KR102071985B1 - Intermediate Gas Vaporizers - Google Patents

Intermediate Gas Vaporizers Download PDF

Info

Publication number
KR102071985B1
KR102071985B1 KR1020187013562A KR20187013562A KR102071985B1 KR 102071985 B1 KR102071985 B1 KR 102071985B1 KR 1020187013562 A KR1020187013562 A KR 1020187013562A KR 20187013562 A KR20187013562 A KR 20187013562A KR 102071985 B1 KR102071985 B1 KR 102071985B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
heat source
low temperature
medium
temperature liquefied
Prior art date
Application number
KR1020187013562A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180069857A (en
Inventor
마사히데 이와사키
Original Assignee
가부시키가이샤 고베 세이코쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 filed Critical 가부시키가이샤 고베 세이코쇼
Publication of KR20180069857A publication Critical patent/KR20180069857A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102071985B1 publication Critical patent/KR102071985B1/en

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17CVESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C9/00Methods or apparatus for discharging liquefied or solidified gases from vessels not under pressure
    • F17C9/02Methods or apparatus for discharging liquefied or solidified gases from vessels not under pressure with change of state, e.g. vaporisation
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17DPIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D1/00Pipe-line systems
    • F17D1/02Pipe-line systems for gases or vapours
    • F17D1/04Pipe-line systems for gases or vapours for distribution of gas
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17CVESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0302Fittings, valves, filters, or components in connection with the gas storage device
    • F17C2205/0323Valves
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17CVESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/03Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/0302Heat exchange with the fluid by heating
    • F17C2227/0309Heat exchange with the fluid by heating using another fluid
    • F17C2227/0311Air heating
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17CVESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/03Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/0302Heat exchange with the fluid by heating
    • F17C2227/0309Heat exchange with the fluid by heating using another fluid
    • F17C2227/0316Water heating
    • F17C2227/0318Water heating using seawater

Abstract

중간 매체식 가스 기화기이며, 수용부(10)와, 중간 매체 증발부(E1)와, 저온 액화 가스 기화부(E2)와, 하우징(31)과, 가스 가열부(E3)와, 제1 열원 매체 공급 유로(41)와, 제2 열원 매체 공급 유로(42)와, 가스 유로(50)를 구비한다. 하우징(31)은, 동체부(32)와, 동체부(32)의 일방측의 단부에 설치된 제1 유입부(32a)와, 동체부(32)의 타방측의 단부에 설치된 제2 유입부(32b)와, 동체부(32) 중 일방측의 단부와 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치된 유출부(32c)를 갖는다. 가스 유로(50)는, 가스의 일부를 제1 유입부(32a)에 공급하는 제1 가스 유로(50a)와, 가스의 잔부를 제2 유입부(32b)에 공급하는 제2 가스 유로(50b)를 갖는다.It is an intermediate medium gas vaporizer, the accommodating part 10, the intermediate medium evaporation part E1, the low temperature liquefied gas vaporization part E2, the housing 31, the gas heating part E3, and a 1st heat source The medium supply flow path 41, the 2nd heat source medium supply flow path 42, and the gas flow path 50 are provided. The housing 31 has a trunk portion 32, a first inflow portion 32a provided at one end of the trunk portion 32, and a second inflow portion provided at the other end of the trunk portion 32. 32b and the outflow part 32c provided in the site | part between the edge part of one side and the other end of the trunk | drum 32. As shown in FIG. The gas flow path 50 includes a first gas flow path 50a for supplying a part of gas to the first inflow part 32a and a second gas flow path 50b for supplying the remainder of the gas to the second inflow part 32b. Has

Figure R1020187013562
Figure R1020187013562

Description

중간 매체식 가스 기화기Intermediate Gas Vaporizers

본 발명은 중간 매체식 가스 기화기에 관한 것이다.The present invention relates to an intermediate medium gas vaporizer.

종래, 액화 천연 가스(LNG) 등의 저온 액화 가스를 중간 매체(프로판 등)를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기(IFV)가 알려져 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에는, 중간 매체를 수용하는 셸과, 중간 매체 증발관과, 전열관과, NG 가온기와, NG 도관과, 열원 매체 공급관과, 열원 매체 도관을 구비하는 가스 기화기가 개시되어 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the intermediate medium gas vaporizer (IFV) which vaporizes low temperature liquefied gas, such as liquefied natural gas (LNG), using an intermediate medium (propane etc.) is known. For example, Patent Document 1 discloses a gas vaporizer including a shell containing an intermediate medium, an intermediate medium evaporation tube, a heat transfer tube, an NG warmer, an NG conduit, a heat source medium supply pipe, and a heat source medium conduit. have.

중간 매체 증발관은 셸 내의 하부에 배치되어 있다. 중간 매체 증발관 내에는 열원 매체가 공급된다. 중간 매체 증발관은, 당해 중간 매체 증발관 내를 흐르는 열원 매체와 액상의 중간 매체를 열교환시킴으로써 중간 매체를 증발시킨다.The intermediate medium evaporator tube is arranged at the bottom in the shell. The heat source medium is supplied into the intermediate medium evaporation tube. The intermediate medium evaporation tube evaporates the intermediate medium by heat-exchanging the heat source medium flowing in the intermediate medium evaporation tube with the liquid intermediate medium.

전열관은 셸 내의 상부에 배치되어 있다. 전열관 내에는 LNG가 공급된다. 전열관은, 당해 전열관 내를 흐르는 LNG와 기상의 중간 매체를 열교환시킴으로써 LNG를 기화시킨다.The heat pipes are arranged at the top in the shell. LNG is supplied in the heat exchanger tube. The heat transfer tube vaporizes LNG by heat-exchanging the LNG flowing through the heat transfer tube and an intermediate medium in the gas phase.

NG 가온기는, 복수의 열원관과, 이들 열원관을 수용하는 하우징을 갖고 있다. 각 열원관에는 열원 매체 공급관을 통하여 열원 매체가 공급되고, 하우징 내에는 NG 도관을 통하여 전열관으로부터 유출된 NG가 유도된다. 하우징은 셸로부터 분리되어 있다.The NG warmer has a plurality of heat source tubes and a housing that houses these heat source tubes. Each heat source tube is supplied with a heat source medium through a heat source medium supply pipe, and NG flowing out of the heat transfer pipe is guided through the NG conduit in the housing. The housing is separated from the shell.

열원 매체 도관은, NG 가온기의 열원관으로부터 유출된 열원 매체를 셸 내의 중간 매체 증발관 내로 유도한다. 즉, 열원 매체는, 열원관 및 중간 매체 증발관을 이 순서대로 직렬로 흐른다.The heat source medium conduit directs the heat source medium that flows out of the heat source tube of the NG warmer into the intermediate medium evaporation tube in the shell. That is, the heat source medium flows the heat source tube and the intermediate medium evaporation tube in series in this order.

특허문헌 1에 기재되는 중간 매체식 가스 기화기에서는, NG 가온기가 대형화된다. 구체적으로, 열원관에 있어서 NG를 가열하는 데 필요한 열량과, 중간 매체 증발관에 있어서 액상의 중간 매체를 증발시키는 데 필요한 열량은, 전자 쪽이 작기는 하지만, 상기 중간 매체식 가스 기화기에서는, 열원 매체가 열원관 및 중간 매체 증발관을 직렬로 흐르므로, 열원관에는 중간 매체 증발관에 대한 유량과 동일한 유량의 열원 매체가 공급된다. 이 때문에, 가온기의 열원관의 관 수가 많아지므로, 하우징(NG 가온기)이 대직경화된다.In the intermediate medium gas vaporizer described in Patent Document 1, the NG warmer is enlarged. Specifically, the amount of heat required to heat NG in the heat source tube and the amount of heat required to evaporate the liquid intermediate medium in the intermediate medium evaporation tube are small in the former, but in the medium medium gas vaporizer, the heat source Since the medium flows in series with the heat source tube and the intermediate medium evaporation tube, the heat source tube is supplied with the heat source medium at the same flow rate as that for the intermediate medium evaporation tube. For this reason, since the number of tubes of the heat source tube of a heater increases, the housing (NG heater) becomes large diameter.

일본 특허 공개 제2001-200995호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2001-200995

본 발명의 목적은, 하우징의 소직경화가 가능한 중간 매체식 가스 기화기를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an intermediate medium gas vaporizer which is capable of small diameter of the housing.

상기 과제를 해결하기 위해, 열원관(이하, 「가스 가열부」라고 함) 및 중간 매체 증발관(이하, 「중간 매체 증발부」라고 함)에 대하여 병렬로 열원 매체를 공급하는 것, 즉 중간 매체 증발부에 열원 매체를 공급하는 제1 열원 매체 공급 유로와, 가스 가열부에 열원 매체를 공급하는 제2 열원 매체 공급 유로를 형성하는 것이 고려된다. 이와 같이 하면, 중간 매체 증발부에 필요한 열원 매체의 유량과는 독립적으로 가스 가열부에 공급하는 열원 매체의 유량을 설정하는 것이 가능하게 된다. 이에 의해, 가스 가열부의 열원관의 개수의 저감이 가능하게 되므로, 가온기의 하우징의 소직경화가 가능하게 된다. 단, 하우징의 소직경화에 의해, 하우징 내를 흐르는 가스의 유속이 커지므로, 당해 가스의 에너지에 의해 가스 가열부가 진동할 우려가 있다.In order to solve the said subject, supplying a heat source medium in parallel with a heat source tube (henceforth a "gas heating part") and an intermediate | middle medium evaporation tube (henceforth a "medium medium evaporator"), ie, intermediate It is contemplated to form a first heat source medium supply flow path for supplying the heat source medium to the medium evaporation part and a second heat source medium supply flow path for supplying the heat source medium to the gas heating part. In this way, the flow rate of the heat source medium supplied to the gas heating part can be set independently of the flow rate of the heat source medium required for the intermediate medium evaporator. Thereby, since the number of heat source tubes of a gas heating part can be reduced, a small diameter of the housing of a heater can be attained. However, as the diameter of the housing decreases, the flow rate of the gas flowing in the housing increases, so that the gas heating part may vibrate due to the energy of the gas.

그래서, 예의 검토한 결과, 본 발명자들은, 상기 에너지는 하우징의 단면당의 가스 유량의 증감에 수반하여 증감하므로, 이 유량을 저감시키는 것, 즉 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 전량이 균일하게 하우징 내를 흐르는 것이 아니라 하우징 내에 있어서의 가스의 유로를 나눔으로써, 가스 가열부의 진동을 억제 가능하다는 것에 상도하였다.Therefore, as a result of earnest examination, the present inventors have increased and decreased the said energy with the increase and decrease of the gas flow volume per cross section of a housing, so that this flow volume is reduced, ie, the whole quantity of the gas which flowed out from the low temperature liquefied gas vaporization part is uniform. It was conceived that the vibration of the gas heating part can be suppressed by dividing the flow path of the gas in the housing rather than flowing in the housing.

본 발명은 이러한 관점에서 이루어진 것이다. 본 발명의 일 국면에 따르는 중간 매체식 가스 기화기는, 저온 액화 가스를 당해 저온 액화 가스의 비점보다 높은 비점을 갖는 중간 매체를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기이며, 상기 중간 매체를 수용하는 수용부와, 상기 수용부 내에 배치되어 있고, 열원 매체가 도입되는 중간 매체 증발부와, 상기 수용부 내에 배치되어 있고, 상기 저온 액화 가스가 도입되는 저온 액화 가스 기화부와, 상기 저온 액화 가스 기화부에서의 상기 저온 액화 가스의 기화에 의해 발생한 가스가 도입되는 하우징과, 상기 하우징 내에 배치되어 있고, 상기 열원 매체가 도입되는 가스 가열부와, 상기 중간 매체 증발부에 상기 열원 매체를 공급하는 제1 열원 매체 공급 유로와, 상기 가스 가열부에 상기 열원 매체를 공급하는 제2 열원 매체 공급 유로와, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스를 상기 하우징으로 유도하는 가스 유로를 구비하고, 상기 중간 매체 증발부는, 당해 중간 매체 증발부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 당해 중간 매체 증발부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 중간 매체의 적어도 일부를 증발시키고, 상기 저온 액화 가스 기화부는, 당해 저온 액화 가스 기화부 내를 흐르는 상기 저온 액화 가스와 당해 저온 액화 가스 기화부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 저온 액화 가스의 적어도 일부를 기화시키고, 상기 가스 가열부는, 당해 가스 가열부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 당해 가스 가열부 밖에 존재하는 상기 가스를 열교환시킴으로써 상기 가스를 가열하고, 상기 하우징은, 상기 가스 가열부를 수용하는 동체부와, 상기 동체부의 일방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 제1 유입부와, 상기 동체부의 타방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 제2 유입부와, 상기 동체부 중 상기 일방측의 단부와 상기 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 유출부를 갖고, 상기 가스 유로는, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 일부를 상기 제1 유입부에 공급하는 제1 가스 유로와, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 잔부를 상기 제2 유입부에 공급하는 제2 가스 유로를 갖는다.The present invention has been made in this respect. An intermediate gaseous gas vaporizer according to an aspect of the present invention is an intermediate gaseous gas vaporizer which vaporizes a low temperature liquefied gas using an intermediate medium having a boiling point higher than that of the low temperature liquefied gas. And an intermediate medium evaporation unit disposed in the accommodating unit, into which a heat source medium is introduced, a low temperature liquefied gas vaporization unit disposed in the accommodating unit, into which the low temperature liquefied gas is introduced, and the low temperature liquefied gas vaporization unit. A first gas supplying the heat source medium into the housing into which the gas generated by the vaporization of the low temperature liquefied gas is introduced, a gas heating part disposed in the housing, into which the heat source medium is introduced, and the intermediate medium evaporation part; A heat source medium supply flow path, a second heat source medium supply flow path for supplying the heat source medium to the gas heating unit, and the low temperature And a gas flow path for guiding the gas flowing out from the liquefied gas vaporization unit to the housing, wherein the intermediate medium evaporator includes the heat source medium flowing in the intermediate medium evaporator and the intermediate medium existing outside the intermediate medium evaporator. At least a portion of the intermediate medium is evaporated by heat exchange, and the low temperature liquefied gas vaporization unit heat exchanges the low temperature liquefied gas flowing in the low temperature liquefied gas vaporization unit with the intermediate medium existing outside the low temperature liquefied gas vaporization unit. At least a part of the liquefied gas is vaporized, and the gas heating unit heats the gas by heat-exchanging the heat source medium flowing in the gas heating unit and the gas existing outside the gas heating unit, and the housing heats the gas. Body part accommodating a part, and said body part A first inflow portion provided at the end of the one side and introducing the gas into the fuselage portion, a second inflow portion provided at the other end of the fuselage portion and introducing the gas into the fuselage portion; It is provided in the site | part between the said one end part and the said other end part among the said fuselage | body parts, and has an outflow part which makes the said gas flow out from the said fuselage part, and the said gas flow path flows out from the said low temperature liquefied gas vaporization part. And a first gas flow passage for supplying a part of the gas to the first inflow portion, and a second gas flow passage for supplying the remainder of the gas flowing out from the low temperature liquefied gas vaporization portion to the second inflow portion.

도 1은, 본 발명의 일 실시 형태의 중간 매체식 가스 기화기의 구성의 개략을 도시하는 도면이다.
도 2는, 도 1에 도시되는 중간 매체식 가스 기화기의 평면도이다.
도 3은, 도 1에 도시되는 중간 매체식 가스 기화기의 변형예를 도시하는 도면이다.
도 4는, 수용부와 하우징의 배치 관계의 변형예를 도시하는 도면이다.
도 5는, 가온기의 변형예를 도시하는 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the outline of the structure of the intermediate | middle media type gas vaporizer of one Embodiment of this invention.
FIG. 2 is a plan view of the intermediate medium gas vaporizer shown in FIG. 1.
FIG. 3 is a diagram showing a modification of the intermediate gas gas vaporizer shown in FIG. 1.
4 is a diagram showing a modification of the arrangement relationship between the accommodation portion and the housing.
5 is a diagram illustrating a modification of the warmer.

본 발명의 일 실시 형태의 중간 매체식 가스 기화기(1)에 대하여, 도 1 내지 도 2를 참조하면서 설명한다. 중간 매체식 가스 기화기(1)는, 저온 액화 가스를 당해 저온 액화 가스의 비점보다 높은 비점을 갖는 중간 매체를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기(IFV)이다. 본 실시 형태에서는, 저온 액화 가스로서 액화 천연 가스(LNG)가 사용되고, 중간 매체로서 프로판이 사용되고 있다. 단, 저온 액화 가스는 에틸렌, 액화 산소, 액화 질소 등이어도 된다. 또한, 중간 매체는 프로판에 한정되지 않는다. 이 중간 매체식 가스 기화기(1)에서는, 중간 매체의 가열은 열원 매체(해수나 대기 등)에 의해 행해진다.The intermediate medium gas vaporizer 1 of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The intermediate gas gas vaporizer 1 is an intermediate medium gas vaporizer (IFV) in which a low temperature liquefied gas is vaporized using an intermediate medium having a boiling point higher than that of the low temperature liquefied gas. In this embodiment, liquefied natural gas (LNG) is used as the low temperature liquefied gas, and propane is used as the intermediate medium. However, the low temperature liquefied gas may be ethylene, liquefied oxygen, liquefied nitrogen, or the like. In addition, the intermediate medium is not limited to propane. In this intermediate medium gas vaporizer 1, the heating of the intermediate medium is performed by a heat source medium (sea water, air, or the like).

도 1에 도시되는 바와 같이, 중간 매체식 가스 기화기(1)는, 중간 매체(2)와, 중간 매체(2)를 수용하는 수용부(10)와, 중간 매체 증발부(E1)와, 저온 액화 가스 기화부(E2)와, 가온기(30)와, 제1 열원 매체 공급 유로(41)와, 제2 열원 매체 공급 유로(42)와, 가스 유로(50)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 1, the intermediate gas vaporizer 1 includes an intermediate medium 2, an accommodating part 10 accommodating the intermediate medium 2, an intermediate medium evaporation part E1, and a low temperature. The liquefied gas vaporization part E2, the heater 30, the 1st heat source medium supply flow path 41, the 2nd heat source medium supply flow path 42, and the gas flow path 50 are provided.

수용부(10)는, 중간 매체(2), 중간 매체 증발부(E1) 및 저온 액화 가스 기화부(E2)를 통합하여 수용하는 단일의 케이싱에 의해 형성되어 있다. 수용부(10)는 원통형으로 형성되어 있다.The accommodating part 10 is formed of the single casing which integrates and accommodates the intermediate medium 2, the intermediate medium evaporation part E1, and the low temperature liquefied gas vaporization part E2. The receiving portion 10 is formed in a cylindrical shape.

중간 매체 증발부(E1)는 수용부(10) 내에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는, 중간 매체 증발부(E1)는 수용부(10) 내의 하부(액상의 중간 매체(2)에 잠기는 위치)에 배치되어 있다. 중간 매체 증발부(E1)는 복수의 전열관의 다발에 의해 구성되어 있다. 중간 매체 증발부(E1) 내에 열원 매체가 도입된다. 중간 매체 증발부(E1)는, 당해 중간 매체 증발부(E1) 내를 흐르는 열원 매체와 수용부(10) 내의 하부에 존재하는 액상의 중간 매체(2)를 열교환시킴으로써 중간 매체(2)의 적어도 일부를 증발시킨다.The intermediate medium evaporator E1 is arranged in the receiver 10. More specifically, the intermediate medium evaporator E1 is disposed in the lower part (the position that is immersed in the liquid intermediate medium 2) in the container 10. The intermediate medium evaporator E1 is constituted by a bundle of a plurality of heat transfer tubes. The heat source medium is introduced into the intermediate medium evaporator E1. The intermediate medium evaporator E1 exchanges at least the intermediate medium 2 by heat-exchanging the heat source medium flowing in the intermediate medium evaporator E1 and the liquid intermediate medium 2 present in the lower part of the accommodating part 10. Evaporate some.

저온 액화 가스 기화부(E2)는 수용부(10) 내에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는, 저온 액화 가스 기화부(E2)는 수용부(10) 내의 상부(기상의 중간 매체(2)가 존재하는 영역)에 배치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 저온 액화 가스 기화부(E2)는 U자형으로 형성된 전열관에 의해 구성되어 있다. 저온 액화 가스 기화부(E2) 내에 저온 액화 가스가 도입된다. 저온 액화 가스 기화부(E2)는, 당해 저온 액화 가스 기화부(E2) 내를 흐르는 저온 액화 가스와 수용부(10) 내의 기상의 중간 매체(2)를 열교환시킴으로써 당해 저온 액화 가스의 적어도 일부를 기화시킨다.The low temperature liquefied gas vaporization part E2 is disposed in the accommodation part 10. More specifically, the low temperature liquefied gas vaporization unit E2 is disposed in the upper portion (the region in which the intermediate medium 2 on the substrate exists) in the accommodation portion 10. In this embodiment, the low temperature liquefied gas vaporization part E2 is comprised by the heat exchanger tube formed in U shape. The low temperature liquefied gas is introduced into the low temperature liquefied gas vaporization unit E2. The low temperature liquefied gas vaporization unit E2 exchanges at least a portion of the low temperature liquefied gas by heat-exchanging the low temperature liquefied gas flowing in the low temperature liquefied gas vaporization unit E2 and the intermediate medium 2 in the gas phase in the accommodating unit 10. Vaporize.

수용부(10)의 일방측의 단부의 하부에는, 서로 구획판(20)으로 구획된 입구실(21) 및 출구실(22)이 접속되어 있다. 입구실(21) 및 출구실(22)은, 각각 중간 매체 증발부(E1) 내와 연통되어 있다. 수용부(10)의 타방측의 단부의 하부에는, 반환실(23)이 접속되어 있다. 반환실(23)은 중간 매체 증발부(E1) 내와 연통되어 있다. 즉, 중간 매체 증발부(E1)는, 소위 2패스 방식이다.The inlet chamber 21 and the outlet chamber 22 partitioned by the partition plate 20 are connected to the lower part of the edge part on the one side of the accommodating part 10. As shown in FIG. The inlet chamber 21 and the outlet chamber 22 communicate with the inside of the intermediate medium evaporator E1, respectively. The return chamber 23 is connected to the lower part of the edge part on the other side of the storage part 10. The return chamber 23 communicates with the inside of the intermediate medium evaporator E1. In other words, the intermediate medium evaporator E1 is a so-called two-pass system.

수용부(10)의 상부에는, 서로 구획판(24)으로 구획된 입구실(25) 및 출구실(26)이 접속되어 있다. 저온 액화 가스 기화부(E2)의 일단은, 저온 액화 가스 기화부(E2) 내와 입구실(25) 내가 연통되도록 입구실(25)에 접속되어 있다. 저온 액화 가스 기화부(E2)의 타단은, 저온 액화 가스 기화부(E2) 내와 출구실(26) 내가 연통되도록 출구실(26)에 접속되어 있다.The upper part of the accommodating part 10 is connected to the entrance chamber 25 and the exit chamber 26 which were divided by the partition plate 24 from each other. One end of the low temperature liquefied gas vaporization unit E2 is connected to the inlet chamber 25 so that the inside of the low temperature liquefied gas vaporization unit E2 and the inlet chamber 25 communicate with each other. The other end of the low temperature liquefied gas vaporizer E2 is connected to the outlet chamber 26 so that the inside of the low temperature liquefied gas vaporizer E2 and the outlet chamber 26 communicate with each other.

가온기(30)는, 저온 액화 가스의 기화에 의해 발생한 가스를 가열한다. 가온기(30)는, 열원 매체가 도입되는 가스 가열부(E3)와, 가스 가열부(E3)를 수용하는 하우징(31)을 갖고 있다.The warmer 30 heats the gas generated by vaporization of the low temperature liquefied gas. The warmer 30 has a gas heating unit E3 into which the heat source medium is introduced, and a housing 31 containing the gas heating unit E3.

가스 가열부(E3)는, 복수의 전열관의 다발에 의해 구성되어 있다. 가스 가열부(E3)는, 당해 가스 가열부(E3) 내를 흐르는 열원 매체와 하우징(31) 내에 공급된 가스를 열교환시킴으로써 가스를 가열한다.The gas heating part E3 is comprised by the bundle of several heat exchanger tube. The gas heating unit E3 heats the gas by heat-exchanging the heat source medium flowing in the gas heating unit E3 and the gas supplied into the housing 31.

하우징(31)은, 동체부(32)와, 제1 유입부(32a)와, 제2 유입부(32b)와, 유출부(32c)를 갖고 있다.The housing 31 has a body portion 32, a first inflow portion 32a, a second inflow portion 32b, and an outflow portion 32c.

동체부(32)는, 가스 가열부(E3)를 수용 가능한 원통형으로 형성되어 있다. 제1 유입부(32a)는, 동체부(32)의 일방측의 단부에 설치되어 있고, 가스를 동체부(32) 내로 유입시킨다. 제2 유입부(32b)는, 동체부(32)의 타방측의 단부에 설치되어 있고, 가스를 동체부(32) 내로 유입시킨다. 유출부(32c)는, 동체부(32) 중 일방측의 단부와 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치되어 있고, 가스를 동체부(32)로부터 유출시킨다.The body part 32 is formed in the cylindrical shape which can accommodate the gas heating part E3. The 1st inflow part 32a is provided in the edge part of the one side of the fuselage | body part 32, and inflows gas into the fuselage | body part 32. As shown in FIG. The 2nd inflow part 32b is provided in the edge part of the other side of the fuselage | body part 32, and flows gas into the fuselage | body part 32. As shown in FIG. The outflow part 32c is provided in the site | part between the edge part of one side and the other end of the trunk | drum 32, and outflows gas from the trunk | drum 32. As shown in FIG.

동체부(32)의 일방측의 단부에는, 서로 구획판(35)으로 구획된 입구실(36) 및 출구실(37)이 접속되어 있다. 입구실(36) 및 출구실(37)은, 각각 가스 가열부(E3) 내와 연통되어 있다. 동체부(32)의 타방측의 단부에는, 반환실(38)이 접속되어 있다. 반환실(38)은 가스 가열부(E3) 내와 연통되어 있다. 즉, 가스 가열부(E3)는, 소위 2패스 방식이다.The inlet chamber 36 and the outlet chamber 37 partitioned by the partition plate 35 are connected to the edge part of one side of the trunk | drum 32. As shown to FIG. The inlet chamber 36 and the outlet chamber 37 communicate with the inside of the gas heating unit E3, respectively. The return chamber 38 is connected to the other end of the body part 32. The return chamber 38 communicates with the inside of the gas heating section E3. That is, the gas heating unit E3 is a so-called two-pass system.

도 2에 도시되는 바와 같이, 가온기(30)는 수용부(10)의 상부에 적재된다. 본 실시 형태에서는, 동체부(32)의 길이 L3의 동체부(32)의 직경 D3에 대한 비율 L3/D3은, 5 이상 10 이하로 설정되어 있다. 동체부(32)의 직경 D3의 수용부(10)의 직경 D1에 대한 비율 D3/D1은, 0.5 이하로 설정되어 있다. 수용부(10)의 길이 L1의 동체부(32)의 길이 L3에 대한 비율 L1/L3은, 0.8 이상 1.3 이하로 설정되어 있다.As shown in FIG. 2, the warmer 30 is mounted on the upper portion of the receiving portion 10. In this embodiment, the ratio L3 / D3 with respect to the diameter D3 of the trunk part 32 of the length L3 of the trunk part 32 is set to 5 or more and 10 or less. The ratio D3 / D1 with respect to the diameter D1 of the accommodating part 10 of the diameter D3 of the trunk | drum 32 is set to 0.5 or less. The ratio L1 / L3 with respect to the length L3 of the trunk | drum 32 of the length L1 of the accommodating part 10 is set to 0.8 or more and 1.3 or less.

제1 열원 매체 공급 유로(41)는, 중간 매체 증발부(E1)에 열원 매체를 공급하는 유로이다. 제1 열원 매체 공급 유로(41)는, 수용부(10)에 접속된 입구실(21)에 접속되어 있다. 제1 열원 매체 공급 유로(41)에는, 개방도 조정이 가능한 제1 개폐 밸브(V1)가 설치되어 있다.The first heat source medium supply flow passage 41 is a flow path for supplying the heat source medium to the intermediate medium evaporator E1. The first heat source medium supply flow passage 41 is connected to the entrance chamber 21 connected to the accommodation portion 10. The 1st open / close valve V1 which can adjust an opening degree is provided in the 1st heat source medium supply flow path 41.

제2 열원 매체 공급 유로(42)는, 가스 가열부(E3)에 열원 매체를 공급하는 유로이다. 제2 열원 매체 공급 유로(42)는, 동체부(32)에 접속된 입구실(36)에 접속되어 있다. 제2 열원 매체 공급 유로(42)에는, 개방도 조정이 가능한 제2 개폐 밸브(V2)가 설치되어 있다.The 2nd heat source medium supply flow path 42 is a flow path which supplies a heat source medium to the gas heating part E3. The second heat source medium supply flow passage 42 is connected to the entrance chamber 36 connected to the body portion 32. The 2nd opening-and-closing valve V2 which can adjust an opening degree is provided in the 2nd heat source medium supply flow path 42.

본 실시 형태에서는 공통 공급 유로(40)와 열원 매체 합류 유로(43)를 더 구비하고 있다.In this embodiment, the common supply flow path 40 and the heat source medium confluence flow path 43 are further provided.

공통 공급 유로(40)는, 제1 열원 매체 공급 유로(41)와 제2 열원 매체 공급 유로(42)에 열원 매체를 공급하는 유로이다. 공통 공급 유로(40)에는, 열원 매체의 유량을 조정 가능한 유량 조정부(개폐 밸브, 유량계 등)가 설치되어 있다. 각 개폐 밸브(V1, V2)의 개방도는, 공통 공급 유로(40)로부터 제1 열원 매체 공급 유로(41)로 분기된 열원 매체의 유량과 열원 매체 합류 유로(43)를 통하여 제1 열원 매체 공급 유로(41)에 합류된 열원 매체의 유량을 합한 양의, 공통 공급 유로(40)로부터 제2 열원 매체 공급 유로(42)로 분기된 열원 매체의 유량에 대한 비율, 즉 중간 매체 증발부(E1)에 대한 열원 매체의 공급량의, 가스 가열부(E3)에 대한 열원 매체의 공급량에 대한 공급 비율이 3 이상 5 이하가 되도록 설정되어 있다.The common supply flow path 40 is a flow path for supplying a heat source medium to the first heat source medium supply flow path 41 and the second heat source medium supply flow path 42. The common supply flow path 40 is provided with a flow rate adjusting part (opening / closing valve, flow meter, etc.) which can adjust the flow rate of the heat source medium. The opening degree of each open / close valve V1, V2 is a 1st heat source medium through the flow volume of the heat source medium branched from the common supply flow path 40 to the 1st heat source medium supply flow path 41, and the heat source medium confluence flow path 43. As shown in FIG. The ratio of the flow rate of the heat source medium branched from the common supply flow path 40 to the 2nd heat source medium supply flow path 42 of the sum of the flow volume of the heat source medium joined to the supply flow path 41, ie, the intermediate medium evaporation part ( The supply ratio of the supply amount of the heat source medium to E1) with respect to the supply amount of the heat source medium to the gas heating unit E3 is set to be 3 or more and 5 or less.

또한, 각 개폐 밸브(V1, V2)는, 미리 개방도가 설정되어 있고 교체 가능한 제한 오리피스여도 된다.In addition, each opening / closing valve V1 and V2 may be a limiting orifice whose opening degree is set in advance and which can be replaced.

열원 매체 합류 유로(43)는, 가스 가열부(E3)로부터 유출된 열원 매체를 제1 열원 매체 공급 유로(41)에 합류시키는 유로이다. 구체적으로, 열원 매체 합류 유로(43)의 상류측의 단부는, 동체부(32)에 접속된 출구실(37)에 접속되어 있다. 열원 매체 합류 유로(43)의 하류측의 단부는, 제1 열원 매체 공급 유로(41) 중 제1 개폐 밸브(V1)와 입구실(21)의 사이의 부위에 접속되어 있다. 또한, 열원 매체 합류 유로(43)의 하류측의 단부는, 직접 입구실(21)에 접속되어도 된다.The heat source medium confluence flow path 43 is a flow path which joins the heat source medium which flowed out from the gas heating part E3 into the 1st heat source medium supply flow path 41. Specifically, the upstream end of the heat source medium confluence flow passage 43 is connected to the outlet chamber 37 connected to the body portion 32. The downstream end of the heat source medium confluence flow passage 43 is connected to a portion between the first opening / closing valve V1 and the inlet chamber 21 in the first heat source medium supply flow passage 41. In addition, the end part of the downstream side of the heat source medium confluence flow path 43 may be directly connected to the inlet chamber 21.

가스 유로(50)는, 저온 액화 가스 기화부(E2)로부터 유출된 가스를 하우징(31)으로 유도하는 유로이다. 가스 유로(50)의 상류측의 단부는, 수용부(10)에 접속된 출구실(26)에 접속되어 있다. 본 실시 형태에서는, 가스 유로(50)의 하류측의 부위는 두 갈래로 분기되어 있다. 구체적으로, 가스 유로(50)는, 저온 액화 가스 기화부(E2)로부터 유출된 가스의 일부(본 실시 형태에서는 절반)를 제1 유입부(32a)에 공급하는 제1 가스 유로(50a)와, 저온 액화 가스 기화부(E2)로부터 유출된 가스의 잔부를 제2 유입부(32b)에 공급하는 제2 가스 유로(50b)를 갖고 있다. 제1 가스 유로(50a)의 하류측의 단부는 제1 유입부(32a)에 접속되어 있고, 제2 가스 유로(50b)의 하류측의 단부는 제2 유입부(32b)에 접속되어 있다.The gas flow path 50 is a flow path that guides the gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization part E2 to the housing 31. The upstream end of the gas flow path 50 is connected to an outlet chamber 26 connected to the housing portion 10. In this embodiment, the downstream part of the gas flow path 50 branches into two branches. Specifically, the gas flow path 50 includes a first gas flow path 50a which supplies a part (half in this embodiment) of the gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization part E2 to the first inflow part 32a. And a second gas flow path 50b for supplying the remainder of the gas flowing out from the low temperature liquefied gas vaporization part E2 to the second inflow part 32b. The downstream end of the first gas flow passage 50a is connected to the first inflow portion 32a, and the downstream end of the second gas flow passage 50b is connected to the second inflow portion 32b.

중간 매체식 가스 기화기(1)가 구동되면, 제1 열원 매체 공급 유로(41)를 통하여 입구실(21)에 열원 매체가 공급됨과 함께 제2 열원 매체 공급 유로(42)를 통하여 입구실(36)에 열원 매체가 공급되는 한편, 입구실(25)에 LNG가 공급된다.When the intermediate medium gas vaporizer 1 is driven, the heat source medium is supplied to the inlet chamber 21 through the first heat source medium supply passage 41 and the inlet chamber 36 through the second heat source medium supply passage 42. ) Is supplied to the heat source medium, while LNG is supplied to the inlet chamber 25.

입구실(21)에 공급된 열원 매체는, 중간 매체 증발부(E1), 반환실(23), 중간 매체 증발부(E1), 출구실(22)을 이 순서대로 흐른 후, 외부로 배출된다. 이때, 열원 매체는, 중간 매체 증발부(E1)에 있어서, 액상의 중간 매체(2)를 가열하고, 이에 의해 중간 매체(2)의 적어도 일부가 증발한다. 입구실(36)에 공급된 열원 매체는, 가스 가열부(E3), 반환실(38), 가스 가열부(E3), 출구실(37)을 이 순서대로 흐른 후, 열원 매체 합류 유로(43)를 통하여 제1 열원 매체 공급 유로(41)에 합류된다. 이때, 열원 매체는, 가스 가열부(E3)에 있어서, 가스(NG)를 가열한다.The heat source medium supplied to the inlet chamber 21 flows through the intermediate medium evaporator E1, the return chamber 23, the intermediate medium evaporator E1, and the outlet chamber 22 in this order, and then is discharged to the outside. . At this time, the heat source medium heats the liquid intermediate medium 2 in the intermediate medium evaporator E1, whereby at least a part of the intermediate medium 2 evaporates. The heat source medium supplied to the inlet chamber 36 flows through the gas heating unit E3, the return chamber 38, the gas heating unit E3, and the outlet chamber 37 in this order, and then the heat source medium confluence passage 43 ) Is joined to the first heat source medium supply flow passage 41. At this time, the heat source medium heats the gas NG in the gas heating unit E3.

한편, 입구실(25)에 공급된 LNG는, 저온 액화 가스 기화부(E2) 내를 통과하는 과정에서 수용부(10) 내에 있어서 기상의 중간 매체(2)로부터 열을 받음으로써 기화한다. 저온 액화 가스 기화부(E2)로부터 유출된 저온의 NG는, 출구실(26) 및 가스 유로(50)를 경유하여 하우징(31) 내로 유입된다. 구체적으로, 출구실(26)로부터 유출된 저온의 NG의 50%는, 제1 가스 유로(50a) 및 제1 유입부(32a)를 통하여 동체부(32) 내로 유입되고, 출구실(26)로부터 유출된 저온의 NG의 나머지 50%는, 제2 가스 유로(50b) 및 제2 유입부(32b)를 통하여 동체부(32) 내로 유입된다. 제1 유입부(32a)로부터 동체부(32) 내로 유입된 저온의 NG 및 제2 유입부(32b)로부터 동체부(32) 내로 유입된 저온의 NG는, 각각 유출부(32c)를 향하는 과정에서 가스 가열부(E3) 내를 흐르는 열원 매체에 의해 가열된 후, 유출부(32c)로부터 상온의 NG로 되어 유출된다.On the other hand, LNG supplied to the inlet chamber 25 is vaporized by receiving heat from the gaseous intermediate medium 2 in the accommodating part 10 in the process of passing through the low temperature liquefied gas vaporization part E2. The low temperature NG flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization unit E2 flows into the housing 31 via the outlet chamber 26 and the gas flow path 50. Specifically, 50% of the low-temperature NG flowing out of the outlet chamber 26 flows into the body portion 32 through the first gas flow passage 50a and the first inlet portion 32a and the outlet chamber 26. The remaining 50% of the low-temperature NG flowing out from the gas flows into the body portion 32 through the second gas flow passage 50b and the second inflow portion 32b. The low temperature NG introduced into the fuselage part 32 from the first inlet part 32a and the low temperature NG introduced into the fuselage part 32 from the second inlet part 32b are respectively directed toward the outlet part 32c. Is heated by the heat source medium flowing in the gas heating unit E3, and then flows out from the outlet portion 32c as NG at room temperature.

이상에 설명한 바와 같이, 본 중간 매체식 가스 기화기(1)에서는, 제1 열원 매체 공급 유로(41) 및 제2 열원 매체 공급 유로(42)에 의해 가스 가열부(E3) 및 중간 매체 증발부(E1)에 대하여 병렬적으로 열원 매체가 공급되므로, 하우징(31)의 소직경화가 가능하게 되고, 게다가, 하우징(31) 내에 있어서의 가스의 유로가 나누어져 있으므로, 가스 가열부(E3)의 진동이 억제된다. 구체적으로, 저온 액화 가스 기화부(E2)로부터 유출된 가스의 약 절반은, 제1 가스 유로(50a) 및 제1 유입부(32a)로부터 동체부(32) 내로 유입되고 나서 유출부(32c)를 향하는 한편, 상기 가스의 나머지 약 절반은, 제2 가스 유로(50b) 및 제2 유입부(32b)로부터 동체부 내로 유입되고 나서 유출부를 향하므로, 동체부(32)의 단면당의 가스 유량이 저감된다. 따라서, 저온 액화 가스 기화부(E2)로부터 유출된 가스의 전량이 균일하게 동체부(32) 내를 흐르는 경우에 비하여, 동체부(32) 내를 흐르는 가스의 에너지가 약 4분의 1로 되므로, 가스 가열부(E3)의 진동이 억제된다.As described above, in the intermediate medium gas vaporizer 1, the gas heating part E3 and the intermediate medium evaporator (1) are formed by the first heat source medium supply flow path 41 and the second heat source medium supply flow path 42. Since the heat source medium is supplied in parallel to E1), the housing 31 can be made smaller in diameter, and in addition, since the flow path of the gas in the housing 31 is divided, the vibration of the gas heating part E3 can be achieved. This is suppressed. Specifically, about half of the gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization unit E2 flows into the body portion 32 from the first gas flow passage 50a and the first inlet portion 32a, and then the outlet portion 32c. While about half of the gas flows from the second gas flow passage 50b and the second inflow portion 32b into the fuselage portion and then toward the outflow portion, the gas flow rate per section of the fuselage portion 32 is increased. Is reduced. Therefore, the energy of the gas flowing through the fuselage 32 is about one quarter as compared with the case where the entire amount of the gas flowing out from the low temperature liquefied gas vaporizer E2 flows uniformly within the fuselage 32. The vibration of the gas heating unit E3 is suppressed.

그리고, 가스 가열부(E3) 및 중간 매체 증발부(E1)에 대하여 병렬적으로 열원 매체가 공급됨으로써, 가스 가열부(E3)를 구성하는 전열관의 수가 저감되므로, 전열관의 용접 개소나 관 판의 두께의 저감에 기인하여 제조 비용이 대폭 삭감된다.The number of heat transfer tubes constituting the gas heater E3 is reduced by supplying the heat source medium in parallel to the gas heating unit E3 and the intermediate medium evaporation unit E1. Due to the reduction in the thickness, the manufacturing cost is greatly reduced.

또한, 본 실시 형태에서는, 각 개폐 밸브(V1, V2)의 개방도는, 상기 공급 비율이 3 이상 5 이하가 되도록 설정되어 있으므로, 하우징(31)의 소직경화와 가스 가열부(E3)의 진동의 억제의 양쪽이 유효하게 달성된다.In addition, in this embodiment, since the opening degree of each switching valve V1, V2 is set so that the said supply ratio may be 3 or more and 5 or less, the small diameter of the housing 31 and the vibration of the gas heating part E3 are made. Both of the suppression of are effectively achieved.

또한, 본 실시 형태에서는, 열원 매체 합류 유로(43)를 갖고 있으므로, 중간 매체 증발부(E1)에 대한 열원 매체의 공급량이 확보된다. 이 때문에, 상기 공급 비율의 범위 내에 있어서 가스 가열부(E3)에 대한 열원 매체의 공급량을 증가시킬 수 있다. 이에 의해, 가스 가열부(E3)에 있어서 열원 매체가 가스에 제공하는 열량이 증가하므로, 가스 가열부(E3)의 전열 면적을 작게 하는 등 가스 가열부(E3)의 설계 자유도가 향상된다.In addition, in this embodiment, since it has the heat source medium confluence flow path 43, the supply amount of the heat source medium to the intermediate medium evaporation part E1 is ensured. For this reason, the supply amount of the heat source medium to the gas heating part E3 can be increased in the range of the said supply ratio. Thereby, since the amount of heat which the heat source medium provides to gas in the gas heating part E3 increases, the design freedom of the gas heating part E3 is improved, for example, by reducing the heat transfer area of the gas heating part E3.

또한, 금회 개시된 실시 형태는, 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는, 상기한 실시 형태의 설명이 아니라 특허청구범위에 의해 나타나고, 또한 특허청구범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함된다.In addition, it should be thought that embodiment disclosed this time is an illustration and restrictive at no points. The scope of the present invention is shown not by the description of the above embodiments but by the claims, and includes the meanings of the claims and equivalents and all modifications within the scope.

예를 들어, 도 3에 도시되는 바와 같이, 동체부(32)의 일방측의 단부에 입구실(36a)이 접속되고, 동체부(32)의 타방측의 단부에 출구실(37a)이 접속되어도 된다. 즉, 가스 가열부(E3)는, 소위 1패스 방식으로 되어도 된다. 이것은 중간 매체 증발부(E1)에 대해서도 마찬가지이다.For example, as shown in FIG. 3, the entrance chamber 36a is connected to the edge part on one side of the trunk | drum 32, and the exit chamber 37a is connected to the edge part on the other side of the trunk | drum 32. As shown in FIG. You may be. In other words, the gas heating unit E3 may be a so-called one-pass system. The same applies to the intermediate medium evaporator E1.

또한, 도 4에 도시되는 바와 같이, 가온기(30)는 수용부(10)의 측방에 적재되어도 된다.In addition, as shown in FIG. 4, the warmer 30 may be mounted on the side of the housing portion 10.

또한, 도 5에 도시되는 바와 같이, 하우징(31)은, 동체부(32)와, 동체부(32)의 일방측의 단부에 설치된 제1 유출부(32d)와, 동체부(32)의 타방측의 단부에 설치된 제2 유출부(32e)와, 동체부(32) 중 일방측의 단부와 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치된 유입부(32f)를 가져도 된다. 이 경우, 가스 유로(50)의 하류측의 부위는, 두 갈래로 분기되지 않고 유입부(32f)에 접속된다.In addition, as shown in FIG. 5, the housing 31 includes the body portion 32, the first outlet portion 32d provided at one end of the body portion 32, and the body portion 32. You may have the 2nd outflow part 32e provided in the other end and the inflow part 32f provided in the site | part between the edge part of one side and the other end of the trunk | drum 32. As shown in FIG. In this case, the site | part downstream of the gas flow path 50 is connected to the inflow part 32f, without branching into two.

여기서, 상기 실시 형태의 중간 매체식 가스 기화 장치에 대하여 개략적으로 설명한다.Here, the intermediate medium gas vaporization apparatus of the above embodiment will be described schematically.

상기 실시 형태의 중간 매체식 가스 기화기는, 저온 액화 가스를 당해 저온 액화 가스의 비점보다 높은 비점을 갖는 중간 매체를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기이며, 상기 중간 매체를 수용하는 수용부와, 상기 수용부 내에 배치되어 있고, 열원 매체가 도입되는 중간 매체 증발부와, 상기 수용부 내에 배치되어 있고, 상기 저온 액화 가스가 도입되는 저온 액화 가스 기화부와, 상기 저온 액화 가스 기화부에서의 상기 저온 액화 가스의 기화에 의해 발생한 가스가 도입되는 하우징과, 상기 하우징 내에 배치되어 있고, 상기 열원 매체가 도입되는 가스 가열부와, 상기 중간 매체 증발부에 상기 열원 매체를 공급하는 제1 열원 매체 공급 유로와, 상기 가스 가열부에 상기 열원 매체를 공급하는 제2 열원 매체 공급 유로와, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스를 상기 하우징으로 유도하는 가스 유로를 구비하고, 상기 중간 매체 증발부는, 당해 중간 매체 증발부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 당해 중간 매체 증발부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 중간 매체의 적어도 일부를 증발시키고, 상기 저온 액화 가스 기화부는, 당해 저온 액화 가스 기화부 내를 흐르는 상기 저온 액화 가스와 당해 저온 액화 가스 기화부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 저온 액화 가스의 적어도 일부를 기화시키고, 상기 가스 가열부는, 당해 가스 가열부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 당해 가스 가열부 밖에 존재하는 상기 가스를 열교환시킴으로써 상기 가스를 가열하고, 상기 하우징은, 상기 가스 가열부를 수용하는 동체부와, 상기 동체부의 일방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 제1 유입부와, 상기 동체부의 타방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 제2 유입부와, 상기 동체부 중 상기 일방측의 단부와 상기 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 유출부를 갖고, 상기 가스 유로는, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 일부를 상기 제1 유입부에 공급하는 제1 가스 유로와, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 잔부를 상기 제2 유입부에 공급하는 제2 가스 유로를 갖는다.The intermediate gaseous gas vaporizer of the above embodiment is an intermediate medium gaseous vaporizer which vaporizes a low temperature liquefied gas by using an intermediate medium having a boiling point higher than that of the low temperature liquefied gas, the accommodation portion accommodating the intermediate medium; An intermediate medium evaporator disposed in the accommodating portion, into which a heat source medium is introduced, a low temperature liquefied gas vaporizer disposed in the accommodating portion, into which the low temperature liquefied gas is introduced, and the low temperature liquefied gas vaporized portion; A first heat source medium supply for supplying the heat source medium to the housing into which the gas generated by vaporization of the low temperature liquefied gas is introduced, the gas heater disposed in the housing, and into which the heat source medium is introduced, and the intermediate medium evaporator; A flow path, a second heat source medium supply flow path for supplying the heat source medium to the gas heating unit, and the low temperature liquefied gas And a gas flow path for guiding the gas discharged from the vaporization unit to the housing, wherein the intermediate medium evaporator exchanges heat between the heat source medium flowing in the intermediate medium evaporator and the intermediate medium existing outside the intermediate medium evaporator. The low temperature liquefied gas is evaporated by evaporating at least a portion of the intermediate medium, and the low temperature liquefied gas vaporization unit heat-exchanges the low temperature liquefied gas flowing in the low temperature liquefied gas vaporization unit and the intermediate medium existing outside the low temperature liquefied gas vaporization unit. Vaporize at least a portion of the gas heating unit, and heat the gas by heat-exchanging the heat source medium flowing in the gas heating unit with the gas existing outside the gas heating unit, and the housing accommodates the gas heating unit. Body part to do and end of one side of the body part A first inflow portion for introducing the gas into the fuselage portion, a second inflow portion for providing the gas into the fuselage portion, and a second inflow portion for introducing the gas into the fuselage portion; It is provided in the site | part between the said edge part of the said one side, and the said edge part of the other side, and has an outflow part which makes the said gas flow out from the said fuselage | body part, The said gas flow path is the thing of the gas which flowed out from the said low temperature liquefied gas vaporization part. A first gas flow path for supplying a portion to the first inflow portion, and a second gas flow path for supplying the remainder of the gas flowing out from the low temperature liquefied gas vaporization portion to the second inflow portion.

본 중간 매체식 가스 기화기에서는, 제1 열원 매체 공급 유로 및 제2 열원 매체 공급 유로에 의해 가스 가열부 및 중간 매체 증발부에 대하여 병렬적으로 열원 매체가 공급되므로, 하우징의 소직경화가 가능하게 되고, 게다가 하우징 내에 있어서의 가스의 유로가 나누어져 있으므로, 가스 가열부의 진동이 억제된다. 구체적으로, 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 일부는, 제1 가스 유로 및 제1 유입부로부터 동체부 내로 유입되고 나서 유출부를 향하는 한편, 상기 가스의 잔부는, 제2 가스 유로 및 제2 유입부로부터 동체부 내로 유입되고 나서 유출부를 향하므로, 동체부의 단면당의 가스 유량이 저감된다. 따라서, 가스 가열부의 진동이 억제된다.In this intermediate medium gas vaporizer, since the heat source medium is supplied in parallel to the gas heating unit and the intermediate medium evaporation unit by the first heat source medium supply passage and the second heat source medium supply passage, the diameter of the housing can be reduced. In addition, since the flow path of the gas in the housing is divided, vibration of the gas heating unit is suppressed. Specifically, a part of the gas flowing out from the low temperature liquefied gas vaporization part flows into the fuselage part from the first gas flow path and the first inflow part, and then flows toward the outflow part, while the remainder of the gas is the second gas flow path and the second flow path. Since it flows in from a inflow part into a fuselage part, and goes to an outflow part, the gas flow volume per cross section of a fuselage part is reduced. Therefore, vibration of the gas heating part is suppressed.

이 경우에 있어서, 상기 열원 매체를 상기 제1 열원 매체 공급 유로와 상기 제2 열원 매체 공급 유로에 공급하는 공통 공급 유로와, 상기 제1 열원 매체 공급 유로에 설치되어 있고, 개방도 조정이 가능한 제1 개폐 밸브와, 상기 제2 열원 매체 공급 유로에 설치되어 있고, 개방도 조정이 가능한 제2 개폐 밸브를 더 구비하고, 각 개폐 밸브의 개방도는, 상기 중간 매체 증발부에 대한 상기 열원 매체의 공급량의 상기 가스 가열부에 대한 상기 열원 매체의 공급량에 대한 공급 비율이 3 이상 5 이하가 되도록 설정되어 있는 것이 바람직하다.In this case, a common supply flow path for supplying the heat source medium to the first heat source medium supply flow path and the second heat source medium supply flow path, and a first supply source adjustable in the first heat source medium supply flow path. And a second on / off valve provided in the first on / off valve and the second heat source medium supply flow path, the opening degree of which can be adjusted, and the opening degree of each on / off valve of the heat source medium to the intermediate medium evaporator. It is preferable that the supply ratio with respect to the supply amount of the said heat source medium with respect to the said gas heating part of a supply amount becomes three or more and five or less.

이와 같이 하면, 하우징의 소직경화와 가스 가열부의 진동의 억제의 양쪽이 유효하게 달성된다.By doing in this way, both a small diameter of a housing and suppression of the vibration of a gas heating part are achieved effectively.

또한, 이 경우에 있어서, 상기 가스 가열부로부터 유출된 열원 매체를 상기 제1 열원 매체 공급 유로에 합류시키는 열원 매체 합류 유로를 더 구비하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable to further include a heat source medium confluence passage for joining the heat source medium flowing out of the gas heating unit into the first heat source medium supply passage.

이와 같이 하면, 중간 매체 증발부에 대한 열원 매체의 공급량이 확보되므로, 상기 공급 비율의 범위 내에 있어서 가스 가열부에 대한 열원 매체의 공급량을 증가시킬 수 있다. 이에 의해, 가스 가열부에 있어서 열원 매체가 가스에 제공하는 열량이 증가하므로, 가스 가열부의 전열 면적을 작게 하는 등 가스 가열부의 설계 자유도가 향상된다.In this case, since the supply amount of the heat source medium to the intermediate medium evaporator is secured, the supply amount of the heat source medium to the gas heating part can be increased within the range of the supply ratio. Thereby, since the amount of heat which the heat source medium provides to gas in a gas heating part increases, the freedom of design of a gas heating part improves, for example, making the heat transfer area of a gas heating part small.

또한, 상기 중간 매체식 가스 기화기에 있어서, 상기 동체부의 길이의 상기 동체부의 직경에 대한 비율은, 5 이상 10 이하로 설정되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the ratio with respect to the diameter of the said fuselage | body part of the length of the said fuselage | body part is set to 5 or more and 10 or less in the said intermediate medium gas vaporizer.

또한, 상기 중간 매체식 가스 기화기에 있어서, 상기 동체부의 직경의 상기 수용부의 직경에 대한 비율은, 0.5 이하로 설정되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, in the said intermediate | middle medium type gas vaporizer, it is preferable that the ratio with respect to the diameter of the said accommodating part of the diameter of the said trunk | drum is set to 0.5 or less.

또한, 상기 중간 매체식 가스 기화기에 있어서, 상기 수용부의 길이의 상기 동체부의 길이에 대한 비율은, 1.3 이하로 설정되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, in the said intermediate | middle medium type gas vaporizer, it is preferable that the ratio with respect to the length of the said fuselage | body part of the length of the said accommodating part is set to 1.3 or less.

또한, 상기 중간 매체식 가스 기화기에 있어서, 상기 동체부의 일방측의 단부에 접속되고, 상기 가스 가열부 내와 연통되는 입구실과, 상기 동체부의 일방측의 단부에 접속되고, 상기 가스 가열부 내와 연통되는 출구실과, 상기 동체부의 일방측의 단부에 접속되고, 상기 입구실과 상기 출구실을 구획하는 구획벽과, 상기 동체부의 타방측의 단부에 접속되고, 상기 가스 가열부 내와 연통되는 반환실을 더 구비해도 된다.Moreover, in the said intermediate | middle medium type gas vaporizer, it is connected to the inlet chamber connected to the edge part of the one side of the said fuselage | body part, and connected to the inside of the said gas heating part, and connected to the edge part of the one side of the said fuselage part, A return chamber connected to an outlet chamber communicated with an end of one side of the fuselage section, a partition wall partitioning the inlet chamber and the outlet chamber, and an end of the other side of the fuselage section and communicating with an inside of the gas heating section. You may further be provided.

이와 같이 하면, 가스 가열부의 길이가 대략 절반이 되므로, 가온기 전체의 길이가 단축된다.In this way, since the length of a gas heating part becomes about half, the length of the whole heater is shortened.

또한, 상기 실시 형태의 중간 매체식 가스 기화기는, 저온 액화 가스를 당해 저온 액화 가스의 비점보다 높은 비점을 갖는 중간 매체를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기이며, 상기 중간 매체를 수용하는 수용부와, 상기 수용부 내에 배치되어 있고, 열원 매체가 도입되는 중간 매체 증발부와, 상기 수용부 내에 배치되어 있고, 상기 저온 액화 가스가 도입되는 저온 액화 가스 기화부와, 상기 수용부로부터 분리되어 있고, 상기 저온 액화 가스 기화부에서의 상기 저온 액화 가스의 기화에 의해 발생한 가스가 도입되는 하우징과, 상기 하우징 내에 배치되어 있고, 상기 열원 매체가 도입되는 가스 가열부와, 상기 중간 매체 증발부에 상기 열원 매체를 공급하는 제1 열원 매체 공급 유로와, 상기 가스 가열부에 상기 열원 매체를 공급하는 제2 열원 매체 공급 유로와, 상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스를 상기 하우징으로 유도하는 가스 유로를 구비하고, 상기 중간 매체 증발부는, 당해 중간 매체 증발부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 당해 중간 매체 증발부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 중간 매체의 적어도 일부를 증발시키고, 상기 저온 액화 가스 기화부는, 당해 저온 액화 가스 기화부 내를 흐르는 상기 저온 액화 가스와 당해 저온 액화 가스 기화부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 저온 액화 가스의 적어도 일부를 기화시키고, 상기 가스 가열부는, 당해 가스 가열부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 당해 가스 가열부 밖에 존재하는 상기 가스를 열교환시킴으로써 상기 가스를 가열하고, 상기 하우징은, 상기 가스 가열부를 수용하는 동체부와, 상기 동체부의 일방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 제1 유출부와, 상기 동체부의 타방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 제2 유출부와, 상기 동체부 중 상기 일방측의 단부와 상기 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 유입부를 갖고, 상기 가스 유로의 하류측의 단부는, 상기 유입부에 접속되어 있다.Moreover, the intermediate | middle medium type gas vaporizer of the said embodiment is an intermediate | middle medium type gas vaporizer which vaporizes a low temperature liquefied gas using the intermediate medium which has a boiling point higher than the boiling point of the said low temperature liquefied gas, The accommodating part which accommodates the said intermediate medium An intermediate medium evaporation unit disposed in the accommodating unit, into which a heat source medium is introduced, a low temperature liquefied gas vaporization unit disposed in the accommodating unit, into which the low temperature liquefied gas is introduced, and separated from the accommodating unit; And a housing into which a gas generated by vaporization of the low temperature liquefied gas in the low temperature liquefied gas vaporization unit is introduced, a gas heating unit disposed in the housing, into which the heat source medium is introduced, and the intermediate medium evaporation unit A first heat source medium supply passage for supplying a heat source medium, and a second heat for supplying the heat source medium to the gas heating unit; A medium supply flow path and a gas flow path for guiding a gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization part into the housing, wherein the intermediate medium evaporation part comprises the heat source medium flowing through the intermediate medium evaporation part and the intermediate medium evaporation part; At least a part of the intermediate medium is evaporated by heat-exchanging the intermediate medium present outside, and the low temperature liquefied gas vaporization unit is located outside the low temperature liquefied gas flowing in the low temperature liquefied gas vaporization unit and the low temperature liquefied gas vaporization unit. At least a part of said low temperature liquefied gas is vaporized by heat-exchanging an intermediate medium, The said gas heating part heats the said gas by heat-exchanging the said heat source medium which flows in the said gas heating part, and the said gas which exists outside the said gas heating part, The housing accommodates the gas heating unit. Is provided at the fuselage | body part, the edge part of the one side of the said fuselage | body part, and is provided in the 1st outflow part which lets said gas out of the said fuselage | body part, and the edge part of the other side of the said fuselage | body part, And a second inflow portion to flow out of the gas passage, and an inflow portion provided between the end portion on the one side and the end portion on the other side of the fuselage portion to introduce the gas into the body portion. The downstream end part is connected to the said inflow part.

본 중간 매체식 가스 기화기에 있어서도, 하우징의 소직경화가 가능하게 되고, 게다가 하우징 내에 있어서의 가스의 유로가 나누어져 있으므로, 가스 가열부의 진동이 억제된다.Also in this intermediate medium gas vaporizer, the housing can be made smaller in diameter, and since the flow path of the gas in the housing is divided, the vibration of the gas heating unit is suppressed.

Claims (8)

저온 액화 가스를 상기 저온 액화 가스의 비점보다 높은 비점을 갖는 중간 매체를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기이며,
상기 중간 매체를 수용하는 수용부와,
상기 수용부 내에 배치되어 있고, 열원 매체가 도입되는 중간 매체 증발부와,
상기 수용부 내에 배치되어 있고, 상기 저온 액화 가스가 도입되는 저온 액화 가스 기화부와,
상기 저온 액화 가스 기화부에서의 상기 저온 액화 가스의 기화에 의해 발생한 가스가 도입되는 하우징과,
상기 하우징 내에 배치되어 있고, 상기 열원 매체가 도입되는 가스 가열부와,
상기 중간 매체 증발부에 상기 열원 매체를 공급하는 제1 열원 매체 공급 유로와,
상기 가스 가열부에 상기 열원 매체를 공급하는 제2 열원 매체 공급 유로와,
상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스를 상기 하우징으로 유도하는 가스 유로를 구비하고,
상기 중간 매체 증발부는, 상기 중간 매체 증발부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 상기 중간 매체 증발부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 중간 매체의 적어도 일부를 증발시키고,
상기 저온 액화 가스 기화부는, 상기 저온 액화 가스 기화부 내를 흐르는 상기 저온 액화 가스와 상기 저온 액화 가스 기화부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 저온 액화 가스의 적어도 일부를 기화시키고,
상기 가스 가열부는, 상기 가스 가열부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 상기 가스 가열부 밖에 존재하는 상기 가스를 열교환시킴으로써 상기 가스를 가열하고,
상기 하우징은,
상기 가스 가열부를 수용하는 동체부와,
상기 동체부의 일방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 제1 유입부와,
상기 동체부의 타방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 제2 유입부와,
상기 동체부 중 상기 일방측의 단부와 상기 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 유출부를 갖고,
상기 가스 유로는,
상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 일부를 상기 제1 유입부에 공급하는 제1 가스 유로와,
상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스의 잔부를 상기 제2 유입부에 공급하는 제2 가스 유로를 갖는 중간 매체식 가스 기화기.
An intermediate medium gas vaporizer which vaporizes a low temperature liquefied gas using an intermediate medium having a boiling point higher than that of the low temperature liquefied gas,
An accommodation portion for receiving the intermediate medium;
An intermediate medium evaporator disposed in the accommodating part and into which a heat source medium is introduced;
A low temperature liquefied gas vaporizer disposed in the accommodation portion and into which the low temperature liquefied gas is introduced;
A housing into which gas generated by vaporization of the low temperature liquefied gas in the low temperature liquefied gas vaporization unit is introduced;
A gas heater disposed in the housing and into which the heat source medium is introduced;
A first heat source medium supply passage for supplying the heat source medium to the intermediate medium evaporator;
A second heat source medium supply passage for supplying the heat source medium to the gas heating unit;
A gas flow path leading the gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization unit to the housing,
The intermediate medium evaporator evaporates at least a portion of the intermediate medium by heat-exchanging the heat source medium flowing in the intermediate medium evaporator and the intermediate medium existing outside the intermediate medium evaporator,
The low temperature liquefied gas vaporization unit vaporizes at least a portion of the low temperature liquefied gas by heat-exchanging the low temperature liquefied gas flowing in the low temperature liquefied gas vaporization unit and the intermediate medium present outside the low temperature liquefied gas vaporization unit,
The gas heating unit heats the gas by heat-exchanging the heat source medium flowing in the gas heating unit and the gas existing outside the gas heating unit,
The housing is
A body part accommodating the gas heating part;
A first inlet part provided at an end of one side of the body part and allowing the gas to flow into the body part;
A second inflow portion provided at the other end of the fuselage portion and allowing the gas to flow into the fuselage portion;
It is provided in the site | part between the said edge part of the said one side, and the said edge part of the said other side among the said fuselage | body parts, and has an outflow part which lets said gas out of the said fuselage part,
The gas flow path,
A first gas flow path for supplying a part of the gas flowing out from the low temperature liquefied gas vaporization part to the first inflow part;
And a second gas flow path for supplying the remainder of the gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization part to the second inlet part.
제1항에 있어서, 상기 열원 매체를 상기 제1 열원 매체 공급 유로와 상기 제2 열원 매체 공급 유로에 공급하는 공통 공급 유로와,
상기 제1 열원 매체 공급 유로에 설치되어 있고, 개방도 조정이 가능한 제1 개폐 밸브와,
상기 제2 열원 매체 공급 유로에 설치되어 있고, 개방도 조정이 가능한 제2 개폐 밸브를 더 구비하고,
각 개폐 밸브의 개방도는, 상기 중간 매체 증발부에 대한 상기 열원 매체의 공급량의, 상기 가스 가열부에 대한 상기 열원 매체의 공급량에 대한 공급 비율이 3 이상 5 이하가 되도록 설정되어 있는 중간 매체식 가스 기화기.
2. The common supply flow path according to claim 1, further comprising: a common supply flow path for supplying the heat source medium to the first heat source medium supply flow path and the second heat source medium supply flow path;
A first opening / closing valve provided in said first heat source medium supply flow passage and capable of adjusting an opening degree;
It is provided in the said 2nd heat source medium supply flow path, and further equipped with the 2nd opening / closing valve which can adjust an opening degree,
The opening degree of each opening / closing valve is an intermediate medium type | mold set so that the supply ratio with respect to the supply amount of the heat source medium to the said gas heating part of the supply amount of the said heat source medium to the said intermediate medium evaporation part may be 3 or more and 5 or less. Gas vaporizer.
제2항에 있어서, 상기 가스 가열부로부터 유출된 열원 매체를 상기 제1 열원 매체 공급 유로에 합류시키는 열원 매체 합류 유로를 더 구비하는 중간 매체식 가스 기화기.The gas medium vaporizer according to claim 2, further comprising a heat source medium confluence passage for joining the heat source medium discharged from the gas heating unit to the first heat source medium supply passage. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 동체부의 길이의 상기 동체부의 직경에 대한 비율은 5 이상 10 이하로 설정되어 있는 중간 매체식 가스 기화기.The intermediate medium gas vaporizer according to any one of claims 1 to 3, wherein a ratio of the length of the fuselage to the diameter of the fuselage is set to 5 or more and 10 or less. 제1항에 있어서, 상기 동체부의 직경의 상기 수용부의 직경에 대한 비율은 0.5 이하로 설정되어 있는 중간 매체식 가스 기화기.The intermediate gas-type gas vaporizer according to claim 1, wherein a ratio of the diameter of the fuselage to the diameter of the receiving portion is set to 0.5 or less. 제1항에 있어서, 상기 수용부의 길이의 상기 동체부의 길이에 대한 비율은 1.3 이하로 설정되어 있는 중간 매체식 가스 기화기.The intermediate gas-type gas vaporizer according to claim 1, wherein the ratio of the length of the accommodation portion to the length of the body portion is set to 1.3 or less. 제1항에 있어서, 상기 동체부의 일방측의 단부에 접속되고, 상기 가스 가열부 내와 연통되는 입구실과,
상기 동체부의 일방측의 단부에 접속되고, 상기 가스 가열부 내와 연통되는 출구실과,
상기 동체부의 일방측의 단부에 접속되고, 상기 입구실과 상기 출구실을 구획하는 구획벽과,
상기 동체부의 타방측의 단부에 접속되고, 상기 가스 가열부 내와 연통되는 반환실을 더 구비하는 중간 매체식 가스 기화기.
The inlet chamber according to claim 1, which is connected to an end of one side of the body portion and communicates with the inside of the gas heating portion,
An outlet chamber connected to an end portion on one side of the body portion and in communication with the gas heating portion;
A partition wall connected to an end portion on one side of the body part and partitioning the inlet chamber and the outlet chamber;
An intermediate medium gas vaporizer further comprising a return chamber connected to an end on the other side of the fuselage section and communicating with the gas heating section.
저온 액화 가스를 상기 저온 액화 가스의 비점보다 높은 비점을 갖는 중간 매체를 사용하여 기화시키는 중간 매체식 가스 기화기이며,
상기 중간 매체를 수용하는 수용부와,
상기 수용부 내에 배치되어 있고, 열원 매체가 도입되는 중간 매체 증발부와,
상기 수용부 내에 배치되어 있고, 상기 저온 액화 가스가 도입되는 저온 액화 가스 기화부와,
상기 저온 액화 가스 기화부에서의 상기 저온 액화 가스의 기화에 의해 발생한 가스가 도입되는 하우징과,
상기 하우징 내에 배치되어 있고, 상기 열원 매체가 도입되는 가스 가열부와,
상기 중간 매체 증발부에 상기 열원 매체를 공급하는 제1 열원 매체 공급 유로와,
상기 가스 가열부에 상기 열원 매체를 공급하는 제2 열원 매체 공급 유로와,
상기 저온 액화 가스 기화부로부터 유출된 가스를 상기 하우징으로 유도하는 가스 유로를 구비하고,
상기 중간 매체 증발부는, 상기 중간 매체 증발부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 상기 중간 매체 증발부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 중간 매체의 적어도 일부를 증발시키고,
상기 저온 액화 가스 기화부는, 상기 저온 액화 가스 기화부 내를 흐르는 상기 저온 액화 가스와 상기 저온 액화 가스 기화부 밖에 존재하는 상기 중간 매체를 열교환시킴으로써 상기 저온 액화 가스의 적어도 일부를 기화시키고,
상기 가스 가열부는, 상기 가스 가열부 내를 흐르는 상기 열원 매체와 상기 가스 가열부 밖에 존재하는 상기 가스를 열교환시킴으로써 상기 가스를 가열하고,
상기 하우징은,
상기 가스 가열부를 수용하는 동체부와,
상기 동체부의 일방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 제1 유출부와,
상기 동체부의 타방측의 단부에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부로부터 유출시키는 제2 유출부와,
상기 동체부 중 상기 일방측의 단부와 상기 타방측의 단부의 사이의 부위에 설치되어 있고, 상기 가스를 상기 동체부 내로 유입시키는 유입부를 갖고,
상기 가스 유로의 하류측의 단부는, 상기 유입부에 접속되어 있고,
상기 유입부로부터 유입된 상기 가스가 상기 제1 유출부 및 상기 제2 유출부로부터 균등하게 유출되도록 상기 제1 유출부, 상기 제2 유출부 및 상기 유입부가 상기 하우징에 설치되어 있는 중간 매체식 가스 기화기.
An intermediate medium gas vaporizer which vaporizes a low temperature liquefied gas using an intermediate medium having a boiling point higher than that of the low temperature liquefied gas,
An accommodation portion for receiving the intermediate medium;
An intermediate medium evaporator disposed in the accommodating part and into which a heat source medium is introduced;
A low temperature liquefied gas vaporizer disposed in the accommodation portion and into which the low temperature liquefied gas is introduced;
A housing into which gas generated by vaporization of the low temperature liquefied gas in the low temperature liquefied gas vaporization unit is introduced;
A gas heater disposed in the housing and into which the heat source medium is introduced;
A first heat source medium supply passage for supplying the heat source medium to the intermediate medium evaporator;
A second heat source medium supply passage for supplying the heat source medium to the gas heating unit;
A gas flow path leading the gas flowing out of the low temperature liquefied gas vaporization unit to the housing,
The intermediate medium evaporator evaporates at least a portion of the intermediate medium by heat-exchanging the heat source medium flowing in the intermediate medium evaporator and the intermediate medium existing outside the intermediate medium evaporator,
The low temperature liquefied gas vaporization unit vaporizes at least a portion of the low temperature liquefied gas by heat-exchanging the low temperature liquefied gas flowing in the low temperature liquefied gas vaporization unit and the intermediate medium present outside the low temperature liquefied gas vaporization unit,
The gas heating unit heats the gas by heat-exchanging the heat source medium flowing in the gas heating unit and the gas existing outside the gas heating unit,
The housing is
A body part accommodating the gas heating part;
A first outlet portion provided at one end of the fuselage portion and allowing the gas to flow out of the fuselage portion;
A second outlet portion provided at the other end of the fuselage portion and allowing the gas to flow out of the fuselage portion;
It is provided in the site | part between the said one end part and the said other end part among the said fuselage | body parts, and has an inflow part which introduces the said gas into the said fuselage part,
An end portion downstream of the gas flow passage is connected to the inflow portion,
An intermediate medium gas provided in the housing such that the first outlet, the second outlet, and the inlet are installed in the housing so that the gas introduced from the inlet is equally discharged from the first outlet and the second outlet. carburetor.
KR1020187013562A 2015-10-21 2016-10-06 Intermediate Gas Vaporizers KR102071985B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015207135A JP6454628B2 (en) 2015-10-21 2015-10-21 Intermediate medium gas vaporizer
JPJP-P-2015-207135 2015-10-21
PCT/JP2016/079719 WO2017068983A1 (en) 2015-10-21 2016-10-06 Intermediate-medium-type gas vaporizer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180069857A KR20180069857A (en) 2018-06-25
KR102071985B1 true KR102071985B1 (en) 2020-01-31

Family

ID=58557408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187013562A KR102071985B1 (en) 2015-10-21 2016-10-06 Intermediate Gas Vaporizers

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6454628B2 (en)
KR (1) KR102071985B1 (en)
CN (1) CN108351072B (en)
SG (1) SG11201803070SA (en)
WO (1) WO2017068983A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019178738A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 大阪瓦斯株式会社 Liquefied natural gas vaporizer
JP2019178737A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 大阪瓦斯株式会社 Liquefied natural gas vaporizer, and operation method of liquefied natural gas vaporizer
CN110761864B (en) * 2019-11-08 2021-12-07 江苏科技大学 Novel cold energy comprehensive utilization system of liquefied natural gas power container ship
CN115479209B (en) * 2022-11-15 2023-03-10 无锡特莱姆气体设备有限公司 Efficient and energy-saving intermediate medium gasifier

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4036289A (en) * 1975-01-20 1977-07-19 General Atomic Company Heat exchanger tube bundle support system
JPS5630585A (en) * 1979-08-22 1981-03-27 Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd Lng evaporation apparatus
JPS5824080Y2 (en) * 1981-08-27 1983-05-23 大阪瓦斯株式会社 liquefied natural gas vaporizer
JPS59194200A (en) * 1984-03-30 1984-11-02 Hitachi Ltd Liquefied gas evaporator with hermetically enclosed medium
JP3946398B2 (en) 2000-01-18 2007-07-18 株式会社神戸製鋼所 Intermediate medium type vaporizer and method of supplying natural gas using the vaporizer
DE102004045021B4 (en) * 2004-09-15 2013-07-11 Behr Gmbh & Co. Kg Heat exchanger for internal combustion engines
JP2006189240A (en) * 2004-12-07 2006-07-20 Tgk Co Ltd Expansion device
KR100751974B1 (en) * 2005-12-22 2007-08-28 한국가스공사 Intermediate Fluid type Vaporizer
JP2007247797A (en) * 2006-03-16 2007-09-27 Ihi Corp Lng vaporizer
JP2008286438A (en) * 2007-05-16 2008-11-27 Tohoku Univ Addition device for volatile solution and gasification method
US20090272034A1 (en) * 2008-04-30 2009-11-05 Cliff Yi Guo Methods and systems for reducing piping vibration
JP5999874B2 (en) * 2011-02-28 2016-09-28 三菱重工業株式会社 Liquefied gas regasification apparatus and regasification gas production method
CN102829326B (en) * 2012-09-12 2014-07-23 镇海石化建安工程有限公司 Steam-heated water-bath type vaporizer

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180069857A (en) 2018-06-25
JP6454628B2 (en) 2019-01-16
WO2017068983A1 (en) 2017-04-27
JP2017078475A (en) 2017-04-27
SG11201803070SA (en) 2018-05-30
CN108351072B (en) 2020-07-10
CN108351072A (en) 2018-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102071985B1 (en) Intermediate Gas Vaporizers
US7833353B2 (en) Liquid material vaporization apparatus for semiconductor processing apparatus
KR101476965B1 (en) Vessel, liquefied gas vaporization device, and control method therefor as well as improvement method therefor
US6367429B2 (en) Intermediate fluid type vaporizer
CN108779968A (en) Heat exchanger
CN107667265A (en) Multistage distribution system for evaporator
CN107110575A (en) Multiple suction catheters of the housing of suction catheter and flooded evaporator
CN105716225B (en) Fluid heater, heating block and vaporization system
CN105899892A (en) Refrigerant distributor for falling film evaporator
CN111902672B (en) Intermediate medium type gasifier
KR102086641B1 (en) Medium Carburetor
CN105980807A (en) Asymmetric evaporator
NL2017593B1 (en) Gas vaporizer
KR101816951B1 (en) U-tube vaporizer
JP2018040531A (en) Heat exchanger
CN104428619A (en) Apparatus and method for heating liquefied stream
US10352587B2 (en) Water heater distribution tube
JP2017106655A (en) Heat exchanger
KR101644343B1 (en) Regasification apparatus using circulating water
WO2022075111A1 (en) Vaporization device, gas supply device and control method for gas supply device
WO2023047937A1 (en) Liquid hydrogen vaporizer, and generation method for generating hydrogen
PH12020551569A1 (en) Liquefied natural gas vaporization system
JP2015183861A (en) Normal-temperature water type vaporizer
CN112902505A (en) Immersion evaporator
KR20120124711A (en) Air conditioning system

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right