KR102080682B1 - 기판 액처리 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체용 기판을 식각 및 세정하는 기판 액처리 장치에 관한 것이다. 기판 액처리 장치는, 테이블 상부에 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부; 테이블 둘레에 설치되어 기판으로부터 배출되는 처리액을 회수하도록 상부가 내측으로 돌출된 1 이상의 컵을 구비하는 처리액 회수부; 처리액 회수부의 상부를 개폐하는 덮개를 구비한 커버부; 및 컵의 내측면으로 세정액을 분사하는 세정액 분사부; 를 포함한다. 이에 의해 처리액 회수부의 상부를 덮개로 밀폐한 상태에서 세정액을 컵의 내측면으로 분사함으로써 컵의 내부가 충분히 세정되고, 덮개 외부의 오염을 방지할 수 있다.

Description

기판 액처리 장치 및 방법{SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD}
본 발명은 반도체용 기판을 식각 및 세정하는 기판 액처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자 제조를 위해서는 기판 상에 다층의 박막을 형성하는데 있어 식각 및 세정 공정은 필수적이다.
매엽식 습식 식각 및 세정 장치는 한국 공개특허공보 제10-2013-0008459호와 같이 기판을 지지하는 척이 설치된 테이블을 회전시키면서, 처리액을 기판에 공급하여 식각, 세정 및 건조 공정을 수행하고, 테이블 둘레에 컵 구조를 갖는 처리액 회수부를 이용하여 처리액을 회수한다.
한편, 식각 공정이나 포토레지스트 스트립(Photoresist-strip) 공정 후 기판, 테이블, 컵 등을 세정하기 위한 목적으로, 기판을 액처리하는 처리공간에 세정액 분사노즐을 구비하여 DIW(탈이온수)와 같은 세정액을 공급하였다.
그러나 처리공간의 상부가 개방되어 있어 세정 위치가 아닌 처리공간 외부로도 세정액과 이물질이 비산되었고, 이에 따라 처리공간 외부의 오염을 발생 시켰다. 또한 세정액과 이물질이 처리공간 외부로의 비산을 막기 위해서는, 세정액을 분사시켜 세정할 수 있는 위치가 제한적일 수 밖에 없었다.
상술한 배경기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 세정액과 이물질이 기판 처리공간 외부로 비산되는 것을 방지하면서 처리공간 전체를 세정할 수 있는 기판 액처리 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 기판 액처리 장치는, 테이블 상부에 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부; 상기 테이블 둘레에 설치되어 기판으로부터 배출되는 처리액을 회수하도록 상부가 내측으로 돌출된 1 이상의 컵을 구비하는 처리액 회수부; 상기 처리액 회수부의 상부를 개폐하는 덮개를 구비한 커버부; 및상기 컵의 내측면으로 세정액을 분사하는 세정액 분사부; 를 포함한다.
바람직하게, 상기 덮개가 상기 처리액 회수부 외부의 대기위치와 상기 처리액 회수부의 상부를 밀폐하는 안착위치를 왕복 운동하도록 구동시키는 커버 구동부; 를 더 포함한다.
바람직하게, 상기 커버 구동부는, 상기 기판을 이송시키는 이송 로봇이다.
바람직하게, 상기 이송 로봇은, 기판을 파지하는 블레이드를 포함하고,상기 덮개의 측면에 상기 블레이드가 삽입되는 블레이드 삽입구가 형성된다.
바람직하게, 상기 커버 구동부는, 상기 대기위치에서 상기 덮개의 하부면이 틸팅 상태를 유지하도록 구동시킨다.
바람직하게, 상기 덮개는, 하부면이 돔 형태로 형성된다.
바람직하게, 상기 덮개는, 하부면이 경사지게 형성된다.
바람직하게, 상기 덮개는, 중앙부가 관통 형성된 1 이상의 홀을 구비하고, 상기 세정액 분사부는, 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어지고, 상기 세정액 분사노즐을 상기 덮개 내부에 위치하도록 구동시키는 세정액 노즐 구동부; 를 더 포함하고, 상기 세정액 분사노즐은, 상기 홀의 상부로 삽입되어 상기 컵의 내측면으로 세정액을 분사한다.
바람직하게, 상기 세정액 분사노즐은, 세정액을 분사하는 과정에서 상기 세정액 노즐 구동부에 의해 승하강된다.
바람직하게, 상기 세정액 분사노즐은, 외주면에 누름편이 돌출 형성되고, 상기 누름편은, 상기 세정액 노즐 구동부에 의해 상기 덮개의 상부면에 압하력을 제공한다.
바람직하게, 상기 덮개의 하부면으로 건조가스를 공급하는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진 건조가스 공급부; 를 더 포함하고, 상기 건조가스 공급노즐은, 상기 세정액 노즐 구동부에 의해 상기 세정액 분사 노즐과 함께 구동된다.
바람직하게, 상기 세정액 분사부는, 상기 테이블 상부면에 설치되는 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어진다.
바람직하게, 상기 세정액 분사부는, 상기 컵에 설치되는 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어진다.
바람직하게, 상기 덮개의 하부면으로 건조가스를 공급하는 건조가스 공급부; 를 더 포함하고, 상기 건조가스 공급부는, 상기 테이블 상부면에 설치되는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진다.
바람직하게, 상기 덮개의 하부면으로 건조가스를 공급하는 건조가스 공급부; 를 더 포함하고, 상기 건조가스 공급부는, 상기 컵에 설치되는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진다.
바람직하게, 테이블 상부에 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부, 상기 테이블 둘레에 설치되어 기판으로부터 배출되는 처리액을 회수하는 처리액 회수부 및 상기 처리액 회수부의 내측 처리공간으로 세정액을 공급하는 세정액 분사부를 각각 포함하는 복수의 기판 액처리 장치; 상기 복수의 기판 액처리 장치를 이루는 처리액 회수부 중 어느 하나를 개폐하는 덮개를 구비한 커버부; 및 상기 처리액 회수부를 선택적으로 개폐하도록 상기 커버부를 구동시키는 커버 구동부; 를 포함한다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 기판 액처리 방법은, 상기 세정액 분사부는, 상기 커버부가 상기 처리액 회수부의 상부를 밀폐한 상태에서 상기 처리공간으로 세정액을 공급한다.
바람직하게, 상기 세정액을 공급하는 동안 상기 처리액 회수부와 상기 테이블이 상대적으로 승하강한다.
바람직하게, 상기 세정액을 공급하는 동안 상기 테이블이 회전한다.
본 발명의 기판 액처리 장치에 의하면, 처리액 회수부의 상부를 덮개로 밀폐한 상태에서 세정액을 컵 내부로 분사함으로써 컵 내부가 충분히 세정되고, 덮개 외부의 오염을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 덮개의 하부면을 돔 형태 또는 경사지게 형성함으로써 덮개의 하부면에 남아있는 세정액이 기판 또는 테이블 상으로 낙하되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 세정액 분사노즐이 상하로 승하강함으로써 덮개의 내부공간 전체를 골고루 세정할 수 있다.
또한, 본 발명은 건조가스 공급부를 구비함으로써, 덮개 내부의 세정이 종료된 후 덮개에 남아있는 액체를 건조시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 의한 구성도.
도 2는 본 발명을 구성하는 덮개의 실시예를 나타내는 구성도.
도 3은 본 발명을 구성하는 덮개의 다른 실시예를 나타내는 구성도.
도 4는 본 발명의 커버 구동부가 덮개에 삽입된 상태를 나타내는 구성도.
도 5는 도 4의 B-B 단면도.
도 6은 도 4의 C-C 단면도.
도 7은 도 1의 A부분 확대도.
도 8은 본 발명의 제2 실시예에 의한 부분확대도.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 의한 구성도.
도 10은 본 발명의 제4 실시예에 의한 구성도.
도 11은 본 발명의 제5 실시예에 의한 구성도.
이하에서는 본 발명의 실시예를 도면을 참고하여 구체적으로 설명한다.
본 발명의 기판 액처리 장치는 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치로, 도 1에 도시한 바와 같이 크게 기판 지지부(10), 처리액 회수부(20), 커버부(30), 세정액 분사부(40), 커버 구동부(50) 및 건조가스 공급부(70)로 이루어진다.
기판 지지부(10)는 테이블(11) 상부에 기판을 이격하여 지지한다. 테이블(11) 상부의 외곽에는 복수개의 척핀(12)이 설치되어 기판을 내측으로 지지하며, 이때 액처리하기 위한 기판 뿐 아니라 더미 기판의 사용도 가능하다.
처리액 회수부(20)는 테이블(11) 둘레에 설치되어 기판으로부터 배출되는 처리액을 회수할 수 있도록 상부가 내측으로 돌출된 1 이상의 컵(21, 22)을 구비한다. 기판의 적재나, 처리액의 분리 회수를 위하여 테이블(11) 또는 컵(21, 22)이 상대적으로 승강되도록 설치될 수 있다.
커버부(30)는 처리액 회수부(20)의 상부를 개폐하는 덮개(31)를 구비한다. 이로 인하여, 식각 공정이나 PR-strip 공정 후 세정과정에서 세정액과 이물질이 덮개(31) 외부를 오염시키는 것을 방지할 수 있다. 덮개(31)는 도 2, 도 3에 도시한 바와 같이 하부면이 돔 형태 또는 경사지게 형성될 수 있다. 이로써, 덮개(31)의 하부면에 부착된 세정액이 경사면을 타고 흘러내리도록 함으로써 세정액이 기판이나 테이블(11)로 직접 낙하되는 것을 방지할 수 있다. 덮개(31)의 하부면은 분사된 세정액을 기판 외측으로 낙하시키는 형태라면 어떠한 형태라도 가능하다.
한편, 덮개(31)가 안착되는 컵(21)의 상부면에는 홈을 구비하여 덮개(31) 하단 테두리부가 홈에 결합되어 안정적으로 고정될 수 있다.
세정액 분사부(40)는 컵(21, 22)의 내측면으로 세정액을 분사하는 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어진다.
커버 구동부(50)는 덮개(31)가 처리액 회수부(20) 외부의 대기위치와 처리액 회수부(20)의 상부를 밀폐하는 안착위치를 왕복운동하도록 덮개(31)를 구동시킨다. 커버 구동부(50)는 도 4에 도시한 바와 같이 기판을 이송시키기 위해 일반적으로 사용하는 이송 로봇(80)을 사용할 수 있다.
이송 로봇은 이송암(81)과 블레이드(82)를 포함한다. 이송암(81)은 덮개(31)가 대기위치와 안착위치를 왕복하도록 전, 후진, 회전 및 승하강이 가능하게 구성할 수 있다. 블레이드(82)는 기판 또는 덮개(31)를 파지한다. 이때, 덮개(31)는 상판의 측면에 수평으로 관통 형성된 1 이상의 블레이드 삽입구(33)를 구비하고, 이송 로봇(80)에 의해 이송된다.
한편, 블레이드 삽입구(82)는 블레이드(82)가 삽입된다면 어떠한 형태라도 가능하고, 관통된 형태 뿐 아니라 홈 형태 또한 가능하다.
덮개(31)가 처리액 회수부(20)에 안착하는 과정에 대해 구체적으로 설명하면, 블레이드(82)가 덮개(31)에 형성된 블레이드 삽입구(33)에 삽입되어 덮개를 파지한 후, 이송 로봇(80)에 의해 덮개(31)가 처리액 회수부(20) 상부에 안착된다. 이때, 덮개(31)의 안착을 위해 처리액 회수부(20)가 승하강 구동할 수도 있다.
한편, 도면에 도시하지는 않았지만, 커버 구동부(50)는 대기위치에서 덮개(31)의 하부면이 틸팅 상태를 유지하도록 구동시켜 덮개(31) 하부면에 남아있는 세정액을 일측으로 흘려보낼 수 있다.
건조가스 공급부(70)는 덮개(31)의 하부면으로 건조가스를 공급하는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진다. 건조가스 공급 노즐(71)은 세정 후 덮개(31)의 하부면에 남아있는 세정액 등의 액체를 불어내어 건조시킨다. 건조가스로는 질소와 같은 불활성가스를 사용할 수 있다.
상술한 바와 같은 세정 장치는 다양한 공정에서 사용될 수 있다. 특히 LAL(NH4F, HF 및 H2O의 혼합용액) 용액과 같이 스스로 석화되는 용액을 사용하는 공정 이후에 DIW(탈이온수)를 분사하는 것만으로도 세정 효과가 있는 공정에 유용하게 사용될 수 있다.
이하에서는 본 발명의 기판 액처리 장치를 구조와 특징에 따라 제1 내지 제5 실시예로 구분할 수 있으며, 각 실시예의 구성요소는 기본적으로 동일하나, 일부 구성에 있어서 차이가 있다. 또한 발명의 여러 실시예 중 동일한 기능과 작용을 하는 구성요소에 대해서는 도면상의 도면부호를 동일하게 사용하기로 한다.
본 발명의 제1 실시예에 의한 덮개(31)는 도 1, 도 7에 도시한 바와 같이 상판의 중앙부가 수직으로 관통 형성된 1 이상의 홀(32)을 구비한다.
세정액 분사부(40)는 세정액 분사노즐(41)과 세정액 노즐 구동부(43)를 포함한다.
세정액 분사 노즐은 덮개(31)에 형성된 홀(32)의 상부로 삽입되어 컵(21, 22)의 내측면으로 세정액을 분사한다. 이때, 세정액 분사노즐(41)은 홀(32)을 통과할 수 있도록 홀의 직경보다 작게 형성된 것이 바람직하다.
세정액 노즐 구동부(43)는 세정액 분사 노즐(41)이 덮개(31) 외부로부터 내부에 위치하도록 세정액 분사 노즐(41)을 구동시킨다. 또한, 세정액 분사노즐(41)이 세정액을 분사하는 과정에서 세정액 분사노즐(41)을 승하강시켜 덮개(31) 내부의 공간을 골고루 세정시키게 할 수 있다.
건조가스 공급부(70)는 세정액 노즐 구동부(43)에 의해 세정액 공급노즐(41)과 함께 구동되는 건조가스 공급노즐(71)을 포함한다. 건조가스 공급노즐(71)은 세정액 공급노즐(41)의 외주면에 설치될 수 있다.
본 발명의 제2 실시예는 도 8에 도시한 바와 같이 제1 실시예와 대비하여 세정액 분사노즐(41)의 구조에 있어 차이가 있다.
세정액 분사노즐(41)은 외주면에 누름편(42)이 돌출 형성된다. 누름편(42)은 세정액 노즐 구동부(43)에 의해 덮개(31)의 상부면에 압하력을 제공한다. 이로써, 덮개(31)가 처리액 회수부(20) 상부에 고정되게 할 수 있다.
본 발명의 제3 실시예는 도 9에 도시한 바와 같이 제1 실시예와 대비하여 덮개(31), 세정액 분사노즐(41) 및 건조가스 공급노즐(71)의 구조에 있어 차이가 있다.
덮개(31)는 제1 실시예와 대비하여 홀을 구비할 필요가 없다.
세정액 분사노즐(41) 및 건조가스 공급노즐(71)은 상부가 내측으로 돌출된 컵(22)에 설치되어, 기판, 테이블(11) 및 컵(21, 22)을 충분히 세정할 수 있는 분사 각도를 갖는다.
이때, 세정액 분사노즐(41)과 건조가스 공급노즐(71)이 설치되는 컵(22)이 승하강 하도록 구동시키면 세정액과 건조가스의 분사범위를 확장할 수 있어 덮개(31) 내부의 공간에 세정과 건조 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 제4 실시예는 도 10에 도시한 바와 같이 제3 실시예와 대비하여 세정액 분사노즐(41) 및 건조가스 공급노즐(71)의 구조에 있어 차이가 있다.
세정액 분사노즐(41) 및 건조가스 공급노즐(71)은 테이블 상부면에 설치되어, 기판, 테이블(11) 및 컵(21, 22)을 충분히 세정할 수 있는 분사 각도를 갖는다.
이때, 세정액 분사노즐(41)과 건조가스 공급노즐(71)이 설치되는 테이블이 승하강 하도록 구동시키면 세정액과 건조가스의 분사범위를 확장할 수 있어 덮개(31) 내부의 공간에 세정과 건조 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 제5 실시예는 도 11에 도시한 바와 같이 복수의 기판 액처리 장치, 커버부(30) 및 커버 구동부(50)를 구비한다.
복수의 기판 액처리 장치는 제1 실시예와 동일한 구성의 기판 지지부(110, 210), 처리액 회수부(120, 220) 및 세정액 분사부(140, 240)를 각각 포함한다.
커버부(30)는 제1 실시예의 커버부의 구조와 동일하게 구성할 수 있고, 복수의 기판 액처리 장치(100, 200)를 이루는 처리액 회수부(120, 220) 중 어느 하나를 개폐한다.
커버 구동부(50) 또한 제1 실시예의 커버 구동부와 같이 이송 로봇(80)으로 구성할 수 있고, 커버부(30)가 복수의 처리액 회수부(120, 220) 상부를 선택적으로 개폐하도록 커버부(30)를 구동시킨다. 즉, 하나의 커버부(30)가 적어도 2 이상의 처리액 회수부(120, 220)를 개폐한다. 상술한 제5 실시예의 기판 액처리 장치는 기판 액처리 장치 각각의 커버부를 구비하는 것에 비하여 필요한 구성요소의 수가 감소하고, 전체 장치의 설치 면적 또한 감소한다.
본 발명의 다른 측면에 해당하는 기판 액처리 방법은, 상술한 기판 액처리 장치를 이용하는 방법으로, 세정액 분사부는 커버부가 처리액 회수부의 상부를 밀폐한 상태에서 커버부 내부로 세정액을 분사하여 기판을 액처리 한다.
세정액을 커버부 내부에 골고루 분사하기 위해서는 세정액을 분사하는 동안 테이블을 승하강시키거나 회전시킬 수 있다. 특히, 테이블을 회전시킴으로써 테이블 상부의 세정액을 원심력에 의해 컵으로 비산시켜 컵 세정 기능을 향상시킬 수 있으며, 세정이 종료된 후 테이블에 남아있는 세정액을 빠르게 건조시킬 수도 있다.
이상에서는 본 발명의 구체적인 실시예를 도면을 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 특허 청구 범위에 기재된 기술적 사상을 중심으로 그 변형물 또는 균등물에까지 미침은 자명하다 할 것이다.
10 : 기판 지지부
20 : 처리액 회수부
30 : 커버부
40 : 세정액 분사부
50 : 커버 구동부
70 : 건조가스 공급부
80 : 이송 로봇

Claims (19)

  1. 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치에 있어서,
    테이블 상부에 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부;
    상기 테이블 둘레에 설치되어 기판으로부터 배출되는 처리액을 회수하도록 상부가 내측으로 돌출된 1 이상의 컵을 구비하는 처리액 회수부;
    상기 처리액 회수부의 상부를 개폐하는 덮개를 구비한 커버부;
    상기 컵의 내측면으로 세정액을 분사하는 세정액 분사부; 및
    이송암과, 상기 기판 또는 상기 덮개를 파지하는 블레이드를 포함하는 이송 로봇; 을 포함하고,
    상기 이송암은, 상기 기판을 이송시키거나, 상기 덮개가 상기 처리액 회수부 외부의 대기위치와 상기 처리액 회수부의 상부를 밀폐하는 안착위치를 왕복운동하도록 구동시키는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개는, 측면에 상기 블레이드가 삽입되는 블레이드 삽입구가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 이송 로봇은, 상기 대기위치에서 상기 덮개의 하부면이 틸팅 상태를 유지하도록 구동시키는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개는, 하부면이 돔 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개는, 하부면이 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개는, 중앙부가 관통 형성된 1 이상의 홀을 구비하고,
    상기 세정액 분사부는, 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어지고,
    상기 세정액 분사노즐을 상기 덮개 내부에 위치하도록 구동시키는 세정액 노즐 구동부; 를 더 포함하고,
    상기 세정액 분사노즐은, 상기 홀의 상부로 삽입되어 상기 컵의 내측면으로 세정액을 분사하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 세정액 분사노즐은, 세정액을 분사하는 과정에서 상기 세정액 노즐 구동부에 의해 승하강되는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 세정액 분사노즐은, 외주면에 누름편이 돌출 형성되고,
    상기 누름편은, 상기 세정액 노즐 구동부에 의해 상기 덮개의 상부면에 압하력을 제공하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  11. 청구항 8에 있어서,
    상기 덮개의 하부면으로 건조가스를 공급하는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진 건조가스 공급부; 를 더 포함하고,
    상기 건조가스 공급노즐은, 상기 세정액 노즐 구동부에 의해 상기 세정액 분사 노즐과 함께 구동되는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 세정액 분사부는, 상기 테이블 상부면에 설치되는 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 세정액 분사부는, 상기 컵에 설치되는 1 이상의 세정액 분사노즐로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  14. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개의 하부면으로 건조가스를 공급하는 건조가스 공급부; 를 더 포함하고,
    상기 건조가스 공급부는, 상기 테이블 상부면에 설치되는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개의 하부면으로 건조가스를 공급하는 건조가스 공급부; 를 더 포함하고,
    상기 건조가스 공급부는, 상기 컵에 설치되는 1 이상의 건조가스 공급노즐로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  16. 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치에 있어서,
    테이블 상부에 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부, 상기 테이블 둘레에 설치되어 기판으로부터 배출되는 처리액을 회수하는 처리액 회수부 및 상기 처리액 회수부의 내측 처리공간으로 세정액을 공급하는 세정액 분사부를 각각 포함하는 복수의 기판 액처리 장치;
    상기 복수의 기판 액처리 장치를 이루는 처리액 회수부 중 어느 하나를 개폐하는 덮개를 구비한 커버부; 및
    이송암과, 상기 기판 또는 상기 덮개를 파지하는 블레이드를 포함하는 이송 로봇; 을 포함하고,
    상기 이송암은, 상기 기판을 이송시키거나, 상기 덮개가 상기 처리액 회수부를 선택적으로 개폐하도록 구동시키는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  17. 청구항 1의 기판 액처리 장치를 이용한 기판 액처리 방법에 있어서,
    상기 세정액 분사부는, 상기 커버부가 상기 처리액 회수부의 상부를 밀폐한 상태에서 상기 처리액 회수부의 내측 처리공간으로 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 세정액을 공급하는 동안 상기 처리액 회수부와 상기 테이블이 상대적으로 승하강하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
  19. 청구항 17에 있어서,
    상기 세정액을 공급하는 동안 상기 테이블이 회전하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
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