KR102006015B1 - Method for system decontamination - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 계통 제염 방법에 관한 것으로, 특히 원전 해체 시 1차 계통의 화학 제염을 위한 계통 제염 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a systematic decontamination method, and more particularly, to a systematic decontamination method for chemical decontamination of a primary system at the time of nuclear dismantling.
원자력 발전소는 원자로 내에서의 핵분열성 물질의 연쇄핵분열 반응을 인공적으로 제어하여 열을 발생시키거나 방사성 동위 원소 및 플로토늄의 생산, 또는 방사선장 형성 등이 이루어진다. Nuclear power plants artificially control the sequential fission reaction of fissile materials in the reactor to generate heat, produce radioactive isotopes and plutonium, or form radiation fields.
원자력 발전소의 원자로를 중심으로 많은 개별적 기능을 가진 계통, 예를 들어 원자로 냉각재계통(원자로압력용기, 증기 발생기, 가압기, 주요 배관 등), 화학 및 체적 제어 계통, 잔열 제거 계통 등으로 이루어진다.It consists of nuclear power plant reactors with many individual functions, such as reactor coolant systems (reactor pressure vessel, steam generator, pressurizer, main piping, etc.), chemical and volumetric control systems, and residual heat removal systems.
이러한 계통 내에는 방사능 물질이 존재하며, 방사선에 의해서 작업자가 피폭될 수 있다. There is a radioactive material in this system, and the worker can be exposed to radiation.
따라서, 원자력발전소의 영구 정지 직후, 방사능 물질로 인해서 해체 작업자의 방사선 피폭을 저감시키고, 발전소 해체 및 철거 작업의 사전 용이성을 확보하기 위하여, 방사능으로 오염된 전체 계통에 대하여 화학적 계통 제염을 수행할 필요가 있다. Therefore, in order to reduce the radiation exposure of the dismantling worker due to the radioactive material immediately after the permanent suspension of the nuclear power plant, and to ensure the ease of dismantling and dismantling of the power plant, chemical system decontamination must be performed on the whole system contaminated with radioactivity .
따라서, 본 발명은 원자력발전소 해체 시, 전(全) 계통을 제염 함으로서, 작업자의 피폭을 최소화할 수 있는 안전한 계통 제염 방법을 제공하는 것이다. Therefore, the present invention provides a safe systematic decontamination method capable of minimizing the exposures of the workers by decontaminating the entire system when the nuclear power plant is demolished.
본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법은 용액이 이동하는 계통의 제염 방법에 있어서, 계통에 산화제를 주입하는 단계, 계통에 제1 농도의 환원제를 주입하는 단계, 계통에 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계, 용액의 입자성 금속 물질을 제거하는 단계, 용액의 유기산을 분해하는 단계, 유기산을 분해하는 단계 후 용액에 잔류하는 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계를 포함한다.A systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention is a system for decontaminating a system in which a solution moves, comprising the steps of injecting an oxidizing agent into the system, injecting a reducing agent of a first concentration into the system, Removing the particulate metallic material of the solution, decomposing the organic acid of the solution, and removing organic acids and metal ions remaining in the solution after decomposing the organic acid.
상기 입자성 금속 물질을 제거하는 단계 후, 용액의 철 이온 농도는 2mM이하일 수 있다.After the step of removing the particulate metal material, the iron ion concentration of the solution may be 2 mM or less.
상기 입자성 금속 물질을 제거하는 단계 후, 용액의 금속 이온을 제거하는 단계를 더 포함하고, 금속 이온을 제거하는 단계 후, 용액의 철 이온 농도는 2mM이하일 수 있다.Further comprising the step of removing the metal ions of the solution after the step of removing the particulate metal material, and after the step of removing the metal ions, the iron ion concentration of the solution may be 2 mM or less.
상기 용액의 금속 이온을 제거하는 단계에서, 용액을 양이온 교환 수지에 통과시켜 금속 이온을 제거할 수 있다.In the step of removing metal ions of the solution, the solution may be passed through a cation exchange resin to remove metal ions.
상기 입자성 금속 물질을 제거하는 단계 전, 금속 이온의 농도를 측정하는 단계를 더 포함하는 계통 제염 방법.Further comprising the step of measuring the concentration of the metal ion before the step of removing the particulate metal material.
상기 금속 이온의 농도를 측정하는 단계에서 측정된 크롬 이온 농도가 1ppm이상이면, 잔류 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계 후에, 계통에 산화제를 주입하는 단계, 계통에 제1 농도의 환원제를 주입하는 단계, 계통에 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계, 용액의 입자성 금속 물질을 제거하는 단계, 용액의 유기산을 분해하는 단계 및 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계를 반복하고,If the measured chromium ion concentration in the step of measuring the concentration of the metal ion is 1 ppm or more, the step of removing residual organic acid and metal ion may be followed by the step of injecting an oxidizing agent into the system, a step of injecting a reducing agent of a first concentration into the system , Repeating the steps of injecting a second concentration of reducing agent into the system, removing the particulate metallic material of the solution, decomposing the organic acid of the solution, and removing the organic acid and metal ions,
상기 금속 이온의 농도를 측정하는 단계에서 측정된 용액의 크롬 이온 농도가 1ppm미만이면, 잔류 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계 후에, 계통에 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계, 용액의 입자성 금속 물질을 제거하는 단계, 용액의 유기산을 분해하는 단계 및 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계를 반복할 수 있다. If the measured chromium ion concentration in the solution measured in the step of measuring the concentration of the metal ion is less than 1 ppm, the step of removing the residual organic acid and the metal ion may include the steps of injecting a second concentration of reducing agent into the system, The steps of removing the material, decomposing the organic acid of the solution, and removing the organic acid and metal ions may be repeated.
상기 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계 후, 계통의 배관의 표면 선량률을 측정하여 DF값을 도출하는 단계를 더 포함하고, DF가 기준치 이상이면 용액을 계통 또는 외부로 배수할 수 있다.Further comprising the step of measuring the surface dose rate of the piping of the system after the step of removing the organic acid and the metal ion to derive the DF value, and if the DF is not less than the reference value, the solution can be drained to the system or the outside.
상기 산화제는 과망간산 용액과 무기산 용액을 포함할 수 있다. The oxidizing agent may include a permanganic acid solution and a mineral acid solution.
상기 제1 농도의 환원제는 100ppm 내지 1,000ppm의 옥살산이고, 제2 농도의 환원제는 1,000ppm 내지 3,000ppm의 옥살산일 수 있다. The first concentration of reducing agent may be 100 ppm to 1,000 ppm oxalic acid, and the second concentration of reducing agent may be 1,000 ppm to 3,000 ppm oxalic acid.
상기 유기산은 옥살산일 수 있다. The organic acid may be oxalic acid.
상기 유기산을 분해하는 단계는 옥살산이 90% 내지 99%일 때까지 진행할 수 있다.The step of decomposing the organic acid may be carried out until oxalic acid is 90% to 99%.
상기 유기산을 분해하는 단계는 과산화수소 용액을 주입하는 단계를 더 포함할 수 있다.The step of decomposing the organic acid may further include a step of injecting a hydrogen peroxide solution.
상기 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계는 제1 농도의 환원제를 주입하는 단계를 진행하고 30분 내지 1시간 후 진행할 수 있다. In the step of injecting the reducing agent of the second concentration, the step of injecting the reducing agent of the first concentration may be performed and the process may be performed after 30 minutes to 1 hour.
상기 산화제를 주입하는 단계는 3시간 내지 24시간 동안 진행하고, 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계는 4시간 내지 72시간 동안 진행할 수 있다.The step of injecting the oxidizing agent may proceed for 3 to 24 hours, and the step of injecting the reducing agent of the second concentration may proceed for 4 to 72 hours.
상기 유기산 및 금속 이온을 제거하는 단계에서, 용액을 혼상 이온 교환 수지를 통과시켜 유기산 및 금속 이온을 제거할 수 있다. In the step of removing the organic acid and the metal ion, the solution may be passed through a mixed phase ion exchange resin to remove the organic acid and the metal ion.
상기 유기산을 분해하는 단계는 UV 반응기에서 진행할 수 있다. The step of decomposing the organic acid may proceed in a UV reactor.
본 발명의 일 실시예에 따르면 원전 해체 전 계통 내를 화학적으로 용이하게 제염하여 방사능 물질을 제거함으로써, 해체 작업시 작업자의 방사선 피폭을 최소화할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, it is possible to chemically easily decontaminate the entire nuclear disintegration system to remove radioactive materials, thereby minimizing the radiation exposure of the operator during disassembly work.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 원전 해체를 위한 계통 제염 설비의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 3 내지 도 8은 도 2의 제염 순서에 따른 용액의 흐름을 설명하기 위한 도면이다. 1 is a block diagram of a systematic decontamination facility for nuclear disassembly according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart for explaining a systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 3 to 8 are views for explaining the flow of the solution according to the decontamination procedure of FIG.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 원전 해체를 위한 계통 제염 설비의 구성도이다.1 is a block diagram of a systematic decontamination facility for nuclear disassembly according to an embodiment of the present invention.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비(1000)는 원전의 계통(100)과 연결되어 있는 필터부(200), 양이온 교환 수지(300), 반응기(400), 혼상 이온 교환 수지(500), 약품 공급부(600) 및 이들 사이를 연결하여 유체(이하, 용액이라 함)의 순환 구조를 이루는 순환 배관부를 포함한다. 1, a
계통(100)은 원자로 냉각재계통(원자로압력용기, 증기 발생기, 가압기, 주요 배관 등), 화학 및 체적 제어 계통, 잔열 제거 계통일 수 있으며, 탄소강 또는 스테인레스 강을 포함하는 금속으로 이루어질 수 있다. 따라서, 계통(100)의 내부 표면에는 금속산화물층(크롬, 철, 니켈, 코발트 등)이 형성될 수 있다.The
순환 배관부는 필터부(200), 양이온 교환 수지(300), 반응기(400), 혼상 이온 교환 수지(500), 약품 공급부(600) 사이를 연결하여, 계통(100)의 화학제염 후 방사성 물질을 포함하는 용액의 유기산 분해 및 금속 이온 제거 등을 거치는 순환 구조를 제공한다. The circulation piping unit connects the
순환 배관부는 계통(100)의 배출구와 필터부(200) 사이에 연결되어 있는 제1 순환 배관(P1), 필터부(200)와 양이온 교환 수지(300) 사이에 연결되어 있는 제2 순환 배관(P2), 양이온 교환 수지(300)와 반응기(400) 사이에 연결되어 있는 제3 순환 배관(P3), 반응기(400)와 혼상 이온 교환 수지(500) 사이에 연결되어 있는 제4 순환 배관(P4), 혼상 이온 교환 수지(500)와 계통(100)의 입구 사이에 연결되어 있는 제5 순환 배관(P5)을 포함한다. The circulation piping unit includes a first circulation pipe P1 connected between the outlet of the
또한, 순환 배관부는 제5 순환 배관(P5)으로부터 분기되어 약품 공급부(600)와 연결되어 있는 제1 분기 배관(Y1), 제3 순환 배관(P3)으로부터 분기되어 반응기(400)에 과산화수소를 공급하는 과산화수소 탱크(41)와 연결된 제2 분기 배관(Y2), 제3 순환 배관(P3) 및 제4 순환 배관(P4)으로부터 분기되어 반응기(400)를 세척하기 위한 세척액 탱크(42)와 연결되어 있는 제3 분기 배관(Y3)을 더 포함할 수 있다. The circulation piping unit branches from the fifth circulation pipe P5 and branches from the first branch pipe Y1 and the third circulation pipe P3 connected to the
또한, 순환 배관부는 순환 배관에 연결된 장치를 우회하는 우회 배관을 더 포함할 수 있는데, 우회 배관은 제2 순환 배관(P2)과 제3 순환 배관(P3) 사이에 연결되어 양이온 교환 수지(300)를 우회하는 제1 우회 배관(B1), 제4 순환 배관(P4)과 제5 순환 배관(P5) 사이에 연결되어 혼상 이온 교환 수지(500)를 우회하는 제2 우회 배관(B2), 제3 순환 배관(P3)과 제4 순환 배관(P4) 사이를 연결하여 반응기(400)를 우회하는 제3 우회 배관(B3)을 포함할 수 있다.The circulation piping unit may further include a bypass pipe bypassing the device connected to the circulation pipe. The bypass pipe is connected between the second circulation pipe (P2) and the third circulation pipe (P3) to connect the cation exchange resin (300) A second bypass pipe B2 connected between the fourth circulation pipe P4 and the fifth circulation pipe P5 to bypass the mixed phase
이상의 순환 배관부에는 내부를 이동하는 용액의 속도 및 유량을 제어하는 펌프(PP1, PP2, PP3, PP4) 및 밸브(VV)가 설치될 수 있다.The circulation piping unit may be provided with pumps PP1, PP2, PP3, and PP4 and valves VV for controlling the speed and flow rate of the solution moving inside.
또한, 순환 배관부에는 용액을 직접 추출하여 분석하기 위한 샘플관(SP1, SP2, SP3, SP4, SP5)이 설치될 수 있으며, 샘플관(SP1, SP2, SP3, SP4, SP5)은 제1 순환 배관(P1) 내지 제5 순환 배관(P5)에 각각 설치될 수 있고, 샘플관에도 각각 밸브들이 설치될 수 있다. The sample pipes SP1, SP2, SP3, SP4, and SP5 may be provided in the circulation piping unit, and the sample pipes SP1, SP2, SP3, SP4, and SP5 may be provided for directly extracting and analyzing the solution. The first to fifth circulation pipes P5 to P5, respectively, and valves may be installed in the sample pipe.
필터부(200)는 계통(100)으로부터 배출되어 제1 순환 배관(P1)을 통해 전달되는 용액에 용해되지 않고 잔존하는 입자성 금속 물질을 제거한다. 필터부(200)에서 10㎛ 이상의 크기를 가지는 크롬(Cr), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 망간(Mn), 세슘(Cs)의 입자성 금속 물질이 제거되고, 용액은 제2 순환 배관(P2)으로 전달된다. 이때, 필터부(200)는 내부식성 재질로 이루어지는 카트리지 필터(cartridge filter)일 수 있으며, 10㎛이상의 입자를 98%이상 제거하는 효율을 가질 수 있다. The
제2 순환 배관(P2)으로 전달된 용액은 펌프(PP1)를 통해서 용액의 철 이온 농도에 따라 양이온 교환 수지(300) 또는 제1 우회 배관(B1)으로 전달된다. The solution transferred to the second circulation pipe (P2) is transferred to the cation exchange resin (300) or the first bypass pipe (B1) according to the iron ion concentration of the solution through the pump (PP1).
양이온 교환 수지(300)로 전달된 용액은 용액 내 금속 이온, 예를 들어 크롬(Cr), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 망간(Mn), 세슘(Cs) 등이 제거된 후 제3 순환 배관(P3)으로 전달되고, 제1 우회 배관(B1)으로 전달된 용액은 양이온 교환 수지(300)를 통과하지 않고 우회하여 제3 순환 배관(P3)으로 전달된다. The solution transferred to the cation exchange resin 300 may contain metal ions such as chromium (Cr), nickel (Ni), iron (Fe), cobalt (Co), manganese (Mn), cesium The solution is transferred to the third circulation pipe P3 and the solution transferred to the first bypass pipe B1 bypasses the cation exchange resin 300 and is transferred to the third circulation pipe P3.
이 때, 제3 순환 배관(P3)으로 전달된 용액의 철 이온 농도는 기준치, 예를 들어 2mM 이하로 유지하는데, 철 이온은 반응기(400) 내에서 광분해시 촉매로 사용될 수 있기 때문이다. 다만, 철 이온 농도가 2mM을 초과할 경우 용액 내 철이 침적될 수 있으므로, 철 이온 농도는 2mM 이하로 하는 것이 바람직하다.At this time, the iron ion concentration of the solution transferred to the third circulation pipe P3 is kept at a reference value, for example, 2 mM or less, because the iron ion can be used as a catalyst in the
철 이온 농도 측정을 위해 제2 샘플관(SP2) 및 제3 샘플관(SP3)을 통해서 용액을 채취할 수 있다. 이 때, 제2 샘플관(SP2)을 통해서 측정된 철 이온 농도가 기준치인 2mM 이하인 경우, 용액은 양이온 교환 수지(300)를 통과하지 않고 제1 우회 배관(B1) 및 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달될 수 있다. 반면, 제2 샘플관(SP2)을 통해서 측정된 철 이온 농도가 2mM를 초과하는 경우, 용액은 양이온 교환 수지(300)를 통과하여 철 이온 농도를 2mM 이하로 유지한 후(이는 제3 샘플관(SP3)을 통해서 확인) 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달될 수 있다.The solution can be collected through the second sample tube (SP2) and the third sample tube (SP3) for the measurement of the iron ion concentration. At this time, when the iron ion concentration measured through the second sample pipe (SP2) is 2 mM or less, the solution does not pass through the cation exchange resin 300 but flows through the first bypass pipe (B1) and the third circulation pipe To the reactor (400). On the other hand, when the ferrous ion concentration measured through the second sample tube (SP2) exceeds 2 mM, the solution passes through the cation exchange resin (300) to maintain the iron ion concentration at 2 mM or less (Via the third circulation pipe SP3) and then to the
반응기(400)는 UV램프를 포함하는 UV 반응기 일 수 이다. 반응기(400) 상부 또는 상부측면으로부터 용액이 반응기(400) 내부로 공급될 경우 반응기(400) 상부에 빈공간이 형성되어 반응 효율이 떨어질 수 있다. 따라서 본 발명의 일 실시예에서와 같이 제3 순환 배관(P3)은 반응기(400)의 하부 또는 하부측면에 연결될 수 있다.
반응기(400) 내의 UV 램프로부터 발생하는 UV는 용액내의 유기산을 광분해하며, 이때 이산화탄소 가스와 물이 발생할 수 있다. 따라서, 반응기(400) 상부에는 이산화탄소 가스를 배출하는 배기관(43)이 연결될 수 있다. The UV generated from the UV lamp in the
반응기(400) 내의 UV 램프는 서로 다른 파장의 UVC 램프와 UVB 램프를 포함할 수 있으며, UVB 램프는 UVC에 비해서 고에너지 램프이다. 따라서, 반응 온도에 따라서 UVB와 UVC를 혼합하여 배치할 수 있다. UV lamps in
UVC(short wave UV) 램프는 180nm 내지 280nm의 파장을 방출하고, UVB(middle wave UV) 램프는 280nm 내지 500nm의 파장을 방출할 수 있다.A UVC (short wave UV) lamp emits a wavelength of 180 nm to 280 nm, and a UVB (middle wave UV) lamp emits a wavelength of 280 nm to 500 nm.
반응기(400)의 외부에는 히터 또는 냉각부와 같은 온도 조절 장치(도시하지 않음)이 설치될 수 있다. A temperature controller (not shown) such as a heater or a cooling unit may be installed outside the
한편, 반응기(400)는 내부의 반응 상태를 실시간으로 모니터링하기 위한 센서부(44)가 연결될 수 있다. Meanwhile, the
센서부(44)는 반응기(400) 내의 온도, pH 및 압력 등을 측정하여 반응기(400) 내부가 최적의 반응 환경을 유지할 수 있도록 한다. 예를 들어, 유기산으로 옥살산을 분해할 경우 최적의 반응 온도는 20℃도 내지 50℃이므로, 센서부(44)를 통해서 내부 온도를 측정하고 온도 조절장치를 조절하여 상기 온도를 유지하도록 할 수 있다.The
제4 순환 배관(P4)에 설치된 제4 샘플관(SP4)을 통해서 추출된 용액의 옥살산 농도에 따라서 반응기(400)에서 배출되는 용액은 혼상 이온 교환 수지(500), 또는 제2 우회 배관(B2)을 통과한 후 제5 순환 배관(P5)을 통해서 계통(100)으로 전달될 수 있다. Depending on the oxalic acid concentration of the solution extracted through the fourth sample pipe SP4 installed in the fourth circulation pipe P4, the solution discharged from the
혼상 이온 교환 수지(500)는 양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지를 포함할 수 있으며, 양이온 교환 수지는 용액 내에 잔류하는 금속 이온을 제거하고, 음이온 교환 수지는 용액 내에 잔류하는 유기산을 제거한다. The mixed phase
양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지의 비율은 5:5, 6:4, 7:3, 8:2의 비율로 혼합될 수 있으며, 혼상 이온 교환 수지를 통과하는 유기산의 농도에 따라서 변경될 수 있다. The ratio of the cation exchange resin to the anion exchange resin may be mixed at a ratio of 5: 5, 6: 4, 7: 3, 8: 2 and may be changed according to the concentration of the organic acid passing through the mixed phase ion exchange resin.
약품공급부(600)는 산화제 탱크(61)와 환원제 탱크(62)를 포함할 수 있으며, 산화제 탱크(61) 및 환원제 탱크(62)는 산화제로 사용되는 약품 또는 환원제로 사용되는 약품에 따라서 복수의 탱크를 포함할 수 있다. 예를 들어, 산화제는 질산, 황산, 염산과 같은 무기산 그리고 과망간산일 수 있으며, 환원제는 옥살산, 시트르산, 구연산과 같은 유기산일 수 있으며, 이들은 각각의 탱크에 저장되어 필요에 따라서 선택적으로 공급될 수 있다. The
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 설비(1000)는 계통(100)과 필터부(200) 사이에 위치하는 모니터링부(800)를 더 포함할 수 있다.The
모니터링부(800)는 전기전도도(conductivity) 센서, ORP(산화-환원 전위, Oxidation-Reduction Potential) 센서, pH 센서, 및 유량계를 포함할 수 있으며, 계통(100)과 연결되어 계통(100)으로부터 배출되는 용액을 분석한다. The
전기전도도 센서와 OPR 센서 및 pH 센서는 각각 화학 제염제의 도전율, 산화-환원 전위, 및 수소이온 농도지수를 측정하며, 화학 제염제의 전기/화학적 성질을 감지하고, 실시간으로 공정의 진행 여부 및 공정 시간 등을 예상한다. The electrical conductivity sensor, the OPR sensor, and the pH sensor measure the conductivity, oxidation-reduction potential and hydrogen ion concentration index of the chemical decontamination agent, detect the electrochemical properties of the chemical decontamination agent, Process time and so on.
이하에서는 기 설명한 계통 제염 설비를 이용하여 계통 제염하는 방법에 대해서 구체적으로 설명한다. Hereinafter, a method for systematic decontamination using the systematic decontamination facility described above will be described in detail.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법을 설명하기 위한 순서도이고, 도 3 내지 도 8은 도 2의 제염 순서에 따른 용액의 흐름을 설명하기 위한 도면이다. 도 2와 함께 설명되는 계통 제염 설비의 도면 부호는 도 1을 참조한다.FIG. 2 is a flowchart for explaining a systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 to 8 are views for explaining the flow of a solution according to the decontamination procedure of FIG. Reference numerals of the systematic decontamination facility to be described with reference to FIG. 2 refer to FIG.
도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 계통 제염 방법은 산화 공정을 위한 산화제 주입 단계(S100), 산화제 분해 제거를 위한 환원제 1차 주입 단계(S102), 환원 공정을 위한 환원제 2차 주입 단계(S104) 및 정화 공정을 포함한다. As shown in FIG. 2, the systematic decontamination method according to an embodiment of the present invention includes an oxidant injection step (S100) for oxidation, a primary injection step (S102) for oxidizing decomposition and removal, a reducing agent A secondary injection step (S104) and a purifying step.
산화제 주입 단계(S100), 환원제 1차 주입 단계(S102), 환원제 2차 주입 단계(S104)에 따른 산화 공정, 산화제 분해 제거 공정 및 환원 공정은 계통(100) 내에서 진행(도 3 참조)된다. The oxidation process, oxidant decomposition process and reduction process according to the oxidant injection step (S100), the reducing agent first injection step (S102), the reducing agent secondary injection step (S104) .
산화제 주입 단계(S100)에서는 산화제 탱크(61)의 산화제가 펌프(PP2)를 통해서 계통(100)으로 주입된다. 이때, 제1 순환 배관(P1)으로 용액의 이동을 제어하는 밸브(VV)는 닫힌 상태이며, 계통(100)에는 냉각재와 같은 용액이 존재한다. In the oxidant injection step (S100), the oxidant of the oxidant tank (61) is injected into the system (100) through the pump (PP2). At this time, the valve (VV) for controlling the movement of the solution to the first circulation pipe (P1) is in a closed state, and a solution such as a coolant is present in the system (100).
산화제는 계통(100)의 내부 표면에 형성된 크롬 산화물층을 제거하기 위한 것으로, 제1 분기 배관(Y1)에 연결된 히터(도시하지 않음)를 통해서 가열된 후 주입될 수 있다. 이때, 산화제는 반응 온도인 80℃ 내지 100℃로 가열된 후, 펌프(PP2)를 통해서 제5 순환 배관(P5)으로 전달된 후 부스터 펌프(BP)를 통해서 계통(100)으로 주입될 수 있다. 계통(100)은 일정 압력을 유지하고 있으므로 부스터 펌프(BP)를 통해서 계통(100)보다 더 높은 압력으로 약품을 주입한다. The oxidant is for removing the chromium oxide layer formed on the inner surface of the
산화제는 50ppm 내지 300ppm의 과망간산과 0 내지 5mM의 무기산, 예를 들어 질산, 황산, 염산 중 적어도 하나를 포함하여 주입될 수 있다. 산화제인 과망간산의 반응이 진행됨에 따라 산화제의 농도가 변화하고 이에 따라 pH가 증가한다. 따라서 pH를 1.5~2.5 사이를 유지시키기 위해서 무기산을 함께 주입할 수 있다. The oxidizing agent may be injected with 50 ppm to 300 ppm permanganic acid and 0 to 5 mM inorganic acid, such as at least one of nitric acid, sulfuric acid and hydrochloric acid. As the reaction of oxidant permanganic acid progresses, the concentration of the oxidant changes and thus the pH increases. Thus, inorganic acids can be injected together to maintain the pH between 1.5 and 2.5.
산화제가 주입되면, 계통(100) 내에서는 하기 [반응식 1]의 과정으로 산화 공정이 진행되며, 산화 공정은 3시간 내지 24시간 동안 진행될 수 있다. 산화 공정 시간이 3시간 미만인 경우 충분한 반응이 일어나지 않으며 24시간을 초과할 경우 더 이상 반응 공정이 일어나지 않아 제염이 되지 않는다.When the oxidizing agent is injected into the
[반응식 1][Reaction Scheme 1]
이후, 환원제를 1차 주입하는 단계(S102)에서는 환원제 탱크(62)의 환원제가 펌프(PP2)를 통해서 계통(100)로 주입된다. 환원제가 주입되면 산화제 분해 공정이 진행된다. 산화제 분해 공정은 하기 [반응식 2]의 과정으로 진행되며, 용액 내에 잔존하는 과망간산을 분해한다. 이때, 환원제는 100 내지 1,000ppm의 옥살산이 투입될 수 있다. In step S102, the reducing agent in the reducing
[반응식 2][Reaction Scheme 2]
이후, 환원제를 2차 주입하는 단계(S104)에서는 환원제 탱크(62)로부터 농도가 다른 유기산이 계통으로 추가 투입되며, 환원 공정이 진행된다. 농도에 따라서 1차 투입되는 환원제 탱크와 서로 다른 환원제 탱크에 저장될 수 있다. Thereafter, in the second step of injecting the reducing agent (S104), an organic acid having a different concentration is further added to the system from the reducing
이때, 1,000 내지 3,000ppm의 옥살산을 추가 투입되며, 환원 공정은 하기 [반응식 3]의 과정으로 진행되며, 환원제를 1차 주입한 후 30분 내지 1시간 후에 2차 주입한다. At this time, 1,000 to 3,000 ppm of oxalic acid is further added, and the reduction process proceeds to the process of Reaction Scheme 3 below, and the second injection is performed after 30 minutes to 1 hour after the first injection of the reducing agent.
[반응식 3][Reaction Scheme 3]
환원 공정은 4시간 내지 72시간 동안 진행될 수 있으며, 제1 순환 배관(P1)에 설치된 샘플관(SP1)을 통해서 1시간 마다 금속 이온의 농도를 측정(S106)한다. 측정된 금속 이온의 농도가 더 이상 변화하지 않으면, 환원 공정을 종료한다. The reduction process may be performed for 4 to 72 hours, and the concentration of the metal ion is measured every one hour through the sample pipe SP1 provided in the first circulation pipe P1 (S106). If the concentration of the measured metal ion no longer changes, the reduction process is terminated.
계통 내에서의 산화 공정, 산화제 분해 공정 및 환원 공정이 끝나며, 밸브(VV)를 열어 계통(100) 내의 용액을 제1 순환 배관(P1)으로 배출시켜 정화 공정을 진행한다. 정화 공정은 이후에 설명하는 입자성 금속 물질 제거 단계(S108), 금속 이온을 제거 하는 단계(112), 옥살산 분해 단계(114), 계통 순환 단계(S117) 및 잔류 옥살산 및 금속 이온을 제거하는 단계(S118)를 포함하는 것으로, 환원 공정 이후에, 계통(100) 뿐 아니라 계통(100) 외부에서 진행되는 모든 반응 공정을 포함한다. The oxidation process in the system, the oxidizer decomposition process, and the reduction process are completed, and the valve VV is opened to discharge the solution in the
입자성 금속 물질 제거 단계(S108)에서, 계통(100)에서 배출되는 용액은 제1 순환 배관(P1)을 통해서 필터부(200)로 전달되고, 필터부(200)에 의해서 용액 내에 잔존하는 입자성 금속 물질이 제거(S108)된다. 이때, 입자성 금속 물질은 Cr, Ni, Fe, Co, Mn, Cs일 수 있다.In the particulate metallic material removal step (S108), the solution discharged from the
이후, 필터부(200)를 통과한 용액의 시료를 채취하여 철 이온의 농도를 측정(S108)하고, 철 이온의 농도가 기준치를 만족하는지를 판단(S110)한다. Thereafter, a sample of the solution passed through the
반응기(400)에 공급되는 용액의 철 이온 농도의 기준치는 2mM이하이며, 2mM 초과일 경우 철이 침적될 수 있다.The reference value of the iron ion concentration of the solution supplied to the
철 이온의 농도가 기준치 이내일 경우, 용액은 제2 순환 배관(P2), 제1 우회 배관(B1) 및 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달된다(도 4 참조). When the concentration of iron ions is within the standard value, the solution is transferred to the
반대로, 철 이온의 농도가 기준치를 벗어날 경우 필터부(200)를 통과한 용액을 양이온 교환 수지(300)를 통과시켜 금속 이온을 제거(S112)하여 철 이온의 농도가 기준치 이내일 수 있도록 한다. 용액이 양이온 교환 수지(300)를 통과한 후 철 이온의 농도가 기준치를 만족할 경우, 용액은 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 전달된다(도 5 참조). On the contrary, when the concentration of the iron ions is out of the reference value, the solution passing through the
양이온 교환 수지(300)는 용액 내의 금속 이온(Cr, Ni, Fe, Co, Mn, Cs)을 제거하기 위한 것으로, 측정된 철 이온의 농도에 따라서 적절한 양의 양이온 교환 수지(300)를 설치하여 철 이온 농도를 조절할 수 있다. 이때, 유기산인 옥살산이 재생될 수 있다. The cation exchange resin 300 is used to remove metal ions (Cr, Ni, Fe, Co, Mn, and Cs) in the solution. An appropriate amount of the cation exchange resin 300 is installed according to the concentration of the measured iron ions The iron ion concentration can be controlled. At this time, oxalic acid which is an organic acid can be regenerated.
용액은 반응기(400)의 하부 또는 하부측면에 연결된 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)의 하부 또는 하부측면로부터 반응기(400) 내로 주입될 수 있다. The solution may be injected into the
한편, 철 이온 농도에 따라서 용액이 이동하며, 용액 내에 잔류하는 다른 금속 이온 들은 후술하는 혼상 이온 교환 수지를 통해서 제거될 수 있다. Meanwhile, the solution moves according to the iron ion concentration, and other metal ions remaining in the solution can be removed through the mixed phase ion exchange resin described later.
옥살산 분해 단계(S114)에서는 용액과 함께 과산화수소 탱크(41)의 과산화 수소가 제2 분기 배관(Y2) 및 제3 순환 배관(P3)을 통해서 반응기(400)로 주입되며, 이때 과산화수소는 펌프(PP3)를 통해서 유량 및 속도가 조절되면서 옥살산과 1:1의 비율로 주입될 수 있다. Hydrogen peroxide in the
옥살산 분해는 반응기(400)에 설치된 UV 램프로부터 발생되는 UV로 인해서 하기 [반응식 4]의 과정으로 진행된다. The oxalic acid decomposition proceeds to the process of the following [Reaction Scheme 4] due to the UV generated from the UV lamp installed in the
[반응식 4][Reaction Scheme 4]
옥살산 분해 단계(S114)는 반응기(400) 내부 및 계통(100)을 순환(S117) 하면서 진행(도 6 참조) 센서부(44)를 통해서 되며, 상기 [반응식 4]에 의해서 이산화탄소가 발생된다. 발생된 이산화탄소는 반응기(400) 상부에 연결된 배기관(43)을 통해서 외부로 배출될 수 있다. The oxalic acid decomposition step (S114) proceeds through the sensor unit (44) while advancing while circulating (S117) inside the reactor (400) and the system (100), and carbon dioxide is generated by the above reaction scheme (4). The generated carbon dioxide can be discharged to the outside through the
한편, 옥살산이 분해될 때 최적의 반응 온도는 20℃도 내지 50℃이므로, 센서부(44)를 통해서 반응기(400)의 내부 온도를 측정하고 히터 또는 냉각기를 조절하여 상기 온도를 유지시킨다. On the other hand, when oxalic acid is decomposed, the optimum reaction temperature ranges from 20 ° C to 50 ° C. Therefore, the internal temperature of the
샘플관(SP4)을 통해서 시간마다 반응기(400) 내의 용액을 채취하여 옥살산의 분해능이 미리 정해진 기준치를 만족하는지를 판단(S116)한다. 이때, 옥살산의 분해능 기준치는 90% 내지 99% 범위 내에서 특정 값으로 미리 정해질 수 있다. The solution in the
옥살산의 분해능이 정해진 기준치 미만일 경우 반응기(400) 내의 용액은 제4 순환 배관(P4), 제2 우회 배관(B2), 제5 순환 배관(P5), 계통(100), 제1 순환 배관(P1), 필터부(200), 제2 순환 배관(P2), 제1 우회 배관(B1), 제3 순환 배관(P3) 및 반응기(400)를 반복적으로 순환(도 6 참조)하는 계통 순환(S117)을 진행한다. 계통 순환(S117)은 옥살산의 분해능이 기준치를 만족 할 때까지 반복될 수 있다. The solution in the
옥살산의 분해능이 기준치 이상일 경우 잔류 옥살산 및 금속 이온을 제거하는 단계(S118)를 진행한다. When the decomposition ability of oxalic acid is equal to or higher than the reference value, the step of removing residual oxalic acid and metal ions (S118) is performed.
잔류 옥살산 및 금속 이온을 제거하는 단계(S118)는 혼상 이온 교환 수지(500)에서 진행되며, 제4 순환 배관(P4)을 통해서 혼상 이온 교환 수지(500)로 전달된 후, 제5 순환 배관(P5)으로 배출(도 7 참조)된다. 이때, 제2 우회 배관(B2)의 밸브는 닫힌 상태이다. The step of removing residual oxalic acid and metal ions S118 proceeds in the mixed phase
혼상 이온 교환 수지(500)는 반응기(400)에서 전달되는 용액 내에 잔존하는 금속 이온과 옥살산을 제거하기 위한 것으로, 양이온 교환 수지 및 음이온 교환 수지를 포함한다. 이때, 잔류하는 옥살산의 농도에 따라서 양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지의 비율을 달리할 수 있다. 예를 들어, 양이온 교환 수지와 음이온 교환 수지의 비율은 5:5, 6:4, 7:3, 8:2일 수 있다. The mixed phase
이후, 계통(100)내의 배관 등의 표면 선량률 측정을 통해 얻는 결과값을 사용하여 DF(decontamination factor, 제염계수)를 도출하여 미리 정해진 DF의 기준치를 만족하는지 판단(S120)한다. DF는 배관 등의 표면 선량률 측정값을 사용하여 도출한 값으로, DF의 기준치는 20 내지 40 범위에서 특정 값으로 미리 정해질 수 있다. 이 때, 표면 선량률은 이동형/고정형 방사선 측정기를 이용하여 계통(100) 내 배관 등의 표면 선량률을 측정할 수 있다.Thereafter, a decontamination factor (DF) is derived using a result obtained by measuring the surface dose rate of the piping or the like in the
DF가 미리 정해진 기준치 이상일 경우, 본 발명의 일 실시예에 따른 제염 공정이 끝난 안전한 용액이므로 계통(100) 또는 외부로 배수(S121)한다. 배수 전 샘플관(SP5)을 통해서 용액을 채취하고 금속 이온 및 유기산 분석을 추가로 실시할 수 있다. If the DF is equal to or greater than a predetermined reference value, the solution is the safe solution after the decontamination process according to an embodiment of the present invention, so it drains to the
반대로, DF가 미리 정해진 기준치 미만일 경우, 용액은 제5 순환 배관(P5)을 통해서 계통(100)으로 전달되어 기 설명한 산화제 주입 단계(S100) 또는 환원제 2차 주입 단계(S104)부터 제염 공정을 반복해서 진행할 수 있다. Conversely, when the DF is less than the predetermined reference value, the solution is transferred to the
산화제 주입 단계(S100)의 산화 공정은 계통(100) 내의 크롬을 제거하기 위한 것으로, 크롬 농도가 기준치를 벗어날 경우 산화제 주입 단계(S100)부터 진행하고, 크롬의 농도가 기준치를 만족할 경우 더 이상의 산화 공정은 필요치 않으므로 환원제 2차 주입하는 단계(S104)부터 제염 공정을 진행할 수 있다. The oxidizing step of the oxidant injecting step S100 is for removing chromium in the
이때, 크롬 이온의 농도는 금속 이온 농도 측정 단계(S106)에서 측정된 농도로부터 판단될 수 있으며, 크롬 이온 농도의 기준치는 0이상 1ppm미만 일 수 있다. 한편, 반응기(400) 내의 공정 시간이 증가할수록 용액 내의 금속 이온이 UV 램프 표면에 침적되며, 침적된 금속층으로 인해서 반응기(400)의 효율이 떨어진다. 따라서, 반응기(400)를 세척하는 단계(도 8 참조)를 진행한다. At this time, the concentration of the chromium ion can be determined from the concentration measured in the metal ion concentration measuring step (S106), and the reference value of the chromium ion concentration can be 0 or more and less than 1 ppm. On the other hand, as the process time in the
반응기(400) 세척은 계통(100) 내에서 반응 공정이 진행되거나, 용액이 계통(100) 내에 머무를 때 진행할 수 있다. 예를 들어, 산화제 주입 단계(S100), 환원제 1차 주입 단계(S102), 환원제 2차 주입 단계(S104)가 진행되는 동안, 또는 계통 순환(S117) 단계에서 용액이 계통(100)내에 머무를 때 실시할 수 있다.The washing of the
반응기(400)의 세척 단계는 세척액 탱크(42)의 세척액을 펌프(PP4)를 통해서 반응기(400) 내로 주입하여 램프 표면의 금속과 반응시켜 금속이 용출될 수 있도록 한다. 이때, 세척액은 인산, 질산, 옥살산, 시트르산 중 적어도 하나를 포함하는 무기산 또는 유기산일 수 있다. In the washing step of the
반응기(400)와 연결된 제3 순환 배관(P3)과 제4 순환 배관(P4)의 밸브를 닫은 후, 세척액이 제3 분기 배관(Y3)을 통해서 반응기(400) 내로 주입된 후 반응 후 다시 세척액 탱크(43)로 순환되면서 램프 표면의 금속이 제거될 수 있도록 한다. After the valves of the third circulation pipe P3 and the fourth circulation pipe P4 connected to the
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Of course.
41: 과산화수소 탱크 42: 세척액 탱크
43: 배기관 100: 계통
200: 필터부 300: 양이온 교환 수지
400: UV 반응기 500: 혼상 이온 교환 수지
600: 약품 공급부 800: 모니터링부41: hydrogen peroxide tank 42: cleaning liquid tank
43: exhaust pipe 100: system
200: Filter part 300: Cation exchange resin
400: UV reactor 500: mixed phase ion exchange resin
600: drug supply unit 800: monitoring unit
Claims (16)
상기 계통에 산화제를 주입하는 단계,
상기 계통에 제1 농도의 환원제를 주입하는 단계,
상기 계통에 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계,
상기 용액의 금속 이온의 농도를 측정하는 단계,
상기 용액의 금속 이온의 농도를 측정하는 단계 후, 상기 용액의 입자성 금속 물질을 제거하는 단계,
상기 용액의 유기산을 분해하는 단계,
상기 유기산을 분해하는 단계 후 상기 용액에 잔류하는 상기 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계,
상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계 후, 상기 계통의 배관의 표면 선량률을 측정하여 DF값을 도출하는 단계
를 포함하고,
상기 DF가 기준치 이상이면 상기 용액을 계통 또는 외부로 배수하는 계통 제염 방법.In a decontamination method of a system in which a solution moves,
Injecting an oxidant into the system,
Injecting a first concentration of reducing agent into the system,
Injecting a second concentration of reducing agent into the system,
Measuring the concentration of the metal ion in the solution,
Measuring the concentration of the metal ion in the solution, removing the particulate metallic material of the solution,
Decomposing the organic acid of the solution,
Removing the metal ions and the organic acid remaining in the solution after the step of decomposing the organic acid,
Measuring the surface dose rate of the piping of the system and deriving the DF value after removing the remaining metal ions and organic acid
Lt; / RTI >
Wherein the solution is drained to the system or to the outside when the DF is not less than the reference value.
상기 입자성 금속 물질을 제거하는 단계 후,
상기 용액의 철 이온 농도는 2mM이하인 계통 제염 방법.The method of claim 1,
After the step of removing the particulate metallic material,
Wherein the solution has an iron ion concentration of 2 mM or less.
상기 입자성 금속 물질을 제거하는 단계 후,
상기 용액의 금속 이온을 제거하는 단계
를 더 포함하고,
상기 금속 이온을 제거하는 단계 후, 상기 용액의 철 이온 농도는 2mM이하인 계통 제염 방법.The method of claim 1,
After the step of removing the particulate metallic material,
Removing the metal ion of the solution
Further comprising:
Wherein the iron ion concentration of the solution after the step of removing the metal ion is 2 mM or less.
상기 용액의 금속 이온을 제거하는 단계에서,
상기 용액을 양이온 교환 수지에 통과시켜 상기 금속 이온을 제거하는 계통 제염 방법.4. The method of claim 3,
In the step of removing metal ions of the solution,
Wherein the solution is passed through a cation exchange resin to remove the metal ion.
상기 금속 이온의 농도를 측정하는 단계에서 측정된 크롬 이온 농도가 1ppm이상이면, 상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계 후에, 상기 계통에 산화제를 주입하는 단계, 계통에 제1 농도의 환원제를 주입하는 단계, 상기 계통에 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계, 상기 용액의 입자성 금속 물질을 제거하는 단계, 상기 용액의 유기산을 분해하는 단계 및 상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계를 반복하고,
상기 금속 이온의 농도를 측정하는 단계에서 측정된 상기 용액의 크롬 이온 농도가 1ppm미만이면, 상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계 후에, 상기 계통에 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계, 상기 용액의 입자성 금속 물질을 제거하는 단계, 상기 용액의 유기산을 분해하는 단계 및 상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계
를 반복하는 계통 제염 방법.The method of claim 1,
The step of removing the remaining metal ions and the organic acid when the measured chromium ion concentration is 1 ppm or more in the step of measuring the concentration of the metal ions, a step of injecting an oxidizing agent into the system, A step of injecting a reducing agent at a second concentration into the system, a step of removing the particulate metallic material of the solution, a step of decomposing the organic acid of the solution, and a step of removing the remaining metal ions and organic acid Repeat,
If the chromium ion concentration of the solution measured in the step of measuring the concentration of the metal ion is less than 1 ppm, the step of removing the residual metal ion and the organic acid may be followed by the step of injecting a second concentration of the reducing agent into the system, Removing the particulate metallic material of the solution, decomposing the organic acid of the solution, and removing the remaining metal ions and organic acids
To the systematic decontamination method.
상기 산화제는 과망간산 용액과 무기산 용액을 포함하는 계통 제염 방법.3. The method according to claim 2 or 3,
Wherein the oxidizing agent comprises a permanganic acid solution and an inorganic acid solution.
상기 제1 농도의 환원제는 100ppm 내지 1,000ppm의 옥살산이고,
상기 제2 농도의 환원제는 1,000ppm 내지 3,000ppm의 옥살산
인 계통 제염 방법.9. The method of claim 8,
Wherein the first concentration of the reducing agent is 100 ppm to 1,000 ppm oxalic acid,
Wherein the second concentration of reducing agent is 1,000 ppm to 3,000 ppm oxalic acid
Decontamination method of phosphorus system.
상기 유기산은 옥살산인 계통 제염 방법.The method of claim 9,
Wherein the organic acid is oxalic acid.
상기 유기산을 분해하는 단계는 상기 옥살산 분해능이 90% 내지 99%일 때까지 진행하는 계통 제염 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the step of decomposing the organic acid is performed until the decomposition ability of the oxalic acid is 90% to 99%.
상기 유기산을 분해하는 단계는
과산화수소 용액을 주입하는 단계
를 더 포함하는 계통 제염 방법.11. The method of claim 10,
The step of decomposing the organic acid
A step of injecting a hydrogen peroxide solution
Wherein the systematic decontamination method further comprises:
상기 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계는 상기 제1 농도의 환원제를 주입하는 단계를 진행하고 30분 내지 1시간 후 진행하는 계통 제염 방법.The method of claim 9,
Wherein the step of injecting the reducing agent at the second concentration is performed after the step of injecting the reducing agent at the first concentration for 30 minutes to 1 hour.
상기 산화제를 주입하는 단계에서, 상기 산화제를 주입한 후 산화공정을 3시간 내지 24시간 동안 진행하고,
상기 제2 농도의 환원제를 주입하는 단계에서, 상기 제2 농도의 환원제를 주입한 후 환원 공정을 4시간 내지 72시간 동안 진행하는 계통 제염 방법.The method of claim 13,
In the step of injecting the oxidizing agent, the oxidizing step is carried out for 3 to 24 hours after the oxidizing agent is injected,
Wherein the reducing step is performed for 4 to 72 hours after the second concentration of the reducing agent is injected in the step of injecting the reducing agent of the second concentration.
상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 단계에서,
상기 용액을 혼상 이온 교환 수지를 통과시켜 상기 잔류하는 금속 이온 및 유기산을 제거하는 계통 제염 방법.The method of claim 1,
In the step of removing the remaining metal ions and organic acid,
Wherein the solution is passed through a mixed phase ion exchange resin to remove the remaining metal ions and organic acid.
상기 유기산을 분해하는 단계는
UV 반응기에서 진행하는 계통 제염 방법.The method of claim 1,
The step of decomposing the organic acid
A systematic decontamination method that proceeds in a UV reactor.
Priority Applications (1)
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