KR101943210B1 - 웨이퍼 자동 관리 장치 - Google Patents

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KR101943210B1
KR101943210B1 KR1020170092305A KR20170092305A KR101943210B1 KR 101943210 B1 KR101943210 B1 KR 101943210B1 KR 1020170092305 A KR1020170092305 A KR 1020170092305A KR 20170092305 A KR20170092305 A KR 20170092305A KR 101943210 B1 KR101943210 B1 KR 101943210B1
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 자동 관리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 외형을 형성하는 몸체, 내부에 거치공간부를 갖고, 복수의 웨이퍼를 수납하여 이물질과 퓸을 제거하기 위해 상기 몸체에 구비되는 챔버, 상기 챔버로 기체를 공급하기 위한 기체공급수단, 상기 챔버에서 배출되는 기체를 배출시키기 위한 기체배출수단, 및 상기 챔버에 웨이퍼의 거치 여부에 따라, 상기 기체공급수단과 기체배출수단을 제어하기 위한 제어부,를 포함한다.
상기와 같은 본 발명에 의하면, 웨이퍼가 거치되면, 기체를 자동으로 분사하여 웨이퍼의 이물질과 퓸을 분리한 후, 배출시키되, 데드존이 없이 기체를 전체로 균일하게 분사함은 물론, 배출시킬 수 있어 관리효율을 향상시킬 수 있다.

Description

웨이퍼 자동 관리 장치{Wafer automatic care system}
본 발명은 관리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼가 거치되면, 기체를 자동으로 분사하여 웨이퍼의 이물질과 퓸을 분리한 후, 배출시키되, 데드존이 없이 기체를 전체로 균일하게 분사함은 물론, 배출시킬 수 있어 관리효율을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 자동 관리 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자는 웨이퍼 상에 증착 공정, 연마 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 이온주입 공정, 세정 공정, 검사 공정, 열처리 공정 등이 선택적이면서도 반복적으로 수행되어 제조되며, 이렇게 반도체 소자로 형성되기 위하여 웨이퍼는 각 공정에서 요구되는 특정 위치로 운반되어 진다.
여기서, 해당 공정 후, 웨이퍼는 EFEM(Equipment Front End Module) 옆면에 구비된 사이드 스토리지(혹은 버퍼 스테이션)에 수납되어 이물질과 퓸을 제거함에 따라, 혼재오염을 방지하고 있다.
종래 사이드 스토리지는 등록특허 제10-0678475호에서 개진된 바와 같이, 상부에 설치된 에어 커튼에서 가스를 분사하고, 그 가스는 하측으로 송풍되면서 거치된 각 웨이퍼에서 이물질과 품을 분리시킨 후, 하부를 통해 배출된다.
그러나 종래 사이드 스토리지는 배출구가 하부 후측에 구비됨에 따라, 분사된 가스가 하부 전측이나 중간부에 정체되어 데드존(Dead Zone)는 배출효율이 저하되는 문제점이 있다.
이와 같이, 분리된 이물질이나 품이 포함된 가스가 정체될 경우, 거치된 웨이퍼를 이송시키거나 새로운 웨이퍼를 거치시킬 경우, EFEM(Equipment Front End Module) 내부로 유출되어 오염이 발생되는 문제점이 있다.
이에 따라, 거치된 웨이퍼에서 이물질과 품을 제거하되, 데드존을 방지하여 작업효율을 향상시키고, 2차 오염을 방지하기 위한 기술에 대한 개발이 절실히 여구되고 있는 실정이다.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해소하기 위해 안출된 것으로써, 외형을 형성하는 몸체, 내부에 거치공간부를 갖고, 복수의 웨이퍼를 수납하여 이물질과 퓸을 제거하기 위해 상기 몸체에 구비되는 챔버, 상기 챔버로 기체를 공급하기 위한 기체공급수단, 상기 챔버에서 배출되는 기체를 배출시키기 위한 기체배출수단, 및 상기 챔버에 웨이퍼의 거치 여부에 따라, 상기 기체공급수단과 기체배출수단을 제어하기 위한 제어부,를 포함하여 웨이퍼가 거치되면, 기체를 자동으로 분사하여 웨이퍼의 이물질과 퓸을 분리한 후, 배출시키되, 데드존이 없이 기체를 전체로 균일하게 분사함은 물론, 배출시킬 수 있어 관리효율을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 자동 관리 장치를 제공하는 것이 목적이다.
상기 목적을 이루기 위한 본 발명은, 외형을 형성하는 몸체, 내부에 거치공간부를 갖고, 복수의 웨이퍼를 수납하여 이물질과 퓸을 제거하기 위해 상기 몸체에 구비되는 챔버, 상기 챔버로 기체를 공급하기 위한 기체공급수단, 상기 챔버에서 배출되는 기체를 배출시키기 위한 기체배출수단, 및 상기 챔버에 웨이퍼의 거치 여부에 따라, 상기 기체공급수단과 기체배출수단을 제어하기 위한 제어부,를 포함한다.
바람직하게, 상기 몸체는, 내부에 상기 챔버가 설치되기 위한 제1설치공간부를 갖되, 상기 제1설치공간부는 챔버로 웨이퍼가 출입하도록 후측으로 개방되는 상부몸체, 및 내부에 제2설치공간부를 갖고, 상기 상부몸체의 하측에 구비되는 하부몸체,를 포함한다.
그리고 상기 웨이퍼 자동 관리 장치의 몸체는, EFEM(Equipment Front End Module)의 측면에 구비되되, 상기 EFEM(Equipment Front End Module)의 측면에는 설치공이 형성되고, 상기 설치공에 몸체의 후면이 위치되어 사이가 밀폐된다.
또한, 상기 챔버는, 웨이퍼가 인출되도록 후측으로 개방된 거치공간부가 내부에 형성되는 챔버몸체, 상기 거치공간부에 구비되어 복수의 웨이퍼를 일정 간격으로 거치시키기 위한 거치대, 상기 거치공간부로 기체를 분사하여 거치된 웨이퍼에서 이물질과 퓸을 분리시키기 위한 기체분사부, 및 상기 웨이퍼에서 분리된 이물질과 퓸이 포함된 기체를 다면으로 배출시키기 위한 기체토출부,을 포함한다.
그리고 상기 기체분사부는, 상기 거치공간부의 개방된 부위로 기체를 분사하여 외부와 구획시키기 위한 제1기체분사부, 및 상기 거치대에 거치된 웨이퍼를 향하여 기체를 분사함에 따라, 웨이퍼에서 이물질과 퓸을 분리시키기 위한 제2기체분사부,를 포함한다.
또한, 그리고 상기 제1기체분사부는, 상기 챔버몸체의 상단부에 구비되어 기체를 상측에서 하측으로 분사하기 위한 제1상단분사부, 및 상기 챔버몸체의 양측단부에 각각 구비되어 기체를 측방향으로 분사하기 위한 제1측단분사부,를 포함한다.
그리고 상기 제1상단분사부는, 상기 제1측단분사부보다 전측에 위치되어 각각 기체를 분사함에 따라, 상기 거치공간부의 개방된 부위를 이중으로 차단시킨다.
또한, 상기 제2기체분사부는, 상기 챔버몸체의 일측단부에 구비되어 상기 거치공간부 방향으로 일정 각도로 기체를 분사하는 제2일측분사부, 및 상기 챔버몸체의 타측단부에 구비되어 상기 거치공간부 방향으로 일정 각도로 기체를 분사하는 제2타측분사부,를 포함한다.
그리고 상기 제2일측분사부와 제2타측분사부 중 어느 하나의 기체 분사각도는 다른 하나의 기체 분사각도보다 상기 거치공간부 방향으로 기체를 분사한다.
또한, 상기 제2일측분사부와 제2타측분사부를 지나는 연장선을 기준으로, 상기 제2일측분사부는 상기 거치공간부 방향으로 15 ~ 25°로 기체를 분사하고, 상기 제2타측분사부는 상기 거치공간부 방향으로 25 ~ 35°로 기체를 분사한다.
그리고 상기 챔버몸체의 각 엣지에 구비되어 상기 거치공간부로 기체를 분사하기 위한 엣지기체공급부,를 포함한다.
또한, 상기 엣지기체공급부는, 상기 챔버몸체의 전단부 해당 엣지에 구비되되, 부채꼴형상으로 형성되는 엣지하우징, 및 상기 엣지하우징의 호를 따라 형성되는 엣지분사부,를 포함한다.
그리고 상기 기체토출부는, 상기 챔버몸체의 후단부에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 후단토출부, 상기 챔버몸체의 일측단부에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 일측단토출부, 상기 챔버몸체의 타측단부에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 타측단토출부, 및 상기 후단토출부와 일측단토출부, 타측단토출부와 연통되어 각각 배출된 기체를 외부로 배출시키기 위한 메인토출부,를 포함한다.
또한, 상기 후단토출부는, 상기 챔버몸체의 후단부에 복수 개 형성되는 후단토출구, 및 상기 후단토출구의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 상기 챔버몸체의 후단부와의 사이에 후단토출공간부를 형성하는 후단토출하우징,을 포함한다.
그리고 상기 일측단토출부는, 상기 챔버몸체의 일측단부에 복수 개 형성되는 일측단토출구, 및 상기 일측단토출구의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 상기 챔버몸체의 일측단부와의 사이에 일측단배출공간부를 형성하는 일측단토출하우징,을 포함한다.
또한, 상기 타측단토출부는, 상기 챔버몸체의 타측단부에 복수 개 형성되는 타측단토출구, 및 상기 타측단토출구의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 상기 챔버몸체의 타측단부와의 사이에 타측단토출공간부를 형성하는 타측단토출하우징,을 포함한다.
그리고 상기 챔버몸체의 각 모서리에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 엣지토출부,를 더 포함한다.
또한, 상기 엣지토출부는, 상기 챔버몸체의 각 모서리에 형성되는 엣지토출구, 및 상기 엣지토출구의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 상기 챔버몸체의 모서리와의 사이에 엣지토출공간부를 형성하는 엣지토출하우징,을 포함한다.
그리고 상기 엣지토출구는, 상하방향으로 길게 형성된 슬롯이다.
또한, 상기 거치공간부의 폐쇄된 방향에서 내부를 확인할 수 있는 확인창,이 더 포함된다.
그리고 상기 확인창은, 상기 챔버몸체의 양측면 중 어느 하나 이상에 형성되는 제1확인창, 상기 제1확인창에 대응되도록 해당 측단배출하우징에 형성되는 제2확인창, 및 상기 제2확인창에 대응되도록 상기 몸체에 형성되는 제3확인창,을 포함한다.
또한, 상기 제1확인창과 제2확인창, 제3확인창은, 해당 부분에서 탈부착 가능하게 구비된다.
그리고 상기 기체공급수단은, 상기 기체분사부로 기체를 공급하기 위한 기체공급관, 기체가 충진된 기체탱크, 상기 기체탱크의 기체를 상기 기체공급관으로 공급하기 위한 기체공급펌프, 및 상기 기체공급관을 개폐하기 위한 공급밸브,를 포함한다.
그리고 상기 기체배출수단은, 상기 기체토출부에서 토출되는 기체를 배출시키기 위한 기체배출관, 상기 기체배출관을 통해 기체를 배출시키는 기체배출펌프, 및 상기 기체배출관을 개폐하기 위한 배출밸브,를 포함한다.
또한, 상기 기체배출관의 일부에 구비되어 다른 기체를 과급하여 배출되는 기체의 배출속도를 증가시킴에 따라, 기체 배출량을 증가시키기 위한 배출가속수단,을 더 포함한다.
그리고 상기 거치공간부에 웨이퍼의 거치 여부를 감지하기 위한 감지센서,가 상기 챔버에 구비되고, 상기 제어부는 감지센서의 감지신호를 수신하여 상기 공급밸브와 배출밸브를 제어하여 기체공급량과 기체배출량을 자동으로 조절한다.
또한, 공급되는 기체의 압력과 배출되는 기체의 압력을 실시간으로 표시하도록 상기 몸체에 구비되는 게이지부,가 더 포함된다.
그리고 상기 게이지부는, 상기 챔버의 거치공간부로 공급되는 기체의 압력을 실시간 표시하기 위한 공급게이지, 및 상기 챔버의 거치공간부에서 배출되는 기체의 압력을 실시간 표시하기 위한 배출게이지,를 포함한다.
또한, 상기 공급게이지는, 상기 기체공급수단에 구비되어 공급되는 기체의 압력을 표시하기 위한 제1공급게이지, 및 상기 기체분사부에 구비되어 공급되는 기체의 압력을 표시하기 위한 제2공급게이지,를 포함한다.
그리고 상기 배출게이지는, 상기 기체배출수단에 구비되어 배출되는 기체의 압력을 표시하기 위한 제1배출게이지, 및 상기 기체토출부에 구비되어 토출되는 기체의 압력을 표시하기 위한 제2배출게이지,를 포함한다.
또한, 경고를 발생하는 경고부,가 더 포함되며, 상기 제어부는, 상기 제1공급게이지와 제2공급게이지의 신호를 수신하여 비교하고, 상기 제1배출게이지와 제2배출게이지의 신호를 수신하여 비교하되, 일정 오차범위를 벗어날 경우, 상기 경고부를 제어하여 경고신호를 발생시킨다.
그리고 상기 제어부는, 상기 몸체에 구비되어 웨이퍼의 거치 여부와 기체 공급량 및 기체 배출량을 표시함은 물론, 조작하기 위한 터치스크린,을 더 포함한다.
또한, 상기 거치공간부의 온도와 습도를 측정하도록 상기 챔버몸체에 구비되는 온습도계,가 더 포함되고, 상기 제어부는 상기 온습도계의 신호를 수신하여 상기 터치스크린을 통해 실시간으로 표시하도록 제어한다.
그리고 상기 몸체의 하측을 지지하되, 설치높이를 조절하기 위한 복수의 다리부,를 더 포함한다.
또한, 상기 각 다리부는, 상기 몸체를 지지하기 위한 다리, 외주를 따라 나사산을 갖고, 상기 다리의 상측으로 돌출형성되는 높이조절봉, 및 상기 높이조절봉의 나사산이 체결되어 상기 다리와 몸체의 간격이 조절되는 높이조절너트,를 포함한다.
그리고 상기 몸체를 이동시키기 위한 이동부,가 더 구비된다.
또한, 상기 이동부는, 상기 몸체의 하단부에 구비되는 이동프레임, 및 상기 이동프레임에 회전 가능하도록 구비되는 이동바퀴,를 포함한다.
그리고 상기 이동바퀴는 상기 다리부의 높이조절에 의해 지면과 접하거나 이격된다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 웨이퍼 자동 관리 장치에 의하면, 웨이퍼가 거치되면, 기체를 자동으로 분사하여 웨이퍼의 이물질과 퓸을 분리한 후, 배출시키되, 데드존이 없이 기체를 전체로 균일하게 분사함은 물론, 배출시킬 수 있어 관리효율을 향상시킬 수 있게 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 자동 관리 장치를 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 자동 관리 장치의 설치상태를 도시한 도면이며,
도 3은 본 발명에 따른 챔버를 도시한 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 챔버의 평면도를 도시한 도면이며,
도 5는 본 발명에 따른 확인창을 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 기체배출수단과 제어부를 도시한 도면이며,
도 7은 본 발명에 따른 다리부를 도시한 도면이다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 형태를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부된 도면과 함께 이하에 개시될 상세한 설명은 본 발명의 예시적인 실시형태를 설명하고자 하는 것이며, 본 발명이 실시될 수 있는 유일한 실시형태를 나타내고자 하는 것이 아니다. 이하의 상세한 설명은 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해서 구체적 세부사항을 포함한다. 그러나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 이러한 구체적 세부사항 없이도 실시될 수 있음을 안다.
몇몇 경우, 본 발명의 개념이 모호해지는 것을 피하기 위하여 공지의 구조 및 장치는 생략되거나, 각 구조 및 장치의 핵심기능을 중심으로 한 블록도 형식으로 도시될 수 있다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함(comprising 또는 including)"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "…부"의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미한다. 또한, "일(a 또는 an)", "하나(one)", "그(the)" 및 유사 관련어는 본 발명을 기술하는 문맥에 있어서(특히, 이하의 청구항의 문맥에서) 본 명세서에 달리 지시되거나 문맥에 의해 분명하게 반박되지 않는 한, 단수 및 복수 모두를 포함하는 의미로 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 자동 관리 장치를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 자동 관리 장치의 설치상태를 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명에 따른 챔버를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 챔버의 평면도를 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명에 따른 확인창을 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 기체배출수단과 제어부를 도시한 도면이며, 도 7은 본 발명에 따른 다리부를 도시한 도면이다.
도면에서 도시한 바와 같이, 웨이퍼 자동 관리 장치(10)는 몸체(100)와 챔버(200), 기체공급수단(300), 기체배출수단(400) 및 제어부(500)로 구성된다.
몸체(100)는 외형을 형성하는 것으로, 상부몸체(110)와 하부몸체(120)로 구성된다.
상부몸체(110)는 내부에 챔버(200)가 설치되기 위한 제1설치공간부(112)를 갖되, 제1설치공간부(112)는 챔버(200)로 웨이퍼가 출입하도록 후측으로 개방된다.
그리고 하부몸체(120)는 내부에 제2설치공간부(122)가 형성되어 기체공급수단(300)과 기체배출수단(400)의 전부 또는 일부가 설치된다.
이러한 웨이퍼 자동 관리 장치(10)의 몸체(100)는 도 2에서 도시한 바와 같이, EFEM(Equipment Front End Module)의 측면에 구비되되, EFEM(Equipment Front End Module)의 측면에는 설치공(22)이 형성되고, 설치공(22)에 몸체(100)의 후면이 위치되어 설치공(20)과 몸체(100) 사이는 밀폐된다.
이에, 종래 EFEM(Equipment Front End Module)의 측면에 구비된 도어를 생략할 수 있다.
그리고 챔버(200)는 내부에 거치공간부(212)를 갖고, 복수의 웨이퍼를 수납하여 이물질과 퓸을 제거하기 위해 몸체(100)에 구비된다.
기체공급수단(300)은 챔버(200)로 기체를 공급하기 위해 구비되고, 기체배출수단(400)은 챔버(200)에서 배출되는 기체를 배출시키기 위해 구비된다.
또한 제어부(500)는 챔버(200)에 웨이퍼의 거치 여부에 따라, 기체공급수단(300)과 기체배출수단(400)을 제어하기 위해 구비된다.
이러한 웨이퍼 자동 관리 장치(10)의 작동상태를 살펴보면, EFEM(Equipment Front End Module) 과정을 거친 웨이퍼를 수납할 경우, 제어부(500)는 기체공급수단(300)과 기체배출수단(400)을 제어하여 기체를 자동으로 공급한다.
이에, 웨이퍼의 이물질과 퓸을 분리시킴은 물론, 데드존(Dead zon)이 신속하게 배출시킬 수 있다.
이를 위한, 챔버(200)는 도 3에서 도시한 바와 같이, 챔버몸체(210)와 거치대(220), 기체분사부(230) 및 기체토출부(240)를 포함한다.
챔버몸체(210)는 웨이퍼가 인출되도록 후측으로 개방된 거치공간부(212)가 내부에 형성된다.
그리고 거치대(220)는 챔버몸체(210)의 거치공간부(212)에 구비되어 복수의 웨이퍼를 일정 간격으로 거치시키기 위해 구비된다.
기체분사부(230)는 챔버몸체(210)의 거치공간부(212)로 기체를 분사하여 거치된 웨이퍼에서 이물질과 퓸을 분리시키기 위해 구비된다.
또한 기체토출부(240)는 웨이퍼에서 분리된 이물질과 퓸이 포함된 기체를 다면으로 배출시키기 위해 구비된다.
여기서, 기체는 질소(N2)를 사용함이 바람직하다.
이러한 챔버(200)에 의하면, 거치된 복수의 웨이퍼로 기체를 분사하여 이물질과 퓸을 분리시켜 함께 배출시킴은 물론, 데드존(Dead zone)을 방지하여 이물질과 퓸이 포함된 기체가 거치공간부(212)에 정체되는 것을 방지한다.
이를 위한, 기체분사부(230)는 제1기체분사부(232)와 제2기체분사부(234)로 구성된다.
제1기체분사부(232)는 거치공간부(212)의 개방된 부위로 기체를 분사하여 외부와 구획시키기 위해 구비된다.
그리고 제2기체분사부(234)는 거치대(220)에 거치된 웨이퍼를 향하여 기체를 분사함에 따라, 웨이퍼에서 이물질과 퓸을 분리시키기 위해 구비된다.
이러한 제1기체분사부(232)는 제1상단분사부(2322)와 제1측단분사부(2324)로 구성된다.
제1상단분사부(2322)는 챔버몸체(210)의 상단부에 구비되어 기체를 상측에서 하측으로 분사하기 위해 구비된다.
또한 제1측단분사부(2324)는 챔버몸체(210)의 양측단부에 각각 구비되어 기체를 측방향으로 분사하기 위해 구비된다.
여기서, 제1상단분사부(2322)는 제1측단분사부(2324)보다 전측에 위치되어 각각 기체를 분사함에 따라, 거치공간부(212)의 개방된 부위를 이중으로 차단시킨다.
그리고 제2기체분사부(234) 도 4에서 도시한 바와 같이, 제2일측분사부(2342)와 제2타측분사부(2344)로 구성된다.
제2일측분사부(2342)는 챔버몸체(210)의 일측단부에 구비되어 거치공간부(212) 방향으로 일정 각도로 기체를 분사한다.
또한 제2타측분사부(2344)는 챔버몸체(210)의 타측단부에 구비되어 거치공간부(212) 방향으로 일정 각도로 기체를 분사한다.
여기서, 제2일측분사부(2342)와 제2타측분사부(2344) 중 어느 하나의 기체 분사각도는 다른 하나의 기체 분사각도보다 거치공간부(212) 방향으로 기체를 분사한다.
일 실시 예로, 제2일측분사부(2342)와 제2타측분사부(2344)를 지나는 연장선(A)을 기준으로, 제2일측분사부(2342)는 거치공간부(212) 방향으로 15 ~ 25°로 기체를 분사하고, 제2타측분사부(2344)는 거치공간부(212) 방향으로 25 ~ 35°로 기체를 분사한다.
바람직하게, 제2일측분사부(2342)는 거치공간부(212) 방향으로 20°로 분사하고, 제2타측분사부(2344)는 거치공간부(212) 방향으로 30°로 분사한다.
또한 챔버몸체(210)의 각 엣지에 구비되어 거치공간부(212)로 기체를 분사하기 위한 엣지기체공급부(236)를 포함한다.
이 엣지기체공급부(236)는 엣지하우징(2362)과 엣지분사부(2364)로 구성된다.
엣지하우징(2362)은 챔버몸체(210)의 전단부 해당 엣지에 구비되되, 부채꼴형상으로 형성된다.
그리고 엣지분사부(2364)는 엣지하우징(2362)의 호를 따라 형성되어 기체를 분사함에 따라, 거치공간부(212)의 각 엣지에 데드존(Dead zone)이 형성되는 것을 방지한다.
또한 기체토출부(240)는 후단토출부(242)와 일측단토출부(244), 타측단토출부(246) 및 메인토출부(248)로 구성된다.
후단토출부(242)는 챔버몸체(210)의 후단부에 구비되어 기체를 배출시키고, 일측단토출부(244)는 챔버몸체(210)의 일측단부에 구비되어 기체를 배출시킨다.
그리고 타측단토출부(246)는 챔버몸체(210)의 타측단부에 구비되어 기체를 배출시킨다.
메인토출부(248)는 후단토출부(242), 일측단토출부(244), 타측단토출부(246)와 연통되어 각각 배출된 기체를 외부로 배출시키기 위해 구비된다.
이 후단토출부(242)는 후단토출구(2422)와 후단토출하우징(2424)으로 구성된다.
후단토출구(2422)는 챔버몸체(210)의 후단부에 복수 개 형성된다.
그리고 후단토출하우징(2424)은 후단토출구(2422)의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 챔버몸체(210)의 후단부와의 사이에 후단토출공간부(2426)를 형성한다.
후단토출구(2422)를 통해 배출되는 기체는 후단토출공간부(2426)로 이동 후, 메인토출부(248)를 따라 외부로 배출된다.
그리고 이 후단토출부(242)는 후단토출구(2422)와 후단토출하우징(2424)으로 구성된다.
후단토출구(2422)는 챔버몸체(210)의 후단부에 복수 개 형성된다.
그리고 후단토출하우징(2424)은 후단토출구(2422)의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 챔버몸체(210)의 후단부와의 사이에 후단토출공간부(2426)를 형성한다.
후단토출구(2422)를 통해 배출되는 기체는 후단토출공간부(2426)로 이동 후, 메인토출부(248)를 따라 외부로 배출된다.
또한 일측단토출부(244)는 일측단토출구(2442)와 일측단토출하우징(2444)으로 구성된다.
일측단토출구(2442)는 챔버몸체(210)의 일측단부에 복수 개 형성된다.
그리고 일측단토출하우징(2444)은 일측단토출구(2442)의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 챔버몸체(210)의 일측단부와의 사이에 일측단토출공간부(2446)를 형성한다.
일측단토출구(2442)를 통해 배출되는 기체는 일측단토출공간부(2446)로 이동 후, 메인토출부(248)를 따라 외부로 배출된다.
또한 타측단토출부(246)는 타측단토출구(2462)와 타측단토출하우징(2464)으로 구성된다.
타측단토출구(2462)는 챔버몸체(210)의 타측단부에 복수 개 형성된다.
그리고 타측단토출하우징(2464)은 타측단토출구(2462)의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 챔버몸체(210)의 타측단부와의 사이에 타측단토출공간부(2466)를 형성한다.
타측단토출구(2462)를 통해 토출되는 기체는 타측단토출공간부(2466)로 이동 후, 메인토출부(248)를 따라 외부로 배출된다.
또한 챔버몸체(210)의 각 모서리에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 엣지토출부(250)를 더 포함한다.
이 엣지토출부(250)는 엣지토출구(252)와 엣지토출하우징(254)으로 구성된다.
엣지토출구(252)는 챔버몸체(210)의 각 모서리에 형성된다.
그리고 엣지토출하우징(254)은 엣지토출구(252)의 외측으로 일정간격 이격되도록 구비되어 챔버몸체(210)의 모서리와의 사이에 엣지토출공간부(256)를 형성한다.
이러한 엣지토출구(252)는 상하방향으로 길게 형성된 슬롯형상으로 형성된다.
여기서, 엣지토출구(252)를 통해 엣지토출공간부(256)로 이동된 기체는 메인토출부(248)를 통해 외부로 배출된다.
그리고 도 5에서 도시한 바와 같이, 챔버몸체(210)의 거치공간부(212)의 폐쇄된 방향에서 내부를 확인할 수 있는 확인창(260)이 더 포함된다.
이 확인창(260)은 제1확인창(262)과 제2확인창(264) 및 제3확인창(266)으로 구성된다.
제1확인창(262)은 챔버몸체(210)의 양측면 중 어느 하나 이상에 형성되고, 제2확인창(264)은 제1확인창(262)에 대응되도록 해당 측단배출하우징(2444, 2464)에 형성된다.
그리고 제3확인창(266)은 제2확인창(264)에 대응되도록 몸체(100)에 형성된다.
이러한 제1확인창(262)과 제2확인창(264) 및 제3확인창(266)을 통해 외측에서 거치공간부(212)를 확인할 수 있어 상태를 확인하고 신속하게 대처할 수 있다.
이와 같은, 제1확인창(262)과 제2확인창(264) 및 제3확인창(266)은 해당 부분에서 탈부착 가능하게 구비되는 것으로, 챔버몸체(210)와 해당 측단배출하우징(2444, 2464) 및 상부몸체(110)에 탈부착 가능하도록 구비된다.
이에, 거치공간부(212)의 상태를 외측에서 실시간으로 확인할 수 있어 필요한 초취를 신속하게 취할 수 있다.
그리고 기체공급수단(300)은 도 6에서 도시한 바와 같이, 기체공급관(310)과 기체탱크(320), 기체공급펌프(330) 및 공급밸브(340)로 구성된다.
기체공급관(310)은 기체분사부(230)로 기체를 공급하기 위해 구비되고, 기체탱크(320)는 기체가 충진된다.
또한 기체공급펌프(330)는 기체탱크(320)의 기체를 기체공급관(310)으로 공급하기 위해 구비된다.
공급밸브(340)는 기체공급관(310)을 개폐하기 위해 구비된다.
그리고 기체배출수단(400)은 기체배출관(410)과 기체배출펌프(420) 및 배출밸브(430)로 구성된다.
기체배출관(410)은 기체토출부(240)에서 토출되는 기체를 배출시키기 위해 구비되고, 기체배출펌프(420)는 기체배출관(410)을 통해 기체를 배출시키기 위해 구비된다.
또한 배출밸브(430)는 기체배출관(410)을 개폐하기 위해 구비된다.
여기서, 기체배출수단(400)에는 배출가속수단(440)이 더 구비된다.
이 배출가속수단(440)은 기체배출관(410)의 일부에 구비되어 다른 기체를 과급하여 배출되는 기체의 배출속도를 증가시킴에 따라, 기체 배출량을 증가시키기 위해 구비된다.
이러한 배출가속수단(440)은 기체배출관(410)으로 별도의 기체를 과급하되, 배출되는 기체의 배출방향과 직교되는 방향으로 별도의 기체를 과급하여 배출속도를 증가시킴에 따라, 신속한 배출이 이루어진다.
그리고 거치공간부(212)에 웨이퍼의 거치 여부를 감지하기 위한 감지센서(510)가 챔버(200)에 구비되고, 상기 제어부는 감지센서의 감지신호를 수신하여 상기 공급밸브와 배출밸브를 제어하여 기체공급량과 기체배출량을 자동으로 조절한다.
또한 공급되는 기체의 압력과 배출되는 기체의 압력을 실시간으로 표시하도록 몸체(100)에 구비되는 게이지부(520)가 더 포함된다.
게이지부(520)는 공급게이지(522)와 배출게이지(524)로 구성된다.
공급게이지(522)는 챔버(200)의 거치공간부(212)로 공급되는 기체의 압력을 실시간 표시하기 위해 구비된다.
이 공급게이지(522)는 제1공급게이지(5222)와 제2공급게이지(5224)로 구성된다.
제1공급게이지(5222)는 기체공급수단에 구비되어 공급되는 기체의 압력을 표시하기 위해 구비된다.
또한 제2공급게이지(5224)는 기체분사부(230)에 구비되어 공급되는 기체의 압력을 표시하기 위해 구비된다.
그리고 배출게이지(524)는 챔버(200)의 거치공간부(212)에서 배출되는 기체의 압력을 실시간 표시하기 위해 구비된다.
이 배출게이지(524)는 제1배출게이지(5242)와 제2배출게이지(5244)로 구성된다.
제1배출게이지(5242)는 기체배출수단(400)에 구비되어 배출되는 기체의 압력을 표시하기 위해 구비된다.
또한 제2배출게이지(5244)는 기체토출부(240)에 구비되어 토출되는 기체의 압력을 표시하기 위해 구비된다.
그리고 웨이퍼 자동 관리 장치(10)는 경고를 발생하는 경고부(530)가 더 구비된다.
제어부(500)는 제1공급게이지(5222)와 제2공급게이지(5224)의 신호를 수신하여 비교하고, 제1배출게이지(5242)와 제2배출게이지(5244)의 신호를 수신하여 비교한다.
각 게이지의 신호 비교 값이 일정 오차범위를 벗어날 경우, 경고부(530)를 제어하여 경고신호를 발생시킨다.
또한 제어부(500)는 몸체(100)에 구비되어 웨이퍼의 거치 여부와 기체 공급량 및 기체 배출량을 표시함은 물론, 조작하기 위한 터치스크린(540)을 더 포함한다.
이 터치스크린(540)을 통해 챔버(200)의 거치공간부(212) 상태를 확인할 수 있고, 용이하게 조작할 수 있다.
그리고 거치공간부(212)의 온도와 습도를 측정하도록 챔버몸체(210)에 구비되는 온습도계(550)가 더 포함된다.
제어부(500)는 온습도계(550)의 신호를 수신하여 터치스크린(540)을 통해 실시간으로 표시하도록 제어한다.
또한 도 7에서 도시한 바와 같이, 몸체(100)의 하측을 지지하되, 설치높이를 조절하기 위한 복수의 다리부(600)를 더 포함한다.
이 각 다리부(600)는 다리(610)와 높이조절봉(620), 높이조절너트(630)로 구성된다.
다리(610)는 몸체(100)를 지지하기 위해 구비된다.
그리고 높이조절봉(620)은 외주를 따라 나사산을 갖고, 다리(610)의 상측으로 돌출형성된다.
높이조절너트(630)는 몸체(100) 하단부에 고정되되, 높이조절봉(620)의 나사산이 체결되어 다리(610)와 몸체(100)의 간격이 조절된다.
여기서, 몸체(100)를 이동시키기 위한 이동부(640)가 더 구비된다.
이 이동부(640)는 이동프레임(642)과 이동바퀴(644)로 구성된다.
이동프레임(642)은 몸체(100)의 하단부에 구비되고, 이동바퀴(644)는 이동프레임(642)에 회전 가능하도록 구비된다.
이러한 이동바퀴(644)는 다리부(600)의 높이조절에 의해 지면과 접하거나 지면과 이격된다.
이동바퀴(644)가 지면에 닿도록 다리(610)를 상측으로 이동시키며, 웨이퍼 자동 관리 장치(10)를 용이하게 이동시킬 수 있다.
반대로, 다리(610)를 하측으로 이동시켜 이동바퀴(644)가 지면에서 이격될 경우, 웨이퍼 자동 관리 장치(10)를 지면에 고정시켜 설치할 수 있다.
10 : 웨이퍼 자동 관리 장치 100 : 몸체
200 : 챔버 210 : 챔버몸체
220 : 거치대 230 : 기체분사부
240 : 기체토출부 300 : 기체공급수단
400 : 기체배출수단 500 : 제어부

Claims (10)

  1. 외형을 형성하는 몸체;
    내부에 거치공간부를 갖고, 복수의 웨이퍼를 수납하여 이물질과 퓸을 제거하기 위해 상기 몸체에 구비되는 챔버;
    상기 챔버로 기체를 공급하기 위한 기체공급수단;
    상기 챔버에서 배출되는 기체를 배출시키기 위한 기체배출수단; 및
    상기 챔버에 웨이퍼의 거치 여부에 따라, 상기 기체공급수단과 기체배출수단을 제어하기 위한 제어부;를 포함하며,
    상기 챔버는,
    웨이퍼가 인출되도록 후측으로 개방된 거치공간부가 내부에 형성되는 챔버몸체;
    상기 거치공간부에 구비되어 복수의 웨이퍼를 일정 간격으로 거치시키기 위한 거치대;
    상기 거치공간부로 기체를 분사하여 거치된 웨이퍼에서 이물질과 퓸을 분리시키기 위한 기체분사부; 및
    상기 웨이퍼에서 분리된 이물질과 퓸이 포함된 기체를 다면으로 배출시키기 위한 기체토출부;을 포함하고,
    상기 기체분사부는,
    상기 거치공간부의 개방된 부위로 기체를 분사하여 외부와 구획시키기 위한 제1기체분사부; 및
    상기 거치대에 거치된 웨이퍼를 향하여 기체를 분사함에 따라, 웨이퍼에서 이물질과 퓸을 분리시키기 위한 제2기체분사부;를 포함하며,
    상기 제1기체분사부는,
    상기 챔버몸체의 상단부에 구비되어 기체를 상측에서 하측으로 분사하기 위한 제1상단분사부; 및
    상기 챔버몸체의 양측단부에 각각 구비되어 기체를 측방향으로 분사하기 위한 제1측단분사부;를 포함하고,
    상기 제1상단분사부는,
    상기 제1측단분사부보다 전측에 위치되어 각각 기체를 분사함에 따라, 상기 거치공간부의 개방된 부위를 이중으로 차단시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 몸체는,
    내부에 상기 챔버가 설치되기 위한 제1설치공간부를 갖되, 상기 제1설치공간부는 챔버로 웨이퍼가 출입하도록 후측으로 개방되는 상부몸체; 및
    내부에 제2설치공간부를 갖고, 상기 상부몸체의 하측에 구비되는 하부몸체;를 포함하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 상기 기체토출부는,
    상기 챔버몸체의 후단부에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 후단토출부;
    상기 챔버몸체의 일측단부에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 일측단토출부;
    상기 챔버몸체의 타측단부에 구비되어 기체를 배출시키기 위한 타측단토출부; 및
    상기 후단토출부와 일측단토출부, 타측단토출부와 연통되어 각각 배출된 기체를 외부로 배출시키기 위한 메인토출부;를 포함하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 기체공급수단은,
    상기 기체분사부로 기체를 공급하기 위한 기체공급관;
    기체가 충진된 기체탱크;
    상기 기체탱크의 기체를 상기 기체공급관으로 공급하기 위한 기체공급펌프; 및
    상기 기체공급관을 개폐하기 위한 공급밸브;를 포함하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 기체배출수단은,
    상기 기체토출부에서 토출되는 기체를 배출시키기 위한 기체배출관;
    상기 기체배출관을 통해 기체를 배출시키는 기체배출펌프; 및
    상기 기체배출관을 개폐하기 위한 배출밸브;를 포함하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 거치공간부에 웨이퍼의 거치 여부를 감지하기 위한 감지센서;가 상기 챔버에 구비되고,
    상기 제어부는 감지센서의 감지신호를 수신하여 상기 공급밸브와 배출밸브를 제어하여 기체공급량과 기체배출량을 자동으로 조절하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제어부는,
    상기 몸체에 구비되어 웨이퍼의 거치 여부와 기체 공급량 및 기체 배출량을 표시함은 물론, 조작하기 위한 터치스크린;을 더 포함하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 몸체의 하측을 지지하되, 설치높이를 조절하기 위한 복수의 다리부;를 더 포함하는 웨이퍼 자동 관리 장치.
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