KR101986530B1 - 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 - Google Patents
프레임 일체형 마스크의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101986530B1 KR101986530B1 KR1020180026814A KR20180026814A KR101986530B1 KR 101986530 B1 KR101986530 B1 KR 101986530B1 KR 1020180026814 A KR1020180026814 A KR 1020180026814A KR 20180026814 A KR20180026814 A KR 20180026814A KR 101986530 B1 KR101986530 B1 KR 101986530B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- frame
- sheet portion
- temperature
- mask cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H01L51/56—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/10—Moulds; Masks; Masterforms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
- H01L21/0334—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane
- H01L21/0337—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane characterised by the process involved to create the mask, e.g. lift-off masks, sidewalls, or to modify the mask, e.g. pre-treatment, post-treatment
-
- H01L51/0011—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- H10P76/4085—
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
도 2는 종래의 마스크를 프레임에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 3은 종래의 마스크를 인장하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 형태 및 마스크를 트레이 상에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 트레이를 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 순차적으로 셀 영역에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 접착한 후 공정 영역의 온도를 하강시키는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.
70: 하부 지지체
100: 마스크
110: 마스크 막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
1000: OLED 화소 증착 장치
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
ET: 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승
L: 레이저
LT: 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강
LW: 레이저 용접
R: 테두리 프레임부의 중공 영역
P: 마스크 패턴
TS: 장력
W: 용접
Claims (21)
- 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임을 제공하는 단계;
(b) 마스크를 트레이 상에 부착하는 단계;
(c) 프레임 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(d) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 프레임에 접착하는 단계
를 포함하고,
하부 지지체가 프레임 하부에 배치되어, 트레이가 로딩되는 마스크 셀 영역의 반대면을 압착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계;
(b) 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하여 프레임을 제조하는 단계;
(c) 마스크를 트레이 상에 부착하는 단계;
(d) 마스크 셀 시트부 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 마스크 셀 시트부의 하나의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(e) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 마스크 셀 시트부에 접착하는 단계
를 포함하고,
하부 지지체가 프레임 하부에 배치되어, 트레이가 로딩되는 마스크 셀 영역의 반대면을 압착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부를 제공하는 단계;
(b) 평면의 마스크 셀 시트부를 테두리 프레임부에 연결하는 단계;
(c) 마스크 셀 시트부에 복수의 마스크 셀 영역을 형성하여 프레임을 제조하는 단계;
(d) 마스크를 트레이 상에 부착하는 단계;
(e) 마스크 셀 시트부 상에 트레이를 로딩하여 마스크를 마스크 셀 시트부의 하나의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(f) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 마스크 셀 시트부에 접착하는 단계
를 포함하고,
하부 지지체가 프레임 하부에 배치되어, 트레이가 로딩되는 마스크 셀 영역의 반대면을 압착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
트레이는 평판 형상이고, 레이저 광이 투과하는 재질을 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제4항에 있어서,
트레이는 글래스(glass), 실리카(silica), 내열유리, 석영(quartz),알루미나(Al2O3) 중 어느 하나의 재질을 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
트레이 상부에서 레이저를 조사하는 레이저 용접으로 마스크를 프레임에 접착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제6항에 있어서,
트레이가 마스크를 압착하여 용접 비드(bead)가 형성되는 것을 방지하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
마스크를 마스크 셀 영역에 대응하기 전, 또는, 대응한 후에 프레임이 포함된 공정 영역의 온도를 제1 온도로 상승시키고,
마스크를 프레임에 접착한 후에 프레임이 포함된 공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강시키는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제9항에 있어서,
제1 온도는 OLED 화소 증착 공정 온도보다 같거나 높은 온도이고, 제2 온도는 적어도 제1 온도보다 낮은 온도인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제10항에 있어서,
제1 온도는 25℃ 내지 60℃ 중 어느 하나의 온도이고,
제2 온도는 제1 온도보다 낮은 20℃ 내지 30℃ 중 어느 하나의 온도이며,
OLED 화소 증착 공정 온도는 25℃ 내지 45℃ 중 어느 하나의 온도인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
마스크를 마스크 셀 영역에 대응할 때, 마스크에 인장을 가하지 않는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제9항에 있어서,
공정 영역의 온도를 제2 온도로 하강시키면, 프레임에 접착된 마스크가 수축되어 장력(tension)을 인가받는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제2항 또는 제3항에 있어서,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제2항 또는 제3항에 있어서,
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부; 및
제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제15항에 있어서,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 더 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 또는 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
각각의 마스크 셀 영역에 각각의 마스크가 대응되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
마스크는 하나의 마스크 셀을 포함하고, 하나의 마스크 셀이 하나의 마스크 셀 영역 내에 위치하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
마스크는 복수의 마스크 셀을 포함하고, 복수의 마스크 셀이 하나의 마스크 셀 영역 내에 위치하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
마스크 및 프레임은 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈, 니켈-코발트 중 어느 하나의 재질인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
하나의 마스크 셀 영역에 접착된 마스크와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 접착된 마스크 사이의 PPA(pixel position accuracy)는 3㎛를 초과하지 않는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180026814A KR101986530B1 (ko) | 2018-03-07 | 2018-03-07 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180026814A KR101986530B1 (ko) | 2018-03-07 | 2018-03-07 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR101986530B1 true KR101986530B1 (ko) | 2019-06-07 |
Family
ID=66849990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020180026814A Active KR101986530B1 (ko) | 2018-03-07 | 2018-03-07 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101986530B1 (ko) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040084314A (ko) * | 2003-03-27 | 2004-10-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 표시장치용 증착 마스크 및 그의 제조방법 |
| KR20120105292A (ko) * | 2011-03-15 | 2012-09-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 마스크 및 증착 마스크 제조 방법 |
| KR20130062571A (ko) * | 2011-12-05 | 2013-06-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광소자 제조를 위한 마스크유닛 |
| KR20140148046A (ko) * | 2013-06-21 | 2014-12-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 트레이 및 증착 시스템 |
| JP2015127441A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク装置の製造方法 |
-
2018
- 2018-03-07 KR KR1020180026814A patent/KR101986530B1/ko active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040084314A (ko) * | 2003-03-27 | 2004-10-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 표시장치용 증착 마스크 및 그의 제조방법 |
| KR20120105292A (ko) * | 2011-03-15 | 2012-09-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 마스크 및 증착 마스크 제조 방법 |
| KR20130062571A (ko) * | 2011-12-05 | 2013-06-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광소자 제조를 위한 마스크유닛 |
| KR20140148046A (ko) * | 2013-06-21 | 2014-12-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 트레이 및 증착 시스템 |
| JP2015127441A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク装置の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101986525B1 (ko) | 마스크의 제조 방법 | |
| KR101989531B1 (ko) | 마스크의 제조 방법 | |
| KR102342736B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102342737B1 (ko) | 마스크의 제조 방법 | |
| KR20190096577A (ko) | 프레임 일체형 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102254375B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102337004B1 (ko) | Oled 화소 형성용 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102342735B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 마스크 지지에 사용되는 트레이 | |
| KR102314856B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102217813B1 (ko) | Oled 화소 형성용 마스크와 그 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102283201B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102241769B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102314853B1 (ko) | Oled 화소 형성용 마스크 및 마스크 지지 트레이 | |
| KR20190105977A (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR101986530B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102236539B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102357803B1 (ko) | 마스크 세트 및 프레임 일체형 마스크의 마스크 교체 방법 | |
| KR102358266B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102152685B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102357802B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR101986524B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102138799B1 (ko) | 마스크 및 프레임 일체형 마스크 | |
| KR102071487B1 (ko) | 마스크의 제조 방법 및 마스크 | |
| KR102152688B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20200044747A (ko) | 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| PA0302 | Request for accelerated examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D17-exm-PA0302 St.27 status event code: A-1-2-D10-D16-exm-PA0302 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000 |
|
| P14-X000 | Amendment of ip right document requested |
St.27 status event code: A-5-5-P10-P14-nap-X000 |
|
| P14-X000 | Amendment of ip right document requested |
St.27 status event code: A-5-5-P10-P14-nap-X000 |
|
| P14-X000 | Amendment of ip right document requested |
St.27 status event code: A-5-5-P10-P14-nap-X000 |
|
| L13-X000 | Limitation or reissue of ip right requested |
St.27 status event code: A-2-3-L10-L13-lim-X000 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| L13-X000 | Limitation or reissue of ip right requested |
St.27 status event code: A-2-3-L10-L13-lim-X000 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 7 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |