KR102003980B1 - Facilities and method for system decontamination - Google Patents

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KR102003980B1
KR102003980B1 KR1020180113071A KR20180113071A KR102003980B1 KR 102003980 B1 KR102003980 B1 KR 102003980B1 KR 1020180113071 A KR1020180113071 A KR 1020180113071A KR 20180113071 A KR20180113071 A KR 20180113071A KR 102003980 B1 KR102003980 B1 KR 102003980B1
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이경희
김학수
김초롱
송규민
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한국수력원자력 주식회사
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    • G21F9/00Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
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Abstract

The present invention provides system decontamination facilities and a method thereof capable of minimizing radiation exposure of a worker. According to an embodiment of the present invention, the system decontamination facilities comprise: a chemical supply unit injecting chemicals into a system of a nuclear power plant; a filter unit connected with an exit of the system; a positive ion exchange resin connected with the filter unit; a reactor connected with the positive ion exchange resin; a cleansing solution tank connected with the reactor to clean the reactor; a mixed ion exchange resin connected with the reactor; and a circulation pipe unit connecting between the chemical supply unit, the filter unit, the positive ion exchange resin, the reactor, and the mixed ion exchange resin to form a circulation structure of a solution with the system.

Description

계통 제염 설비 및 방법 {FACILITIES AND METHOD FOR SYSTEM DECONTAMINATION}[0001] FACILITIES AND METHOD FOR SYSTEM DECONTAMINATION [0002]

본 발명은 계통 제염 설비 및 방법에 관한 것으로, 특히 원전 해체 시 1차 계통의 화학 제염을 위한 계통 제염 설비 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plant decontamination facility and method, and more particularly, to a plant decontamination facility and method for chemical decontamination of a primary system at the time of dismantling a nuclear power plant.

원자력 발전소는 원자로 내에서의 핵분열성 물질의 연쇄핵분열 반응을 인공적으로 제어하여 열을 발생시키거나 방사성 동위 원소 및 플로토늄의 생산, 또는 방사선장 형성 등이 이루어진다. Nuclear power plants artificially control the sequential fission reaction of fissile materials in the reactor to generate heat, produce radioactive isotopes and plutonium, or form radiation fields.

원자로를 중심으로 많은 개별적 기능을 가진 계통, 예를 들어 원자로 냉각재계통(원자로압력용기, 증기 발생기, 가압기, 주요 배관 등), 화학 및 체적 제어 계통, 잔열 제거 계통 등으로 이루어진다.(Nuclear reactor pressure vessel, steam generator, pressurizer, main piping, etc.), chemical and volumetric control systems, and residual heat removal systems.

이러한 계통 내에는 방사능 물질이 존재하며, 방사선에 의해서 작업자가 피폭될 수 있다. There is a radioactive material in this system, and the worker can be exposed to radiation.

따라서, 원자력발전소의 영구 정지 직후, 방사능 물질로 인해서 해체 작업자의 방사선 피폭을 저감시키고, 발전소 해체 및 철거 작업의 사전 용이성을 확보하기 위하여, 방사능으로 오염된 전체 계통에 대하여 화학적 계통 제염을 수행할 필요가 있다. Therefore, in order to reduce the radiation exposure of the dismantling worker due to the radioactive material immediately after the permanent suspension of the nuclear power plant, and to ensure the ease of dismantling and dismantling of the power plant, chemical system decontamination must be performed on the whole system contaminated with radioactivity .

본 발명의 일 측면은 원자력발전소 해체 시, 전(全) 계통을 용이하게 제염하여 작업자의 피폭을 최소화할 수 있는 계통 제염 설비 및 방법을 제공하고자 한다.One aspect of the present invention is to provide a systematic decontamination facility and method capable of easily decontaminating all systems and minimizing an operator's exposure when a nuclear power plant is dismantled.

본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비는, 원자력 발전소의 계통에 연결되며 상기 계통을 흐르는 용액에 약품을 공급하여 상기 계통을 제염하는 제염 장치; 상기 계통에 설치되는 복수의 선량 측정 장치; 및 상기 복수의 선량 측정 장치로부터 실시간 선량 측정값을 전달받고, 상기 제염 장치를 제어하는 제어부;를 포함하며, 상기 제염 장치는 상기 계통과 상기 용액의 순환 구조를 형성한다.A systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention includes a decontamination apparatus connected to a system of a nuclear power plant and supplying decontamination to a solution flowing through the system to decontaminate the system; A plurality of dose measuring devices installed in the system; And a control unit for receiving a real time dose measurement value from the plurality of dose measuring apparatuses and controlling the decontamination apparatus, wherein the decontamination apparatus forms a circulation structure of the system and the solution.

상기 선량 측정 장치는 상기 제어부와 유선 또는 무선 통신을 통하여 측정값을 전달할 수 있다.The dose measuring device may transmit the measured value to the controller through a wired or wireless communication.

상기 선량 측정 장치는 위치 센서를 포함하며 설치된 위치의 정보를 상기 제어부로 전달할 수 있다.The dose measuring device includes a position sensor and may transmit information of the installed position to the controller.

상기 제염 장치는, 상기 용액에 상기 약품을 주입하는 약품 공급부; 상기 계통에 연결되는 필터부; 상기 필터부와 연결되어 있는 양이온 교환 수지; 상기 양이온 교환 수지와 연결되어 있는 반응기; 상기 반응기와 연결되어 있는 혼상 이온 교환 수지; 및 상기 약품 공급부, 필터부, 양이온 교환 수지, 반응기 및 혼상 이온 교환 수지 사이를 연결하여 상기 계통과 함께 상기 용액의 순환 구조를 형성하는 순환 배관부;를 포함할 수 있다.The decontamination apparatus may further include: a medicine supply unit for injecting the medicine into the solution; A filter unit connected to the system; A cation exchange resin connected to the filter portion; A reactor connected to the cation exchange resin; A mixed phase ion exchange resin connected to the reactor; And a circulation piping portion connecting the drug supply portion, the filter portion, the cation exchange resin, the reactor, and the mixed ion exchange resin to form a circulation structure of the solution together with the system.

상기 약품 공급부는 무기산 및 과망간산이 저장된 산화제 탱크; 및 유기산이 저장된 환원제 탱크;를 포함할 수 있다.Wherein the chemical supply unit includes an oxidant tank storing inorganic acid and permanganic acid; And a reducing agent tank in which the organic acid is stored.

상기 반응기는 내부를 통과하는 상기 용액에 UV를 조사하는 UV 램프를 포함하고, 상기 UV 램프는 서로 다른 파장의 UV를 조사하는 복수의 램프를 포함할 수 있다.The reactor includes a UV lamp that irradiates the solution through the interior with UV, and the UV lamp may include a plurality of lamps that emit UV of different wavelengths.

상기 제염 장치는 상기 반응기와 연결되어 상기 반응기 내부를 세척하는 세척액 탱크; 및 상기 반응기로 공급되는 용액에 과산화수소를 주입하는 과산화수소 탱크;를 더 포함할 수 있다.The decontamination apparatus may include a washing liquid tank connected to the reactor to wash the inside of the reactor; And a hydrogen peroxide tank for injecting hydrogen peroxide into the solution supplied to the reactor.

상기 제염 장치는 상기 계통과 상기 필터부 사이에 연결되는 모니터링부;를 더 포함하고, 상기 모니터링부는 상기 계통과 상기 필터부 사이를 이동하는 상기 용액의 pH, ORP(산화-환원 전위, Oxidation-Reduction Potential), 및 전기전도도를 측정하는 센서를 포함할 수 있다.Wherein the decontamination apparatus further comprises a monitoring unit connected between the system and the filter unit, wherein the monitoring unit monitors pH, ORP (Oxidation-Reduction Potential) of the solution moving between the system and the filter unit, Potential), and a sensor for measuring electrical conductivity.

상기 제어부는 상기 선량 측정값과 기준값을 비교하여 상기 약품 공급부에서 주입되는 상기 약품의 양을 제어할 수 있다.The control unit may compare the dose measurement value with a reference value to control the amount of the medicine injected from the drug supply unit.

본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법은, 상기 복수의 선량 측정 장치에서 위치 정보 및 실시간 선량 측정값을 상기 제어부로 전달하는 단계; 및 상기 제어부에서 상기 실시간 선량 측정값을 기준값과 비교하여 상기 약품 공급부에서 상기 약품의 공급량을 조절하는 단계;를 포함한다.The systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention includes: transmitting positional information and a real-time dose measurement value to the control unit in the plurality of dose measurement apparatuses; And adjusting the supply amount of the medicine in the medicine supply unit by comparing the measured value of the real time dose with the reference value in the control unit.

상기 위치 정보 및 실시간 선량 측정값을 통하여 제염 정체 구역을 파악하는 단계;를 더 포함할 수 있다.And determining the decontamination area through the positional information and the real-time dose measurement value.

본 발명의 일 실시예에 따르면 원전 해체시 전(全) 계통을 화학적으로 용이하게 제염함으로써, 해체 작업시 작업자의 방사선 피폭을 최소화할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, chemical decontamination of the entire system at the time of nuclear dismantling can minimize the radiation exposure of the operator during disassembly work.

또한, 계통 위치에 따라 제염 정도를 실시간으로 파악할 수 있고, 제염 정체 구역을 파악할 수 있다.In addition, the degree of decontamination can be grasped in real time according to the position of the system, and the decontamination area can be grasped.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비를 간략히 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비를 이용한 계통 제염 방법을 도시한 순서도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비의 구성도이다.
도 4는 본 발명의 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 5 내지 도 10은 도 4의 계통 제염 방법에 따른 용액의 흐름을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a schematic view of a systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart illustrating a systematic decontamination method using a systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention.
3 is a configuration diagram of a systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention.
4 is a flowchart illustrating a systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 5 to 10 are views for explaining the flow of the solution according to the systematic decontamination method of FIG.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비를 간략히 도시한 도면이다. 이해의 편의를 위하여 도 1을 포함한 모든 도면에서 계통(100)을 굵은 실선으로 도시하였으나, 계통(100)은 배관을 포함한 배관을 통해 연결된 여러 장치들을 모두 포함하는 개념이다.1 is a schematic view of a systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention. For convenience of understanding, the system 100 is shown as a thick solid line in all the drawings including FIG. 1, but the system 100 is a concept including all the devices connected through piping including piping.

도 1을 참조하면, 계통 제염 설비(10)는 제염 장치(1000), 복수의 선량 측정 장치(20) 및 제어부(50)를 포함한다.1, the systematic decontamination facility 10 includes a decontamination apparatus 1000, a plurality of dosimetry apparatuses 20, and a control unit 50.

제염 장치(1000)는 원자력 발전소의 계통(100)에 연결되며, 계통(100)을 흐르는 유체(이하, 용액이라고 함)에 제염을 위한 약품을 공급하는 구성이다. 여기서, 계통(100)은 원자로 냉각재계통(원자로압력용기, 증기 발생기, 가압기, 주요 배관 등), 화학 및 체적 제어 계통, 잔열 제거 계통일 수 있으며, 탄소강 또는 스테인레스 강을 포함하는 금속으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 용액이 원자로를 순환하여 방사성 물질이 포함된 1차 계통일 수 있다. 따라서, 계통(100)의 내부 표면에는 금속산화물층(크롬, 철, 니켈, 코발트 등)이 형성될 수 있다.The decontamination apparatus 1000 is connected to the system 100 of a nuclear power plant and supplies a chemical for decontamination to a fluid flowing through the system 100 (hereinafter referred to as a solution). Here, the system 100 can be a reactor coolant system (reactor pressure vessel, steam generator, pressurizer, main piping, etc.), a chemical and volume control system, a residual heat removal system, and can be made of metal including carbon steel or stainless steel . For example, the solution may be a primary system in which the radioactive material is circulated through the reactor. Thus, a metal oxide layer (chromium, iron, nickel, cobalt, etc.) may be formed on the inner surface of the system 100.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 도 1에 도시된 바와 같이 제염 장치(1000)는 계통(100)을 흐르는 용액이 제염 장치(1000)와 계통(100)을 함께 순환하도록 연결될 수 있다. 예를 들어, 계통(100)의 일측과 타측이 제염 장치(1000)와 연결될 수 있으며, 제염 장치(1000)와 계통(100)은 배관을 통해 용액의 순환 구조를 형성할 수 있다. 이에 따라, 계통(100)을 흐르는 용액은 제염 장치(1000)를 통해 약품과 혼합되어 순환하면서 계통(100)을 제염할 수 있다.1, the decontamination apparatus 1000 may be connected such that a solution flowing through the system 100 circulates together with the decontamination apparatus 1000 and the system 100, as shown in FIG. For example, one side and the other side of the system 100 can be connected to the decontamination apparatus 1000, and the decontamination apparatus 1000 and the system 100 can form the circulation structure of the solution through the piping. Accordingly, the solution flowing through the system 100 can be decontaminated through the decontamination apparatus 1000 while mixing with the chemical and circulating the system 100.

선량 측정 장치(20)는 방사선량을 측정하기 위한 장치로서, 자동 선량계(ADR: Automated Dosimetry Recorder)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 실시간으로 선량을 측정할 수 있는 다양한 종류의 선량계를 포함할 수 있다. 선량 측정 장치(20)는 복수 개로 구성되어 계통(100)의 다양한 위치에 설치될 수 있다. 이를 통해, 계통(100)에서 선량 측정 장치(20)가 설치된 지점에서의 실시간 선량을 측정할 수 있다. 예를 들어, 선량 측정 장치(20)는 계통(100) 내의 배관 등 선량 측정 장치(20)가 설치된 지점에서의 표면 선량률을 측정할 수 있다.The dose measuring device 20 may be an automatic dosimetry recorder (ADR) for measuring the dose of radiation, but it is not limited thereto and may include various kinds of dosimeters capable of measuring the dose in real time have. The dosimetry apparatus 20 may include a plurality of dosimeters and may be installed at various positions in the system 100. [ Thus, it is possible to measure the real time dose at the point where the dose measuring apparatus 20 is installed in the system 100. For example, the dose measuring apparatus 20 can measure the surface dose rate at a point where the dose measuring apparatus 20 such as a pipe in the system 100 is installed.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 선량 측정 장치(20)는 후술하는 제어부(50)에 유선 또는 무선 통신을 통하여 정보를 전달할 수 있다. 이에 따라, 선량 측정 장치(20)는 제어부(50)와 유선 또는 무선으로 통신할 수 있도록 통신 수단을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 원거리 무선 통신이 가능하도록 구성될 수 있다. 이에 따라, 작업자가 일일이 선량 측정 장치(20)가 설치된 지점에 가지 않더라도, 실시간 선량(예를 들어, 표면 선량률) 측정값을 전달받는 제어부(50)를 통해, 계통(100) 곳곳의 실시간 선량값을 모니터링 할 수 있으므로, 신속하게 제염 공정의 진행 정도를 확인할 수 있으며, 작업자의 피폭을 방지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the dose measuring device 20 may transmit information to the control unit 50, which will be described later, through wired or wireless communication. Accordingly, the dose measuring apparatus 20 may include a communication means for wired or wireless communication with the control unit 50, and may be configured to be capable of long distance wireless communication, for example. Accordingly, even if the operator does not go to the point where the dose measuring apparatus 20 is installed, the real-time dose value (for example, surface dose rate) The degree of progress of the decontamination process can be confirmed quickly, and the exposure of the operator can be prevented.

또한, 선량 측정 장치(20)는 선량 측정 장치(20)가 설치된 지점의 위치 정보를 감지할 수 있는 위치 센서가 포함될 수 있다. 이에 따라, 선량 측정 장치(20)가 설치된 지점의 위치 정보를 제어부(50)에 전달할 수 있으며, 제어부(50)에서는 계통(100)에서 위치 별로 실시간 선량을 파악할 수 있다. 따라서, 계통(100)을 제염하는 과정에서, 실시간 선량 측정값을 통하여 제염 정도를 실시간으로 파악할 수 있다. 또한, 선량 측정 장치(20)에서 전달된 위치 정보와 선량 측정값을 통하여, 계통(100)에서 구간 별로 면밀하게 제염 진행 정도를 파악할 수 있다. 예를 들어, 계통(100) 중의 배관에서의 제염이 제대로 진행되지 않고 있는 제염 정체 구역(Dead Leg)을 용이하게 파악할 수 있는 이점이 있다. 후술하겠지만, 계통 제염 공정이 완료된 후 제염 정체 구역을 별도로 후처리 할 수 있다.In addition, the dose measuring device 20 may include a position sensor capable of sensing position information of a point where the dose measuring device 20 is installed. Accordingly, the position information of the point where the dose measuring apparatus 20 is installed can be transmitted to the control unit 50, and the control unit 50 can grasp the real time dose by position in the system 100. Accordingly, in the process of decontaminating the system 100, the decontamination degree can be grasped in real time through the real-time dose measurement value. In addition, the degree of decontamination can be grasped in detail in the system 100 through the position information and the dose measurement value transmitted from the dose measuring apparatus 20. For example, there is an advantage in that it is possible to easily grasp the decontamination area (dead leg) where the decontamination in the piping in the system 100 is not proceeding properly. As will be described later, after the systematic decontamination process is completed, the decontamination section can be separately post-treated.

제어부(50)는 선량 측정 장치(20)로부터 실시간 선량 측정값을 전달받아서 제염 장치(1000)를 제어하는 구성이다. 제어부(50)는 선량 측정 장치(20) 및 제염 장치(1000)와 연결될 수 있다. 제어부(50)는 계통(100) 곳곳에 설치된 복수의 선량 측정 장치(20)와 유선 또는 무선 통신을 통해 선량 측정값을 전달받을 수 있으며, 전달받은 선량 측정값과 기준값을 비교하여 제염 장치(1000)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 선량 측정값이 제염 완료의 목표값이 되는 기준값 도달 여부에 따라, 제염 장치(1000)에서 약품 투입을 중단할 수 있고, 제염 장치(1000)를 통한 제염 공정에서 산화 공정 또는 환원 공정의 진행 여부를 판단할 수도 있으며, 또는 제염 공정을 위한 용액의 순환 횟수를 제어할 수도 있다.The control unit 50 receives the real-time dose measurement value from the dose measuring device 20 and controls the decanter 1000. The control unit 50 may be connected to the dose measuring device 20 and the decontamination apparatus 1000. The control unit 50 can receive the dose measurement values through the wired or wireless communication with a plurality of the dose measuring apparatuses 20 installed in the system 100. The control unit 50 compares the received dose measurement value with the reference value, Can be controlled. For example, depending on whether the dose measurement value reaches a reference value, which is a target value of decontamination completion, the chemical decontamination apparatus 1000 can stop the chemical injection, and in the decontamination process through the decontamination apparatus 1000, Or may control the number of cycles of the solution for the decontamination process.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비를 이용한 계통 제염 방법을 도시한 순서도이다. 예를 들어, 원자력 발전소 해체 과정에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법을 수행할 수 있다.2 is a flowchart illustrating a systematic decontamination method using a systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention. For example, in the decommissioning process of a nuclear power plant, a systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention can be performed.

도 2를 참조하면, 선량 측정 장치(20)에서 설치 지점의 실시간 선량을 측정하고(S11), 설치 지점의 위치 정보를 파악한다(S21). 이어서, 제어부(50)에서는 선량 측정 장치(20)에서의 실시간 선량 측정값을 이용하여 제염 장치(1000)를 제어하고(S12), 또한, 선량 측정값과 위치 정보를 함께 이용하여, 계통(100)에서 제염 정체 구역을 파악한다(S22). 제염 장치(1000) 제어를 통해 계통 제염이 종료된 후에(S13), 제어부(50)에서 파악한 제염 정체 구역 정보를 이용하여, 제염 정체 구역에 대한 후처리가 진행될 수 있다(S14).Referring to FIG. 2, the dose measuring device 20 measures a real time dose at an installation point (S11), and obtains position information of the installation point (S21). The control unit 50 controls the decontamination apparatus 1000 using the real-time dose measurement value in the dose measuring apparatus 20 (S12) (S22). ≪ / RTI > After the decontamination of the system is completed through the control of the decontamination apparatus 1000 (S13), the decontamination stationary zone can be post-processed using the decontamination stillness zone information obtained by the control unit 50 (S14).

예를 들어, 원자력 발전소 해체 과정에서 1차 계통의 제염 공정을 진행할 때, 계통(100)의 곳곳에 설치된 복수의 선량 측정 장치(20)에서 측정한 선량 측정값을 평균하여 평균 선량값을 도출할 수 있고, 도출된 평균 선량값을 계통(100) 전체의 선량값으로 취급할 수 있다. 계통 제염 공정 중에 평균 선량값이 목표하는 기준값에 도달한 경우, 계통 제염이 목표하는 만큼 진행된 것으로 판단하여 계통 제염 공정이 종료될 수 있다. 계통 제염 공정이 종료된 후에, 제염 정체 구역으로 판단된 설비나 배관 등을 계통(100)에서 절단 등의 방법을 통해 분리한 후, 별도로 후처리 할 수 있다. 예를 들어, 분리된 제염 정체 구역을 기기 제염을 통하여 별도 관리할 수 있다.For example, when proceeding to the decontamination process of the primary system in the disassembling process of the nuclear power plant, the average dose values are averaged by averaging the measured doses measured by the plurality of dose measuring apparatuses 20 installed in the system 100 And the derived average dose value can be treated as the dose value of the entire system 100. [ When the mean dose value reaches the target reference value during the system decontamination process, systematic decontamination may be deemed to have proceeded as desired, and the systematic decontamination process may be terminated. After completion of the system decontamination process, the equipment or piping determined as the decontamination stagnant zone may be separated from the system 100 by a method such as cutting, and then post-treated separately. For example, separate decontamination zones can be managed separately through instrument decontamination.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비(10)와 이를 구성하는 제염 장치(1000)의 구체적인 상세 구성을 설명하고, 이를 통한 계통 제염 방법을 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a systematic decontamination facility 10 and a decontamination apparatus 1000 according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비의 구성도이다.3 is a configuration diagram of a systematic decontamination facility according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비(10)에서, 제염 장치(1000)는 원자력 발전소의 계통(100)과 연결되어 있는 필터부(200), 양이온 교환 수지(300), 반응기(400), 혼상 이온 교환 수지(500), 약품 공급부(600) 및 이들 사이를 연결하여 용액의 순환 구조를 이루는 순환 배관부(700)를 포함한다. 3, the decontamination apparatus 1000 includes a filter unit 200 connected to a system 100 of a nuclear power plant, a cation exchange resin 300 A reactor 400, a mixed-phase ion-exchange resin 500, a chemical supply unit 600, and a circulation piping unit 700 connecting the circulation piping unit 700 and the circulation piping unit 700.

순환 배관부(700)는 계통(100)과 연결되면서, 필터부(200), 양이온 교환 수지(300), 반응기(400), 혼상 이온 교환 수지(500), 약품 공급부(600) 사이를 연결하여, 계통(100)의 화학제염 후 방사성 물질을 포함하는 용액의 유기산 분해 및 금속 이온 제거 등을 거치는 순환 구조를 제공한다. The circulation piping unit 700 is connected to the system 100 and connects the filter unit 200, the cation exchange resin 300, the reactor 400, the mixed phase ion exchange resin 500, and the medicine supply unit 600 , Chemical decomposition of the system (100), organic acid decomposition of a solution containing a radioactive material, metal ion removal, and the like.

순환 배관부(700)는 계통(100)의 배출구와 필터부(200) 사이에 연결되어 있는 제1 순환 배관(P1), 필터부(200)와 양이온 교환 수지(300) 사이에 연결되어 있는 제2 순환 배관(P2), 양이온 교환 수지(300)와 반응기(400) 사이에 연결되어 있는 제3 순환 배관(P3), 반응기(400)와 혼상 이온 교환 수지(500) 사이에 연결되어 있는 제4 순환 배관(P4), 혼상 이온 교환 수지(500)와 계통(100)의 입구 사이에 연결되어 있는 제5 순환 배관(P5)을 포함한다. The circulation piping unit 700 includes a first circulation pipe P1 connected between the outlet of the system 100 and the filter unit 200 and a second circulation pipe P1 connected between the filter unit 200 and the cation exchange resin 300 A third circulation pipe P3 connected between the cation exchange resin 300 and the reactor 400, a fourth circulation pipe P3 connected between the reactor 400 and the mixed phase ion exchange resin 500, And a fifth circulation pipe P5 connected between the circulation pipe P4 and the mixed phase ion exchange resin 500 and the inlet of the system 100. [

또한, 순환 배관부(700)는 제5 순환 배관(P5)으로부터 분기되어 약품 공급부(600)와 연결되어 있는 제1 분기 배관(Y1), 제3 순환 배관(P3)으로부터 분기되어 반응기(400)에 과산화수소를 공급하는 과산화수소 탱크(41)와 연결된 제2 분기 배관(Y2), 제3 순환 배관(P3) 및 제4 순환 배관(P4)으로부터 분기되어 반응기(400)를 세척하기 위한 세척액 탱크(42)와 연결되어 있는 제3 분기 배관(Y3)을 더 포함할 수 있다. The circulation piping unit 700 is branched from the fifth circulation pipe P5 and branches from the first branch pipe Y1 and the third circulation pipe P3 connected to the drug supply unit 600, A cleaning liquid tank 42 branched from the second branch pipe Y2, the third circulation pipe P3 and the fourth circulation pipe P4 connected to the hydrogen peroxide tank 41 for supplying hydrogen peroxide to the reactor 400, And a third branch pipe Y3 connected to the third branch pipe Y3.

또한, 순환 배관부(700)는 순환 배관에 연결된 장치를 우회하는 우회 배관을 더 포함할 수 있는데, 우회 배관은 제2 순환 배관(P2)과 제3 순환 배관(P3) 사이에 연결되어 양이온 교환 수지(300)를 우회하는 제1 우회 배관(B1), 제4 순환 배관(P4)과 제5 순환 배관(P5) 사이에 연결되어 혼상 이온 교환 수지(500)를 우회하는 제2 우회 배관(B2), 제3 순환 배관(P3)과 제4 순환 배관(P4) 사이를 연결하여 반응기(400)를 우회하는 제3 우회 배관(B3)을 더 포함할 수 있다.The circulation piping unit 700 may further include a bypass pipe bypassing the device connected to the circulation pipe. The bypass pipe is connected between the second circulation pipe P2 and the third circulation pipe P3 to perform the cation exchange A first bypass pipe B1 bypassing the resin 300 and a second bypass pipe B2 connected to the fourth circulation pipe P4 and the fifth circulation pipe P5 to bypass the mixed phase ion exchange resin 500 And a third bypass pipe B3 connecting the third circulation pipe P3 and the fourth circulation pipe P4 to bypass the reactor 400. [

이상의 순환 배관부(700)에는 내부를 이동하는 용액의 속도 및 유량을 제어하는 펌프(BP, PP1, PP2, PP3, PP4) 및 밸브가 설치될 수 있다.The circulation piping unit 700 may be provided with pumps (BP, PP1, PP2, PP3, PP4) and valves for controlling the speed and flow rate of the solution moving therein.

또한, 순환 배관부(700)에는 용액을 직접 추출하여 분석하기 위한 샘플관(SP1, SP2, SP3, SP4, SP5)이 설치될 수 있으며, 샘플관(SP1, SP2, SP3, SP4, SP5)은 제1 순환 배관(P1) 내지 제5 순환 배관(P5)에 각각 설치될 수 있다. 이를 통해, 계통제염 및 분해 정화과정을 정밀하게 모니터링할 수 있다.The sample pipes SP1, SP2, SP3, SP4, and SP5 may be provided in the circulation piping unit 700. The sample pipes SP1, SP2, SP3, SP4, May be respectively installed in the first circulation pipe (P1) to the fifth circulation pipe (P5). This enables precise monitoring of systematic decontamination and degradation purification processes.

필터부(200)는 계통(100)으로부터 배출되어 제1 순환 배관(P1)을 통해 전달되는 용액에 용해되지 않고 잔존하는 입자성 금속 물질을 제거한다. 필터부(200)에서 10㎛ 이상의 크기를 가지는 크롬(Cr), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 망간(Mn), 세슘(Cs)의 입자성 금속 물질이 제거되고, 용액은 제2 순환 배관(P2)으로 전달된다. 이때, 필터부(200)는 내부식성 재질로 이루어지는 카트리지 필터(cartridge filter)일 수 있으며, 10㎛이상의 입자를 98%이상 제거하는 효율을 가질 수 있다. The filter unit 200 removes the remaining particulate metallic material without dissolving in the solution discharged from the system 100 and transferred through the first circulation pipe P1. The particulate metallic materials of Cr, Ni, Fe, Co, Mn, and Cs having a size of 10 탆 or more are removed from the filter unit 200, The solution is transferred to the second circulation pipe (P2). At this time, the filter unit 200 may be a cartridge filter made of a corrosion-resistant material, and may have an efficiency of removing 98% or more of particles of 10 m or more.

제2 순환 배관(P2)으로 전달된 용액은 펌프(PP1)를 통해서 용액의 철 이온 농도에 따라 양이온 교환 수지(300) 또는 제1 우회 배관(B1)으로 전달된다. The solution transferred to the second circulation pipe (P2) is transferred to the cation exchange resin (300) or the first bypass pipe (B1) according to the iron ion concentration of the solution through the pump (PP1).

양이온 교환 수지(300)로 전달된 용액은 용액 내 금속 이온, 예를 들어 크롬(Cr), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 망간(Mn), 세슘(Cs) 등이 제거된 후 제3 순환 배관(P3)으로 전달되고, 제1 우회 배관(B1)으로 전달된 용액은 양이온 교환 수지(300)를 통과하지 않고 우회하여 제3 순환 배관(P3)으로 전달된다. The solution transferred to the cation exchange resin 300 may contain metal ions such as chromium (Cr), nickel (Ni), iron (Fe), cobalt (Co), manganese (Mn), cesium The solution is transferred to the third circulation pipe P3 and the solution transferred to the first bypass pipe B1 bypasses the cation exchange resin 300 and is transferred to the third circulation pipe P3.

이 때, 제3 순환 배관(P3)으로 전달된 용액의 철 이온 농도는 기준치, 예를 들어 2mM 이하로 유지하는데, 철 이온은 반응기(400) 내에서 광분해시 촉매로 사용될 수 있기 때문이다. 다만, 철 이온 농도가 2mM을 초과할 경우 용액 내 철이 침적될 수 있으므로, 철 이온 농도는 2mM 이하로 하는 것이 바람직하다.At this time, the iron ion concentration of the solution transferred to the third circulation pipe P3 is kept at a reference value, for example, 2 mM or less, because the iron ion can be used as a catalyst in the reactor 400 in the photolysis. However, when the iron ion concentration exceeds 2 mM, iron in the solution may be deposited, so that the iron ion concentration is preferably 2 mM or less.

철 이온 농도 측정을 위해 제2 샘플관(SP2) 및 제3 샘플관(SP3)을 통해서 용액을 채취할 수 있다. 이 때, 제2 샘플관(SP2)을 통해서 측정된 철 이온 농도가 기준치인 2mM 이하인 경우, 용액은 양이온 교환 수지(300)를 통과하지 않고 제1 우회 배관(B1) 및 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달될 수 있다. 반면, 제2 샘플관(SP2)을 통해서 측정된 철 이온 농도가 2mM를 초과하는 경우, 용액은 양이온 교환 수지(300)를 통과하여 철 이온 농도를 2mM 이하로 유지한 후(이는 제3 샘플관(SP3)을 통해서 확인) 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달될 수 있다.The solution can be collected through the second sample tube (SP2) and the third sample tube (SP3) for the measurement of the iron ion concentration. At this time, when the iron ion concentration measured through the second sample pipe (SP2) is 2 mM or less, the solution does not pass through the cation exchange resin 300 but flows through the first bypass pipe (B1) and the third circulation pipe To the reactor (400). On the other hand, when the ferrous ion concentration measured through the second sample tube (SP2) exceeds 2 mM, the solution passes through the cation exchange resin (300) to maintain the iron ion concentration at 2 mM or less (Via the third circulation pipe SP3) and then to the reactor 400 through the third circulation pipe P3.

반응기(400)는 UV램프를 포함하는 UV 반응기 일 수 이다. 반응기(400) 상부 또는 상부측면으로부터 용액이 반응기(400) 내부로 공급될 경우 반응기(400) 상부에 빈공간이 형성되어 반응 효율이 떨어질 수 있다. 따라서 본 발명의 일 실시예에서와 같이 제3 순환 배관(P3)은 반응기(400)의 하부 또는 하부측면에 연결될 수 있다.Reactor 400 is the number of UV reactors containing UV lamps. When the solution is supplied into the reactor 400 from the upper side or the upper side of the reactor 400, an empty space may be formed on the reactor 400 to lower the reaction efficiency. Therefore, as in the embodiment of the present invention, the third circulation pipe P3 may be connected to the lower or lower side of the reactor 400. [

반응기(400) 내의 UV 램프로부터 발생하는 UV는 용액내의 유기산을 광분해하며, 이때 이산화탄소 가스와 물이 발생할 수 있다. 따라서, 반응기(400) 상부에는 이산화탄소 가스를 배출하는 배기관(43)이 연결될 수 있다. The UV generated from the UV lamp in the reactor 400 photodecomes the organic acid in the solution, at which time carbon dioxide gas and water may be generated. Therefore, an exhaust pipe 43 for discharging carbon dioxide gas may be connected to the upper part of the reactor 400.

반응기(400) 내의 UV 램프는 서로 다른 파장의 UV를 조사하는 복수의 UV 램프를 포함할 수 있으며, 예를 들어, UVC 램프와 UVB 램프를 포함할 수 있다. UVB 램프는 UVC에 비해서 고에너지 램프이므로, 반응기(400) 내의 반응 온도에 따라서 UVB와 UVC를 혼합하여 배치할 수 있다. The UV lamps in the reactor 400 may include a plurality of UV lamps that emit different wavelengths of UV light, for example, UVC lamps and UVB lamps. Since the UVB lamp is a high energy lamp compared to UVC, it is possible to mix UVB and UVC according to the reaction temperature in the reactor 400.

반응기(400)의 외부에는 히터 또는 냉각부와 같은 온도 조절 장치(도시하지 않음)이 설치될 수 있다. A temperature controller (not shown) such as a heater or a cooling unit may be installed outside the reactor 400.

한편, 반응기(400)는 내부의 반응 상태를 실시간으로 모니터링하기 위한 센서부(44)가 연결될 수 있다. Meanwhile, the reactor 400 may be connected to a sensor unit 44 for monitoring the internal reaction state in real time.

센서부(44)는 반응기(400) 내의 온도, pH 및 압력 등을 측정하여 반응기(400) 내부가 최적의 반응 환경을 유지할 수 있도록 한다. 예를 들어, 유기산으로 옥살산을 분해할 경우 최적의 반응 온도는 20℃ 내지 50℃이므로, 센서부(44)를 통해서 내부 온도를 측정하고 온도 조절장치를 조절하여 상기 온도를 유지하도록 할 수 있다.The sensor unit 44 measures temperature, pH, pressure, and the like in the reactor 400 so that the inside of the reactor 400 can maintain an optimum reaction environment. For example, when oxalic acid is decomposed with an organic acid, the optimum reaction temperature is 20 ° C to 50 ° C, so the internal temperature can be measured through the sensor unit 44 and the temperature can be maintained by adjusting the temperature control unit.

제4 순환 배관(P4)에 설치된 제4 샘플관(SP4)을 통해서 추출된 용액의 옥살산 농도에 따라서 반응기(400)에서 배출되는 용액은 혼상 이온 교환 수지(500), 또는 제2 우회 배관(B2)을 통과한 후 제5 순환 배관(P5)을 통해서 계통(100)으로 전달될 수 있다. Depending on the oxalic acid concentration of the solution extracted through the fourth sample pipe SP4 installed in the fourth circulation pipe P4, the solution discharged from the reactor 400 is mixed with the mixed phase ion exchange resin 500 or the second bypass pipe B2 And then to the system 100 through the fifth circulation pipe P5.

혼상 이온 교환 수지(500)는 양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지를 포함할 수 있으며, 양이온 교환 수지는 용액 내에 잔류하는 금속 이온을 제거하고, 음이온 교환 수지는 용액 내에 잔류하는 유기산을 제거한다. The mixed phase ion exchange resin 500 may include a cation exchange resin and an anion exchange resin. The cation exchange resin removes metal ions remaining in the solution, and the anion exchange resin removes organic acids remaining in the solution.

양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지의 비율은 5:5, 6:4, 7:3, 8:2의 비율로 혼합될 수 있으며, 혼상 이온 교환 수지를 통과하는 유기산의 농도에 따라서 변경될 수 있다. The ratio of the cation exchange resin to the anion exchange resin may be mixed at a ratio of 5: 5, 6: 4, 7: 3, 8: 2 and may be changed according to the concentration of the organic acid passing through the mixed phase ion exchange resin.

약품공급부(600)는 산화제 탱크(61)와 환원제 탱크(62)를 포함할 수 있으며, 산화제 탱크(61) 및 환원제 탱크(62)는 산화제로 사용되는 약품 또는 환원제로 사용되는 약품에 따라서 복수의 탱크를 포함할 수 있다. 예를 들어, 산화제는 질산, 황산, 염산과 같은 무기산과 과망간산일 수 있고, 환원제는 옥살산, 시트르산, 구연산과 같은 유기산일 수 있으며, 이들은 각각의 탱크에 저장되어 필요에 따라서 선택적으로 공급될 수 있다. The chemical supply unit 600 may include an oxidant tank 61 and a reducing agent tank 62. The oxidant tank 61 and the reducing agent tank 62 may be made of a chemical agent used as an oxidizing agent or a chemical agent used as a reducing agent, Tank. For example, the oxidizing agent may be a mineral acid such as nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and permanganic acid, and the reducing agent may be an organic acid such as oxalic acid, citric acid or citric acid and these may be stored in respective tanks and optionally supplied .

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제염 장치(1000)는 계통(100)과 필터부(200) 사이에 위치하는 모니터링부(800)를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the decontamination apparatus 1000 may further include a monitoring unit 800 positioned between the system 100 and the filter unit 200.

모니터링부(800)는 전기전도도(conductivity) 센서, ORP(산화-환원 전위, Oxidation-Reduction Potential) 센서, pH 센서, 및 유량계를 포함할 수 있으며, 계통(100)과 연결되어 계통(100)으로부터 배출되는 용액을 분석한다. The monitoring unit 800 may include an electrical conductivity sensor, an ORP (Oxidation-Reduction Potential) sensor, a pH sensor, and a flow meter. The monitoring unit 800 may be connected to the system 100, Analyze the discharged solution.

전기전도도 센서와 OPR 센서 및 pH 센서는 각각 화학 제염제의 도전율, 산화-환원 전위, 및 수소이온 농도지수를 측정하며, 화학 제염제의 전기/화학적 성질을 감지하고, 실시간으로 공정의 진행 여부 및 공정 시간 등을 예상한다. The electrical conductivity sensor, the OPR sensor, and the pH sensor measure the conductivity, oxidation-reduction potential and hydrogen ion concentration index of the chemical decontamination agent, detect the electrochemical properties of the chemical decontamination agent, Process time and so on.

도 3을 참조하면, 모니터링부(800)는 제어부(50)와 연결될 수 있으며, 이에 따라 모니터링부(800)에서 선량 측정 장치(20)에서 전달된 선량 측정값과 위치 정보를 실시간 모니터링 할 수 있다.3, the monitoring unit 800 may be connected to the controller 50, and the monitoring unit 800 may monitor the dose measurement value and the positional information transmitted from the dose measuring device 20 in real time .

이하에서는 기 설명한 계통 제염 설비를 이용하여 계통(100)을 제염하는 전체적인 공정에 대해서 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the overall process of decontaminating the system 100 using the systematic decontamination facility described above will be described in detail.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법을 설명하기 위한 순서도이고, 도 5 내지 도 10은 도 4의 제염 순서에 따른 용액의 흐름을 설명하기 위한 도면이다. 도 5 내지 도 10에서는 선량 측정 장치(20)와 제어부(50)의 구성은 생략하여 도시하였다.FIG. 4 is a flow chart for explaining a systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 5 to 10 are views for explaining a flow of a solution according to the decontamination procedure of FIG. 5 to 10, the configurations of the dose measuring device 20 and the control unit 50 are omitted.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법은, 산화 공정을 위한 산화제 주입 단계(S100), 산화제 분해 제거를 위한 환원제 1차 주입 단계(S102), 환원 공정을 위한 환원제 2차 주입 단계(S104) 및 정화 공정을 포함한다. Referring to FIG. 4, the systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention includes an oxidant injection step (S100) for oxidation, a primary injection step (S102) for oxidizing decomposition and removal, a reducing agent 2 A car injection step (S104) and a purifying step.

산화제 주입 단계(S100), 환원제 1차 주입 단계(S102), 환원제 2차 주입 단계(S104)에 따른 산화 공정, 산화제 분해 제거 공정 및 환원 공정은 계통(100) 내에서 진행된다(도 5 참조). The oxidation process according to the oxidant injection step (S100), the reducing agent first injection step (S102), the reducing agent secondary injection step (S104), the oxidant decomposition removal process and the reduction process proceed in the system (100) .

산화제 주입 단계(S100)에서는 산화제 탱크(61)의 산화제가 펌프(PP2)를 통해서 계통(100)으로 주입된다. 이때, 제1 순환 배관(P1)으로 용액의 이동을 제어하는 밸브(VV)는 닫힌 상태이며, 계통(100)에는 냉각재와 같은 용액이 존재한다. In the oxidant injection step (S100), the oxidant of the oxidant tank (61) is injected into the system (100) through the pump (PP2). At this time, the valve (VV) for controlling the movement of the solution to the first circulation pipe (P1) is in a closed state, and a solution such as a coolant is present in the system (100).

산화제는 계통(100)의 내부 표면에 형성된 크롬 산화물층을 제거하기 위한 것으로, 제1 분기 배관(Y1)에 연결된 히터(도시하지 않음)를 통해서 가열된 후 주입될 수 있다. 이때, 산화제는 반응 온도인 80℃ 내지 100℃로 가열된 후, 펌프(PP2)를 통해서 제5 순환 배관(P5)으로 전달된 후 부스터 펌프(BP)를 통해서 계통(100)으로 주입될 수 있다. 계통(100)은 일정 압력을 유지하고 있으므로 부스터 펌프(BP)를 통해서 계통(100)보다 더 높은 압력으로 약품을 주입한다. The oxidant is for removing the chromium oxide layer formed on the inner surface of the system 100 and may be heated after being heated through a heater (not shown) connected to the first branch pipe Y1. At this time, the oxidant is heated to a reaction temperature of 80 ° C to 100 ° C, and then is delivered to the fifth circulation pipe P5 through the pump PP2 and then injected into the system 100 through the booster pump BP . Since the system 100 maintains a constant pressure, the medicine is injected at a higher pressure than the system 100 through the booster pump BP.

산화제는 50ppm 내지 300ppm의 과망간산과 0 내지 5mM의 무기산, 예를 들어 질산, 황산, 염산 중 적어도 하나를 포함하여 주입될 수 있다. 산화제인 과망간산의 반응이 진행됨에 따라 산화제의 농도가 변화하고 이에 따라 pH가 증가한다. 따라서 pH를 1.5~2.5 사이를 유지시키기 위해서 무기산을 함께 주입할 수 있다. The oxidizing agent may be injected with 50 ppm to 300 ppm permanganic acid and 0 to 5 mM inorganic acid, such as at least one of nitric acid, sulfuric acid and hydrochloric acid. As the reaction of oxidant permanganic acid progresses, the concentration of the oxidant changes and thus the pH increases. Thus, inorganic acids can be injected together to maintain the pH between 1.5 and 2.5.

산화제가 주입되면, 계통(100) 내에서는 하기 [반응식 1]의 과정으로 산화 공정이 진행되며, 산화 공정은 3시간 내지 24시간 동안 진행될 수 있다. 산화 공정 시간이 3시간 미만인 경우 충분한 반응이 일어나지 않으며 24시간을 초과할 경우 더 이상 반응 공정이 일어나지 않아 제염이 되지 않는다.When the oxidizing agent is injected into the system 100, the oxidation process proceeds in the process of Reaction 1 below, and the oxidation process may proceed for 3 to 24 hours. When the oxidation process time is less than 3 hours, sufficient reaction does not occur. When the oxidation process time exceeds 24 hours, the reaction process is not performed any more and the decontamination is not performed.

[반응식 1][Reaction Scheme 1]

Figure 112018094137782-pat00001
Figure 112018094137782-pat00001

이후, 환원제를 1차 주입하는 단계(S102)에서는 환원제 탱크(62)의 환원제가 펌프(PP2)를 통해서 계통(100)로 주입된다. 환원제가 주입되면 산화제 분해 공정이 진행된다. 산화제 분해 공정은 하기 [반응식 2]의 과정으로 진행되며, 용액 내에 잔존하는 과망간산을 분해한다. 이때, 환원제는 100 내지 1,000ppm의 옥살산이 투입될 수 있다. In step S102, the reducing agent in the reducing agent tank 62 is injected into the system 100 through the pump PP2. When the reducing agent is injected, the oxidizer decomposition process proceeds. The oxidizing agent decomposition process proceeds in the process of the following Reaction Scheme 2 to decompose the permanganic acid remaining in the solution. At this time, 100 to 1,000 ppm of oxalic acid may be added to the reducing agent.

[반응식 2][Reaction Scheme 2]

Figure 112018094137782-pat00002
Figure 112018094137782-pat00002

이후, 환원제를 2차 주입하는 단계(S104)에서는 환원제 탱크(62)로부터 농도가 다른 유기산이 계통으로 추가 투입되며, 환원 공정이 진행된다. 농도에 따라서 1차 투입되는 환원제 탱크와 서로 다른 환원제 탱크에 저장될 수 있다. Thereafter, in the second step of injecting the reducing agent (S104), an organic acid having a different concentration is further added to the system from the reducing agent tank 62, and the reducing step proceeds. Depending on the concentration, it can be stored in a reducing agent tank which is firstly charged and in a different reducing agent tank.

이때, 1,000 내지 3,000ppm의 옥살산을 추가 투입되며, 환원 공정은 하기 [반응식 3]의 과정으로 진행되며, 환원제를 1차 주입한 후 30분 내지 1시간 후에 2차 주입한다. At this time, 1,000 to 3,000 ppm of oxalic acid is further added, and the reduction process proceeds to the process of Reaction Scheme 3 below, and the second injection is performed after 30 minutes to 1 hour after the first injection of the reducing agent.

[반응식 3][Reaction Scheme 3]

Figure 112018094137782-pat00003
Figure 112018094137782-pat00003

환원 공정은 4시간 내지 72시간 동안 진행될 수 있으며, 제1 순환 배관(P1)에 설치된 샘플관(SP1)을 통해서 1시간 마다 금속 이온의 농도를 측정(S106)한다. 측정된 금속 이온의 농도가 더 이상 변화하지 않으면, 환원 공정을 종료한다. The reduction process may be performed for 4 to 72 hours, and the concentration of the metal ion is measured every one hour through the sample pipe SP1 provided in the first circulation pipe P1 (S106). If the concentration of the measured metal ion no longer changes, the reduction process is terminated.

계통 내에서의 산화 공정, 산화제 분해 공정 및 환원 공정이 끝나며, 밸브(VV)를 열어 계통(100) 내의 용액을 제1 순환 배관(P1)으로 배출시켜 정화 공정을 진행한다. 정화 공정은 이후에 설명하는 입자성 금속 물질 제거 단계(S108), 금속 이온을 제거 하는 단계(112), 옥살산 분해 단계(114), 계통 순환 단계(S117) 및 잔류 옥살산 및 금속 이온을 제거하는 단계(S118)를 포함하는 것으로, 환원 공정 이후에, 계통(100) 뿐 아니라 계통(100) 외부에서 진행되는 모든 반응 공정을 포함한다. The oxidation process in the system, the oxidizer decomposition process, and the reduction process are completed, and the valve VV is opened to discharge the solution in the system 100 to the first circulation pipe P1 to proceed the purification process. The purification process includes a step of removing particulate metallic material (S108), a step of removing metal ions (112), a step of decomposing oxalic acid (114), a circulation step of circulation (S117), and a step of removing residual oxalic acid and metal ions (S118), and includes all reaction processes that proceed from the system 100 as well as the system 100 after the reduction process.

입자성 금속 물질 제거 단계(S108)에서, 계통(100)에서 배출되는 용액은 제1 순환 배관(P1)을 통해서 필터부(200)로 전달되고, 필터부(200)에 의해서 용액 내에 잔존하는 입자성 금속 물질이 제거(S108)된다. 이때, 입자성 금속 물질은 Cr, Ni, Fe, Co, Mn, Cs일 수 있다.In the particulate metallic material removal step (S108), the solution discharged from the system 100 is transferred to the filter unit 200 through the first circulation pipe P1, and the particles remaining in the solution by the filter unit 200 The metallic material is removed (S108). The particulate metal material may be Cr, Ni, Fe, Co, Mn, or Cs.

이후, 필터부(200)를 통과한 용액의 시료를 채취하여 철 이온의 농도를 측정(S108)하고, 철 이온의 농도가 기준치를 만족하는지를 판단(S110)한다. Thereafter, a sample of the solution passed through the filter unit 200 is sampled to measure the concentration of the iron ion (S108), and it is determined whether the concentration of the iron ion satisfies the reference value (S110).

반응기(400)에 공급되는 용액의 철 이온 농도의 기준치는 2mM 이하이며, 2mM을 초과할 경우 철이 침적될 수 있다.The reference value of the iron ion concentration of the solution supplied to the reactor 400 is 2 mM or less, and when it exceeds 2 mM, iron may be deposited.

철 이온의 농도가 기준치 이내일 경우, 용액은 제2 순환 배관(P2), 제1 우회 배관(B1) 및 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달된다(도 6 참조). When the concentration of iron ions is within the standard value, the solution is transferred to the reactor 400 through the second circulation pipe P2, the first bypass pipe B1 and the third circulation pipe P3 (see FIG. 6).

반대로, 철 이온의 농도가 기준치를 벗어날 경우 필터부(200)를 통과한 용액을 양이온 교환 수지(300)를 통과시켜 금속 이온을 제거(S112)하여 철 이온의 농도가 기준치 이내일 수 있도록 한다. 용액이 양이온 교환 수지(300)를 통과한 후 철 이온의 농도가 기준치를 만족할 경우, 용액은 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달된다(도 7 참조). On the contrary, when the concentration of the iron ions is out of the reference value, the solution passing through the filter unit 200 is passed through the cation exchange resin 300 to remove the metal ions (S112) so that the concentration of the iron ions can be within the standard value. When the solution passes through the cation exchange resin 300 and the concentration of the iron ion satisfies the reference value, the solution is transferred to the reactor 400 through the third circulation pipe P3 (see FIG. 7).

양이온 교환 수지(300)는 용액 내의 금속 이온(Cr, Ni, Fe, Co, Mn, Cs)을 제거하기 위한 것으로, 측정된 철 이온의 농도에 따라서 적절한 양의 양이온 교환 수지(300)를 설치하여 철 이온 농도를 조절할 수 있다. 이때, 유기산인 옥살산이 재생될 수 있다. The cation exchange resin 300 is used to remove metal ions (Cr, Ni, Fe, Co, Mn, and Cs) in the solution. An appropriate amount of the cation exchange resin 300 is installed according to the concentration of the measured iron ions The iron ion concentration can be controlled. At this time, oxalic acid which is an organic acid can be regenerated.

용액은 반응기(400)의 하부 또는 하부측면에 연결된 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)의 하부 또는 하부측면으로부터 반응기(400) 내로 주입될 수 있다. The solution may be injected into the reactor 400 from the lower or lower side of the reactor 400 through a third circulation line P3 connected to the lower or lower side of the reactor 400. [

한편, 철 이온 농도에 따라서 용액이 이동하며, 용액 내에 잔류하는 다른 금속 이온 들은 후술하는 혼상 이온 교환 수지를 통해서 제거될 수 있다. Meanwhile, the solution moves according to the iron ion concentration, and other metal ions remaining in the solution can be removed through the mixed phase ion exchange resin described later.

옥살산 분해 단계(S114)에서는 용액과 함께 과산화수소 탱크(41)의 과산화수소가 제2 분기 배관(Y2) 및 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 주입되며, 이때 과산화수소는 펌프(PP3)를 통해서 유량 및 속도가 조절되면서 옥살산과 1:1의 비율로 주입될 수 있다. Hydrogen peroxide in the hydrogen peroxide tank 41 is injected into the reactor 400 through the second branch pipe Y2 and the third circulation pipe P3 in the oxalic acid decomposition step S114, Can be injected at a ratio of 1: 1 with oxalic acid while controlling the flow rate and the rate.

옥살산 분해는 반응기(400)에 설치된 UV 램프로부터 발생되는 UV로 인해서 하기 [반응식 4]의 과정으로 진행된다. The oxalic acid decomposition proceeds to the process of the following [Reaction Scheme 4] due to the UV generated from the UV lamp installed in the reactor 400.

[반응식 4][Reaction Scheme 4]

Figure 112018094137782-pat00004
Figure 112018094137782-pat00004

옥살산 분해 단계(S114)는 반응기(400) 내부 및 계통(100)을 순환(S117) 하면서 진행되며, 상기 [반응식 4]에 의해서 이산화탄소가 발생된다. 발생된 이산화탄소는 반응기(400) 상부에 연결된 배기관(43)을 통해서 외부로 배출될 수 있다. The oxalic acid decomposition step (S114) proceeds while circulating in the reactor (400) and the system (100) (S117), and carbon dioxide is generated by the above reaction scheme (4). The generated carbon dioxide can be discharged to the outside through the exhaust pipe 43 connected to the upper part of the reactor 400.

한편, 옥살산이 분해될 때 최적의 반응 온도는 20℃ 내지 50℃ 이므로, 센서부(44)를 통해서 내부 온도를 측정하고 히터 또는 냉각기를 조절하여 상기 온도를 유지시킨다. On the other hand, when oxalic acid is decomposed, the optimum reaction temperature is 20 ° C to 50 ° C, so the internal temperature is measured through the sensor unit 44 and the temperature is maintained by adjusting the heater or the cooler.

샘플관(SP4)을 통해서 시간마다 반응기(400) 내의 용액을 채취하여 옥살산의 분해능이 미리 정해진 기준치를 만족하는지를 판단(S116)한다. 이때, 옥살산의 분해능 기준치는 90% 내지 99% 범위 내에서 특정 값으로 미리 정해질 수 있다. The solution in the reactor 400 is sampled every hour through the sample tube SP4 to determine whether the resolution of oxalic acid satisfies a predetermined reference value (S116). At this time, the resolution standard value of oxalic acid can be predetermined to a specific value within the range of 90% to 99%.

옥살산의 분해능이 정해진 기준치 미만일 경우 반응기(400) 내의 용액은 제4 순환 배관(P4), 제2 우회 배관(B2), 제5 순환 배관(P5), 계통(100), 제1 순환 배관(P1), 필터부(200), 제2 순환 배관(P2), 제1 우회 배관(B1), 제3 순환 배관(P3) 및 반응기(400)를 반복적으로 순환(도 8 참조)하는 계통 순환(S117)을 진행한다. 계통 순환(S117)은 옥살산의 분해능이 기준치를 만족 할 때까지 반복될 수 있다. The solution in the reactor 400 flows through the fourth circulation pipe P4, the second bypass pipe B2, the fifth circulation pipe P5, the system 100, the first circulation pipe P1 (See Fig. 8) circulating the filter unit 200, the second circulation pipe P2, the first bypass pipe B1, the third circulation pipe P3, and the reactor 400 ). The systematic cycle S117 can be repeated until the resolution of oxalic acid meets a criterion.

옥살산의 분해능이 기준치 이상일 경우 잔류 옥살산 및 금속 이온을 제거하는 단계(S118)를 진행한다. When the decomposition ability of oxalic acid is equal to or higher than the reference value, the step of removing residual oxalic acid and metal ions (S118) is performed.

잔류 옥살산 및 금속 이온을 제거하는 단계(S118)는 혼상 이온 교환 수지(500)에서 진행되며, 제4 순환 배관(P4)을 통해서 혼상 이온 교환 수지(500)로 전달된 후, 제5 순환 배관(P5)으로 배출(도 9 참조)된다. 이때, 제2 우회 배관(B2)에 설치된 밸브는 닫힌 상태이다. The step of removing residual oxalic acid and metal ions S118 proceeds in the mixed phase ion exchange resin 500 and is transferred to the mixed phase ion exchange resin 500 through the fourth circulation pipe P4 and then to the fifth circulation pipe P5) (see Fig. 9). At this time, the valve provided in the second bypass pipe B2 is closed.

혼상 이온 교환 수지(500)는 반응기(400)에서 전달되는 용액 내에 잔존하는 금속 이온과 옥살산을 제거하기 위한 것으로, 양이온 교환 수지 및 음이온 교환 수지를 포함한다. 이때, 잔류하는 옥살산의 농도에 따라서 양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지의 비율을 달리할 수 있다. 예를 들어, 양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지의 비율은 5:5, 6:4, 7:3, 8:2일 수 있다. The mixed phase ion exchange resin 500 includes a cation exchange resin and an anion exchange resin for removing metal ions and oxalic acid remaining in the solution conveyed in the reactor 400. At this time, the ratio of the cation exchange resin and the anion exchange resin may be different depending on the concentration of the remaining oxalic acid. For example, the ratio of the cation exchange resin to the anion exchange resin may be 5: 5, 6: 4, 7: 3, 8: 2.

이후, 계통(100) 내의 배관 등의 표면 선량률 측정을 통해 얻는 결과값을 사용하여 DF(decontamination factor, 제염계수)를 도출하여 미리 정해진 DF의 기준치를 만족하는지 판단(S120)한다. DF는 배관 등의 표면 선량률 측정값을 사용하여 도출한 값으로, DF의 기준치는 20 내지 40 범위에서 특정 값으로 미리 정해질 수 있다.Thereafter, a decontamination factor (DF) is derived using a result obtained by measuring the surface dose rate of the piping or the like in the system 100, and it is determined whether the predetermined value of the DF is satisfied (S120). DF is a value derived by using a surface dose rate measurement value of a piping or the like, and a reference value of DF can be predetermined to a specific value in a range of 20 to 40.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 선량 측정 장치(20, 도 1 및 도 3 참조)에서 계통(100) 내의 배관 등의 표면 선량률을 실시간으로 측정할 수 있다. 선량 측정 장치(20)는 계통(100)의 곳곳에 설치되어, 각 설치 지점에서의 표면 선량률을 측정하고, 그 측정값을 통해 도출된 DF를 기준치와 비교할 수 있다. 예를 들어, 복수의 선량 측정 장치(20)에서 측정한 측정값을 평균하여 평균값을 도출하고, 도출된 평균값을 이용하여 계통(100) 전체의 DF를 도출할 수 있다. 이러한 방식으로 도출된 계통(100) 전체의 DF를 기준치와 비교하여 계통 제염 공정의 종료 여부를 판단할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the surface dose rate of piping and the like in the system 100 can be measured in real time in the dosimetry apparatus 20 (see Figs. 1 and 3). The dose measuring device 20 is installed in various places in the system 100 to measure the surface dose rate at each installation point and compare the DF derived from the measured value with the reference value. For example, it is possible to derive an average value by averaging the measured values measured by the plurality of dose measuring apparatuses 20, and to derive the DF of the entire system 100 using the derived average value. The DF of the entire system 100 derived in this manner can be compared with a reference value to determine whether the systematic decontamination process is complete or not.

복수의 선량 측정 장치(20)에서 실시간 측정된 측정값을 이용하여 도출된 계통(100) 전체의 DF가 미리 정해진 기준치 이상일 경우, 용액은 계통(100)에 대한 화학 제염 공정이 끝난 안전한 용액이므로 계통(100) 또는 외부로 배수(S121)한다. 배수 전 샘플관(SP5)을 통해서 용액을 채취하고 금속 이온 및 유기산 분석을 추가로 실시할 수 있다. When the DF of the entire system 100 derived using the measured values measured in real time in the plurality of dose measuring apparatuses 20 is equal to or greater than a predetermined reference value, since the solution is a safe solution after the chemical decontamination process for the system 100, (100) or drained to the outside (S121). The solution can be sampled through a pre-drainage sample tube (SP5) and further analyzed for metal ions and organic acids.

한편, 계통(100) 전체의 DF가 기준치 이상이라고 하더라도, 계통(100) 내에서 국부적으로는 기준치를 만족하지 못할 수 있다. 즉, 계통(100) 내의 위치에 따라 일부 구역에서의 DF는 기준치를 만족하지 않을 수도 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 계통(100)에 대한 화학 제염 공정이 종료되었다고 하더라도, 복수의 선량 측정 장치(20)의 위치 정보를 이용하여 계통(100) 내에서 제염 정체 구역을 파악할 수 있다. 따라서, 제염 정체 구역으로 판단된 설비나 배관 등을 계통(100)에서 절단 등의 방법을 통해 분리한 후, 별도로 후처리 할 수 있다. 예를 들어, 분리된 제염 정체 구역을 기기 제염을 통하여 별도 관리할 수 있다. 특히, 원전 해체 시에 계통에 대한 화학적 제염을 마친 후, 국부적으로 기기 제염을 수행함으로써, 계통 제염에 대한 신뢰성을 높일 수 있다.On the other hand, even if the DF of the entire system 100 is higher than the reference value, the reference value may not be locally satisfied in the system 100. That is, depending on the position in the system 100, the DF in some zones may not satisfy the reference value. According to an embodiment of the present invention, even if the chemical decontamination process for the system 100 is finished, the decontamination area can be grasped in the system 100 using the position information of the plurality of dose measuring apparatuses 20 . Therefore, it is possible to separate equipment, piping, and the like, which are determined to be the decontamination stagnant zone, from the system 100 through a method such as cutting, and then post-treat them separately. For example, separate decontamination zones can be managed separately through instrument decontamination. In particular, after the chemical decontamination of the system is completed at the dismantling of the nuclear power plant, local decontamination of the apparatus can be performed to enhance the reliability of system decontamination.

반대로, 복수의 선량 측정 장치(20)에서 실시간 측정된 측정값을 이용하여 도출된 계통(100) 전체의 DF가 미리 정해진 기준치 미만일 경우, 용액은 제5 순환 배관(P5)을 통해서 계통(100)으로 전달되어 기 설명한 산화제 주입 단계(S100) 또는 환원제 2차 주입 단계(S104)부터 제염 공정을 반복해서 진행할 수 있다. Conversely, when the DF of the entire system 100 derived by using the measured values measured in real time in the plurality of dosimeters 20 is less than a predetermined reference value, the solution flows through the fifth circulation pipe P5 to the system 100, The decontamination step can be repeatedly carried out from the oxidant injection step S100 or the reducing agent secondary injection step S104 described above.

산화제 주입 단계(S100)의 산화 공정은 계통(100) 내의 크롬을 제거하기 위한 것으로, 크롬 농도가 기준치를 벗어날 경우 산화제 주입 단계(S100)부터 진행하고, 크롬의 농도가 기준치를 만족할 경우 더 이상의 산화 공정은 필요치 않으므로 환원제 2차 주입하는 단계(S104)부터 제염 공정을 진행할 수 있다. The oxidizing step of the oxidant injecting step S100 is for removing chromium in the system 100. When the chromium concentration deviates from the reference value, the oxidizing agent injecting step S100 proceeds from the oxidizing agent injecting step S100. When the chromium concentration satisfies the reference value, Since the step is not required, the decontamination step can be started from the step of injecting the reducing agent (S104).

이때, 크롬 이온의 농도는 금속 이온 농도 측정 단계(S106)에서 측정된 농도로부터 판단될 수 있으며, 크롬 이온 농도의 기준치는 0이상 1ppm미만 일 수 있다. At this time, the concentration of the chromium ion can be determined from the concentration measured in the metal ion concentration measuring step (S106), and the reference value of the chromium ion concentration can be 0 or more and less than 1 ppm.

한편, 반응기(400) 내의 공정 시간이 증가할수록 용액 내의 금속 이온이 UV 램프 표면에 침적되며, 침적된 금속층으로 인해서 반응기(400)의 효율이 떨어진다. 따라서, 반응기(400)를 세척하는 단계(도 10 참조)를 진행한다. On the other hand, as the process time in the reactor 400 increases, the metal ions in the solution are deposited on the surface of the UV lamp, and the efficiency of the reactor 400 deteriorates due to the deposited metal layer. Thus, the step of washing the reactor 400 (see FIG. 10) proceeds.

반응기(400) 세척은 계통(100) 내에서 반응 공정이 진행되거나, 용액이 계통(100) 내에 머무를 때 진행할 수 있다. 예를 들어, 산화제 주입 단계(S100), 환원제 1차 주입 단계(S102), 환원제 2차 주입 단계(S104)가 진행되는 동안, 또는 계통 순환(S117) 단계에서 용액이 계통(100)내에 머무를 때 실시할 수 있다.The washing of the reactor 400 can proceed as the reaction process proceeds in the system 100 or when the solution remains in the system 100. For example, when the solution remains in the system 100 during the oxidant injection step (S100), the reducing agent primary injection step (S102), the reducing agent secondary injection step (S104), or the system circulation (S117) .

반응기(400)의 세척 단계는 세척액 탱크(42)의 세척액을 펌프(PP4)를 통해서 반응기(400) 내로 주입하여 램프 표면의 금속과 반응시켜 금속이 용출될 수 있도록 한다. 이때, 세척액은 인산, 질산, 옥살산, 시트르산 중 적어도 하나를 포함하는 무기산 또는 유기산일 수 있다. In the washing step of the reactor 400, the washing liquid in the washing liquid tank 42 is injected into the reactor 400 through the pump PP4 to react with the metal on the surface of the lamp so that the metal can be eluted. The washing solution may be an inorganic or organic acid containing at least one of phosphoric acid, nitric acid, oxalic acid and citric acid.

반응기(400)와 연결된 제3 순환 배관(P3)과 제4 순환 배관(P4)의 밸브를 닫은 후, 세척액이 제3 분기 배관(Y3)을 통해서 반응기(400) 내로 주입된 후 반응 후 다시 세척액 탱크(43)로 순환되면서 램프 표면의 금속이 제거될 수 있도록 한다. After the valves of the third circulation pipe P3 and the fourth circulation pipe P4 connected to the reactor 400 are closed and the washing solution is injected into the reactor 400 through the third branch pipe Y3, So that the metal on the lamp surface can be removed while being circulated to the tank 43.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Of course.

10: 계통 제염 설비 20: 선량 측정 장치
50: 제어부 100: 계통
200: 필터부 300: 양이온 교환 수지
400: UV 반응기 500: 혼상 이온 교환 수지
600: 약품 공급부 800: 모니터링부
1000: 제염 장치
10: system decontamination facility 20: dose measuring device
50: control unit 100:
200: Filter part 300: Cation exchange resin
400: UV reactor 500: mixed phase ion exchange resin
600: drug supply unit 800: monitoring unit
1000: Decontamination device

Claims (11)

원자력 발전소 계통의 일측과 타측에 연결되며, 상기 일측에서 상기 계통을 흐르는 용액에 약품을 공급하여 상기 계통을 제염하고, 상기 타측에서 상기 약품이 포함된 상기 용액을 공급받아 분해 처리하며, 상기 계통과 함께 상기 용액의 순환 구조를 형성하는 제염 장치;
상기 계통의 상기 일측과 상기 타측 사이에서 서로간 거리를 두고 설치되며, 위치 센서를 포함하는 복수의 선량 측정 장치; 및
상기 복수의 선량 측정 장치와 유선 또는 무선 통신으로 연결되어 상기 복수의 선량 측정 장치로부터 위치 정보와 실시간 선량 측정값을 전달받고, 상기 계통에서 구간 별로 제염 진행 정보를 파악하며, 상기 제염 장치를 제어하는 제어부;
를 포함하는, 계통 제염 설비.
The system is connected to one side and the other side of the nuclear power plant system and the one side is supplied with a medicine to the solution flowing through the system to decontaminate the system and the other side receives and dissolves the solution containing the medicine, A decontamination apparatus for forming a circulation structure of the solution together;
A plurality of dose measuring devices provided at an interval between the one side of the system and the other side and including a position sensor; And
And a control unit for controlling the decontamination apparatus to control the decontamination apparatus, wherein the control unit receives the positional information and the real-time dose measurement value from the plurality of dose measurement apparatuses by wire or wireless communication with the plurality of the dosimetry apparatuses, A control unit;
And a systematic decontamination facility.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제염 장치는,
상기 용액에 상기 약품을 주입하는 약품 공급부;
상기 계통에 연결되는 필터부;
상기 필터부와 연결되어 있는 양이온 교환 수지;
상기 양이온 교환 수지와 연결되어 있는 반응기;
상기 반응기와 연결되어 있는 혼상 이온 교환 수지; 및
상기 약품 공급부, 필터부, 양이온 교환 수지, 반응기 및 혼상 이온 교환 수지 사이를 연결하여 상기 계통과 함께 상기 용액의 순환 구조를 형성하는 순환 배관부;
를 포함하는, 계통 제염 설비.
The method according to claim 1,
The decontamination apparatus comprises:
A drug supply unit for injecting the drug into the solution;
A filter unit connected to the system;
A cation exchange resin connected to the filter portion;
A reactor connected to the cation exchange resin;
A mixed phase ion exchange resin connected to the reactor; And
A circulation piping section connecting the chemical feed section, the filter section, the cation exchange resin, the reactor, and the mixed-phase ion exchange resin to form a circulation structure of the solution together with the system;
And a systematic decontamination facility.
제 4 항에 있어서,
상기 약품 공급부는
무기산 및 과망간산이 저장된 산화제 탱크; 및
유기산이 저장된 환원제 탱크;
를 포함하는, 계통 제염 설비.
5. The method of claim 4,
The medicine supply part
An oxidant tank storing inorganic acid and permanganic acid; And
A reducing agent tank storing an organic acid;
And a systematic decontamination facility.
제 4 항에 있어서,
상기 반응기는
내부를 통과하는 상기 용액에 UV를 조사하는 UV 램프를 포함하고,
상기 UV 램프는 서로 다른 파장의 UV를 조사하는 복수의 램프를 포함하는, 계통 제염 설비.
5. The method of claim 4,
The reactor
And a UV lamp for irradiating the solution through the inside with UV,
Wherein the UV lamp comprises a plurality of lamps which emit UV of different wavelengths.
제 6 항에 있어서,
상기 제염 장치는
상기 반응기와 연결되어 상기 반응기 내부를 세척하는 세척액 탱크; 및
상기 반응기로 공급되는 용액에 과산화수소를 주입하는 과산화수소 탱크;
를 더 포함하는, 계통 제염 설비.
The method according to claim 6,
The decontamination apparatus
A washing liquid tank connected to the reactor for washing the inside of the reactor; And
A hydrogen peroxide tank for injecting hydrogen peroxide into the solution supplied to the reactor;
Further comprising: a systematic decontamination facility.
제 4 항에 있어서,
상기 제염 장치는
상기 계통과 상기 필터부 사이에 연결되는 모니터링부;
를 더 포함하고,
상기 모니터링부는 상기 계통과 상기 필터부 사이를 이동하는 상기 용액의 pH, ORP(산화-환원 전위, Oxidation-Reduction Potential), 및 전기전도도를 측정하는 센서를 포함하는, 계통 제염 설비.
5. The method of claim 4,
The decontamination apparatus
A monitoring unit connected between the system and the filter unit;
Further comprising:
Wherein the monitoring unit comprises a sensor for measuring pH, ORP (Oxidation-Reduction Potential), and electrical conductivity of the solution moving between the system and the filter unit.
제 4 항에 있어서,
상기 제어부는 상기 선량 측정값과 기준값을 비교하여 상기 약품 공급부에서 주입되는 상기 약품의 양을 제어하는, 계통 제염 설비.
5. The method of claim 4,
Wherein the control unit compares the dose measurement value with a reference value to control the amount of the medicine injected from the drug supply unit.
제 1 항, 및 제 4 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항의 계통 제염 설비를 이용한 계통 제염 방법으로서,
상기 복수의 선량 측정 장치에서 위치 정보 및 실시간 선량 측정값을 상기 제어부로 전달하는 단계; 및
상기 제어부에서 상기 실시간 선량 측정값을 기준값과 비교하여 상기 제염 장치를 제어하는 단계;
를 포함하는, 계통 제염 방법.
10. A systematic decontamination method using a systematic decontamination facility according to any one of claims 1 to 9,
Transmitting the position information and the real-time dose measurement value to the control unit in the plurality of dose measuring apparatuses; And
Controlling the decontamination apparatus by comparing the real-time dose measurement value with a reference value in the control unit;
Lt; / RTI >
제 10 항에 있어서,
상기 위치 정보 및 실시간 선량 측정값을 통하여 제염 정체 구역을 파악하는 단계;
를 더 포함하는, 계통 제염 방법.
11. The method of claim 10,
Determining a decontamination area through the positional information and the real-time dose measurement value;
Wherein the systematic decontamination method further comprises:
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