KR102061585B1 - Conductive adhesive sheet, method for manufacturing same and electronic terminal obtained by using same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 도전성 점착 시트는, 도전성 기재의 적어도 편면에, 도전성 점착제층을 갖는 도전성 점착 시트로서, 상기 도전성 기재가, 습식인 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 도전성 기재이며, 상기 도전성 점착제층이, 상기 도전성 점착제층의 전체에 대하여, 도전성 입자를 3질량%∼50질량%의 범위에서 함유하는 것을 특징으로 하는 도전성 점착 시트에 관한 것이다.The conductive adhesive sheet of the present invention is a conductive adhesive sheet having a conductive adhesive layer on at least one side of the conductive substrate, and the conductive substrate is subjected to plating treatment including an electroless plating treatment on a wet polyester-based nonwoven substrate. It is an electroconductive base material obtained by making it contain, The said electroconductive adhesive layer relates to the electroconductive adhesive sheet characterized by containing electroconductive particle in 3 mass%-50 mass% with respect to the whole of the said electroconductive adhesive layer.

Description

도전성 점착 시트, 그 제조 방법 및 그것을 사용하여 얻은 전자 단말{CONDUCTIVE ADHESIVE SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING SAME AND ELECTRONIC TERMINAL OBTAINED BY USING SAME}CONDUCTIVE ADHESIVE SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING SAME AND ELECTRONIC TERMINAL OBTAINED BY USING SAME

본 발명은, 예를 들면 휴대 전자 단말 등의 전자 기기 등의 제조에 사용 가능한 도전성 점착 시트에 관한 것이다.This invention relates to the electroconductive adhesive sheet which can be used for manufacture of electronic devices, such as a portable electronic terminal, for example.

최근, 통신 기기 등의 전자 기기의 소형화, 박형화 및 고성능화에 따라 고집적화가 진행되고 있다. 상기 전자 기기의 제조 시에는, 전자 기기로부터 발생될 수 있는 전자파를 차폐하거나, 임의의 부위에 대전 방지성을 부여하는 것 등을 목적으로 하여, 도전성 점착 시트를 사용하는 경우가 많다.Background Art In recent years, high integration has been progressed along with miniaturization, thinning, and high performance of electronic devices such as communication devices. In the production of the electronic device, a conductive adhesive sheet is often used for the purpose of shielding electromagnetic waves that may be generated from the electronic device, or imparting antistatic properties to arbitrary portions.

상기 도전성 점착 시트로서는, 예를 들면 금속박으로 이루어지는 도전성 기재 상에, 도전성 필러를 함유하는 도전성 점착제층을 갖는 점착 시트가 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 및 2 참조).As said electroconductive adhesive sheet, the adhesive sheet which has an electroconductive adhesive layer containing an electroconductive filler on the electroconductive base material which consists of metal foils, for example is known (for example, refer patent document 1 and 2).

상기한 바와 같은 금속박을 사용한 도전성 점착 시트는, 아무리 해도 유연성의 점에서 충분하지 않으므로, 피착체의 표면에 미소한 단차가 있는 경우에, 상기 단차부에 추종할 수 없고, 피착체와 점착제층과의 계면에 공극을 형성하게 되는 경우가 있었다.Since the electrically conductive adhesive sheet using the above-mentioned metal foil is not enough from a soft point of view, if there exists a micro step | step in the surface of a to-be-adhered body, it cannot follow the said step part, and an adherend, an adhesive layer, and In some cases, voids were formed at the interface of the film.

한편, 산업계로부터는, 상기 도전성 점착 시트를, 피착체의 잘못된 위치에 첩부하게 되었을 경우에, 그 첩부 직후이면 용이하게 박리할 수 있는 레벨의 리워크성이 요구되고 있다.On the other hand, when the said electroconductive adhesive sheet is affixed on the wrong position of a to-be-adhered body, industrially, the rework property of the level which can be easily peeled off immediately after the sticking is calculated | required.

그러나, 상기한 바와 같은 도전성 점착 시트는, 상기 리워크성의 점에서 충분하지 않은 경우가 많고, 재이용하여 다시 붙일 수 없는 경우가 있었다.However, the conductive adhesive sheet as described above is often not sufficient in view of the reworkability, and may not be reused and reattached.

이상과 같이, 전자파 등을 충분히 차폐 가능한 레벨의 도전성과, 피착체가 갖는 단차부 등에 추종 가능한 레벨의 유연성과, 리워크성을 양립한 도전성 점착 시트는, 아직 알려져 있지 않았다.As mentioned above, the electroconductive adhesive sheet which combined the electroconductivity of the level which can fully shield an electromagnetic wave, etc., the level of flexibility which can follow the step part which a to-be-adhered body has, etc., and rework property is not known yet.

일본국 특개2004-263030호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-263030 일본국 특개2009-79127호 공보JP 2009-79127 A

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 전자파 등을 충분히 차폐 가능한 레벨의 도전성과, 피착체가 갖는 단차부 등에 추종 가능한 레벨의 유연성과, 리워크성을 양립한 도전성 점착 시트를 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide an electroconductive adhesive sheet having both a level of conductivity capable of shielding electromagnetic waves and the like, a level of flexibility that can be traced to a step portion of the adherend, and reworkability.

본 발명에 있어서는, 도전성 기재의 적어도 편면에, 도전성 점착제층을 갖는 도전성 점착 시트 중, 상기 도전성 기재가, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 것이며,In this invention, the said electroconductive base material is obtained by performing the plating process containing an electroless-plating process to a wet polyester type nonwoven fabric base material among the electroconductive adhesive sheets which have an electroconductive adhesive layer on at least one side of an electroconductive base material. ,

상기 도전성 점착제층이, 상기 도전성 점착제층 전체에 대하여 도전성 입자를 3질량%∼50질량% 함유하는 것인 도전성 점착 시트를 사용함에 의해, 상기 과제를 해결했다.The said subject was solved by using the electroconductive adhesive sheet which the said electroconductive adhesive layer contains 3 mass%-50 mass% of electroconductive particle with respect to the said whole electroconductive adhesive layer.

본 발명의 도전성 점착 시트는, 전자파 등을 충분히 차폐 가능한 레벨의 도전성과, 피착체가 갖는 미세한 요철 등에 유래한 단차부 등에 추종 가능한 레벨의 유연성과, 리워크성을 양립할 수 있고, 피착체에 대한 뛰어난 접착력을 가지므로, 예를 들면 전자 기기 등의 제조에 사용할 수 있는 전자파 실드 시트, 정전기의 대전을 방지하기 위한 접지 고정용 점착 시트 등에 호적하게 사용할 수 있다.The electroconductive adhesive sheet of this invention is compatible with the electroconductivity of the level which can fully shield an electromagnetic wave, etc., and the level of flexibility and rework property which can be traced to the step part derived from the fine unevenness which an adherend etc. have, etc. Since it has the outstanding adhesive force, it can be used suitably for the electromagnetic wave shield sheet which can be used for manufacture of electronic devices, etc., the adhesive sheet for earth | ground fixing for preventing the electrostatic charge, etc., for example.

도 1은 본 발명의 도전성 점착 시트의 구성예를 나타내는 개략도.
도 2는 본 발명의 도전성 점착 시트의 구성예를 나타내는 개략도.
도 3은 실시예1의 도전성 점착 시트의 추종성 평가 결과를 나타내는 도면.
도 4는 참고예1의 도전성 점착 시트의 추종성 평가 결과를 나타내는 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic diagram which shows the structural example of the conductive adhesive sheet of this invention.
2 is a schematic view showing a configuration example of a conductive adhesive sheet of the present invention.
3 is a view showing the results of evaluation of followability of the conductive adhesive sheet of Example 1. FIG.
4 is a view showing the evaluation results of the traceability of the conductive adhesive sheet of Reference Example 1. FIG.

본 발명의 도전성 점착 시트는, 도전성 기재의 적어도 편면에, 도전성 점착제층을 갖는 도전성 점착 시트 중, 상기 도전성 기재가, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 것이며, 상기 도전성 점착제층이, 상기 도전성 점착제층 전체에 대하여 도전성 입자를 3질량%∼50질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다.In the electroconductive adhesive sheet of this invention, in the electroconductive adhesive sheet which has an electroconductive adhesive layer on at least one side of an electroconductive base material, when the said electroconductive base material performs a plating process containing an electroless-plating process to a wet polyester type nonwoven fabric base material, It is obtained by this and the said conductive adhesive layer contains 3 mass%-50 mass% of electroconductive particle with respect to the said whole conductive adhesive layer, It is characterized by the above-mentioned.

본 발명에서 말하는 「시트」란, 적어도 한층의 도전성 점착제층을 도전성 기재의 적어도 편면에 갖는 형태를 의미한다. 또한, 상기 시트는, 예를 들면, 매엽, 롤상, 박판상, 띠상(테이프상) 등의 제품 형태 전부를 포함한다.The "sheet" as used in this invention means the form which has at least one electroconductive adhesive layer on the at least single side | surface of an electroconductive base material. In addition, the said sheet contains all the product forms, such as a sheet | leaf, a roll shape, a thin plate shape, and a strip shape (tape form), for example.

본 발명의 도전성 점착 시트의 구성으로서는, 예를 들면 도전성 기재의 편면에 상기 도전성 점착제층을 단층 또는 복수층 갖는 구성, 상기 도전성 기재의 양면에 상기 도전성 점착제층을 각각 단층 또는 복층 갖는 구성을 들 수 있다.As a structure of the electroconductive adhesive sheet of this invention, the structure which has the said single layer or multiple layers of the said conductive adhesive layer on the single side | surface of an electroconductive base material, for example, the structure which has the said single layer or multiple layers of the said conductive adhesive layer on both surfaces of the said electroconductive base material is mentioned, for example. have.

본 발명의 도전성 점착 시트로서는, 필요에 따라 상기 도전성 기재 및 도전성 점착제층 이외의 다른 층을 갖고 있어도 된다.As an electroconductive adhesive sheet of this invention, you may have other layers other than the said electroconductive base material and electroconductive adhesive layer as needed.

상기 도전성 점착 시트로서는, 100㎛ 이하의 총 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 60㎛ 이하의 총 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 40㎛ 이하의 총 두께를 갖는 것을 사용하는 것이, 뛰어난 유연성, 도전성 및 접착성을 유지하고, 또한, 전자 기기 등의 박형화에 공헌할 수 있으므로 더 바람직하다.As said electroconductive adhesive sheet, it is preferable to use what has a total thickness of 100 micrometers or less, It is more preferable to use what has a total thickness of 60 micrometers or less, It is more preferable to use what has a total thickness of 40 micrometers or less, It is more preferable because it can maintain excellent flexibility, conductivity and adhesion, and contribute to thinning of electronic devices and the like.

또한, 상기 도전성 점착 시트의 총 두께의 하한으로서는, 5㎛ 이상인 것이 바람직하다. 또, 상기 총 두께는, 박리 필름을 포함하지 않은 도전성 점착 시트 자체의 두께를 가리킨다.Moreover, as a minimum of the total thickness of the said electroconductive adhesive sheet, it is preferable that it is 5 micrometers or more. In addition, the said total thickness points out the thickness of the electroconductive adhesive sheet itself which does not contain a peeling film.

본 발명의 도전성 점착 시트를 구성하는 도전성 기재로서는, 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 것을 사용할 수 있다.As a conductive base material which comprises the electroconductive adhesive sheet of this invention, what was obtained by giving the wet polyester type nonwoven fabric base material the plating process containing an electroless-plating process can be used.

상기 도전성 기재로서는, 예를 들면 6㎛∼50㎛의 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 10㎛∼30㎛의 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As said electroconductive base material, it is preferable to use what has a thickness of 6 micrometers-50 micrometers, for example, and it is more preferable to use what has a thickness of 10 micrometers-30 micrometers.

상기 도전성 기재로서는, 그 MD(흐름) 방향의 인장 강도가 3N/20㎜∼35N/20㎜인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 5N/20㎜∼30N/20㎜인 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 10N/20㎜∼27N/20㎜인 것을 사용하는 것이 더 바람직하다.As said electroconductive base material, it is preferable to use the thing whose tensile strength of the MD (flow) direction is 3N / 20mm-35N / 20mm, It is more preferable to use what is 5N / 20mm-30N / 20mm, It is more preferable to use 10N / 20mm-27N / 20mm.

또한, 상기 도전성 기재로서는, 그 TD(폭) 방향의 인장 강도가 0.5N/20㎜∼35N/20㎜인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 3N/20㎜∼30N/20㎜인 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 10N/20㎜∼27N/20㎜인 것을 사용하는 것이 더 바람직하다.Moreover, as said electroconductive base material, it is preferable to use the thing whose tensile strength of the TD (width) direction is 0.5N / 20mm-35N / 20mm, and it is more preferable to use what is 3N / 20mm-30N / 20mm. It is preferable to use what is 10N / 20mm-27N / 20mm.

상기 범위의 MD(흐름) 방향 및 TD(폭) 방향의 인장 강도를 갖는 도전성 기재를 사용함에 의해, 리워크(박리)할 때에 도전성 점착 시트의 찢어짐을 일으키기 어렵고 뛰어난 리워크성을 유지할 수 있고, 또한, 도전성 기재와 도전성 점착제층과의 양호한 밀착성을 구비한 도전성 점착 시트를 얻을 수 있다.By using the electroconductive base material which has the tensile strength of MD (flow) direction and TD (width) direction of the said range, it is hard to produce tearing of an electroconductive adhesive sheet at the time of rework, and can maintain outstanding rework property, Moreover, the electroconductive adhesive sheet provided with favorable adhesiveness of an electroconductive base material and an electroconductive adhesive layer can be obtained.

상기 도전성 기재로서는, 그 [MD 방향의 인장 강도/TD 방향의 인장 강도]가 0.7∼1.3의 범위인 것을 사용하는 것이, 리워크(박리)할 때에 도전성 점착 시트의 찢어짐을 일으키기 어렵고 뛰어난 리워크성을 유지할 수 있으므로 바람직하다. 또, 상기 인장 강도는 JIS Z0237-2010에 따라, 300㎜/min의 속도로 인장함에 의해 측정된 값을 가리킨다.As said electroconductive base material, it is hard to produce tearing of an electroconductive adhesive sheet when reworking (peeling) to use that [the tensile strength of MD direction / the tensile strength of TD direction] is 0.7-1.3, and excellent rework property It is preferable because it can maintain. In addition, the said tensile strength points out the value measured by pulling at the speed | rate of 300 mm / min according to JISZ0237-2010.

또한, 상기 도전성 기재로서는, 0.5Ω/25㎜×25㎜ 이하의 표면 저항값(X축 방향, y축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 0.1Ω/25㎜×25㎜ 이하의 표면 저항값(X축 방향, y축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 0.05Ω/25㎜×25㎜ 이하의 표면 저항값(X축 방향, y축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이 더 바람직하고, 0.01Ω/25㎜×25㎜ 이하의 표면 저항값(x, y)을 갖는 것을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 도전성을 부여하기에 특히 바람직하다.Moreover, as said electroconductive base material, it is preferable to use what has surface resistance value (X-axis direction, y-axis direction) of 0.5 ohm / 25mm * 25mm or less, and it is 0.1 ohm / 25mm * 25mm or less It is more preferable to use what has a value (X-axis direction, y-axis direction), and it is more preferable to use what has surface resistance value (X-axis direction, y-axis direction) of 0.05 ohms / 25 mm x 25 mm or less. In addition, it is particularly preferable to use one having a surface resistance value (x, y) of 0.01 Ω / 25 mm × 25 mm or less to provide even more excellent conductivity.

또한, 상기 도전성 기재로서는, 0.1Ω/25㎜×25㎜ 이하의 수직 표면 저항값(z축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 0.05Ω/25㎜×25㎜ 이하의 수직 표면 저항값(z축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 0.03Ω/25㎜×25㎜ 이하의 수직 표면 저항값(z축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 0.01Ω/25㎜×25㎜ 이하의 수직 표면 저항값(z축 방향)을 갖는 것을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 도전성을 부여하기에 특히 바람직하다. 또, 상기 표면 저항값(X축 방향, y축 방향) 및 수직 표면 저항값(z축 방향)의 측정 방법은 실시예에 기재한 방법으로 측정한 값을 가리킨다.Moreover, as said electroconductive base material, it is preferable to use the thing which has a vertical surface resistance value (z-axis direction) of 0.1 ohms / 25mmx25mm or less, and the vertical surface resistance value of 0.05 ohms / 25mmx25mm or less ( It is more preferable to use what has a z-axis direction), It is preferable to use what has a vertical surface resistance value (z-axis direction) of 0.03 ohms / 25mmx25mm or less, It is 0.01 ohms / 25mmx25mm It is especially preferable to use what has the following vertical surface resistance value (z-axis direction) in order to provide more excellent electroconductivity. In addition, the measuring method of the said surface resistance value (X-axis direction, y-axis direction) and the vertical surface resistance value (z-axis direction) points out the value measured by the method as described in an Example.

상기 도전성 기재를 제조할 때에는, 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재를 사용한다. 상기 특정의 부직포 기재를 사용함에 의해, 도금 처리에 의해 형성된 도금층의 박리를 방지할 수 있고, 보다 한층 뛰어난 리워크성을 구비한 도전성 점착 시트를 얻을 수 있다.When manufacturing the said electroconductive base material, a wet polyester type nonwoven fabric base material is used. By using the said specific nonwoven fabric base material, peeling of the plating layer formed by the plating process can be prevented, and the electroconductive adhesive sheet provided with the further rework property can be obtained.

상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재로서는, 물 등에 분산된 폴리에스테르 섬유를 초지(抄紙)함에 의해 얻어진 것을 사용할 수 있다.As said wet polyester type nonwoven fabric base material, what was obtained by papermaking polyester fiber disperse | distributed to water etc. can be used.

상기 폴리에스테르 섬유로서는, 예를 들면 2㎛∼10㎛의 직경을 갖는 섬유를 사용하는 것이 바람직하고, 3㎛∼8㎛의 직경을 갖는 섬유를 사용하는 것이 보다 바람직하다.As said polyester fiber, it is preferable to use the fiber which has a diameter of 2 micrometers-10 micrometers, for example, and it is more preferable to use the fiber which has a diameter of 3 micrometers-8 micrometers.

상기 초지 방법으로서는, 특히 한정되지 않지만, 예를 들면 원망 초지기, 단망 초지기, 장망 초지기, 경사 단망 초지기를 사용하는 방법을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as said papermaking method, For example, the method of using a round paper machine, a short paper machine, a long paper machine, and a diagonal short paper machine is mentioned.

상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재로서는, 상기 방법으로 초지한 후, 폴리에스테르 섬유 사이를 결착시키는 것을 목적으로 하여, 가열 등 된 것을 사용하는 것이 바람직하다.As said wet polyester type nonwoven fabric base material, it is preferable to use what was heated etc. for the purpose of binding between polyester fibers after papermaking by the said method.

상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재로서는, 보다 한층 뛰어난 유연성과 강도를 양립한 데다, 2g/㎡∼20g/㎡의 범위의 평량을 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 4g/㎡∼16g/㎡의 범위의 평량을 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 6g/㎡∼15g/㎡의 범위의 평량을 갖는 것을 사용하는 것이, 박형이며 리워크성이 뛰어난 도전성 점착 시트를 얻기에 더 바람직하다.As said wet polyester base nonwoven fabric base material, it is more compatible with more excellent flexibility and strength, and it is preferable to use what has a basis weight of the range of 2g / m <2> -20g / m <2>, and it is 4g / m <2> -16g / m <2> It is more preferable to use what has a basis weight, and it is more preferable to use the thing which has a basis weight of the range of 6g / m <2> -15g / m <2>, and it is thin and excellent in obtaining the electrically conductive adhesive sheet excellent in reworkability.

상기 습식 폴리에스테르 부직포 기재로서는, 5μ∼50㎛의 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 10㎛∼30㎛의 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 14㎛∼20㎛의 두께를 갖는 것을 사용하는 것이 특히 바람직하다.As said wet polyester nonwoven fabric base material, it is preferable to use what has a thickness of 5 micrometers-50 micrometers, It is more preferable to use what has a thickness of 10 micrometers-30 micrometers, What has a thickness of 14 micrometers-20 micrometers Particular preference is given to using.

상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재로서는, 그 MD(흐름) 방향의 인장 강도가 2N/20㎜∼30N/20㎜인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 5N/20㎜∼28N/20㎜인 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 10N/20㎜∼25N/20㎜인 것을 사용하는 것이 더 바람직하다.As said wet polyester type nonwoven fabric base material, it is preferable to use the thing of 2N / 20mm-30N / 20mm of tensile strength in the MD (flow) direction, and to use what is 5N / 20mm-28N / 20mm. It is more preferable to use what is 10N / 20mm-25N / 20mm.

또한, 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재로서는, 그 TD(폭) 방향의 인장 강도가 0.3N/20㎜∼30N/20㎜인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 2N/20㎜∼27N/20㎜인 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 9N/20㎜∼25N/20㎜인 것을 사용하는 것이 더 바람직하다. 또, 상기 인장 강도는 JIS Z0237-2010에 따라, 300㎜/min의 속도로 인장함에 의해 측정된 값을 가리킨다.Moreover, it is preferable to use the thing of 0.3N / 20mm-30N / 20mm in tensile strength of the said TD (width) direction as said wet polyester type nonwoven fabric base material, and it is 2N / 20mm-27N / 20mm It is more preferable to use, and it is more preferable to use what is 9N / 20mm-25N / 20mm. In addition, the said tensile strength points out the value measured by pulling at the speed | rate of 300 mm / min according to JISZ0237-2010.

상기 도전성 기재는, 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리를 실시함에 의해 제조할 수 있다. 여기에서, 「무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리」란, 무전해 도금 처리를 1회 또는 복수회 행하는 처리, 상기 무전해 도금 처리 후에 전해 도금 처리를 1회 또는 복수회 행하는 처리, 및, 전해 도금 처리를 1회 또는 복수회 행한 후에 무전해 도금 처리를 1회 또는 복수회 행하는 처리를 가리킨다. 본 발명에서는, 무전해 도금 처리를 실시한 후에, 추가로 무전해 도금 처리 또는 전해 도금 처리를 실시하는 것이 바람직하고, 무전해 도금 처리를 실시한 후에, 추가로 전해 도금 처리를 실시하는 것이 보다 바람직하다.The said electroconductive base material can be manufactured by performing the plating process containing an electroless plating process to the said wet polyester type nonwoven fabric base material. Here, the "plating treatment including an electroless plating treatment" means a treatment for carrying out an electroless plating treatment once or plural times, a treatment for carrying out an electrolytic plating treatment once or plural times after the electroless plating treatment, and electrolysis It refers to the process which performs an electroless plating process 1 time or several times after performing a plating process 1 time or several times. In this invention, after performing an electroless plating process, it is preferable to perform an electroless plating process or an electrolytic plating process further, and after performing an electroless plating process, it is more preferable to perform an electrolytic plating process further.

상기 무전해 도금 처리법으로서는, 예를 들면 팔라듐 등의 촉매를 포함하는 액이나, 금속 이온과 환원제를 함유하는 무전해 도금액에, 상기 습식 불포화 폴리에스테르계 부직포 기재를 침지함에 의해, 상기 부직포 기재의 표면에 금속 피막을 형성하는 방법을 들 수 있다.As the electroless plating method, for example, the surface of the nonwoven fabric substrate is immersed by immersing the wet unsaturated polyester nonwoven substrate in a liquid containing a catalyst such as palladium or an electroless plating solution containing metal ions and a reducing agent. The method of forming a metal film in the above is mentioned.

또한, 상기 무전해 도금 처리를 할 때에는, 상기한 공정 외에, 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재를 세정하는 공정, 상기 촉매를 활성화하는 공정, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재 및 도금 처리된 것을 수세 또는 건조하는 공정을 거쳐도 된다.In addition, when performing the electroless plating treatment, in addition to the above-described steps, a step of washing the wet polyester nonwoven base material, a step of activating the catalyst, a wet polyester nonwoven base material, and a water-washed or dried plated material You may go through a process.

상기 무전해 도금 처리하는 바람직한 방법으로서는, 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재를 세정하고, 수세한 후, 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재에 촉매를 부여하고, 수세하여, 상기 촉매를 활성화하고, 수세하여, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재를 무전해 도금액에 침지하고, 수세하여 건조하는 방법을 들 수 있다.As a preferable method of the electroless plating treatment, the wet polyester nonwoven substrate is washed with water, washed with water, a catalyst is applied to the wet polyester nonwoven substrate, washed with water, the catalyst is activated, washed with water, The wet polyester type nonwoven fabric base material is immersed in an electroless plating solution, and the method of washing with water and drying is mentioned.

상기 무전해 도금액에 포함되는 금속 이온으로서는, 예를 들면 구리, 니켈, 은, 백금, 알루미늄 등의 이온을 들 수 있고, 구리 또는 니켈의 적어도 1종의 이온을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 도전성과 저비용을 양립하기에 바람직하고, 구리 이온을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 밀착성을 부여하기에 보다 바람직하다.Examples of the metal ions included in the electroless plating solution include ions such as copper, nickel, silver, platinum, aluminum, and the like. The use of at least one ion of copper or nickel provides further superior conductivity and It is preferable to make low cost compatible, and it is more preferable to use copper ion, in order to provide more excellent adhesiveness.

상기 금속 이온은, 상기 무전해 도금액에 대하여, 0.001몰/l∼0.2몰/l 포함되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said metal ion contains 0.001 mol / l-0.2 mol / l with respect to the said electroless plating liquid.

상기 금속 이온은, 황산구리, 황산니켈, 염화니켈, 염화팔라듐, 염화은, 질산은 및 이들의 혼합물에 유래하는 것이 바람직하고, 황산구리, 황산니켈, 염화니켈을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 도전성과 저비용을 양립하기에 호적한 구리 또는 니켈 이온을 존재시키기에 바람직하다.The metal ion is preferably derived from copper sulfate, nickel sulfate, nickel chloride, palladium chloride, silver chloride, silver nitrate, and mixtures thereof, and using copper sulfate, nickel sulfate, and nickel chloride is more excellent in both conductivity and low cost. Preferred are the presence of copper or nickel ions suitable below.

상기 무전해 도금액에 함유되어 있어도 되는 환원제로서는, 예를 들면 차아인산나트륨, 수소화붕소나트륨, 수소화붕소칼륨, 로셸염(Rochelle salt), 디메틸아민보란, 디에틸아민보란, 포르말린, 히드라진 화합물로서는, 수화 히드라진, 염산히드라진, 황산히드라진, 메틸히드라진, 1,2-디메틸히드라진, 아세트히드라진, 페닐히드라진 등이 하이드로퀴논 등을 사용할 수 있고, 차아인산나트륨이나 포르말린을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the reducing agent that may be contained in the electroless plating solution include sodium hypophosphite, sodium borohydride, potassium borohydride, Rochelle salt, dimethylamine borane, diethylamine borane, formalin, and hydrazine compounds. Hydrazine, hydrazine hydrochloride, hydrazine sulfate, methyl hydrazine, 1,2-dimethyl hydrazine, acethydrazine, phenyl hydrazine and the like can be used hydroquinone, it is preferable to use sodium hypophosphite or formalin.

상기 환원제는, 상기 무전해 도금액에 대하여, 0.001몰/l∼0.4몰/l 포함되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said reducing agent is contained 0.001 mol / l-0.4 mol / l with respect to the said electroless plating liquid.

상기 무전해 도금액으로서는, 상기 성분 외에, 보조 성분으로서, 착화제, pH 조정제, 완충제, 도금 촉진제, 안정제 등을 함유하는 것을 사용할 수 있다.As said electroless plating liquid, in addition to the said component, what contains a complexing agent, a pH adjuster, a buffer, a plating promoter, a stabilizer etc. can be used as an auxiliary component.

상기 착화제로서는, 예를 들면 시트르산나트륨, 시트르산칼륨, 로셸염 등의 유기산염, 티오글리콜산, 암모니아, 트리에탄올아민, 글리신, 에틸렌디아민, 에틸렌디아민2아세트산염, o-아미노페놀, 피리딘 등을 사용할 수 있고, 시트르산나트륨을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the complexing agent include organic acid salts such as sodium citrate, potassium citrate and rochelle salt, thioglycolic acid, ammonia, triethanolamine, glycine, ethylenediamine, ethylenediamine diacetate, o-aminophenol, pyridine and the like. It is preferable to use sodium citrate.

상기 착화제는, 상기 무전해 도금액에 대하여, 0.001몰/l∼4.0몰/l 포함되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said complexing agent is contained 0.001 mol / l-4.0 mol / l with respect to the said electroless plating liquid.

상기 pH 조정제로서는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화암모늄, 무기산, 유기산 등을 사용하는 것이 바람직하다.As said pH adjuster, it is preferable to use sodium hydroxide, ammonium hydroxide, an inorganic acid, an organic acid, etc., for example.

상기 완충제로서는, 예를 들면 유기산, 무기산의 알칼리 금속염, 시트르산나트륨, 아세트산나트륨, 염화암모늄, 황산암모늄, 옥시카르복시산, 인산2수소염, 붕산, 탄산 등을 사용하는 것이 바람직하다.As the buffer, it is preferable to use, for example, alkali metal salts of organic acids, inorganic acids, sodium citrate, sodium acetate, ammonium chloride, ammonium sulfate, oxycarboxylic acid, dihydrogen phosphate, boric acid, carbonic acid and the like.

상기 도금 촉진제로서는, 황화물, 불화물 등을 사용할 수 있다.As the plating accelerator, sulfides, fluorides and the like can be used.

상기 안정제로서는, 납의 염화물, 황화물, 질화물, 2,2-비피리딘, 2-메르캅토벤조티아졸, 니코틴산 등을 적의 사용할 수 있다.As the stabilizer, lead chlorides, sulfides, nitrides, 2,2-bipyridine, 2-mercaptobenzothiazole, nicotinic acid and the like can be suitably used.

상기 무전해 도금 처리법에 의해 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재의 표면에 적층된, 바람직하게는 구리 등의 금속은, 보다 한층 뛰어난 밀착성과 도전성을 갖고, 상기 처리에 요하는 비용을 저감시키기에, 1g/㎡∼20g/㎡의 범위인 것이 바람직하고, 3g/㎡∼10g/㎡의 범위인 것이 보다 바람직하고, 5g/㎡∼8g/㎡의 범위인 것이 더 바람직하다.The metal, such as copper, laminated | stacked on the surface of the said wet-polyester type nonwoven fabric base material by the said electroless-plating method, has more outstanding adhesiveness and electroconductivity, and it is 1 g in order to reduce the cost of the said process, It is preferable that it is the range of / m <2> -20g / m <2>, It is more preferable that it is the range of 3g / m <2> -10g / m <2>, It is more preferable that it is the range of 5g / m <2> -8g / m <2>.

본 발명에서 사용하는 도전성 기재로서는, 상기한 바와 같이, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재를 무전해 금속 도금 처리한 후, 추가로 무전해 도금 처리 또는 전해 도금 처리한 것을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 전해 도금 처리한 것을 사용하는 것이, 도금층을 비교적 단시간에 안정되게 형성할 수 있으므로 생산 비용을 저감할 수 있고, 또한, 고강도화를 도모할 수 있으므로 보다 바람직하다.As the conductive substrate used in the present invention, as described above, after the electrolytic metal plating treatment of the wet polyester nonwoven fabric substrate, it is preferable to further use an electroless plating treatment or an electroplating treatment, and in particular electrolytic plating. It is more preferable to use the treated one because the plating layer can be stably formed in a relatively short time, since the production cost can be reduced and the strength can be increased.

상기 전해 도금 처리에 사용할 수 있는 전해 도금액으로서는, 예를 들면 피로인산구리, 시안화구리욕(浴), 황산구리욕 등을 포함하는 구리 도금액, 와트욕, 염화욕, 설파민산욕 등을 포함하는 니켈 도금액, 서전트욕 등을 포함하는 크롬 도금액, 또는, 금, 은, 주석, 아연 등을 포함하는 도금액을 사용할 수 있다.Examples of the electrolytic plating solution that can be used for the electrolytic plating treatment include a nickel plating solution containing a copper plating solution containing copper pyrophosphate, a copper cyanide bath, a copper sulfate bath, and the like, a watt bath, a chloride bath, a sulfamic acid bath, and the like. Or a chromium plating solution containing a surge bath or the like, or a plating solution containing gold, silver, tin, zinc, or the like can be used.

상기 도전성 기재로서는, 그 최외층이 니켈을 포함하는 도금층인 것을 사용하는 것이, 보존 안정성이 뛰어나며, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재와 도금층과의 밀착성의 점에서 뛰어나며, 또한, 도전성이 뛰어나므로 바람직하다.As the said electroconductive base material, using the thing whose outermost layer is the plating layer containing nickel is preferable because it is excellent in storage stability, excellent in adhesiveness with a wet polyester type nonwoven fabric base material, and a plating layer, and excellent in electroconductivity.

상기 최외층은, 니켈을 1g/㎡∼10g/㎡ 포함하는 것이 바람직하고, 2g/㎡∼8g/㎡ 포함하는 것이 보다 바람직하고, 2.5g/㎡∼6g/㎡ 포함하는 것이, 상기 뛰어난 보존 안정성과 밀착성과 도전성을 양립하기에 더 바람직하다.The outermost layer preferably contains 1 g / m 2 to 10 g / m 2 of nickel, more preferably 2 g / m 2 to 8 g / m 2, more preferably 2.5 g / m 2 to 6 g / m 2 as described above. It is more preferable to make both adhesiveness and electroconductivity compatible.

상기 도전성 기재의 바람직한 태양으로서는, 예를 들면, 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 구리 도금 처리, 및, 전해 니켈 도금 처리가 순서대로 실시된 도전성 기재, 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 구리 도금 처리, 전해 구리 도금 처리 및 전해 니켈 도금 처리가 순서대로 실시된 도전성 기재를 들 수 있다.As a preferable aspect of the said electroconductive base material, For example, in the wet polyester type nonwoven fabric base material, the electroconductive base material in which the electroless copper plating process and electrolytic nickel plating process were performed in order, and the wet polyester type nonwoven fabric base material, The electroconductive base material in which the electroless copper plating process, the electrolytic copper plating process, and the electrolytic nickel plating process was performed in order is mentioned.

다음으로, 본 발명의 도전성 점착 시트를 구성하는 도전성 점착제층에 대해서 설명한다.Next, the conductive adhesive layer which comprises the conductive adhesive sheet of this invention is demonstrated.

상기 도전성 점착제층은, 상기 도전성 점착제층 전체에 대하여 도전성 입자를 3질량%∼50질량% 함유하는 것이다. 이러한 도전성 점착제층을 갖는 도전성 점착 시트는, 뛰어난 도전성을 갖는다.The said electroconductive adhesive layer contains 3 mass%-50 mass% of electroconductive particle with respect to the said electroconductive adhesive layer whole. The electroconductive adhesive sheet which has such a conductive adhesive layer has outstanding electroconductivity.

상기 도전성 점착제층으로서는, 상기 도전성 점착제층 전체에 대하여 도전성 입자를 5질량%∼50질량% 함유하는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 10질량%∼50질량% 함유하는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 15질량%∼45질량% 함유하는 것을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 도전성과, 피착체가 갖는 단차부 등에 추종 가능한 레벨의 유연성과, 리워크성을 발현할 수 있으므로 바람직하다.As said conductive adhesive layer, it is preferable to use what contains 5 mass%-50 mass% of electroconductive particle with respect to the said whole conductive adhesive layer, It is more preferable to use what contains 10 mass%-50 mass%, 15 It is preferable to use the thing containing mass%-45 mass% since it can express the more excellent electroconductivity, the level | flexibility of the level which can follow a step part which an adherend etc. have, and rework property.

상기 도전성 점착제층으로서는, 3㎛∼25㎛의 두께인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 5㎛∼20㎛의 두께인 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 7㎛∼18㎛의 두께인 것을 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 접착성과, 박형화를 양립한 도전성 점착 시트를 얻을 수 있다.As said conductive adhesive layer, it is preferable to use the thing of thickness of 3 micrometers-25 micrometers, It is more preferable to use the thing of thickness of 5 micrometers-20 micrometers, It is more preferable to use what is thickness of 7 micrometers-18 micrometers, The electroconductive adhesive sheet which was more excellent in adhesiveness and thickness reduction can be obtained.

상기 도전성 점착제층으로서는, 도전성 입자와 점착제 성분을 함유하는 점착제 조성물을 사용함에 의해 형성할 수 있다.As said electroconductive adhesive layer, it can form by using the adhesive composition containing electroconductive particle and an adhesive component.

상기 도전성 점착제층에 포함되는 도전성 입자로서는, 예를 들면 금, 은, 구리, 니켈, 알루미늄 등의 금속 입자, 카본, 그라파이트 등의 도전성 수지 입자, 상기 수지나 중실(中實) 유리 비드나 중공 유리 비드의 표면이 금속 피복된 입자 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 상기 도전성 입자로서는, 니켈 입자나 구리 입자나 은 입자를 사용하는 것이, 보다 한층 뛰어난 도전성 및 접착 강도를 구비하고, 또한 도전성 점착 시트의 생산성을 보다 한층 향상하기에 바람직하다.As electroconductive particle contained in the said electroconductive adhesive layer, metal particles, such as gold, silver, copper, nickel, and aluminum, electroconductive resin particles, such as carbon and graphite, the said resin, solid glass beads, and hollow glass, for example The particle | grains with which the surface of the beads was metal-coated, etc. can be used. Especially, it is preferable to use nickel particle, copper particle, or silver particle as said electroconductive particle in order to have more excellent electroconductivity and adhesive strength, and to further improve the productivity of an electroconductive adhesive sheet further.

또한, 상기 도전성 입자로서는, 예를 들면 카보닐법으로 제조되는 입자 표면에 다수의 침상 형상을 갖는 표면 침상 형상의 니켈 입자나, 당해 표면 침상 입자를 평활화 처리하여 구상 입자로 한 것이나, 초고압 선회수 애터마이즈법으로 제조되는 구리 입자나 은 입자를 들 수 있다.Moreover, as said electroconductive particle, the surface acicular nickel particle which has many acicular shapes on the particle | grain surface manufactured by the carbonyl method, the thing which smoothed the surface acicular particle | grains, and made it into spherical particle | grains, or ultra-high pressure swirling after Copper particle | grains and silver particle | grains manufactured by the maize method are mentioned.

상기 도전성 입자로서는, 구상 또는 표면 침상 형상인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 도전성 입자로서는, 1∼2의 어스펙트비를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 1∼1.5의 어스펙트비를 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 1∼1.2의 어스펙트비를 갖는 것을 사용하는 것이 더 바람직하다. 상기 어스펙트비는, 상기 도전성 입자의 표면을, 주사형 전자 현미경을 사용하여 관찰함으로써 측정할 수 있다.It is preferable to use a spherical or surface acicular shape as said electroconductive particle. As said electroconductive particle, it is preferable to use what has an aspect ratio of 1-2, It is more preferable to use what has an aspect ratio of 1-1.5, It is more preferable to use what has an aspect ratio of 1-2 More preferred. The said aspect ratio can be measured by observing the surface of the said electroconductive particle using a scanning electron microscope.

상기 도전성 입자로서는, 2g/㎤∼7g/㎤의 탭 밀도를 갖는 것을 사용하는 것이, 도전성 점착제층을 형성할 때에 침강이나 응집하기 어려우므로 바람직하고, 3g/㎤∼6g/㎤의 탭 밀도를 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 4g/㎤∼5g/㎤의 탭 밀도를 갖는 것을 사용하는 것이 더 바람직하다.As the conductive particles, those having a tap density of 2 g / cm 3 to 7 g / cm 3 are preferable because sedimentation and aggregation are difficult when forming the conductive pressure-sensitive adhesive layer, and have a tap density of 3 g / cm 3 to 6 g / cm 3. It is more preferable to use what is used, and it is more preferable to use what has a tap density of 4 g / cm <3> -5g / cm <3>.

상기 도전성 입자로서는, 그 입자경 d50이 3㎛∼20㎛이며, 또한, 그 입자경 d85가 6㎛∼40㎛인 것을 사용하는 것이 바람직하다.As said electroconductive particle, it is preferable to use that whose particle diameter d50 is 3 micrometers-20 micrometers, and whose particle diameter d85 is 6 micrometers-40 micrometers.

상기 도전성 입자의 상기 입자경 d50은, 보다 바람직하게는 4㎛∼15㎛이며, 더 바람직하게는 5㎛∼12㎛이며, 특히 바람직하게는 6㎛∼10㎛이다.The said particle diameter d50 of the said electroconductive particle becomes like this. More preferably, it is 4 micrometers-15 micrometers, More preferably, it is 5 micrometers-12 micrometers, Especially preferably, it is 6 micrometers-10 micrometers.

또한, 상기 도전성 입자의 상기 입자경 d85는, 보다 바람직하게는 8㎛∼30㎛이며, 더 바람직하게는 9㎛∼25㎛이며, 특히 바람직하게는 10㎛∼20㎛이다. 또, 도전성 입자를 2종 이상 조합시켜 사용하는 경우, 그들의 혼합물의 평균 입자경 d50 및 d85가 상기 범위인 것을 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, the said particle diameter d85 of the said electroconductive particle becomes like this. More preferably, it is 8 micrometers-30 micrometers, More preferably, it is 9 micrometers-25 micrometers, Especially preferably, it is 10 micrometers-20 micrometers. Moreover, when using combining 2 or more types of electroconductive particle, it is preferable to use what the average particle diameters d50 and d85 of these mixtures are the said ranges.

또, 상기 입자경 d50은 입도 분포에 있어서의 50% 누적값(메디안경)을 나타내고, 상기 입자경 d85는 85% 누적값을 나타낸다. 구체적으로는, 상기 입자경은, 레이저 해석·산란법에 의해 측정되는 값이다. 측정 장치로서는 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼제 레이저 회절식 입도 분포 측정기 SALD-3000으로 측정한 값을 가리킨다.The particle size d50 represents a 50% cumulative value (median diameter) in the particle size distribution, and the particle diameter d85 represents an 85% cumulative value. Specifically, the particle diameter is a value measured by laser analysis and scattering method. As a measuring apparatus, the value measured with the laser diffraction type particle size distribution analyzer SALD-3000 made by Shimadzu Corporation.

상기 도전성 입자로서는, 상기 입자경 d50이 상기 도전성 점착제층의 두께의 50%∼150%가 되는 것을 선택하여 사용하는 것이 바람직하고, 60%∼120%가 되는 것을 선택하여 사용하는 것이 보다 바람직하고, 70%∼100%가 되는 것을 선택하여 사용하는 것이 더 바람직하다.As said electroconductive particle, it is preferable to select and use what the said particle diameter d50 becomes 50%-150% of the thickness of the said electroconductive adhesive layer, It is more preferable to select and use what becomes 60%-120%, 70 It is more preferable to select and use what becomes% to 100%.

또한, 상기 도전성 입자로서는, 상기 입자경 d85가 상기 도전성 점착제층의 두께의 80%∼200%가 되는 것을 선택하여 사용하는 것이 보다 바람직하고, 100%∼150%가 되는 것을 선택하여 사용하는 것이 보다 바람직하고, 110%∼140%가 되는 것을 선택하여 사용하는 것이 더 바람직하다.Moreover, as said electroconductive particle, it is more preferable to select and use what the said particle diameter d85 becomes 80%-200% of the thickness of the said electroconductive adhesive layer, and it is more preferable to select and use what becomes 100%-150%. And it is more preferable to select and use what becomes 110%-140%.

상기 입자경 d50 및 d85의 도전성 입자를 사용함에 의해, 보다 한층 도전성 및 접착 강도가 뛰어나며, 또한 도전성 점착 시트의 생산 효율을 보다 한층 향상시킬 수 있다.By using the electroconductive particle of the said particle diameters d50 and d85, it is further more excellent in electroconductivity and adhesive strength, and can further improve the production efficiency of an electroconductive adhesive sheet.

상기 도전성 입자는, 상기 도전성 점착제층에 포함되는 점착제 성분(고형분) 100질량부에 대하여 5질량부∼100질량부의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 10질량부∼100질량부의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하고, 20질량부∼80질량부의 범위에서 사용하는 것이, 보다 한층 도전성 및 접착 강도가 뛰어나며, 또한 도전성 점착 시트의 생산 효율을 보다 한층 향상시킬 수 있으므로 특히 바람직하다. 구체적으로는, 상기 도전성 입자는, 상기 도전성 점착제층에 포함되는 아크릴계 중합체(고형분) 100질량부에 대하여 5질량부∼100질량부의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 10질량부∼100질량부의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하고, 20질량부∼80질량부의 범위에서 사용하는 것이, 보다 한층 도전성 및 접착 강도가 뛰어나며, 또한 도전성 점착 시트의 생산 효율을 보다 한층 향상시킬 수 있으므로 특히 바람직하다.It is preferable to use the said electroconductive particle in the range of 5 mass parts-100 mass parts with respect to 100 mass parts of adhesive components (solid content) contained in the said electroconductive adhesive layer, and it is more preferable to use it in the range of 10 mass parts-100 mass parts. It is especially preferable to use in the range of 20 mass parts-80 mass parts, since it is more excellent in electroconductivity and adhesive strength, and can further improve the production efficiency of an electroconductive adhesive sheet. Specifically, it is preferable to use the said electroconductive particle in the range of 5 mass parts-100 mass parts with respect to 100 mass parts of acrylic polymers (solid content) contained in the said conductive adhesive layer, and in the range of 10 mass parts-100 mass parts It is more preferable to use, and it is especially preferable to use in the range of 20 mass parts-80 mass parts, since it is more excellent in electroconductivity and adhesive strength, and can further improve the production efficiency of an electroconductive adhesive sheet.

상기 도전성 입자와 상기 점착제 성분을 혼합하는 방법으로서는, 예를 들면, 도전성 물질과, 점착제 성분인 아크릴계 중합체 등의 점착제 성분과, 상기 첨가제 등을 혼합하는 방법을 들 수 있다. 상기 아크릴계 중합체 등의 점착제 성분과 용매와, 필요에 따라 첨가제는, 미리 혼합되어 있어도 된다. 상기 혼합에는, 디졸바, 버터플라이 믹서, BDM 2축 믹서, 플래니터리 믹서 등의 분산 혼합기를 사용할 수 있다. 그 중에서도 상기 혼합 시의 점도의 상승을 억제할 수 있는 중 정도의 셰어를 가하는 것이 가능한 디졸바, 버터플라이 믹서를 사용하는 것이 바람직하다.As a method of mixing the said electroconductive particle and the said adhesive component, the method of mixing an adhesive substance, such as an electrically conductive substance, an acrylic polymer which is an adhesive component, and the said additive etc. is mentioned, for example. The pressure-sensitive adhesive components such as the acrylic polymer, the solvent, and the additive may be mixed in advance if necessary. Dispersing mixers, such as a dissolver, a butterfly mixer, a BDM biaxial mixer, and a planetary mixer, can be used for the said mixing. Especially, it is preferable to use the dissolver and butterfly mixer which can add moderate share which can suppress the raise of the viscosity at the time of the said mixing.

또한, 상기 도전성 점착제층을 구성하는 점착제 성분으로서는, 예를 들면 아크릴계 점착제 조성물, 실리콘계 점착제 조성물, 고무계 점착제 조성물 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 상기 점착제 성분으로서는, 도전성 점착 시트 생산 비용의 저감과, 접착성의 추가적인 향상을 도모하기에 아크릴계 점착제 조성물을 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, as an adhesive component which comprises the said conductive adhesive layer, an acrylic adhesive composition, a silicone type adhesive composition, a rubber type adhesive composition etc. can be used, for example. Especially, it is preferable to use an acrylic adhesive composition as said adhesive component, in order to reduce reduction of an electroconductive adhesive sheet production cost, and to further improve adhesiveness.

상기 아크릴계 점착제 조성물로서는, 예를 들면 아크릴계 중합체를 함유하는 것을 사용할 수 있다.As said acrylic adhesive composition, what contains an acrylic polymer can be used, for example.

상기 아크릴계 중합체로서는, 단량체 성분을 중합하여 얻어지는 것을 사용할 수 있다.As said acrylic polymer, what is obtained by superposing | polymerizing a monomer component can be used.

상기 단량체 성분으로서는, 예를 들면 탄소 원자수 1∼14의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 함유하는 단량체 성분을 사용할 수 있다.As said monomer component, the monomer component containing the (meth) acrylate which has a C1-C14 alkyl group can be used, for example.

상기 탄소 원자수 1∼14의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등을 단독 또는 2종 이상 조합시켜 사용할 수 있다.As (meth) acrylate which has the said C1-C14 alkyl group, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, etc. can be used individually or in combination of 2 or more types.

그 중에서도, 상기 탄소 원자수 1∼14의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트로서는, 탄소 원자수가 4∼12의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하고, 탄소 원자수가 4∼9의 직쇄 또는 분기한 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하고, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트를 단독 또는 2종을 조합시켜 사용하는 것이 더 바람직하다.Especially, as (meth) acrylate which has the said C1-C14 alkyl group, it is preferable to use the (meth) acrylate which has a C12-C12 alkyl group, and it is C4-C9 It is more preferable to use (meth) acrylate which has a linear or branched alkyl group, and it is more preferable to use n-butylacrylate and 2-ethylhexyl acrylate individually or in combination of 2 types.

상기 탄소 원자수 1∼14의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트는, 상기 단량체 성분의 전량에 대하여 80질량%∼98.5질량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 90질량%∼98.5질량%의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to use the (meth) acrylate which has the said C1-C14 alkyl group in 80 mass%-98.5 mass% with respect to whole quantity of the said monomer component, and it is 90 mass%-98.5 mass% It is more preferable to use at.

또한, 본 발명에 사용하는 아크릴계 중합체를 제조할 때에는, 상기 단량체 성분으로서 극성 비닐 단량체를 사용할 수 있다. 상기 극성 비닐 단량체로서는, 수산기를 갖는 비닐 단량체, 카르복시기를 갖는 비닐 단량체, 아미드기를 갖는 비닐 단량체 등을 1종 또는 2종 이상 사용할 수 있다.Moreover, when manufacturing the acrylic polymer used for this invention, a polar vinyl monomer can be used as said monomer component. As said polar vinyl monomer, the vinyl monomer which has a hydroxyl group, the vinyl monomer which has a carboxyl group, the vinyl monomer which has an amide group, etc. can use 1 type (s) or 2 or more types.

카르복시기를 갖는 비닐 단량체로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, (메타)아크릴산2량체, 크로톤산, 에틸렌옥사이드 변성 숙신산아크릴레이트 등을 사용할 수 있고, 그 중에서도 아크릴산 또는 메타크릴산을 사용하는 것이 바람직하고, 아크릴산을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As a vinyl monomer which has a carboxyl group, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, (meth) acrylic acid dimer, crotonic acid, ethylene oxide modified succinic acid acrylate, etc. can be used, Among these, acrylic acid or methacrylic acid is used. It is preferable to use, and it is more preferable to use acrylic acid.

상기 카르복시기를 갖는 비닐 단량체로서는, 상기 단량체 성분의 전량에 대하여 1질량%∼10질량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 1.5질량%∼6질량%인 것이 보다 바람직하고, 2질량%∼4질량%인 것이, 피착체를 구성하는 금속면에 대한 초기 접착 강도가 뛰어나며, 또한, 도전성 점착 테이프를 고온 고습하에 보존 등 했을 경우여도 피착체에 대한 뛰어난 접착 강도를 발현할 수 있으므로 더 바람직하다. 또한, 상기 카르복시기를 갖는 비닐 단량체로서 바람직한 아크릴산은, 상기 단량체 성분의 전량에 대하여 1질량%∼6질량%의 범위에서 사용하는 것이, 피착체에 대한 보다 한층 뛰어난 젖음성과 접착 강도를 양립할 수 있으므로 바람직하다.As a vinyl monomer which has the said carboxyl group, it is preferable to use in the range of 1 mass%-10 mass% with respect to whole quantity of the said monomer component, It is more preferable that it is 1.5 mass%-6 mass%, It is 2 mass%-4 mass mass It is more preferable that it is% because it is excellent in the initial stage adhesive strength with respect to the metal surface which comprises a to-be-adhered body, and since the outstanding adhesive strength with respect to a to-be-adhered body can be expressed even if the conductive adhesive tape is preserve | saved under high temperature, high humidity. Moreover, since acrylic acid which is preferable as a vinyl monomer which has the said carboxyl group is used in the range of 1 mass%-6 mass% with respect to the whole quantity of the said monomer component can achieve more excellent wettability with respect to a to-be-adhered body, and adhesive strength. desirable.

상기 수산기를 갖는 비닐 단량체로서는, 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다.As a vinyl monomer which has the said hydroxyl group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (Meth) acrylate which has hydroxyl groups, such as (meth) acrylate, can be used.

상기 아미드기를 갖는 비닐 단량체로서는, 예를 들면 N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, 아크릴로일모르폴린, 아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드 등을 사용할 수 있다.As a vinyl monomer which has the said amide group, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl caprolactam, acryloyl morpholine, acrylamide, N, N- dimethyl acrylamide, etc. can be used, for example.

그 외의 비닐 단량체로서는, 예를 들면 아세트산비닐, 에틸렌옥사이드 변성 숙신산아크릴레이트, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산 등의 설폰산기 함유 모노머, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 말단 알콕시 변성 (메타)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.Examples of other vinyl monomers include sulfonic acid group-containing monomers such as vinyl acetate, ethylene oxide-modified succinate acrylate and 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, and 2- Terminal alkoxy modified (meth) acrylates, such as phenoxyethyl (meth) acrylate, etc. can be used.

상기 극성 비닐 단량체는, 상기 단량체 성분의 전량에 대하여 0.2질량%∼15질량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 0.4질량%∼10질량%의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하고, 0.5질량%∼6질량%의 범위에서 사용하는 것이, 접착 강도를 호적한 범위로 조정하기 쉬우므로 더 바람직하다.It is preferable to use the said polar vinyl monomer in 0.2 mass%-15 mass% with respect to whole quantity of the said monomer component, It is more preferable to use in 0.4 mass%-10 mass%, More preferably, it is 0.5 mass%- It is more preferable to use in the range of 6 mass% because it is easy to adjust adhesive strength to the suitable range.

상기 아크릴계 중합체는, 상기한 단량체 성분을, 용액 중합법, 괴상 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등 공지의 방법으로 중합시킴에 의해 제조할 수 있고, 그 중에서도 생산 비용의 저감과 생산 효율의 향상을 도모하기에, 용액 중합법을 사용하는 것이 바람직하다.The said acrylic polymer can be manufactured by superposing | polymerizing the above-mentioned monomer component by well-known methods, such as solution polymerization method, block polymerization method, suspension polymerization method, and emulsion polymerization method, Among these, production cost reduction and production efficiency of In order to improve, it is preferable to use a solution polymerization method.

상기 방법으로 얻어진 아크릴계 중합체로서는, 30만∼150만의 중량 평균 분자량을 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 50만∼120만의 중량 평균 분자량을 갖는 것을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As an acrylic polymer obtained by the said method, it is preferable to use what has a weight average molecular weight of 300,000-1,500,000, and it is more preferable to use what has a weight average molecular weight of 500,000-1,200,000.

상기 도전성 점착제층은, 보다 한층 응집력을 향상시키고, 보다 한층 접착성이 뛰어난 효과를 나타내기에, 3차원 가교 구조를 형성하고 있는 것이 바람직하다.Since the said electroconductive adhesive layer improves cohesion force further, and shows the effect which was further excellent in adhesiveness, it is preferable to form the three-dimensional crosslinked structure.

상기 가교의 정도는, 그 지표로서, 상기 아크릴계 중합체의 양용매(良溶媒)인 톨루엔에 24시간 침지한 후의 불용분으로 나타나는 겔분율을 사용함으로써 인식할 수 있다. 상기 도전성 점착제층으로서는, 그 겔분율이 25질량%∼65질량%인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 35질량%∼60질량%인 것을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 40질량%∼55질량%인 것을 사용하는 것이 전단 방향의 응집력 및 내박리성을 보다 양호하게 할 수 있으므로 더 바람직하다.The grade of the said crosslinking can be recognized by using the gel fraction represented by the insoluble content after immersing in toluene which is a good solvent of the said acrylic polymer for 24 hours as the index. As said conductive adhesive layer, it is preferable to use that whose gel fraction is 25 mass%-65 mass%, It is more preferable to use what is 35 mass%-60 mass%, It is 40 mass%-55 mass% It is more preferable to use because it can make cohesion force and peeling resistance of a shear direction better.

또, 상기 겔분율은, 이하의 식으로 산출할 수 있다.In addition, the said gel fraction can be computed with the following formula | equation.

겔분율(질량%)={(톨루엔에 침지한 후의 점착제층 질량)/(톨루엔에 침지하기 전의 점착제층 질량)}×100Gel fraction (mass%) = {(pressure sensitive adhesive layer mass after immersion in toluene) / (pressure sensitive adhesive layer mass before immersion in toluene)} × 100

점착제층 질량=(도전성 점착 시트의 질량)-(기재의 질량)-(도전성 입자의 질량)Adhesive layer mass = (mass of electroconductive adhesive sheet)-(mass of base material)-(mass of electroconductive particle)

상기 가교 구조를 구비한 도전성 점착제층을 형성하는 경우, 점착제로서는, 예를 들면 상기 아크릴계 중합체 등과 함께, 가교제를 함유하는 것을 사용하는 것이 바람직하다.When forming the conductive adhesive layer provided with the said crosslinked structure, it is preferable to use what contains a crosslinking agent with the said acrylic polymer etc. as an adhesive, for example.

상기 가교제로서는, 예를 들면 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 킬레이트계 가교제, 아질리딘계 가교제 등을 사용할 수 있다. 상기 가교제의 종류는, 상기 아크릴계 중합체가 갖는 관능기에 대응한 것을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들면 상기 아크릴계 중합체로서 카르복시기를 갖는 것을 사용하는 경우에는, 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 것이 호적하다.As said crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, a chelate type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, etc. can be used, for example. It is preferable to use the thing corresponding to the functional group which the said acrylic polymer has for the kind of the said crosslinking agent. For example, when using what has a carboxy group as said acrylic polymer, it is suitable to use an isocyanate type crosslinking agent.

상기 가교제는, 상기 도전성 점착제층의 상기 겔분율이 상기 범위가 되는 양을 선택하여 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to select and use the said crosslinking agent in the said gel fraction of the said electroconductive adhesive layer becoming the said range.

상기 도전성 점착제층은, 그 접착력을 보다 한층 향상하는 것을 목적으로 하여, 점착 부여 수지를 함유하고 있어도 된다.The said electroconductive adhesive layer may contain tackifying resin for the purpose of further improving the adhesive force.

상기 점착 부여 수지로서는, 예를 들면 로진계 수지, 테르펜계 수지, 지방족(C5계)이나 방향족(C9계) 등의 석유 수지, 스티렌계 수지, 페놀계 수지, 자일렌계 수지, 메타크릴계 수지 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 상기 점착 부여 수지로서는, 로진계 수지를 사용하는 것이 바람직하고, 중합 로진계 수지를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 상기 점착 부여 수지의 사용량은, (메타)아크릴계 중합체 100질량부에 대하여, 10질량부∼50질량부의 범위인 것이 바람직하다.Examples of the tackifying resins include rosin-based resins, terpene-based resins, petroleum resins such as aliphatic (C5) and aromatic (C9), styrene-based resins, phenol-based resins, xylene-based resins, and methacryl-based resins. Can be used. Especially, as said tackifying resin, it is preferable to use rosin-type resin, and it is more preferable to use superposition | polymerization rosin-type resin. It is preferable that the usage-amount of the said tackifying resin is 10 mass parts-50 mass parts with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic-type polymers.

상기 도전성 점착제층은, 필요에 따라, 각종 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The said conductive adhesive layer may contain various additives as needed.

상기 첨가제로서는, 예를 들면 가소제, 연화제, 금속 불활성제, 산화 방지제, 안료, 염료 등을 사용할 수 있다.As said additive, a plasticizer, a softener, a metal deactivator, antioxidant, a pigment, dye, etc. can be used, for example.

상기 도전성 점착제층의 형성에 사용 가능한 점착제로서는, 소정량의 상기 도전성 물질과, 상기 점착제 성분을 함유하는 것을 사용할 수 있다.As an adhesive which can be used for formation of the said conductive adhesive layer, what contains the said electrically conductive substance of the predetermined amount and the said adhesive component can be used.

또한, 상기 도전성 점착제층으로서는, 트리아졸계 화합물을 함유하는 것을 사용할 수 있다.Moreover, as said electroconductive adhesive layer, what contains a triazole type compound can be used.

상기 트리아졸 화합물로서는, 예를 들면 벤조트리아졸, 톨릴트리아졸 및 그 칼륨염, 3-(N-살리실로일)아미노-1,2,4트리아졸, 2-(2'-히드록시5메틸페닐)벤조트리아졸 등을 사용할 수 있고, 벤조트리아졸을 사용하는 것이, 뛰어난 접착 유지력과, 고온 고습도 환경하에 방치되었을 경우에 생길 수 있는 접착 강도의 저하를 억제할 수 있으므로 특히 바람직하다.Examples of the triazole compound include benzotriazole, tolyltriazole and its potassium salt, 3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4triazole, and 2- (2'-hydroxy5methylphenyl ) Benzotriazole and the like can be used, and the use of benzotriazole is particularly preferable because it can suppress a decrease in adhesion strength which can occur when left in an excellent adhesion holding force and a high temperature, high humidity environment.

상기 트리아졸계 화합물은, 아크릴계 점착제 조성물 100질량부(고형분)에 대하여, 0.05질량부∼3.0질량부의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 0.1질량부∼1.5질량부의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하고, 0.3질량부∼1.0질량부의 범위에서 사용하는 것이, 뛰어난 접착 유지력과, 고온 고습도 환경하에 방치되었을 경우에 생길 수 있는 접착 강도의 저하를 억제할 수 있으므로 더 바람직하다.It is preferable to use the said triazole type compound in 0.05 mass part-3.0 mass parts with respect to 100 mass parts (solid content) of an acrylic adhesive composition, It is more preferable to use in the range of 0.1 mass part-1.5 mass parts, 0.3 It is more preferable to use it in the range of mass part-1.0 mass part because it can suppress the fall of the adhesive strength which may arise when it is left under the outstanding adhesive holding force and high temperature, high humidity environment.

상기 방법으로 얻어진 점착제는, 오로지 도전성 점착제층의 형성에 사용할 수 있다. 상기 점착제의 고형분은, 10질량%∼70질량%의 범위인 것이 바람직하고, 30질량%∼55질량%의 범위인 것이 보다 바람직하고, 43질량%∼50질량%의 범위인 것이 더 바람직하다.The adhesive obtained by the said method can be used only for formation of a conductive adhesive layer. It is preferable that the solid content of the said adhesive is the range of 10 mass%-70 mass%, It is more preferable that it is the range of 30 mass%-55 mass%, It is more preferable that it is the range of 43 mass%-50 mass%.

본 발명의 도전성 점착 시트는, 예를 들면 박리 필름의 표면에 상기 점착제를, 롤 코터나 다이 코터 등을 사용하여 도포하고, 그 도포층을 50℃∼120℃ 정도의 환경하에서 건조하여 용매를 제거함에 의해 도전성 점착층을 형성하는 공정, 다음으로 도전성 점착층을, 상기 도전성 기재의 양쪽의 면에 적층하고, 필요에 따라 열 라미네이트 등 하는 공정, 다음으로, 필요에 따라 15℃∼50℃ 정도의 온도에서 48시간∼168시간 정도 양생하는 공정을 거침에 의해 제조할 수 있다.In the conductive adhesive sheet of the present invention, the adhesive is applied to the surface of the release film, for example, using a roll coater or a die coater, and the coating layer is dried in an environment of about 50 ° C to 120 ° C to remove the solvent. By the step of forming a conductive adhesive layer, and then laminating the conductive adhesive layer on both surfaces of the conductive substrate, and performing thermal lamination as necessary, and then, as necessary, about 15 ° C to 50 ° C. It can manufacture by going through the process of curing about 48 to 168 hours at temperature.

상기 열 라미네이트는, 40℃∼120℃에서 행하는 것이 바람직하고, 50℃∼100℃에서 행하는 것이 보다 바람직하고, 60℃∼90℃에서 행하는 것이 더 바람직하다.It is preferable to perform the said thermal lamination at 40 degreeC-120 degreeC, It is more preferable to carry out at 50 degreeC-100 degreeC, It is more preferable to carry out at 60 degreeC-90 degreeC.

또한, 본 발명의 도전성 점착 시트로서는, 그것이 피착체에 첩부되기 전까지 필름이 적층된 것이어도 된다.Moreover, as the electroconductive adhesive sheet of this invention, what laminated | stacked the film may be sufficient before it affixes on a to-be-adhered body.

상기 박리 필름으로서는, 예를 들면 그래프트지, 글라신지, 상질지 등의 종이; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(OPP, CPP), 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 수지 필름; 상기 종이와 수지 필름을 적층한 라미네이트지, 상기 종이에 클레이나 폴리비닐알코올 등으로 필링(filling) 처리를 실시한 것의 편면 혹은 양면에, 실리콘계 수지 등의 박리 처리를 실시한 것 등을 사용할 수 있다.As said peeling film, For example, paper, such as graft paper, glassine paper, and quality paper; Resin films such as polyethylene, polypropylene (OPP, CPP) and polyethylene terephthalate; The laminated paper which laminated | stacked the said paper and the resin film, and the thing which performed peeling process of silicone resin etc. to one or both surfaces of the paper which was filled with clay, polyvinyl alcohol, etc. can be used.

본 발명의 도전성 점착 시트의 호적한 구성의 예를 도 1 및 도 2에 나타낸다. 도 1은, 도전성 기재(1) 상에 도전성 점착제층(2)을 적층한 편면 점착 시트이다. 또한, 도 2는, 도전성 기재(1)의 양면에 도전성 점착제층(2)을 적층한 양면 점착 시트이다. 이들 구성에 있어서는, 점착제층(2)의 표면에, 박리 필름이 마련된 구성을 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of suitable configurations of the conductive adhesive sheet of the present invention are shown in FIGS. 1 and 2. FIG. 1: is a single-sided adhesive sheet which laminated | stacked the conductive adhesive layer 2 on the conductive base material 1. FIG. 2 is a double-sided adhesive sheet which laminated | stacked the conductive adhesive layer 2 on both surfaces of the electroconductive base material 1. In these structures, the structure in which the peeling film was provided in the surface of the adhesive layer 2 can be used preferably.

본 발명의 도전성 점착 시트는, 유연성이 뛰어나며, 피착체에의 양호한 접착성과 도전성과 리워크성을 가지므로, 전기, 전자 기기 등에 사용하는 전자파의 실드용, 정전기 대전 방지의 접지 고정용으로서 유용하다. 특히, 요철부가 있으며, 도전성 점착 시트의 첩부가 어려운 휴대 전자 기기 등의 소형 전자 단말의 내장 부품에 첩부하여 사용하는 용도에 호적하게 적용할 수 있다.Since the electroconductive adhesive sheet of this invention is excellent in flexibility, and has favorable adhesiveness to an adherend, electroconductivity, and rework property, it is useful for the shielding of electromagnetic waves used for electrical and electronic devices, etc., for grounding fixation of antistatic charge. . In particular, there is an uneven part, and it can apply suitably to the use used by affixing to the built-in components of small electronic terminals, such as a portable electronic device in which sticking of a conductive adhesive sheet is difficult.

[실시예]EXAMPLE

이하에 실시예에 대해서 구체적으로 설명한다.An Example is demonstrated concretely below.

제조예1 [도전성 기재(A)]Preparation Example 1 [Conductive Substrate (A)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」(평량 10g/㎡, 두께 15㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 5㎛(평균경))를, 염화제1주석 10g/l, 염산 20㎖/l를 포함한 수용액에 상온에서 약 5분간 침지하고, 그 후, 수세했다.Wet polyester nonwoven fabric "Type A" made by Miki Tokushu Seishi Co., Ltd. (basic weight 10 g / m <2>, thickness 15 micrometers, diameter 5 micrometers (average diameter) of polyester fiber) 10 g / l of tin chloride, hydrochloric acid It was immersed in the aqueous solution containing 20 ml / l for about 5 minutes at normal temperature, and then washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 염화팔라듐 1g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 상온에서 약 10분 침지하고, 그 후, 수세했다.Next, the washed water was immersed in an aqueous solution containing 1 g / l palladium chloride and 20 ml / l hydrochloric acid at room temperature for about 10 minutes, and then washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 황산구리 10g/l, 포름알데히드 7㎖/l, 수산화나트륨 8g/l, 에틸렌디아민4아세트산4나트륨(EDTA-4Na) 30g/l 및 안정제 0.25㎖/l를 포함하는 40℃로 조정한 무전해 도금액에 20분 침지하고, 그 후, 수세함에 의해, 무전해 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를 얻었다.Next, the above-washed thing was 40 containing 10 g / l copper sulfate, 7 ml / l formaldehyde, 8 g / l sodium hydroxide, 30 g / l ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium acetate (EDTA-4Na) and 0.25 ml / l stabilizer. It was immersed in the electroless plating liquid adjusted to ° C for 20 minutes, and then washed with water to obtain a wet polyester nonwoven fabric subjected to electroless plating.

다음으로, 상기 무전해 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를, 전해 구리 도금액(오쿠노세이야쿠고교 가부시키가이샤제, 톳프루치나 SF)에 침지하고, 상기 전해 구리 도금액에 의한 구리의 도금량이 6g/㎡가 되도록 전해 구리 도금 처리함에 의해, 전해 구리 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를 얻었다.Next, the electroless-plated wet polyester nonwoven fabric is immersed in an electrolytic copper plating solution (manufactured by Okuno Seiyaku Kogyo Co., Ltd.), and the plating amount of copper by the electrolytic copper plating solution is 6 g / m 2. By electrolytic copper plating process, the wet polyester nonwoven fabric by which the electrolytic copper plating process was carried out was obtained.

다음으로, 상기 전해 구리 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를, 황산니켈 240g/l, 염화니켈 45g/l, 붕산 30g/l, 사카린 2g/l 및 1,4-부틴디올 0.2g/l를 포함하는 전해 니켈 도금액에 침지하고, 상기 전해 니켈 도금액에 의한 니켈의 도금량이 4g/㎡가 되도록 전해 니켈 도금 처리하고, 수세하고, 건조시킴에 의해, 도전성 기재(A)를 제작했다.Next, the electrolytic copper plated wet polyester nonwoven fabric includes nickel sulfate 240g / l, nickel chloride 45g / l, boric acid 30g / l, saccharine 2g / l and 1,4-butyndiol 0.2g / l. The electroconductive base material A was produced by immersing in the electrolytic nickel plating liquid, electrolytic nickel plating process, washing with water, and drying so that the plating amount of nickel by the said electrolytic nickel plating liquid might be 4 g / m <2>.

제조예2 [도전성 기재(B)]Preparation Example 2 [Conductive Substrate (B)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」를 대신하여, 아사히가세이 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「실키화인 WS7A-05-6」(평량 6g/㎡, 두께 18㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 4.5㎛(평균경))을 사용한 것 이외에는, 제조예1과 같은 방법으로 도전성 기재(B)를 제작했다.Asahi Kasei Co., Ltd. wet polyester nonwoven fabric "silkyfine WS7A-05-6" instead of the wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushu Seishi Co., Ltd. (basic weight 6 g / m2, thickness 18) A conductive substrate (B) was produced in the same manner as in Production Example 1, except that 4.5 µm and a diameter of the polyester fiber (average diameter) were used.

제조예3 [도전성 기재(C)]Preparation Example 3 [Conductive Substrate (C)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」를 대신하여, 아사히가세이 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「실키화인 WS7A-04」(평량 4g/㎡, 두께 16㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 4.5㎛(평균경))를 사용한 것 이외에는, 제조예1과 같은 방법으로 도전성 기재(C)를 제작했다.Asahi Kasei Co., Ltd. wet polyester nonwoven fabric "silky phosphorus WS7A-04" instead of the wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushu Seishi Co., Ltd. (basic weight 4 g / m <2>, thickness 16micrometer, Conductive base material (C) was produced in the same manner as in Production Example 1, except that 4.5 µm (average diameter) of polyester fiber was used.

제조예4 [도전성 기재(D)]Preparation Example 4 [Conductive Substrate (D)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」를 대신하여, 니혼세이시파피리아 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「5.5g/㎡」(평량 5.5g/㎡, 두께 14㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 4.5㎛(평균경))를 사용한 것 이외에는, 제조예1과 같은 방법으로 도전성 기재(D)를 제작했다.Nippon Seishi Papia's wet polyester nonwoven fabric "5.5 g / m2" (Basic weight 5.5 g / m2, 14 micrometers in thickness) instead of the wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushushi Co., Ltd. Conductive base material (D) was produced in the same manner as in Production Example 1, except that 4.5 µm (average diameter) of polyester fiber was used.

제조예5 [도전성 기재(E)]Preparation Example 5 [Conductive Substrate (E)]

상온하, 미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」(평량 10g/㎡, 두께 15㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 5㎛(평균경))를, 염화제1주석 10g/l 및 염산 20㎖/l를 함유하는 수용액에 약 5분간 침지하고, 수세한 후, 염화팔라듐 1g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 약 10분 침지하고, 수세했다.Wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushushi Co., Ltd. (normal basis weight 10 g / m <2>, thickness 15 micrometers, diameter 5 micrometers (average diameter) of polyester fiber) under normal temperature 10 g / of tin chloride It was immersed in an aqueous solution containing 1 and 20 ml / l of hydrochloric acid for about 5 minutes, washed with water, and then immersed in an aqueous solution containing 1 g / l of palladium chloride and 20 ml / l hydrochloric acid for about 10 minutes, and washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 황산구리 10g/l, 포름알데히드 7㎖/l, 수산화나트륨 8g/l, 에틸렌디아민4아세트산4나트륨(EDTA-4Na) 30g/l 및 안정제(0.25㎖/l)를 포함하는 40℃로 조정한 무전해 도금액에, 60분 침지하고, 상기 무전해 도금액에 의한 구리의 도금량이 6g/㎡가 되도록 무전해 도금 처리한 후, 수세하여, 건조시킴에 의해, 도전성 기재(E)를 제작했다.Next, the washed water contained 10 g / l copper sulfate, 7 ml / l formaldehyde, 8 g / l sodium hydroxide, 30 g / l ethylenediaminetetrabasic tetrasodium acetate (EDTA-4Na), and a stabilizer (0.25 ml / l). The electroconductive base material (E) was immersed in the electroless plating liquid adjusted to 40 degreeC to 60 minutes, electroless-plated so that the plating amount of copper by the said electroless plating liquid may be 6 g / m <2>, and it washed with water and dried. )

제조예6 [도전성 기재(F)]Preparation Example 6 [Conductive Substrate (F)]

상온하, 미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」(평량 10g/㎡, 두께 15㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 5㎛(평균경))를, 염화제1주석 10g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 약 5분간 침지하고, 수세한 후, 염화팔라듐 1g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 약 10분 침지하고, 수세했다.Wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushushi Co., Ltd. (normal basis weight 10 g / m <2>, thickness 15 micrometers, diameter 5 micrometers (average diameter) of polyester fiber) under normal temperature 10 g / of tin chloride It was immersed in an aqueous solution containing l and 20 ml / l of hydrochloric acid for about 5 minutes, washed with water, and then immersed in an aqueous solution containing 1 g / l of palladium chloride and 20 ml / l hydrochloric acid for about 10 minutes, and washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 황산니켈 20g/l, 시트르산나트륨 30g/l, 차아인산나트륨 15g/l 및 염화암모늄 30g/l를 함유하고, 암모니아수로 pH 9.5로 조정된 40℃의 무전해 도금액에 60분 침지하고, 상기 무전해 도금액에 의한 니켈의 도금량이 6g/㎡가 되도록 무전해 도금 처리한 후, 수세하여, 건조시킴에 의해, 도전성 기재(F)를 제작했다.Next, the washed water was added to a 40 ° C electroless plating solution containing 20 g / l nickel sulfate, 30 g / l sodium citrate, 15 g / l sodium hypophosphite and 30 g / l ammonium chloride, and adjusted to pH 9.5 with ammonia water. The electroconductive base material F was produced by immersion for 60 minutes, electroless-plating process so that the plating amount of nickel by the said electroless-plating liquid may be set to 6 g / m <2>, and then washing with water and drying.

제조예7 [도전성 기재(G)]Preparation Example 7 [Conductive Substrate (G)]

상온하, 미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」(평량 10g/㎡, 두께 15㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 5㎛(평균경))를, 염화제1주석 10g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 약 5분간 침지하고, 수세한 후, 염화팔라듐 1g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 약 10분 침지하고, 수세했다.Wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushushi Co., Ltd. (normal basis weight 10 g / m <2>, thickness 15 micrometers, diameter 5 micrometers (average diameter) of polyester fiber) under normal temperature 10 g / of tin chloride It was immersed in an aqueous solution containing l and 20 ml / l of hydrochloric acid for about 5 minutes, washed with water, and then immersed in an aqueous solution containing 1 g / l of palladium chloride and 20 ml / l hydrochloric acid for about 10 minutes, and washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 황산구리 10g/l, 포름알데히드 7㎖/l, 수산화나트륨 8g/l, 에틸렌디아민4아세트산4나트륨(EDTA-4Na) 30g/l 및 안정제(0.25㎖/l)를 포함하는 40℃로 조정된 무전해 구리 도금액에 60분 침지하고, 상기 무전해 구리 도금액에 의한 구리의 도금량을 6g/㎡가 되도록 무전해 구리 도금 처리한 후, 수세함에 의해, 무전해 구리 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를 얻었다.Next, the washed water contained 10 g / l copper sulfate, 7 ml / l formaldehyde, 8 g / l sodium hydroxide, 30 g / l ethylenediaminetetrabasic tetrasodium acetate (EDTA-4Na), and a stabilizer (0.25 ml / l). It was immersed in the electroless copper plating liquid adjusted to 40 degreeC to 60 minutes, electroless copper plating process was carried out so that the plating amount of copper by the said electroless copper plating liquid might be 6 g / m <2>, and it washed with water, and electroless copper plating process was carried out. A wet polyester nonwoven was obtained.

다음으로, 상기 무전해 구리 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를, 황산니켈 20g/l, 시트르산나트륨 30g/l, 차아인산나트륨 15g/l 및 염화암모늄 30g/l를 함유하고, 암모니아수로 pH 9.5로 조정된 40℃의 무전해 니켈 도금액에 30분 침지하고, 상기 무전해 니켈 도금액에 의한 니켈의 도금량이 4g/㎡가 되도록 무전해 니켈 도금 처리한 후, 수세함에 의해, 도전성 기재(G)를 제작했다.Next, the electroless copper-plated wet polyester nonwoven fabric contains 20 g / l nickel sulfate, 30 g / l sodium citrate, 15 g / l sodium hypophosphite and 30 g / l ammonium chloride, and adjusted to pH 9.5 with ammonia water. The electroconductive base material G was produced by immersion for 30 minutes in the 40 degreeC electroless nickel plating liquid, electroless nickel plating process so that the plating amount of nickel by the said electroless nickel plating liquid might be 4 g / m <2>, and then washing with water. .

제조예8 [도전성 기재(H)]Preparation Example 8 [Conductive Substrate (H)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」(평량 10g/㎡, 두께 15㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 5㎛(평균경))를, 염화제1주석 10g/l, 염산 20㎖/l를 포함한 수용액에 상온에서 약 5분간 침지하고, 그 후, 수세했다.Wet polyester nonwoven fabric "Type A" made by Miki Tokushu Seishi Co., Ltd. (basic weight 10 g / m <2>, thickness 15 micrometers, diameter 5 micrometers (average diameter) of polyester fiber) 10 g / l of tin chloride, hydrochloric acid It was immersed in the aqueous solution containing 20 ml / l for about 5 minutes at normal temperature, and then washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 염화팔라듐 1g/l 및 염산 20㎖/l를 포함하는 수용액에 상온에서 약 10분 침지하고, 그 후, 수세했다.Next, the washed water was immersed in an aqueous solution containing 1 g / l palladium chloride and 20 ml / l hydrochloric acid at room temperature for about 10 minutes, and then washed with water.

다음으로, 상기 수세한 것을, 황산구리 10g/l, 포름알데히드 7㎖/l, 수산화나트륨 8g/l, 에틸렌디아민4아세트산4나트륨(EDTA-4Na) 30g/l 및 안정제 0.25㎖/l를 포함하는 40℃로 조정한 무전해 도금액에 20분 침지하고, 그 후, 수세함에 의해, 무전해 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를 얻었다.Next, the above-washed thing was 40 containing 10 g / l copper sulfate, 7 ml / l formaldehyde, 8 g / l sodium hydroxide, 30 g / l ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium acetate (EDTA-4Na) and 0.25 ml / l stabilizer. It was immersed in the electroless plating liquid adjusted to ° C for 20 minutes, and then washed with water to obtain a wet polyester nonwoven fabric subjected to electroless plating.

다음으로, 상기 무전해 도금 처리된 습식 폴리에스테르 부직포를, 황산니켈 240g/l, 염화니켈 45g/l, 붕산 30g/l, 사카린 2g/l 및 1,4-부틴디올 0.2g/l를 포함하는 전해 니켈 도금액에 침지하고, 상기 전해 니켈 도금액에 의한 니켈의 도금량이 4g/㎡가 되도록 전해 니켈 도금 처리하고, 수세하고, 건조시킴에 의해, 도전성 기재(H)를 제작했다.Next, the electroless plated wet polyester nonwoven fabric includes nickel sulfate 240g / l, nickel chloride 45g / l, boric acid 30g / l, saccharin 2g / l and 1,4-butyndiol 0.2g / l. The electroconductive base material H was produced by immersing in the electrolytic nickel plating liquid, electrolytic nickel plating process, washing with water, and drying so that the plating amount of nickel by the said electrolytic nickel plating liquid might be 4 g / m <2>.

제조예9 [도전성 기재(I)]Preparation Example 9 [Conductive Substrate (I)]

아사히가세이센이 가부시키가이샤제 푸레시제(건식 폴리에스테르 부직포에 구리와 니켈이 도금 처리된 것)를 도전성 기재(I)로 했다.Asahi Kasei Co., Ltd. make the purese (The thing which copper and nickel plated on the dry polyester nonwoven fabric) made electroconductive base material (I).

제조예10 [도전성 기재(J)]Preparation Example 10 [Conductive Substrate (J)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」를 대신하여, JX닛코닛세키에너지 가부시키가이샤제의 건식 폴리에스테르 부직포 「미라이후 TY0503FE」(평량 8g/㎡, 두께 28㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 12㎛(평균경))를 사용한 것 이외에는, 제조예1과 같은 방법으로 도전성 기재(J)를 제작했다.Dry polyester nonwoven fabric "Miraifu TY0503FE" made by JX Nikko Corporation Seki Energy Co., Ltd. in place of the wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushu Seishi Co., Ltd. (basic weight 8 g / m2, thickness 28micrometer, Conductive base material J was produced in the same manner as in Production Example 1, except that 12 µm (average diameter) of polyester fiber was used.

제조예11 [도전성 기재(K)]Preparation Example 11 [Conductive Substrate (K)]

[도금 부직포K][Plating Nonwoven K]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」를 대신하여, JX닛코닛세키에너지 가부시키가이샤제의 건식 폴리에스테르 부직포 「미라이후 T10」(평량 10g/㎡, 두께 28㎛, 폴리에스테르 섬유의 직경 10㎛(평균경))을 사용한 것 이외에는, 제조예1과 같은 방법으로 도전성 기재(K)를 제작했다.Dry polyester nonwoven fabric "Miraifu T10" made by JX Nikko Nesseki Energy Co., Ltd. (a basis weight 10 g / m2, thickness 28 micrometers) instead of the wet polyester nonwoven fabric "type A" made by Miki Tokushu Seishi Conductive base material K was produced in the same manner as in Production Example 1, except that 10 µm (average diameter) of polyester fiber was used.

제조예12 [도전성 기재(L)]Preparation Example 12 [Conductive Substrate (L)]

미키토쿠슈세이시 가부시키가이샤제의 습식 폴리에스테르 부직포 「타입A」를 대신하여, 니혼세이시파피리아 가부시키가이샤제의 습식 마부직포 「D54E」(평량 16g/㎡, 두께 43㎛)를 사용한 것 이외에는, 제조예1과 같은 방법으로 도전성 기재(L)를 제작했다.Instead of using the wet polyester nonwoven fabric "D54E" made by Nippon Seishipia Co., Ltd. (base weight 16 g / m 2, thickness 43 µm) in place of the wet polyester nonwoven fabric "Type A" manufactured by Miki Tokushu Seishi Co., Ltd. And the conductive base L were produced in the same manner as in Production Example 1.

조제예1 [아크릴계 점착제 조성물(1)의 조제]Preparation Example 1 [Preparation of Acrylic Adhesive Composition (1)]

냉각관, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 반응 용기에 n-부틸아크릴레이트 96.4질량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 0.1질량부, 아크릴산 3.5질량부와 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부틸니트릴 0.1질량부를 아세트산에틸 100질량부에 용해하고, 반응 용기 내를 질소 치환한 후, 80℃에서 12시간 중합시킴에 의해, 중량 평균 분자량 60만의 아크릴계 공중합체 용액을 얻었다.96.4 parts by mass of n-butyl acrylate, 0.1 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 3.5 parts by mass of acrylic acid and a polymerization initiator in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a thermometer and a dropping funnel. 0.1 mass part of isobutyl nitrile was melt | dissolved in 100 mass parts of ethyl acetate, and the inside of the reaction container was nitrogen-substituted, and it superposed | polymerized at 80 degreeC for 12 hours, and obtained the acrylic copolymer solution of the weight average molecular weight 600,000.

상기 아크릴계 공중합체 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 중합 로진펜타에리트리톨에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 펜셀 D-135, 연화점 135℃) 10질량부, 불균화 로진글리세린에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 수퍼에스테르 A-100, 연화점 100℃) 10질량부를 배합하고, 아세트산에틸을 사용하여, 상기 아크릴계 공중합체의 고형분 농도를 45질량%로 조정함에 의해 아크릴계 점착제 조성물(1)을 얻었다.10 mass parts of superposition | polymerization rosin pentaerythritol ester (Arakawa Chemical Co., Ltd. make, Pencel D-135, softening point 135 degreeC) with respect to 100 mass parts of solid content of the said acryl-type copolymer solution, and disproportionated rosin glycerin ester (Arakawaga 10 mass parts of Kaku Kogyo Co., Ltd. product, superester A-100, softening point 100 degreeC), and adjusts the solid content concentration of the said acryl-type copolymer to 45 mass% using ethyl acetate, The acrylic adhesive composition (1) Got.

조제예2 [아크릴계 점착제 조성물(2)의 조제]Preparation Example 2 [Preparation of Acrylic Adhesive Composition (2)]

냉각관, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 반응 용기에 n-부틸아크릴레이트 99.9질량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 0.1질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부틸니트릴 0.1질량부를 아세트산에틸 100질량부에 용해하고, 반응 용기 내를 질소 치환한 후, 80℃에서 12시간 중합시킴에 의해, 중량 평균 분자량 60만의 아크릴계 공중합체 용액을 얻었다.99.9 parts by mass of n-butyl acrylate, 0.1 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.1 mass of 2,2'-azobisisobutylnitrile as a polymerization initiator in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel. The part was melt | dissolved in 100 mass parts of ethyl acetate, and the inside of the reaction container was nitrogen-substituted, and it superposed | polymerized at 80 degreeC for 12 hours, and obtained the acrylic copolymer solution of the weight average molecular weight 600,000.

상기 아크릴계 공중합체 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 중합 로진펜타에리트리톨에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 펜셀 D-135, 연화점 135℃) 10질량부, 불균화 로진글리세린에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 수퍼에스테르 A-100, 연화점 100℃) 10질량부를 배합하고, 아세트산에틸을 사용하여, 상기 아크릴계 공중합체의 고형분 농도를 45질량%로 조정함에 의해 아크릴계 점착제 조성물(2)을 얻었다.10 mass parts of superposition | polymerization rosin pentaerythritol ester (Arakawa Chemical Co., Ltd. product, Pencel D-135, softening point 135 degreeC) with respect to 100 mass parts of solid content of the said acryl-type copolymer solution, a disproportionated rosin glycerin ester (Arakawaga 10 mass parts of Kaku Kogyo Co., Ltd. make, superester A-100, softening point 100 degreeC), and adjusts the solid content concentration of the said acryl-type copolymer to 45 mass% using ethyl acetate, The acrylic adhesive composition (2) Got.

조제예3 [아크릴계 점착제 조성물(3)의 조제]Preparation Example 3 [Preparation of Acrylic Adhesive Composition (3)]

냉각관, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 반응 용기에 n-부틸아크릴레이트 92.9질량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 0.1질량부, 아크릴산 7질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부틸니트릴 0.1질량부를 아세트산에틸 100질량부에 용해하고, 반응 용기 내를 질소 치환한 후, 80℃에서 12시간 중합시킴에 의해, 중량 평균 분자량 60만의 아크릴계 공중합체 용액을 얻었다.92.9 parts by mass of n-butyl acrylate, 0.1 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 7 parts by mass of acrylic acid, and 2,2'-azobis as a polymerization initiator in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel. 0.1 mass part of isobutyl nitrile was melt | dissolved in 100 mass parts of ethyl acetate, and the inside of the reaction container was nitrogen-substituted, and it superposed | polymerized at 80 degreeC for 12 hours, and obtained the acrylic copolymer solution of the weight average molecular weight 600,000.

상기 아크릴계 공중합체 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 중합 로진펜타에리트리톨에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 펜셀 D-135, 연화점 135℃) 10질량부, 불균화 로진글리세린에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 수퍼에스테르 A-100, 연화점 100℃) 10질량부를 배합하고, 아세트산에틸을 사용하여, 상기 아크릴계 공중합체의 고형분 농도를 45질량%로 조정함에 의해 아크릴계 점착제 조성물(3)을 얻었다.10 mass parts of superposition | polymerization rosin pentaerythritol ester (Arakawa Chemical Co., Ltd. product, Pencel D-135, softening point 135 degreeC) with respect to 100 mass parts of solid content of the said acryl-type copolymer solution, a disproportionated rosin glycerin ester (Arakawaga 10 mass parts of Kaku Kogyo Co., Ltd. make, superester A-100, softening point 100 degreeC), and adjusts the solid content concentration of the said acryl-type copolymer to 45 mass% using ethyl acetate, The acrylic adhesive composition (3) Got.

조제예4 [아크릴계 점착제 조성물(4)의 조제]Preparation Example 4 [Preparation of Acrylic Adhesive Composition (4)]

냉각관, 교반기, 온도계, 적하 깔때기를 구비한 반응 용기에 n-부틸아크릴레이트 97.4질량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 0.1질량부, 아크릴산 2.5질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부틸니트릴 0.1질량부를 아세트산에틸 100질량부에 용해하고, 반응 용기 내를 질소 치환한 후, 80℃에서 12시간 중합시킴에 의해, 중량 평균 분자량 60만의 아크릴계 공중합체 용액을 얻었다.97.4 parts by mass of n-butyl acrylate, 0.1 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 2.5 parts by mass of acrylic acid, and 2,2'-azobis as a polymerization initiator in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel. 0.1 mass part of isobutyl nitrile was melt | dissolved in 100 mass parts of ethyl acetate, and the inside of the reaction container was nitrogen-substituted, and it superposed | polymerized at 80 degreeC for 12 hours, and obtained the acrylic copolymer solution of the weight average molecular weight 600,000.

상기 아크릴계 공중합체 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 중합 로진펜타에리트리톨에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 펜셀 D-135, 연화점 135℃) 10질량부, 불균화 로진글리세린에스테르(아라카와가가쿠고교(주)제, 수퍼에스테르 A-100, 연화점 100℃) 10질량부를 배합하고, 아세트산에틸을 사용하여, 상기 아크릴계 공중합체의 고형분 농도를 45질량%로 조정함에 의해 아크릴계 점착제 조성물(4)을 얻었다.10 mass parts of superposition | polymerization rosin pentaerythritol ester (Arakawa Chemical Co., Ltd. product, Pencel D-135, softening point 135 degreeC) with respect to 100 mass parts of solid content of the said acryl-type copolymer solution, a disproportionated rosin glycerin ester (Arakawaga 10 mass parts of Kaku Kogyo Co., Ltd. make, superester A-100, softening point 100 degreeC), and adjusts the solid content concentration of the said acryl-type copolymer to 45 mass% using ethyl acetate, The acrylic adhesive composition (4) Got.

조제예5 [도전성 점착제 조성물(1A-1)의 조제]Preparation Example 5 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (1A-1)]

상기 아크릴계 점착제 조성물(1) 100질량부(고형분 45질량%)와, 후쿠다긴조쿠하쿠훈고교 가부시키가이샤제의 니켈분 「NI123J」(입자경 d50 : 6.3㎛, 입자경 d85 : 10.0㎛, 탭 밀도 : 4.3g/㎤, 인코리미텟도샤 「NI123」을 평활화 처리한 것) 22.5질량부와, 가교제로서 바놋쿠 NC40(DIC 가부시키가이샤제의 이소시아네이트계 가교제, 고형분 40질량%) 2.5질량부와, 벤조트리아졸 0.23질량부를 혼합하고, 아세트산에틸을 사용하여 고형분 농도를 47질량%로 조정한 것을, 분산 교반기를 사용하여 10분간 교반함에 의해 도전성 점착제(1A-1)를 얻었다.100 mass parts (45 mass% of solid content) of the said acrylic adhesive composition (1) and nickel powder "NI123J" made from Fukuda Kinzoku Hakuhoon Kogyo Co., Ltd. (particle diameter d50: 6.3 micrometer, particle diameter d85: 10.0micrometer, tap density: 22.5 mass parts of 4.3 g / cm <3> and the smoothing process of Inc. "NI123"), 2.5 mass parts of Banokku NC40 (isocyanate crosslinking agent made from DIC, 40 mass% of solid content) as a crosslinking agent, 0.23 mass parts of benzotriazole were mixed, and the electrically conductive adhesive (1A-1) was obtained by stirring what adjusted the solid content concentration to 47 mass% using ethyl acetate for 10 minutes using the dispersion stirrer.

조제예6 [도전성 점착제 조성물(1A-2)의 조제]Preparation Example 6 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (1A-2)]

후쿠다긴조쿠하쿠훈고교 가부시키가이샤제의 니켈분 「NI123J」의 사용량을 22.5질량부에서 9질량부로 변경한 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(1A-2)를 얻었다.A conductive adhesive (1A-2) was obtained in the same manner as in Preparation Example 5, except that the amount of nickel powder "NI123J" manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Kogyo Co., Ltd. was changed from 22.5 parts by mass to 9 parts by mass.

조제예7 [도전성 점착제 조성물(1A-3)의 조제]Preparation Example 7 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (1A-3)]

후쿠다긴조쿠하쿠훈고교 가부시키가이샤제의 니켈분 「NI123J」의 사용량을 22.5질량부에서 36질량부로 변경한 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(1A-3)를 얻었다.A conductive adhesive (1A-3) was obtained in the same manner as in Preparation Example 5, except that the amount of nickel powder "NI123J" manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Kogyo Co., Ltd. was changed from 22.5 parts by mass to 36 parts by mass.

조제예8 [도전성 점착제 조성물(1A-4)의 조제]Preparation Example 8 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (1A-4)]

후쿠다긴조쿠하쿠훈고교 가부시키가이샤제의 니켈분 「NI123J」의 사용량을 22.5질량부에서 0질량부로 변경한 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(1A-4)를 얻었다.A conductive adhesive (1A-4) was obtained in the same manner as in Preparation Example 5, except that the amount of nickel powder "NI123J" manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Kogyo Co., Ltd. was changed from 22.5 parts by mass to 0 parts by mass.

조제예9 [도전성 점착제 조성물(1A-5)의 조제]Preparation Example 9 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (1A-5)]

후쿠다긴조쿠하쿠훈고교 가부시키가이샤제의 니켈분 「NI123J」의 사용량을 22.5질량부에서 67.5질량부로 변경한 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(1A-5)를 얻었다.A conductive adhesive (1A-5) was obtained in the same manner as in Preparation Example 5, except that the amount of nickel powder "NI123J" manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Kogyo Co., Ltd. was changed from 22.5 parts by mass to 67.5 parts by mass.

조제예10 [도전성 점착제 조성물(2A)의 조제]Preparation Example 10 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (2A)]

상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 대신하여, 상기 아크릴계 점착제 조성물(2)을 사용하는 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(2A)를 얻었다.A conductive adhesive (2A) was obtained in the same manner as in Preparation Example 5, except that the acrylic adhesive composition (2) was used instead of the acrylic adhesive composition (1).

조제예11 [도전성 점착제 조성물(3A)의 조제]Preparation Example 11 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (3A)]

상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 대신하여, 상기 아크릴계 점착제 조성물(3)을 사용하는 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(3A)를 얻었다.A conductive adhesive 3A was obtained in the same manner as in Preparation Example 5, except that the acrylic adhesive composition 3 was used instead of the acrylic adhesive composition 1.

조제예12 [도전성 점착제 조성물(4A)의 조제]Preparation Example 12 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (4A)]

상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 대신하여, 상기 아크릴계 점착제 조성물(4)을 사용하는 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(4A)를 얻었다.A conductive adhesive (4A) was obtained in the same manner as in Preparation Example 5 except that the acrylic adhesive composition (4) was used in place of the acrylic adhesive composition (1).

조제예13 [도전성 점착제 조성물(1B)의 조제]Preparation Example 13 [Preparation of Conductive Adhesive Composition (1B)]

후쿠다긴조쿠하쿠훈고교 가부시키가이샤제의 니켈분 「NI123J」를 대신하여, 인코리미텟도샤제의 니켈분 「NI123」(입자경 d50 : 10.7, 입자경 d85 : 25.0㎛)을 22.5질량부 사용한 것 이외에는, 조제예5와 같은 방법으로 도전성 점착제(1B)를 얻었다.Except for using 22.5 parts by mass of nickel powder "NI123" (particle diameter d50: 10.7, particle diameter d85: 25.0 µm) manufactured by Inc., Inc., in place of the nickel powder "NI123J" manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Kogyo Co., Ltd. And the conductive adhesive (1B) were obtained by the method similar to the preparation example 5.

(실시예1)Example 1

상기 도전성 점착제 조성물(1A-1)을, 닛파 가부시키가이샤제의 박리 필름 「PET38×1 A3」 상에, 건조 후의 도전성 점착제층의 두께가 9㎛가 되도록 콤마 코터를 사용하여 도공하고, 80℃로 설정한 건조기로 2분간 건조시킴에 의해 도전성 점착제층을 제작했다.The said conductive adhesive composition (1A-1) is coated on the peeling film "PET38 * 1 A3" made by Nippa Corporation using a comma coater so that the thickness of the conductive adhesive layer after drying may be 9 micrometers, and it is 80 degreeC The conductive adhesive layer was produced by drying for 2 minutes with the dryer set to.

다음으로, 상기 도전성 점착제층을, 상기 도전성 기재(A)의 양면에 첩부하여, 그들을 80℃에서 열 라미네이트하고, 이어서 40℃에서 48시간 양생함에 의해 도전성 점착 시트를 제작했다.Next, the said electroconductive adhesive layer was affixed on both surfaces of the said electroconductive base material A, they were thermally laminated at 80 degreeC, and the electrically conductive adhesive sheet was produced by curing at 40 degreeC for 48 hours.

(실시예2)Example 2

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(B)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate (B) was used instead of the conductive substrate (A).

(실시예3)Example 3

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(C)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the conductive substrate (C) was used instead of the conductive substrate (A).

(실시예4)Example 4

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(D)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate (D) was used instead of the conductive substrate (A).

(실시예5)Example 5

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(1A-2)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive adhesive composition (1A-2) was used instead of the conductive adhesive composition (1A-1).

(실시예6)Example 6

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(1A-3)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive adhesive composition (1A-3) was used in place of the conductive adhesive composition (1A-1).

(실시예7)Example 7

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(2A)을 사용하고, 또한, 양생 시간을 48시간에서 120시간으로 변경한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive adhesive composition 2A was used in place of the conductive adhesive composition 1A-1 and the curing time was changed from 48 hours to 120 hours. did.

(실시예8)Example 8

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(3A)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except for using the conductive adhesive composition 3A instead of the conductive adhesive composition 1A-1.

(실시예9)Example 9

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(4A)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive adhesive composition 4A was used in place of the conductive adhesive composition 1A-1.

(실시예10)Example 10

도전성 점착제층의 두께를 9㎛에서 7㎛로 변경한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the conductive adhesive layer was changed from 9 µm to 7 µm.

(실시예11)Example 11

도전성 점착제층의 두께를 9㎛에서 15㎛로 변경한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the conductive adhesive layer was changed from 9 µm to 15 µm.

(실시예12)Example 12

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(1B)을 사용하고, 또한, 도전성 점착제층의 두께를 9㎛에서 18㎛로 변경한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.Conductive adhesive composition in the same manner as in Example 1 except for using the conductive adhesive composition 1B instead of the conductive adhesive composition 1A-1 and changing the thickness of the conductive adhesive layer from 9 μm to 18 μm. The sheet was produced.

(실시예13)(Example 13)

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(1B)을 사용하고, 또한, 도전성 점착제층의 두께를 9㎛에서 13㎛로 변경한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.Conductive adhesive composition in the same manner as in Example 1 except for using the conductive adhesive composition 1B instead of the conductive adhesive composition 1A-1 and changing the thickness of the conductive adhesive layer from 9 μm to 13 μm. The sheet was produced.

(실시예14)Example 14

도금 부직포A를 대신하여, 도금 부직포E를 사용한 것 이외에는 실시예1과 마찬가지로 실시예14의 도전성 점착 시트를 작성했다.The electroconductive adhesive sheet of Example 14 was created like Example 1 except having used plating nonwoven fabric E instead of plating nonwoven fabric A.

(실시예15)Example 15

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(F)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the conductive substrate (F) was used instead of the conductive substrate (A).

(실시예16)Example 16

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(G)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate (G) was used instead of the conductive substrate (A).

(실시예17)(Example 17)

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(H)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate (H) was used instead of the conductive substrate (A).

(비교예1)(Comparative Example 1)

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(I)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate (I) was used instead of the conductive substrate (A).

(비교예2)(Comparative Example 2)

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(J)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate (J) was used instead of the conductive substrate (A).

(비교예3)(Comparative Example 3)

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(K)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the conductive substrate (K) was used instead of the conductive substrate (A).

(비교예4)(Comparative Example 4)

도전성 기재(A)를 대신하여, 도전성 기재(L)를 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive substrate L was used instead of the conductive substrate A.

(비교예5)(Comparative Example 5)

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(1A-4)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive adhesive composition (1A-4) was used instead of the conductive adhesive composition (1A-1).

(비교예6)(Comparative Example 6)

도전성 점착제 조성물(1A-1)을 대신하여, 도전성 점착제 조성물(1A-5)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.A conductive adhesive sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive adhesive composition (1A-5) was used instead of the conductive adhesive composition (1A-1).

(참고예1)Reference Example 1

도전성 기재(A)를 대신하여, 두께 9㎛의 무기 방청(크로메이트) 처리한 전해 구리박(CF-T9FZ-SV, 후쿠다긴조쿠하쿠훈고교사제)을 사용한 것 이외에는, 실시예1과 같은 방법으로 도전성 점착 시트를 제작했다.Electroconductive copper foil (CF-T9FZ-SV, manufactured by Fukuda Kinzoku Hakuhoon Co., Ltd.) treated with an inorganic rust preventive (chromate) having a thickness of 9 µm in place of the conductive substrate (A) was conductive in the same manner as in Example 1. An adhesive sheet was produced.

상기 도전성 기재, 도전성 점착제층 및 도전성 점착 시트에 대해서, 이하의 평가를 행하여, 얻어진 결과를 하기 표에 나타냈다. 또, 표 중의 아크릴산량은, 아크릴계 공중합체의 제조에 사용한 단량체 성분의 전량에 대한 아크릴산의 사용량(질량%)을 나타낸다. 또한, 표 중의 금속 분량은 도전성 점착제층의 전체에 대한 도전성 입자의 함유량(질량%)을 나타낸다. 또한, 실시예1 및 참고예1의 추종성 평가 결과를 도 3 및 도 4에 나타냈다.The following evaluation was performed about the said electroconductive base material, electroconductive adhesive layer, and electroconductive adhesive sheet, and the result obtained was shown in the following table | surface. In addition, the amount of acrylic acid in a table | surface shows the usage-amount (mass%) of acrylic acid with respect to the whole quantity of the monomer component used for manufacture of an acrylic copolymer. In addition, the metal amount in a table | surface shows content (mass%) of electroconductive particle with respect to the whole conductive adhesive layer. In addition, the followability evaluation results of Example 1 and Reference Example 1 are shown in Figs. 3 and 4.

[입자경][Particle size]

도전성 입자의 입자경은, 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼제의 레이저 회절식 입도 분포 측정기 SALD-3000을 사용하고, 분산매에 이소프로판올을 사용하여 측정한 값을 가리킨다.The particle diameter of electroconductive particle points out the value measured using the isopropanol for a dispersion medium using the laser diffraction type particle size distribution analyzer SALD-3000 made from Shimadzu Corporation.

[도전성(도전성 점착 시트)][Conductive (Conductive Adhesive Sheet)]

30㎜ 폭×30㎜ 폭의 도전성 점착 시트의 한쪽의 면을 25㎜×25㎜의 황동제 전극에 첩부했다. 도전성 점착 시트의 다른 한쪽의 면에 30㎜×80㎜의 구리박(두께 35㎛)을 첩부했다.One side of the 30 mm width x 30 mm width conductive adhesive sheet was affixed to a 25 mm x 25 mm brass electrode. 30 mm x 80 mm copper foil (thickness 35 micrometers) was affixed on the other surface of the electroconductive adhesive sheet.

상기 황동제 전극 상으로부터 면압 20N의 하중을 가한 상태에서, 상기 황동제 전극과 상기 구리박에 단자를 접속하고, 23℃ 및 50% RH의 환경하, 밀리옴미터(에누에후가이로셋케이제)를 사용하여 10㎂의 전류를 흘렸을 때의 저항값을 측정했다. 상기 저항값이 500mΩ 이하인 경우를 합격으로 했다.The terminal is connected to the said brass electrode and the said copper foil in the state which applied the surface pressure of 20 N from the said brass electrode, and it is a milliohm meter (Enuefugairoskei) in the environment of 23 degreeC and 50% RH. The resistance value at the time of flowing a 10 mA electric current using ()) was measured. The case where the said resistance value was 500 m (ohm) or less was made into the pass.

[두께(도전성 점착제층)][Thickness (conductive adhesive layer)]

각 도전성 점착제 조성물을 사용하여 박리 필름 상에 형성된 도전성 점착제층에, PET 필름 25㎛(유니치카사제 S25)를 배접한 시료를 제작하고, 그 두께를 테스터산교샤제의 두께계 「TH-102」를 사용하여 측정했다. 상기 측정값으로부터, 상기 박리 필름 및 PET 필름의 두께를 줄인 값을 도전성 점착제층의 두께로 했다.Using each electroconductive adhesive composition, the sample which carried out PET film 25 micrometers (S25 by Unichika company) was produced to the electroconductive adhesive layer formed on the peeling film, and the thickness made the thickness meter "TH-102" made by Tester Sangyosha. Measured using. From the said measured value, the value which reduced the thickness of the said peeling film and PET film was made into the thickness of an electroconductive adhesive layer.

[두께(도전성 점착 시트)][Thickness (conductive adhesive sheet)]

테스터산교샤제의 두께계 「TH-102」를 사용하여 도전성 점착 시트의 두께를 측정했다.The thickness of the electroconductive adhesive sheet was measured using the thickness meter "TH-102" made from Tester Sankyo.

[도전성(도전성 기재)][Conductive (conductive description)]

30㎜ 폭×30㎜ 폭의 도전성 기재를, 두 개의 25㎜×25㎜의 황동제 전극에 끼워, 황동제 전극 상으로부터 면압 20N의 하중을 가한 상태에서, 각 황동제 전극에 단자를 접속하고, 23℃ 및 50% RH의 환경하, 밀리옴미터(에누에후가이로셋케이제)를 사용하여 10㎂의 전류를 흘렸을 때의 저항값을 측정했다.A conductive base material having a width of 30 mm x 30 mm was inserted into two brass electrodes of 25 mm x 25 mm, and a terminal was connected to each brass electrode while applying a load of 20 N in surface pressure from the brass electrode. In the environment of 23 degreeC and 50% RH, the resistance value at the time of flowing 10 mA of electric currents was measured using the milliohmmeter (made by Enuefugaerosetkei).

[접착력][Adhesiveness]

20㎜ 폭의 도전성 점착 시트를 준비하고, 한쪽의 면을 두께 25㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(유니치카 가부시키가이샤제 S25)을 사용하여 배접한 것을 시험편으로 했다.A 20 mm wide conductive adhesive sheet was prepared, and one surface was placed by using a 25-micrometer-thick polyethylene terephthalate film (S25, manufactured by Unichika Co., Ltd.) as a test piece.

다음으로, 23℃ 및 50% RH의 환경하, 360번의 내수연마지를 사용하여 헤어라인 연마 처리한 스테인리스판(이하 스테인리스판)에, 상기 시험편의 점착제층을 첨부하고, 그 상면으로부터 2.0㎏ 롤러를 1왕복시킴으로써 그들을 압착시켰다.Next, the pressure-sensitive adhesive layer of the test piece was attached to a stainless steel plate (hereinafter, referred to as a stainless steel plate) subjected to hairline polishing using 360 water-resistant polishing paper in an environment of 23 ° C. and 50% RH, and a 2.0 kg roller was attached from the upper surface thereof. They squeezed by reciprocating.

다음으로, 상기 압착한 것을 상온하에 1시간 방치한 후, 인장 시험기(텐시론 RTA-100, 에이안도디샤제)를 사용하여, 상온에서 인장 속도 300㎜/min으로 시험함에 의해 180도 박리 접착력을 측정했다. 상기 접착력의 시험을, 도전성 점착 시트의 각 점착제층(양면의 점착제층)에 대해서 행하여, 낮은 쪽의 값을 표에 기재했다.Next, after leaving the crimped one at room temperature for 1 hour, using a tensile tester (Tenshiron RTA-100, manufactured by Eian Dodisha), 180 degree peel adhesion was tested by testing at a normal temperature of 300 mm / min. Measured. The said adhesive force test was done about each adhesive layer (double-sided adhesive layer) of an electroconductive adhesive sheet, and the lower value was described in the table.

[추종성][Followability]

깊이 5㎜ 및 폭 10㎜의 대략 반원형의 단차를 갖는 금속판에, 도전성 점착 시트를 손으로 첩부하여, 단차에의 추종성을 평가했다.A conductive adhesive sheet was affixed by hand to the metal plate which has a substantially semi-circular step of 5 mm in depth and 10 mm in width, and the followability to the step was evaluated.

○ : 단차에 추종할 수 있었음○: could follow the step

× : 단차에 추종할 수 없고, 뜸 또는 찢어짐이 생김X: It cannot follow a level | step difference, and steaming or tearing arise

[리워크성1][Rework Castle 1]

상기 방법으로 접착력을 측정했을 때에 스테인리스판에의 풀남음의 유무를 평가했다.When the adhesive force was measured by the said method, the presence or absence of the extraction | attachment to the stainless steel plate was evaluated.

◎ : 풀남음 없음◎: No remaining

○ : 스테인리스판의 면적에 대하여 10% 미만의 범위에 풀남음이 있음(Circle): There exists a solution in less than 10% of range with respect to the area of stainless steel plate.

× : 스테인리스판의 면적에 대하여 10% 이상의 범위에 풀남음이 있음X: Solvent exists in the range of 10% or more with respect to the area of a stainless steel plate.

[리워크성2][Rework Castle 2]

상기 방법으로 접착력을 측정했을 때에, 도전성 점착 시트가 찢어지는지의 여부를 평가했다. 5개의 도전성 점착 시트를 사용하여 시험을 실시하고, 하기 기준으로 평가했다.When the adhesive force was measured by the said method, it evaluated whether the electrically conductive adhesive sheet was torn. The test was implemented using five electroconductive adhesive sheets, and the following reference | standard evaluated.

◎ : 5개 모두 찢어짐 없음◎: All 5 pieces do not tear

○ : 4개 찢어짐 없음○: 4 no tearing

× : 2개 이상 찢어짐이 발생X: Two or more tears generate | occur | produce

[표 1]TABLE 1

Figure 112015066532990-pct00001
Figure 112015066532990-pct00001

[표 2]TABLE 2

Figure 112015066532990-pct00002
Figure 112015066532990-pct00002

[표 3]TABLE 3

Figure 112015066532990-pct00003
Figure 112015066532990-pct00003

상기 표로부터 밝혀진 바와 같이, 본원 발명의 실시예1∼18의 점착 시트는, 추종성이 뛰어나며, 또한 접착성, 도전성, 리워크성도 양호했다. 한편, 비교예1∼4의 점착 시트는, 추종성, 도전성, 접착성이 뛰어나지만, 현저하게 리워크성이 뒤떨어져 있었다. 비교예5의 점착 시트는 도전성이 뒤떨어져 있었다. 비교예6의 점착 시트는 접착성, 리워크성이 뒤떨어져 있었다. 또한 참고예의 점착 시트는 추종성이 뒤떨어져 있으며, 단차부에서 뜸 및 찢어짐이 생겼다.As it turned out from the said table, the adhesive sheets of Examples 1-18 of this invention were excellent in followability, and also adhesiveness, electroconductivity, and reworkability were also favorable. On the other hand, although the adhesive sheets of Comparative Examples 1-4 were excellent in followability, electroconductivity, and adhesiveness, they were remarkably inferior to rework property. The adhesive sheet of Comparative Example 5 was inferior in conductivity. The adhesive sheet of Comparative Example 6 was inferior in adhesiveness and rework property. Moreover, the adhesive sheet of a reference example is inferior in traceability, and the steaming and tearing generate | occur | produced in the step part.

1…도전성 기재
2…도전성 점착제층
One… Conductive base
2… Conductive Adhesive Layer

Claims (14)

도전성 기재의 적어도 편면에, 도전성 점착제층을 갖는 도전성 점착 시트로서,
상기 도전성 기재가, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 도금 처리를 포함하는 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 것이고, 상기 습식 폴리에스테르계 부직포 기재의 두께가 14㎛∼20㎛이며, 평량이 6g/㎡∼15g/㎡이고,
상기 도전성 점착제층이, 도전성 입자와 아크릴계 중합체를 함유하는 아크릴계 점착제를 사용하여 형성된 층이며, 상기 아크릴계 중합체가, 1질량%∼6질량%의 아크릴산을 함유하는 단량체 성분을 중합시킴에 의해 얻어진 것이며,
상기 도전성 점착제층이, 상기 도전성 점착제층 전체에 대하여 도전성 입자를 3질량%∼50질량% 함유하며, 상기 도전성 점착제층의 두께가 3㎛∼25㎛인 것을 특징으로 하는 도전성 점착 시트.
As an electroconductive adhesive sheet which has an electroconductive adhesive layer on at least one side of an electroconductive base material,
The said electroconductive base material is obtained by performing the plating process containing an electroless plating process to a wet polyester type nonwoven fabric base material, The thickness of the said wet polyester type nonwoven fabric base material is 14 micrometers-20 micrometers, and basis weight is 6 g / M 2 to 15 g / m 2,
The said conductive adhesive layer is a layer formed using the acrylic adhesive containing electroconductive particle and an acrylic polymer, The said acrylic polymer is obtained by superposing | polymerizing the monomer component containing 1 mass%-6 mass% acrylic acid,
The said conductive adhesive layer contains 3 mass%-50 mass% of electroconductive particle with respect to the said whole conductive adhesive layer, The thickness of the said conductive adhesive layer is 3 micrometers-25 micrometers, The conductive adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서,
상기 도전성 입자가, 구리 또는 니켈을 포함하는 것인 도전성 점착 시트.
The method of claim 1,
The electroconductive adhesive sheet whose said electroconductive particle contains copper or nickel.
제1항에 있어서,
상기 무전해 도금 처리가, 구리 또는 니켈의 적어도 1종을 사용하여 행하는 처리인 도전성 점착 시트.
The method of claim 1,
The electroconductive adhesive sheet whose said electroless-plating process is a process performed using at least 1 sort (s) of copper or nickel.
제1항에 있어서,
상기 도전성 기재가, 습식 폴리에스테르계 부직포 기재에 무전해 도금 처리를 실시한 후, 추가로 무전해 도금 처리 또는 전해 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 것인 도전성 점착 시트.
The method of claim 1,
The said electroconductive base material is obtained by giving an electroless plating process to a wet polyester type nonwoven fabric base material, and then performs an electroless plating process or an electrolytic plating process further.
제4항에 있어서,
상기 도전성 기재가, 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 구리 도금 처리를 실시한 후, 추가로 전해 니켈 도금 처리를 실시함에 의해 얻어진 것인 도전성 점착 시트.
The method of claim 4, wherein
The conductive adhesive sheet obtained by performing electroless nickel plating process after the said electroconductive base material performs an electroless copper plating process to a wet polyester type nonwoven fabric base material.
제4항에 있어서,
상기 도전성 기재가, 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재에, 무전해 구리 도금 처리, 전해 구리 도금 처리 및 전해 니켈 도금 처리를 순서대로 실시함에 의해 얻어진 것인 도전성 점착 시트.
The method of claim 4, wherein
The said electroconductive base material is obtained by performing an electroless copper plating process, an electrolytic copper plating process, and an electrolytic nickel plating process in order to a wet polyester type nonwoven fabric base material.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 습식의 폴리에스테르계 부직포 기재의 인장 강도(MD 방향)가 2N/20㎜∼30N/20㎜이며, 또한, 그 인장 강도(TD 방향)가 0.3N/20㎜∼30N/20㎜인 도전성 점착 시트.
The method of claim 1,
Electroconductive adhesion whose tensile strength (MD direction) of the said wet polyester type nonwoven fabric base material is 2N / 20mm-30N / 20mm, and whose tensile strength (TD direction) is 0.3N / 20mm-30N / 20mm Sheet.
제1항에 있어서,
상기 도전성 입자의 평균 입경 d50이 3㎛∼20㎛인 도전성 점착 시트.
The method of claim 1,
The conductive adhesive sheet whose average particle diameter d50 of the said electroconductive particle is 3 micrometers-20 micrometers.
제1항에 있어서,
상기 도전성 점착제층과 상기 도전성 기재가, 40℃∼120℃의 온도에서 열 라미네이트함에 의해 적층된 것인 도전성 점착 시트.
The method of claim 1,
The conductive adhesive sheet, wherein the conductive adhesive layer and the conductive substrate are laminated by thermal lamination at a temperature of 40 ° C to 120 ° C.
상기 도전성 기재의 적어도 편면에 상기 도전성 점착제층을 재치(載置)한 것을, 40℃∼120℃의 온도에서 라미네이트하는 것을 특징으로 하는 제1항 내지 제6항 및 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 점착 시트의 제조 방법.The thing which mounted the said conductive adhesive layer on the at least single side | surface of the said conductive base material is laminated at the temperature of 40 degreeC-120 degreeC, The Claims 1-6 and 9-11 characterized by the above-mentioned. The manufacturing method of the electroconductive adhesive sheet of any one of Claims. 제1항 내지 제6항 및 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 점착 시트가, 부품에 첩부된 구성을 갖는 전자 단말.The electronic terminal which has a structure in which the electroconductive adhesive sheet in any one of Claims 1-6 and 9-11 is affixed on the component. 삭제delete
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