KR102060906B1 - 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템 - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따른 대상체의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 있어서, 3차원 측정 및 정렬 시스템은 상기 대상체가 위치되는 광학테이블 모듈, 상기 광학 테이블 모듈 상에 배치되는 상기 대상체의 광정렬을 3차원으로 측정하는 광학측정 모듈, 상기 광학테이블 모듈의 엣지를 따라 배치되며 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치시키는 스테이지 모듈 및 상기 스테이지 모듈의 위치를 측정하는 인코더 모듈을 포함할 수 있고, 상기 스테이지 모듈은 상기 대상체의 측정을 위한 위치로 상기 광학측정 모듈을 배치시킬 수 있으며, 상기 인코더 모듈은 상기 광학측정 모듈의 위치를 측정하여 상기 광학측정 모듈의 이동거리를 산출할 수 있다.

Description

광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템{3D MEASUREMENT AND ALIGNMENT SYSTEM FOR OPTICAL ALIGNMENT}
광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 개시된다. 구체적으로, 다양한 인공위성 탑재 시스템 중 광학 카메라 개발을 위한 광학거울을 정렬하기 위한 3차원 광정렬 측정 및 정렬시스템이 개시된다.
광학기기산업은 자체의 광학기기 산업뿐만 아니라 태양광발전, 디스플레이, 반도체 제조, LED 조명 등의 전자산업, 레이저 치료기 및 센서 등의 의료기기산업, 우주항공, 국방, 에너지, 환경 등 거대 광융복합 분야에서도 산업의 경쟁력을 결정하는 첨단 핵심 기술로 활용되고 있다.
또한, 의료광산업 기술에서는 치과, 피부과, 광선역학치료법(PDT : Photo Dynamic Theraphy), 레이저 혈관형성술 등이 시도되고 있으며, 광학응용분야인 휴먼인터페이스 분야에 있어서는 이미지센서, 디바이스(Image Sensor Device), 방재관련시스템(하천관리에 필요한 광파이버 기술), 바이오메트릭스(의료화상 광이용기술), 화상입력디바이스, 엔터테인먼트, 재택안전-안심서비스에 대한 연구개발이 활발하게 이루어지고 있다.
광학장치를 조립함에 있어 거울, 렌즈, 프리즘 등과 같은 각 광학 부품의 정렬은 매우 정확하고 정밀하지 않으면 수차가 발생하거나 광로차가 발생하여 물체에 대한 정확한 상을 얻을 수 없다. 즉, 측정하고자 하는 값에 대한 신뢰성을 확보할 수 없다.
이러한 광정렬을 위해서는 일반적으로 실험실 작업자의 노하우에 의존하여 작업들이 이루어지고 있다. 실험실의 작업자들은 광학테이블, 측정장치, 광학부품 등의 구성품들을 적절하게 사용하여 원하는 결과를 얻어낸다.
일 실시예에 따른 목적은 광정렬 신뢰성을 개선할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템을 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 다른 목적은 광학장치의 광정렬 상태를 측정할 수 있는 광학측정 모듈의 캘리브레이션을 수행할 수 있는, 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템을 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 다른 목적은 작업자가 광정렬 상태를 즉시 확인할 수 있는, 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템을 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 다른 목적은 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정시스템의 유지 보수를 위해 광학측정 모듈을 측정할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템을 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 다른 목적은 작업자가 광학측정 모듈의 상태를 즉시 확인할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템을 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 다른 목적은 3차원 측정시스템의 오차 보정 및 유지보수를 용이하게 하는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템을 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 다른 목적은 광학장치의 8 방향 각도정보와 위치정보를 수집할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 일 실시예에 따른 대상체의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 있어서, 3차원 측정 및 정렬 시스템은 상기 대상체가 위치되는 광학테이블 모듈, 상기 광학 테이블 모듈 상에 배치되는 상기 대상체의 광정렬을 3차원으로 측정하는 광학측정 모듈, 상기 광학테이블 모듈의 엣지를 따라 배치되며 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치시키는 스테이지 모듈 및 상기 스테이지 모듈의 위치를 측정하는 인코더 모듈을 포함할 수 있고, 상기 스테이지 모듈은 상기 대상체의 측정을 위한 위치로 상기 광학측정 모듈을 배치시킬 수 있으며, 상기 인코더 모듈은 상기 광학측정 모듈의 위치를 측정하여 상기 광학측정 모듈의 이동거리를 산출할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템은 상기 광학측정 모듈에서 조사되는 빔을 반사하는 기준거울 모듈을 더 포함할 수 있고, 상기 스테이지 모듈은 상기 광학측정 모듈에서 조사되는 빔에 따라 상기 광학측정 모듈의 위치 오차를 산출하여서 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템의 상기 인코더 모듈은 레이저 헤드일 수 있으며, 상기 레이저 헤드는 상기 스테이지 모듈 방향으로 레이저를 조사하고, 상기 스테이지 모듈에서 반사되는 레이저를 수용하여 상기 스테이지 모듈의 위치 및 상기 광학측정 모듈의 위치와 상기 레이저 헤드 사이 거리를 산출할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템의 상기 광학테이블 모듈은 사각형으로 형성되고 상기 광학측정 모듈과 상기 스테이지 모듈은 각각 4개로 구성되어 상기 광학테이블 모듈의 각각의 엣지 방향으로 배치될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템의 상기 스테이지 모듈은, 상부에 상기 광학측정 모듈이 배치되는 이동부재, 및 상기 이동부재를 이동시키는 이송부재를 포함할 수 있고, 상기 이송부재는 상기 광학테이블의 면의 외측에서 상기 광학테이블의 면을 따라 배치될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템의 상기 인코더 모듈은 상기 이송부재 내에 배치되는 로터리 인코더일 수 있고, 상기 로터리 인코더는 상기 이송부재의 운동을 측정하여 상기 스테이지 모듈과 상기 광학측정 모듈의 위치를 산출할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템의 상기 스테이지 모듈은 상기 이동부재의 상부에서 위 방향으로 신축되는 신축부재를 포함할 수 있고, 상기 광학측정 모듈은 상기 신축부재의 상부에 배치되어서, 상기 신축부재의 신축에 따라 높이가 변경될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템은 상기 스테이지 모듈의 위치를 제어하는 제어 모듈을 더 포함할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템은 상기 스테이지 모듈 또는 상기 광학측정 모듈의 위치를 시각 데이터로 출력하는 모니터링 모듈을 더 포함할 수 있다.
또는, 일 실시예에 따른, 대상체의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 있어서, 3차원 측정 및 정렬 시스템은 상기 대상체가 위치되는 광학테이블 모듈, 상기 대상체의 광정렬을 3차원으로 측정하도록 빔을 조사하고 반사되는 빔을 수용하는 광학측정 모듈, 상기 광학측정 모듈에서 조사되는 빔을 반사하는 기준거울 모듈, 및 상기 광학테이블 모듈의 엣지를 따라 배치되며 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치시키는 스테이지 모듈을 포함할 수 있고, 상기 스테이지 모듈은 상기 광학측정 모듈에서 조사되는 빔에 따라 상기 광학측정 모듈의 위치 오차를 산출하여 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른, 3차원 측정 및 정렬 시스템의 상기 광학테이블 모듈은 사각형으로 형성되고, 상기 기준거울 모듈은 상기 광학테이블 모듈의 마주보는 두 꼭지점 부분에 배치될 수 있다.
일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 광정렬 신뢰성을 개선할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 제공될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 광학장치의 광정렬 상태를 측정할 수 있는 광학측정 모듈의 캘리브레이션을 수행할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 제공될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 작업자가 광정렬 상태를 즉시 확인할 수 있는, 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 제공될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정시스템의 유지 보수를 위해 광학측정 모듈을 측정할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 제공될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 작업자가 광학측정 모듈의 상태를 즉시 확인할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 제공될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 3차원 측정시스템의 오차 보정 및 유지보수를 용이하게 하는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템이 제공될 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 의하면, 광학장치의 8 방향 각도정보와 위치정보를 수집할 수 있는 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정시스템이 제공될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템의 평면도이다.
이하, 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 실시예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
또한, 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.
어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템(100)의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템(100)의 평면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템(100)은 베이스 모듈, 광학테이블 모듈(110), 스테이지 모듈, 광학측정 모듈(130), 기준거울 모듈(140), 모니터링 모듈(150), 제어 모듈(160) 및 인코더 모듈을 포함할 수 있다.
베이스 모듈은 3차원 측정 및 정렬시스템(100)의 구성요소들이 설치되는 기초부재를 의미한다. 베이스 모듈 상에는 사각형의 광학테이블 모듈(110), 광학테이블 모듈(110)의 측방에 설치되어 이동되는 스테이지 모듈, 스테이지 모듈 상에 배치되는 광학측정 모듈(130), 광학테이블 모듈(110)의 모서리 부분에 배치되는 기준거울 모듈(140), 3차원 측정 및 정렬시스템(100)의 상태를 디스플레이하는 모니터링 모듈(150), 스테이지 모듈의 이동을 측정하는 인코더 모듈 및 스테이지 모듈 또는 광학측정 모듈(130)을 제어하는 제어모듈(160)이 배치될 수 있다.
구체적으로, 광학테이블 모듈(110)은 위에 대상체(예를 들어, 광학 장치)을 배치될 수 있는 테이블이며, 예를 들어 사각형으로 형성될 수 있다.
사각형으로 형성되는 광학테이블 모듈(110)의 각 면 부근 베이스 모듈 상에는 스테이지 모듈이 배치될 수 있다. 바람직하게, 광학테이블 모듈(110)의 네 면 모두의 근처에 각각 하나의 스테이지 모듈, 총 4개의 스테이지 모듈이 배치될 수 있다.
스테이지 모듈은 베이스 모듈에서 돌출되는 기둥과 같은 형태의 이송부재(122)와 이송부재(122)를 이동시키는 이동부재(124)를 포함한다. 스테이지 모듈은 대상체의 측정을 위한 위치로 광학측정 모듈(130)을 이동시킬 수 있다.
이송부재(122)는 레일 또는 컨베이어 형태일 수 있으며, 광학테이블 모듈(110)의 각 면들과 평행한 방향으로 광학테이블 모듈(110)의 엣지 부분에 배치되고, 이동부재(124)를 이동시키도록 배치될 수 있다.
이동부재(124)는 이송부재(122) 상에서 돌출되는 포스트 형태로 형성될 수 있으며, 이송부재(122)의 움직임에 따라 광학테이블 모듈(110)의 엣지를 따라 평행하게 이동될 수 있다.
보다 상세하게, 이송부재(122)는 베이스 모듈 상에서 광학테이블 모듈(110)의 각 면에 평행하게 4 개가 배치될 수 있으며, 이동부재(124)는 이송부재(122)를 따라 이동될 수 있다.
스테이지 모듈은 이동부재(124)의 상부에서 위 방향으로 돌출되는 신축부재(126)를 더 포함할 수 있고, 신축부재(126) 상에는 광학측정 모듈(130)이 배치될 수 있다. 신축부재(126)는 위 방향으로 신축될 수 있으며 신축부재(126)의 신축에 따라 광학측정 모듈(130)의 높이는 조정될 수 있다.
따라서, 스테이지 모듈 상의 광학측정 모듈(130)은 이동부재(124)와 이송부재(122)에 의해 수평 방향으로 이동될 수 있으며, 신축부재(126)에 의해 수직 방향으로 이동될 수 있다.
이러한 스테이지 모듈의 이송부재(122)와 신축부재(126)는 제어 모듈(160)에 의해 그 이동이 제어될 수 있다.
광학측정 모듈(130)은 광학테이블 모듈(110) 상에 배치되는 대상체의 광정렬을 3차원으로 측정하는 장치일 수 있으며, 예를 들어 데오돌라이트일 수 있다.
인코더 모듈은 이송부재(122) 또는 이동부재(124)의 이동을 측정할 수 있다.
바람직하게 인코더 모듈은 이송부재(122) 내에서 이송부재(122)의 운동을 측정할 수 있는 로터리 인코더일 수 있으며, 이송부재(122)의 운동을 측정하여 광학측정 모듈(130)의 위치를 산출할 수 있다.
또는, 바람직하게 인코더 모듈은 베이스 모듈 상에 배치되는 레이저 헤드(170)일 수 있으며, 레이저 헤드(170)는 이동부재(124) 방향으로 레이저를 조사하고, 이동부재(124)에 부딪힌 후 반사되는 레이저를 수용하여 이동부재(124)와 레이저 헤드(170) 사이의 거리를 측정할 수 있다. 이에 따라 레이저 헤드(170)는 이동부재(124) 상에 배치되는 광학측정 모듈(130)의 위치를 산출할 수 있다.
이러한 광학측정 모듈(130)의 위치정보는 바람직하게 베이스 모듈 상에 배치되는 모니터링(150) 모듈을 통해 시각적으로 출력될 수 있다.
이러한 스테이지 모듈과 광학측정 모듈을 통해 3차원 측정 및 정렬 시스템은 대상체를 3차원 측정할 수 있다.
기준거울 모듈(140)은 베이스 모듈의 모서리에 배치될 수 있다. 구체적으로, 베이스 모듈은 광학테이블 모듈(110)보다 큰 사각형으로 형성될 수 있으며, 도 2에서 도시되는 바와 같이, 베이스 모듈의 마주보는 두 꼭지점 부분에 설치될 수 있다.
보다 상세하게, 기준거울 모듈(140)은 광학테이블 모듈(110)의 엣지를 따라 배치되는 복수 개의 이송부재(110) 중 인접한 두 이송부재(110)의 연장선상에서 교차하는 지점에 배치될 수 있다.
따라서, 기준거울 모듈(140)은 광학측정 모듈(130)의 수평 이동방향의 연장선상에 배치될 수 있다. 기준거울 모듈(140)은 기둥 형태로 형성될 수 있으며, 광학측정 모듈(130)을 비추는 거울을 구비할 수 있다.
광학측정 모듈(130)은 기준거울 모듈(140)의 거울로 빔을 조사할 수 있으며, 기준거울 모듈(140) 상의 거울에 반사되는 빔을 수용하여 광학측정 모듈(130)의 위치 오차를 산출할 수 있다.
스테이지 모듈은 이러한 광학측정 모듈(130)의 위치 오차에 따라 광학측정 모듈(130)의 위치를 재조정할 수 있다.
이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템은 3차원 측정장치의 광학측정 모듈의 위치를 측정하고 재 조정하여 광정렬 신뢰성을 개선할 수 있고, 광학장치의 광정렬 상태를 측정할 수 있는 광학특정 모듈의 캘리브레이션을 수행할 수 있으며, 작업자가 광정렬 상태를 즉시 확인할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템은 광학장치의 광정렬을 위한 3차원 측정시스템의 유지 보수를 위해 광학측정 모듈의 위치오차를 측정할 수 있고, 작업자가 광학측정 모듈의 상태를 즉시 확인할 수 있으며, 3차원 측정시스템의 오차 보정 및 유지보수를 용이하게 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템은 광학장치의 8 방향 각도정보와 위치정보를 수집할 수 있다.
실시 예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시 예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 통상의 기술자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시 예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
이상과 같이 본 발명의 실시예에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 구조, 장치 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다. 따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
100 : 3차원 측정 및 정렬시스템
110 : 광학테이블 모듈
122 : 이송부재
124 : 이동부재
126 : 신축부재
130 : 광학측정 모듈
140 : 기준거울 모듈
150 : 모니터링 모듈
160 : 제어 모듈
170 : 레이저 헤드

Claims (11)

  1. 대상체의 광정렬을 위한 3차원 측정 및 정렬시스템에 있어서,
    상기 대상체가 위치되는 광학테이블 모듈;
    상기 광학 테이블 모듈 상에 배치되는 상기 대상체의 광정렬을 3차원으로 측정하는 광학측정 모듈;
    상기 광학테이블 모듈의 엣지를 따라 배치되며 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치시키는 스테이지 모듈;
    상기 스테이지 모듈의 위치를 측정하는 인코더 모듈; 및
    상기 광학측정 모듈에서 조사되는 빔을 반사하는 기준거울 모듈;
    을 포함하고,
    상기 스테이지 모듈은 상기 대상체의 측정을 위한 위치로 상기 광학측정 모듈을 배치시키며,
    상기 인코더 모듈은 상기 광학측정 모듈의 위치를 측정하여 상기 광학측정 모듈의 이동거리를 산출하고,
    상기 광학측정 모듈은 상기 기준거울 모듈로 빔을 조사할 수 있으며, 상기 기준거울 모듈 상에서 반사되는 빔을 수용하여 상기 광학측정 모듈의 위치 오차를 산출할 수 있으며, 상기 스테이지 모듈은 상기 광학측정 모듈의 위치 오차에 따라 상기 광학측정 모듈의 위치를 재배치하는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 인코더 모듈은 레이저 헤드이며,
    상기 레이저 헤드는 상기 스테이지 모듈 방향으로 레이저를 조사하고, 상기 스테이지 모듈에서 반사되는 레이저를 수용하여 상기 스테이지 모듈의 위치 및 상기 광학측정 모듈의 위치와 상기 레이저 헤드 사이 거리를 산출하는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 광학테이블 모듈은 사각형으로 형성되고 상기 광학측정 모듈과 상기 스테이지 모듈은 각각 4개로 구성되어 상기 광학테이블 모듈의 각각의 엣지 방향으로 배치되는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지 모듈은,
    상부에 상기 광학측정 모듈이 배치되는 이동부재; 및
    상기 이동부재를 이동시키는 이송부재;
    를 포함하고,
    상기 이송부재는 상기 광학테이블의 면의 외측에서 상기 광학테이블의 면을 따라 배치되는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 인코더 모듈은 상기 이송부재 내에 배치되는 로터리 인코더이고,
    상기 로터리 인코더는 상기 이송부재의 운동을 측정하여 상기 스테이지 모듈과 상기 광학측정 모듈의 위치를 산출하는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 스테이지 모듈은 상기 이동부재의 상부에서 위 방향으로 신축되는 신축부재를 포함하고,
    상기 광학측정 모듈은 상기 신축부재의 상부에 배치되어서, 상기 신축부재의 신축에 따라 높이가 변경되는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지 모듈의 위치를 제어하는 제어 모듈을 더 포함하는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지 모듈 또는 상기 광학측정 모듈의 위치를 시각 데이터로 출력하는 모니터링 모듈을 더 포함하는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
  10. 삭제
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 기준거울 모듈은 상기 광학테이블 모듈의 마주보는 두 꼭지점 부분에 배치되는, 3차원 측정 및 정렬시스템.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100843720B1 (ko) * 2007-04-10 2008-07-04 주식회사 고영테크놀러지 3차원측정 간섭계
JP2017067709A (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 大日本印刷株式会社 採寸装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100843720B1 (ko) * 2007-04-10 2008-07-04 주식회사 고영테크놀러지 3차원측정 간섭계
JP2017067709A (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 大日本印刷株式会社 採寸装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230075764A (ko) 2021-11-23 2023-05-31 한국항공우주연구원 하이브리드 아이솔레이션 시스템

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