KR101955893B1 - 레독스 흐름 전지의 석출물 제거 방법 및 상기 방법을 포함하는 레독스 흐름 전지 - Google Patents

레독스 흐름 전지의 석출물 제거 방법 및 상기 방법을 포함하는 레독스 흐름 전지 Download PDF

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Abstract

본 발명은 음극 탱크(30a)에 저장된 음극 전해질을 주입구 음극 배관(50a)을 통해 스택(10)의 음극 주입구에 제공하는 단계; 양극 탱크(30b)에 저장된 양극 전해질을 주입구 양극 배관(60a)을 통해 스택(10)의 양극 주입구에 제공하는 단계; 상기 스택으로부터 음극 전해질을 토출구 음극 배관(50b)을 통해 음극 탱크에 공급하는 단계; 및 상기 스택으로부터 양극 전해질을 토출구 양극 배관(60b)을 통해 양극 탱크에 공급하는 단계;를 포함하고, 스택의 양극에서의 전해질 석출물을 제거하기 위한 경우에는 상기 음극 탱크(30a)에 저장된 음극 전해질을 스택의 양극 주입구로 제공하고, 상기 양극 탱크(30b)에 저장된 양극 전해질을 스택의 음극 주입구로 제공하고, 스택의 양극 토출구에서 배출되는 상기 음극 전해질을 음극 탱크로 공급하고, 스택의 음극 토출구에서 배출되는 양극 전해질은 양극 탱크로 공급하는 것을 특징으로 하는 석출물 제거를 위한 방법에 관한 것이다.

Description

레독스 흐름 전지의 석출물 제거 방법 및 상기 방법을 포함하는 레독스 흐름 전지{METHOD FOR REMOVING PRECIPITATION OF REDOX FLOW BATTERY AND REDOX FLOW BATTERY INCLUDING THE METHOD}
본 발명은 레독스 흐름 전지 스택에서 전해질이 석출되어 스택의 성능이 저하되는 것을 방지하기 위해 전해질 석출물을 제거하기 위한 것으로, 보다 구체적으로는 전해질 배관이 교차되는 구조를 구비하도록 하여 전해질 석출물을 제거하기 위한 것이다.
레독스 흐름 전지는 최근 전 세계적으로 가장 큰 관심을 불러일으키고 있는 신재생에너지, 온실가스 감축, 2차전지, 스마트그리드 등과 긴밀하게 연관된 핵심 제품 중 하나이고, 연료 전지는 환경오염 물질 배출이 없이 화석 연료를 대체할 신재생 에너지 발전원으로써 전 세계적으로 급격한 시장의 확대가 진행중인 제품이다.
현재 대부분의 에너지를 화석 연료로부터 얻고 있으나, 이러한 화석 연료의 사용은 대기오염, 산성비 및 지구 온난화 같이 환경에 심각한 악영향을 미치고 있으며, 에너지 효율도 낮은 문제점이 있다.
이러한 화석 연료의 사용에 따른 문제점을 해결 하기 위해 근래에는 신재생에너지 및 연료전지에 대한 관심이 급속도로 높아졌다. 이러한 신재생에너지에 대한 관심 및 연구는 국내뿐만 아니라 전 세계적으로 활발히 진행되고 있다.
신재생에너지 시장의 경우 국내외적으로 성숙 단계에 접어들었다고는 하지만 재생 에너지의 특성상 시간 및 날씨 등의 환경 영향에 따라 발생하는 에너지의 양이 크게 변화한다는 문제점이 있어, 신재생에너지 발전의 안정화를 위해 발생된 재생 에너지를 저장하는 에너지 저장 시스템(ESS: Energy Storage System)의 보급이 매우 필요한 상황이며, 이러한 대용량 에너지 저장 시스템으로 주목받고 있는 것이 레독스 흐름 전지이다.
본 발명이 적용되는 레독스 흐름 전지의 일반적인 구조는 도 1과 같이 전기화학 반응이 일어나는 셀을 적층한 스택(10), 전해질을 보관하는 음극 탱크(30a) 및 양극 탱크(30b), 상기 전해질 탱크에서 스택으로 전해질을 공급하는 음극 펌프(40a) 및 양극 펌프(40b)로 구성되어 있다.
레독스 흐름 전지의 경우 전해질의 산화-환원 반응을 통해 충-방전이 이루어지며, 전해질의 특성에 따라 운전 가능한 환경이 제한된다.
특히, 바나듐계 레독스 흐름 전지의 경우 충-방전시 고온 환경에서는 5가 전해질이 석출되며, 저온 환경에서는 2가 전해질이 석출되는 식으로 운전 가능한 환경(범위)이 제한된다.
상기 석출되는 것은 모두 충전 상태일 때 생성되며, 5가 전해질은 양극에서 4가 전해질의 산화 반응으로, 2가 전해질은 음극에서 3가 전해질의 환원 반응으로 생성된다.
시스템 운전시 스택 내에서 발생하는 반응열로 인해 저온 환경 보다는 고온 환경이 되기 쉬우며 이 경우 바나듐 5가 이온이 석출되는 경우가 발생할 수 있다.
전해질 석출 발생시에는 시스템의 가동을 중지한 후 조치해야 하는데 설치 용량이 클수록 보수기간이 길어지는 문제점이 있다.
또한, 전해질 석출에 의하여 스택 내 손상이 일어났을 경우 교체가 불가피하며 이경우 높은 교체비용이 발생한다.
이에, 레독스 흐름 전지에서는 전해질이 석출되지 않는 운전범위를 넓히는 연구가 활발히 진행중이며, 대부분은 전해질에 화학 첨가제를 사용하여 바나듐 5가 이온이 석출되지 않도록 하고 있다.
본 발명에서는 바나듐 2가 전해질이 바나듐 5가 전해질에서의 석출물을 제거하는 기능이 있다는 점에 주목하여, 바나듐 5가 전해질의 석출물이 있는 스택의 양극 파트에 바나듐 2가 전해질을 공급하고자 한다.
등록 특허 제10-1130575호 (2012.03.20) 공개 특허 제10-2016-0035732호 (2016.04.01)
본 발명에서는 레독스 흐름 전지 시스템의 비정상적인 운전으로 인하여 스택 내에서 전해질이 석출되는 경우 이를 제거하고자 한다.
본 발명에서는 스택의 양극 파트에서 바나듐 5가 전해질의 석출물 제거를 위해 별도의 첨가제가 없이 음극 탱크내의 바나듐 2가 전해질을 스택의 양극 배관 쪽으로 공급하여 상기 전해질 석출물을 제거하고자 한다.
전해질 석출은 운전 범위 외의 온도에 의해 발생되며, 스택 내의 경우 전해질 온도 및 반응열에 의해 가장 먼저 석출이 일어날 수 있다.
비정상적인 온도 범위에서의 운전으로 인해 전해질의 석출이 발생되는 경우 스택 내 유체의 흐름이 원활하지 않기 때문에 충-방전시 셀 과전압이 발생하고, 석출 결정으로 인해 멤브레인이 손상될 수 있기 때문에 신속하게 조치하여 스택을 보호하고자 한다.
본 발명은 음극 탱크(30a)에 저장된 음극 전해질을 주입구 음극 배관(50a)을 통해 스택(10)의 음극 주입구에 제공하는 단계; 양극 탱크(30b)에 저장된 양극 전해질을 주입구 양극 배관(60a)을 통해 스택(10)의 양극 주입구에 제공하는 단계; 상기 스택으로부터 음극 전해질을 토출구 음극 배관(50b)을 통해 음극 탱크에 공급하는 단계; 및 상기 스택으로부터 양극 전해질을 토출구 양극 배관(60b)을 통해 양극 탱크에 공급하는 단계;를 포함하고, 스택의 양극에서 석출된 전해질을 제거하기 위한 경우에는 상기 음극 탱크(30a)에 저장된 음극 전해질을 스택의 양극 주입구로 제공하고, 상기 양극 탱크(30b)에 저장된 양극 전해질을 스택의 음극 주입구로 제공하고, 스택의 양극 토출구에서 배출되는 상기 음극 전해질을 음극 탱크로 공급하고, 스택의 음극 토출구에서 배출되는 양극 전해질은 양극 탱크로 공급하는 것을 특징으로 하는 레독스 흐름 전지의 석출물 제거 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 음극 전해질을 보관하는 음극 탱크(30a); 양극 전해질을 보관하는 양극 탱크(30b); 상기 음극 전해질을 스택(10)에 제공하기 위한 주입구 음극 배관(50a); 상기 양극 전해질을 스택에 제공하기 위한 주입구 양극 배관(60a); 상기 스택으로부터 음극 전해질을 음극 탱크에 공급하기 위한 토출구 음극 배관(50b); 상기 스택으로부터 양극 전해질을 양극 탱크에 공급하기 위한 토출구 양극 배관(60b); 상기 주입구 음극 배관(50a)과 연결되어 음극 전해질을 스택의 양극 주입구로 공급할 수 있는 주입구 음극 바이패스 배관(51a); 및 상기 토출구 음극 배관(50b)과 연결되어 스택의 양극 토출구에서 배출되는 음극 전해질을 음극 탱크로 보낼 수 있는 토출구 양극 바이패스 배관(61b)을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해질 석출물 제거를 위한 레독스 흐름 전지에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 주입구 양극 배관(60a)과 연결되어 양극 전해질을 스택의 음극쪽 주입구로 공급할 수 있는 주입구 양극 바이패스 배관(61a); 및 상기 토출구 양극 배관(60b)과 연결되어 스택의 음극 토출구에서 배출되는 양극 전해질을 양극 탱크로 보낼 수 있는 토출구 음극 바이패스 배관(51b)을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에서 상기 주입구 음극 배관(50a)은 주입구 음극 바이패스 배관(51a)에 의해 주입구 양극 배관(60a)와 연결되고, 상기 주입구 양극 배관(60a)은 주입구 양극 바이패스 배관(61a)에 의해 주입구 음극 배관(50a)와 연결되고, 상기 토출구 양극 배관(60b)은 토출구 양극 바이패스 배관(61b)에 의해 토출구 음극 배관(50b)과 연결되고, 상기 토출구 음극 배관(50b)은 토출구 음극 바이패스 배관(51b)에 의해 토출구 양극 배관(60b)과 연결되어 있을 수 있다.
또한, 본 발명에서 주입구 음극 배관(50a)에는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 배관(60a)에는 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 배관(50b)에는 토출구 음극 밸브(50bb), 토출구 양극 배관(60b)에는 토출구 양극 밸브(60bb), 주입구 음극 바이패스 배관(51a)에는 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 배관(61a)에는 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 배관(51b)에는 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 배관(61b)에는 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)가 설치되어 있으며, 정상 상태에서는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 밸브(50bb) 및 토출구 양극 밸브(60bb)는 개방 상태가 되고, 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)는 닫힘 상태가 되고, 스택의 양극에서 전해질 석출물을 제거하기 위해서는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 밸브(50bb) 및 토출구 양극 밸브(60bb)는 닫힘 상태가 되고, 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)는 개방 상태가 된다.
본 발명에 의하면, 시스템 설치 후 비정상적인 운전으로 인하여 고온이 발생해서 스택에서 전해질이 석출된 경우, 단순히 배관의 조정에 의하여 전해질 석출물을 제거할 수 있어 스택의 유지보수를 빠르고 편리하게 해결할 수 있다.
즉, 배관에 설치된 밸브의 단순한 조작만으로도 스택 내의 전해질 석출 문제를 해결할 수 있으며 전해질 석출물의 제거를 위해 별도의 첨가제가 필요하지 않다.
또한, 스택 내 전해질 석출이 발생하여도 스택을 교체할 필요가 없어 높은 교체 비용을 사전에 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명에 적용되는 레독스 흐름 전지의 구성도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명에 의해 개선된 레독스 흐름 전지의 구성도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
첨부된 도면은 본 발명의 예시적인 형태를 도시한 것으로, 이는 본 발명을 보다 상세히 설명하기 위해 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적인 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1에 도시된 것과 같이, 레독스 흐름 전지는 양극과 음극 전해질 탱크, 복수 개의 스택, 배관, 양극과 음극 펌프, BMS(배터리 관리 시스템), 센서류를 포함한다.
레독스 흐름 전지에서는 전해질 탱크의 전해질을 스택으로 보내기 위한 주입구 음극 배관(50a) 및 주입구 양극 배관(60a)과 스택으로부터 전해질 탱크(30a, 30b)로 전해질을 보내기 위한 토출구 음극 배관(50b) 및 토출구 양극 배관(60b)이 설치되어 있다.
도 2 내지 도 3은 본 발명의 구성도로서, 주입구 음극 배관(50a)과 주입구 양극 배관(60a)에 전해질이 서로 교차하여 공급될 수 있는 주입구 음극 바이패스 배관(51a)과 주입구 양극 바이패스 배관(61a)을 추가로 포함하고 있다.
마찬가지로, 토출구 음극 배관(50b)과 토출구 양극 배관(60b)에 전해질이 서로 교차하여 공급될 수 있는 토출구 음극 바이패스 배관(51b)과 토출구 양극 바이패스 배관(61b)을 추가로 포함하고 있다.
각각의 배관에는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 밸브(50bb), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb), 토출구 양극 밸브(60bb), 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)가 설치되어 있다.
도 2는 평상시 상태로서, 음극 전해질은 주입구 음극 배관(50a)를 통해, 스택으로 공급되고 스택에서 배출되는 음극 전해질은 토출구 음극 배관(50b)을 통해 전해질 탱크(30a)로 공급된다.
마찬가지로, 양극 전해질은 주입구 양극 배관(60a)를 통해, 스택으로 공급되고 스택에서 배출되는 양극 전해질은 토출구 양극 배관(60b)를 통해 전해질 탱크(30b)로 공급된다.
이 경우, 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 밸브(50bb) 및 토출구 양극 밸브(60bb)는 개방 상태가 되고, 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)는 닫힘 상태가 된다.
도 3은 레독스 흐름 전지에서 양극에서 바나듐 5가 전해질이 석출된 경우 음극의 바나듐 2가 전해질을 양극에 공급하기 위한 도면이다.
즉, 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 밸브(50bb) 및 토출구 양극 밸브(60bb)는 닫힘 상태가 되고, 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)는 개방 상태가 된다.
따라서, 음극 전해질 탱크의 바나듐 2가 전해질은 주입구 음극 배관(50a), 주입구 음극 바이패스 배관(51a) 및 주입구 양극 배관(60a)을 통해 스택의 양극 주입구로 공급되어 양극에서 석출된 전해질을 용해한다.
또는, 음극 전해질 탱크의 바나듐 2가 전해질은 주입구 음극 배관(50a)과 주입구 음극 바이패스 배관(51a)을 지나 바로 스택의 양극 주입구로 공급될 수 있다.
스택의 양극에서의 전해질 석출물을 용해한 바나듐 2가 전해질은 토출구 양극 배관(60b), 토출구 양극 바이패스 배관(61b) 및 토출구 음극 배관(50b)을 통해 음극 탱크(30a)로 공급된다.
또는, 토출구 양극 배관(60b)을 지나지 않고 스택의 토출구에서 직접 토출구 양극 바이패스 배관으로 바나듐 2가 전해질이 공급될 수 있다.
이 경우, 양극 탱크에 존재하는 전해질도 양극 펌프(40b)에 의해, 주입구 양극 배관(60a), 주입구 양극 바이패스 배관(61a), 주입구 음극 배관(50a)을 통해 스택의 음극 주입구로 공급되어 스택에 제공되고, 스택의 음극 토출구를 통해 배출되어, 토출구 음극 배관(50b), 토출구 음극 바이패스 배관(51b) 및 토출구 양극 배관(60b)을 통해 양극 탱크(30b)로 공급된다.
마찬가지로, 양극 탱크로 공급되는 전해질도 주입구 양극 바이패스 배관(61a)에서 직접 스택의 음극 주입구로 공급되거나, 스택의 음극 토출구에서 토출구 음극 바이배스 배관(51b)으로 직접 공급될 수 있다.
음극 2가 전해질은 양극에서의 전해질 석출물을 용해시키며, 이 때 양극 5가 전해질을 같이 순환시키는 이유는 스택 내의 압력 차이를 최소화 하기 위함이다. 즉, 한쪽만 전해질을 순환시키면 스택 내의 기계적 결함이 발생할 수 있으므로 양극과 음극에 전해질을 순환시키는 것이다.
이와 같이 본 발명에서는 전해질이 스택으로 들어갈 때 음극과 양극을 서로 바꾸고, 스택에서 나온 후 다시 바꿔 전체 시스템 기준에서 스택에서만 전해질이 교차하도록 한 것이다.
복수 개의 스택이 설치된 경우에는 스택으로 분기되기 전의 배관과 스택에서 탱크로 들어가는 배관에 바이패스 밸브를 설치하도록 하여 구성한다.
본 발명에서는 양극에서의 바나듐 5가 전해질에 의한 석출물이 바나듐 2가 전해질과 섞이면 용해되는 점을 이용하여, 스택의 양극 부분에서의 전해질 석출물을 제거하고자 한 것이다.
전해질을 교차 공급한 후 전해질 탱크의 완충상태를 유지하기 위해, 교차된 전해질을 다시 교체하여 원래의 탱크로 주입되도록 한 것이다.
상기 교차 밸브는 탄성이 있는 파이프 및 호스 등을 이용하면 복잡한 형상을 쉽게 구현 가능할 것이다.
· 일예로, 바나듐 레독스 흐름 전지에서 충전 상태가 높고 온도가 높을 때 양극에서 V2O5가 석출된다.
이를 제거하기 위해 양극의 상기 석출물인 V2O5에 충전상태의 음극 전해질(V2+)을 흘려 V2O5를 제거한다.즉, V2+가 V2O5를 제거하는 기능이 있다는 점을 이용한 것이다.
이상의 설명은 본 발명의 기술사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 개시된 실시예는 본 발명의 기술사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
30a: 음극 탱크 30b: 양극 탱크
40a: 음극 펌프 40b: 양극 펌프
50a: 주입구 음극 배관 50b: 토출구 음극 배관
60a: 주입구 양극 배관 60b: 토출구 양극 배관

Claims (5)

  1. 음극 탱크(30a)에 저장된 음극 전해질을 주입구 음극 배관(50a)를 통해 스택(10)의 음극 주입구에 제공하는 단계;
    양극 탱크(30b)에 저장된 양극 전해질을 주입구 양극 배관(60a)을 통해 스택(10)의 양극 주입구에 제공하는 단계;
    상기 스택으로부터 음극 전해질을 토출구 음극 배관(50b)을 통해 음극 탱크에 공급하는 단계; 및
    상기 스택으로부터 양극 전해질을 토출구 양극 배관(60b)을 통해 양극 탱크에 공급하는 단계;를 포함하고,
    스택의 양극에서의 전해질 석출물을 제거하기 위한 경우에는 상기 음극 탱크(30a)에 저장된 음극 전해질을 스택의 양극 주입구로 제공하고, 상기 양극 탱크(30b)에 저장된 양극 전해질을 스택의 음극 주입구로 제공하고, 스택의 양극 토출구에서 배출되는 상기 음극 전해질을 음극 탱크로 공급하고, 스택의 음극 토출구에서 배출되는 양극 전해질은 양극 탱크로 공급하는 것을 특징으로 하는 레독스 흐름 전지의 석출물 제거 방법.
  2. 음극 전해질을 보관하는 음극 탱크(30a);
    양극 전해질을 보관하는 양극 탱크(30b);
    상기 음극 전해질을 스택(10)에 제공하기 위한 주입구 음극 배관(50a);
    상기 양극 전해질을 스택에 제공하기 위한 주입구 양극 배관(60a);
    상기 스택으로부터 음극 전해질을 음극 탱크에 공급하기 위한 토출구 음극 배관(50b);
    상기 스택으로부터 양극 전해질을 양극 탱크에 공급하기 위한 토출구 양극 배관(60b);
    상기 주입구 음극 배관(50a)과 연결되어 음극 전해질을 스택의 양극쪽 주입구로 공급할 수 있는 주입구 음극 바이패스 배관(51a); 및
    상기 토출구 음극 배관(50b)과 연결되어 스택의 양극 토출구에서 배출되는 음극 전해질을 음극 탱크로 보낼 수 있는 토출구 양극 바이패스 배관(61b)를 포함하는 것을 특징으로 하는 레독스 흐름 전지.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 주입구 양극 배관(60a)과 연결되어 양극 전해질을 스택의 음극쪽 주입구로 공급할 수 있는 주입구 양극 바이패스 배관(61a); 및
    상기 토출구 양극 배관(60b)과 연결되어 스택의 음극 토출구에서 배출되는 양극 전해질을 양극 탱크로 보낼 수 있는 토출구 음극 바이패스 배관(51b)을 포함하는 것을 특징으로 하는 레독스 흐름 전지.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 주입구 음극 배관(50a)은 주입구 음극 바이패스 배관(51a)에 의해 주입구 양극 배관(60a)와 연결되고,
    상기 주입구 양극 배관(60a)은 주입구 양극 바이패스 배관(61a)에 의해 주입구 음극 배관(50a)와 연결되고,
    상기 토출구 양극 배관(60b)은 토출구 양극 바이패스 배관(61b)에 의해 토출구 음극 배관(50b)과 연결되고,
    상기 토출구 음극 배관(50b)는 토출구 음극 바이패스 배관(51b)에 의해 토출구 양극 배관(60b)과 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 레독스 흐름 전지.
  5. 제4항에 있어서,
    주입구 음극 배관(50a)에는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 배관(60a)에는 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 배관(50b)에는 토출구 음극 밸브(50bb), 토출구 양극 배관(60b)에는 토출구 양극 밸브(60bb), 주입구 음극 바이패스 배관(51a)에는 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 배관(61a)에는 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 배관(51b)에는 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 배관(61b)에는 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)가 설치되어 있으며,
    정상 상태에서는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 밸브(50bb) 및 토출구 양극 밸브(60bb)는 개방 상태가 되고, 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)는 닫힘 상태가 되고,
    스택의 양극에서의 전해질 석출물을 제거하기 위해서는 주입구 음극 밸브(50aa), 주입구 양극 밸브(60aa), 토출구 음극 밸브(50bb) 및 토출구 양극 밸브(60bb)는 닫힘 상태가 되고, 주입구 음극 바이패스 밸브(51aa), 주입구 양극 바이패스 밸브(61aa), 토출구 음극 바이패스 밸브(51bb) 및 토출구 양극 바이패스 밸브(61bb)는 개방 상태가 되는 것을 특징으로 하는 레독스 흐름 전지.

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