KR101992747B1 - method of automatic testing and cleaning contamination by sensor signal - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 본 공정에 공정 재료를 공급하기 위해 공급장치에서 공정 재료를 준비할 때 공정 재료에 대한 자체적 이상 신호가 발생하면 그 이상 신호의 원인이 무엇인지 파악하고 처치할 수 있는 방법과 이 방법 구현에 적합한 장치에 관한 것이며, 보다 상세하게는 공정 재료에 대한 이상이 공정 재료 제조를 위해 공급되는 원료의 문제인지 혹은 원료로 공정 재료를 만드는 메인 장치의 문제인지, 혹은 자체적으로 공정 재료를 검사하는 분석기의 센서 오염 문제인지를 기존에 비해 보다 신속하고 정확하게 파악하고 자동 클리닝 조치할 수 있도록 하는 방법 및 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method capable of identifying and remedying the cause of an abnormality signal when an abnormality signal is generated to a process material at the time of preparing a process material in a supply apparatus to supply the process material to the process, And more particularly to an apparatus for analyzing a process material by itself, that is, an abnormality of a process material is a problem of a raw material supplied for producing a process material or a problem of a main device making a process material as a raw material, The present invention relates to a method and apparatus for quickly and accurately grasping a sensor pollution problem of an automobile, and an automatic cleaning action.
매우 많은 제조 공정에서 제조 설비에 공정 재료가 공급되면서 공정이 이루어지게 된다. 이런 공정은 대개 자동적으로 진행되며 공정에 이상이 있는 지를 상시적 혹은 수시적으로 체크하는 것이 필요하고, 이런 체크도 공정 이상 감지를 위한 공정 센서를 배치하여 자동적으로 이루어지는 경우가 많다.In a large number of manufacturing processes, the process is performed while the process equipment is supplied to the manufacturing facility. Such a process is usually automatic and it is necessary to check whether the process is abnormal or not at all times or on the fly. Such a check is often done automatically by disposing a process sensor for process abnormality detection.
한편, 본 공정에 공정 재료를 공급하는 공정 재료 공급 시스템 혹은 공정 재료 공급장치에 있어서도 본 공정과 같이 자체가 준비하여 공급하는 공정 재료가 이상이 있는지를 먼저 판정하여 공정 재료를 공급함으로써 본 공정에서 더 큰 문제가 발생하지 않도록 하는 경우가 많으며, 반도제장치 제조 공정과 같은 엄밀한 제조 공정을 위한 공정 재료 공급장치는 통상적으로 이런 방식을 취하고 있다.On the other hand, even in the process material supply system or the process material supply device for supplying the process material to the present step, it is first determined whether there is an abnormality in the process material that is prepared and supplied by itself, In many cases, a large problem is not caused, and a process material supply device for a strict manufacturing process such as a semiconductor device manufacturing process usually adopts this method.
가령, 반도체장치 제조에서 미세 고집적화를 위해 기판(wafer) 내에 다층으로 회로를 구성하면서 공정 기판의 평탄화를 위해 화학적 물리적 연마(CMP: chemical mechanical polishing)라는 본 공정을 진행하는 경우, 기판 표면 연마를 위해 화학약품과 물리적 입자 슬러리가 혼합된 연마제 상태로 기판 표면에 공급되고 그 위로 패드가 공정 기판 표면을 문질러 평탄화 작업을 실시한다. For example, when the main process of chemical mechanical polishing (CMP) is performed for planarization of a process substrate while forming a multilayer circuit in a wafer for fine integration in semiconductor device fabrication, A chemical agent and a physical particle slurry are fed to the substrate surface in a mixed abrasive state, with the pad scrubbing the process substrate surface for planarization.
CMP 공정을 진행할 때에는 연마제 공급장치(delivery system)에서 화학물질 저장소와 물리적 입자 슬러리 저장소에서 필요한 양만큼을 전달받아 고르게 혼합하고 필터링하여 연마제 내의 슬러리 입자의 크기, 혼합비, 수소이온농도, 밀도, 전도도 등이 정해진 조건에 맞는 지를 확인한 뒤 본 공정에 제공하게 된다.When the CMP process is carried out, the necessary amount is received from the chemical reservoir and the physical particle slurry reservoir in the delivery system of the abrasive product, and the mixture is mixed and filtered uniformly, so that the size, mixing ratio, hydrogen ion concentration, density, It is confirmed whether or not the predetermined condition is satisfied, and then it is provided to the present process.
도1은 공정 재료가 공급을 위한 메인 장치(10)와 공정 재료의 이상을 검사할 수 있는 분석기(20)를 구비하는 공정 재료 공급장치와 이 공급장치 내에서의 신호 전달이 이루어지는 경로를 개념적으로 간략하게 나타내는 개념도이다.Fig. 1 is a schematic view of a process material supply apparatus having a
도1의 구성 개념도를 참조하면, 이런 공정 재료 공급장치(시스템)은 대개 원료를 받아 실제적으로 배합(믹싱) 작업, 필터링 작업 등을 통해 공정 재료를 만들어 공급하는 메인 장치(10)와 분석기(20)를 구비하여 이루어지며, 메인 장치(10)는 보다 세부적으로 배합 장치, 필터링 장치, 메인 콘트롤러 등을 구비하고, 분석기(20)는 하나 이상의 센서와, 필요에 따라 공정 재료를 센서가 검사할 수 있는 상태로 만들어주는 전처리 장치와 센서 출력 신호가 아날로그 신호인 경우 처리의 편의를 위해 디지털화하여 수치로 전환시키는 제어부 등을 구비하여 이루어질 수 있다.1, such a process material supply system generally includes a
경우에 따라 전처리 장치나 제어부가 별도로 필요하지 않을 수 있고, 제어부는 크게 센서와 일체로 볼 수 있어서 이런 경우 분석기 자체를 센서라고 칭하기도 한다.In some cases, the preprocessor or the control unit may not be separately needed, and the control unit may be viewed integrally with the sensor. In such a case, the analyzer itself may be referred to as a sensor.
이런 시스템에서 메인 장치는 원료 공급부(1)의 원료를 받아 배합, 필터링을 하여 공급 라인(15)을 통해 본 공정(2)으로의 공급(delivery)를 담당하고, 제조된 공정 재료의 샘플을 샘플 라인(13)을 통해 분석기(20)로 보낼 수 있다. 메인 장치(10)는 메인 콘트롤러를 가져서 분석기 제어 신호를 발생시켜 신호선(11: 무선을 포함하는 개념으로 본다)으로 분석기(20)에 전달하고 신호선(21)으로 분석기의 측정 결과 혹은 검사값을 받아오는 작용을 할 수 있다. In such a system, the main apparatus receives the raw material of the raw material supply unit 1, mixes and filters the raw material to supply the raw material to the
이런 시스템은 센서를 구비하여 자동으로 공정을 진행하고 자동으로 공정 재료 이상을 검사할 수 있어서 매우 효율적인 것이지만 기존에는 분석기에서 이런 공정 재료에 대한 이상이 감지되는 경우 이상의 원인이 메인 장치 자체에 있는 것인지, 공급되는 원료의 이상으로 인한 것인지, 센서 자체에 문제가 발생한 것인지를 확인하는 것이 쉽지 않다.Such a system is very efficient because it can automatically process the material by inspecting the process material with the sensor. However, if the analyzer detects an abnormality in the process material, It is not easy to confirm whether the problem is caused by abnormality of the raw material to be supplied or the sensor itself.
가령, 이상 신호가 발생한 경우, 분석기의 센서에 의한 검사값 혹은 측정값이 미리 설정된 정상 수치 범위를 벗어날 경우, 이를 항상 공정 재료의 이상으로 판정하는 것도 확실하지 않다는 문제가 있다. 즉, 분석기 센서 자체가 이상을 일으켜 정상적 공정 재료에 대해서도 센서에 의한 측정값이 정상 범위를 벗어날 수 있기 때문이다.For example, when an abnormality signal is generated, when the inspection value or the measurement value by the sensor of the analyzer deviates from a preset normal value range, it is not always certain that the abnormality is judged as an abnormality of the process material. That is, the analyzer sensor itself may cause an abnormality, so that the measured value by the sensor may deviate from the normal range for the normal process material.
도2는 종래의 공급장치에서 이루어지는 분석기의 검사 혹은 분석이 이루어지는 과정 혹은 단계를 나타내는 흐름도이다. 도1 및 도2를 참조하면, 먼저, 메인 장치(10)에서는 샘플 라인(13)을 통해 항시적, 주기적 혹은 필요시에 일부 밸브를 조작하여 공정 재료 샘플을 분석기(20)로 보낼 수 있고, 한편으로 분석기 제어 신호(signal)를 분석기로 보낸다.FIG. 2 is a flowchart showing a process or a step of performing an inspection or analysis of an analyzer in a conventional supply apparatus. Referring to FIGS. 1 and 2, first, the
분석기는 분석기 제어 신호를 받으면 분석을 시작한다(S10). 분석기의 센서가 자신이 담당하는 공정 재료 샘플의 특성값을 측정하여 샘플 분석을 개시하고(S20), 그 측정 결과인 검사값을 도출하여 메인 장치의 콘트롤러로 전달하여 신호 피드백이 이루어진다(S30). 물론, 분석기는 공정 재료(샘플)의 여러 특성값에 대한 검사를 할 수 있도록 복수의 다양한 센서를 가질 수 있고, 각 센서는 자신이 담당하는 특성에 대한 검사 결과인 검사값을 도출하여 메인 장치로 보낼 수 있다. Upon receiving the analyzer control signal, the analyzer starts the analysis (S10). The sensor of the analyzer measures the characteristic value of the process material sample that it is responsible for and starts analyzing the sample (S20), derives the inspection value as the measurement result, and transmits it to the controller of the main device to perform signal feedback (S30). Of course, the analyzer may have a plurality of various sensors to inspect various characteristic values of the process material (sample), and each sensor may derive an inspection value, which is the inspection result of the characteristic can send.
메인 장치에서는 측정 결과인 검사값을 분석하여(S40) 미리 정해진 정상 범위를 벗어나면 공정 재료가 이상이 있다는 경고 신호를 발생시켜(S50) 공정 재료 공급장치의 담당자 혹은 엔지니어가 문제 해결을 하도록 하고(S60)), 경우에 따라 경고 신호가 바로 공정 재료 공급을 중단시키는 셧다운 신호가 될 수도 있다.The main device analyzes the inspection value as a measurement result (S40), and if a predetermined normal range is exceeded, a warning signal indicating that the process material is abnormal is generated (S50) so that a person in charge of the process material supply device or a technician can solve the problem S60)), and in some cases the warning signal may be a shutdown signal to interrupt the process material supply.
일반적 공정의 경우, 일단 공정을 중단하고 이상 발생 요소 각각에 대해 조사를 하여 무엇이 원인인지를 공정 엔지니어들이 개입하여 찾고, 그 원인을 제거한 후 다시 공정을 진행시키게 된다.In the case of a general process, once the process is stopped and each of the anomalous elements is investigated, the process engineers intervene to find out what is the cause, remove the cause, and proceed the process again.
측정 결과가 정상인 경우나, 문제 해결이 완료된 경우, 다음 회차의 분석을 위해 대기하게 된다(S70).When the measurement result is normal or when the problem solving is completed, the process waits for analysis of the next turn (S70).
그러나, 최근의 많은 첨단화된 자동 설비들에서 고부가가치 제품을 제조하는 경우가 많고, 일부 설비는 일관적인 작업이 필요하여 공정 중단이 곧바로 큰 손실을 유발할 수 있다. 만약 단순한 분석기 센서 이상으로 실제로 설비나 공정 재료에 아무 문제가 없는 공정을 중단시킨 것이라면 헛되이 비용과 시간을 낭비한 것이 된다.However, in many modern automated facilities, there are many cases where high value-added products are manufactured, and some facilities require consistent work, which can cause immediate disruption of the process. If the process was stopped by a simple analyzer sensor and without any problems with the equipment or process material, it would be wastelessly costly and time consuming.
따라서 이런 상황을 고려하면 최대한 공정을 중단하지 않은 상태로 공정 이상의 원인이 무엇인지 파악하고, 공정 중단이 꼭 필요한 경우, 최소한도로 중단 시간을 줄여 문제를 해결하는 것이 절실히 요청된다.Therefore, it is urgently required to identify the cause of the process abnormality without stopping the process as much as possible, and to solve the problem by at least reducing the downtime when the process interruption is absolutely necessary.
한편, 종래에는 분석기 센서의 측정 결과인 검사값이 허용 범위를 벗어나 공정 재료에 이상이 있다는 신호가 오면 엔지니어가 투입되어 메인 장치와 분석기 및 원료를 각각 검사하면서 분석기 검사에서는 일정한 센서 확인 메뉴얼에 따라 혹은 엔지니어의 장기간의 경험에 의한 각자의 방식으로 센서의 이상 유무를 확인하였다. 이런 방식들 내에서 센서의 감지 항목이 여러 가지인 경우, 여러 항목별 센서의 검사값의 추이를 관찰하고 검사값들 사이의 연관관계를 이용하기도 한다. Meanwhile, in the past, when a signal indicating that the inspection value of the analyzer sensor is out of the allowable range and there is an abnormality in the process material, an engineer is inputted and the main device and the analyzer and the raw material are respectively inspected. The sensor's abnormality was confirmed by each engineer's long-term experience. If there are many sensor items in these methods, we can observe the change of the inspection value of various items and use the correlation between the inspection values.
그러나, 이런 경우에도 엔지니어가 분석기에 접근하여 확인하는 데까지 상당 시간이 걸리는 문제가 있었고 경험이 많지 않은 엔지니어의 경우, 잘못된 판정을 내릴 가능성도 커서 공정 손실을 가중시킬 수 있다.However, even in this case, it takes a long time for the engineer to access and confirm the analyzer, and for an inexperienced engineer, there is a high possibility of making a false judgment, which can increase the process loss.
결국, 종래의 공정 이상 신호에 대한 대응 방식은 처리 지연의 가능성이라는 시간의 문제와 부정확성의 문제가 함께 공존하고 공정 비용을 증가시키는 문제가 있었고, 이상과 같은 문제를 해결하는 것이 쉽지 않았고 문제가 발생하여도 설비 운영을 위해 어쩔 수 없이 발생하는 문제로 보고 대처시간을 줄이는 데 주력하고 있는 실정이었다. As a result, a conventional method of responding to an abnormal process signal has a problem of a time lag and a problem of inaccuracy both of which are possibilities of processing delay, and there is a problem of increasing the process cost. It is not easy to solve the above problems, Even though it is a problem that is inevitable for the operation of the facility, it is focused on reducing the time to cope.
한편, 검사기 센서의 대상물에 대한 검사값(측정값) 외에 측정 대상이 없는 상태로 혹은 순수(deionized water)나 질소 가스 등 그 측정값이 일정한 물질을 센서에 흘리면서 측정을 하여 센서 자체의 상태 신호 출력이 이루어질 수 있다. 이러한 센서의 출력(신호)은 대기상태, 측정상태, 검증상태와 같은 기기 상태와 상관없이 실시간으로 출력될 수 있다. 그러나 기기 상태에 따른 센서 신호 변화가 크고, 또한, 이 출력은 아날로그 신호의 형태로 제공되며 센서 측정값 변화에 대한 원인을 정확히 제공하지는 못하고 있다.On the other hand, in addition to the inspection value (measured value) of the object of the tester sensor, measurement is performed while flowing a substance having a constant measurement value such as deionized water or nitrogen gas, Can be achieved. The output (signal) of such a sensor can be output in real time regardless of the state of the device such as the standby state, the measurement state, and the verification state. However, the change of the sensor signal according to the state of the device is large, and the output is provided in the form of an analog signal and does not accurately provide the cause of change in the sensor measurement value.
이러한 이유로 기존에 센서 상태 신호를 관리하여 분석기 내의 센서의 불량 여부나 분석 결과 혹은 측정값의 이상 유무를 판단하는 것은 한계가 있고, 이 신호를 공정 관리에 제대로 사용하지 못하는 실정이다.For this reason, there is a limitation in determining whether there is a defect in the sensor in the analyzer or an analysis result or an abnormality in the measurement value by managing the sensor state signal, and the signal can not be used properly in the process management.
한편, 분석기에서 센서가 검사를 수행하면서 검사 대상에 대한 이상 신호가 검출될 때 이상의 상당 부분은 측정 센서의 오동작과 연관되고, 센서의 오동작의 원인 중 상당 부분은 센서나 분석기의 오염에 의한 것으로 알려져 있다.On the other hand, when the sensor is performing the inspection in the analyzer, a large part of the abnormality is detected when the abnormality signal is detected to the inspection object, and the malfunction of the sensor is related to the malfunction of the sensor. have.
도3은 종래의 공정 재료 공급장치에서 공정 재료에 대한 시간에 따른 센서 측정값 변화(실선 표시)와 이 측정값의 허용범위(공정 관리 spec)를 나타내면서 향후 본 발명과의 비교를 위해 표준 재료에 대한 시간에 따른 측정값인 센서 상태 신호의 변화(점선 표시)와 이 센서 상태 신호의 허용범위(sensor signal 관리 spec)를 함께 나타내는 예시적 그래프이다. Fig. 3 is a graph showing changes in sensor measurement values (solid line) over time for process materials in a conventional process material supply apparatus and a tolerance range (process control spec) of these measurement values, (Dotted line) of the sensor status signal, which is a measurement value according to time, and an allowable range (sensor signal management spec) of the sensor status signal.
도3을 참조하면 센서 상태 신호는 공정 재료 샘플에 대한 검사를 거듭하면서 센서 자체의 오염도가 심해지면서 변화하는 것으로 볼 수 있고, 공정 재료에 대한 센서의 측정값에서 센서 자체의 추이적 상태 변화를 나타내는 센서 상태 신호의 영향을 추정할 수 있다. 가령, 공정 재료 샘플에 대한 센서의 검사값은 센서의 상태 변화에 의해 실제 샘플의 상태를 나타내지 못하며, 현재의 센서가 측정한 결과 값에서, 센서 상태 신호가 초기에서 현재까지 점차 오염되면서 변화한 추이적 변화값을 뺀 것이 실제 샘플의 상태를 제대로 나타내는 검사값이라고 추정할 수 있으며, 따라서 센서의 검사값이 공정 재료에 대한 검사값 허용범위를 벗어난 것이라도 센서의 상태 변화를 고려하면 공정 재료는 이상이 없는 것으로 볼 수 있다.Referring to FIG. 3, the sensor status signal can be seen to change with increasing contamination degree of the sensor itself while repeatedly inspecting the sample of the process material. The sensor status signal indicates the change in the state of the sensor itself The influence of the sensor state signal can be estimated. For example, the inspection value of the sensor for the process material sample can not represent the state of the actual sample due to the state change of the sensor, and the sensor state signal is changed from the initial state to the present state, It can be assumed that the value obtained by subtracting the enemy change value is an inspection value that accurately represents the state of the actual sample. Therefore, even if the inspection value of the sensor is out of the allowable inspection range for the process material, As shown in Fig.
따라서, 센서의 상태를 확인하여 센서 상태가 허용 수준을 벗어나는 것을 계속적으로 체크하고, 그 값이 허용 수준을 벗어나는 경우, 센서나 분석기의 오염을 간단한 방법으로 제거할 수 있다면, 분석기 이상 신호 발생을 억제할 수 있고, 분석기 이상 신호 검출시에도 먼저 센서 상태를 확인하여 허용 범위를 벗어난다고 판단되는 경우, 간단한 오염 제거 과정을 거친 후 다시 검사 대상을 검사하여 분석기의 처음 검사값을 다시 검증하는 기회를 가질 수 있고, 상당히 많은 경우에 있어서 공정 중단을 억제, 방지할 수 있는 좋은 해결책이 될 수 있을 것이다. Therefore, if you can check the status of the sensor and continuously check that the sensor status is out of tolerance, and if the value is out of tolerance, you can simply remove the sensor or analyzer contamination, If the sensor status is checked even if the analyzer abnormality signal is detected and if it is determined that the sensor status is out of the allowable range, then there is a chance that the first inspection value of the analyzer is again verified by inspecting the object again after simple decontamination process And it can be a good solution to suppress and prevent the process interruption in a considerable number of cases.
본 발명은 상술한 공정 재료 공급장치에서 이상 신호가 발생하는 경우, 이상 발생의 원인을 정확히 단시간 내에 확인하기 어렵고 그에 따라 공정 재료 공급이 중단되고 재개되기까지 시간이 많이 걸리는 문제, 원인에 대한 부정확한 판단 및 대처로 인한 손실 확대가 발생하는 문제점을 해결하기 위한 이상 원인 진단, 처치 방법과 그에 적합한 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a process material supply apparatus and a process material supply apparatus which are capable of accurately detecting the cause of an abnormality in a short period of time when an abnormality signal is generated in the process material supply apparatus, And to provide an apparatus for diagnosing an abnormal cause and a treatment method for solving the problem that the loss due to judgment and countermeasure occurs, and an apparatus suitable for the diagnosis.
본 발명은 공정 재료가 공급되면서 분석기 센서의 검사값을 통해 이상 신호가 도출되는 경우 신속하게 그리고 경우에 따라 엔지니어의 출동 및 판단에 의한 조치 시간 없이도 공정 재료 분석기 센서 이상을 즉각적으로 판단하여 신뢰성 있는 공정 이상 원인을 진단할 수 있고, 검사값의 이상이 분석기 내부 오염에 경우에 따른 것일 때 간단히 분석기 센서의 상태를 정상화시킬 수 있는, 센서 신호에 의한 오염 여부 자동 진단 및 클리닝 방법 및 그에 적합한 공정 재료 공급장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention can promptly determine the abnormality of the process material analyzer sensor when the abnormality signal is derived from the inspection value of the analyzer sensor while the process material is being supplied, Automatic diagnosis and cleaning method of contamination by sensor signal which can diagnose the cause of abnormality and can normalize the condition of the analyzer sensor when the abnormality of the inspection value is in accordance with the case of internal contamination of the analyzer And an object of the present invention is to provide a device.
본 발명은 기존에 공정 재료 공급장치에서 관리 수단으로 충분히 이용하지 못하고 있던 센서 자체의 상태 신호를 이용하여 공정 재료 공급장치의 관리를 기존에 비해 효율적으로 하여 공정 재료 측정값이 이상이 있을 때, 종래보다 신속하고 정확한 대응을 할 수 있도록 하는 센서 신호에 의한 오염 여부 자동 진단 및 클리닝 방법 및 그에 적합한 공정 재료 공급장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to a method and apparatus for controlling a process material supply apparatus using a state signal of a sensor itself which has not been sufficiently utilized as a management means in a process material supply apparatus, The present invention also provides a method of automatically diagnosing and cleaning contamination by a sensor signal and a process material supply device suitable for the method.
이하 도면을 참조하면서 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 방법은,BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects,
공정 재료를 제조하여 공정으로 공급하는 메인 장치와 공정 재료 샘플을 메인 장치에서 공급받아 이상 여부를 확인하는 센서를 구비하는 분석기를 가지는 공정 재료 공급장치에서 센서 상태 신호가 정해진 센서 관리용 일정 범위를 벗어나면 센서의 이상이라고 판단하고 우선 센서 클리닝 신호를 발생시켜 클리닝을 실시하는 것을 특징으로 한다.In a process material supply device having an analyzer having a main device for manufacturing a process material and supplying it to the process and a sensor for receiving the process material sample from the main device and confirming the abnormality, the sensor status signal is out of a predetermined range for sensor management It is determined that there is an abnormality in the surface sensor, and first, the cleaning is performed by generating a sensor cleaning signal.
본 발명 방법에서 클리닝이 이루어진 후에 추가 측정을 통해 계속 센서의 이상이 판단되면, 즉, 클리닝이 제대로 실시되지 않았다고 판단되는 경우, 센서 교체 신호를 보내는 후속 단계가 더 이어질 수 있다. In the method of the present invention, if a further sensor is determined to be abnormal by the additional measurement after the cleaning is performed, that is, if it is judged that cleaning has not been performed properly, a further step of sending a sensor replacement signal may be continued.
본 발명 방법에서 센서 상태 신호가 센서 관리용 일정 범위를 벗어나는 것은 베이스 라인으로서 표준 재료을 공급하면서 센서 상태 신호를 획득하는 방식으로 이루어질 수 있다.In the method of the present invention, a sensor state signal deviating from a certain range for sensor management can be achieved by acquiring a sensor state signal while supplying a standard material as a base line.
표준 재료을 이용하여 센서 상태 신호를 측정하는 것도 예방적 방식과 측정값 이상 발생시 문제를 해결하기 위해 문제시 해결 방식으로 나누어 볼 수 있다. 이때, 공정 재료 공급장치가 공정 재료 샘플에 대한 측정값 이상과 상관없이 일정 주기로 분석기에 표준 재료를 공급하여 센서 신호가 센서 관리용 일정 범위를 벗어나는지 확인하고 벗어나면 바로 센서 클리닝을 실시하는 방법이 예방적 방식이고, 공정 재료 샘플을 공급하면서 센서로 측정한 측정값 이상이 일단 발생하면 베이스라인 모드로 바꾸어 표준 재료을 공급하고, 표준 재료에 대한 센서 상태 신호가 센서 관리용 일정 범위를 벗어나면 센서 클리닝을 실시하는 것이 문제시 해결 방식이다.Measurements of sensor status signals using standard materials can also be divided into prophylactic methods and problem solving methods to solve problems when measurement values are exceeded. In this case, the process material supply device supplies the standard material to the analyzer at regular intervals irrespective of the measured value for the process material sample, and checks whether the sensor signal is out of a certain range for sensor management. If the sensor state signal for the standard material is out of a certain range for sensor management, the sensor cleaning may be performed. Is a problem-solving method.
본 발명에서 베이스 라인으로서 표준 재료에 대한 센서의 측정값을 센서 상태 신호로 이용하는 경우, 표준 재료에 대한 센서 측정값에 의한 센서 관리는 공정 재료에 대한 센서 측정값 허용 범위 내에서 더 좁게 운영하는 것, 공정 재료 이상을 판별하는 센서 측정값 허용 범위에 비해 상한은 작고 하한은 큰, 좁은 범위를 기준으로 센서 이상 여부를 결정하는 것이 바람직하다. In the present invention, when using sensor measurement values for a standard material as a baseline as a sensor status signal, sensor management by sensor measurements for standard materials may be performed more narrowly within sensor measurement tolerances for process materials , It is preferable to determine whether or not the sensor is abnormal based on the narrow range of the upper limit and the lower limit of the sensor measurement value tolerance range for discriminating the process material abnormality.
본 발명의 장치는 공정 재료 공급장치의 일반 구성인 메인 장치와 분석기에 더하여, 메인 장치와 분석기 사이에서 신호와 물질 전달을 매개하는 자동클리닝 모듈과, 메인 장치 콘트롤러의 제어 신호에 의해 분석기에 공정 재료 샘플 대신 표준 재료을 공급하는 표준 재료 공급부와 센서 클리닝액 공급부를 더 구비하고, The apparatus of the present invention comprises an automatic cleaning module that mediates signals and mass transfer between the main device and the analyzer, in addition to the main device and the analyzer, which are general components of the process material supply device; A standard material supply unit for supplying a standard material instead of the sample, and a sensor cleaning liquid supply unit,
분석기 표준 재료에 의한 분석기 출력 혹은 센서 상태 신호를 근거로 센서의 이상이라고 판정되는 경우, 자동클리닝 모듈의 제어 신호에 의해 표준 재료 대신에 센서 클리닝액 혹은 세정액을 공급하여 세정을 실시할 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 한다. The sensor cleaning liquid or the cleaning liquid is supplied instead of the standard material by the control signal of the automatic cleaning module when it is determined that the sensor is abnormal based on the analyzer output by the analyzer standard material or the sensor status signal .
본 발명에 따르면 공정 재료가 공급되면서 이루어지는 다양한 공정에서 이상이 발생하는 경우에 이상 발생의 원인을 정확히 단시간 내에 확인할 수 있고, 분석기 내 오염 가능성이 있는 경우 세정액 공급을 통해 분석기를 정상화 시도를 할 수 있으므로, 전체적으로 공정 회복 시간을 단축시킬 수 있으며 부정확한 대처로 인한 손실 확대를 억제할 수 있다.According to the present invention, it is possible to accurately identify the cause of the abnormality in a short period of time in the case where an abnormality occurs in various processes performed by supplying the process material, and when the analyzer is likely to be contaminated, the analyzer can be attempted to be normalized by supplying the cleaning liquid , The overall process recovery time can be shortened and the loss increase due to inaccurate countermeasures can be suppressed.
본 발명에 따르면 공정에서 이상이 발생할 때 짧은 시간 내에 엔지니어의 출동 및 판단에 의한 조치 시간 없이도 센서 이상 여부를 높은 정확도로 즉각적으로 판단하고 그에 적합한 대처를 함으로써 공정 효율을 높일 수 있다.According to the present invention, when an abnormality occurs in a process, the process efficiency can be improved by promptly determining the abnormality of the sensor with high accuracy and coping with the abnormality without the action time by the engineer and judgment within a short time.
도1은 종래의 공정 재료 공급 장치 구성을 간략화하여 나타내는 박스 다이어그램 형태의 구성 개념도,
도2는 종래의 공정 재료 공급장치에서 이루어지는 각 작용 단계의 흐름을 나타내는 흐름도,
도3은 종래의 공정 재료 공급장치에서 공정 재료에 대한 시간에 따른 센서 측정값 변화와 이 측정값의 허용범위를 나타내면서 비교를 위해 표준 재료에 대한 시간에 따른 측정값인 센서 상태 신호의 변화와 이 센서 상태 신호의 허용범위를 예시적으로 나타내는 그래프,
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 재료 공급장치 구성을 나타내는 구성 개념도,
도5는 도4와 같은 공정 재료 공급장치에서 이루어지는 각 작용 단계의 흐름을 나타내는 예시적 흐름도,
도6은 본 발명의 일 실시예에 따라 센서 검사값이 허용범위를 넘는 공정 이상 발생 시점에서 센서 클리닝을 실시하여 센서 검사값 및 센서 상태 신호를 변화시킨 경우의 도5 그래프의 변화 형태를 예시적으로 나타내는 그래프,
도7은 본 발명의 다른 실시예에 따라 예방적으로 센서 검사값 이상 발생을 저지하는 경우의 센서 검사값(실선) 및 센서 상태 신호(점선) 변화를 나타내는 그래프,
도8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 공정 재료 공급장치 구성을 나타내는 구성 개념도이다.FIG. 1 is a block diagram of a configuration of a conventional process material supply device, and FIG.
2 is a flow chart showing the flow of each action step in the conventional process material supply device,
3 is a graph showing changes in sensor measurement values over time for a process material in a conventional process material supply apparatus and a change in a sensor status signal, which is a time- A graph exemplarily showing an allowable range of the sensor status signal,
Fig. 4 is a configuration diagram showing a process material supply device configuration according to an embodiment of the present invention,
Fig. 5 is an exemplary flow chart showing the flow of each action step in the process material supply apparatus shown in Fig. 4,
FIG. 6 is a graph illustrating a change in the graph of FIG. 5 when the sensor check value and the sensor status signal are changed by performing sensor cleaning at the time when a process abnormality occurs in which the sensor check value exceeds the allowable range according to an embodiment of the present invention. Lt; / RTI >
FIG. 7 is a graph showing changes in sensor test values (solid lines) and sensor status signals (dotted lines) in the case where the abnormality of the sensor test value is prevented in a preventive manner according to another embodiment of the present invention,
8 is a configuration diagram showing a configuration of a processing material supply apparatus according to another embodiment of the present invention.
이하 도면을 참조하면서 구체적 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도4는 본 발명의 일 실시예를 이루는 공정 재료 공급장치의 일 실시예를 나타내는 간략화된 구성 개념도이며, 도5는 도4와 같은 공정 재료 공급장치에서 이루어지는 이상 신호 발생시 그 진단과 조치 방법이 이루어지는 각 단계들을 나타내는 예시적 흐름도이다.FIG. 4 is a simplified configuration conceptual diagram showing an embodiment of a process material supply apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a flowchart of a process material supply apparatus as shown in FIG. Figure 2 is an exemplary flow chart illustrating each step.
도면을 참조하여 설명하면, 본 실시예의 공정 재료 공급장치는 공정 재료를 만들어 공정에 공급하는 메인 장치(10)와, 메인 장치(10)에서 만들어진 공정 재료샘플을 샘플 라인(13)으로 받아 센서로 분석하여 관리 대상 특성 값을 획득하는 분석기(20), 메인 장치와 분석기 사이에서 신호 및 물질의 흐름을 매개하며, 한편으로 센서 이상 판단시 센서에 대한 클리닝을 실시하도록 하는 자동클리닝 모듈(30), 자동클리닝 모듈(30)의 제어신호(35)에 의해 공정 재료 샘플과 선택적으로 표준 재료를 대체공급할 수 있도록 하는 표준 재료 공급부(40), 표준 재료와 선택적으로 센서 클리닝액을 대체 공급할 수 있는 센서 클리닝액 공급부(60)를 구비하여 이루어진다.The process material supply apparatus of the present embodiment includes a
센서에 대해 공정 재료의 공급, 표준 재료의 공급 및 센서 클리닝액의 공급을 선택적으로 실시하기 위해 여기서는 자동클리닝 모듈(30)의 제어 신호(35)에 의해 운용되는 두 개의 3웨이 밸브(37, 38)가 설치된다.
먼저 제1 3웨이 밸브(38)의 두 가지는 표준 재료 공급부(40)와 센서 클리닝액 공급부(60)에 각각 연결되며, 제2 3웨이 밸브(37)의 두 가지는 제1 3웨이 밸브(38)의 나머지 한 가지(출력측 가지) 및 메인 장치(10)의 공정 재료 샘플 라인(13)과 연결되고, 제2 3웨이 밸브(37)의 나머지 가지(출력측 가지)는 분석기(20) 센서와 연결된다.Two of the first three
물론, 요소간 신호의 흐름을 전달하기 위한 신호선과 물질을 전달하기 위한 기타 공급라인이 함께 구비될 수 있다. Of course, signal lines for conveying the flow of signals between the elements and other supply lines for conveying the material may be provided together.
이런 공정 재료 공급장치에서는 메인 장치(10)가 원료공급부(1)의 원료를 받아 공정 재료를 만들고, 공급 라인(15) 및 샘플 라인(13)을 통해 공정(2) 및 분석기(20)에 공정 재료를 공급한다. 메인 장치의 콘트롤러는 제어신호를 발생시켜 신호선과 자동클리닝 모듈(30)을 통해(무선도 일종의 신호선으로 포함하는 것으로 함) 분석기(20)에 전달하여 공정 재료에 대한 검사, 측정이 이루어지도록 하고(S110), 이에 따라 분석기에서는 센서로 검사 측정이 이루어져 공정 재료 샘플 분석이 개시된다(S120).In such a process material supply apparatus, the
측정 결과인 검사값은 신호선(21)을 통해 자동클리닝 모듈로 전달되고, 판단된다(S130). 검사값이 정상 범위 내에 있는 것으로 판단되면 검사값은 바로 신호선(31)을 통해 메인 장치의 메인 콘트롤러로 전달되고 메인 장치에서는 분석기 제어신호 및 공정 재료 샘플 공급이 계속되어 다음 회의 측정이 이루어지도록 대기 상태가 된다(S200). The inspection result, which is a measurement result, is transmitted to the automatic cleaning module through the
측정 결과인 검사값이 자동클리닝 모듈(30)에 전달되어 허용 범위를 벗어난 이상 신호로 판단되면 자동클리닝 모듈은 우선 이상 원인이 무엇인지 알 수 없으므로 종전의 정상적인 공정 재료 검사값을 메인 장치로 보내어 메인 장치 정상 작동이 이루어지도록 하는 한편, 정상 모드를 베이스라인 모드로 전환하여 분석기에는 대상 재료 샘플 공급을 차단하고 표준 재료 공급부(40)에서 분석기(20)로 표준 재료가 공급되도록 한다(S141). If the inspection result, which is the measurement result, is transmitted to the
따라서 분석기에서는 표준 재료에 대한 분석기 센서의 측정이 이루어지고 검사값이 신호선(22)을 통해 일종의 센서 상태 신호로서 자동클리닝 모듈(30)에 전달되어 확인하게 된다(S143).Therefore, the analyzer measures the analyzer sensor with respect to the standard material, and the inspection value is transmitted to the
검사값이 센서 상태 신호에 대한 허용 범위 내에 있다면 자동클리닝 모듈(30)은 센서가 이상이 없는 것이라고 판단하여 이상 신호는 공정 재료 자체의 문제라고 판단하여 앞서 얻은 것으로 전달이 유보된 이상 신호 혹은 이상 검사값을 메인 장치(메인 콘트롤러)로 전달한다(S180). 이에 따라 메인 장치(10)에서는 공정 재료 이상을 알고 경보를 발생시키고(S190) 오퍼레이터나 엔지니어가 원료나 메인 장치의 믹서 등 공정 재료 제조 장치에 이상이 있는지 확인하고 문제 해결을 하도록 한다(S195).If the inspection value is within the allowable range for the sensor state signal, the
검사값이 센서 상태 신호에 대한 허용 범위를 벗어나는 경우, 자동클리닝 모듈(30)은 센서 자체의 이상이라 판단하고, 센서 교체 신호를 보내기 전에 일단 표준 재료 공급을 차단하고 이를 대체하여 센서 클리닝액을 센서에 공급하여 센서 이상 처리를 시도하게 된다(S145). 다음은 센서 이상 처리가 잘 되었는 지를 확인하기 위해 자동클리닝 모듈(30)은 공정 재료 샘플이나 표준 재료를 다시 분석기(20)에 보내 공정 재료나 표준 재료가 각각 그들에게 허용된 값의 범위에 있는지를 확인한다(S150). When the inspection value is out of the allowable range for the sensor state signal, the
만약 허용된 범위 내에 있다면 센서 이상은 치유된 것이라 판단하고 베이스라인 모드에서 정상 모드로 전환하여 공정 재료가 분석기에 계속 공급되고, 검사가 계속 이루어지도록 분석 대기 상태가 된다(S200).If it is within the allowable range, it is determined that the sensor abnormality is healed, and the base material mode is switched to the normal mode so that the process material is continuously supplied to the analyzer, and the analysis is waited for the analysis to continue (S200).
만약 허용된 범위를 계속 벗어난다면 센서 클리닝액에 의한 치유는 어렵다고 판단하여 신호를 발생시키고(S160), 오퍼레이터나 엔지니어가 센서 교체 등 조치를 취하도록 할 수 있다(S170).If the allowable range continues to be out of range, it is determined that the sensor cleaning solution is difficult to heal, and a signal is generated (S160) so that an operator or engineer can take measures such as sensor replacement (S170).
통상 이런 경우들에서 센서는 이상이 있지만 공정 재료는 이상이 없는 것이므로 공정 재료를 공정에 공급하는 메인 장치의 기능은 중단없이 계속될 수 있고, 공정 재료 공급 중단으로 인한 공정상의 손실은 효과적으로 방지될 수 있다.Normally, in these cases, the sensor is faulty, but the process material is intact, so that the function of the main device supplying the process material to the process can continue without interruption, and process losses due to interruption of process material supply can be effectively prevented have.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따라 종래의 도3의 공정 이상 발생 시점에서 표준 재료를 공급하고 센서 상태 신호를 확인하여 센서 클리닝을 실시하는 경우의 센서 상태 신호 및 공정 재료 검사값의 변화 형태를 예시적으로 나타내는 그래프이다.FIG. 6 is a graph illustrating changes in sensor state signals and process material inspection values in the case of performing sensor cleaning by supplying a standard material at a point of occurrence of a process abnormality in the prior art FIG. 3 and confirming a sensor status signal according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG.
여기서는 센서 상태 신호와 공정 재료에 대한 센서 검사값이 센서 클리닝을 통해 줄어든 값만큼 그대로 화살표 방향으로 평행이동하여 센서 검사값이 정상적인 공정 관리 범위(허용 범위) 내에 있으며, 따라서 원래부터 공정 재료에는 이상이 없었고, 공정 재료의 공급 및 본 공정을 중단할 필요가 없음을 나타내고 있다.In this case, the sensor check value for the sensor status signal and the process material moves parallel to the arrow direction as much as the value reduced by the sensor cleaning, so that the sensor check value is within the normal process control range (allowable range) And it is not necessary to stop the supply of the process material and the process.
도7은 본 발명의 다른 실시예에 따라 예방적으로 센서 검사값 이상 발생을 저지하는 경우의 센서 검사값(실선) 및 센서 상태 신호(점선) 변화를 나타내는 그래프이다.FIG. 7 is a graph showing sensor test values (solid lines) and sensor status signals (dotted lines) change in the case where a sensor abnormality is prevented from occurring in a preventive manner according to another embodiment of the present invention.
여기서는 센서에 대해 주기적으로 표준 재료 등 일정 특성의 물질을 흘려주면서 센서 상태 신호를 파악하고, 그 변화 추이를 파악하여, 센서 상태 신호가 정상적 센서 관리 범위(sensor signal 관리 spec: 허용 범위)를 벗어나는 시점에서 자동으로 센서 클리닝액을 공급하면서 센서 자동 세척을 실시하여 센서 상태 신호 및 센서 검사값이 변화하고 이를 통해 센서 검사값이 공정 관리 범위(공정 관리 spec)를 벗어나지 않게 되어 이상 신호의 발생 자체가 예방되는 것을 알 수 있다.Here, the sensor state signal is grasped by periodically flowing a material having a predetermined characteristic such as a standard material, and the change of the sensor state signal is grasped. When the sensor state signal is out of the normal sensor management management range The sensor is automatically cleaned while supplying the sensor cleaning liquid, and the sensor status signal and the sensor inspection value are changed by the automatic sensor cleaning, so that the sensor inspection value does not deviate from the process control range (process management spec) .
도8은 본 발명 장치의 도4의 실시예와 다른 실시예를 나타내는 구성 개념도이다.Fig. 8 is a structural conceptual diagram showing an embodiment different from that of Fig. 4 of the inventive device.
여기서는 도4의 실시예와 비교할 때, 표준 재료 공급부(40)에 더하여 순수 공급부(50)가 더 구비되고, 표준 재료 공급부(40)와 순수 공급부(50)는 별도의 제3 3웨이 밸브(39)의 두 입력측에 연결되고, 이 3웨이 밸브(39)의 출력측은 센서 클리닝액 공급부(60)와 함께 제1 3웨이 밸브(38)의 두 입력측과 연결된 형태를 가진다. 4, a pure
즉, 센서에 대해 공정 재료의 공급, 표준 재료의 공급, 순수의 공급 및 센서 클리닝액의 공급을 선택적으로 실시하기 위해 여기서는 자동적정용 모듈(30')의 제어 신호에 의해 운용되는 두 개의 3웨이 밸브(37, 38)에 더하여 하나의 3웨이 밸브(39)가 더 설치된다.That is, in order to selectively supply the process material to the sensor, to supply the standard material, to supply the pure water, and to supply the sensor cleaning liquid, two three-way
여기서 먼저 제3 3웨이 밸브(39)의 입력측의 두 가지는 표준 재료 공급부(40)와 순수 공급부(50)에 연결되고, 이 제3 3웨이 밸브(39)의 출력측은 센서 클리닝액 공급부(60)와 함께 제1 3웨이 밸브(38)의 두 입력측과 연결된 형태를 가진다. Two input sides of the third three
제2 3웨이 밸브(37)의 입력측 두 가지는 제1 3웨이 밸브(39)의 나머지 한 가지인 출력측 및 메인 장치(10)의 공정 재료 샘플 라인(13)과 연결되고, 제2 3웨이 밸브(37)의 나머지 가지인 출력측은 분석기(20) 센서와 연결된다.Two input sides of the second three
이런 구성은 도4의 구성보다 현실에 가까운 구성으로, 공정 재료 차단 후에 바로 표준 재료를 공급하면 분석기 내에 잔류한 공정 재료가 표준 재료와 섞여 정확한 결과를 얻지 못할 수 있으므로 공정 재료 차단 후에 먼저 순수를 분석기로 보내 분석기 내부의 공정 재료를 세정하고, 세정이 충분히 이루어지면 표준 재료를 공급하여 정확한 검사가 이루어지도록 한 것이다. 4, when the standard material is supplied immediately after the process material is cut off, the process material remaining in the analyzer may not be mixed with the standard material to obtain accurate results. Therefore, after the process material is cut off, To clean the process material inside the analyzer, and when the cleaning is sufficiently performed, the standard material is supplied to perform accurate inspection.
이런 차이를 제외하면 다른 구성이나 진행 흐름은 도4에 따른 앞선 실시예의 경우와 동일하게 이루어질 수 있다. With the exception of these differences, other configurations and proceeding flows can be made in the same manner as in the previous embodiment according to FIG.
물론, 앞선 실시예에서도 표준 재료를 충분한 시간 동안 흘려서 표준 재료가 앞선 공정 재료를 충분히 퍼지(purge)한 후에 정확한 검사값을 얻을 수 있지만 표준 재료 및 시간의 낭비가 있을 수 있다. Of course, even in the previous embodiments, the standard material may be allowed to flow for a sufficient amount of time so that the standard material can purge the preceding process material sufficiently before the correct inspection value can be obtained, but there may be a waste of standard material and time.
또한, 이런 구성을 이용하는 경우, 앞선 실시예에서는 센서 상태 신호를 표준 재료에 맞추어 측정하고, 센서 상태 신호 허용범위를 설정하였지만, 센서 상태 신호를 표준 재료에 맞추지 않고 순수에 맞추어 측정하고 센서 상태 신호 허용범위를 설정하는 것도 가능하게 된다. 이는 이론적으로 센서 상태 신호가 반드시 표준 재료를 기준으로 할 필요는 없고 특성 측정값이 일정하게 유지되는 것이면 가능하기 때문이다. 따라서 순수와 표준 재료 가운데 더 현실적으로 센서 상태를 잘 나타내는 것을 선택하여 사용하면 된다. In the above embodiment, the sensor state signal is measured according to the standard material and the sensor state signal tolerance range is set. However, the sensor state signal can be measured to pure water without matching to the standard material, It is also possible to set a range. This is because it is theoretically possible that the sensor state signal does not necessarily have to be based on a standard material and that the characteristic measurements remain constant. Therefore, it is possible to select the pure water and the standard material that more accurately represent the sensor state.
이상에서는 한정된 실시예를 통해 본 발명을 설명하고 있으나, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위해 예시적으로 설명된 것일 뿐 본원 발명은 이들 특정의 실시예에 한정되지 아니한다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.
따라서, 당해 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명을 토대로 다양한 변경이나 응용예를 실시할 수 있을 것이며 이러한 변형례나 응용예는 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다. Accordingly, those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims.
1: 원료공급부 10: 메인 장치
20: 분석기 30, 30': 자동클리닝 모듈
37, 38, 39: 3웨이 밸브 40: 표준 재료 공급부
50: 순수 공급부 60: 센서 클리닝액 공급부1: raw material supply part 10: main device
20:
37, 38, 39: 3-way valve 40:
50: pure water supply unit 60: sensor cleaning liquid supply unit
Claims (6)
상기 센서의 출력의 하나인 센서 상태 신호가 소정의 센서 관리용 허용 범위를 벗어나면 상기 센서의 이상이라고 판단하고 센서 클리닝 신호를 발생시켜 상기 센서에 대한 클리닝을 실시하되
상기 센서 상태 신호는 상기 표준 재료에 대한 상기 센서의 측정 결과(검사값)으로 하고,
상기 센서 관리용 허용 범위는 상기 공정 재료에 대한 상기 센서의 측정 결과의 이상 여부 판단을 위한 검사값 허용 범위 내에서 검사값 허용 범위보다 좁게 설정하여 운영하며,
상기 표준 재료을 이용하여 상기 센서 상태 신호를 측정함에 있어서,
상기 공정 재료 샘플을 공급하면서 상기 센서로 측정한 검사값이 상기 검사값 허용범위를 벗어나면
상기 자동클리닝 모듈이 상기 공정 재료 샘플 공급을 중단하고 상기 표준 재료을 공급하면서 상기 표준 재료에 대한 상기 센서 상태 신호가 상기 센서 관리용 허용 범위를 벗어나면 상기 센서에 대한 클리닝을 실시하는 것을 특징으로 하는 센서 신호에 의한 오염 여부 자동 진단 및 클리닝 방법.An analyzer having a main device for manufacturing a process material and supplying the process material to the process, and a sensor for receiving a sample of the process material from the main device and confirming the abnormality, a standard material supply unit for supplying a standard material to the analyzer, A sensor cleaning liquid supply unit for providing a sensor cleaning liquid, an agent for mediating substances and signals between the main apparatus and the analyzer, and for automatically sending the process material sample, the standard material, and the sensor cleaning liquid to the analyzer In a process material supply device having a cleaning module
If the sensor status signal, which is one of the outputs of the sensor, deviates from a predetermined allowable range for sensor management, it is determined that the sensor is abnormal and a sensor cleaning signal is generated to perform cleaning on the sensor
Wherein the sensor status signal is a measurement result (inspection value) of the sensor with respect to the standard material,
Wherein the allowable range for the sensor management is set to be narrower than the allowable range of the inspection value within the inspection value allowance range for determining whether the measurement result of the sensor for the process material is abnormal,
In measuring the sensor status signal using the standard material,
When the inspection value measured by the sensor while supplying the process material sample is out of the inspection value allowable range
The automatic cleaning module stops supplying the process material sample and performs cleaning for the sensor when the sensor status signal for the standard material is out of the allowable range for the sensor management while supplying the standard material. Automatically diagnose and clean by signal.
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|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023183301A1 (en) * | 2022-03-24 | 2023-09-28 | Buckman Laboratories International, Inc. | System and method for retroactive and automated validation or corrective action with respect to online sensors |
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2019
- 2019-04-25 KR KR1020190048533A patent/KR101992747B1/en active IP Right Grant
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