KR102005300B1 - Composite cleaning apparatus integrated with sorter and method of cleaning using the apparatus - Google Patents

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Abstract

웨이퍼가 탑재된 캐리어를 세정장치에 투입되고 세정단계에 따라 웨이퍼의 반출 및 탑재를 연속적으로 수행하여 세정공정을 단순하게 하는 분류기와 일체화된 복합 세정장치 및 이를 이용한 세정방법을 제시한다. 그 장치 및 방법은 캐리어 오프너에 의해 분리된 캐리어 본체에 수납된 웨이퍼를 반출하여 웨이퍼 적재부에 적재시키고 세정이 완료된 캐리어 본체에 웨이퍼 적재부에 적재된 웨이퍼를 수납시키는 분류기 및 캐리어 오프너에 의해 분리된 캐리어 커버 및 웨이퍼가 반출된 캐리어 본체를 세정하는 세정부를 포함한다.A composite cleaning device integrated with a sorter which inputs a carrier on which a wafer is placed into a cleaning device and continuously carries out and mounting of wafers according to a cleaning step to simplify the cleaning process and a cleaning method using the same are provided. The apparatus and method are characterized in that a wafer housed in a carrier body separated by a carrier opener is taken out and stacked on a wafer loading section, and a sorter for storing wafers loaded on the wafer loading section in a cleaned carrier main body, And a cleaning section for cleaning the carrier cover and the carrier main body from which the wafer is taken out.

Description

분류기와 일체화된 복합 세정장치 및 이를 이용한 세정방법{Composite cleaning apparatus integrated with sorter and method of cleaning using the apparatus}Technical Field [0001] The present invention relates to a composite cleaning apparatus integrated with a sorter and a cleaning method using the same,

본 발명은 캐리어 세정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 분류기(sorter)와 세정기가 복합되어 웨이퍼의 분류와 함께 캐리어의 세정을 동시에 수행할 수 있는 세정장치 및 세정방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carrier cleaning apparatus, and more particularly, to a cleaning apparatus and a cleaning method capable of simultaneously performing cleaning of a carrier together with classification of a wafer by combining a sorter and a cleaner.

캐리어(carrier)는 웨이퍼를 운반 및 보관 용도로 사용되는 전면개방 운반용기(Front Opening Shipping Box: 이하 'FOSB')와 운반 및 보관뿐만 아니라 공정진행 용도로 사용되는 전면개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod: 이하 'FOUP')와 같은 캐리어가 사용된다. 캐리어는 일반적으로 캐리어 본체와 상기 본체를 밀봉하여 웨이퍼를 보관 및 반송할 수 있도록 상기 본체에 초청정한 내부 환경을 제공하는 커버로 구성된다. 웨이퍼는 본체 내로 삽입될 수 있는 카세트나 캐리어의 내부에 설치된 선반에 의해 지지된다. 분류기는 예컨대 웨이퍼를 결정면이나 반도체 타입 등의 식별정보에 따라 다수의 웨이퍼를 각각 분류하는 장치이다. 일반적으로, 분류기는 웨이퍼를 보관하는 입력카세트에서 로봇암을 이용하여 웨이퍼를 얼라이너(aligner)로 운반하고, 얼라이너에서 정렬 및 분류가 완료된 웨이퍼를 로봇암을 이용하여 출력카세트로 운반하는 식으로 처리된다. The carrier is a front opening shipping box (FOSB) used for carrying and storing wafers, as well as for transportation and storage, as well as front open unified pods Pod: hereinafter " FOUP ") is used. The carrier generally comprises a carrier body and a cover that provides an internal environment to the body for sealing and sealing the wafer so that the wafer can be stored and transported. The wafer is supported by a cassette that can be inserted into the body or by a shelf installed inside the carrier. The classifier is an apparatus for classifying a plurality of wafers according to identification information such as a crystal plane or a semiconductor type, for example. Generally, a sorter carries a wafer to an aligner using a robot arm in an input cassette storing a wafer, and carries the wafers sorted and sorted in the aligner to an output cassette using a robot arm .

캐리어의 세정을 위하여 국내등록특허 제10-1244381호와 같이 세정하고자 하는 캐리어를 로딩(loading)하거나 세정이 완료된 캐리어를 언로딩(unloading)하는 로딩 및 언로딩 포트를 구비한다. 캐리어를 세정하려면, 세정 전에는 미리 분류기(sorter)를 이용하여 웨이퍼를 캐리어로부터 제거하고, 세정 후에는 다시 분류기에 의해 웨이퍼를 캐리어에 탑재한다. 즉, 분류기와 세정기는 서로 독립되어 각각의 공정을 수행하게 된다. And a loading and unloading port for loading carrier to be cleaned or unloading the cleaned carrier as shown in Korean Patent No. 10-1244381 for cleaning the carrier. In order to clean the carrier, the wafer is removed from the carrier in advance by using a sorter before cleaning, and after cleaning, the wafer is mounted on the carrier by the sorter again. That is, the classifier and the scrubber are independent of each other and perform the respective processes.

최근, 캐리어를 세정하는 공정을 단순하게 할 필요성이 증대하고 있다. 이에 따라, 웨이퍼가 탑재된 캐리어를 세정장치에 투입되고 세정단계에 따라 상기 웨이퍼의 반출 및 탑재를 연속적으로 수행하여 세공공정의 단순화하는 방법이 요구되고 있다. In recent years, there is an increasing need to simplify the process of cleaning the carrier. Accordingly, there is a demand for a method of simplifying the pore process by continuously loading and unloading the wafer with the carrier loaded with the wafer into the cleaning apparatus and following the cleaning step.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 웨이퍼가 탑재된 캐리어를 세정장치에 투입되고 세정단계에 따라 웨이퍼의 반출 및 탑재를 연속적으로 수행하여 세정공정을 단순하게 하는 분류기와 일체화된 복합 세정장치 및 이를 이용한 세정방법을 제공하는 데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a composite cleaning device integrated with a sorter for putting a carrier on which a wafer is mounted into a cleaning device and carrying out wafer removal and mounting successively according to a cleaning step to simplify the cleaning process, Method.

본 발명의 과제를 해결하기 위한 분류기와 일체화된 복합 세정장치는 캐리어에 웨이퍼가 수납된 상태로 세정장치로 로딩하거나 상기 세정장치로부터 언로딩하는 로딩/언로딩부 및 상기 로딩/언로딩부로부터 로딩된 캐리어가 이동하여, 상기 캐리어를 캐리어 본체 및 캐리어 커버로 분리하고, 상기 캐리어 본체 및 상기 캐리어 커버를 합체시키는 캐리어 오프너를 포함한다. 또한, 상기 캐리어 오프너에 의해 분리된 상기 캐리어 본체에 수납된 웨이퍼를 반출하여 웨이퍼 적재부에 적재시키고, 세정이 완료된 상기 캐리어 본체에 상기 웨이퍼 적재부에 적재된 웨이퍼를 수납시키는 분류기 및 상기 캐리어 오프너에 의해 분리된 캐리어 커버 및 상기 웨이퍼가 반출된 캐리어 본체를 세정하는 세정부를 포함한다. 이때, 상기 로딩/언로딩부, 상기 캐리어 오프너, 상기 분류기 및 상기 세정부는 상기 세정장치의 내부에 배치된다.A composite cleaning apparatus integrated with a classifier for solving the problems of the present invention includes a loading / unloading unit for loading / unloading a wafer with a cleaning device in a state in which a wafer is housed in the carrier, a loading / unloading unit for loading / unloading from the loading / unloading unit, And a carrier opener for separating the carrier into a carrier body and a carrier cover, and integrating the carrier body and the carrier cover. A sorter for taking out the wafers accommodated in the carrier main body separated by the carrier opener and stacking the wafers on the wafer mounting part and storing the wafers loaded on the wafer mounting part in the cleaned carrier main body, And a cleaning unit for cleaning the carrier main body from which the wafer is taken out. At this time, the loading / unloading portion, the carrier opener, the classifier, and the cleaning portion are disposed inside the cleaning device.

본 발명의 세정장치에 있어서, 상기 로딩/언로딩부는 제1 로봇을 포함하고, 상기 제1 로봇은 상기 캐리어 오프너와 상기 세정부 각각에 상기 캐리어 본체와 상기 캐리어 커버를 이동시킨다. 상기 캐리어 오프너는 상기 분류기의 입구에 배치된다. 상기 분류기는 제2 로봇을 포함하고, 상기 제2 로봇은 상기 캐리어 본체에 수납된 웨이퍼를 반출하여 상기 웨이퍼 적재부에 적재시키거나 상기 세정이 완료된 상기 캐리어 본체에 상기 웨이퍼 적재부에 적재된 웨이퍼를 수납시킨다. 상기 세정부는 상기 캐리어 커버를 세정하기 위한 커버 세정용 원형박스 및 상기 캐리어 본체를 세정하기 위한 본체 세정용 원형박스를 구비할 수 있다.In the cleaning apparatus of the present invention, the loading / unloading section includes a first robot, and the first robot moves the carrier main body and the carrier cover to the carrier opener and the cleaning section. The carrier opener is disposed at an inlet of the sorter. Wherein the sorter includes a second robot, and the second robot transfers the wafers stored in the carrier body to the wafer mounting section, or transfers the wafers loaded on the wafer mounting section to the carrier body, . The cleaning section may include a circular box for cleaning the carrier cover and a circular box for cleaning the main body for cleaning the carrier main body.

본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 분류기와 일체화된 복합 세정장치를 이용한 세정방법은 먼저, 로딩/언로딩부를 이용하여, 캐리어에 웨이퍼가 수납된 상태로 세정장치에 로딩한다. 그후, 제1 로봇에 의해, 상기 캐리어를 캐리어 오프너로 이동한다. 상기 캐리어 오프너를 이용하여, 상기 캐리어 본체 및 캐리어 커버로 분리한다. 상기 제1 로봇을 이용하여, 상기 캐리어 커버를 세정부에 투입한다. 분류기의 제2 로봇을 이용하여, 상기 캐리어 본체에 수납된 상기 웨이퍼를 반출하여 웨이퍼 적재부로 적재시킨다. 상기 제1 로봇으로, 상기 웨이퍼가 반출된 상기 캐리어 본체를 세정부에 투입한다. 상기 세정부에 의해, 상기 캐리어 본체 및 상기 캐리어 커버를 세정한다. 상기 제1 로봇을 이용하여, 세정된 상기 캐리어 본체를 상기 캐리어 오프너로 이동시킨다. 상기 제2 로봇에 의해, 상기 세정된 캐리어 본체에 상기 웨이퍼를 수납시킨다. 상기 제1 로봇으로, 세정된 상기 캐리어 커버를 상기 캐리어 오프너로 이동하고 상기 캐리어 본체와 합체시킨다. 상기 제1 로봇에 의해, 합체된 상기 캐리어를 로딩/언로딩부로 이동시킨다.In another aspect of the present invention, there is provided a cleaning method using a composite cleaning apparatus integrated with a sorter, wherein a loading / unloading unit is used to load a wafer into a cleaning apparatus while the wafer is housed in the carrier. Thereafter, the carrier is moved to the carrier opener by the first robot. The carrier main body and the carrier cover are separated using the carrier opener. And the carrier cover is put into the cleaning section using the first robot. The second robot of the classifier is used to take out the wafer housed in the carrier body and load the wafer on the wafer loading section. The first robot transfers the carrier main body from which the wafer is taken out to the cleaning section. The carrier body and the carrier cover are cleaned by the cleaning section. And the cleaned carrier body is moved to the carrier opener by using the first robot. And the wafer is housed in the cleaned carrier body by the second robot. With the first robot, the cleaned carrier cover is moved to the carrier opener and incorporated with the carrier body. And the carrier is moved to the loading / unloading unit by the first robot.

본 발명의 분류기와 일체화된 복합 세정장치 및 이를 이용한 세정방법에 의하면, 분류기와 일체화된 세정부를 활용함으로써, 웨이퍼가 탑재된 캐리어를 세정장치에 투입되고 세정단계에 따라 웨이퍼의 반출 및 탑재를 연속적으로 수행하여 세정공정을 단순하게 할 수 있다.According to the composite cleaning apparatus integrated with the sorter of the present invention and the cleaning method using the same, the carrier on which the wafer is mounted is put into the cleaning apparatus by using the cleaning unit integrated with the sorter, So that the cleaning process can be simplified.

도 1은 본 발명에 적용되는 캐리어의 사례인 FOUP를 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명에 의한 복합 세정장치를 설명하기 위하여 상부에서 바라본 도면이다.
도 3은 도 2를 측면에서 바라본 도면이다.
도 4는 본 발명에 의한 복합 세정장치를 이용한 세정방법을 나타내는 흐름도이다.1 is a perspective view showing a FOUP, which is an example of a carrier applied to the present invention.
FIG. 2 is a top view of the composite cleaning apparatus according to the present invention.
Figure 3 is a side view of Figure 2;
4 is a flowchart showing a cleaning method using the composite cleaning apparatus according to the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 한편, 상부, 하부, 정면 등과 같이 위치를 지적하는 용어들은 도면에 나타낸 것과 관련될 뿐이다. 실제로, 세정장치는 임의의 선택적인 방향으로 사용될 수 있으며, 실제 사용할 때 공간적인 방향은 세정장치의 방향 및 회전에 따라 변한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention. On the other hand, terms pointing to positions such as top, bottom, front, and the like only relate to those shown in the drawings. In practice, the cleaning device may be used in any optional orientation, and the spatial orientation in actual use varies with the direction and rotation of the cleaning device.

본 발명의 실시예는 웨이퍼를 분류하는 분류기(sorter)와 일체화된 세정부(cleaner)를 활용함으로써, 캐리어에 웨이퍼가 탑재된 상태로 세정장치에 투입되고 세정단계에 따라 웨이퍼의 반출 및 수납을 연속적으로 수행하여 세정공정을 단순하게 하는 복합 세정장치 및 세정방법을 제시한다. 이를 위해, 복합 세정장치의 구조를 상세하게 알아보고, 상기 세정장치에 의해 캐리어를 세정하는 방법을 구체적으로 설명하기로 한다. 여기서, 캐리어는 기판이나 미세전자소자를 운반, 보관뿐만 아니라 공정진행 용도로 사용되는 전면개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod: 이하 'FOUP')를 예로 들겠으나, 본 발명의 범주 내에서 다른 형태의 캐리어도 가능하다.The embodiment of the present invention uses a cleaner integrated with a sorter for sorting wafers so that the wafers are loaded into the carrier in a state where the wafers are mounted on the carrier and the wafers are taken out and stored consecutively Thereby simplifying the cleaning process and a cleaning method. To this end, the structure of the complex cleaning apparatus will be described in detail, and a method for cleaning the carrier with the cleaning apparatus will be described in detail. Here, the carrier will be exemplified by a front open unified pod (FOUP), which is used not only for transporting and storing substrates and fine electronic devices but also for carrying out a process. However, in the present invention, Of carriers are also possible.

도 1은 본 발명의 실시예에 적용되는 캐리어의 사례인 FOUP를 나타내는 사시도이다. 도시된 바와 같이, FOUP은 웨이퍼(W)를 대략 수십매 단위로 보관하는 캐리어(CR)로서, 웨이퍼(W)의 가공할 때 로드 포트(load port)에 장착되어 웨이퍼(W)를 꺼내거나 보관하는 데 사용된다. 일반적으로, FOUP 본체 내부에 기판이 수납될 수 있는 다수의 슬롯이 설치되어 있다. 가공을 위하여 FOUP 커버를 열어 웨이퍼(W)를 꺼내고, 공정이 완료되면 웨이퍼(W)를 슬롯에 수납한 후에 커버를 닫아서 보관한다. 이때, 캐리어(CR)은 FOUP 본체인 캐리어 본체(CRB), FOUP 커버인 캐리어 커버(CRV)로 구분할 수 있다. 한편, 캐리어(CR)를 반복적으로 장기간 사용하게 되면, 다수의 오염원에 노출되어 웨이퍼(W)에 악영향을 미치기 때문에 캐리어(CR)을 주기적으로 교체 및 세정하여야 한다.1 is a perspective view showing a FOUP, which is an example of a carrier applied to an embodiment of the present invention. As shown in the figure, the FOUP is a carrier (CR) for storing the wafer W approximately every several tens of sheets, and is mounted on a load port at the time of processing the wafer W, . Generally, a plurality of slots are provided in the FOUP main body so that the substrates can be housed. For processing, the FOUP cover is opened to take out the wafer W. When the process is completed, the wafer W is stored in the slot, and then the cover is closed and stored. At this time, the carrier CR can be divided into a carrier main body (CRB), which is a FOUP main body, and a carrier cover (CRV), which is a FOUP cover. On the other hand, if the carrier CR is repeatedly used for a long period of time, it is exposed to a large number of contamination sources and adversely affects the wafer W. Therefore, the carrier CR must be periodically replaced and cleaned.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 복합 세정장치를 설명하기 위하여 상부에서 바라본 도면이다. 도 3은 도 2를 측면에서 바라본 도면이다. 다만, 엄밀한 의미의 도면을 표현한 것이 아니며, 설명의 편의를 위하여 도면 상에 나타나지 않은 구성요소가 있을 수 있다. FIG. 2 is a top view for explaining a composite cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. Figure 3 is a side view of Figure 2; It should be understood, however, that the drawings are not necessarily drawn to scale, and there may be elements that are not shown in the drawings for convenience of explanation.

도 2 및 도 3을 참조하면, 복합 세정장치(100)는 내부에 로딩/언로딩부(10), 캐리어 오프너(20), 분류기(30), 제어부(40) 및 세정부(50)를 포함하여 이루어진다. 제어부(40)는 본 발명에 의한 일련의 과정을 제어한다. 로딩/언로딩부(10)는 세정장치(100)의 입구(또는 출구)에 배치된다. 로딩/언로딩부(10)는 캐리어(CR)를 세정장치(100)로 로딩하거나 세정장치(100)로부터 언로딩하기 위한 것으로, 분류기(30) 및 세정부(50)와 기계적 및 공정적인 측면에서 서로 연결된다. 로딩/언로딩부(10)는 통상적으로 로봇, 호이스트를 이용한다. 도면에서는 로봇을 예로 들었다. 여기서, 로딩/언로딩부(10)는 간략하게 개념적으로 설명한 것에 불과하므로, 실제 사용할 때에는 각각의 구성요소의 동작을 최적화하기 위하여 다양한 구조물을 부가할 수 있다.2 and 3, the complex cleaning apparatus 100 includes a loading / unloading section 10, a carrier opener 20, a sorter 30, a control section 40, and a cleaning section 50 . The control unit 40 controls a series of processes according to the present invention. The loading / unloading section 10 is disposed at the inlet (or outlet) of the cleaning apparatus 100. The loading / unloading section 10 is for loading or unloading the carrier CR into / from the cleaning apparatus 100. The loading / unloading section 10 includes a classifier 30 and a cleaning section 50, Respectively. The loading / unloading unit 10 typically uses a robot and a hoist. In the drawing, a robot is taken as an example. Here, since the loading / unloading unit 10 is merely conceptually explained briefly, various structures may be added in order to optimize the operation of each component in actual use.

이때, 캐리어(CR)는 웨이퍼(W)가 수납된 상태로 세정장치(100)에 투입된다. 종래에는, 캐리어(CR)의 세정을 위해서는 캐리어(CR)에서 웨이퍼(W)를 제거한 상태에서, 종래의 로딩/언로딩부에 의해 종래의 세정부로 투입된다. 구체적으로, 캐리어(CR)를 세정하려면, 세정 전에는 종래의 분류기를 이용하여 웨이퍼(W)를 캐리어(CR)로부터 제거하여 종래의 로딩/언로딩부에 의해 종래의 세정부에 투입된다. 또한, 세정 후에는 종래의 분류기에 의해 웨이퍼(CR)를 캐리어(CR)에 탑재하여 종래의 로딩/언로딩부를 이용하여 예컨대 스토커 또는 단위공정으로 이동한다. 즉, 종래의 분류기는 웨이퍼(W)를 일괄적으로 제거하고 다시 탑재하는 데 사용하므로, 종래의 분류기와 세정부는 서로 독립되어 각각의 공정을 수행하게 된다. 하지만, 본 발명의 실시예는 추후에 도 4에서 상세하게 설명하겠지만, 분류기(30) 및 세정부(50)에서의 웨이퍼(W)의 이동은 세정부(50)의 세정과정에 부합되어 연속적으로 이루어진다. At this time, the carrier CR is put into the cleaning apparatus 100 in a state in which the wafer W is accommodated. Conventionally, in order to clean the carrier CR, the wafer W is removed from the carrier CR, and the wafer W is put into the conventional cleaning unit by the conventional loading / unloading unit. Specifically, in order to clean the carrier CR, the wafer W is removed from the carrier CR using a conventional classifier before cleaning, and the wafer W is put into the conventional cleaning unit by a conventional loading / unloading unit. After cleaning, the wafer CR is loaded on the carrier CR by the conventional classifier and moved to a stocker or a unit process using a conventional loading / unloading unit, for example. That is, since the conventional classifier is used to collectively remove and reload the wafers W, the conventional classifier and the cleaner are independent of each other and perform respective processes. 4, the movement of the wafer W in the sorter 30 and the cleaning section 50 is performed continuously in accordance with the cleaning process of the cleaning section 50. However, .

로딩/언로딩부(10)는 캐리어(CR)를 공정에 부합하여 이동시키기 위한 제1 로봇(11)을 포함한다. 제1 로봇(11)의 다관절로 이루어지며, 본 발명의 실시예에 부합되도록 형상 및 기능이 조절된다. 제1 로봇(11)에 의해, 캐리어(CR)은 필요에 따라 분류기(30) 및 세정부(50)로 이동하게 된다. 이와 같이, 제1 로봇(11)의 동작은 분류기(30)의 분류공정 및 세정부(50)의 세정공정과 연동하여 이루어진다. The loading / unloading portion 10 includes a first robot 11 for moving the carrier CR in accordance with the process. And the joints of the first robot 11, and the shapes and functions are adjusted to conform to the embodiment of the present invention. The first robot 11 moves the carrier CR to the classifier 30 and the cleaning section 50 as necessary. As described above, the operation of the first robot 11 is performed in conjunction with the sorting process of the sorter 30 and the cleaning process of the cleaning section 50.

캐리어 오프너(20)는 캐리어(CR)를 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)로 분리하기 위한 것으로, 분류기 입구(33)에 위치한다. 분리된 캐리어 커버(CRV)는 제1 로봇(11)을 이용하여 세정부(50)에 투입되어 세정이 이루어진다. 분리된 캐리어 본체(CRB)는 웨이퍼(W)가 탑재된 상태로 캐리어 오프너(20)에 남아 있다. 캐리어 오프너(20)는 본 발명의 범주 내에서 공지의 방식을 모두 적용할 수 있다. 예를 들어, 캐리어(CR)의 불순물의 존재를 파악하기 위한 검사기능을 추가할 수 있다. The carrier opener 20 is for separating the carrier CR into the carrier main body CRB and the carrier cover CRV and is located at the classifier inlet 33. The separated carrier cover (CRV) is put into the cleaning section (50) by using the first robot (11) and cleaned. The separated carrier body (CRB) remains in the carrier opener 20 with the wafer W mounted thereon. The carrier opener 20 can apply all of the known methods within the scope of the present invention. For example, an inspection function for grasping the presence of impurities in the carrier CR can be added.

분류기(30)는 캐리어 본체(CRB)에 탑재된 웨이퍼(W)를 반출하거나 수납시키는 위한 제2 로봇(31), 웨이퍼(W)가 적재되는 웨이퍼 적재부(32) 및 캐리어 본체(CRB)가 탑재되는 분류기 입구(33)를 포함하여 이루어진다. 분류기(30)는 웨이퍼(W)를 결정면이나 반도체 타입 등의 식별정보에 따라 각각 분류하여 웨이퍼 적재부(32)에 적재시킨다. 웨이퍼 적재부(32)는 웨이퍼(W)의 정렬 및 분류를 하는 얼라이너(aligner)를 포함한다. 여기서, 웨이퍼(W)를 반출하는 경우는 캐리어 본체(CRB)를 세정하기 위하여 웨이퍼(W)를 꺼내는 것을 말하고, 웨이퍼(W)를 수납시키는 경우는 세정부(50)에서 세정이 완료된 캐리어 본체(CRB)에 웨이퍼 적재부(32)에 적재된 웨이퍼(W)를 다시 옮기는 것을 말한다.The sorter 30 includes a second robot 31 for carrying out or storing the wafer W mounted on the carrier main body CRB, a wafer mounting portion 32 on which the wafer W is mounted, and a carrier main body CRB And a sorter inlet 33 mounted thereon. The classifier 30 classifies the wafers W according to identification information such as a crystal plane or a semiconductor type, and loads the wafers W on the wafer mounting section 32. The wafer loading portion 32 includes an aligner for aligning and sorting the wafers W. [ When carrying out the wafer W, the wafer W is taken out to clean the carrier body (CRB). When the wafer W is housed, the carrier body (CRB) Quot; CRB ") of the wafer W placed on the wafer loading section 32 again.

한편, 분류 및 세정을 하는 과정에서 캐리어(CR)은 로딩/언로딩부(10), 캐리어 오프너(20) 중의 어느 한 곳 또는 양쪽에 위치할 수 있다. 로딩/언로딩부(10)의 캐리어(CR)는 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)가 합체된 상태이고, 캐리어 오프너(20)의 캐리어(CR)는 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)의 분리가 이루어진다. On the other hand, in the process of sorting and cleaning, the carrier CR can be located at any one of or both of the loading / unloading section 10 and the carrier opener 20. [ The carrier CR of the loading / unloading portion 10 is in a state in which the carrier main body CRB and the carrier cover CRV are combined together and the carrier CR of the carrier opener 20 is in a state in which the carrier main body CRB and the carrier cover (CRV).

일반적으로 웨이퍼(W)는 사진공정, 식각공정, 박막증착공정, 이온주입공정, 금속배선공정 등 일련의 단위공정이 반복하는 과정을 거친다. 웨이퍼(W)에는패턴(pattern)의미세화 및 고집적화 되는 공정 중에불순물(particle)이나 각종 오염물에 의한 미세오염이 발생한다. 이에 따라, 웨이퍼(W)는 각 단위공정 진행 중에는 항상 청결한 상태로 유지되어야 한다. 이를 위해, 대부분의 단위공정에서는 그 단위공정 진행 전후에, 캐리어(CR)의 세정과 더불어 웨이퍼(W)를 세정하는 웨이퍼 세정공정을 수행하게 된다. In general, the wafer W is subjected to a series of unit processes such as a photolithography process, an etching process, a thin film deposition process, an ion implantation process, and a metal wiring process. Fine contamination due to impurities and various contaminants occurs in the wafer W during the process of making the pattern meaningful and highly integrated. Accordingly, the wafer W must be kept clean at all times during each unit process. For this purpose, in most unit processes, a wafer cleaning process is performed to clean the wafer (W) together with cleaning of the carrier (CR) before and after the unit process.

세정부(50)는 다양한 형태 및 방식이 가능하다. 여기서는 하나의 사례를 제시하기로 한다. 세정부(50)는 캐리어 커버(CRV)를 세정하기 위한 공간을 제공하는 커버용 셀(51) 및 캐리어 본체(CRB)를 세정하기 위한 공간을 제공하는 본체용 셀(52)로 이루어질 수 있다. 도면에서는 지면에 대하여 커버용 셀(51)이 본체용 셀(52)보다 상부에 위치하는 것으로 되어 있으나, 경우에 따라 본체용 셀(52)이 상부에 위치할 수도 있고 커버용 셀(51)과 본체용 셀(52)이 좌우로 배치될 수도 있다. 또한 커버용 셀(51)이 차지하는 공간의 크기는 본체용 셀(52)보다 작은 것이 바람직하다.The taxonomy 50 can be implemented in a variety of forms and schemes. Here we present one case. The cleaning section 50 may comprise a cover cell 51 providing a space for cleaning the carrier cover CRV and a body shell 52 providing space for cleaning the carrier body CRB. Although the cover cell 51 is located above the main body cell 52 with respect to the drawing in the figure, the main body cell 52 may be located at the upper part, And the main body cell 52 may be arranged laterally. The size of the space occupied by the cover cell 51 is preferably smaller than that of the main body cell 52.

커버용 셀(51)에는 캐리어 커버(CRV)를 세정하기 위한 커버 세정용 원형박스(53)가 설치된다. 커버 세정용 원형박스(53) 내에는 캐리어 커버(CRV)가 탑재되고, 상기 원형박스(53) 내에 구비된 커버 세정용 노즐에 의해 캐리어 커버(CRV)가 세정된다. 본체용 셀(52)에는 캐리어 본체(CRB)를 세정하기 위한 본체 세정용 원형박스(54)가 배치된다. 본체 세정용 원형박스(54) 내에는 캐리어 본체(CRB)가 탑재되고, 상기 원형박스(54) 내에 구비된 본체 세정용 노즐에 의해 캐리어 본체(CRB)가 세정된다. 이와 같이, 본 발명의 실시예는 캐리어 커버 및 캐리어 본체를 독립적으로 각각 별도의 셀 및 원형박스에서 세정을 진행한다.The cover shell 51 is provided with a circular box 53 for cleaning the cover for cleaning the carrier cover (CRV). A carrier cover (CRV) is mounted in a circular box 53 for cleaning the cover, and the carrier cover (CRV) is cleaned by a cover cleaning nozzle provided in the circular box 53. The main body cell 52 is provided with a circular box 54 for cleaning the carrier main body (CRB). The carrier main body (CRB) is mounted in the main body cleaning circular box 54 and the carrier main body (CRB) is cleaned by the main body cleaning nozzle provided in the circular box 54. As described above, according to the embodiment of the present invention, the carrier cover and the carrier body are separately cleaned in separate cells and circular boxes, respectively.

본 발명의 커버용 셀(51)에는 적어도 하나의 커버 세정용 원형박스(53)가 배치될 수 있고, 본체용 셀(52)에는 커버 세정용 원형박스(53)와 동일한 개수의 본체 세정용 원형박스(54)가 배치될 수 있다. 도면에서는 두 개의 커버 세정용 원형박스(53)와 두 개의 본체 세정용 원형박스(54)가 배치된 상태를 표현하였다. 하지만, 본 발명의 범주 내에서 더 많은 수의 원형박스(53, 54)를 설치할 수 있다. 여기서, 원형박스(53, 54)를 원형으로 하는 이유는 캐리어 세정할 때 캐리어에 공급된 세정액이 원심력으로 박스 내측의 외부로 향하게 된다. 그런데 원형박스인 경우 소용돌이 현상이 원활하게 발생하여 상기 세정액이 캐리어에 다시 묻는 현상을 억제한다. 또한, 상기 세정액이 아래 배수로로 원활히 빠져 나가게 하는 효과가 있다. 즉, 상기 소용돌이 현상에 의한 효과를 극대화 한다고 할 수 있다.At least one cover box 53 for cleaning the cover may be disposed in the cover shell 51 of the present invention and the same number of circular protuberances 53 A box 54 may be disposed. In the drawing, two cover cleaning circular boxes 53 and two main body cleaning circular boxes 54 are arranged. However, a larger number of circular boxes 53, 54 may be provided within the scope of the present invention. Here, the reason why the circular boxes 53 and 54 are circular is that the cleaning liquid supplied to the carrier when the carrier is cleaned is directed to the outside of the inside of the box by centrifugal force. However, in the case of a circular box, a swirling phenomenon occurs smoothly, thereby suppressing the phenomenon that the cleaning liquid comes back on the carrier. In addition, there is an effect that the cleaning liquid can smoothly escape to the lower drainage passage. That is, the effect of the swirling phenomenon can be maximized.

커버 세정용 원형박스(53)는 제1 로봇(11)으로 캐리어 커버(CRV)가 로딩/언로딩된다. 캐리어 커버(CRV)는 예컨대 커버 업다운 유닛을 이용하여 커버 세정용 원형박스(53)에 이용하여 탑재된다. 구체적으로, 상개 커버 업다운 유닛으로 커버용 덮개를 열고, 캐리어 커버(CRV)를 커버 세정용 원형박스(53)에 탑재시킨 후, 상기 커버용 덮개를 닫는다. 세정을 마친 커버(CRV)는 상기 커버 업다운 유닛으로 상기 커버용 덮개를 들어 올려서, 커버 세정용 원형박스(53)로부터 캐리어 커버(CRV)를 분리한다. 이와 동일하게, 본체(CRB)는 본체 세정용 원형박스(54)는 본체 업다운 유닛에 의해 장착 및 분리를 할 수 있다. 이와 같이 캐리어(CR)의 탑재 및 언로딩은 커버 및 본체 업다운 유닛 및 제1 로봇(11)을 이용한다.The cover box 53 for cleaning the cover is loaded / unloaded with the carrier cover (CRV) by the first robot 11. The carrier cover (CRV) is mounted on the circular box 53 for cover cleaning using, for example, a cover up / down unit. Specifically, the cover cover is opened with the cover cover up / down unit, the carrier cover (CRV) is mounted on the cover box 53 for cleaning the cover, and then the cover cover is closed. The cleaned cover (CRV) lifts the cover for cover with the cover up / down unit to separate the carrier cover (CRV) from the cover box for cleaning the cover (53). Similarly, the main body (CRB) can be mounted and separated by the body up / down unit for cleaning the main body cleaning circular box 54. As described above, the loading and unloading of the carrier CR uses the cover and the body up-down unit and the first robot 11. [

본 발명의 커버 세정용 원형박스(53)의 외측 상부에는 고속회전 유닛이 부착되어 있고, 본체 세정용 원형박스(54)의 외측 상부에는 저속회전 유닛이 부착되어 있다. 이때, 상기 고속회전 유닛은 캐리어 커버(CRV)를 세정하기 위한 것이고, 상기 저속회전 유닛은 캐리어 본체(CRB)를 세정하기 위한 것이다. 또한, 상기 고속회전 유닛의 회전수는 200~300rpm이 바람직하고, 상기 저속회전 유닛의 회전수는 5~10rpm이 바람직하다. 여기서, 고속회전 및 저속회전은 각각의 세정을 위하여 최적화된 상대적인 속도로써 서로 구분하기 위한 것이다. A high-speed rotation unit is attached to the upper part of the outer side of the circular box 53 for cleaning the cover of the present invention, and a low-speed rotation unit is attached to the upper part of the outside of the circular box 54 for cleaning the body. At this time, the high-speed rotation unit is for cleaning the carrier cover (CRV), and the low-speed rotation unit is for cleaning the carrier body (CRB). The rotation speed of the high-speed rotation unit is preferably 200 to 300 rpm, and the rotation speed of the low-speed rotation unit is preferably 5 to 10 rpm. Here, the high-speed rotation and the low-speed rotation are intended to distinguish each other at a relative speed optimized for each cleaning.

본 발명의 실시예에서, 캐리어 커버(CRV)는 고속으로 세정하고 캐리어 본체(CRB)를 저속으로 세정하는 이유는 캐리어 커버(CRV)는 양면이 평면의 단순한 구조로 되어 있어 적은 세정액의 고속회전 200~300rpm으로 적은 세정시간을 가지더라도 충분한 세정효과가 있다, 하지만, 캐리어 본체(CRB)는 구조가 복잡하여 저속회전 5~10rpm 정도의 회전에서 캐리어 본체(CRB)의 요소마다 노즐에서 분사되는 많은 세정액이 충분히 뿌려져 빠른 시간 내에 이물질이 떨어지도록 하여야 한다. In the embodiment of the present invention, the carrier cover (CRV) is cleaned at a high speed and the carrier body (CRB) is cleaned at a low speed because the carrier cover (CRV) The carrier body (CRB) has a complicated structure, and therefore, in the rotation of about 5 to 10 rpm at a low rotation speed, a large number of cleaning liquids Should be sprayed sufficiently to allow foreign matter to fall out within a short period of time.

특히, 캐리어 본체(CRB) 내부에는 다수의 웨이퍼(W)를 보관 및 운반하도록 구성된 슬롯이 구비되어 있다. 상기 슬롯 부분에는 기판의 보관 및 반출이 반복되어 불순물이 많이 생기기 때문에 충분한 세정액이 뿌려지지 않으면, 세정의 효과가 떨어진다. 즉, 세정의 효과를 극대화하기 위해서는 충분한 세정액이 뿌려지도록 함과 동시에 소용돌이 현상이 발생하여 뿌려진 세정액이 빠른 시간 내에 빠져 나가도록 캐리어 본체에 약간의 원심력을 가하게 된다.In particular, a slot is provided in the carrier body (CRB) for storing and transporting a plurality of wafers (W). Since the substrate is repeatedly stored and unloaded in the slot portion, a large amount of impurities are generated, so that the cleaning effect is deteriorated unless a sufficient amount of the cleaning liquid is sprayed. That is, in order to maximize the effect of cleaning, a sufficient amount of cleaning liquid is sprayed and a slight centrifugal force is applied to the carrier main body so that the sprinkled cleaning liquid can be discharged quickly.

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 복합 세정장치를 이용한 세정방법을 나타내는 흐름도이다. 이때, 복합 세정장치는 앞에서 설명한 바와 같으므로, 이를 참조하기로 한다.4 is a flowchart showing a cleaning method using a composite cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. At this time, since the complex cleaning apparatus has been described above, it will be referred to here.

도 4에 의하면, 복합 세정장치(100)를 이용한 세정방법은 먼저 로딩/언로딩부(10)를 이용하여, 웨이퍼(W)가 수납된 캐리어(CR)를 복합 세정장치(100)에 로딩한다(S10). 웨이퍼(W)가 수납된 캐리어(CR)를 복합 세정장치(100)에 투입함으로써, 분류 및 세정공정을 단순하게 할 수 있다. 그후, 제1 로봇(11)에 의해, 캐리어(CR)를 캐리어 오프너(20)로 이동한다(S12). 캐리어 오프너(20)를 이용하여, 캐리어(CR)를 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)로 분리한다(S14). 제1 로봇(11)을 이용하여, 캐리어 커버(CRV)를 세정부(50)에 투입한다(S16). 이에 따라, 캐리어 본체(CRB)는 캐리어 오프너(20)에 남아 있다.4, according to the cleaning method using the composite cleaning apparatus 100, first, the loading / unloading unit 10 is used to load the carrier CR in which the wafers W are housed, into the composite cleaning apparatus 100 (S10). The classification and cleaning process can be simplified by putting the carrier CR in which the wafers W are housed in the composite cleaning device 100. [ Then, the first robot 11 moves the carrier CR to the carrier opener 20 (S12). The carrier CR is separated into the carrier main body CRB and the carrier cover CRV using the carrier opener 20 (S14). Using the first robot 11, the carrier cover (CRV) is charged into the cleaning section 50 (S16). Thereby, the carrier main body (CRB) remains in the carrier opener 20.

이어서, 분류기(30)의 제2 로봇(31)을 이용하여, 캐리어 본체(CRB)의 웨이퍼(W)를 반출하여 웨이퍼 적재부(32)로 반출한다(S18). 그후, 제1 로봇(11)으로, 웨이퍼(W)가 반출된 캐리어 본체(CRB)를 세정부(50)에 투입한다(S20). 세정부(50)에 의해, 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)를 세정한다(S22). 캐리어 커버(CRV) 및 캐리어 본체(CRB)의 세정은 굳이 이에 한정하는 것이 아니나, 앞에서 설명한 커버 세정용 원형박스(53) 및 본체 세정용 원형박스(54)를 활용할 수 있다. 또한, 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)의 세정은 동시에 이루어지거나 시간 간격을 두고 이루어질 수 있다. Subsequently, the wafer W of the carrier main body CRB is taken out and transferred to the wafer loading section 32 (S18) by using the second robot 31 of the sorter 30. Thereafter, the first robot 11 puts the carrier body (CRB) on which the wafer W is taken out into the cleaning part 50 (S20). The cleaning section 50 cleans the carrier main body CRB and the carrier cover CRV (S22). The cleaning of the carrier cover (CRV) and the carrier main body (CRB) is not limited to this, but the circular cover 53 for cleaning the cover and the circular box 54 for cleaning the main body described above can be utilized. Further, the cleaning of the carrier main body (CRB) and the carrier cover (CRV) can be performed simultaneously or at intervals.

다음에, 제1 로봇(11)을 이용하여, 세정된 캐리어 본체(CRB)를 캐리어 오프너(20)로 이동한다(S24). 제2 로봇(31)에 의해, 세정된 캐리어 본체(CRB)에 웨이퍼(W)를 수납시킨다(S26). 그후, 제1 로봇(11)으로, 세정된 캐리어 커버(CRV)를 캐리어 오프너(20)로 이동하고 캐리어 본체(CRB)와 합체한다(S28). 제1 로봇(11)에 의해, 합체된 캐리어(CR)를 로딩/언로딩부(10)로 이동한다(S30). 로딩/언로딩부(10)에 의해, 웨이퍼(W)가 탑재된 캐리어(CR)를 복합 세정장치(100)의 외부로 언로딩한다(S32).Next, the cleaned carrier body CRB is moved to the carrier opener 20 by using the first robot 11 (S24). The wafer W is stored in the cleaned carrier body (CRB) by the second robot 31 (S26). Thereafter, the cleaned carrier cover (CRV) is moved to the carrier opener 20 and merged with the carrier body (CRB) with the first robot 11 (S28). The combined robot CR is moved to the loading / unloading unit 10 by the first robot 11 (S30). The loading / unloading unit 10 unloads the carrier CR on which the wafer W is mounted to the outside of the composite cleaning apparatus 100 (S32).

본 발명의 실시예에 의한 복합 세정장치(100)의 로딩/언로딩부(10)는 제1 로봇(11)을 포함하고, 제1 로봇(11)은 캐리어 오프너(20)와 세정부(50) 각각에 캐리어 본체(CRB)와 캐리어 커버(CRV)를 공정에 부합되도록 이동시킨다. 또한, 분류기(30)는 제2 로봇(31)을 포함하고, 제2 로봇(31)은 공정에 부합되도록 캐리어 본체(CRB)에 수납된 웨이퍼(W)를 반출하여 웨이퍼 적재부(32)에 적재시키거나, 세정이 완료된 캐리어 본체(CRB)에 웨이퍼 적재부(32)에 적재된 웨이퍼(W)를 수납시킨다. 나아가, 캐리어 오프너(20)는 공정에 부합되도록 캐리어(CR)를 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어(CRV) 커버로 분리하고, 캐리어 본체(CRB) 및 캐리어 커버(CRV)를 합체시킨다.The loading / unloading unit 10 of the composite cleaning apparatus 100 according to the embodiment of the present invention includes a first robot 11 and the first robot 11 includes a carrier opener 20 and a cleaning unit 50 The carrier body CRB and the carrier cover CRV are moved in accordance with the process. The sorter 30 includes a second robot 31 and the second robot 31 takes out the wafer W housed in the carrier body CRB in accordance with the process and transfers it to the wafer loading section 32 And the wafers W loaded on the wafer mounting portion 32 are housed in the carrier main body (CRB) that has been mounted or cleaned. Further, the carrier opener 20 separates the carrier CR into a carrier body (CRB) and a carrier (CRV) cover so as to conform to the process, and incorporates the carrier body (CRB) and the carrier cover (CRV).

이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but many variations and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention. It is possible.

10; 로딩/언로딩부 11; 제1 로봇
20; 캐리어 오프너 30; 분류기
31; 제2 로봇 32; 웨이퍼 적재부
33; 분류기 입구 40; 제어부
50; 세정부
CR; 캐리어 CRB; 캐리어 본체
CRV; 캐리어 커버
100; 복합 세정장치10; Loading / unloading unit 11; The first robot
20; Carrier opener 30; Classifier
31; A second robot 32; The wafer-
33; A sorter inlet 40; The control unit
50; Three governments
CR; Carrier CRB; Carrier body
CRV; Carrier Cover
100; Complex cleaning device

Claims (9)

캐리어에 웨이퍼가 수납된 상태로 세정장치로 로딩하거나 상기 세정장치로부터 언로딩하는 로딩/언로딩부;
상기 로딩/언로딩부로부터 로딩된 캐리어가 이동하여, 상기 캐리어를 캐리어 본체 및 캐리어 커버로 분리하고, 상기 캐리어 본체 및 상기 캐리어 커버를 합체시키는 캐리어 오프너;
상기 캐리어 오프너에 의해 분리된 상기 캐리어 본체에 수납된 웨이퍼를 반출하여 웨이퍼 적재부에 적재시키고, 세정이 완료된 상기 캐리어 본체에 상기 웨이퍼 적재부에 적재된 웨이퍼를 수납시키는 분류기; 및
상기 캐리어 오프너에 의해 분리된 캐리어 커버 및 상기 웨이퍼가 반출된 캐리어 본체를 세정하는 세정부를 포함하고,
상기 로딩/언로딩부, 상기 캐리어 오프너, 상기 분류기 및 상기 세정부는 상기 세정장치의 내부에 배치되고,
상기 캐리어 오프너는 상기 캐리어 본체에 수납된 웨이퍼의 반출 및 적재를 위하여 상기 분류기의 입구에 배치되며,
상기 로딩/언로딩부는 제1 로봇을 포함하고, 상기 제1 로봇은 상기 캐리어 오프너와 상기 세정부 각각에 상기 캐리어 본체와 상기 캐리어 커버를 이동시키는 것을 특징으로 하는 분류기와 일체화된 복합 세정장치.A loading / unloading unit for loading or unloading the wafer with the cleaning device while the wafer is housed in the carrier;
A carrier opener for moving the loaded carrier from the loading / unloading portion, separating the carrier into a carrier body and a carrier cover, and combining the carrier body and the carrier cover;
A sorter for taking out the wafers accommodated in the carrier main body separated by the carrier opener and loading the wafers loaded on the wafer loading part into the wafer loading part, and storing the wafers loaded on the wafer loading part in the cleaned carrier main body; And
And a cleaning section for cleaning the carrier cover separated by the carrier opener and the carrier main body from which the wafer is taken out,
Wherein the loading / unloading portion, the carrier opener, the sorter, and the cleaning portion are disposed inside the cleaning device,
Wherein the carrier opener is disposed at an inlet of the classifier for carrying and loading wafers accommodated in the carrier body,
Wherein the loading / unloading portion includes a first robot, and the first robot moves the carrier main body and the carrier cover to the carrier opener and the cleaning portion, respectively. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 세정부는 상기 캐리어 커버를 세정하기 위한 커버 세정용 원형박스 및 상기 캐리어 본체를 세정하기 위한 본체 세정용 원형박스를 구비하는 것을 특징으로 하는 분류기와 일체화된 복합 세정장치.The complex cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning section includes a circular box for cleaning the carrier cover and a circular box for cleaning the carrier body for cleaning the carrier cover. 로딩/언로딩부를 이용하여, 캐리어에 웨이퍼가 수납된 상태로 세정장치에 로딩하는 단계;
제1 로봇에 의해, 상기 캐리어를 캐리어 오프너로 이동시키는 단계;
상기 캐리어 오프너를 이용하여, 캐리어 본체 및 캐리어 커버로 분리하는 단계;
상기 제1 로봇을 이용하여, 상기 캐리어 커버를 세정부에 투입하는 단계;
분류기의 제2 로봇을 이용하여, 상기 캐리어 본체에 수납된 상기 웨이퍼를 반출하여 웨이퍼 적재부로 적재시키는 단계;
상기 제1 로봇으로, 상기 웨이퍼가 반출된 상기 캐리어 본체를 세정부에 투입하는 단계;
상기 세정부에 의해, 상기 캐리어 본체 및 상기 캐리어 커버를 세정하는 단계;
상기 제1 로봇을 이용하여, 세정된 상기 캐리어 본체를 상기 캐리어 오프너로 이동시키는 단계;
상기 제2 로봇에 의해, 상기 세정된 캐리어 본체에 상기 웨이퍼를 수납시키는 단계;
상기 제1 로봇으로, 세정된 상기 캐리어 커버를 상기 캐리어 오프너로 이동하고 상기 캐리어 본체와 합체시키는 단계; 및
상기 제1 로봇에 의해, 합체된 상기 캐리어를 로딩/언로딩부로 이동시키는 단계를 포함하고,
상기 캐리어 오프너는 상기 캐리어 본체에 수납된 웨이퍼의 반출 및 적재를 위하여 상기 분류기의 입구에 배치되는 것을 특징으로 하는 분류기와 일체화된 복합 세정장치를 이용한 세정방법.Loading the carrier into a cleaning apparatus while the wafer is housed in the carrier using the loading / unloading unit;
Moving the carrier by a first robot to a carrier opener;
Separating the carrier main body and the carrier cover using the carrier opener;
Injecting the carrier cover into the cleaning section using the first robot;
Loading and unloading the wafer stored in the carrier body using the second robot of the sorter, and loading the wafer with the wafer loading unit;
Injecting the carrier main body, from which the wafer is taken out, into the cleaning section with the first robot;
Cleaning the carrier body and the carrier cover by the cleaning section;
Moving the cleaned carrier body to the carrier opener using the first robot;
Storing the wafer in the cleaned carrier body by the second robot;
Moving the cleaned carrier cover to the carrier opener with the first robot and incorporating the cleaned carrier cover with the carrier body; And
Unloading the carrier by the first robot, and moving the carrier to the loading / unloading unit by the first robot,
Wherein the carrier opener is disposed at an inlet of the sorter for carrying and loading wafers accommodated in the carrier main body. 제6항에 있어서, 상기 캐리어 오프너는 상기 캐리어를 캐리어 본체 및 캐리어 커버로 분리하고, 상기 캐리어 본체 및 상기 캐리어 커버를 합체시키는 것을 특징으로 하는 분류기와 일체화된 복합 세정장치를 이용한 세정방법.The cleaning method according to claim 6, wherein the carrier opener separates the carrier into a carrier main body and a carrier cover, and combines the carrier main body and the carrier cover. 삭제delete 삭제delete
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