상기 유로유닛(12)과 연결될 수 있다.
그리고, 상기 관통홀(H)에는 주입부(190)를 삽입하고, 상기 주입부(190)를 통해 유체를 주입하거나 유체를 배출시키는 방식으로 상기 하부기판(110) 및 상기 상부기판(120) 사이에 형성된 상기 풍선유닛(13)을 팽창 및 수축시킬 수 있다.
즉, 전술한 바와 같이 마련된 방법에 따라, 상기 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(100)의 풍선유닛(13)은 팽창 및 수축이 이루어질 수 있다.
도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사시도이고, 도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치가 말초신경을 감싸는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 12 및 도 13을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(20)는 기판유닛(21), 유로유닛(22), 풍선유닛(23) 및 전극유닛(24)을 포함한다.
여기서, 제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(20)의 기판유닛(21), 유로유닛(22), 풍선유닛(23) 및 전극유닛(24)은 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(10)와 실질적으로 동일한 구조로 이루어져 중복되는 설명은 생략하고 차이가 나는 구성만 설명하도록 한다.
제2 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(20)에서, 복수의 상기 풍선유닛(23)은 상기 기판유닛(21)의 사선 방향으로 마련되며, 상호 평행하도록 마련될 수 있다.
이처럼 마련된 상기 기판유닛(21)은 도 13에 도시된 것처럼, 상기 말초신경(n)의 외주를 나선 방향으로 회전하며 감싸도록 마련된다. 따라서, 상기 기판유닛(21)은 제1 실시예에 따른 상기 기판유닛(11)에 비해 넓은 면적의 말초신경(n)에 대해 연속성을 갖도록 연장되어 고정될 수 있다.
도 14는 본 발명의 제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 사시도이다.
본 발명의 제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(30)는 기판유닛(31), 유로유닛(32), 풍선유닛(33) 및 전극유닛(34)을 포함한다.
여기서, 제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(30)의 기판유닛(31), 유로유닛(32), 풍선유닛(33) 및 전극유닛(34)은 제1 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(30)와 실질적으로 동일한 구조로 이루어져 중복되는 설명은 생략하고 차이가 나는 구성만 설명하도록 한다.
제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(30)는 어레이유닛(35)을 더 포함한다.
구체적으로, 상기 어레이유닛(35)은 상기 기판유닛(31)과 동일 소재로 연장되어 마련될 수 있으며, 상기 어레이유닛(35)의 길이 방향을 따라 복수의 상기 기판유닛(31)이 상호 이격되어 연장되어 형성될 수 있다.
이때, 상기 기판유닛(31)은 상기 어레이유닛(35)의 일측면으로부터 연장되어 형성될 수 있으며, 각각의 상기 기판유닛(31)은 상기 어레이유닛(35)과 수직한 방향으로 연장될 수 있다. 단, 상기 기판유닛(31)의 풍선유닛(33)이 사선 방향으로 배치된 경우, 상기 기판유닛(31)은 상기 어레이유닛(35)과 사선 방향으로 연장될 수도 있다.
이처럼 마련된 제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치(30)는 보다 견고하게 말초신경(n)에 상기 기판유닛(31)이 고정되도록 할 수 있으며, 위치에 따라 순차적으로 전기 신호를 측정할 수도 있다.
전술한 바와 같이 마련된 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법은 제1 실시예에에 따른 제조방법과 실질적으로 동일하기 때문에 중복되는 설명은 생략하도록 한다.
전술한 바와 같이 마련된 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치는 유압의 조절만으로 말초신경(n)에 적정 압력으로 기판유닛을 밀착 고정시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 전극유닛은 말초신경(n)에 밀착되어 정확하게 전기 신호를 측정하거나, 전기 자극을 가할 수 있다.
또한, 본 발명은 유압의 조절만으로 기판유닛의 곡률을 변경하여 말초신경을 고정하는 힘을 조절할 수 있기 때문에 말초신경의 두께에 대응하여 신속하고 용이하게 고정할 수 있다. 더 나아가, 본 발명은 다양한 말초신경의 두께에 대응하여 말초신경에 대한 압력의 세밀한 조절이 가능하다.
그리고, 본 발명의 기판유닛은 탄성중합체의 유연한 소재로 이루어져 있어, 장기간 삽입되어도 인체에 손상을 주지 않을 수 있다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10, 20, 30: 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치
11, 21, 31: 기판유닛
12, 22, 32: 유로유닛
13, 23, 33: 풍선유닛
14, 24, 34: 전극유닛
35: 어레이유닛
100: 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치
110: 하부기판 111: 캐리어기판
112: 제1 PDMS 스핀 코팅층 113: 제1 파릴렌층
113a: 접착층 120: 상부기판
130: 제1 마스킹패턴층 140: 제2 파릴렌층
150a: 금속박막층 150b: 금속전극층
160: 제2 마스킹패턴층 170a: 제3 파릴렌층
170b: 절연층 180: 제3 마스킹패턴층
190: 주입부 H: 관통홀
n: 말초신경

Claims (17)

  1. 말초신경을 감쌀 수 있도록 마련되며, 한 쌍의 실리콘 층으로 형성된 기판유닛;
    상기 한 쌍의 실리콘 층 내부에 마련되되 상기 한 쌍의 실리콘 층이 접착되지 않은 부분으로 이루어지며, 상기 기판유닛의 길이 방향으로 연장 형성된 유로유닛;
    상기 유로유닛의 길이방향을 따라 복수로 마련되며, 상호 기설정된 간격만큼 이격되어 마련되는 풍선유닛; 및
    각각의 상기 풍선유닛 상에 마련되는 전극유닛을 포함하며,
    상기 유로유닛은 유체의 통로를 형성하고,
    상기 풍선유닛은 상기 유로유닛에 의해 유입된 유체에 의해 팽창하거나 상기 유로유닛을 통해 유체를 배출하여 수축하도록 마련되고,
    상기 기판유닛은, 상기 전극유닛이 형성된 실리콘 층이 반대편 실리콘 층의 두께보다 얇게 형성됨으로써, 상기 풍선유닛의 팽창도에 대응하여 상기 전극유닛이 상기 말초신경에 접촉하는 방향으로 곡률이 변화하도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    복수의 상기 풍선유닛은,
    상기 기판유닛의 폭 방향으로 연장되어 마련되며, 상호 평행하도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    복수의 상기 풍선유닛은
    상기 기판유닛의 사선 방향으로 마련되며, 상호 평행하도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판유닛은,
    탄성중합체로 이루어지며, 상기 풍선유닛 내에 유체가 주입되어 상기 풍선유닛이 팽창할수록 상기 말초신경을 감싸도록 곡률이 증가하는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 풍선유닛은,
    말초신경의 두께에 대응하여 유체가 주입되도록 마련되어, 상기 기판유닛이 상기 말초신경을 감싸는 압력을 제어하는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판유닛이 연장되도록 마련된 어레이유닛을 더 포함하며,
    상기 어레이유닛의 일측면에는 길이 방향을 따라 복수의 기판유닛이 상호 이격되어 연장되도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치.
  8. a) 하부기판 및 상부기판을 준비하는 단계;
    b) 준비된 상기 상부기판 및 상기 하부기판을 부분적으로 접착하여 유로를 형성하는 단계;
    c) 상기 상부기판의 상부에 금속전극층을 형성하는 단계;
    d) 상기 금속전극층상의 상부 일부분에 절연층을 형성하는 단계; 및
    e) 상기 하부기판에 포함된 캐리어기판을 제거하고 상기 유로에 약물을 주입하는 단계를 포함하며,
    상기 상부기판은 상기 하부기판에 비해 두께가 얇게 형성되고,
    상기 c) 단계에서, 상기 금속전극층은 상기 상부기판 및 상기 하부기판이 접착되지 않아 유로가 형성된 위치와 대응되는 위치에 형성되도록 마련된 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 a) 단계에서,
    상기 하부기판은, 캐리어기판(carrier substrate)의 상부에 제1 PDMS(polydimethylsiloane) 스핀 코팅(spin-coating)층을 형성하고, 상기 제1 PDMS 스핀 코팅층 상부에 파릴렌(Parylene)을 도포하여 제1 파릴렌층을 형성하여 준비하도록 마련되고,
    상기 상부기판은, 상기 제1 파릴렌층의 상부에 제2 PDMS 스핀 코팅층을 형성하여 준비하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 b) 단계는,
    b1) 준비된 상기 상부기판의 상부에 제1 마스킹패턴층(masking pattern)을 형성하는 단계;
    b2) 상기 제1 마스킹패턴층에 플라즈마(plasma)를 조사하는 단계; 및
    b3) 상기 제1 마스킹패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 b1) 단계에서,
    상기 제1 마스킹패턴층은,
    상기 상부기판과 상기 하부기판이 접합되지 않도록 기설정된 부위에 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 b2) 단계에서,
    상기 제1 마스킹패턴층에 조사된 플라즈마는 상기 제1 마스킹패턴층의 바깥측에 위치한 제1 파릴렌층을 상기 상부기판과 접착시키는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  13. 제 8 항에 있어서,
    상기 c) 단계는,
    c1) 상기 상부기판의 상부에 파릴렌을 도포하여 제2 파릴렌층을 형성하는 단계;
    c2) 상기 제2 파릴렌층의 상부에 금속박막을 도포하여 금속박막층을 형성하는 단계;
    c3) 도포된 상기 금속박막층의 상부에 제2 마스킹패턴층을 형성하는 단계;
    c4) 상기 제2 마스킹패턴층을 이용하여 상기 금속박막층을 패터닝하여 상기 금속전극층을 형성하는 단계; 및
    c5) 상기 제2 마스킹패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 c3) 단계는,
    상기 제2 마스킹패턴층은, 상기 상부기판과 접착되지 않은 제1 파릴렌층의 상부에 위치하도록 상호 이격되어 복수개로 마련되는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  15. 제 8 항에 있어서,
    상기 d) 단계는,
    d1) 상기 금속전극층상에 파릴렌을 도포하여 제3 파릴렌층을 형성하는 단계;
    d2) 상기 제3 파릴렌층의 상부에 제3 마스킹패턴층을 형성하는 단계;
    d3) 상기 제3 마스킹패턴층에 플라즈마를 조사하여 상기 제3 마스킹패턴층의 패턴에 따라 상기 제3 파릴렌층을 식각하여 상기 절연층을 형성하는 단계; 및
    d4) 상기 제3 마스킹패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 d3) 단계에서,
    상기 제3 마스킹패턴층에 O2 플라즈마를 조사하는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 d2) 단계에서,
    상기 제3 마스킹패턴층은, 상기 제3 파릴렌층의 상부에 형성되되, 각각의 상기 금속전극층의 양단부와 대응되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 자가 고정이 가능한 커프 전극 장치의 제조방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210150203A (ko) * 2020-06-03 2021-12-10 인제대학교 산학협력단 신경전도기구 및 이를 이용한 신경전도 시스템

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002102360A (ja) * 2000-09-29 2002-04-09 Kansai Tlo Kk カフ型アクチュエータ、カフ型インタフェース装置および神経束の選択的刺激方法
JP2009532185A (ja) * 2006-04-03 2009-09-10 シーブイアールエックス, インコーポレイテッド 弾性カフを有する埋め込み型血管外電気刺激システム

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5575113A (en) 1978-11-30 1980-06-06 Hoei Kogyo Kk Gasification device for kerosene
DE4433111A1 (de) * 1994-09-16 1996-03-21 Fraunhofer Ges Forschung Cuff-Elektrode
KR20110084666A (ko) * 2010-01-18 2011-07-26 한국과학기술연구원 커프형 신경 전극 및 그의 제작 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002102360A (ja) * 2000-09-29 2002-04-09 Kansai Tlo Kk カフ型アクチュエータ、カフ型インタフェース装置および神経束の選択的刺激方法
JP2009532185A (ja) * 2006-04-03 2009-09-10 シーブイアールエックス, インコーポレイテッド 弾性カフを有する埋め込み型血管外電気刺激システム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210150203A (ko) * 2020-06-03 2021-12-10 인제대학교 산학협력단 신경전도기구 및 이를 이용한 신경전도 시스템
KR102421981B1 (ko) * 2020-06-03 2022-07-15 인제대학교 산학협력단 신경전도기구 및 이를 이용한 신경전도 시스템

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