JP2017228360A - Heating member and electrostatic chuck - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a heating member and an electrostatic chuck, capable of easily performing an elastic connection to a terminal pad from an external part even when a ceramic substrate or the like is constricted during burning.SOLUTION: A plurality of terminal pads 81 is arranged along a peripheral direction of a ceramic substrate 17 in a plane view, and each terminal pad along a radial direction of the ceramic substrate 17 has a shape longer than that along the peripheral direction. Therefore, even when the position of each terminal pads 81 is shifted due to burning, the terminal pad can be easily electrically connected to a conductive member of a connector. That is, since each terminal pad 81 has the long shape in the radial direction, a terminal pin can be arranged at a regulation position on each terminal pad 81 even when the position is shifted due to burning. Therefore, each terminal pad 81 and the conductive member can be easily electrically connected.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、例えば半導体ウェハ等の被加工物を加熱できるセラミックヒータ等の加熱部材と、その加熱部材を備えた静電チャックに関するものである。   The present invention relates to a heating member such as a ceramic heater that can heat a workpiece such as a semiconductor wafer, and an electrostatic chuck including the heating member.

従来、半導体製造装置では、半導体ウェハ(例えばシリコンウェハ)に対して、ドライエッチング(例えばプラズマエッチング)等の処理が行われている。このドライエッチングの精度を高めるためには、半導体ウェハを確実に固定しておく必要があるので、半導体ウェハを固定する固定手段として、静電引力によって半導体ウェハを固定する静電チャックが用いられている。   Conventionally, in a semiconductor manufacturing apparatus, a process such as dry etching (for example, plasma etching) is performed on a semiconductor wafer (for example, a silicon wafer). In order to increase the accuracy of this dry etching, it is necessary to securely fix the semiconductor wafer. As a fixing means for fixing the semiconductor wafer, an electrostatic chuck for fixing the semiconductor wafer by electrostatic attraction is used. Yes.

具体的には、静電チャックでは、例えば、セラミック基板内に吸着用電極を備えており、この吸着用電極に電圧を印加させた際に生じる静電引力を用いて、半導体ウェハをセラミック基板の上面(吸着面)に吸着させる。なお、静電チャックでは、例えば、セラミック基板の下面(接合面)に金属ベースが接合されている。   Specifically, in an electrostatic chuck, for example, an adsorption electrode is provided in a ceramic substrate, and an electrostatic attractive force generated when a voltage is applied to the adsorption electrode is used to attach a semiconductor wafer to the ceramic substrate. Adsorb to the upper surface (adsorption surface). In the electrostatic chuck, for example, a metal base is bonded to the lower surface (bonding surface) of the ceramic substrate.

また、静電チャックには、吸着面に吸着された半導体ウェハの温度を調節(加熱または冷却)する機能を有するものがある。例えば、セラミック基板内に発熱体を配置し、この発熱体によってセラミック基板を加熱することにより、吸着面上の半導体ウェハを加熱する技術がある。   Some electrostatic chucks have a function of adjusting (heating or cooling) the temperature of the semiconductor wafer attracted to the attracting surface. For example, there is a technique of heating a semiconductor wafer on an adsorption surface by disposing a heating element in a ceramic substrate and heating the ceramic substrate with the heating element.

さらに、静電チャックの加熱を精密に行うために、セラミック基板を複数の加熱ゾーン(加熱領域)に区分したセラミックヒータも開発されている。具体的には、各加熱ゾーンに各加熱ゾーンを独立して加熱することができる発熱体(部分発熱体)を配置して、セラミック基板の温度調節機能を向上させた多ゾーンヒータ付きセラミックヒータも提案されている(特許文献1参照)。   Furthermore, in order to precisely heat the electrostatic chuck, a ceramic heater in which a ceramic substrate is divided into a plurality of heating zones (heating regions) has been developed. Specifically, there is also a ceramic heater with a multi-zone heater in which a heating element (partial heating element) capable of independently heating each heating zone is arranged in each heating zone to improve the temperature adjustment function of the ceramic substrate. It has been proposed (see Patent Document 1).

また、近年では、この多ゾーンヒータ付きセラミックヒータについて、より精度良く温度調節を行う等の目的で、セラミック基板の内部に、厚み方向に2層の発熱体を配置したセラミックヒータが開発されている。   Further, in recent years, a ceramic heater in which two layers of heating elements are arranged in the thickness direction inside the ceramic substrate has been developed for the purpose of adjusting the temperature more accurately with respect to the ceramic heater with a multi-zone heater. .

このような多数の発熱体を配置したセラミックヒータでは、各発熱体に外部より電力を供給するための端子部も多数設ける必要がある。そのため、例えば図11に示すように、セラミックヒータP1(従ってセラミック基板P2)の吸着面と反対側の表面に、周方向に沿って多数の端子部P3を配置したものが知られている。   In such a ceramic heater in which a large number of heating elements are arranged, it is necessary to provide a large number of terminal portions for supplying electric power to each heating element from the outside. Therefore, for example, as shown in FIG. 11, there is known one in which a large number of terminal portions P3 are arranged along the circumferential direction on the surface opposite to the suction surface of the ceramic heater P1 (and therefore the ceramic substrate P2).

この端子部P3は、例えば、セラミックヒータP1上に形成された円形の端子パッドP4と、端子パッドP4上に接合された(コネクタの挿入孔に挿入される)端子ピンP5とから構成されている。   The terminal portion P3 includes, for example, a circular terminal pad P4 formed on the ceramic heater P1, and a terminal pin P5 joined to the terminal pad P4 (inserted into the insertion hole of the connector). .

前記端子パッドP4は、例えば、セラミックグリーンシート上に導電ペーストにより端子パターンを形成し、その端子パターンとセラミックグリーンシートとを同時焼成することにより形成されている。   The terminal pad P4 is formed, for example, by forming a terminal pattern with a conductive paste on a ceramic green sheet and simultaneously firing the terminal pattern and the ceramic green sheet.

特開2005−166354号公報JP 2005-166354 A

しかしながら、上述した従来技術では、セラミック基板P2などは焼成の際に(特に径方向に)収縮するので、端子パッドP4(従って端子ピンP5)を所定の位置に配置することが容易ではないという問題があった。   However, in the above-described prior art, the ceramic substrate P2 and the like contract during firing (particularly in the radial direction), and therefore it is not easy to place the terminal pad P4 (and thus the terminal pin P5) at a predetermined position. was there.

つまり、端子ピンP5はコネクタの挿入孔の位置(規定位置)に合わせて配置する必要があるが、焼成によってセラミック基板P2が収縮すると、端子ピンP5を設ける端子パッドP4の位置がずれてしまう。そのため、端子ピンP5を端子パッドP4に接合する際に、端子ピンP5をコネクタに対応した規定位置に配置することができないことがあった。   That is, the terminal pin P5 needs to be arranged in accordance with the position (specified position) of the insertion hole of the connector. However, when the ceramic substrate P2 contracts by firing, the position of the terminal pad P4 on which the terminal pin P5 is provided is shifted. For this reason, when the terminal pin P5 is joined to the terminal pad P4, the terminal pin P5 may not be disposed at a specified position corresponding to the connector.

この対策として、端子パッドP4を大きくすることが考えられるが、その場合には、多数の端子パッドP4を規定位置に対応した目的の位置に配置することが難しいという別の問題が生じる。   As a countermeasure, it is conceivable to increase the terminal pad P4. In this case, however, another problem arises that it is difficult to arrange a large number of terminal pads P4 at target positions corresponding to the specified positions.

本発明は、前記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、セラミック基板が焼成によって収縮する場合でも、端子パッドに対する外部からの電気的接続が容易な加熱部材及び静電チャックを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a heating member and an electrostatic chuck that can be easily electrically connected to the terminal pad from the outside even when the ceramic substrate shrinks by firing. There is.

(1)本発明の第1局面は、被加工物が搭載される第1の主面と第1の主面の反対側の第2の主面とを有するとともに電気絶縁性を有するセラミック基板と、セラミック基板の内部に配置されて通電により発熱する発熱部と、を備えるとともに、発熱部は、独立して温度調節が可能な複数の発熱体を有する加熱部材に関するものである。   (1) A first aspect of the present invention is a ceramic substrate having a first main surface on which a workpiece is mounted and a second main surface opposite to the first main surface, and having electrical insulation. And a heating part that is disposed inside the ceramic substrate and generates heat when energized, and the heating part relates to a heating member having a plurality of heating elements that can be adjusted in temperature independently.

この加熱部材は、セラミック基板の第2の主面に、複数の発熱体にそれぞれ電気的に接続された複数の端子パッドを備えている。この複数の端子パッドは、セラミック基板を厚み方向から見た平面視で、セラミック基板の周方向に沿って複数配置されるとともに、周方向に沿った長さよりセラミック基板の径方向に沿った長さの方が長い形状を有する。   The heating member includes a plurality of terminal pads electrically connected to the plurality of heating elements on the second main surface of the ceramic substrate. The plurality of terminal pads are arranged along the circumferential direction of the ceramic substrate in a plan view when the ceramic substrate is viewed from the thickness direction, and the length along the radial direction of the ceramic substrate is longer than the length along the circumferential direction. Has a longer shape.

本第1局面では、端子パッドは、発熱体に対して電力を供給するために用いられるので、この端子パッド(詳しくは例えば端子ピン等)には、外部から給電するために、例えばコネクタの導電部材が接続される。従って、端子パッドを所定の位置(即ち相手部材である導電部材と接続可能な規定位置)に設けることが必要である。   In the first aspect, since the terminal pad is used to supply power to the heating element, the terminal pad (specifically, for example, the terminal pin) is supplied with electric power from the outside, for example, the electrical conductivity of the connector. The members are connected. Accordingly, it is necessary to provide the terminal pad at a predetermined position (that is, a predetermined position where the terminal pad can be connected to the conductive member which is the counterpart member).

ところで、セラミック基板と端子パッドとを同時焼成によって形成する場合には、セラミック基板は、周方向に比べて径方向に大きく収縮するので、端子パッドの位置が目的とする位置(規定位置)からずれることがある。   By the way, when the ceramic substrate and the terminal pad are formed by simultaneous firing, the ceramic substrate contracts more in the radial direction than in the circumferential direction, so that the position of the terminal pad deviates from the target position (specified position). Sometimes.

これに対して、本第1局面では、端子パッドは、平面視で、セラミック基板の周方向に沿って複数配置されるとともに、周方向に沿った長さよりセラミック基板の径方向(即ちセラミック基板の中心方向に向かう収縮ズレが大きな方向)に沿った長さの方が長い形状であるので、焼成によって端子パッドの位置が規定位置からずれた場合でも、例えばコネクタの導電部材との電気的接続が容易である。   On the other hand, in the first aspect, a plurality of terminal pads are arranged along the circumferential direction of the ceramic substrate in a plan view, and the radial direction of the ceramic substrate (that is, the ceramic substrate) from the length along the circumferential direction. Since the length along the direction along which the shrinkage deviation toward the center direction is larger) is longer, the electrical connection with the conductive member of the connector is possible even when the position of the terminal pad is deviated from the specified position by firing, for example. Easy.

つまり、端子パッドは、径方向に長い形状であるので、焼成による位置ずれがあっても、例えばコネクタの導電部材に向かい合う位置に端子パッドが配置されるようにすることができる。従って、焼成による位置ずれがあっても、端子パッドと導電部材との電気的接続を容易に得ることが可能である。   That is, since the terminal pad has a shape that is long in the radial direction, the terminal pad can be disposed at a position facing the conductive member of the connector, for example, even if there is a positional shift due to firing. Therefore, it is possible to easily obtain an electrical connection between the terminal pad and the conductive member even if there is a positional shift due to firing.

また、端子パッドは、径方向に長く周方向に短い形状であるので、端子パッドを複数配置する場合には、(円形の端子パッドに比べて)狭い面積でも、周方向に多くの端子パッドを密集して配置することができる。   In addition, since the terminal pads have a shape that is long in the radial direction and short in the circumferential direction, when a plurality of terminal pads are arranged, many terminal pads are arranged in the circumferential direction even in a small area (compared to a circular terminal pad). It can be arranged densely.

さらに、加熱部材(従ってセラミック基板)は、平面方向における温度分布の均一化を要求されることが多いが、例えば端子パッドを規則性なく(例えば同心状に配置された発熱体を横断するように)径方向に沿って配置した場合には、温度分布の均一化のために、発熱体の配置や形状等を調節することが容易ではない。つまり、端子パッドが配置された各位置において、それぞれ温度分布がどのようになるかを、一つ一つ確認する必要があり、その手間が大変である。   Furthermore, the heating member (and hence the ceramic substrate) is often required to have a uniform temperature distribution in the plane direction. For example, the terminal pads are not regularly arranged (for example, so as to cross the heating elements arranged concentrically). ) When arranged along the radial direction, it is not easy to adjust the arrangement and shape of the heating elements in order to make the temperature distribution uniform. That is, it is necessary to confirm the temperature distribution at each position where the terminal pads are arranged, which is troublesome.

それに対して、本第1局面では、端子パッドはセラミック基板の周方向に沿って複数配置されているので、端子パッドの配置に規則性があり、よって、端子パッドの配置に起因する温度変化に対する調節も容易である。つまり、端子パッドは周方向に沿って規則的に配置されているので、それぞれ温度の変化はほぼ同様であり、よって、温度分布を均一化するための手間を軽減することができる。   On the other hand, in the first aspect, since a plurality of terminal pads are arranged along the circumferential direction of the ceramic substrate, the arrangement of the terminal pads is regular, and therefore, with respect to temperature changes caused by the arrangement of the terminal pads. Adjustment is also easy. That is, since the terminal pads are regularly arranged along the circumferential direction, the temperature changes are almost the same, and therefore, the effort for making the temperature distribution uniform can be reduced.

(2)本発明の第2局面では、セラミック基板の内部に、発熱部と端子パッドとを電気的に接続する複数のビアを備えるとともに、端子パッドに接続された複数のビアは、径方向に沿って配置されている。   (2) In the second aspect of the present invention, the ceramic substrate includes a plurality of vias for electrically connecting the heat generating portion and the terminal pad, and the plurality of vias connected to the terminal pad are arranged in the radial direction. Are arranged along.

第2局面では、端子パッドに接続された複数のビアは、端子パッドの寸法の長い径方向に沿って配置されているので、端子パッドが焼成によって位置がずれた場合でも(或いは端子パッド自体が収縮した場合でも)、端子パッドに複数のビアを容易に配置することができる。   In the second aspect, since the plurality of vias connected to the terminal pad are arranged along the long radial direction of the terminal pad dimension, even if the terminal pad is displaced by firing (or the terminal pad itself is Even when contracted, a plurality of vias can be easily placed in the terminal pad.

(3)本発明の第3局面では、発熱体と端子パッドとの間に、内部配線層が配置されており、内部配線層と端子パッドとが複数のビアにより接続されている。
第3局面では、内部配線層と端子パッドとが複数のビアにより接続されているので、内部配線層と端子パッドとの導通を確実に得ることができる。
(3) In the third aspect of the present invention, an internal wiring layer is disposed between the heating element and the terminal pad, and the internal wiring layer and the terminal pad are connected by a plurality of vias.
In the third aspect, since the internal wiring layer and the terminal pad are connected by a plurality of vias, electrical connection between the internal wiring layer and the terminal pad can be reliably obtained.

(4)本発明の第4局面では、端子パッドには、導電性を有する他の部材が接合されている。
第4局面では、端子パッドには、例えば端子ピンのような他の部材(他の導電部材)が接合されているので、この端子ピン等を用いて例えばコネクタと容易に接続することができる。
(4) In the fourth aspect of the present invention, another member having conductivity is joined to the terminal pad.
In the fourth aspect, since another member (other conductive member) such as a terminal pin is joined to the terminal pad, for example, it can be easily connected to a connector using this terminal pin or the like.

(5)本発明の第5局面は、第1〜第4局面のいずれかの加熱部材を備えるとともに、セラミック基板に静電電極を備えた静電チャックである。
この静電チャックにより、被加工物を吸着して加熱することができる。
(5) A fifth aspect of the present invention is an electrostatic chuck including the heating member according to any one of the first to fourth aspects and including an electrostatic electrode on a ceramic substrate.
The electrostatic chuck can attract and heat the workpiece.

なお、本発明としては、更に下記(a)〜(d)の構成を採用することもできる。
(a)前記導電性を有する他の部材は、金属製のピンである加熱部材。
(b)前記発熱部の構成として、前記周方向に延びるライン(線状部分)を有する加熱部材。
In addition, as this invention, the structure of following (a)-(d) is also employable.
(A) The other member having conductivity is a heating member which is a metal pin.
(B) A heating member having a line (linear portion) extending in the circumferential direction as a configuration of the heat generating portion.

(c)前記発熱部の構成として、前記周方向に前記複数の発熱体が配置された構成を有する加熱部材。
(d)前記発熱部の構成として、前記厚み方向において異なる位置に配置された複数の発熱部を有する加熱部材。
(C) A heating member having a configuration in which the plurality of heating elements are arranged in the circumferential direction as the configuration of the heat generating portion.
(D) A heating member having a plurality of heat generating portions arranged at different positions in the thickness direction as a configuration of the heat generating portion.

<以下に、本発明の各構成について説明する>
・周方向とは、平面視で、セラミック基板の中心の回りを回る方向である。ここで、セラミック基板の中心とは重心を意味し、セラミック基板が円形の場合には、円の中心を意味する。つまり、セラミック基板が円形の場合には、周方向は円周方向を意味する。
<Each configuration of the present invention will be described below>
The circumferential direction is a direction that turns around the center of the ceramic substrate in plan view. Here, the center of the ceramic substrate means the center of gravity, and when the ceramic substrate is circular, it means the center of the circle. That is, when the ceramic substrate is circular, the circumferential direction means the circumferential direction.

・径方向とは、平面視で、セラミック基板の中心から外周に向かう方向である。ここで、セラミック基板の中心とは重心を意味し、セラミック基板が円形の場合には、円の中心を意味する。つまり、セラミック基板が円形の場合には、径方向は半径方向を意味する。   The radial direction is a direction from the center of the ceramic substrate toward the outer periphery in plan view. Here, the center of the ceramic substrate means the center of gravity, and when the ceramic substrate is circular, it means the center of the circle. That is, when the ceramic substrate is circular, the radial direction means the radial direction.

・セラミック基板とは、セラミックを主成分(50質量%以上)とする基板(板状の部材)である。このセラミックの材料としては、酸化アルミニウム(アルミナ)、窒化アルミニウム、酸化イットリウム(イットリア)等が挙げられる。   A ceramic substrate is a substrate (plate-shaped member) containing ceramic as a main component (50% by mass or more). Examples of the ceramic material include aluminum oxide (alumina), aluminum nitride, yttrium oxide (yttria), and the like.

なお、静電チャックに用いられるセラミック基板は、電気絶縁性を有するセラミック絶縁板である。
・主面とは、板材(基板)の厚み方向における端部をなす表面のことである。
The ceramic substrate used for the electrostatic chuck is an electrically insulating ceramic insulating plate.
-A main surface is the surface which makes the edge part in the thickness direction of a board | plate material (board | substrate).

・端子パッドは、例えばタングステン、モリブデン等からなる導電層である。
・発熱部(従って発熱体)は、通電によって発熱する抵抗発熱体であり、この発熱体の材料としては、タングステン、タングステンカーバイド、モリブデン、モリブデンカーバイド、タンタル、白金等が挙げられる。
The terminal pad is a conductive layer made of, for example, tungsten or molybdenum.
The heating part (and hence the heating element) is a resistance heating element that generates heat when energized, and examples of the material of the heating element include tungsten, tungsten carbide, molybdenum, molybdenum carbide, tantalum, and platinum.

・静電電極の材料としては、タングステン、モリブデン等が挙げられる。   -Examples of the material of the electrostatic electrode include tungsten and molybdenum.

実施形態の静電チャックを一部破断して示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a partially broken electrostatic chuck of the embodiment. 実施形態の静電チャックを厚み方向に破断しその一部を示す断面図である。It is sectional drawing which fractures | ruptures the electrostatic chuck of embodiment and shows the one part in the thickness direction. セラミックヒータの第1発熱部の第1発熱体及び加熱領域を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st heat generating body and heating area | region of the 1st heat generating part of a ceramic heater. セラミックヒータの第2発熱部の第2発熱体及び加熱領域を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd heat generating body and heating area | region of the 2nd heat generating part of a ceramic heater. コネクタ及びその周囲の構成を一部破断し拡大して示す説明図である。It is explanatory drawing which a partly fracture | ruptures and expands and shows the structure of a connector and its periphery. セラミックヒータの第2の主面における端子パッドの配置を示す平面図である。It is a top view which shows arrangement | positioning of the terminal pad in the 2nd main surface of a ceramic heater. セラミックヒータを厚み方向に破断し、端子パッド、ビア、内部配線層等を示す断面図である。It is sectional drawing which fractures | ruptures a ceramic heater in the thickness direction and shows a terminal pad, a via | veer, an internal wiring layer, etc. (a)は図7のX−X断面における内部配線層等を示す説明図、(b)は図7のY−Y断面における端子パッド等を示す説明図、(c)は第2の主面における端子パッド及び端子ピンを示す平面図である。(A) is explanatory drawing which shows the internal wiring layer etc. in the XX cross section of FIG. 7, (b) is explanatory drawing which shows the terminal pad in the YY cross section of FIG. 7, (c) is the 2nd main surface. It is a top view which shows the terminal pad and terminal pin in. 他の実施形態のセラミックヒータを厚み方向に破断し、端子パッド、ビア、内部配線層等を示す断面図である。It is sectional drawing which fractures | ruptures the ceramic heater of other embodiment in the thickness direction, and shows a terminal pad, a via | veer, an internal wiring layer, etc. その他の実施形態の変形例を模式的に示し、(a)は変形例1の静電チャックを厚み方向に破断して示す断面図、(b)は変形例2の静電チャックを厚み方向に破断して示す断面図、(c)は変形例3の静電チャックを厚み方向に破断して示す断面図、(d)は変形例4のセラミックヒータを厚み方向に破断して示す断面図である。The modification of other embodiment is shown typically, (a) is sectional drawing which fractures | ruptures the electrostatic chuck of modification 1 in the thickness direction, (b) is the electrostatic chuck of modification 2 in the thickness direction FIG. 7C is a cross-sectional view showing the fracture of the electrostatic chuck of Modification 3 in the thickness direction, and FIG. 8D is a cross-sectional view of the ceramic heater of Modification 4 broken in the thickness direction. is there. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art.

[1.実施形態]
ここでは、実施形態として、例えば半導体ウェハを吸着保持できる静電チャックを例に挙げる。
[1−1.全体構成]
まず、本実施形態の静電チャックの構造について説明する。
[1. Embodiment]
Here, as an embodiment, for example, an electrostatic chuck capable of attracting and holding a semiconductor wafer is taken as an example.
[1-1. overall structure]
First, the structure of the electrostatic chuck of this embodiment will be described.

図1に示す様に、本実施形態の静電チャック1は、図1の上側にて被加工物である半導体ウェハ3を吸着する装置であり、セラミックヒータ(加熱部材)5と金属ベース7とが積層されて接着剤層9により接合されたものである。   As shown in FIG. 1, the electrostatic chuck 1 of the present embodiment is an apparatus that adsorbs a semiconductor wafer 3 that is a workpiece on the upper side of FIG. 1, and includes a ceramic heater (heating member) 5, a metal base 7, and the like. Are laminated and joined by the adhesive layer 9.

なお、セラミックヒータ5の図1の上方の面(上面:吸着面)が第1の主面Aであり、下面が第2の主面Bである。また、金属ベース7の上面が第3の主面Cであり、下面が第4の主面Dである。   The upper surface (upper surface: adsorption surface) of the ceramic heater 5 in FIG. 1 is the first main surface A, and the lower surface is the second main surface B. Further, the upper surface of the metal base 7 is the third main surface C, and the lower surface is the fourth main surface D.

このうち、セラミックヒータ5は、円盤形状であり、吸着用電極(静電電極)11、第1発熱部13、第2発熱部15等を備えたセラミック基板(絶縁基板)17から構成されている。なお、吸着用電極11、第1発熱部13、第2発熱部15は、セラミック基板17に埋設されている。   Among these, the ceramic heater 5 has a disk shape and is composed of a ceramic substrate (insulating substrate) 17 provided with an adsorption electrode (electrostatic electrode) 11, a first heat generating portion 13, a second heat generating portion 15, and the like. . The adsorption electrode 11, the first heat generating part 13, and the second heat generating part 15 are embedded in the ceramic substrate 17.

金属ベース7は、セラミックヒータ5より大径の円盤形状であり、セラミックヒータ5と同軸に接合されている。この金属ベース7には、セラミック基板17(従って半導体ウェハ3)を冷却するために、冷却用流体(冷媒)が流される流路(冷却路)19が設けられている。なお、冷却用流体としては、例えばフッ化液又は純水等の冷却用液体などを用いることができる。   The metal base 7 has a disk shape larger in diameter than the ceramic heater 5 and is joined to the ceramic heater 5 coaxially. The metal base 7 is provided with a flow path (cooling path) 19 through which a cooling fluid (refrigerant) flows in order to cool the ceramic substrate 17 (and thus the semiconductor wafer 3). As the cooling fluid, for example, a cooling liquid such as a fluorinated liquid or pure water can be used.

また、静電チャック1には、リフトピン(図示せず)が挿入されるリフトピン孔21等が、静電チャック1を厚み方向に貫くように、複数箇所に設けられている。このリフトピン孔21は、半導体ウェハ3を冷却するために第1の主面A側に供給される冷却用ガスの流路(冷却用ガス孔)としても用いられる。   The electrostatic chuck 1 is provided with a plurality of lift pin holes 21 or the like into which lift pins (not shown) are inserted so as to penetrate the electrostatic chuck 1 in the thickness direction. The lift pin hole 21 is also used as a cooling gas flow path (cooling gas hole) supplied to the first main surface A side to cool the semiconductor wafer 3.

なお、リフトピン孔21とは別に、冷却用ガス孔(図示せず)を設けてもよい。冷却用ガスとしては、例えばヘリウムガスや窒素ガス等の不活性ガスなどを用いることができる。   In addition to the lift pin holes 21, a cooling gas hole (not shown) may be provided. As the cooling gas, for example, an inert gas such as helium gas or nitrogen gas can be used.

次に、静電チャック1の各構成について、図2に基づいて詳細に説明する。
<セラミックヒータ>
図2に模式的に示すように、セラミックヒータ5(従ってセラミック基板17)は、その第2の主面B側が、例えばインジウムからなる接着剤層9により、金属ベース7の第3の主面C側に接合されている。
Next, each configuration of the electrostatic chuck 1 will be described in detail with reference to FIG.
<Ceramic heater>
As schematically shown in FIG. 2, the ceramic heater 5 (and hence the ceramic substrate 17) has a third main surface C of the metal base 7 on the second main surface B side by an adhesive layer 9 made of indium, for example. It is joined to the side.

このセラミック基板17は、複数のセラミック層(図示せず)が積層されたものであり、アルミナを主成分とするアルミナ質焼結体である。なお、アルミナ質焼結体は、絶縁体(誘電体)である。   The ceramic substrate 17 is formed by laminating a plurality of ceramic layers (not shown), and is an alumina sintered body mainly composed of alumina. The alumina sintered body is an insulator (dielectric).

セラミック基板17の内部には、図2の上方より、後に詳述するように、吸着用電極11、第1発熱部13を構成する複数の第1発熱体23、第2発熱部15を構成する複数の第2発熱体25等が配置されている。   Inside the ceramic substrate 17, as will be described in detail later from above in FIG. 2, a plurality of first heating elements 23 and second heating parts 15 constituting the adsorption electrode 11, the first heating part 13 are configured. A plurality of second heating elements 25 and the like are arranged.

このうち、吸着用電極11は、電圧を印加する周知の電極用端子(図示せず)に電気的に接続されている。また、第1、第2発熱体23、25は、後述する内部配線等を介して、それぞれ給電用端子29又はコネクタ31に電気的に接続されている。   Among these, the adsorption electrode 11 is electrically connected to a known electrode terminal (not shown) for applying a voltage. In addition, the first and second heating elements 23 and 25 are electrically connected to the power supply terminal 29 or the connector 31 via internal wiring or the like, which will be described later.

詳しくは、第1発熱体23は、独自に温度制御が可能なように、第1発熱体23の一端がビア33や共通の内部配線層35aに接続されるとともに、他端がビア33や個別の内部配線層35bに接続されている。そして、共通の内部配線層35aと個別の内部配線層35bは、後に詳述するように、セラミック基板17の第2の主面B側の表面に設けられた端子部39を介して、コネクタ31の各導電部材41(図5参照)に接続されている。   Specifically, the first heating element 23 has one end of the first heating element 23 connected to the via 33 or the common internal wiring layer 35a and the other end connected to the via 33 or individual so that the temperature can be controlled independently. Are connected to the internal wiring layer 35b. The common internal wiring layer 35a and the individual internal wiring layer 35b are connected to the connector 31 via a terminal portion 39 provided on the second main surface B side surface of the ceramic substrate 17, as will be described in detail later. Are connected to the respective conductive members 41 (see FIG. 5).

一方、第2発熱体25は、独自に温度制御が可能なように、第2発熱体25の一端がビア33や共通の内部配線層35cに接続されるとともに、他端がビア33や個別の内部配線層35dに接続されている。そして、共通の内部配線層35cと個別の内部配線層35dは、セラミック基板17の第2の主面B側の表面に設けられた端子部51を介して、給電用端子29に接続されている。   On the other hand, the second heating element 25 has one end of the second heating element 25 connected to the via 33 or the common internal wiring layer 35c and the other end connected to the via 33 or individual so that the temperature can be controlled independently. It is connected to the internal wiring layer 35d. The common internal wiring layer 35c and the individual internal wiring layer 35d are connected to the power feeding terminal 29 via the terminal portion 51 provided on the surface of the ceramic substrate 17 on the second main surface B side. .

なお、この端子部51は、例えば端子パッド53等を備えている。また、ビア33、内部配線層35a、35b、35c、35d(35と総称する)は、例えばタングステンからなる。   The terminal unit 51 includes, for example, a terminal pad 53. The via 33 and the internal wiring layers 35a, 35b, 35c, and 35d (collectively referred to as 35) are made of, for example, tungsten.

<金属ベース>
金属ベース7は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属製である。金属ベース7には、前記冷却路19やリフトピン孔21以外に、前記電極用端子、給電用端子29、コネクタ31等が配置される貫通孔である貫通部55がそれぞれ形成されている。
<Metal base>
The metal base 7 is made of metal made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to the cooling path 19 and the lift pin hole 21, the metal base 7 is formed with a through portion 55 that is a through hole in which the electrode terminal, the power supply terminal 29, the connector 31 and the like are disposed.

なお、静電チャック1の第4の主面D側には、給電用端子29やコネクタ31等を収容するために、第4の主面Dからセラミックヒータ5の内部に到るような内部孔57が複数設けられており、金属ベース7の貫通部55は、この内部孔57の一部を構成している。   Note that an internal hole extending from the fourth main surface D to the inside of the ceramic heater 5 is provided on the fourth main surface D side of the electrostatic chuck 1 so as to accommodate the power supply terminal 29, the connector 31, and the like. A plurality of 57 are provided, and the penetrating portion 55 of the metal base 7 constitutes a part of the internal hole 57.

また、電極用端子や給電用端子29を収容する内部孔57には、各端子29の外周を囲むように、電気絶縁性を有する絶縁筒59が配置されている。
なお、コネクタ31は、そのまま(コネクタ31用の)内部孔57に収容されている。
In addition, in the inner hole 57 that accommodates the electrode terminal and the power feeding terminal 29, an insulating cylinder 59 having electrical insulation is disposed so as to surround the outer periphery of each terminal 29.
The connector 31 is accommodated in the internal hole 57 (for the connector 31) as it is.

<吸着用電極>
吸着用電極11は、例えば平面形状が円形の電極から構成されている。この吸着用電極11とは、静電チャック1を使用する場合には、直流高電圧が印加され、これにより、半導体ウェハ3を吸着する静電引力(吸着力)を発生させ、この吸着力を用いて半導体ウェハ3を吸着して固定するものである。なお、吸着用電極11については、これ以外に、周知の各種の構成(単極性や双極性の電極など)を採用できる。なお、吸着用電極11は、例えばタングステン等の導電材料からなる。
<Adsorption electrode>
The adsorption electrode 11 is composed of, for example, an electrode having a circular planar shape. When the electrostatic chuck 1 is used, a DC high voltage is applied to the adsorption electrode 11, thereby generating an electrostatic attractive force (adsorption force) for adsorbing the semiconductor wafer 3. It is used to adsorb and fix the semiconductor wafer 3. In addition to the above, various known configurations (monopolar or bipolar electrodes, etc.) can be employed for the adsorption electrode 11. The adsorption electrode 11 is made of a conductive material such as tungsten.

<第1発熱部及び第2発熱部>
次に、第1発熱部13及び第2発熱部15について説明する。
第2発熱部15は、第1発熱部13より発熱量の大きなメインヒータであり、第1発熱部13はサブヒータである。なお、第1、第2発熱体23、25は、電圧が印加されて電流が流れると発熱する金属材料(タングステン等)からなる抵抗発熱体である。
<First heating part and second heating part>
Next, the 1st heat generating part 13 and the 2nd heat generating part 15 are demonstrated.
The second heat generating unit 15 is a main heater that generates a larger amount of heat than the first heat generating unit 13, and the first heat generating unit 13 is a sub-heater. The first and second heating elements 23 and 25 are resistance heating elements made of a metal material (such as tungsten) that generates heat when voltage is applied and current flows.

図2に示すように、第1発熱部13の各第1発熱体23は、吸着用電極11より第2の主面B側(図2の下方)にて、同一平面(第1平面H1:図3参照)上に配置されている。   As shown in FIG. 2, each first heating element 23 of the first heating unit 13 is on the same plane (first plane H <b> 1) on the second main surface B side (downward in FIG. 2) from the adsorption electrode 11. (See FIG. 3).

一方、第2発熱部15の各第2発熱体25は、第1発熱部13と第2の主面Bとの間にて、同一平面(第2平面H2:図4参照)上に配置されている。
従って、第1発熱部13と第2発熱部15とは、セラミック基板17(従って静電チャック1)の厚み方向から見た平面視で、重ね合されるように配置されている。
On the other hand, each 2nd heat generating body 25 of the 2nd heat generating part 15 is arrange | positioned on the same plane (2nd plane H2: refer FIG. 4) between the 1st heat generating part 13 and the 2nd main surface B. FIG. ing.
Accordingly, the first heat generating portion 13 and the second heat generating portion 15 are arranged so as to be overlapped in a plan view as viewed from the thickness direction of the ceramic substrate 17 (and hence the electrostatic chuck 1).

以下、各発熱部13、15について詳しく説明する。
まず、図3に基づいて、第1平面H1上において第1発熱部13を構成する複数の第1発熱体23の配置を説明する。
Hereinafter, each heat generating part 13 and 15 will be described in detail.
First, the arrangement of the plurality of first heat generating elements 23 constituting the first heat generating portion 13 on the first plane H1 will be described with reference to FIG.

セラミック基板17には、第1平面H1における各領域をそれぞれ加熱(従って温度調節)できるように、平面視で、同心状に複数の加熱ゾーン61が設けられている。
各加熱ゾーン61には、それぞれ1又は複数の加熱領域63が設定されている。各加熱領域63には、各加熱領域63の形状に対応して、それぞれ(略円形や略U字形状の)第1発熱体23が配置されている。なお、図3では、一部の第1発熱体23のみを示している。
The ceramic substrate 17 is provided with a plurality of heating zones 61 concentrically in a plan view so that each region in the first plane H1 can be heated (thus adjusting the temperature).
In each heating zone 61, one or a plurality of heating regions 63 are set. In each heating region 63, the first heating element 23 (substantially circular or substantially U-shaped) is arranged corresponding to the shape of each heating region 63. In FIG. 3, only a part of the first heating elements 23 is shown.

次に、図4に基づいて、第2平面H2上において第2発熱部15を構成する複数の第2発熱体25の配置を説明する。
セラミック基板17には、第2平面H2における各領域をそれぞれ加熱(従って温度調節)できるように、平面視で、同心状に複数の加熱ゾーン71が設けられている。
Next, the arrangement of the plurality of second heat generating elements 25 constituting the second heat generating portion 15 on the second plane H2 will be described with reference to FIG.
The ceramic substrate 17 is provided with a plurality of heating zones 71 concentrically in plan view so that each region in the second plane H2 can be heated (and thus temperature controlled).

各加熱ゾーン71には、それぞれ1又は複数の加熱領域73が設定されている。各加熱領域73には、各加熱領域73の形状に対応して、それぞれ(略円形や略U字形状の)第2発熱体25が配置されている。   In each heating zone 71, one or a plurality of heating regions 73 are set. In each heating region 73, the second heating element 25 (substantially circular or substantially U-shaped) is arranged corresponding to the shape of each heating region 73.

<コネクタ>
次に、コネクタ31及びその周囲の構成について説明する。
前記図2及び図5に示すように、コネクタ31が配置される内部孔57の底面57a(図5の上方の表面)には、ビア33と接続される複数の端子パッド81が設けられている。なお、端子パッド81は、例えばタングステンからなる。
<Connector>
Next, the connector 31 and the surrounding configuration will be described.
As shown in FIGS. 2 and 5, a plurality of terminal pads 81 connected to the vias 33 are provided on the bottom surface 57 a (the upper surface in FIG. 5) of the internal hole 57 in which the connector 31 is disposed. . The terminal pad 81 is made of tungsten, for example.

この端子パッド81は、多数の第1発熱体23にそれぞれ電力を供給するように、多数の第1発熱体23にそれぞれ接続された各内部配線層35に対応してそれぞれ設けられている。   The terminal pads 81 are provided corresponding to the internal wiring layers 35 respectively connected to the multiple first heating elements 23 so as to supply electric power to the multiple first heating elements 23.

また、各端子パッド81上には、それぞれコネクタ31と接続される端子ピン83が立設されてロウ付けされている。この端子ピン83は、円盤状の基板83aの中央に円柱状のピン83bが立設されたものである。なお、端子パッド81と端子ピン83とから端子部39が構成されている。   On each terminal pad 81, a terminal pin 83 connected to the connector 31 is erected and brazed. This terminal pin 83 has a cylindrical pin 83b erected at the center of a disk-shaped substrate 83a. The terminal pad 39 and the terminal pin 83 constitute a terminal portion 39.

コネクタ31は、内部孔57の奥(図5の上方)に配置される電気絶縁性を有する樹脂製の先端コネクタ部85と、内部孔57の開口部分(図5の下方)に配置される同様な後端コネクタ部87(図2参照)と、先端コネクタ部85と後端コネクタ部87とを接続するケーブル部89とから構成されている。   The connector 31 is disposed at the back of the internal hole 57 (upper in FIG. 5) and has a resin-made tip connector part 85 having electrical insulation, and the same as that of the open part of the internal hole 57 (lower in FIG. 5). The rear end connector portion 87 (see FIG. 2), and the front end connector portion 85 and the rear end connector portion 87 are connected to the cable portion 89.

先端コネクタ部85は、略直方体であり、その先端面91には、端子ピン83(詳しくはピン83b)が挿入可能な多数のピン孔93を備えている。
ピン孔93の内周面には、ピン83bと接触する円筒形状の導電部材41が配置されている。この導電部材41は、ケーブル部89側に延びる導電材(図示せず)によって、後端コネクタ部87の導電部材(図示せず)と電気的に接続されている。
The distal end connector portion 85 is a substantially rectangular parallelepiped, and the distal end surface 91 includes a large number of pin holes 93 into which terminal pins 83 (specifically, pins 83b) can be inserted.
A cylindrical conductive member 41 that is in contact with the pin 83 b is disposed on the inner peripheral surface of the pin hole 93. The conductive member 41 is electrically connected to a conductive member (not shown) of the rear end connector portion 87 by a conductive material (not shown) extending to the cable portion 89 side.

従って、コネクタ31の先端コネクタ部85を内部孔57に押し込むことにより、各端子部39の端子ピン83とコネクタ31の各導電部材41とを接続させて、導通を得ることができる。   Therefore, by pushing the tip connector portion 85 of the connector 31 into the internal hole 57, the terminal pins 83 of the terminal portions 39 and the conductive members 41 of the connector 31 can be connected to obtain electrical continuity.

なお、前記図5では、コネクタ31に3個の端子ピン83が接続される状態を示しているが、実際には、紙面に垂直方向な底面57aに複数列(例えば4列)端子ピン83が配置されているので、例えば合計12個の端子ピン83がコネクタ31に接続されるようになっている。
[1−2.端子パッドの構成]
次に、本実施形態の要部である端子パッド81の構成について説明する。
FIG. 5 shows a state in which three terminal pins 83 are connected to the connector 31, but actually, a plurality of rows (for example, four rows) of terminal pins 83 are formed on the bottom surface 57a perpendicular to the paper surface. Since they are arranged, for example, a total of 12 terminal pins 83 are connected to the connector 31.
[1-2. Terminal Pad Configuration]
Next, the structure of the terminal pad 81 which is the principal part of this embodiment is demonstrated.

図6に示すように、端子パッド81は、セラミックヒータ5(従ってセラミック基板17)の第2の主面Bの表面に多数配置されている。
詳しくは、端子パッド81は、平面視で、セラミック基板17の周方向(円周方向)に沿って、複数列(例えば3列)に配置されるとともに、各列には多数の端子パッド81が複数配置されている。
As shown in FIG. 6, a large number of terminal pads 81 are arranged on the surface of the second main surface B of the ceramic heater 5 (and hence the ceramic substrate 17).
Specifically, the terminal pads 81 are arranged in a plurality of rows (for example, 3 rows) along the circumferential direction (circumferential direction) of the ceramic substrate 17 in plan view, and a large number of terminal pads 81 are arranged in each row. Several are arranged.

この端子パッド81は、平面視で、周方向に沿った長さ(図6の上下方向の長さ)よりセラミック基板17の径方向(半径方向)に沿った長さ(図6の左右方向)の方が長い形状(長円形状)を有する。なお、周方向の長さは例えば1mm、径方向の長さは例えば2mmである。   The terminal pad 81 has a length along the radial direction (radial direction) of the ceramic substrate 17 from the length along the circumferential direction (length in the vertical direction in FIG. 6) in plan view (the horizontal direction in FIG. 6). Has a longer shape (oval shape). The length in the circumferential direction is, for example, 1 mm, and the length in the radial direction is, for example, 2 mm.

つまり、端子パッド81の形状は、セラミックヒータ5を焼成する際に、平面視で、最も収縮率が大きな方向(径方向)の長さよりも、径方向に対して垂直の方向(周方向)の長さが短いように設定されている。   That is, when the ceramic heater 5 is fired, the terminal pad 81 has a shape in a direction (circumferential direction) perpendicular to the radial direction, rather than a length in a direction (radial direction) having the largest shrinkage rate in plan view. The length is set to be short.

なお、図6では、複数列の端子パッド81のうち1列のみを示すとともに、その1列の端子パッド81の一部のみを示している。また、図6では、一点鎖線にて、後述するように、端子パッド81に対して直接又は間接的に接続されるビア33の位置を示している。   In FIG. 6, only one row of the plurality of rows of terminal pads 81 is shown, and only a part of the row of terminal pads 81 is shown. In FIG. 6, the position of the via 33 connected to the terminal pad 81 directly or indirectly is shown by a one-dot chain line as will be described later.

図7に示すように、端子パッド81は、セラミック基板17内に設けられた複数(例えば2個)のビア33により、対向する内部配線層35eに接続されており、更に、この内部配線層35eは、他の複数(例えば2個)のビア33により、対向する他の内部配線層35fに接続されている。   As shown in FIG. 7, the terminal pad 81 is connected to the opposing internal wiring layer 35e by a plurality of (for example, two) vias 33 provided in the ceramic substrate 17, and further, this internal wiring layer 35e. Are connected to another internal wiring layer 35f facing each other by a plurality of (for example, two) vias 33.

つまり、図8(a)に示すように、内部配線層35eの第1の主面A側(表側)は、ビア33により他の内部配線層35fに接続されており、内部配線層35eの第2の主面B側(裏側)は、ビア33により端子パッド81に接続されている。   That is, as shown in FIG. 8A, the first main surface A side (front side) of the internal wiring layer 35e is connected to the other internal wiring layer 35f by the via 33, and the internal wiring layer 35e The main surface B side (back side) of 2 is connected to the terminal pad 81 by a via 33.

また、図8(b)に示すように、端子パッド81の第1の主面A側(表側)は、複数のビア33により内部配線層35eに接続されており、図8(c)に示すように、端子パッド81の第4の主面D側(裏側)には、端子ピン83がろう付けされている。   Further, as shown in FIG. 8B, the first main surface A side (front side) of the terminal pad 81 is connected to the internal wiring layer 35e by a plurality of vias 33, as shown in FIG. 8C. Thus, the terminal pin 83 is brazed to the fourth main surface D side (back side) of the terminal pad 81.

なお、端子パッド81や内部配線層35に接続された複数のビア33は、端子パッド81や内部配線層35e、35fの長手方向(径方向)に沿って一列に配置されている。
前記内部配線層35e、35fは、ビア33等を介して、第1発熱体23と電気的に接続されている。
The plurality of vias 33 connected to the terminal pad 81 and the internal wiring layer 35 are arranged in a line along the longitudinal direction (radial direction) of the terminal pad 81 and the internal wiring layers 35e and 35f.
The internal wiring layers 35e and 35f are electrically connected to the first heating element 23 through vias 33 and the like.

この内部配線層35e、35fの形状としては、例えば端子パッド81と同様な平面形状を採用でき、この場合は、平面視で、内部配線層35e、35fと端子パッド81とは重なっている。
[1−3.製造方法]
次に、本実施形態の静電チャック1の製造方法について、簡単に説明する。
As the shape of the internal wiring layers 35e and 35f, for example, a planar shape similar to that of the terminal pad 81 can be adopted. In this case, the internal wiring layers 35e and 35f and the terminal pad 81 overlap in plan view.
[1-3. Production method]
Next, a method for manufacturing the electrostatic chuck 1 of the present embodiment will be briefly described.

(1)セラミック基板17の原料として、主成分であるAl:92重量%、MgO:1重量%、CaO:1重量%、SiO:6重量%の各粉末を混合して、ボールミルで、50〜80時間湿式粉砕した後、脱水乾燥する。 (1) As a raw material of the ceramic substrate 17, the main components of Al 2 O 3 : 92 wt%, MgO: 1 wt%, CaO: 1 wt%, and SiO 2 : 6 wt% are mixed to form a ball mill. Then, after wet grinding for 50 to 80 hours, dehydrated and dried.

(2)次に、この粉末に溶剤等を加え、ボールミルで混合して、スラリーとする。
(3)次に、このスラリーを、減圧脱泡後平板状に流し出して徐冷し、溶剤を発散させて、(各セラミック層に対応する)各アルミナグリーンシートを形成する。
(2) Next, a solvent or the like is added to the powder and mixed with a ball mill to form a slurry.
(3) Next, this slurry is degassed under reduced pressure, and then poured into a flat plate shape and gradually cooled, and the solvent is diffused to form each alumina green sheet (corresponding to each ceramic layer).

そして、各アルミナグリーンシートに対して、リフトピン孔21等となる空間、更にはビア33となるスルーホールを、必要箇所に開ける。
(4)また、前記アルミナグリーンシート用の原料粉末中にタングステン粉末を混ぜて、スラリー状にして、メタライズインクとする。
And the space used as the lift pin hole 21 grade | etc., And also the through hole used as the via | veer 33 are opened to a required location with respect to each alumina green sheet.
(4) Further, a tungsten powder is mixed in the raw material powder for the alumina green sheet to form a slurry to obtain a metallized ink.

(5)そして、吸着用電極11、第1、第2発熱体23、25、内部配線層35、端子パッド53、81等を形成するために、前記メタライズインクを用いて、吸着用電極11、第1、第2発熱体23、25、内部配線層35、端子パッド53、81等の形成箇所に対応したアルミナグリーンシート上に、通常のスクリーン印刷法により、各パターンを印刷する。なお、ビア33を形成するために、スルーホールに対して、メタライズインクを充填する。   (5) Then, in order to form the adsorption electrode 11, the first and second heating elements 23, 25, the internal wiring layer 35, the terminal pads 53, 81, etc., the adsorption electrode 11, Each pattern is printed by an ordinary screen printing method on an alumina green sheet corresponding to the formation location of the first and second heating elements 23 and 25, the internal wiring layer 35, the terminal pads 53 and 81, and the like. In order to form the via 33, the through hole is filled with metallized ink.

(6)次に、各アルミナグリーンシートを、リフトピン孔21等の必要な空間が形成されるように位置合わせして、熱圧着し、積層シートを形成する。
(7)次に、熱圧着した各積層シートを、それぞれ所定の形状(即ち円板形状)にカットする。
(6) Next, the alumina green sheets are aligned so that necessary spaces such as lift pin holes 21 are formed, and thermocompression-bonded to form a laminated sheet.
(7) Next, each thermocompression-bonded laminated sheet is cut into a predetermined shape (that is, a disc shape).

(8)次に、カットした各積層シートを、還元雰囲気にて、1400〜1600℃の範囲(例えば、1550℃)にて5時間焼成(本焼成)し、各アルミナ質焼結体を作製する。
(9)そして、焼成後に、各アルミナ焼結体に対して、例えば第1の主面A側の加工など必要な加工を行って、セラミック基板17を作製する。
(8) Next, each cut laminated sheet is fired in a reducing atmosphere in the range of 1400 to 1600 ° C. (for example, 1550 ° C.) for 5 hours (main firing) to produce each alumina sintered body. .
(9) After firing, necessary processing such as processing on the first main surface A side is performed on each alumina sintered body to produce the ceramic substrate 17.

(10)次に、セラミック基板17の第2の主面B上の端子パッド81に端子ピン83をろう付けする。
(11)これとは別に、金属ベース7を製造する。具体的には、金属板に対して切削加工等を行うことにより、内部孔57等を備えた金属ベース7を形成する。
(10) Next, terminal pins 83 are brazed to the terminal pads 81 on the second main surface B of the ceramic substrate 17.
(11) Separately, the metal base 7 is manufactured. Specifically, the metal base 7 provided with the internal holes 57 and the like is formed by cutting the metal plate.

(12)次に、金属ベース7とセラミック基板17とを接合して一体化する。
(13)次に、各内部孔57に対応して、コネクタ31等を配置して、静電チャック1を完成する。
[1−4.効果]
次に、本実施形態の効果について説明する。
(12) Next, the metal base 7 and the ceramic substrate 17 are joined and integrated.
(13) Next, the connector 31 and the like are arranged corresponding to each internal hole 57 to complete the electrostatic chuck 1.
[1-4. effect]
Next, the effect of this embodiment will be described.

本実施形態では、端子パッド81は、第1発熱体23に対して電力を供給するために用いられるので、この端子パッド81の端子ピン83には、外部から給電するために、コネクタ31の導電部材41が接続される。従って、端子パッド81を所定の位置(規定位置)に設けることが必要である。   In the present embodiment, since the terminal pad 81 is used to supply power to the first heating element 23, the terminal pin 83 of the terminal pad 81 is electrically connected to the connector 31 in order to supply power from the outside. The member 41 is connected. Therefore, it is necessary to provide the terminal pad 81 at a predetermined position (specified position).

このため、本実施形態では、端子パッド81は、平面視で、セラミック基板17の周方向に沿って複数配置されるとともに、周方向に沿った長さよりセラミック基板17の径方向に沿った長さの方が長い形状になっている。   Therefore, in the present embodiment, a plurality of terminal pads 81 are arranged along the circumferential direction of the ceramic substrate 17 in plan view, and the length along the radial direction of the ceramic substrate 17 is longer than the length along the circumferential direction. Has a longer shape.

従って、セラミック基板17と端子パッド81とを同時焼成した際に、セラミック基板17等が径方向に大きく収縮した場合でも、端子パッド81上の規定位置に端子ピン83を配置することが可能である。   Therefore, when the ceramic substrate 17 and the terminal pad 81 are simultaneously fired, the terminal pin 83 can be disposed at a predetermined position on the terminal pad 81 even when the ceramic substrate 17 or the like is greatly contracted in the radial direction. .

つまり、端子パッド81は、径方向に長い形状であるので、焼成によって径方向に位置がずれた場合でも、端子パッド81上の規定位置に端子ピン83を配置することができる。即ち、コネクタ31の導電部材41に向かい合う位置に端子ピン83を配置することができる。従って、焼成による位置ずれがあっても、端子パッド81と導電部材41との電気的接続を容易に得ることが可能である。   That is, since the terminal pad 81 has a shape that is long in the radial direction, the terminal pin 83 can be disposed at a predetermined position on the terminal pad 81 even when the position is displaced in the radial direction by firing. That is, the terminal pin 83 can be disposed at a position facing the conductive member 41 of the connector 31. Therefore, it is possible to easily obtain the electrical connection between the terminal pad 81 and the conductive member 41 even if there is a positional shift due to firing.

また、本実施形態では、端子パッド81は、径方向に長く径方向に短い形状であるので、端子パッド81を複数配置する場合には、(円形の端子パッドに比べて)狭い面積でも、周方向に多くの端子パッド81を密集して配置することができる。   Further, in the present embodiment, the terminal pad 81 has a shape that is long in the radial direction and short in the radial direction. Therefore, when a plurality of terminal pads 81 are arranged, even if the area is small (compared to a circular terminal pad), Many terminal pads 81 can be densely arranged in the direction.

さらに、本実施形態では、端子パッド81はセラミック基板17の周方向に沿って複数配置されているので、端子パッド81の配置に規則性があり、よって、端子パッド81の配置に起因する温度変化に対する調節(即ち各発熱体23、25の配置や形状の調節)も容易である。   Furthermore, in the present embodiment, since a plurality of terminal pads 81 are arranged along the circumferential direction of the ceramic substrate 17, there is regularity in the arrangement of the terminal pads 81, and thus the temperature change caused by the arrangement of the terminal pads 81. Adjustment (ie, adjustment of the arrangement and shape of the heating elements 23 and 25) is also easy.

つまり、端子パッド81は、(環状に配置された)各発熱体23、25が伸びる方向である周方向に沿って規則的に配置されているので、各端子パッド81による温度の変化はほぼ同様であり、よって、温度分布を均一化するための前記調節の手間を軽減することができる。   That is, since the terminal pads 81 are regularly arranged along the circumferential direction in which the heating elements 23 and 25 (arranged in an annular shape) extend, the temperature changes by the terminal pads 81 are almost the same. Therefore, it is possible to reduce the labor of the adjustment for making the temperature distribution uniform.

また、本実施形態では、端子パッド81に接続された複数のビア33は、寸法の長い端子パッド81の径方向に沿って配置されているので、複数のビア33を容易に配置することができる。
[2.他の実施形態]
本発明は前記実施形態になんら限定されるものではなく、本発明を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうることはいうまでもない。
Further, in the present embodiment, the plurality of vias 33 connected to the terminal pad 81 are arranged along the radial direction of the terminal pad 81 having a long dimension, so that the plurality of vias 33 can be easily arranged. .
[2. Other Embodiments]
It goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented in various modes without departing from the present invention.

(1)例えば、前記実施形態では、第1発熱体に接続される端子パッド(詳しくは端子ピン)にコネクタを接続する例を挙げたが、第2発熱体に接続される端子パッドも、第1発熱体の端子パッドと同様な構成(形状や配置)としてもよい。さらに、第2発熱体の端子パッドに端子ピン等を設けて、前記実施形態のようなコネクタと接続するようにしてもよい。   (1) For example, in the embodiment, the example in which the connector is connected to the terminal pad (specifically, the terminal pin) connected to the first heating element has been described, but the terminal pad connected to the second heating element is also the first It is good also as a structure (shape and arrangement | positioning) similar to the terminal pad of 1 heat generating body. Further, a terminal pin or the like may be provided on the terminal pad of the second heating element so as to be connected to the connector as in the above embodiment.

(2)また、コネクタは前記実施形態のコネクタに限らず、1つのコネクタに接続される端子ピンの数も前記実施形態に限定されるものではない。例えば、1つのコネクタに1つの端子ピンを接続する構成とすることもできる。   (2) The connector is not limited to the connector of the above embodiment, and the number of terminal pins connected to one connector is not limited to the above embodiment. For example, one terminal pin can be connected to one connector.

(3)さらに、端子パッドにビアを介して接続される内部配線層は、平面視で、端子パッドの位置や形状とは異なっていてもよい。
例えば図9に示すように、端子パッド81にビア33を介して接続される内部配線層35gは、端子パッド81の中心側(同図左側)の端部よりも中心側に延びるように配置されていてもよい。
(3) Furthermore, the internal wiring layer connected to the terminal pad via the via may be different from the position and shape of the terminal pad in plan view.
For example, as shown in FIG. 9, the internal wiring layer 35 g connected to the terminal pad 81 via the via 33 is arranged so as to extend to the center side from the end of the terminal pad 81 on the center side (left side in the figure). It may be.

また、前記内部配線層35gとビア33を介して接続される他の内部配線層35hは、内部配線層35gの中心側(同図左側)の端部よりも中心側に延びるように配置されていてもよい。この場合、両内部配線層35g、35hを接続するビア33は、平面視で、端子パッド81と重ならないように配置されていてもよい。   Further, the other internal wiring layer 35h connected to the internal wiring layer 35g via the via 33 is arranged so as to extend to the center side from the end portion on the center side (left side in the figure) of the internal wiring layer 35g. May be. In this case, the via 33 connecting both the internal wiring layers 35g and 35h may be arranged so as not to overlap the terminal pad 81 in plan view.

或いは、その逆に(図示しないが)、内部配線層35gは、端子パッド81の(中心側と反対側の)外周側の端部よりも外周側に延びるように配置されていてもよい。また、他の内部配線層35hは、内部配線層35gの外周側の端部よりも外周側に延びるように配置されていてもよい。   Or, conversely (not shown), the internal wiring layer 35g may be disposed so as to extend to the outer peripheral side from the end portion of the terminal pad 81 on the outer peripheral side (on the opposite side to the center side). Further, the other internal wiring layer 35h may be arranged so as to extend to the outer peripheral side with respect to the end portion on the outer peripheral side of the internal wiring layer 35g.

(4)前記実施形態では、端子パッドに端子ピンを接合したが、端子パッドに他の導電部材(例えばリード線等)を接合し、この導電部材を介して、各発熱体に電力を供給してもよい。   (4) In the embodiment, the terminal pin is joined to the terminal pad. However, another conductive member (for example, a lead wire) is joined to the terminal pad, and electric power is supplied to each heating element via the conductive member. May be.

或いは、端子パッドに他の部材を接合することなく、コネクタ側に(例えばばねで付勢した)ピン等を配置し、このピン等の先端を端子パッドに接触させて導通を得る方法も採用できる。   Alternatively, it is also possible to employ a method in which a pin (for example, biased by a spring) is disposed on the connector side without joining other members to the terminal pad, and the tip of the pin or the like is brought into contact with the terminal pad to obtain conduction. .

(5)また、例えば、図10(a)に変形例1を示すように、セラミック基板17内に第1発熱部13を配置し、セラミック基板17の外側(即ち第2の主面B側)に第2発熱部15を配置してもよい。   (5) Also, for example, as shown in Modification 1 in FIG. 10A, the first heat generating portion 13 is arranged in the ceramic substrate 17, and the outside of the ceramic substrate 17 (that is, the second main surface B side). The second heat generating part 15 may be arranged in

(6)さらに、図10(b)に変形例2を示すように、例えば第2発熱部15を、厚み方向に配置した複数層(例えば第1の主面A側の上層15aと第2の主面B側の下層15bの2層)によって構成してもよい。また、第1発熱部13を複数層で構成してもよい。   (6) Further, as shown in Modification 2 in FIG. 10B, for example, the second heat generating portion 15 includes a plurality of layers (for example, the upper layer 15 a on the first main surface A side and the second layer arranged in the thickness direction). You may comprise by 2 layers of the lower layer 15b by the side of the main surface B. Moreover, you may comprise the 1st heat generating part 13 by multiple layers.

或いは、発熱部として、第1発熱部又は第2発熱部のどちらか一方のように、一層の発熱部のみを用いてもよい。
(7)また、図10(c)に変形例3を示すように、本発明は、金属ベース7を備えない静電チャック1にも適用できる。つまり、本発明は、セラミックヒータ5に、吸着用電極11、第1発熱部13、第2発熱部15を備えた静電チャック1にも適用できる。
Alternatively, only one heating element may be used as the heating part, such as either the first heating part or the second heating part.
(7) Further, as shown in Modification 3 in FIG. 10C, the present invention can be applied to the electrostatic chuck 1 that does not include the metal base 7. That is, the present invention can also be applied to the electrostatic chuck 1 including the ceramic heater 5 and the adsorption electrode 11, the first heat generating portion 13, and the second heat generating portion 15.

(8)さらに、本発明は、静電チャックではないセラミックヒータにも適用できる。
例えば、図10(d)に変形例4を示すように、セラミック基板17内に、前記実施形態と同様な第1発熱部13及び第2発熱部15を備えたセラミックヒータ5に適用できる。
(8) Furthermore, the present invention can be applied to a ceramic heater that is not an electrostatic chuck.
For example, as shown in Modification 4 in FIG. 10 (d), the present invention can be applied to the ceramic heater 5 provided with the first heat generating portion 13 and the second heat generating portion 15 similar to those of the above embodiment in the ceramic substrate 17.

(9)各本実施形態の構成を適宜組み合わせることができる。   (9) The configurations of the present embodiments can be combined as appropriate.

1…静電チャック
5…セラミックヒータ
11…吸着用電極(静電電極)
13…第1発熱部
15…第2発熱部
17…セラミック基板
23…第1発熱体
25…第2発熱体
17…セラミック基板
29…コネクタ
33…ビア
35、35a、35b、35c、35d、35e、35f、35g、35h…内部配線層
53、81…端子パッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electrostatic chuck 5 ... Ceramic heater 11 ... Electrode for adsorption (electrostatic electrode)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 ... 1st heat generating part 15 ... 2nd heat generating part 17 ... Ceramic substrate 23 ... 1st heat generating body 25 ... 2nd heat generating body 17 ... Ceramic substrate 29 ... Connector 33 ... Via 35, 35a, 35b, 35c, 35d, 35e, 35f, 35g, 35h ... internal wiring layers 53, 81 ... terminal pads

Claims (5)

被加工物が搭載される第1の主面と該第1の主面の反対側の第2の主面とを有するとともに電気絶縁性を有するセラミック基板と、該セラミック基板の内部に配置されて通電により発熱する発熱部と、を備えるとともに、
前記発熱部は、独立して温度調節が可能な複数の発熱体を有する加熱部材において、
前記セラミック基板の前記第2の主面に、前記複数の発熱体にそれぞれ電気的に接続された複数の端子パッドを備え、
前記複数の端子パッドは、前記セラミック基板を厚み方向から見た平面視で、
前記セラミック基板の周方向に沿って複数配置されるとともに、前記周方向に沿った長さより前記セラミック基板の径方向に沿った長さの方が長い形状を有することを特徴とする加熱部材。
A ceramic substrate having a first main surface on which a workpiece is mounted and a second main surface opposite to the first main surface and having electrical insulation, and disposed inside the ceramic substrate A heating part that generates heat when energized, and
In the heating member having a plurality of heating elements capable of adjusting the temperature independently,
A plurality of terminal pads respectively electrically connected to the plurality of heating elements on the second main surface of the ceramic substrate;
The plurality of terminal pads are in a plan view of the ceramic substrate as viewed from the thickness direction,
A heating member, wherein a plurality of the ceramic substrates are arranged along a circumferential direction of the ceramic substrate, and a length along a radial direction of the ceramic substrate is longer than a length along the circumferential direction.
前記セラミック基板の内部に、前記発熱部と前記端子パッドとを電気的に接続する複数のビアを備えるとともに、
前記端子パッドに接続された前記複数のビアは、前記径方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項1に記載の加熱部材。
Inside the ceramic substrate, with a plurality of vias for electrically connecting the heat generating portion and the terminal pad,
The heating member according to claim 1, wherein the plurality of vias connected to the terminal pads are arranged along the radial direction.
前記発熱体と前記端子パッドとの間に、内部配線層が配置されており、該内部配線層と前記端子パッドとが前記複数のビアにより接続されていることを特徴とする請求項2に記載の加熱部材。   The internal wiring layer is disposed between the heating element and the terminal pad, and the internal wiring layer and the terminal pad are connected by the plurality of vias. Heating member. 前記端子パッドには、導電性を有する他の部材が接合されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の加熱部材。   The heating member according to claim 1, wherein another member having conductivity is bonded to the terminal pad. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の加熱部材を備えるとともに、前記セラミック基板に静電電極を備えたことを特徴とする静電チャック。   An electrostatic chuck comprising the heating member according to claim 1, and an electrostatic electrode provided on the ceramic substrate.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190004867A (en) * 2017-07-04 2019-01-15 삼성전자주식회사 Electro-static chuck, apparatus for processing substrate and manufacturing method of semiconductor device using the same
WO2019159862A1 (en) * 2018-02-16 2019-08-22 日本特殊陶業株式会社 Holding device
JP2019149458A (en) * 2018-02-27 2019-09-05 日本特殊陶業株式会社 Holding device and manufacturing method for holding device
WO2020153079A1 (en) * 2019-01-25 2020-07-30 日本碍子株式会社 Ceramic heater
JP6843320B1 (en) * 2019-09-18 2021-03-17 日本碍子株式会社 Ceramic heater
WO2021054322A1 (en) * 2019-09-18 2021-03-25 日本碍子株式会社 Electrostatic chuck heater
WO2021054323A1 (en) * 2019-09-18 2021-03-25 日本碍子株式会社 Ceramic heater
JP7448060B1 (en) 2023-03-27 2024-03-12 Toto株式会社 electrostatic chuck

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000012195A (en) * 1998-06-29 2000-01-14 Ibiden Co Ltd Ceramic heater
JP2003077783A (en) * 2001-09-03 2003-03-14 Ibiden Co Ltd Ceramic heater for semiconductor manufacturing/ inspecting device and manufacturing method therefor
JP2011049196A (en) * 2009-08-25 2011-03-10 Ngk Spark Plug Co Ltd Electrostatic chuck
JP2013191626A (en) * 2012-03-12 2013-09-26 Ngk Insulators Ltd Semiconductor manufacturing device, and method of manufacturing the same
JP2014075525A (en) * 2012-10-05 2014-04-24 Ngk Spark Plug Co Ltd Layered heating element, electrostatic chuck, and ceramic heater

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000012195A (en) * 1998-06-29 2000-01-14 Ibiden Co Ltd Ceramic heater
JP2003077783A (en) * 2001-09-03 2003-03-14 Ibiden Co Ltd Ceramic heater for semiconductor manufacturing/ inspecting device and manufacturing method therefor
JP2011049196A (en) * 2009-08-25 2011-03-10 Ngk Spark Plug Co Ltd Electrostatic chuck
JP2013191626A (en) * 2012-03-12 2013-09-26 Ngk Insulators Ltd Semiconductor manufacturing device, and method of manufacturing the same
JP2014075525A (en) * 2012-10-05 2014-04-24 Ngk Spark Plug Co Ltd Layered heating element, electrostatic chuck, and ceramic heater

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190004867A (en) * 2017-07-04 2019-01-15 삼성전자주식회사 Electro-static chuck, apparatus for processing substrate and manufacturing method of semiconductor device using the same
KR102435888B1 (en) 2017-07-04 2022-08-25 삼성전자주식회사 Electro-static chuck, apparatus for processing substrate and manufacturing method of semiconductor device using the same
KR20230030050A (en) * 2018-02-16 2023-03-03 니뽄 도쿠슈 도교 가부시키가이샤 Holding device
WO2019159862A1 (en) * 2018-02-16 2019-08-22 日本特殊陶業株式会社 Holding device
KR102636178B1 (en) 2018-02-16 2024-02-14 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 Holding device
JP2019149458A (en) * 2018-02-27 2019-09-05 日本特殊陶業株式会社 Holding device and manufacturing method for holding device
CN113170539B (en) * 2019-01-25 2023-03-14 日本碍子株式会社 Ceramic heater
JPWO2020153079A1 (en) * 2019-01-25 2021-11-04 日本碍子株式会社 Ceramic heater
KR20210058993A (en) * 2019-01-25 2021-05-24 엔지케이 인슐레이터 엘티디 Ceramic heater
JP7216746B2 (en) 2019-01-25 2023-02-01 日本碍子株式会社 ceramic heater
KR102604134B1 (en) * 2019-01-25 2023-11-17 엔지케이 인슐레이터 엘티디 ceramic heater
WO2020153079A1 (en) * 2019-01-25 2020-07-30 日本碍子株式会社 Ceramic heater
CN113170539A (en) * 2019-01-25 2021-07-23 日本碍子株式会社 Ceramic heater
JPWO2021054322A1 (en) * 2019-09-18 2021-11-18 日本碍子株式会社 Electrostatic chuck heater
CN113039863B (en) * 2019-09-18 2023-03-28 日本碍子株式会社 Electrostatic chuck heater
KR20210070371A (en) * 2019-09-18 2021-06-14 엔지케이 인슐레이터 엘티디 ceramic heater
CN112840741A (en) * 2019-09-18 2021-05-25 日本碍子株式会社 Ceramic heater
CN112840741B (en) * 2019-09-18 2023-02-24 日本碍子株式会社 Ceramic heater
KR20210044899A (en) * 2019-09-18 2021-04-23 엔지케이 인슐레이터 엘티디 Electrostatic chuck heater
WO2021054323A1 (en) * 2019-09-18 2021-03-25 日本碍子株式会社 Ceramic heater
CN113039863A (en) * 2019-09-18 2021-06-25 日本碍子株式会社 Electrostatic chuck heater
KR102570817B1 (en) * 2019-09-18 2023-08-24 엔지케이 인슐레이터 엘티디 electrostatic chuck heater
KR102580556B1 (en) 2019-09-18 2023-09-19 엔지케이 인슐레이터 엘티디 ceramic heater
WO2021054322A1 (en) * 2019-09-18 2021-03-25 日本碍子株式会社 Electrostatic chuck heater
US11837490B2 (en) 2019-09-18 2023-12-05 Ngl Insulators, Ltd. Electrostatic chuck heater
JP7429228B2 (en) 2019-09-18 2024-02-07 日本碍子株式会社 electrostatic chuck heater
JP6843320B1 (en) * 2019-09-18 2021-03-17 日本碍子株式会社 Ceramic heater
JP7448060B1 (en) 2023-03-27 2024-03-12 Toto株式会社 electrostatic chuck

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