KR102021353B1 - Edge ring of electrostatic chuck - Google Patents

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Abstract

본 발명은 정전척의 에지 링에 관한 것으로서, 도전성 금속층에 폴리이미드층을 절연 접착하여 히터 전극을 형성하는 정전척의 에지 링에 관한 것이다. 이를 위해 정전척의 외주에 배치되는 에지 링, 및 정전척의 일면에 놓이는 웨이퍼 에지의 온도를 보상하도록 웨이퍼 에지의 위치와 대응되는 위치의 에지 링의 일면에 구비되어 발열되는 히터 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링이 개시된다.The present invention relates to an edge ring of an electrostatic chuck, and more particularly, to an edge ring of an electrostatic chuck which insulates and attaches a polyimide layer to a conductive metal layer to form a heater electrode. To this end, it comprises an edge ring disposed on the outer circumference of the electrostatic chuck, and a heater electrode provided on one surface of the edge ring at a position corresponding to the position of the wafer edge to compensate for the temperature of the wafer edge placed on one surface of the electrostatic chuck An edge ring of an electrostatic chuck is disclosed.

Description

정전척의 에지 링{Edge ring of electrostatic chuck}Edge ring of electrostatic chuck

본 발명은 정전척의 에지 링에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도전성 금속층에 폴리이미드층을 절연 접착하여 히터 전극을 형성하는 정전척의 에지 링에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an edge ring of an electrostatic chuck, and more particularly, to an edge ring of an electrostatic chuck which insulates and attaches a polyimide layer to a conductive metal layer to form a heater electrode.

일반적으로 정전척의 에지 링에는 웨이퍼 에지 영역의 온도를 보상하기 위해 히터 전극이 마련된다. 이러한 히터 전극을 마련하기 위해 종래에는 텅스텐(w) 또는 몰리브덴(Mo) 등의 재료를 대략 1500도씨에서 소성 접합함으로써 에지 링에 히터 전극이 마련된다.In general, the edge ring of the electrostatic chuck is provided with a heater electrode to compensate for the temperature of the wafer edge region. In order to provide such a heater electrode, the heater electrode is conventionally provided in the edge ring by plastically bonding a material such as tungsten (w) or molybdenum (Mo) at approximately 1500 degrees Celsius.

이렇게 텅스텐 또는 몰리브덴 등의 재료를 이용하여 에지 링의 바닥면에 소성 접합되는 히터 전극은 추후 수명이 다한 경우 에지 링의 바닥면에 재형성할 수 없기 때문에 에지 링 전체를 교환해야 하는 문제점이 있다(즉, 히터 전극을 다시 갈아내고 에지 링의 바닥면에 재형성 할 수 없음).Thus, a heater electrode that is plastically bonded to the bottom surface of the edge ring using a material such as tungsten or molybdenum has a problem in that the entire edge ring needs to be replaced because it cannot be remodeled to the bottom surface of the edge ring at the end of its life. That is, it is not possible to grind the heater electrode again and rebuild it on the bottom surface of the edge ring).

(선행문헌 1) KR 10-2008-0046822(Previous Document 1) KR 10-2008-0046822 (선행문헌 2) JP 2016-26401(Previous Document 2) JP 2016-26401 (선행문헌 3) KR 10-2008-0042409(Previous Document 3) KR 10-2008-0042409 (선행문헌 4) KR 10-2006-0005740(Previous Document 4) KR 10-2006-0005740 선행문헌 1,2에는 포커스 링에 전극이 부착된 것을 개시하고 있으며, 선행문헌 3에는 정전척의 유전층 형성시에 폴리이미드를 사용할 수 있음을 개시하고 있으며, 선행문헌 4에는 정전척의 에지 단부에 놓이는 사이드 패드가 폴리이미드 재질로 이루어질 수 있음을 개시하고 있다.Prior art documents 1 and 2 disclose that an electrode is attached to a focus ring, and prior art document 3 discloses that a polyimide can be used in forming a dielectric layer of an electrostatic chuck, and prior art 4 discloses a side placed at an edge end of an electrostatic chuck. It is disclosed that the pad may be made of polyimide material.

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 에지 링에 부착되는 히터 전극을 폴리이미드 필름, 도전성 금속(전극), 및 접착 테이프에 의해 접착 형성시킴으로써 히터 전극의 사용 수명을 높일 수 있고 이에 따라 전체적으로 에지 링의 사용 수명을 늘릴 수 있는 발명을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and by using the polyimide film, the conductive metal (electrode), and the adhesive tape to form a heater electrode attached to the edge ring, the service life of the heater electrode is improved. It is an object of the present invention to provide an invention that can be increased and thus increase the service life of the edge ring as a whole.

그러나, 본 발명의 목적들은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 본 발명의 목적은, 정전척의 외주에 배치되는 에지 링, 및 정전척의 일면에 놓이는 웨이퍼 에지의 온도를 보상하도록 웨이퍼 에지의 위치와 대응되는 위치의 에지 링의 일면에 구비되어 발열되는 히터 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링을 제공함으로써 달성될 수 있다.The above-described object of the present invention is a heater electrode provided on one surface of an edge ring disposed on an outer circumference of an electrostatic chuck and an edge ring at a position corresponding to the position of the wafer edge to compensate for the temperature of the wafer edge placed on one surface of the electrostatic chuck. It can be achieved by providing an edge ring of the electrostatic chuck characterized in that it comprises a.

또한, 에지 링은 단차가 형성된 제1 에지 링, 및 제1 에지 링의 단차부에 안착 구비되는 제2 에지 링을 포함하며, 히터 전극은 제2 에지 링의 하부면의 둘레방향에 구비된다.In addition, the edge ring includes a first edge ring having a step formed thereon, and a second edge ring provided on the stepped portion of the first edge ring, wherein the heater electrode is provided in the circumferential direction of the lower surface of the second edge ring.

또한, 제1,2 에지 링은 알루미나로 소성되어 상호 접착 본딩된다.Also, the first and second edge rings are fired with alumina and bonded to each other.

또한, 히터 전극은 열선이 패터닝된 도전성 금속층, 도전성 금속층에 절연 접착되는 절연 필름층, 및 도전성 금속층 또는 절연 필름층 중 어느 한 층에 적층되는 접착 필름층을 포함한다.In addition, the heater electrode includes a conductive metal layer in which the heating wire is patterned, an insulating film layer insulated and bonded to the conductive metal layer, and an adhesive film layer laminated on any one of the conductive metal layer or the insulating film layer.

또한, 접착 필름층이 제2 에지 링의 하부면에 압력 접합된다.In addition, the adhesive film layer is pressure bonded to the lower surface of the second edge ring.

또한, 절연 필름층은 폴리이미드이다.In addition, the insulating film layer is polyimide.

또한, 도전성 금속층은 제1 전극, 및 제1 전극과 일정 거리 이격 배치되는 제2 전극을 포함하며, 절연 필름층은 제1 전극 및 제2 전극이 서로 절연되도록 도전성 금속층에 절연 접착된다.In addition, the conductive metal layer includes a first electrode and a second electrode disposed to be spaced apart from the first electrode by a predetermined distance, and the insulating film layer is insulated and bonded to the conductive metal layer so that the first electrode and the second electrode are insulated from each other.

또한, 제2 에지 링의 하부면에는 히터 전극이 삽입 안착되도록 음각 패턴이 형성된다.In addition, an intaglio pattern is formed on the lower surface of the second edge ring to insert and place the heater electrode.

또한, 음각 패턴의 안착홈의 높이는 히터 전극의 높이와 동일하거나 높게 형성된다.In addition, the height of the recess of the intaglio pattern is formed the same as or higher than the height of the heater electrode.

전술한 바와 같은 본 발명에 의하면 에지 링에 부착되는 히터 전극의 수명이 다한 경우 구 히터 전극을 떼어내고 새 히터 전극을 부착함으로써 히터 전극의 교체가 간단하고 전체 교체 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, when the life of the heater electrode attached to the edge ring has expired, removing the old heater electrode and attaching a new heater electrode makes it easy to replace the heater electrode and reduce the overall replacement cost. .

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 일실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석 되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 정전척 및 에지 링을 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 에지 링 및 제2 에지 링의 단면을 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 제2 에지 링의 하부면에 히터 전극이 형성된 것을 나타낸 도면이고,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 히터 전극이 제2 에지 링의 하부면에 접착된 것을 도시한 도면이고,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 제2 에지 링의 하부면에 음각 패턴이 형성된 것을 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 제2 에지 링의 하부면에 복수의 음각 패턴이 형성된 것을 도시한 도면이다.The following drawings, which are attached to this specification, illustrate one preferred embodiment of the present invention, and together with the detailed description thereof, serve to further understand the technical spirit of the present invention. It should not be construed as limited.
1 is a view showing an electrostatic chuck and an edge ring according to an embodiment of the present invention,
2 is a cross-sectional view of the first edge ring and the second edge ring according to an embodiment of the present invention,
3 is a view showing a heater electrode formed on the lower surface of the second edge ring according to an embodiment of the present invention,
4 is a view showing that the heater electrode is bonded to the lower surface of the second edge ring according to an embodiment of the present invention,
5 is a view showing an intaglio pattern is formed on the lower surface of the second edge ring according to an embodiment of the present invention,
FIG. 6 is a diagram illustrating a plurality of intaglio patterns formed on a bottom surface of a second edge ring according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 일실시예는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 내용을 부당하게 한정하지 않으며, 본 실시 형태에서 설명되는 구성 전체가 본 발명의 해결 수단으로서 필수적이라고는 할 수 없다. 또한, 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다.Hereinafter, with reference to the drawings will be described a preferred embodiment of the present invention. In addition, one Example described below does not unduly limit the content of this invention described in the Claim, and the whole structure demonstrated by this Embodiment is not necessarily required as a solution of this invention. In addition, the matters obvious to those skilled in the art and the art may be omitted, and the description of the omitted elements (methods) and functions may be sufficiently referred to without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 정전척의 에지 링(200)은 도 1에 도시된 바와 같이 정전척(100)의 외주에 배치되어 플라즈마를 이용한 공정 처리 시 공정 균일도(Uniformity)를 향상시켜주는 기능을 수행하며 포커스 링으로도 불린다. 이러한 본 발명의 일실시예에 따른 에지 링(500)과 정전척(100)의 배치는 본 출원인이 기 출원한 대한민국 등록특허공보 제10-1591455(발명의 명칭 : 정전척 및 이의 리페어 방법)를 참조할 수 있다.Edge ring 200 of the electrostatic chuck according to an embodiment of the present invention is disposed on the outer periphery of the electrostatic chuck 100 as shown in Figure 1 to improve the process uniformity (Uniformity) during the process treatment using plasma It is also called a focus ring. The arrangement of the edge ring 500 and the electrostatic chuck 100 according to an embodiment of the present invention is the Republic of Korea Patent Publication No. 10-1591455 (name of the invention: the electrostatic chuck and its repair method) previously filed by the applicant Reference may be made.

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 에지 링(200)은 대략적으로 제1 에지 링(210) 및 제2 에지 링(220)을 포함한다. 제1 에지 링(210)은 도 2에 도시된 바와 같이 단차(211)를 가진다. 따라서 제1 에지 링(210)의 단면 형상은 대략 "ㄴ"자이다. 제1 에지 링(210)에 제2 에지 링(220)이 안착된다. 제1,2 에지 링(210,220)은 알루미나(또는 세라믹 소재)를 소성 가공함으로써 이루어지며 서로 접착 본딩되어 에지 링(200)을 형성한다. 제2 에지 링(220)에는 TC홀(221)이 형성되어 있어서 정전척의 온도를 감지하도록 한다.Meanwhile, as shown in FIGS. 1 and 2, the edge ring 200 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a first edge ring 210 and a second edge ring 220. The first edge ring 210 has a step 211 as shown in FIG. 2. Therefore, the cross-sectional shape of the first edge ring 210 is approximately "b". The second edge ring 220 is seated on the first edge ring 210. The first and second edge rings 210 and 220 may be formed by plastic working of alumina (or a ceramic material) and adhesively bonded to each other to form the edge ring 200. A TC hole 221 is formed in the second edge ring 220 to sense the temperature of the electrostatic chuck.

에지 링(200)에는 히터 전극이 마련되고 히터 전극에 전기가 공급되어 발열됨으로써 웨이퍼 에지의 온도를 보상한다. 웨이퍼(도면 미도시)는 정전척(100)의 상부면에 놓여 정전척에 의해 클램핑된다. 이때, 웨이퍼의 폭이 정전척(100)의 폭보다 조금 넓게 배치되기 때문에 웨이퍼의 에지 영역은 웨이퍼의 다른 영역(일예로서 중앙 영역)에 비해 온도가 다를 수 있다. 웨이퍼에 가해지는 온도가 불균일할 경우 공정 불량이 발생할 수 있다. 따라서 에지 링(200)에 히터 전극(300)을 배치하여 웨이퍼의 중앙 영역 대비 에지 영역의 온도를 균일하게 맞추도록 함으로써 공정 불량을 낮추도록 한다.The edge ring 200 is provided with a heater electrode, and electricity is supplied to the heater electrode to generate heat to compensate for the temperature of the wafer edge. A wafer (not shown) is placed on the top surface of the electrostatic chuck 100 and clamped by the electrostatic chuck. In this case, since the width of the wafer is slightly wider than the width of the electrostatic chuck 100, the edge region of the wafer may have a different temperature than other regions of the wafer (for example, a central region). Uneven temperatures on the wafer can lead to process failure. Therefore, the heater electrode 300 is disposed on the edge ring 200 to uniformly adjust the temperature of the edge region with respect to the center region of the wafer, thereby reducing process defects.

이에 따라 본 발명의 일실시예에 따른 에지 링(200)은 히터 전극(300)을 구비하는 것이 바람직하다. 더 나아가 도 3에 도시된 바와 같이 에지 링(200) 중 제2 에지 링(220)의 하부면에 히터 전극(300)을 형성하도록 하는 것이 더욱 바람직하다. 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 히터 전극(300)은 제2 에지 링(220)의 하부면 내측에 둘레방향으로 형성된다. 히터 전극(300)은 도 4에 도시된 바와 같이 대략적으로 전극을 이루는 도전성 금속층(310), 절연 필름층(330), 및 접착 필름층(340)으로 이루어진다. 이때, 도전성 금속층(310)은 SUS 재질로 이루어지며, 도 3에 도시된 바와 같이 설명의 편의를 위하여 제1 전극(311) 및 제2 전극(312)을 포함한다. 도전성 금속층(310)은 원하는 패턴으로 패터닝될 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같은 형상으로 제1,2 전극(311,312)이 패터닝될 수도 있고 도면에는 도시되어 있지 않으나 다양한 패턴 형상(일예로서 메쉬형상)을 가지도록 제1,2 전극이 패터닝될 수 있다. 이때, 제1,2 전극(311,312)은 제1,2 단자(321,322)를 통해 외부에서 전원이 공급되는 경우 발열되며, 이 발열량에 따라 웨이퍼의 에지 영역에 온도를 보상하게 된다. 따라서 제1,2 전극(311,312)은 보상할 웨이퍼 에지 영역에 대응하여 수직 하방에 형성되는 것이 바람직하다.Accordingly, the edge ring 200 according to an embodiment of the present invention preferably includes a heater electrode 300. Furthermore, as shown in FIG. 3, it is more preferable to form the heater electrode 300 on the lower surface of the second edge ring 220 of the edge ring 200. As shown in FIG. 3, the heater electrode 300 according to the exemplary embodiment of the present invention is formed in the circumferential direction inside the lower surface of the second edge ring 220. As shown in FIG. 4, the heater electrode 300 is formed of a conductive metal layer 310, an insulating film layer 330, and an adhesive film layer 340 constituting an electrode. In this case, the conductive metal layer 310 is made of SUS material, and includes a first electrode 311 and a second electrode 312 for convenience of description as shown in FIG. 3. The conductive metal layer 310 may be patterned in a desired pattern. That is, the first and second electrodes 311 and 312 may be patterned in a shape as shown in FIG. 3, and the first and second electrodes may be patterned to have various pattern shapes (eg, mesh shapes) although not shown in the drawing. Can be. In this case, the first and second electrodes 311 and 312 generate heat when the power is supplied from the outside through the first and second terminals 321 and 322, and compensates the temperature in the edge region of the wafer according to the amount of heat generated. Accordingly, the first and second electrodes 311 and 312 may be formed vertically downward corresponding to the wafer edge area to be compensated for.

또한, 도 3에 도시된 히터 전극(300)은 제1,2 전극을 포함하여 이루어지나, 다른 예로서 도 3에 도시된 히터 전극(300)이 제2 에지 링(220)의 하부면에 복수로 구비될 수도 있다. 즉, 제1 히터 전극(제1,2 전극으로 이루어짐)이 제2 에지 링(220)의 하부면에 형성되고, 제2 히터 전극(제1,2 전극으로 이루어짐)이 제1 히터 전극의 외주면에 배치될 수 있다. 따라서 좀 더 넓은 범위(면적)에서 웨이퍼 에지를 온도 보상할 수 있다. 다만, 후술하는 바와 같이 제1,2 히터 전극으로 복수로 구비되는 경우에는 음각 패턴(400)도 이에 상응하도록 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the heater electrode 300 shown in FIG. 3 includes first and second electrodes, but as another example, a plurality of heater electrodes 300 shown in FIG. 3 may be formed on the lower surface of the second edge ring 220. It may be provided as. That is, a first heater electrode (consisting of the first and second electrodes) is formed on the lower surface of the second edge ring 220, and a second heater electrode (consists of the first and second electrodes) is the outer circumferential surface of the first heater electrode. Can be placed in. This allows temperature compensation of the wafer edge over a wider range (area). However, when the plurality of first and second heater electrodes are provided as described below, the intaglio pattern 400 may also be formed to correspond thereto.

도 3에 도시된 바와 같이 제1,2 단자(321,322)는 도 3을 기준으로 상측에 형성된다. 또한, 제1,2 전극(311,312)은 도 3을 기준으로 하측에서 절곡되며, 제1,2단자(321,322)와 서로 전기적으로 접속된다. 좀 더 상세하게는 제1 단자(321)와 전기적으로 접속된 제1 전극(311)은 제2 에지 링(220)의 좌측에서 반시계방향으로 반원 형상으로 이루어지며, 제2 에지 링(220)의 하측에서 절곡되어 다시 시계방향으로 반원 형상으로 제2 전극(312)이 이루어진다. 제2 에지 링(220)의 우측에서 시계방향으로 반원 형상으로 제2 전극(312)이 이루어지며, 제2 에지 링(220)의 하측에서 절곡되어 다시 반시계방향으로 반원 형상으로 제1 전극(311)이 이루어진다. 다만, 상술한 제1,2 전극(311,312)은 제1,2 단자(321,322)에 서로 전기적으로 끊김 없이 연결 접속되며, 설명의 편의를 위하여 구분하였을 뿐이다. 또한, 제1,2 전극(311,312)의 전체적인 형상은 제2 에지 링(220)의 단면 형상과 유사하게 "원 형상"이다. 다만, 제1,2 전극(311,312)은 상호간에 일정 거리 이격되어 구비된다.As shown in FIG. 3, the first and second terminals 321 and 322 are formed on the upper side with reference to FIG. 3. In addition, the first and second electrodes 311 and 312 are bent from the lower side with reference to FIG. 3 and electrically connected to the first and second terminals 321 and 322. More specifically, the first electrode 311 electrically connected to the first terminal 321 is formed in a semicircle shape in a counterclockwise direction from the left side of the second edge ring 220, and the second edge ring 220 is formed. The second electrode 312 is bent at the lower side of the semicircular shape in the clockwise direction again. On the right side of the second edge ring 220, the second electrode 312 is formed in a semicircular shape in a clockwise direction, and is bent from the lower side of the second edge ring 220, and again the first electrode is formed in a semicircle in a counterclockwise direction. 311) is made. However, the above-described first and second electrodes 311 and 312 are electrically connected to the first and second terminals 321 and 322 without disconnection, and are merely classified for convenience of description. In addition, the overall shape of the first and second electrodes 311 and 312 is "circular" similar to the cross-sectional shape of the second edge ring 220. However, the first and second electrodes 311 and 312 may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

도 4에 도시된 바와 같이 히터 전극(300)은 대략 10 ~ 15옴의 전기적 특성을 유지하여야 하며, 상술한 바와 같이 도전성 금속층(310), 절연 필름층(330), 및 접착 필름층(340)으로 이루어진다. 도전성 금속층(310)은 상술한 바와 같이 SUS 재질로 제1,2 전극(311,312)을 포함한다. 도전성 금속층(310)은 다양한 패턴으로 이루어질 수 있다. 도전성 금속층(310)의 상부면에는 절연 필름층(330)이 절연 접착된다. 절연 필름층(330)은 폴리이미드로 이루어진다. 절연 필름층(330)은 도 4에 도시된 바와 같이 제1,2 전극(310,320)이 서로 이격된 사이 공간에 절연 필름층(330)이 접착되도록 절연 접착되어 제1 전극과 제2 전극을 서로 절연하는 것이 바람직하다. 절연 필름층(330) 또는 도전성 금속층(310) 중 어느 한 층에는 접착 필름층(340)이 형성되는 것이 바람직하다. 접착 필름층(340)은 일예로서 양면 테이프(아크릴 재질 접착제)가 될 수 있으며, 접착 필름층(340)이 제2 에지 링(220)의 하부면에 압력 접착된다. 압력 접착은 히터 전극(300)을 제2 에지 링(220)의 하부면 바닥에 올려놓고 장비로 가열과 압력을 가하여 접착함으로써 수행된다.As shown in FIG. 4, the heater electrode 300 must maintain electrical characteristics of approximately 10 to 15 ohms, and as described above, the conductive metal layer 310, the insulating film layer 330, and the adhesive film layer 340. Is done. As described above, the conductive metal layer 310 includes first and second electrodes 311 and 312 made of SUS. The conductive metal layer 310 may be formed in various patterns. The insulating film layer 330 is insulated and bonded to the upper surface of the conductive metal layer 310. The insulating film layer 330 is made of polyimide. As shown in FIG. 4, the insulating film layer 330 is insulated and bonded to bond the insulating film layer 330 to a space between the first and second electrodes 310 and 320 spaced apart from each other. It is preferable to insulate. It is preferable that the adhesive film layer 340 is formed on any one of the insulating film layer 330 or the conductive metal layer 310. As an example, the adhesive film layer 340 may be a double-sided tape (acrylic adhesive), and the adhesive film layer 340 is pressure-bonded to the lower surface of the second edge ring 220. Pressure bonding is performed by placing the heater electrode 300 on the bottom of the lower surface of the second edge ring 220 and applying heat and pressure with the equipment to bond.

도 5에 도시된 바와 같이 히터 전극(300)은 제2 에지 링(220)의 하부면에 형성된 음각 패턴(400)에 삽입된다. 즉, 제2 에지 링(220)의 하부면에는 히터 전극(300)이 삽입 안착될 수 있는 안착홈(410)이 형성된다. 이러한 음각 패턴(400)은 상술한 바와 같이 제1,2 히터 전극(351,352)이 구비되는 경우에는 이에 맞도록 음각 패턴이 형성될 수 있다. 즉, 제1,2 히터 전극(351,352)의 각각의 폭에 맞도록 안착홈(411,412)의 폭이 제2 에지 링(220)의 하부면에 형성되거나 또는 제1 히터 전극(351)과 제2 히터 전극(352) 사이를 구획할 수 있는 구획 공간이 형성될 수 있다. 이때에는 제1 히터 전극(351)은 제1 음각 패턴(411)에 안착 되고, 제2 히터 전극(352)은 제2 음각 패턴(412)에 안착 되어 상호 격리 안착될 수 있다. 이러한 구현은 제1 안착홈(411)과 제2 안착홈(412) 간에 일정 거리를 둠으로써 제2 에지 링(220)의 대략 중앙영역에 구획부(222)가 형성됨으로써 구체화될 수 있다. As shown in FIG. 5, the heater electrode 300 is inserted into the intaglio pattern 400 formed on the bottom surface of the second edge ring 220. That is, a seating groove 410 through which the heater electrode 300 can be inserted and seated is formed on the lower surface of the second edge ring 220. As described above, when the first and second heater electrodes 351 and 352 are provided, the intaglio pattern 400 may be formed to fit the intaglio pattern. That is, the width of the seating grooves 411 and 412 is formed on the lower surface of the second edge ring 220 to match the width of each of the first and second heater electrodes 351 and 352, or the first heater electrode 351 and the second heater. A partition space for partitioning between the heater electrodes 352 may be formed. In this case, the first heater electrode 351 may be seated on the first intaglio pattern 411, and the second heater electrode 352 may be seated on the second intaglio pattern 412, and may be seated in isolation from each other. Such an implementation may be embodied by forming a partition 222 in a substantially central region of the second edge ring 220 by providing a predetermined distance between the first seating groove 411 and the second seating groove 412.

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 바람직하게는 히터 전극(300)의 높이보다 음각 패턴(또는 안착홈,410,411,412)의 높이가 더 높거나 동일한 것이 좋다. 즉, 안착홈(410)의 깊이가 히터 전극(300)을 수용하도록 깊은 것이 바람직하다. 이렇게 음각 패턴(410)을 형성하고 그 속에 히터 전극(300)을 삽입하는 경우에는 공정 챔버 내에서 플라즈마 데미지를 줄일 수 있다. 즉, 플라즈마에 의해 제1 에지 링(210)과 제2 에지 링(220)의 접착 데미지가 발생하고, 이러한 접착 데미지에 의해 히터 전극이 손상을 입거나 히터 전극의 발열이 일정하게(대략 60도) 유지되지 않는 문제점이 있다. 따라서 음각 패턴 내에 히터 전극을 삽입하는 경우에는 이러한 문제점을 방지할 수 있는 장점이 있다.5 and 6, the height of the intaglio pattern (or the mounting grooves 410, 411, 412) is preferably higher or the same as the height of the heater electrode 300. That is, the depth of the mounting groove 410 is preferably deep to accommodate the heater electrode 300. When the intaglio pattern 410 is formed and the heater electrode 300 is inserted therein, plasma damage may be reduced in the process chamber. That is, adhesion damage of the first edge ring 210 and the second edge ring 220 occurs by the plasma, and the damage of the heater electrode or the heating of the heater electrode is constant (approximately 60 degrees) by the adhesion damage. ) There is a problem that is not maintained. Therefore, when the heater electrode is inserted in the intaglio pattern, there is an advantage of preventing such a problem.

상술한 나란하게 배치되는 제1,2 전극의 수는 사용환경에 따라 더 많게 또는 더 적게 구비될 수 있으며, 전극 간 이격 거리도 전극이 3개 이상 구비되는 경우 서로 다르게 할 수 있다. 전극의 폭(또는 넓이) 및 높이도 사용환경에 따라 다양한 수치를 적용할 수 있다. 다만, 전극의 높이는 상술한 음각 패턴의 깊이와 서로 연관되어 정해지는 것이 바람직하다.The number of the first and second electrodes arranged side by side may be provided more or less depending on the usage environment, and the separation distance between the electrodes may be different when three or more electrodes are provided. The width (or width) and height of the electrode can also be applied to various values depending on the usage environment. However, the height of the electrode is preferably determined in association with the depth of the intaglio pattern described above.

본 발명을 설명함에 있어 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다.In the following description of the present invention, those skilled in the art and those skilled in the art may omit descriptions, and descriptions of such omitted components (methods) and functions may be sufficiently referred to without departing from the technical spirit of the present invention. Could be.

상술한 각부의 구성 및 기능에 대한 설명은 설명의 편의를 위하여 서로 분리하여 설명하였을 뿐 필요에 따라 어느 한 구성 및 기능이 다른 구성요소로 통합되어 구현되거나, 또는 더 세분화되어 구현될 수도 있다.Description of the configuration and functions of the above-described parts have been described separately from each other for convenience of description, and any configuration and function may be implemented by being integrated into other components, or may be further subdivided as necessary.

이상, 본 발명의 일실시예를 참조하여 설명했지만, 본 발명이 이것에 한정되지는 않으며, 다양한 변형 및 응용이 가능하다. 즉, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 많은 변형이 가능한 것을 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명과 관련된 공지 기능 및 그 구성 또는 본 발명의 각 구성에 대한 결합관계에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 구체적인 설명을 생략하였음에 유의해야 할 것이다.As mentioned above, although demonstrated with reference to one Embodiment of this invention, this invention is not limited to this, A various deformation | transformation and an application are possible. That is, those skilled in the art will readily appreciate that many modifications are possible without departing from the spirit of the invention. In addition, when it is determined that the detailed description of the known function and its configuration or the coupling relationship for each configuration of the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, it should be noted that the detailed description is omitted. something to do.

100 : 정전척
200 : 에지 링(또는 포커스 링)
210 : 제1 에지 링
211 : 단차
220 : 제2 에지 링
221 : TC홀
222 : 구획부
223 : 내측면
224 : 외측면
300 : 히터 전극
310 : 도전성 금속층
311 : 제1 전극
312 : 제2 전극
321 : 제1 단자
322 : 제2 단자
330 : 절연 필름층
340 : 접착 필름층
351 : 제1 히터 전극
352 : 제2 히터 전극
400 : 음각 패턴
410 : 안착홈
411 : 제1 안착홈
412 : 제2 안착홈100: electrostatic chuck
200: edge ring (or focus ring)
210: first edge ring
211 step
220: second edge ring
221 TC hole
222: compartment
223: inner side
224: outer side
300: heater electrode
310: conductive metal layer
311: first electrode
312: second electrode
321: first terminal
322: second terminal
330: insulating film layer
340: adhesive film layer
351: first heater electrode
352: second heater electrode
400: engraved pattern
410: settling groove
411: first seating groove
412: second seating groove

Claims (9)

정전척의 외주에 배치되는 에지 링, 및
상기 정전척의 일면에 놓이는 웨이퍼 에지의 온도를 보상하도록 상기 웨이퍼 에지의 위치와 대응되는 위치의 상기 에지 링의 일면에 구비되어 발열되는 히터 전극을 포함하며,
상기 에지 링은,
단차가 형성된 제1 에지 링, 및
상기 제1 에지 링의 단차부에 안착 구비되는 제2 에지 링을 포함하며,
상기 히터 전극은 상기 제2 에지 링의 하부면의 둘레방향에 구비되며,
상기 히터 전극은,
열선이 패터닝된 도전성 금속층,
상기 도전성 금속층에 절연 접착되는 절연 필름층, 및
상기 도전성 금속층 또는 절연 필름층 중 어느 한 층에 적층되는 접착 필름층을 포함하며,
상기 접착 필름층이 상기 제2 에지 링의 하부면에 압력 접합되는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링.
An edge ring disposed on an outer circumference of the electrostatic chuck, and
A heater electrode provided on one surface of the edge ring at a position corresponding to the position of the wafer edge to compensate for the temperature of the wafer edge placed on one surface of the electrostatic chuck;
The edge ring is
A first edge ring having a step formed thereon, and
A second edge ring seated on the stepped portion of the first edge ring,
The heater electrode is provided in the circumferential direction of the lower surface of the second edge ring,
The heater electrode,
A conductive metal layer patterned with a heating wire,
An insulating film layer insulated and bonded to the conductive metal layer, and
An adhesive film layer laminated on any one of the conductive metal layer and the insulating film layer,
And the adhesive film layer is pressure bonded to the lower surface of the second edge ring.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제1,2 에지 링은 알루미나로 소성되어 상호 접착 본딩되는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링.
The method of claim 1,
The first and second edge rings of the electrostatic chuck, characterized in that the alumina is fired and bonded to each other.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 절연 필름층은 폴리이미드인 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링.
The method of claim 1,
The insulating film layer is an edge ring of the electrostatic chuck, characterized in that the polyimide.
제 1 항에 있어서,
상기 도전성 금속층은,
제1 전극, 및
상기 제1 전극과 일정 거리 이격 배치되는 제2 전극을 포함하며,
상기 절연 필름층은 상기 제1 전극 및 제2 전극이 서로 절연되도록 상기 도전성 금속층에 절연 접착되는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링.
The method of claim 1,
The conductive metal layer,
A first electrode, and
A second electrode spaced apart from the first electrode by a predetermined distance;
The insulating film layer is an edge ring of the electrostatic chuck, characterized in that the first electrode and the second electrode is insulated and bonded to the conductive metal layer to be insulated from each other.
정전척의 외주에 배치되는 에지 링, 및
상기 정전척의 일면에 놓이는 웨이퍼 에지의 온도를 보상하도록 상기 웨이퍼 에지의 위치와 대응되는 위치의 상기 에지 링의 일면에 구비되어 발열되는 히터 전극을 포함하며,
상기 에지 링은,
단차가 형성된 제1 에지 링, 및
상기 제1 에지 링의 단차부에 안착 구비되는 제2 에지 링을 포함하며,
상기 히터 전극은 상기 제2 에지 링의 하부면의 둘레방향에 구비되며,
상기 제2 에지 링의 하부면에는 상기 히터 전극이 삽입 안착되도록 음각 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링.
An edge ring disposed on an outer circumference of the electrostatic chuck, and
A heater electrode provided on one surface of the edge ring at a position corresponding to the position of the wafer edge to compensate for the temperature of the wafer edge placed on one surface of the electrostatic chuck;
The edge ring is
A first edge ring having a step formed thereon, and
A second edge ring seated on the stepped portion of the first edge ring,
The heater electrode is provided in the circumferential direction of the lower surface of the second edge ring,
The bottom surface of the second edge ring is an edge ring of the electrostatic chuck, characterized in that the intaglio pattern is formed so that the heater electrode is inserted and seated.
제 8 항에 있어서,
상기 음각 패턴의 안착홈의 높이는 상기 히터 전극의 높이와 동일하거나 높게 형성되는 것을 특징으로 하는 정전척의 에지 링.The method of claim 8,
Edge height of the electrostatic chuck characterized in that the height of the mounting groove of the intaglio pattern is formed the same or higher than the height of the heater electrode.
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