KR102072594B1 - Liquid level detection device, glass manufacturing device, liquid level detection method, and glass manufacturing method - Google Patents

Liquid level detection device, glass manufacturing device, liquid level detection method, and glass manufacturing method Download PDF

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마코토 구루미사와
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Abstract

본 발명은, 용융조(110) 내에 수용되는 용융 유리(102)의 액면 레벨(L)을 검출하는 액면 레벨 검출 장치(200)이며, 유리 용융로(100)의 내벽면(150)에 형성되는 복수의 기준선(151a, 152a), 용융조(110)의 측벽부(111) 및 용융 유리(102)의 액면(103) 각각 중 적어도 일부를 촬상하는 카메라(210)와, 카메라(210)로 촬상된 화상(270P)를 화상 처리함으로써, 복수의 기준선(151a, 152a)과, 측벽부(111)와, 액면(103)의 화상(270P)에 있어서의 위치 관계를 검출하고, 검출된 상기 위치 관계 및 복수의 기준선(151a, 152a)의 실제의 위치 관계에 기초하여 액면 레벨(L)을 검출하는 화상 처리 장치(220)을 구비한다.This invention is the liquid level detection device 200 which detects the liquid level L of the molten glass 102 accommodated in the melting tank 110, and is formed in the inner wall surface 150 of the glass melting furnace 100 in multiple numbers. A camera 210 photographing at least a portion of each of the reference lines 151a and 152a, the side wall portion 111 of the molten bath 110, and the liquid surface 103 of the molten glass 102, and the camera 210. By image-processing the image 270P, the positional relationship in the some reference line 151a, 152a, the side wall part 111, and the image 270P of the liquid surface 103 is detected, and the detected said positional relationship and The image processing apparatus 220 detects the liquid level L based on the actual positional relationship of the plurality of reference lines 151a and 152a.

Description

액면 레벨 검출 장치, 유리 제조 장치, 액면 레벨 검출 방법 및 유리 제조 방법 {LIQUID LEVEL DETECTION DEVICE, GLASS MANUFACTURING DEVICE, LIQUID LEVEL DETECTION METHOD, AND GLASS MANUFACTURING METHOD}Liquid level detection device, glass manufacturing device, liquid level detection method and glass manufacturing method {LIQUID LEVEL DETECTION DEVICE, GLASS MANUFACTURING DEVICE, LIQUID LEVEL DETECTION METHOD, AND GLASS MANUFACTURING METHOD}

본 발명은 용융조 내에 수용되는 용융 유리의 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 장치, 유리 제조 장치, 액면 레벨 검출 방법 및 유리 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid level level detecting device, a glass manufacturing device, a liquid level level detecting method, and a glass manufacturing method for detecting a liquid level of molten glass contained in a molten bath.

유리 용융로는, 용융 유리를 수용하는 용융조와, 용융조 내를 가열하는 가열원을 구비하고 있다. 용융조 내의 용융 유리의 액면에 상방으로부터 투입된 유리 원료는, 가열원에 의해 가열되어 용융 유리에 서서히 용해된다.The glass melting furnace is equipped with the melting tank which accommodates a molten glass, and the heating source which heats the inside of a melting tank. The glass raw material thrown in from above from the liquid level of the molten glass in a melting tank is heated by a heating source, and is melt | dissolved in a molten glass gradually.

용융 유리에 부상하는 유리 원료층의 상면의 높이를 검출하는 검출 방법으로서, 유리 원료층의 상면에 상방으로부터 광을 조사하여, 조사된 부분(밝은 부분)과 그 주변의 어두운 부분을 촬상하고, 촬상된 화상을 2치화 처리하는 방법이 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 방법에서는, 화상에 있어서의 밝은 부분의 무게중심 좌표를 구하고, 무게중심 좌표의 변동량에 기초하여 유리 원료층 상면의 높이의 변동량을 검출한다.A detection method for detecting the height of the upper surface of the glass raw material layer floating on the molten glass, wherein the upper surface of the glass raw material layer is irradiated with light from above to image the irradiated portion (bright portion) and the dark portion around the image, and the image is captured. A method of binarizing a processed image has been proposed (see Patent Document 1, for example). In this method, the center of gravity coordinate of the bright part in an image is calculated | required, and the amount of change of the height of the upper surface of a glass raw material layer based on the amount of change of a center of gravity coordinate is detected.

일본 특허 공개 평6-56432호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 6-56432

그런데, 유리 용융로에서는, 용융 유리의 액면 레벨을 일정하게 유지할 것이 요구된다. 액면 레벨이 변동하면, 유리 용융로로부터 외부로 유출되는 용융 유리의 유량이 변동하거나, 용융조의 침식이 촉진되거나 한다.By the way, in a glass melting furnace, it is calculated | required to keep the liquid level of molten glass constant. When the liquid level is fluctuate | varied, the flow volume of the molten glass which flows out from a glass melting furnace to the outside may fluctuate, or the erosion of a melting tank may be promoted.

종래, 용융 유리의 액면 레벨은 전극이나 육안 등으로 측정되고 있었지만, 측정 정밀도가 충분하지 않았다.Conventionally, although the liquid level of the molten glass was measured by the electrode, the naked eye, etc., the measurement precision was not enough.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 용융 유리의 액면 레벨을 고정밀도로 검출할 수 있는 액면 레벨 검출 장치 및 액면 레벨 검출 방법의 제공을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said subject, and an object of this invention is to provide the liquid level detection apparatus and liquid level detection method which can detect the liquid level of a molten glass with high precision.

상기 목적을 해결하기 위하여, 본 발명은,In order to solve the above object, the present invention,

유리 용융로의 용융조 내에 수용되는 용융 유리의 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 장치이며,It is a liquid level detection device which detects the liquid level of the molten glass accommodated in the melting tank of a glass melting furnace,

상기 유리 용융로의 내벽면에 형성되는 복수의 기준선, 상기 용융조의 측벽부 및 상기 용융 유리의 액면의 각각의 적어도 일부를 촬상하는 카메라와,A camera for imaging at least a portion of each of a plurality of reference lines formed on an inner wall surface of the glass melting furnace, a side wall portion of the melting tank, and a liquid surface of the molten glass;

상기 카메라로 촬상된 화상을 화상 처리함으로써, 상기 복수의 기준선과, 상기 용융조의 측벽부와, 상기 용융 유리의 액면의 상기 화상에 있어서의 위치 관계를 검출하고, 검출된 상기 위치 관계 및 상기 복수의 기준선의 실제의 위치 관계에 기초하여 상기 액면 레벨을 검출하는 화상 처리 장치를 구비하는 액면 레벨 검출 장치를 제공한다.By image-processing the image image | photographed with the said camera, the positional relationship in the said several reference line, the side wall part of the said melting tank, and the said liquid surface of the said molten glass is detected, and the detected said positional relationship and the said some A liquid level detection device comprising an image processing device that detects the liquid level based on an actual positional relationship of a reference line.

또한, 본 발명은,In addition, the present invention,

유리 용융로의 용융조 내에 수용되는 용융 유리의 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 방법이며,It is a liquid level detection method which detects the liquid level of the molten glass accommodated in the melting tank of a glass melting furnace,

상기 유리 용융로의 내벽면에 형성되는 복수의 기준선, 상기 용융조의 측벽부 및 상기 용융 유리의 액면의 각각의 적어도 일부를 카메라로 촬상하고,Imaging at least a part of each of a plurality of reference lines formed on an inner wall surface of the glass melting furnace, a side wall part of the melting tank, and a liquid surface of the molten glass with a camera,

상기 카메라로 촬상된 화상을 화상 처리함으로써, 상기 복수의 기준선과, 상기 용융조의 측벽부와, 상기 용융 유리의 액면의 상기 화상에 있어서의 위치 관계를 검출하며,By image-processing the image image | photographed with the said camera, the positional relationship in the said several reference line, the side wall part of the said molten bath, and the said liquid image of the said molten glass is detected,

검출된 상기 위치 관계 및 상기 복수의 기준선의 실제의 위치 관계에 기초하여 상기 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 방법을 제공한다.A liquid level detection method is provided for detecting the liquid level based on the detected positional relationship and the actual positional relationship of the plurality of reference lines.

본 발명에 의하면, 용융 유리의 액면 레벨을 고정밀도로 검출할 수 있는 액면 레벨 검출 장치 및 액면 레벨 검출 방법이 제공된다.According to this invention, the liquid level detection apparatus and liquid level detection method which can detect the liquid level of the molten glass with high precision are provided.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 의한 액면 레벨 검출 장치 및 액면 레벨 검출 장치가 설치되는 유리 용융로를 도시하는 단면도.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선을 따른 단면도.
도 3은 도 1의 일부 확대도.
도 4는 도 1의 다른 일부 확대도.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ 선을 따른 단면도.
도 6은 카메라에 의해 촬상되는 화상의 일례를 도시하는 모식도.
도 7은 도 6의 화상의 종방향에 있어서의 휘도의 변화를 도시하는 모식도.
도 8은 용융 유리에 의해 침식된 상태의 용융조의 일례를 도시하는 단면도.
도 9는 카메라에 의해 촬상되는 화상의 다른 예를 도시하는 모식도.
도 10는 도 9의 화상의 종방향에 있어서의 휘도의 변화를 도시하는 모식도.
도 11은 본 발명의 제2 실시 형태에 의한 유리 제조 장치의 구성을 도시하는 단면도.
1 is a cross-sectional view showing a glass melting furnace in which a liquid level detection device and a liquid level detection device according to a first embodiment of the present invention are provided.
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG.
3 is an enlarged view of a portion of FIG. 1;
4 is another enlarged view of another portion of FIG. 1.
5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4.
6 is a schematic diagram illustrating an example of an image captured by a camera.
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a change in luminance in the longitudinal direction of the image of FIG. 6. FIG.
8 is a cross-sectional view showing an example of a melting tank in a state eroded by the molten glass.
9 is a schematic diagram illustrating another example of an image captured by a camera.
FIG. 10 is a schematic diagram showing a change in luminance in the longitudinal direction of the image of FIG. 9. FIG.
It is sectional drawing which shows the structure of the glass manufacturing apparatus by 2nd Embodiment of this invention.

이하, 본 발명의 일 실시 형태에 대하여, 도면을 참조하여 설명한다. 이하의 도면에 있어서, 동일하거나 또는 대응하는 구성에는, 동일하거나 또는 대응하는 부호를 붙이고 설명을 생략한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment of this invention is described with reference to drawings. In the following drawings, the same or corresponding configuration is given the same or corresponding reference numeral and the description thereof is omitted.

[제1 실시 형태][First Embodiment]

본 실시 형태는, 유리 용융로의 용융조 내에 수용되는 용융 유리의 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 장치 및 액면 레벨 검출 방법에 관한 것이다.This embodiment relates to the liquid level level detection apparatus and liquid level detection method which detect the liquid level of the molten glass accommodated in the melting tank of a glass melting furnace.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 의한 액면 레벨 검출 장치, 및 액면 레벨 검출 장치가 설치되는 유리 용융로를 도시하는 단면도이다. 도 1에 있어서, 버너가 형성하는 화염(플레임)의 외측 테두리를 2점 쇄선으로 나타낸다. 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선을 따른 단면도이다. 도 2에 있어서, 도면을 보기 쉽게 하기 위하여, 플레임 및 턱 스톤의 도시를 생략한다. 도 3은 도 1의 일부 확대도이다. 도 4는 도 1의 다른 일부 확대도이다. 도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ 선을 따른 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the glass melting furnace in which the liquid level detection apparatus and liquid level detection apparatus which concern on the 1st Embodiment of this invention are provided. In FIG. 1, the outer edge of the flame (flame) which a burner forms is shown by a 2-dot chain line. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1. In Fig. 2, in order to make the drawing easier to see, the illustration of the flame and the tuck stone is omitted. 3 is an enlarged view of a portion of FIG. 1. 4 is another enlarged view of another portion of FIG. 1. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4.

(유리 용융로)(Glass melting furnace)

유리 용융로(100)는 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 용융 유리(102)를 수용하는 용융조(110)를 구비한다. 용융조(110) 내에 있어서, 용융 유리(102)의 액면(103)은 수평 평면으로 되어 있다.The glass melting furnace 100 is equipped with the melting tank 110 which accommodates the molten glass 102 as shown in FIG. 1 and FIG. In the melting tank 110, the liquid surface 103 of the molten glass 102 is a horizontal plane.

용융조(110)는 상방으로 개방된 상자 형상이며, 도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 전후 좌우의 측벽부(111 내지 114)와, 저벽부(115)로 구성된다. 각 측벽부(111 내지 114)의 내측 측면은 연직 평면이며, 액면(103)에 대하여 수직인 평면이다.The melting tank 110 has a box shape opened upward, and is composed of side walls 111, 114, and bottom walls 115 on the front, rear, left, and right sides, as shown in FIGS. 1 and 2. The inner side surface of each side wall part 111-114 is a perpendicular plane, and is a plane perpendicular | vertical with respect to the liquid surface 103. As shown in FIG.

유리 용융로(100)는 측벽부(111 내지 114)의 상방에 배치되는 상부 측벽부(121 내지 124)와, 상부 측벽부(121 내지 124)의 개구부를 상방으로부터 덮는 아치 형상의 천장부(130)를 일체적으로 구비한다.The glass melting furnace 100 includes an upper sidewall portion 121 to 124 disposed above the sidewall portions 111 to 114 and an arched ceiling portion 130 covering the openings of the upper sidewall portions 121 to 124 from above. It is provided integrally.

도 1에 도시한 바와 같이, 좌측 측벽부(111)와 좌측 상부 측벽부(121) 사이 및 우측 측벽부(112)와 우측 상부 측벽부(122) 사이에, 각각 간극이 형성되어 있다. 이 간극을 막기 위하여, 메움 벽돌(턱 스톤)(140)이 각 측벽부(111, 112)의 상면에 적재되어, 대응하는 상부 측벽부(121, 122)의 내측 측면과 접촉하고 있다.As shown in FIG. 1, a gap is formed between the left side wall portion 111 and the left upper side wall portion 121, and between the right side wall portion 112 and the right upper side wall portion 122, respectively. In order to prevent this gap, the filling brick (chin stone) 140 is mounted on the upper surface of each side wall part 111 and 112, and is contacting the inner side surface of the corresponding upper side wall part 121 and 122. As shown in FIG.

유리 용융로(100)의 내벽면(150)은 도 3에 도시한 바와 같이 수평인 단차면(151, 152)을 갖는다. 하나의 단차면(151)은 턱 스톤(140)의 상면이다. 다른 단차면(152)은 좌측 측벽부(111)의 상면의 일부(턱 스톤(140)으로부터 노 내측으로 밀려나와 있는 부분)이다. 단차면(151, 152)의 내측 단부 테두리(151a, 152a)는 액면(103)과 평행한 직선이며, 액면(103)과 좌측 측벽부(111)의 내측 측면(111a)의 교선(104)에 대하여 평행한 직선이다.The inner wall surface 150 of the glass melting furnace 100 has horizontal stepped surfaces 151 and 152 as shown in FIG. 3. One step surface 151 is the upper surface of the jaw stone 140. The other stepped surface 152 is a part of the upper surface of the left side wall portion 111 (the part pushed out from the jaw stone 140 into the furnace). The inner end edges 151a and 152a of the stepped surfaces 151 and 152 are straight lines parallel to the liquid surface 103, and are connected to the intersection 104 of the inner surface 111a of the liquid surface 103 and the left side wall portion 111. It is a parallel straight line.

유리 용융로(100)는 도 2에 도시한 바와 같이 용융조(110) 내를 가열하는 가열원으로서, 버너(160)를 구비한다. 버너(160)는 액면(103), 상부 측벽부(121 내지 124) 및 천장부(130)로 둘러싸이는 내부 공간에 화염(플레임)(F)을 형성하고, 플레임(F)으로부터의 복사열에 의해 용융조(110) 내를 가열한다. 버너(160)는 좌우 한 쌍의 상부 측벽부(121, 122) 각각에 전후 방향(도 2 중 X 방향)으로 간격을 두고 복수 설치되어 있다.As shown in FIG. 2, the glass melting furnace 100 includes a burner 160 as a heating source for heating the inside of the melting tank 110. The burner 160 forms a flame (flame) F in an inner space surrounded by the liquid surface 103, the upper sidewall portions 121 to 124, and the ceiling portion 130, and melts by radiant heat from the flame F. The inside of the bath 110 is heated. The burner 160 is provided in plural at intervals in the front-rear direction (X direction in FIG. 2) in each of the left and right upper side wall portions 121 and 122.

유리 용융로(100)는 용융 유리(102) 중에 버블(106)을 형성하는 버블러(170)를 구비한다. 버블러(170)는 용융조(110)의 저벽부(115)를 관통하는 가스 공급관(172)을 갖고, 가스 공급관(172)으로부터 가스(예를 들어, 질소 가스)를 분출하여 버블(106)을 형성한다. 버블(106)이 액면(103)까지 부상함으로써, 용융 유리(102) 중에 상승류가 형성되어, 용융 유리(102)가 순환된다. 가스 공급관(172)은 용융조(110)의 전후 방향(도 2 중 X 방향)의 대략 중앙부에 설치되어 있다.The glass melting furnace 100 includes a bubbler 170 that forms bubbles 106 in the molten glass 102. The bubbler 170 has a gas supply pipe 172 penetrating the bottom wall 115 of the melting tank 110, and blows gas (eg, nitrogen gas) from the gas supply pipe 172 to form a bubble 106. To form. As the bubble 106 floats to the liquid surface 103, an upward flow is formed in the molten glass 102, and the molten glass 102 is circulated. The gas supply pipe 172 is provided in the substantially center part of the front-back direction (X direction in FIG. 2) of the melting tank 110. As shown in FIG.

(액면 레벨 검출 장치)(Level liquid detection device)

액면 레벨 검출 장치(200)는 도 1에 도시한 바와 같이 용융조(110) 내에 수용되는 용융 유리(102)의 액면 레벨(L)을 검출하는 장치이다. 액면 레벨 검출 장치(200)는 유리 용융로(100)의 내부를 촬상하는 카메라(210)와, 카메라(210)로 촬상된 화상을 화상 처리함으로써 액면 레벨(L)을 검출하는 화상 처리 장치(220)를 구비한다.The liquid level detection apparatus 200 is an apparatus which detects the liquid level L of the molten glass 102 accommodated in the melting tank 110 as shown in FIG. The liquid level detection device 200 detects the liquid level L by image processing the camera 210 for imaging the interior of the glass melting furnace 100 and the image captured by the camera 210. It is provided.

액면 레벨 검출 장치(200)는 유리 용융로(100)의 외부에 배치되는 통 형상의 수냉 박스(230)를 구비한다. 수냉 박스(230)는 유리 용융로(100)로부터 이격하여 배치되고, 내부에 카메라(210)를 수용한다. 카메라(210)는 유리 용융로(100)의 노벽(예를 들어, 우측 상부 측벽부(122))에 관통 형성되는 감시창(180)을 통하여, 유리 용융로(100)의 내부를 촬상한다.The liquid level detection device 200 includes a tubular water cooling box 230 disposed outside the glass melting furnace 100. The water cooling box 230 is spaced apart from the glass melting furnace 100 and accommodates the camera 210 therein. The camera 210 captures an image of the interior of the glass melting furnace 100 through the monitoring window 180 formed through the furnace wall (eg, the upper right side wall portion 122) of the glass melting furnace 100.

액면 레벨 검출 장치(200)는 유리 용융로(100)의 외면에 감시창(180)을 둘러싸도록 설치되는 통 형상의 하우징(240)과, 하우징(240)의 카메라(210)측의 개구부를 막는 투명판(예를 들어, 석영 유리판)(250)을 구비한다. 카메라(210)는 투명판(250), 하우징(240)의 내부 공간, 감시창(180)을 통하여 유리 용융로(100)의 내부를 촬상한다.The liquid level detection apparatus 200 is a cylindrical housing 240 that is installed to surround the monitoring window 180 on the outer surface of the glass melting furnace 100 and a transparent blocking portion of the opening of the camera 210 side of the housing 240. A plate (eg, quartz glass plate) 250 is provided. The camera 210 captures the inside of the glass melting furnace 100 through the transparent plate 250, the inner space of the housing 240, and the monitoring window 180.

하우징(240)은 예를 들어 내열 합금으로 형성된다. 하우징(240)과 유리 용융로(100)의 외면 사이에는 환상의 시일 부재(260)가 설치된다. 시일 부재(260)는 하우징(240)과 유리 용융로(100) 사이에 형성되는 근소한 환상의 간극을 막는다.The housing 240 is formed of, for example, a heat resistant alloy. An annular seal member 260 is provided between the housing 240 and the outer surface of the glass melting furnace 100. The seal member 260 closes a slight annular gap formed between the housing 240 and the glass melting furnace 100.

하우징(240)에는, 도 4, 도 5에 도시한 바와 같이 하우징(240) 내에 가스(예를 들어 압축 공기)를 공급하는 가스 공급구(241 내지 244)가 형성되어 있다. 각 가스 공급구(241 내지 244)는 도중에 개폐 밸브나 유량계가 설치되는 배관(P)을 개재하여, 압축기 등의 가스 공급원에 접속되어 있다. 가스 공급원이 작동하여, 개폐 밸브가 개방되면, 하우징(240) 내에 가스가 공급된다. 하우징(240) 내에 공급된 가스는 감시창(180)을 통하여 유리 용융로(100) 내에 유입된다. 이때, 감시창(180) 내에 있어서의 가스의 흐름은, 도 5에 도시한 바와 같이, 일방향으로 규제되어 있다. 감시창(180)의 카메라(210)측의 개구부가 하우징(240)으로 둘러싸여 있고, 하우징(240)의 카메라(210)측의 개구부가 투명판(250)으로 막혀 있기 때문이다. 이와 같이 하여, 감시창(180) 내에 있어서의 가스의 흐름이 일방향으로 규제되므로, 용융 유리(102)의 휘발 성분(예를 들어, 붕산)의 증기가 하우징(240) 내에 유입되는 것을 방지할 수 있어, 투명판(250)의 흐림 방지를 행할 수 있다. 또한, 플레임(F)의 열의 영향을 억제할 수 있다.As shown in FIGS. 4 and 5, the housing 240 is provided with gas supply ports 241 to 244 for supplying a gas (for example, compressed air) into the housing 240. Each of the gas supply ports 241 to 244 is connected to a gas supply source such as a compressor via a pipe P on which an on-off valve and a flowmeter are provided. When the gas supply source is operated to open and close the valve, gas is supplied into the housing 240. Gas supplied into the housing 240 is introduced into the glass melting furnace 100 through the monitoring window 180. At this time, the flow of gas in the monitoring window 180 is regulated in one direction as shown in FIG. 5. This is because the opening on the camera 210 side of the monitoring window 180 is surrounded by the housing 240, and the opening on the camera 210 side of the housing 240 is blocked by the transparent plate 250. In this way, since the flow of gas in the monitoring window 180 is regulated in one direction, it is possible to prevent the vapor of the volatile component (for example, boric acid) of the molten glass 102 from flowing into the housing 240. Therefore, the transparent plate 250 can be prevented from blurring. Moreover, the influence of the heat of flame F can be suppressed.

각 가스 공급구(241 내지 244)는 도 4에 도시한 바와 같이 하우징(240)의 주방향으로 긴 슬릿이며, 도 5에 도시한 바와 같이 하우징(240)의 중심축 방향에 대하여 수직인 가스 커튼을 형성한다. 가스 커튼끼리가 서로 충돌하도록, 1조의 가스 공급구(241, 242)는 4각 통 형상의 하우징(240)에 대향 배치되어 있다. 마찬가지로, 다른 1조의 가스 공급구(243, 244)가 4각 통 형상의 하우징(240)에 대향 배치되어 있다. 1조의 가스 공급구(241, 242)는 다른 1조의 가스 공급구(243, 244)보다 카메라(210) 가까이에 배치된다.Each gas supply port 241 to 244 is a long slit in the circumferential direction of the housing 240 as shown in FIG. 4, and the gas curtain perpendicular to the direction of the central axis of the housing 240 as shown in FIG. 5. To form. A set of gas supply ports 241 and 242 are disposed opposite to the quadrangular housing 240 so that the gas curtains collide with each other. Similarly, another set of gas supply ports 243 and 244 are arranged opposite to the quadrangular housing 240. One set of gas supply ports 241 and 242 is disposed closer to the camera 210 than the other set of gas supply ports 243 and 244.

(카메라)(camera)

카메라(210)는 예를 들어 CCD 카메라, CMOS 카메라 등이다. 카메라(210)는 도 1에 도시한 바와 같이 한쪽 상부 측벽부(예를 들어 우측 상부 측벽부(122))에 형성되는 감시창(180)을 통하여, 다른 쪽 측벽부(예를 들어, 좌측 측벽부(111))의 일부 등을 촬상한다. 카메라(210)의 광축(A)은 상면에서 보아, 좌측 측벽부(111)의 내측 측면(111a)과 대략 수직으로 배치된다. 카메라(210)의 광축(A)과 수평면(B)이 이루는 각 θ는 예를 들어 0 내지 7°이다. 카메라(210)(카메라 전방면의 중심)와 좌측 측벽부(111) 사이의 수평 방향에 있어서의 거리 H는 예를 들어 5m 이상이다. 이와 같이, 이루는 각 θ를 0 내지 7°로 하고, 거리 H를 5m 이상으로 함으로써, 후술하는 화상 처리에 있어서 근사식을 사용하는 것이 가능해진다. 카메라(210)(카메라 전방면의 중심)와 좌측 측벽부(111) 사이의 상하 방향에 있어서의 거리 V, 카메라(210)의 초점 거리나 해상도 등은 적절히 선정된다.The camera 210 is, for example, a CCD camera, a CMOS camera, or the like. The camera 210 is connected to the other sidewall portion (eg, the left sidewall) through the monitoring window 180 formed in one upper sidewall portion (eg, the upper right sidewall portion 122) as shown in FIG. 1. A part of the part 111 is imaged. The optical axis A of the camera 210 is disposed substantially perpendicular to the inner side surface 111a of the left sidewall portion 111 when viewed from the top. The angle θ formed between the optical axis A and the horizontal plane B of the camera 210 is, for example, 0 to 7 °. The distance H in the horizontal direction between the camera 210 (center of the camera front face) and the left side wall portion 111 is, for example, 5 m or more. In this way, by setting the angle θ to be 0 to 7 ° and the distance H to 5 m or more, it is possible to use an approximation equation in the image processing described later. The distance V in the up-down direction between the camera 210 (center of the camera front surface) and the left side wall portion 111, the focal length, resolution, and the like of the camera 210 are appropriately selected.

카메라(210)는 유리 용융로(100)의 내벽면(150)에 형성되는 복수의 기준선, 용융조(110)의 좌측 측벽부(111) 및 용융 유리(102)의 액면(103) 각각의 적어도 일부를 촬상한다. 기준선으로서는, 예를 들어 수평 단차면(151, 152)의 내측 단부 테두리(151a, 152a)가 사용된다. 이하, 내측 단부 테두리(151a, 152a)를 기준선(151a, 152a)이라고도 한다. 이들 기준선(151a, 152a)은 액면(103)과 평행한 직선이며, 액면(103)과 좌측 측벽부(111)의 내측 측면(111a)의 교선(104)에 대하여 평행한 직선이다.The camera 210 includes at least a portion of each of the plurality of reference lines formed on the inner wall surface 150 of the glass melting furnace 100, the left sidewall portion 111 of the melting tank 110, and the liquid surface 103 of the molten glass 102. Image. As the reference line, for example, the inner end edges 151a and 152a of the horizontal step surfaces 151 and 152 are used. Hereinafter, the inner end edges 151a and 152a are also called reference lines 151a and 152a. These reference lines 151a and 152a are straight lines parallel to the liquid surface 103, and are straight lines parallel to the intersection 104 of the liquid surface 103 and the inner side surface 111a of the left side wall portion 111.

또한, 본 실시 형태의 기준선(151a, 152a)은 단차면(151, 152)의 단부 테두리이지만, 유리 용융로(100)의 노벽(예를 들어, 좌측 상부 측벽부(121))을 구성하는 벽돌끼리의 사이의 줄눈선 등이어도 되며, 특별히 한정되지 않는다.In addition, although the reference lines 151a and 152a of this embodiment are the edges of the step surfaces 151 and 152, the bricks which comprise the furnace wall (for example, left upper side wall part 121) of the glass melting furnace 100 are comrades The line in between may be sufficient, and is not specifically limited.

또한, 본 실시 형태의 기준선(151a, 152a)은 교선(104)과 평행한 직선이지만, 교선(104)에 대하여 비스듬한 직선, 교선(104)과 수직인 직선이어도 된다.In addition, although the reference lines 151a and 152a of this embodiment are straight lines parallel to the intersection 104, they may be a straight line which is oblique with respect to the intersection 104, and a straight line perpendicular to the intersection 104.

또한, 상기 기준선으로서는, 어느 2점을 잡고, 상기 2점을 연결하는 선을 기준선으로 해도 된다.In addition, as said reference line, any two points may be taken and the line connecting the two points may be used as the reference line.

도 6은 카메라에 의해 촬상되는 화상의 일례를 도시하는 모식도이다. 도 7은 도 6의 화상의 종방향에 있어서의 휘도의 변화를 도시하는 모식도이다. 도 7에 있어서, 횡축은 도 6의 화상의 상부 테두리로부터의 거리, 종축은 휘도이다.6 is a schematic diagram illustrating an example of an image captured by a camera. FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a change in luminance in the longitudinal direction of the image of FIG. 6. In FIG. 7, the horizontal axis represents the distance from the upper edge of the image of FIG. 6, and the vertical axis represents the luminance.

카메라(210)로 촬상되는 화상(270P)(이하, 「촬상 화상(270P)」이라고도 함)은 도 6에 도시한 바와 같이, 좌측 상부 측벽부(121)의 화상(121P)과, 턱 스톤(140)의 화상(140P)과, 좌측 측벽부(111)의 화상(111P)과, 액면(103)의 화상(103P)을 포함한다. 또한, 촬상 화상은 복수의 기준선(151a, 152a)의 화상(151aP, 152aP)과, 교선(104)의 화상(104P)을 포함한다. 촬상 화상(270P)에 있어서, 기준선 화상(151aP, 152aP) 및 교선 화상(104P)은 서로 평행한 직선이다.As illustrated in FIG. 6, the image 270P (hereinafter also referred to as the "photographed image 270P") captured by the camera 210 includes the image 121P of the upper left side wall portion 121 and the jaw stone ( The image 140P of 140, the image 111P of the left side wall part 111, and the image 103P of the liquid surface 103 are included. The picked-up image also includes images 151aP and 152aP of the plurality of reference lines 151a and 152a and images 104P of the intersection 104. In the picked-up image 270P, the baseline images 151aP and 152aP and the intersection image 104P are straight lines parallel to each other.

촬상 화상(270P) 중의 화소의 휘도(명도)는 도 7에 도시한 바와 같이, 기준선 화상(151aP, 152aP)의 위치 x1, x2, 교선 화상(104P)의 위치 x3에서 급변한다. 도 3에 도시한 바와 같이, 실제의 기준선(151a, 152a)이나 교선(104)에 있어서, 광 반사면의 형상이 급변하기 때문이다. 광 반사면이란, 광원으로서의 플레임으로부터의 광을 카메라를 향하여 반사하는 면이다.As shown in FIG. 7, the luminance (brightness) of the pixel in the picked-up image 270P changes abruptly at the position x1, x2 of the reference line image 151aP, 152aP, and the position x3 of the cross-section image 104P. As shown in FIG. 3, the shape of the light reflection surface changes rapidly in the actual reference lines 151a and 152a and the intersection 104. The light reflection surface is a surface which reflects light from a flame as a light source toward the camera.

또한, 촬상 화상(270P) 중의 위치 x1에서의 휘도의 변화는, 단차면(151)의 외측 단부 테두리(151b)에 있어서의 광 반사면의 형상 변화의 영향을 포함하고 있다. 외측 단부 테두리(151b)와 내측 단부 테두리(151a)가 촬상 화상(270P) 중에 있어서 거의 동일한 위치에 위치하기 때문이다. 마찬가지로, 촬상 화상(270P) 중의 위치 x2에서의 휘도의 변화는, 단차면(152)의 외측 단부 테두리(152b)에 있어서의 광 반사면의 형상 변화의 영향을 포함하고 있다.In addition, the change of the brightness | luminance in the position x1 in the picked-up image 270P includes the influence of the shape change of the light reflection surface in the outer edge 151b of the step surface 151. As shown in FIG. This is because the outer edge 151b and the inner edge 151a are located at substantially the same position in the captured image 270P. Similarly, the change in the luminance at the position x2 in the captured image 270P includes the influence of the shape change of the light reflection surface on the outer edge 152b of the step surface 152.

그런데, 용융조(110) 내에 수용되는 용융 유리(102)는 분말 상태 또는 입자 상태의 유리 원료를 용융시켜 얻어지므로, 내부에 기포를 포함하고 있다.By the way, since the molten glass 102 accommodated in the melting tank 110 is obtained by melting the glass raw material of a powder state or a particle state, it contains the bubble inside.

카메라(210)에 의한 액면(103)의 촬상 영역은, 버블(106)이 부상하는 영역의 주변 영역(108, 109)(도 2 참조) 내에 있는 것이 바람직하다. 여기서, 「주변 영역」이란, 가스 공급관(170)과의 사이의 전후 방향(도 2 중 X 방향)에 있어서의 거리가 10 내지 1500㎜인 영역(C1=D1=10㎜, C2=D2=1500㎜)을 의미한다. 이 주변 영역(108, 109)은 실질적으로 기포가 없는 경면이므로, 광의 산란이 거의 없다. 그로 인해, 촬상 화상(270P) 중의 화소의 휘도의 변화를 검출하는 후술하는 화상 처리에 적합하다. 또한, 카메라(210)에 의한 액면(103)의 촬상 영역은 실질적으로 기포가 없는 영역이면 되며, 상기 주변 영역(108, 109)에 한정되지 않는다.It is preferable that the imaging area | region of the liquid surface 103 by the camera 210 exists in the peripheral areas 108 and 109 (refer FIG. 2) of the area | region where the bubble 106 floats. Here, a "peripheral area" means an area (C1 = D1 = 10 mm, C2 = D2 = 1500) in which the distance in the front-rear direction (X direction in FIG. 2) between the gas supply pipe 170 is 10 to 1500 mm. Mm). Since these peripheral areas 108 and 109 are substantially bubble free mirror surfaces, there is little scattering of light. Therefore, it is suitable for the image process mentioned later which detects the change of the brightness | luminance of the pixel in the picked-up image 270P. In addition, the imaging area | region of the liquid surface 103 by the camera 210 should just be an area where there is no bubble substantially, and is not limited to the said peripheral area | regions 108 and 109.

촬상 화상(270P)은 신호 라인을 개재하여 화상 처리 장치(220)에 송신된다.The captured image 270P is transmitted to the image processing apparatus 220 via the signal line.

(화상 처리 장치)(Image processing device)

화상 처리 장치(220)는 촬상 화상(270P)를 화상 처리하여, 액면 레벨(L)을 검출하는 장치이다. 화상 처리 장치(220)는 CPU, 기록 매체 등을 포함하는 컴퓨터로서 구성되어 있다. 화상 처리 장치(220)는 기록 매체에 저장된 각종 프로그램을 CPU에 실행시킴으로써, 후술하는 각종 처리를 행한다.The image processing apparatus 220 is an apparatus which image-processes the picked-up image 270P, and detects the liquid level L. FIG. The image processing apparatus 220 is configured as a computer including a CPU, a recording medium, and the like. The image processing apparatus 220 executes various processes described later by executing various programs stored in the recording medium on the CPU.

우선, 화상 처리 장치(220)는 촬상 화상(270P) 중의 화소의 휘도의 변화에 기초하여, 기준선 화상(151aP, 152aP)의 위치 x1, x2, 교선 화상(104P)의 위치 x3을 특정한다.First, the image processing apparatus 220 specifies the position x1, x2 of the reference line images 151aP and 152aP, and the position x3 of the intersection image 104P based on the change of the brightness | luminance of the pixel in the picked-up image 270P.

예를 들어, 화상 처리 장치(220)는 소정의 방향(예를 들어, 교선 화상(104P)과 직교하는 방향)으로 배열되는 복수의 화소를 포함하여 이루어지는 화소열에 대하여 휘도의 변화를 검출한다. 이 처리는 예를 들어 미분 필터를 사용하여 행해진다. 미분은 1차 미분 또는 2차 미분(라플라시안)이다. 이 처리에 사용되는 화소열은 시험 등에 의해 미리 선정된다.For example, the image processing apparatus 220 detects a change in luminance with respect to a pixel column including a plurality of pixels arranged in a predetermined direction (for example, a direction orthogonal to the intersection image 104P). This process is performed using a differential filter, for example. Differential is either primary or secondary (laplacian). The pixel string used for this processing is previously selected by a test or the like.

휘도의 변화의 검출은 정밀도 향상을 위하여 1매의 촬상 화상(270P)에 있어서의 복수의 화소열을 사용하여 행해지는 것이 바람직하다. 또한, 휘도의 변화의 검출에 사용되는 촬상 화상(270P)의 매수는 오차 억제를 위하여, 바람직하게는 2장 이상이며, 시간 변동의 억제를 위하여 60초 이내에 촬상하는 것이 바람직하다.Detection of the change in luminance is preferably performed using a plurality of pixel columns in one picked-up image 270P in order to improve the accuracy. In addition, the number of sheets of the captured image 270P used for the detection of the change in luminance is preferably two or more sheets for error suppression, and the imaging is preferably performed within 60 seconds for suppression of time variation.

화상 처리 장치(220)는 촬상 화상(270P) 중의 화소의 휘도가 급변하는 장소를 기준선 화상(151aP, 152aP)의 위치 x1, x2, 교선 화상(104P)의 위치 x3으로서 특정한다. 위치의 특정은 서브 픽셀(예를 들어 0.1 화소 정도)로 행해진다.The image processing apparatus 220 specifies the place where the luminance of the pixel in the picked-up image 270P changes abruptly as the position x1, x2 of the reference line images 151aP and 152aP, and the position x3 of the cross-section image 104P. The position is specified in sub-pixels (for example, about 0.1 pixel).

이어서, 화상 처리 장치(220)는 기준선 화상(151aP, 152aP)끼리의 간격 J1(도 6 참조) 및 하나의 기준선 화상(152aP)과 교선 화상(104P)의 간격 J2(도 6 참조)를 산출한다.Next, the image processing apparatus 220 calculates the space | interval J1 (refer FIG. 6) of reference line image 151aP, 152aP, and the space | interval J2 (refer FIG. 6) of one reference line image 152aP and cross-section image 104P. .

또한, 화상 처리 장치(220)는 기준선(151a, 152a)끼리의 실제의 간격 K1(도 1 참조)을 기록 매체로부터 판독한다. 간격 K1은 상하 방향에 있어서의 거리이다. 간격 K1은 시간 변동하지 않으므로 미리 측정되어 기록 매체에 기록되어 있다.In addition, the image processing apparatus 220 reads out the actual space | interval K1 (refer FIG. 1) of the reference lines 151a and 152a from a recording medium. The interval K1 is a distance in the vertical direction. The interval K1 does not vary in time, so it is measured in advance and recorded in the recording medium.

이어서, 화상 처리 장치(220)는 간격 J1, J2, K1에 기초하여, 하나의 기준선(152a)과 교선(104) 사이의 실제의 간격 K2(도 1 참조)를 산출한다. 간격 K2의 산출은 근사식(K2=K1×J2/J1)을 사용하여 행해진다. 간격 K2의 산출에, 카메라(210)의 배치 정보(예를 들어, 도 1에 도시하는 이루는 각 θ, 거리 H 및 거리 V)를 사용해도 된다. 간격 K2는 상하 방향에 있어서의 거리이다.Next, the image processing apparatus 220 calculates the actual space K2 (see FIG. 1) between one reference line 152a and the intersection 104 based on the spaces J1, J2, and K1. Calculation of the interval K2 is performed using an approximation formula (K2 = K1 × J2 / J1). You may use arrangement information (for example, angle | corner (theta), distance H, and distance V which are shown in FIG. 1) of camera 210 in calculation of space | interval K2. The interval K2 is a distance in the vertical direction.

이어서, 화상 처리 장치(220)는 하나의 기준선(152a)과 용융조(110)의 내저면 사이의 실제의 거리 K0(도 1 참조)을 기록 매체로부터 판독한다. 거리 K0은 상하 방향에 있어서의 거리이다. 거리 K0은 시간 변동하지 않으므로 미리 측정되어 기록 매체에 기록되어 있다.Next, the image processing apparatus 220 reads from the recording medium the actual distance K0 (see FIG. 1) between one reference line 152a and the inner bottom surface of the melting tank 110. The distance K0 is a distance in the vertical direction. Since the distance K0 does not fluctuate in time, it is measured in advance and recorded in the recording medium.

마지막으로, 화상 처리 장치(220)는 거리 K0 및 간격 K2에 기초하여 액면 레벨(L)을 산출한다(L=K0-K2). 또한, 본 실시 형태의 액면 레벨(L)의 기준면은 용융조(110)의 내저면이지만, 용융조(110)의 상면이어도 되며, 이 경우, L=K2이므로, K0의 데이터는 불필요하다.Finally, the image processing apparatus 220 calculates the liquid level L based on the distance K0 and the distance K2 (L = K0-K2). In addition, although the reference surface of the liquid level L of this embodiment is an inner bottom face of the melting tank 110, the upper surface of the melting tank 110 may be sufficient. In this case, since L = K2, the data of K0 is unnecessary.

이와 같이 하여, 화상 처리 장치(220)는 촬상 화상(270P)를 화상 처리함으로써, 복수의 기준선(151a, 152a)과, 좌측 측벽부(111)와, 액면(103)의 촬상 화상(270P)에 있어서의 위치 관계(간격 J1, J2)를 검출한다. 또한, 화상 처리 장치(220)는 검출한 위치 관계 및 복수의 기준선(151a, 152a)의 실제의 위치 관계(거리 K1)에 기초하여, 용융 유리(102)의 액면 레벨(L)을 검출한다.In this way, the image processing apparatus 220 performs image processing on the picked-up image 270P, so that the image processing apparatus 220 applies the picked-up images 270P of the plurality of reference lines 151a and 152a, the left side wall portion 111, and the liquid surface 103. The positional relationship (intervals J1, J2) is detected. In addition, the image processing apparatus 220 detects the liquid level L of the molten glass 102 based on the detected positional relationship and the actual positional relationship (distance K1) of the plurality of reference lines 151a and 152a.

본 실시 형태에서는, 유리 용융로(100)의 내벽면(150)에 형성되는 복수의 기준선(151a, 152a)을 사용하여 액면 레벨(L)을 검출하므로, 복수의 기준선(151a, 152a)의 실제의 위치 관계를 참조하여, 액면 레벨(L)을 고정밀도로 검출할 수 있다.In the present embodiment, since the liquid level L is detected using a plurality of reference lines 151a and 152a formed on the inner wall surface 150 of the glass melting furnace 100, the actual reference lines of the plurality of reference lines 151a and 152a are used. With reference to the positional relationship, the liquid level L can be detected with high accuracy.

또한, 본 실시 형태에서는, 하나의 기준선(152a)이 액면(103)과 평행한 직선이므로, 촬상 화상(270P)에 있어서, 하나의 기준선 화상(152aP)과 교선 화상(104P)이 평행해진다. 따라서, 하나의 기준선(152a)과 교선(104)의 위치 관계가 하나의 파라미터(간격 J2)로 결정되므로, 위치 관계의 특정이 용이하다.In addition, in this embodiment, since one reference line 152a is a straight line parallel to the liquid surface 103, one reference line image 152aP and the intersection image 104P become parallel in the picked-up image 270P. Therefore, since the positional relationship between one reference line 152a and the intersection 104 is determined by one parameter (interval J2), the positional relationship can be easily specified.

[제1 실시 형태의 변형예][Modification of First Embodiment]

본 변형예는, 용융조(110)의 측벽부(111)가 용융 유리(102)에 의해 침식되었을 때의 화상 처리에 관한 것이다.This modification is related with the image processing when the side wall part 111 of the molten bath 110 was eroded by the molten glass 102. FIG.

도 8은 용융 유리에 의해 침식된 상태의 용융조의 일례를 도시하는 단면도이다. 도 9는 카메라에 의해 촬상되는 화상의 다른 예를 도시하는 모식도이다. 도 10은 도 9의 화상의 종방향에 있어서의 휘도의 변화를 도시하는 모식도이다. 도 10에 있어서, 횡축은 도 9의 화상의 상부 테두리로부터의 거리, 종축은 휘도이다.It is sectional drawing which shows an example of the melting tank in the state eroded by the molten glass. 9 is a schematic diagram illustrating another example of an image captured by a camera. FIG. 10 is a schematic diagram showing a change in luminance in the longitudinal direction of the image of FIG. 9. In FIG. 10, the horizontal axis represents the distance from the upper edge of the image of FIG. 9, and the vertical axis represents the luminance.

도 8에 도시한 바와 같이, 좌측 측벽부(111)의 내측 측면(111a)에는, 용융 유리(102)에 의한 침식의 영향으로 오목부(116)가 형성되어 있다. 오목부(116)의 내부까지 액면(103)이 있고, 오목부(116)의 내벽면은, 액면(103)의 상방에, 광원인 플레임(F)으로부터의 광이 닿지 않는 음부(117)를 갖는다. 음부(117)가 액면(103)에 비침으로써, 액면(103)에는 어두운 암부(118)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 8, the recessed part 116 is formed in the inner side surface 111a of the left side wall part 111 by the influence of the erosion by the molten glass 102. As shown in FIG. There is a liquid surface 103 to the inside of the concave portion 116, and the inner wall surface of the concave portion 116 has a negative portion 117 to which light from the flame F, which is a light source, does not reach above the liquid surface 103. Have The dark part 118 is formed in the liquid level 103 by the negative part 117 shining on the liquid level 103.

도 9에 도시한 바와 같이, 촬상 화상(270AP)은 좌측 상부 측벽부(121)의 화상(121P)과, 턱 스톤(140)의 화상(140P)과, 좌측 측벽부(111)의 화상(111P)과, 액면(103)의 화상(103P)을 포함한다. 또한, 촬상 화상은 복수의 기준선(151a, 152a)의 화상(151aP, 152aP)과, 음부(117)의 화상(117P)과, 암부(118)의 화상(118P)을 포함한다. 음부 화상(117P)과 암부 화상(118P)은, 연속적으로 연결되어, 휘도가 낮은 띠 형상 화상(262P)을 구성하고 있다.As shown in FIG. 9, the picked-up image 270AP includes the image 121P of the upper left side wall portion 121, the image 140P of the tuck stone 140, and the image 111P of the left side wall portion 111. ) And the image 103P of the liquid surface 103. The captured image includes images 151aP and 152aP of the plurality of reference lines 151a and 152a, an image 117P of the sound portion 117, and an image 118P of the dark portion 118. The negative image 117P and the dark image 118P are continuously connected to constitute a strip-shaped image 262P having low luminance.

띠 형상 화상(262P)의 양측 테두리 사이에, 좌측 측벽부(111)의 내측 측면(111a)의 평면 부분의 연장면과, 액면(103)의 교선(104A)의 화상(104AP)이 가려져 있다. 또한, 실제의 교선(104A)은 가상선이다.Between the both edges of the strip | belt-shaped image 262P, the extended surface of the planar part of the inner side surface 111a of the left side wall part 111, and the image 104AP of the intersection 104A of the liquid surface 103 are hidden. In addition, the actual intersection 104A is an imaginary line.

띠 형상 화상(262P)의 한쪽 측 테두리는 음부(117) 상단부 테두리(117a)의 화상(117aP)이다. 띠 형상 화상(262P)의 다른 쪽 측 테두리는 암부(118)의 선단부 테두리(118a)의 화상(118aP)이다.One side edge of the strip | belt-shaped image 262P is the image 117aP of the rim | tip 117 upper end edge 117a. The other side edge of the strip | belt-shaped image 262P is the image 118aP of the front-end | tip edge 118a of the arm part 118. As shown in FIG.

기준선 화상(151aP, 152aP), 띠 형상 화상(262P)의 양측 테두리 및 교선 화상(104AP)은 서로 평행한 직선이다.The base line images 151aP and 152aP, the both edges of the strip-shaped image 262P, and the intersection image 104AP are straight lines parallel to each other.

도 10에 도시한 바와 같이, 촬상 화상(270AP) 중의 화소의 휘도(명도)는 기준선 화상(151aP, 152aP)의 위치 x1, x2 외에, 띠 형상 화상(262P)의 양측 테두리의 위치 x5, x6에서 급변한다.As shown in Fig. 10, the luminance (brightness) of the pixels in the picked-up image 270AP is different from the positions x1 and x2 of the baseline images 151aP and 152aP, and at positions x5 and x6 of both edges of the strip-shaped image 262P. Change suddenly.

우선, 화상 처리 장치(220)는 소정 방향(예를 들어, 띠 형상 화상(262P)과 직교하는 방향)으로 배열되는 복수의 화소를 포함하여 이루어지는 화소열에 대하여 휘도의 변화를 검출하고, 휘도가 급변하는 장소를 기준선 화상(151aP, 152aP)의 위치 x1, x2, 띠 형상 화상(262P)의 양측 테두리의 위치 x5, x6으로서 특정한다.First, the image processing apparatus 220 detects a change in luminance with respect to a pixel string including a plurality of pixels arranged in a predetermined direction (for example, a direction orthogonal to the band-shaped image 262P), and the luminance suddenly changes. The place to be specified is identified as positions x1 and x2 of the reference line images 151aP and 152aP and positions x5 and x6 of both edges of the band-shaped image 262P.

이어서, 화상 처리 장치(220)는 특정된 띠 형상 화상(262P)의 양측 테두리의 위치 x5, x6의 중심 위치를 교선 화상(104AP)의 위치로서 근사적으로 특정한다. 교선 화상(104P)의 위치의 특정에, 카메라(210)의 배치 정보(예를 들어, 도 1에 도시하는 이루는 각 θ, 거리 H 및 거리 V)를 사용해도 된다.Subsequently, the image processing apparatus 220 approximately specifies the center positions of the positions x5 and x6 of both edges of the specified band-shaped image 262P as the positions of the cross-sectional images 104AP. You may use arrangement information (for example, angle | corner (theta), distance H, and distance V which are shown in FIG. 1) of the camera 210 in specification of the position of the intersection image 104P.

그 후, 화상 처리 장치(220)는 제1 실시 형태와 마찬가지로 하여, 액면 레벨(L)을 검출한다. 따라서, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 액면 레벨(L)을 고정밀도로 검출할 수 있다.Thereafter, the image processing apparatus 220 detects the liquid level L in the same manner as in the first embodiment. Therefore, similarly to the first embodiment, the liquid level L can be detected with high accuracy.

[제2 실시 형태]Second Embodiment

본 실시 형태는, 액면 레벨 검출 장치를 구비하는 유리 제조 장치 및 액면 레벨 검출 방법을 사용한 유리 제조 방법에 관한 것이다.This embodiment relates to the glass manufacturing method provided with the glass manufacturing apparatus provided with the liquid level detection apparatus, and the liquid level detection method.

도 11은 본 발명의 제2 실시 형태에 의한 유리 제조 장치의 구성을 도시하는 단면도이다.It is sectional drawing which shows the structure of the glass manufacturing apparatus by 2nd Embodiment of this invention.

유리 제조 장치(1000)는 유리 용융로(100), 액면 레벨 검출 장치(200) 외에, 유리 용융로(100) 내에 유리 원료(G)를 투입하는 투입 장치(300)와, 유리 용융로(100)로부터 공급되는 용융 유리(102)를 소정의 형상으로 성형하는 성형 장치(400)를 구비한다.In addition to the glass melting furnace 100 and the liquid level detection device 200, the glass manufacturing apparatus 1000 supplies from the input apparatus 300 which injects the glass raw material G into the glass melting furnace 100, and the glass melting furnace 100 from it. The shaping | molding apparatus 400 which shape | molds the molten glass 102 to become a predetermined shape is provided.

투입 장치(300)는 예를 들어 호퍼(310) 내로부터 투하된 유리 원료(G)를 유리 용융로(100) 내에 투입하는 블랭킷 피더(320)와, 블랭킷 피더(320)를 구동하는 모터 등의 구동원(330)을 구비한다.The feeding device 300 is, for example, a driving source such as a blanket feeder 320 for feeding the glass raw material G dropped from the hopper 310 into the glass melting furnace 100, and a motor for driving the blanket feeder 320. 330.

또한, 투입 장치(300)는 예를 들어 스크류 피더를 구비하는 것이어도 되며, 피더의 방식은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 투입 방식은, 배치(batch)식이어도 되고, 연속식이어도 된다.In addition, the input device 300 may be provided with a screw feeder, for example, and the system of a feeder is not specifically limited. In addition, a batch system may be sufficient as a batch type | mold or a continuous type | mold may be sufficient as it.

액면 레벨 검출 장치(200)는 검출한 액면 레벨(L)에 기초하여, 투입 장치(300)에 의한 유리 원료(G)의 투입량을 제어한다. 유리 원료(G)의 투입량의 제어는, 도 11에 도시한 바와 같이 화상 처리 장치(220)가 행해도 되고, 전용 컴퓨터가 행해도 된다. 유리 원료(G)의 투입량의 제어는 구동원(330)을 제어함으로써 행해진다.The liquid level detection device 200 controls the input amount of the glass raw material G by the injecting device 300 based on the detected liquid level L. FIG. As illustrated in FIG. 11, the image processing apparatus 220 may be performed or a dedicated computer may be used to control the input amount of the glass raw material G. The control of the input amount of the glass raw material G is performed by controlling the drive source 330.

본 실시 형태에 의하면, 액면 레벨(L)의 검출 정밀도가 높으므로, 검출한 액면 레벨(L)에 기초하여 유리 원료(G)의 투입량을 제어함으로써, 액면 레벨(L)의 변동이 억제된다. 따라서, 용융조(110)의 침식을 늦출 수 있다.According to this embodiment, since the detection precision of the liquid level L is high, the fluctuation | variation of the liquid level L is suppressed by controlling the injection amount of the glass raw material G based on the detected liquid level L. FIG. Therefore, the erosion of the melting tank 110 can be slowed down.

성형 장치(400)는 예를 들어 플로트 성형 장치이며, 용융 금속(예를 들어, 용융 주석)(402)을 수용하는 플로트 배스(410)를 구비한다. 성형 장치(400)는 유리 용융로(100)로부터 공급되는 용융 유리(102)를 용융 금속(402) 상에서 소정 방향으로 유동시킴으로써 대판(帶坂) 형상으로 성형하여, 유리 리본을 제작한다.The molding apparatus 400 is, for example, a float molding apparatus and includes a float bath 410 for receiving molten metal (eg, molten tin) 402. The shaping | molding apparatus 400 shape | molds to the large plate shape by flowing the molten glass 102 supplied from the glass melting furnace 100 on a molten metal 402 in a predetermined direction, and manufactures a glass ribbon.

그런데, 유리 용융로(100)로부터 성형 장치(400)에 공급되는 용융 유리(102)의 유량은, 유리 용융로(100)에 있어서의 용융 유리(102)의 액면(103)과, 플로트 배스(410)에 있어서의 용융 금속(402)의 액면의 고저차로 주로 결정된다.By the way, the flow volume of the molten glass 102 supplied from the glass melting furnace 100 to the shaping | molding apparatus 400 is the liquid surface 103 of the molten glass 102 in the glass melting furnace 100, and the float bath 410. It is mainly determined by the height difference of the liquid level of the molten metal 402 in the process.

본 실시 형태에 따르면, 유리 용융로(100)에 있어서의 액면 레벨(L)의 변동이 저감되므로, 성형 장치(400) 내에 유입되는 용융 유리(102)의 유량의 변동이 억제된다. 따라서, 유리 리본의 두께가 안정화되므로, 두께가 균일한 제품이 얻어진다.According to this embodiment, since the fluctuation | variation of the liquid level L in the glass melting furnace 100 is reduced, the fluctuation | variation of the flow volume of the molten glass 102 which flows into the shaping | molding apparatus 400 is suppressed. Therefore, since the thickness of a glass ribbon is stabilized, the product with a uniform thickness is obtained.

또한, 성형 장치(400)는 예를 들어 퓨전 성형 장치이어도 되며, 특별히 한정되지 않는다.In addition, the shaping | molding apparatus 400 may be a fusion shaping | molding apparatus, for example, and is not specifically limited.

또한, 성형 장치(400)와 유리 용융로(100) 사이에, 유리 용융로(100)에서 제작된 용융 유리(102) 중의 기포를 탈포하는 탈포 장치(도시하지 않음)가 설치되어도 된다. 탈포 장치로서는, 예를 들어 감압 탈포 장치 등이 있다.Moreover, the defoaming apparatus (not shown) which defoases the bubble in the molten glass 102 produced by the glass melting furnace 100 may be provided between the shaping | molding apparatus 400 and the glass melting furnace 100. As a defoaming apparatus, there exists a vacuum degassing apparatus etc., for example.

성형 장치(400)에서 대판 형상으로 성형된 유리 리본은, 플로트 배스(410) 내를 소정 방향으로 유동되면서 냉각된다. 플로트 배스(410)의 출구 부근에 설치되는 리프트 아웃 롤(500)에 의해, 유리 리본은 용융 금속(402)으로부터 들어올려져, 서냉 장치(600)로 반송된다.The glass ribbon molded in the shape of a large plate in the molding apparatus 400 is cooled while flowing in the float bath 410 in a predetermined direction. By the lift out roll 500 provided near the exit of the float bath 410, a glass ribbon is lifted from the molten metal 402, and is conveyed to the slow cooling apparatus 600. As shown in FIG.

서냉 장치(600)는 성형 장치(400)에서 성형된 유리를 서냉한다. 서냉 장치(600)는 예를 들어 단열 구조의 터널로(610)와, 터널로(610) 내에 있어서 유리를 반송하는 반송 롤러(620)를 구비한다. 반송 롤러(620)는 반송 방향으로 간격을 두고 복수 배열된다. 반송 롤러(620)가 모터 등으로 회전 구동되면, 반송 롤러(620) 상을 유리가 수평으로 반송된다. 서냉 장치(600)로부터 반출된 유리는 절단기로 소정의 치수 형상으로 절단되어 제품으로 된다.The slow cooling apparatus 600 slow-cools the glass shape | molded by the shaping | molding apparatus 400. FIG. The slow cooling apparatus 600 is equipped with the tunnel path 610 of a heat insulation structure, and the conveyance roller 620 which conveys glass in the tunnel path 610, for example. The conveying rollers 620 are arranged in plural at intervals in the conveying direction. When the conveyance roller 620 is rotationally driven by a motor etc., glass is conveyed horizontally on the conveyance roller 620. The glass carried out from the slow cooling apparatus 600 is cut | disconnected to predetermined dimension shape with a cutter, and it turns into a product.

유리 제조 장치(1000)로 제조되는 유리는, 특별히 한정되지 않지만, 액정 디스플레이(LCD)나 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)용 유리 기판이나 커버 유리이어도 좋다.Although the glass manufactured by the glass manufacturing apparatus 1000 is not specifically limited, Glass substrates for flat panel displays (FPD), such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an organic electroluminescent display, and cover glass may be sufficient.

최근 들어, FPD의 박형화가 진행되고 있어, FPD용 판유리의 박판화가 진행되고 있으며, FPD용 판유리의 두께로서, 3㎜ 이하의 두께가 요구되고 있고, 2㎜ 이하의 두께가 요구되는 경우도 있다. LCD용이나 유기 EL용 판유리의 두께는 1.3㎜ 이하, 바람직하게는 1.0㎜ 이하, 보다 바람직하게는 0.7㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.5㎜ 이하, 특히 바람직하게는 0.3㎜ 이하, 더욱 특히 바람직하게는 0.1㎜ 이하이다.In recent years, thinning of FPD is progressing, thinning of plate glass for FPD is progressing, thickness of 3 mm or less is requested | required as thickness of the plate glass for FPD, and thickness of 2 mm or less may be required. The thickness of the plate glass for LCD or organic EL is 1.3 mm or less, preferably 1.0 mm or less, more preferably 0.7 mm or less, still more preferably 0.5 mm or less, particularly preferably 0.3 mm or less, even more particularly preferably 0.1 mm or less.

본 실시 형태에 따르면, 유리 리본의 두께가 안정화되므로, 상기 범위의 두께의 FPD용 판유리를 고정밀도로 제조할 수 있다.According to this embodiment, since the thickness of a glass ribbon is stabilized, the plate glass for FPD of the thickness of the said range can be manufactured with high precision.

유리 제조 장치(100)에서 제조되는 유리의 종류는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 무알칼리 유리이어도 된다. 무알칼리 유리는, 알칼리 금속 산화물(Na2O, K2O, Li2O)을 실질적으로 함유하지 않는(즉, 불가피적 불순물을 제외하고, 알칼리 금속 산화물을 함유하지 않는) 유리이다. 무알칼리 유리 중의 알칼리 금속 산화물의 함유량의 합량(Na2O+K2O+Li2O)은 예를 들어 0.1% 이하이어도 된다. 유리의 화학 조성은 형광 X선 분석 장치에 의해 측정된다.Although the kind of glass manufactured by the glass manufacturing apparatus 100 is not specifically limited, For example, alkali free glass may be sufficient. The alkali-free glass is an alkali metal oxide (Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) that is substantially free of (that is, with the exception of inevitable impurities, which do not contain an alkali metal oxide) glass. The alkali-free total amount of the content of alkali metal oxides (Na 2 O + K 2 O + Li 2 O) in the glass, for example, may be 0.1% or less. The chemical composition of the glass is measured by a fluorescence X-ray analyzer.

무알칼리 유리는, 예를 들어 산화물 기준의 질량 백분율 표시로, SiO2: 50 내지 73%, 바람직하게는 50 내지 66%, Al2O3: 10.5 내지 24%, B2O3: 0 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 14.5%, SrO: 0 내지 24%, BaO: 0 내지 13.5%, ZrO2: 0 내지 5%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 내지 29.5%, 바람직하게는 9 내지 29.5%이다.The alkali free glass is, for example, in terms of mass percentage on an oxide basis, SiO 2 : 50 to 73%, preferably 50 to 66%, Al 2 O 3 : 10.5 to 24%, B 2 O 3 : 0 to 12 %, MgO: 0 to 8%, CaO: 0 to 14.5%, SrO: 0 to 24%, BaO: 0 to 13.5%, ZrO 2 : 0 to 5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 8 To 29.5%, preferably 9 to 29.5%.

무알칼리 유리는, 왜곡점이 높으며 용해성을 고려할 경우에는, 바람직하게는 산화물 기준의 질량 백분율 표시로, SiO2: 58 내지 66%, Al2O3: 15 내지 22%, B2O3: 5 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 9%, SrO: 3 내지 12.5%, BaO: 0 내지 2%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 9 내지 18%이다.The alkali free glass has a high distortion point and, in consideration of solubility, is preferably expressed in terms of mass percentage based on oxide, and has SiO 2 : 58 to 66%, Al 2 O 3 : 15 to 22%, and B 2 O 3 : 5 to 12%, MgO: 0 to 8%, CaO: 0 to 9%, SrO: 3 to 12.5%, BaO: 0 to 2%, and MgO + CaO + SrO + BaO: 9 to 18%.

무알칼리 유리는, 특히 용해성을 고려할 경우에는, 바람직하게는 산화물 기준의 질량 백분율 표시로, SiO2: 50 내지 61.5%, Al2O3: 10.5 내지 18%, B2O3: 7 내지 10%, MgO: 2 내지 5%, CaO: 0 내지 14.5%, SrO: 0 내지 24%, BaO: 0 내지 13.5%, MgO+CaO+SrO+BaO: 16 내지 29.5%이다.Alkali-free glass, in particular, in consideration of solubility, is preferably expressed in terms of mass percentage based on oxide, and SiO 2 : 50 to 61.5%, Al 2 O 3 : 10.5 to 18%, B 2 O 3 : 7 to 10% , MgO: 2 to 5%, CaO: 0 to 14.5%, SrO: 0 to 24%, BaO: 0 to 13.5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 16 to 29.5%.

무알칼리 유리는, 특히 고왜곡점을 고려할 경우에는, 바람직하게는 산화물 기준의 질량 백분율 표시로, SiO2: 56 내지 70%, Al2O3: 14.5 내지 22.5%, B2O3: 0 내지 2%, MgO: 0 내지 6.5%, CaO: 0 내지 9%, SrO: 0 내지 15.5%, BaO: 0 내지 2.5%, MgO+CaO+SrO+BaO: 10 내지 26%이다.Alkali-free glass, especially when considering the high strain point, preferably in terms of mass percentage display on the basis of oxide, SiO 2 : 56 to 70%, Al 2 O 3 : 14.5 to 22.5%, B 2 O 3 : 0 to 2%, MgO: 0 to 6.5%, CaO: 0 to 9%, SrO: 0 to 15.5%, BaO: 0 to 2.5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 10 to 26%.

무알칼리 유리는, 특히 고왜곡점이며 용해성도 고려할 경우에는, 바람직하게는 산화물 기준의 질량 백분율 표시로, SiO2: 54 내지 73%, Al2O3: 10.5 내지 22.5%, B2O3: 1.5 내지 5.5%, MgO: 0 내지 6.5%, CaO: 0 내지 9%, SrO: 0 내지 16%, BaO: 0 내지 2.5%, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 내지 25%이다.The alkali-free glass, especially if high distortion point and solubility to consider include, as preferably the mass percentage display of the oxide basis, SiO 2: 54 to 73%, Al 2 O 3: 10.5 to 22.5%, B 2 O 3: 1.5 to 5.5%, MgO: 0 to 6.5%, CaO: 0 to 9%, SrO: 0 to 16%, BaO: 0 to 2.5%, MgO + CaO + SrO + BaO: 8 to 25%.

이상, 액면 레벨 검출 장치 및 액면 레벨 검출 방법을 실시 형태 등으로 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태 등에 한정되지 않으며, 특허청구범위에 기재된 본 발명의 요지의 범위 내에 있어서, 다양한 변형, 개량이 가능하다.As mentioned above, although the liquid level detection apparatus and the liquid level detection method were demonstrated in embodiment etc., this invention is not limited to the said embodiment etc., Various deformation | transformation and improvement are possible in the range of the summary of this invention described in the claim. Do.

본 출원은, 2011년 8월 9일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허 출원 제2011-174210호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이며, 일본 특허 출원 제2011-174210호의 전체 내용을 본 국제 출원에 원용한다.This application claims the priority based on Japanese Patent Application No. 2011-174210 for which it applied to Japan Patent Office on August 9, 2011, and uses the whole content of Japanese Patent Application No. 2011-174210 for this international application. .

100: 유리 용융로
102: 용융 유리
103: 액면
104: 교선
106: 버블
110: 용융조
111: 좌측 측벽부
122: 우측 상부 측벽부
150: 유리 용융로의 내벽면
151: 단차면
151a: 내측 단부 테두리(기준선)
152: 단차면
152a: 내측 단부 테두리(기준선)
170: 버블러
180: 감시창
200: 액면 레벨 검출 장치
210: 카메라
220: 화상 처리 장치
240: 하우징
241 내지 244: 가스 공급구
250: 투명판
260: 시일 부재
270P: 화상
300: 투입 장치
400: 성형 장치
1000: 유리 제조 장치
100: glass melting furnace
102: molten glass
103: face value
104: intersection
106: bubble
110: melting tank
111: left side wall portion
122: right upper sidewall portion
150: inner wall surface of the glass melting furnace
151: step surface
151a: medial end border (baseline)
152: step surface
152a: inner edge (baseline)
170: bubbler
180: watch window
200: liquid level detection device
210: camera
220: image processing device
240: housing
241 to 244: gas supply port
250: transparent plate
260: seal member
270P: Burn
300: input device
400: forming apparatus
1000: glass manufacturing apparatus

Claims (17)

유리 용융로의 용융조 내에 수용되는 용융 유리의 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 장치이며,
상기 유리 용융로의 내벽면에 형성되는 복수의 기준선, 상기 용융조의 측벽부 및 상기 용융 유리의 액면의 각각의 적어도 일부를 촬상하는 카메라와,
상기 카메라로 촬상된 화상을 화상 처리함으로써, 상기 복수의 기준선과, 상기 용융조의 측벽부와, 상기 용융 유리의 액면의 상기 화상에 있어서의 위치 관계를 검출하고, 검출된 상기 위치 관계 및 상기 복수의 기준선의 실제의 위치 관계에 기초하여 상기 액면 레벨을 검출하는 화상 처리 장치를 구비하고,
상기 카메라는, 상기 유리 용융로의 외부에 설치되고 상기 유리 용융로의 노벽에 관통 형성되는 감시창(spyhole)을 통하여 상기 유리 용융로의 내부를 촬상하며,
상기 액면 레벨 검출 장치는,
상기 유리 용융로의 외면에 상기 감시창을 둘러싸도록 설치되는 통 형상의 하우징과,
상기 하우징의 상기 카메라측의 개구부를 막는 투명판을 구비하고,
상기 하우징에는, 상기 하우징 내에 가스를 공급하는 가스 공급구가 형성되는 액면 레벨 검출 장치.
It is a liquid level detection device which detects the liquid level of the molten glass accommodated in the melting tank of a glass melting furnace,
A camera for imaging at least a portion of each of a plurality of reference lines formed on an inner wall surface of the glass melting furnace, a side wall portion of the melting tank, and a liquid surface of the molten glass;
By image-processing the image image | photographed with the said camera, the positional relationship in the said several reference line, the side wall part of the said melting tank, and the said liquid surface of the said molten glass is detected, and the detected said positional relationship and the said some An image processing apparatus for detecting the liquid level based on an actual positional relationship of a reference line;
The camera captures the inside of the glass melting furnace through a spyhole installed outside the glass melting furnace and penetrating through the furnace wall of the glass melting furnace,
The liquid level detection device,
A cylindrical housing installed to surround the monitoring window on an outer surface of the glass melting furnace;
A transparent plate for blocking an opening at the camera side of the housing;
And a gas supply port for supplying gas into the housing is formed in the housing.
제1항에 있어서, 하나의 상기 기준선은 상기 액면과 평행한 직선인 액면 레벨 검출 장치.The liquid level detection device according to claim 1, wherein one reference line is a straight line parallel to the liquid level. 제2항에 있어서, 하나의 상기 기준선은, 상기 액면과 평행한 단차면의 단부 테두리 또는 상기 유리 용융로의 노벽을 구성하는 벽돌끼리의 사이의 줄눈선인 액면 레벨 검출 장치.The liquid level detection device according to claim 2, wherein the one reference line is an edge between the end edge of the step surface parallel to the liquid surface or a joint line between the bricks forming the furnace wall of the glass melting furnace. 삭제delete 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상면에서 보아, 상기 카메라에 의해 촬상되는 상기 측벽부의 내측 측면에 대하여 상기 카메라의 광축이 수직으로 배치되고,
상기 카메라의 광축과 수평면이 이루는 각이 0 내지 7°이며,
상기 카메라에 의해 촬상되는 상기 측벽부의 내측 측면과 상기 카메라 사이의 수평 방향에 있어서의 거리가 5m 이상인 액면 레벨 검출 장치.
The optical axis of the camera according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical axis of the camera is disposed perpendicularly to an inner side surface of the side wall portion picked up by the camera, as viewed from an upper surface,
The angle formed by the optical axis of the camera and the horizontal plane is 0 to 7 °,
A liquid level detection device having a distance in the horizontal direction between the inner side surface of the side wall portion picked up by the camera and the camera is 5 m or more.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 카메라에 의한 상기 액면의 촬상 영역은 실질적으로 기포가 없는 영역인 액면 레벨 검출 장치.The liquid level detection device according to any one of claims 1 to 3, wherein the imaging area of the liquid level by the camera is an area substantially free of bubbles. 제6항에 있어서, 상기 유리 용융로는 상기 용융 유리 중에 버블을 형성하는 버블러를 구비하고,
상기 카메라에 의한 상기 액면의 촬상 영역은, 상기 버블이 부상하는 영역의 주변 영역 내에 있는 액면 레벨 검출 장치.
The said glass melting furnace is provided with the bubbler which forms a bubble in the said molten glass,
And an imaging area of the liquid level by the camera is in a peripheral area of an area where the bubble floats.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 액면 레벨 검출 장치와, 상기 유리 용융로와, 상기 유리 용융로 내에 유리 원료를 투입하는 투입 장치와, 상기 유리 용융로로부터 공급되는 용융 유리를 소정의 형상으로 성형하는 성형 장치를 구비하는 유리 제조 장치에 있어서,
상기 액면 레벨 검출 장치는 검출한 상기 액면 레벨에 기초하여 상기 투입 장치에 의한 투입량을 제어하는 유리 제조 장치.
The liquid level detection device according to any one of claims 1 to 3, the glass melting furnace, an input device for introducing a glass raw material into the glass melting furnace, and a molten glass supplied from the glass melting furnace in a predetermined shape. In the glass manufacturing apparatus provided with the shaping | molding apparatus to shape | mold,
The liquid level detection device is a glass manufacturing apparatus for controlling the input amount by the input device based on the detected liquid level.
유리 용융로의 용융조 내에 수용되는 용융 유리의 액면 레벨을 검출하는 액면 레벨 검출 방법이며,
상기 유리 용융로의 내벽면에 형성되는 복수의 기준선, 상기 용융조의 측벽부 및 상기 용융 유리의 액면의 각각의 적어도 일부를 카메라로 촬상하고,
상기 카메라로 촬상된 화상을 화상 처리함으로써, 상기 복수의 기준선과, 상기 용융조의 측벽부와, 상기 용융 유리의 액면의 상기 화상에 있어서의 위치 관계를 검출하며,
검출된 상기 위치 관계 및 상기 복수의 기준선의 실제의 위치 관계에 기초하여 상기 액면 레벨을 검출하고,
상기 카메라는, 상기 유리 용융로의 외부에 설치되고 상기 유리 용융로의 노벽에 관통 형성되는 감시창을 통하여 상기 유리 용융로의 내부를 촬상하며,
상기 유리 용융로의 외면에 상기 감시창을 둘러싸도록 통 형상의 하우징이 설치되고, 상기 하우징의 상기 카메라측의 개구부가 투명판으로 막히며,
상기 하우징 내에 가스가 공급되는 액면 레벨 검출 방법.
It is a liquid level detection method which detects the liquid level of the molten glass accommodated in the melting tank of a glass melting furnace,
Imaging at least a part of each of a plurality of reference lines formed on an inner wall surface of the glass melting furnace, a side wall part of the melting tank, and a liquid surface of the molten glass with a camera,
By image-processing the image image | photographed with the said camera, the positional relationship in the said several reference line, the side wall part of the said molten bath, and the said liquid image of the said molten glass is detected,
Detect the liquid level based on the detected positional relationship and the actual positional relationship of the plurality of reference lines,
The camera captures the inside of the glass melting furnace through a monitoring window provided outside the glass melting furnace and penetrated through the furnace wall of the glass melting furnace,
A cylindrical housing is installed on the outer surface of the glass melting furnace to surround the monitoring window, and the opening at the camera side of the housing is blocked by a transparent plate.
And a liquid level detection method in which gas is supplied into the housing.
제9항에 있어서, 하나의 상기 기준선은 상기 액면과 평행한 직선인 액면 레벨 검출 방법.10. The liquid level detection method according to claim 9, wherein one reference line is a straight line parallel to the liquid level. 제10항에 있어서, 하나의 상기 기준선은, 상기 액면과 평행한 단차면의 단부 테두리 또는 상기 유리 용융로의 노벽을 구성하는 벽돌끼리의 사이의 줄눈선인 액면 레벨 검출 방법.The liquid level detection method according to claim 10, wherein one of the reference lines is an edge between the edges of the step surface parallel to the liquid surface or a joint line between the bricks forming the furnace wall of the glass melting furnace. 삭제delete 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상면에서 보아, 상기 카메라에 의해 촬상되는 상기 측벽부의 내측 측면에 대하여 상기 카메라의 광축이 수직으로 배치되고,
상기 카메라의 광축과 수평면이 이루는 각이 0 내지 7°이며,
상기 카메라에 의해 촬상되는 상기 측벽부의 내측 측면과 상기 카메라 사이의 수평 방향에 있어서의 거리가 5m 이상인 액면 레벨 검출 방법.
The optical axis of the camera according to any one of claims 9 to 11, wherein the optical axis of the camera is disposed perpendicularly to an inner side surface of the side wall portion picked up by the camera, as viewed from an upper surface,
The angle formed by the optical axis of the camera and the horizontal plane is 0 to 7 °,
And a distance in the horizontal direction between the inner side surface of the side wall portion picked up by the camera and the camera is 5 m or more.
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 카메라에 의한 상기 액면의 촬상 영역은 실질적으로 기포가 없는 영역인 액면 레벨 검출 방법.The liquid level detection method according to any one of claims 9 to 11, wherein the imaging area of the liquid level by the camera is an area substantially free of bubbles. 제14항에 있어서, 상기 유리 용융로는 상기 용융 유리 중에 버블을 형성하는 버블러를 구비하고,
상기 카메라에 의한 상기 액면의 촬상 영역은, 상기 버블이 부상하는 영역의 주변 영역 내에 있는 액면 레벨 검출 방법.
The said glass melting furnace is provided with the bubbler which forms a bubble in the said molten glass,
And an imaging area of the liquid level by the camera is in a peripheral area of an area where the bubble floats.
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 액면 레벨 검출 방법에 의해 검출되는 상기 용융 유리의 액면 레벨에 기초하여, 상기 유리 용융로에의 유리 원료의 투입량을 제어하는 공정과,
상기 유리 용융로로부터 공급된 용융 유리를 소정의 형상으로 성형하는 공정을 갖는 유리 제조 방법.
A process of controlling the input amount of the glass raw material into the glass melting furnace based on the liquid level of the molten glass detected by the liquid level detection method according to any one of claims 9 to 11;
The glass manufacturing method which has the process of shape | molding the molten glass supplied from the said glass melting furnace to a predetermined shape.
제16항에 있어서, 제조되는 유리는 무알칼리 유리이며, 상기 무알칼리 유리가 산화물 기준의 질량 백분율 표시로, SiO2: 50 내지 73%, Al2O3: 10.5 내지 24%, B2O3: 0 내지 12%, MgO: 0 내지 8%, CaO: 0 내지 14.5%, SrO: 0 내지 24%, BaO: 0 내지 13.5%, ZrO2: 0 내지 5%를 함유하고, MgO+CaO+SrO+BaO: 8 내지 29.5%인 유리 제조 방법.The glass to be produced is an alkali free glass, wherein the alkali free glass is expressed in terms of mass percentage based on oxide, and SiO 2 : 50 to 73%, Al 2 O 3 : 10.5 to 24%, B 2 O 3 : 0 to 12%, MgO: 0 to 8%, CaO: 0 to 14.5%, SrO: 0 to 24%, BaO: 0 to 13.5%, ZrO 2 : 0 to 5%, containing MgO + CaO + SrO + BaO: The glass manufacturing method is 8 to 29.5%.
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