KR101991948B1 - Wet Scrubber Apparatus - Google Patents

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    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact

Abstract

처리 효율을 향상시키고 파우더 증착에 의한 공정 관리 효율성의 저하를 방지할 수 있는 습식 스크러버 장치가 개시된다. 상기 스크러버 장치는 하우징을 구비하고, 상기 하우징 내부에 다수의 수직 격벽이 형성되는데, 상기 수직 격벽 중 적어도 하나의 상단은 상기 하우징의 커버에서 이격되고 하단은 상기 집수된 폐수의 수면 아래에 위치하고, 다른 수직 격벽의 하단은 상기 수면 위에 위치하여 상기 유입구로부터 상기 배기관까지 수직방향으로 지그재그로 직렬로 연결되는 흐름 통로를 형성한다.Disclosed is a wet scrubber apparatus capable of improving treatment efficiency and preventing deterioration of process control efficiency by powder deposition. The scrubber apparatus has a housing, and a plurality of vertical partitions are formed in the housing. At least one upper end of the vertical partitions is spaced apart from the cover of the housing and a lower end of the vertical partitions is located below the water surface of the collected wastewater. And a lower end of the vertical partition is positioned above the water surface to form a flow passage which is serially connected in a zigzag manner in a vertical direction from the inlet to the exhaust pipe.

Figure R1020170099209
Figure R1020170099209

Description

습식 스크러버 장치{Wet Scrubber Apparatus}WET SCRUBBER APPARATUS

본 발명은 습식 스크러버 장치에 관한 것으로, 특히 처리 효율을 향상시키고 파우더 증착에 의한 공정 관리 효율성의 저하를 방지하는 기술에 관련한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wet scrubber apparatus, and more particularly to a technique for improving process efficiency and preventing degradation of process control efficiency by powder deposition.

반도체 또는 LCD 제조 공정에서 발생하는 육불화에탄(C2F6), 사불화메탄(CF4), 육불화황(SF6), 삼불화질소(NF3) 및 삼불화메탄(CHF3) 등의 PFC(perfluorocompound) 가스는 적외선을 흡수하기 때문에 지구 온난화 지수가 매우 높고 대기 중에서 잔존 시간이 매우 긴 물질로, 이러한 PFC 가스의 방출을 줄이는 것이 반도체 또는 LCD 산업의 주요한 문제점이 되고 있다. (C 2 F 6 ), tetrafluoromethane (CF 4 ), sulfur hexafluoride (SF 6 ), nitrogen trifluoride (NF 3 ), and trifluoromethane (CHF 3 ) generated in a semiconductor or LCD manufacturing process PFC (perfluorocompound) gas absorbs infrared rays, and thus has a very high global warming index and an extremely long time in the atmosphere. Reducing such PFC gas emission is a major problem in the semiconductor or LCD industry.

이러한 PFC 가스 중 육불화황(SF6)과 삼불화메탄(CHF3)은 RPS(remote plasma source)에서 99% 분해되기 때문에 미량의 SF6과 CHF3이 나오고 나머지는 불화수소(HF)와 불소(F2)로 방출된다.These PFC gases in the methane trifluoride, and sulfur hexafluoride (SF 6) (CHF 3) is because the degradation of 99% in the RPS (remote plasma source) is a very small amount of SF 6 and CHF 3 coming out of the rest of hydrogen fluoride (HF) and fluorine (F 2 ).

따라서, 미량의 SF6와 CHF3를 처리하기 위해서 히팅 방식의 스크러버 장치를 사용하거나 번(burn) 타입의 스크러버 장치를 사용하는 것은 오버 스펙(over spec)일 수 있다.Therefore, it is possible to use a heating type scrubber device or a burn type scrubber device to treat a small amount of SF 6 and CHF 3 , which may be over-spec.

그보다는 폐가스에 포함된 다량의 수용성 가스, 가령 HCl, Cl2, 또는 BCl3와 같은 수용성 가스를 다수의 습식 스크러버 장치로 처리하고 PFC 가스는 그대로 배출한 후 이들을 합하여 하나의 번 타입의 스크러버 장치로 처리한다면 처리 효율을 높일 수 있을 뿐만 아니라 관리비용을 획기적으로 줄일 수 있다.Instead, a large amount of water-soluble gas, such as HCl, Cl 2 , or BCl 3 , contained in the waste gas is treated with a number of wet scrubber devices and the PFC gas is discharged as it is and then combined to form a single type scrubber device The processing efficiency can be increased and the management cost can be drastically reduced.

따라서, 본 발명의 목적은 같은 크기에서 폐가스의 잔류시간을 늘려 폐가스의 처리 효율을 향상시키는 습식 스크러버 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a wet scrubber apparatus that improves the treatment efficiency of waste gas by increasing the residence time of waste gas at the same size.

본 발명의 다른 목적은 파우더 증착에 의한 공정 관리 효율성의 저하를 방지할 수 있는 습식 스크러버 장치를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a wet scrubber apparatus capable of preventing deterioration of process control efficiency by powder deposition.

본 발명의 다른 목적은 폐수를 용수로 재활용하면서 물 분사가 신뢰성 있게 이루어지고 관리비용을 줄일 수 있는 습식 스크러버 장치를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a wet scrubber apparatus capable of reliably discharging wastewater into water while reducing water consumption and reducing management costs.

상기의 목적은, 유입구에 폐가스가 공급되는 유입구가 형성되고 반대 측에 배기관이 설치되는 하우징을 구비하여 상기 폐가스를 물로 처리하여 배출하는 습식 스크러버 장치로서, 상기 하우징의 하부에는 상기 폐가스를 처리한 폐수가 집수되는 드레인 탱크를 형성되고, 상기 하우징 내부에는 다수의 수직 격벽이 형성되는데, 상기 수직 격벽 중 적어도 하나의 상단은 상기 하우징의 커버에서 이격되고 하단은 상기 집수된 폐수의 수면 아래에 위치하고, 다른 수직 격벽의 하단은 상기 수면 위에 위치하여 상기 유입구로부터 상기 배기관까지 수직방향으로 지그재그로 직렬로 연결되는 흐름 통로를 형성하고, 상기 흐름 통로에는 다수의 구멍이 형성되어 있어 상기 폐가스와 상기 물의 접촉 면적과 시간을 증가시키는 다수의 충전제가 이격 설치되고, 상기 흐름 통로의 상단에는 상기 물을 분사하는 분사노즐이 설치되어 상기 폐가스에 분사되는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 장치에 의해 달성된다.The above object is achieved by a wet scrubber apparatus for treating waste gas with water and having a housing provided with an inlet port through which waste gas is supplied to the inlet port and an exhaust pipe installed on the opposite side of the housing, Wherein at least one upper end of the vertical partition is spaced apart from the cover of the housing and a lower end of the vertical partition is positioned below the water surface of the water collecting wastewater, And a lower end of the vertical partition wall is formed on the water surface to form a flow passage which is serially connected serially in a zigzag manner from the inlet to the exhaust pipe in a vertical direction and a plurality of holes are formed in the flow passage so that the contact area between the waste gas and the water A number of fillers that increase time are spaced apart, Top of the flow passage, the spray nozzle for spraying the water is installed is achieved by a wet scrubber unit, it characterized in that the waste gas is injected.

바람직하게, 상기 드레인 탱크에 연결되는 펌프를 구비하고, 상기 펌프는 상기 드레인 탱크에 집수된 폐수를 상기 분사노즐에 공급할 수 있으며, 더욱 바람직하게, 상기 분사노즐은 스파이럴 노즐일 수 있다.Preferably, the pump includes a pump connected to the drain tank, and the pump can supply wastewater collected in the drain tank to the injection nozzle, more preferably, the injection nozzle can be a spiral nozzle.

바람직하게, 상기 드레인 탱크에 연결되는 펌프를 구비하고, 상기 펌프는 상기 드레인 탱크에 집수된 폐수를 상기 드레인 탱크에 다시 공급하여 상기 폐수를 교반하여 순환시킬 수 있다.Preferably, the pump further includes a pump connected to the drain tank, and the pump supplies the waste water collected in the drain tank to the drain tank to circulate the waste water by stirring.

바람직하게, 상기 유입구에 배관을 통하여 연결되는 매니폴드를 구비하고, 상기 유입구와 상기 매니폴드에는 각각 핫 N2가 공급되어 상기 폐가스에 함유된 파우더의 증착을 방지할 수 있으며, 더욱 바람직하게, 상기 배관에는 히팅 재킷(heating jacket)이 설치될 수 있다.Preferably, hot N 2 is supplied to the inlet and the manifold to prevent deposition of the powder contained in the waste gas, and more preferably, The piping may be equipped with a heating jacket.

상기한 구성에 의하면, 하우징 내부에 다수의 수직 격벽에 의해 형성되는 흐름 통로에 의해 폐가스가 경로 내에서 체류하는 시간을 증가시켜 수처리 횟수를 늘림으로써 처리효율을 향상시킬 수 있다.According to the above configuration, the processing time can be increased by increasing the number of times of the water treatment in the path by the flow path formed by the plurality of vertical partitions in the housing, thereby improving the treatment efficiency.

또한, 매니폴드나 유입구에 분사된 핫 N2 가스가 폐가스의 포함된 파우더가 온도차에 의해 매니폴드 내부 또는 유입구에 쌓이는 것을 방지하거나 적어도 쌓이는 속도를 최소화함으로써 장비 운영주기를 크게 늘려 생산 효율을 크게 할 수 있다.In addition, the hot N 2 gas injected into the manifold or the inlet minimizes the accumulation of the powder containing the waste gas in the manifold or the inlet port due to the temperature difference, .

용수를 공급하는 분사노즐로 스파이럴 노즐을 적용함으로써, 공급되는 물에 이물질이 포함되어도 잘 막히지 않고, 홀로우 콘(hollow cone) 형태로 물을 분사함으로써 폐가스와 접촉하는 면적을 넓게 하여 포집력을 증가시킬 수 있다.By applying a spiral nozzle to the spray nozzle that supplies the water, the water is sprayed in the form of a hollow cone without being clogged even if foreign matter is contained in the water to be supplied, thereby widening the area of contact with the waste gas, .

또한, 드레인 탱크에 집수된 폐수를 재활용하여 분사 노즐에 공급함으로써 별도의 용수를 공급할 필요가 없기 때문에 관리비용을 절감할 수 있다.In addition, since the wastewater collected in the drain tank is recycled and supplied to the injection nozzle, it is not necessary to supply additional water, so that the management cost can be reduced.

또한, 드레인 탱크에 집수된 폐수를 펌프로 드레인 탱크에 다시 공급하여 폐수를 교반하여 순환시킴으로써 드레인 탱크의 바닥에 침전되는 슬러지(부유 물질)가 폐수의 회전과 함께 순환됨으로써 슬러지의 침전을 억제하여 펌프가 막히는 것을 방지할 수 있다.Further, the wastewater collected in the drain tank is supplied again to the drain tank by the pump, and the wastewater is stirred and circulated, whereby the sludge (suspended matter) settled on the bottom of the drain tank is circulated together with the rotation of the wastewater, Can be prevented from clogging.

도 1은 본 발명의 스크러버 장치를 나타내는 구성도이다.
도 2는 스크러버 장치의 일 실시 예를 나타낸다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a scrubber apparatus according to the present invention. FIG.
Figure 2 shows an embodiment of a scrubber device.

본 발명에서 사용되는 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아님을 유의해야 한다. 또한, 본 발명에서 사용되는 기술적 용어는 본 발명에서 특별히 다른 의미로 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 의미로 해석되어야 하며, 과도하게 포괄적인 의미로 해석되거나 과도하게 축소된 의미로 해석되지 않아야 한다. 또한, 본 발명에서 사용되는 기술적인 용어가 본 발명의 사상을 정확하게 표현하지 못하는 잘못된 기술적 용어일 때에는, 당업자가 올바르게 이해할 수 있는 기술적 용어로 대체되어 이해되어야 할 것이다. 또한, 본 발명에서 사용되는 일반적인 용어는 사전에 정의되어 있는 바에 따라, 또는 전후 문맥상에 따라 해석되어야 하며, 과도하게 축소된 의미로 해석되지 않아야 한다.It is noted that the technical terms used in the present invention are used only to describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention. In addition, the technical terms used in the present invention should be construed in a sense generally understood by a person having ordinary skill in the art to which the present invention belongs, unless otherwise defined in the present invention, Should not be construed as interpreted or interpreted in an excessively reduced sense. In addition, when a technical term used in the present invention is an erroneous technical term that does not accurately express the concept of the present invention, it should be understood that technical terms can be understood by those skilled in the art. In addition, the general terms used in the present invention should be interpreted according to a predefined or prior context, and should not be construed as being excessively reduced.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 습식 스크러버 장치를 나타내는 구성도이고, 도 2는 스크러버 장치의 일 실시 예를 나타낸다.1 is a structural view showing a wet scrubber apparatus according to the present invention, and Fig. 2 shows an embodiment of a scrubber apparatus.

스크러버 장치(100)의 하우징(110)의 일측에 다수의 폐가스 배기관이 연결된 매니폴드(30)가 하우징(110)과 연통되어 설치되고, 반대 측에 배기관(170)이 설치된다. A manifold 30 connected to one side of the housing 110 of the scrubber apparatus 100 is connected to the housing 110 and an exhaust pipe 170 is installed on the opposite side.

상기한 것처럼, 매니폴드(30)를 통하여 유입되는 폐가스는 HCl, Cl2, 또는 BCl3와 같은 수용성 가스를 포함하며, 하우징(110) 내부에서 물로 처리되고 정화되어 배기관(170)을 통하여 외부로 배기된다.As described above, the waste gas introduced through the manifold 30 contains a water-soluble gas such as HCl, Cl 2 , or BCl 3 , is treated with water in the interior of the housing 110, purified and exhausted through the exhaust pipe 170 to the outside Exhausted.

하우징(110) 내부에는 다수의 수직 격벽(132, 142, 152)에 의해 폐가스가 흐르는 경로가 형성되는데, 정해진 체적 내에서 격벽(132, 142, 152)에 의해 이 경로를 연장함으로써 폐가스가 경로 내에서 체류하는 시간을 증가시킨다.A path through which the waste gas flows is formed by a plurality of vertical partitions 132, 142 and 152 in the housing 110. By extending this path by the partition walls 132, 142 and 152 within a predetermined volume, To increase the residence time.

특히, 격벽(142)의 하단은 드레인 탱크(111)의 수면 아래에 위치하고 상단은 커버에서 이격되며 다른 격벽(132, 152)의 하단은 모두 수면 위에 위치함으로써 폐가스가 수직방향에서 지그재그로 흐름 통로(130, 140, 150)를 따라 흐르도록 한다.Particularly, the lower end of the partition wall 142 is positioned below the water surface of the drain tank 111, the upper end thereof is spaced apart from the cover, and the lower ends of the other partition walls 132 and 152 are all located above the water surface, 130, 140, and 150, respectively.

도 2를 참조하면, 도 1과 달리, 격벽(152)을 격벽(142)에 직각으로 형성하여 폐가스가 흐르는 경로를, 화살표로 나타낸 것처럼, 입체적으로 구성할 수 있는데, 이러한 변형 구조에 의하면 너비를 줄여 더 작은 크기로 스크러버 장치(100)를 구현할 수 있다는 이점이 있다.Referring to FIG. 2, unlike FIG. 1, the partition wall 152 may be formed at right angles to the partition wall 142 so that a path through which the waste gas flows may be three-dimensionally configured as indicated by arrows. There is an advantage that the scrubber device 100 can be implemented with a reduced size.

<파우더 증착의 방지><Prevention of Powder Deposition>

반도체 공정 중 금속 에치 공정의 경우, 폐가스에 포함된 각질 형태의 파우더가 매니폴드(30)와 하우징(110)의 유입구(112)에 쌓여 폐가스의 흐름을 막기 때문에 주기적인 장비 청소가 필요하며, 그 결과, 장비 운영주기가 짧아짐으로써 생산효율이 감소하게 된다.In the case of a metal etch process during semiconductor processing, periodic cleaning of the equipment is necessary because the keratinous powder contained in the waste gas accumulates in the inlet 112 of the manifold 30 and the housing 110 to prevent the flow of the waste gas. As a result, production efficiency is reduced by shortening the equipment operation cycle.

이를 방지하기 위해, 하우징(110)의 측벽과 격벽(113)에 의해 형성되는 유입 통로(120)의 상단에 분사노즐(126)을 설치하여 핫 N2 가스를 분사한다. In order to prevent this, an injection nozzle 126 is provided at the upper end of the inflow passage 120 formed by the side wall of the housing 110 and the partition 113 to inject hot N 2 gas.

핫 N2 가스는 히터(20)에서 가열되어 공급될 수 있으며, 매니폴드(30)와 하우징(110)의 유입구(112)에 공급하는 핫 N2 가스를 각각 별도의 히터(20)를 이용하여 가열함으로써 독립적으로 온도를 제어할 수 있다.Hot N 2 gas can be supplied is heated in the heater 20, by using a manifold (30) and a separate heater (20), respectively the hot N 2 gas supplied to the inlet 112 of the housing 110 The temperature can be independently controlled by heating.

따라서, 분사노즐(126)로부터 분사된 핫 N2 가스가 폐가스의 포함된 파우더가 온도차에 의해 유입구(112)에 쌓이는 것을 방지하거나 적어도 쌓이는 속도를 최소화함으로써 장비 운영주기를 크게 늘려 생산 효율을 크게 할 수 있다.Therefore, the hot N 2 gas injected from the injection nozzle 126 prevents the powder containing the waste gas from accumulating in the inlet 112 due to the temperature difference, or minimizes the accumulation speed of at least the accumulation, .

유입 통로(120) 내부에 핫 N2 가스에 의한 열 변형을 방지하기 위해서 테프론으로 코팅된 열 차단통(114)이 설치될 수 있다.A heat shield 114 coated with Teflon may be installed in the inlet passageway 120 to prevent thermal deformation by hot N 2 gas.

한편, 핫 N2 가스는 매니폴드(30)에 공급되어 폐가스에 포함된 파우더가 온도차에 의해 매니폴드(30) 내부에 쌓이는 것을 방지할 수 있으며, 매니폴드(30)와 유입구(112) 사이의 배관에는 히팅 재킷(heating jacket)(32)이 설치될 수 있다.The hot N 2 gas is supplied to the manifold 30 to prevent the powder contained in the waste gas from accumulating in the manifold 30 due to the temperature difference. A heating jacket 32 may be installed in the piping.

<포집력의 향상><Improvement of collection capacity>

하우징(110)의 내부에는 수직으로 연장되는 격벽(132, 142, 152)에 의해 직렬로 연결되는 다수의 흐름 통로(130, 140, 150)가 형성되어 유입구(112)로 유입된 폐가스가 유입 통로(120)에서 흐름 통로(130, 140, 150)를 거쳐 배기관(170)으로 배출된다.A plurality of flow passages 130, 140 and 150 connected in series by partition walls 132, 142 and 152 extending vertically are formed in the housing 110 so that waste gas introduced into the inlet 112 flows into the inlet passage (120, 130, 140, 150) to the exhaust pipe (170).

이와 같이, 직렬로 연장되는 흐름 통로(130, 140, 150)를 구성함으로써 폐가스의 체류 시간을 증가시켜 수처리 횟수를 늘림으로써 처리효율을 향상시킬 수 있다.By constructing the flow passages 130, 140 and 150 extending in series in this manner, the retention time of the waste gas is increased to increase the number of water treatments, thereby improving the treatment efficiency.

흐름 통로(130, 140, 150)의 중간에는 충진제(134, 144, 154)가 설치되는데, 충진제(134, 144, 154)는 다면체의 구조물로서, 다수의 구멍이 형성되어 있어 폐가스와 물의 접촉 면적과 시간을 증가시켜 폐가스 처리율을 향상시킨다.Fillers 134, 144, and 154 are installed in the middle of the flow passages 130, 140 and 150. The fillers 134, 144, and 154 are polyhedral structures having a plurality of holes, And the time is increased to improve the waste gas treatment rate.

흐름 통로(130, 140)의 상단에는 물을 분사하기 위한 다수의 분사 노즐(136, 146)이 설치된다.A plurality of spray nozzles 136, 146 for spraying water is installed at the upper end of the flow passages 130, 140.

후술하는 것처럼, 본 발명은 폐가스를 처리한 폐수를 재활용하여 분사 노즐(136, 146)에 다시 공급되기 때문에 공급되는 용수에 슬러지가 일부 포함될 수 있어 분사 노즐(136, 146)이 막힐 수 있다.As described later, in the present invention, since the wastewater treated with the waste gas is recycled and supplied again to the injection nozzles 136 and 146, the sludge may be partially contained in the water to be supplied, so that the injection nozzles 136 and 146 may be clogged.

이를 방지하기 위해서, 이 실시 예에서는 분사 노즐(136, 146)로 다중의 스파이럴 노즐(spiral nozzle)을 적용한다. To prevent this, multiple spiral nozzles are applied to the spray nozzles 136, 146 in this embodiment.

스파이럴 노즐은 일명 돼지꼬리 노즐이라고도 하며, 공급되는 물에 이물질이 포함되어도 잘 막히지 않는 구조적 특징을 가지고 있으며, 홀로우 콘(hollow cone) 형태로 물을 분사함으로써 폐가스와 접촉하는 면적을 넓게 하여 포집력을 증가시킬 수 있다.The spiral nozzle is also called a pig tail nozzle. It has a structural feature that it does not clog well even if foreign matter is contained in the supplied water. By spraying water in the form of a hollow cone, the area of contact with the waste gas is widened, Can be increased.

특히, 하나의 흐름 통로(146)에 다수의 분사 노즐(146)을 적용하여 각 분사노즐의 분사 각도 범위가 중첩되도록 함으로써 폐가스를 보다 신뢰성 있게 처리할 수 있다.In particular, by applying a plurality of injection nozzles 146 to one flow passage 146 and overlapping the injection angle ranges of the respective injection nozzles, the waste gas can be treated more reliably.

또한, 최초의 충진제(134)의 입구에 분사 노즐(163)을 이용하여 용수를 분사함으로써 폐가스가 물과 접촉하는 시간을 더 길게 할 수 있다.Further, by spraying the water using the injection nozzle 163 at the inlet of the first filler 134, the time for which the waste gas comes in contact with the water can be further elongated.

<폐수의 재활용><Wastewater recycling>

분사 노즐(136, 146)로부터 분사되어 흐름 통로(130, 140, 150)에서 폐가스와 접촉된 폐수는 드레인 탱크(111)로 집수된다.The wastewater discharged from the injection nozzles 136 and 146 and brought into contact with the waste gas in the flow passages 130, 140 and 150 is collected into the drain tank 111.

이 실시 예에서, 드레인 탱크(111)에 집수된 폐수를 재활용하여 분사 노즐(136, 146)에 공급함으로써 별도의 용수를 공급할 필요가 없기 때문에 관리비용을 절감할 수 있다.In this embodiment, the waste water collected in the drain tank 111 is recycled and supplied to the injection nozzles 136 and 146, so that it is not necessary to supply additional water, thereby reducing the management cost.

<교반 시스템><Stirring system>

폐가스와 접촉하여 드레인 탱크(111)에 집수된 폐수에는 슬러지가 포함되어 있어 이 슬러지가 드레인 탱크(111)의 바닥에 퇴적된다.The wastewater collected in the drain tank 111 in contact with the waste gas contains sludge, and this sludge is deposited on the bottom of the drain tank 111.

상기한 것처럼, 이 실시 예에서는 폐수를 용수로 사용하여 분사 노즐(136, 146)에 공급하는데, 드레인 탱크(111)의 바닥에 퇴적된 슬러지에 의해 펌프(162)가 막힐 수 있다.As described above, in this embodiment, the wastewater is supplied to the injection nozzles 136, 146 using the wastewater as water, and the pump 162 can be clogged by the sludge deposited on the bottom of the drain tank 111.

이를 방지하기 위해서, 이 실시 예에서는 펌프(162)의 출력의 일부를 분사 노즐(164)을 통하여 드레인 탱크(111)로 방출함으로써 드레인 탱크(111)에 집수된 폐수를 교반한다.In order to prevent this, in this embodiment, a part of the output of the pump 162 is discharged to the drain tank 111 through the injection nozzle 164 to stir the wastewater collected in the drain tank 111.

그 결과, 드레인 탱크(111)의 바닥에 침전되는 슬러지(부유 물질)가 폐수의 회전과 함께 순환됨으로써 슬러지의 침전을 억제하여 펌프(162)가 막히는 것을 방지할 수 있다.As a result, the sludge (suspended matter) settled on the bottom of the drain tank 111 is circulated together with the rotation of the wastewater, thereby suppressing sedimentation of the sludge and preventing the pump 162 from being clogged.

이상에서는 본 발명의 실시 예를 중심으로 설명하였지만, 당업자의 수준에서 다양한 변경을 가할 수 있음은 물론이다. 따라서, 본 발명의 권리범위는 상기한 실시 예에 한정되어 해석될 수 없으며, 이하에 기재되는 특허청구범위에 의해 해석되어야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Accordingly, the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described above, but should be construed in accordance with the following claims.

20: 히터
30: 매니폴드
100: 스크러버 장치
110: 하우징
111: 드레인 탱크
112: 유입구
120, 130, 140: 흐름 통로
132, 142, 152; 격벽
134, 144, 154: 충진제
162: 펌프
163: 분사 노즐
164: 분사 노즐20: Heater
30: Manifold
100: scrubber device
110: Housing
111: drain tank
112: inlet
120, 130, 140: flow passage
132, 142, 152; septum
134, 144, 154: Filler
162: pump
163: injection nozzle
164: injection nozzle

Claims (6)

일측에 폐가스가 공급되는 유입구가 형성되고 반대 측에 배기관이 설치되는 하우징을 구비하여 상기 폐가스를 물로만 처리하여 배출하는 습식 스크러버 장치로서,
상기 하우징의 하부에 상기 폐가스를 처리한 폐수가 집수되는 드레인 탱크를 형성되고,
상기 하우징 내부에는 다수의 수직 격벽이 형성되는데, 상기 수직 격벽은 상기 유입구로부터 상기 배기관까지 수직방향으로 지그재그로 직렬로 연결되는 흐름 통로를 형성하고,
상기 흐름 통로에는 다수의 구멍이 형성되어 있어 상기 폐가스와 상기 물의 접촉 면적과 시간을 증가시키는 다수의 충전제가 이격 설치되고,
상기 흐름 통로의 상단에는 상기 물을 분사하는 분사노즐이 설치되어 상기 폐가스에 분사되며,
상기 유입구의 외측에 배관을 통하여 연결되는 매니폴드를 구비하고,
상기 유입구와 상기 매니폴드 각각에 핫 N2가 공급되어 상기 폐가스에 함유된 파우더가 상기 핫 N2에 의해 상기 유입구와 상기 매니폴드 내부에 증착되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 장치.1. A wet scrubber apparatus comprising a housing having an inlet through which waste gas is supplied at one side and an exhaust tube at the opposite side,
A drain tank in which wastewater treated with the waste gas is collected is formed in a lower portion of the housing,
A plurality of vertical partitions are formed in the housing, the vertical partitions forming a flow passage serially connected in a zigzag manner in a vertical direction from the inlet to the exhaust pipe,
Wherein a plurality of holes are formed in the flow passage so that a plurality of fillers spaced apart from each other to increase the contact area and time of the waste gas and the water are provided,
An injection nozzle for injecting the water is provided at an upper end of the flow passage,
And a manifold connected to the outside of the inlet through a pipe,
Wherein hot N 2 is supplied to each of the inlet and the manifold so that the powder contained in the waste gas is not deposited inside the inlet and the manifold by the hot N 2 . 청구항 1에서,
상기 드레인 탱크에 연결되는 펌프를 구비하고,
상기 펌프는 상기 드레인 탱크에 집수된 폐수를 상기 분사노즐에 공급하는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 장치.In claim 1,
And a pump connected to the drain tank,
Wherein the pump supplies wastewater collected in the drain tank to the spray nozzle. 삭제delete 청구항 1에서,
상기 드레인 탱크에 연결되는 펌프를 구비하고,
상기 펌프는 상기 드레인 탱크에 집수된 폐수를 상기 드레인 탱크에 다시 공급하여 상기 폐수를 교반하여 순환시키는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 장치.In claim 1,
And a pump connected to the drain tank,
Wherein the pump supplies the wastewater collected in the drain tank back to the drain tank to circulate the wastewater by stirring. 청구항 1에서,
상기 수직 격벽 중 적어도 하나의 상단은 상기 하우징의 커버에서 이격되고 하단은 상기 집수된 폐수의 수면 아래에 위치하고, 다른 수직 격벽의 하단은 상기 수면 위에 위치하는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 장치.In claim 1,
Wherein at least one upper end of the vertical partition is spaced apart from the cover of the housing and the lower end is located below the water surface of the collected wastewater and the lower end of the other vertical partition is located above the water surface. 청구항 1에서,
상기 배관에는 히팅 재킷(heating jacket)이 설치되는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 장치.In claim 1,
Characterized in that a heating jacket is installed on the piping.
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