KR101931308B1 - Method for manufacturing photo conductor aluminum drum - Google Patents

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Abstract

개시되는 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법은, 원통형 알루미늄 기재를 탈지하는 탈지 공정; 상기 탈지 공정에 의해 탈지된 원통형 알루미늄 기재를 황산을 함유하며 0℃~15℃의 온도로 준비된 에칭액에 담가 원통형 알루미늄 기재의 표면을 균일하게 처리하는 에칭 공정; 상기 에칭 공정에 의해 에칭 처리된 원통형 알루미늄 기재를 물로 씻어 내는 수세 공정; 및 상기 수세 공정에 의해 수세 된 원통형 알루미늄 기재의 외면에 감광 도료를 도포하고 열 경화시키는 감광체 형성 공정;을 포함한다.A manufacturing method of an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum, which is disclosed, comprises: a degreasing step of degreasing a cylindrical aluminum substrate; An etching step of immersing the cylindrical aluminum substrate degreased by the degreasing process in an etching solution containing sulfuric acid at a temperature of 0 캜 to 15 캜 to uniformly treat the surface of the cylindrical aluminum substrate; A washing step of washing the cylindrical aluminum substrate subjected to the etching treatment by the etching step with water; And a photoreceptor forming step of applying a photosensitive coating material to the outer surface of the cylindrical aluminum substrate washed by the water washing step and thermally curing the photosensitive coating material.

Description

전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법{Method for manufacturing photo conductor aluminum drum}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum,

본 발명(Disclosure)은, 복사기, 레이저 프린터의 주요 부품인 카트리지를 구성하는 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 종래 알루미늄 드럼의 표면처리를 위한 아노다이징 공정을 제거하여 공정시간 및 공정비용을 감소시킬 수 있는 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에 관한 것이다.The present invention (Disclosure) relates to a manufacturing method of an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum constituting a cartridge which is a main component of a copying machine and a laser printer. More particularly, the present invention relates to a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum, which can reduce an anodizing process for surface treatment of an aluminum drum to reduce a processing time and a process cost.

여기서는, 본 발명에 관한 배경기술이 제공되며, 이들이 반드시 공지기술을 의미하는 것은 아니다(This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art).Herein, the background art relating to the present invention is provided, and they are not necessarily referred to as known arts.

전자사진 기술 분야는 복사기로부터 응용되기 시작하여 프린터분야에서도 고속성, 고화질의 장점으로 인하여 급속히 확산 이용되고 있다. The field of electrophotography has begun to be applied to copying machines and has spread rapidly in the field of printers due to its high quality and high image quality.

이들은 제전(除電, grounding static electricity)된 감광체 상에 빛을 조사하여 잠상을 형성하고, 토너의 현상에 의하여 가시화 및 화상을 얻는 것으로서 복사 또는 인자 속도가 매우 빠른 방식이다.They form a latent image by irradiating light onto a photoreceptor subjected to de-electrification (grounding static electricity), obtain visualization and image by developing the toner, and have a very fast copying or printing speed.

이러한 전자사진방식으로 이용되는 감광체에서 요구되는 특성은 제전성, 전하유지성, 광응답성, 전하수송성, 반복 안정성, 내환경성, 내정련 파괴특성, 내마모성, 화상의선명성 등이 요구된다.The properties required for such a photoconductor to be used in the electrophotographic method are required to be antistatic, charge retentivity, light responsiveness, charge transportability, repetitive stability, environmental resistance, refractory fracture characteristics, abrasion resistance, image sharpness and the like.

감광체의 감광층을 형성하는 감광물질은 경량성, 가격성, 안정성의 면에서 유기 광도전재료(OPC, Organic Photo Conductor)를 이용하고 있으며, 감광체 기재로는 경량성, 내부식성, 저렴한 가격 등의 장점으로 인하여 ‘관 형상의 알루미늄 재질의 기재’이하 ‘알루미늄 기재’가 이용되고 있다.The photosensitive material forming the photosensitive layer of the photoreceptor uses an organic photoconductive material (OPC, Organic Photo Conductor) from the viewpoints of light weight, cost, and stability. The photoreceptor base material is lightweight, corrosion resistant, Due to its advantages, 'tubular aluminum base material' and 'aluminum base material' have been used.

한편, 감광체 기재와 감광층 사이의 접착성 향상을 위해, 알루미늄 기재의 표면을 양극산화에 의하여 피막을 형성(아노다이징, Anodizing)시키는 공정이 이용되고 있다.On the other hand, in order to improve the adhesion between the photoreceptor base material and the photosensitive layer, a process of forming a film (anodizing) on the surface of the aluminum base material by anodic oxidation is used.

알루미늄 기재의 양극산화에 의한 피막 형성 공정은, 알루미늄 기재를 전해액에서 양극으로 하고 전기를 통하면 양극에 발생하는 산소에 의해서 알루미늄 표면을 산화시켜 산화알루미늄 피막을 형성시킨 후, 산화피막을 봉공 처리한 후 수세하는 공정을 거친다. In the step of forming the film by anodic oxidation of the aluminum substrate, the aluminum surface is oxidized by the oxygen generated on the anode when the aluminum substrate is used as the anode in the electrolytic solution and electricity is generated to form an aluminum oxide film, Followed by washing with water.

그러나 양극산화 된 알루미늄 피막에 감광 도료를 도포하여 열 경화시키는 과정에서 산화피막의 균열이 종종 발생 되고, 이러한 균열된 피막은 화상의 해상도가 떨어지는 원인이 되며, 이러한 상기 피막의 균열은 전해액의 농도나 온도가 높은 경우 피막이 지나치게 두껍게 형성되는 경우에 빈번히 발생되며, 이를 방지하기 위해, 양극산화 시 전해액의 종류, 농도, 전압, 전류의 성질, 전류밀도, 온도, 전해시간, 알루미늄의 재질, 가공 상태에 대한 적합한 조건을 선정하는 것이 요구된다. However, cracking of the oxide film often occurs during the process of applying a photosensitive paint to an anodized aluminum film and thermally curing the film. Such a cracked film causes a decline in the resolution of the image. Such cracking of the film causes the concentration of the electrolyte In the case of anodic oxidation, the type, concentration, voltage, current property, current density, temperature, electrolytic time, aluminum material, and processing state of the electrolyte during the anodic oxidation It is required to select suitable conditions for

한편, 양극산화에 의한 알루미늄 피막은 다공질이며 흡착성이 있기 때문에 피막이 오염되기 쉽고 구멍 내부에 황산 등의 잔류물이 있어서 후에 부식의 원인도 되기도 하여 봉공처리를 하게 되는 데, 봉공 처리는 고압 수증기, 고온의 순수, 화학약품의 고온용액 등에서 처리를 함으로서 이루어진다. On the other hand, the aluminum film formed by the anodic oxidation is porous and adsorbable, so that the film tends to be contaminated, and residual substances such as sulfuric acid are left in the holes, Of pure water, a high-temperature solution of a chemical, and the like.

한편, 양극산화에 의한 알루미늄 피막의 특성은 산화알루미늄 피막을 형성하기 전 전처리 공정에 의해서 크게 영향을 받게 된다. 통상적으로 전자사진 감광용 알루미늄 드럼에 사용되는 원통형 알루미늄 기재는 절삭공정에 의해 적당한 크기로 절단되는데 이때 사용되는 절삭유 성분이 알루미늄 기재에 잔존하는 경우 양극산화에 의해 형성되는 산화알루미늄 피막에 얼룩 또는 핀홀 등의 불량이 발생하게 된다. On the other hand, the characteristics of the aluminum film by the anodic oxidation are greatly influenced by the pretreatment process before forming the aluminum oxide film. In general, a cylindrical aluminum base material used for an electrophotographic photosensitive aluminum drum is cut to a suitable size by a cutting process. When a cutting oil component used in the aluminum base material remains on the aluminum base material, an aluminum oxide film formed by anodic oxidation A failure occurs.

또한, 알루미늄 기재는 표면의 거칠기가 심한 경우 균일한 산화알루미늄 피막을 형성할 수 없게 되고 이로 인해 균열이나 파임 등의 불량이 발생하게 된다.Further, when the roughness of the surface of the aluminum base material is severe, a uniform aluminum oxide film can not be formed, thereby causing defects such as cracks and pitting.

이러한 산화알루미늄 피막의 불량은 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 불량 또는 수명 단축의 원인이 된다.This deficiency of the aluminum oxide coating film causes defective or shortened life span of the aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum.

알루미늄 기재의 표면 처리에 대한 종래 기술로서 한국공개특허공보 제10-2001-0039922호, 한국등록특허공보 제10-0525686호를 예로 들 수 있다.For example, Korean Patent Laid-open Publication No. 10-2001-0039922 and Korean Patent Publication No. 10-0525686 can be cited as prior arts for the surface treatment of aluminum substrates.

그러나 이들 종래기술은, 양극산화 공정의 전처리 공정으로 소개되고 있어서 감광체 기재와 감광층 사이의 접착성 향상을 위해서는 후속으로 양극산화 공정이 반드시 요구된다. However, these prior arts have been introduced in the pre-processing step of the anodic oxidation process, and an anodization process is necessarily required to improve the adhesion between the photosensitive substrate and the photosensitive layer.

1. 한국공개특허공보 제10-2001-0039922호1. Korean Patent Publication No. 10-2001-0039922 2. 한국등록특허공보 제10-0525686호2. Korean Patent Registration No. 10-0525686

본 발명(Disclosure)은, 본 발명은, 아노다이징 공정을 제거하여 알루미늄 관의 표면에 대한 감광 도료의 적정한 접착성을 구현하기 위해 알루미늄 관의 표면처리공정에 소요되는 공정시간 및 공정비용을 크게 절감할 수 있는 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법의 제공을 일 목적으로 한다.Disclosure of the Invention Disclosure of the present invention is to reduce the process time and process cost required for the surface treatment of an aluminum pipe in order to realize an appropriate adhesion of a photosensitive paint to the surface of an aluminum pipe by removing the anodizing process And an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum.

여기서는, 본 발명의 전체적인 요약(Summary)이 제공되며, 이것이 본 발명의 외연을 제한하는 것으로 이해되어서는 아니 된다(This section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all of its features).The present invention is not intended to be exhaustive or to limit the scope of the present invention to the full scope of the present invention. of its features).

상기한 과제의 해결을 위해, 본 발명의 일 태양(aspect)에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법은, 원통형 알루미늄 기재를 탈지하는 탈지 공정; 상기 탈지 공정에 의해 탈지된 원통형 알루미늄 기재를 황산을 함유하며 0℃~15℃의 온도로 준비된 에칭액에 담가 원통형 알루미늄 기재의 표면을 균일하게 처리하는 에칭 공정; 상기 에칭 공정에 의해 에칭 처리된 원통형 알루미늄 기재를 물로 씻어 내는 수세 공정; 및 상기 수세 공정에 의해 수세 된 원통형 알루미늄 기재의 외면에 감광 도료를 도포하고 열 경화시키는 감광체 형성 공정;을 포함한다.In order to solve the above problems, a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an aspect of the present invention includes: a degreasing step of degreasing a cylindrical aluminum substrate; An etching step of immersing the cylindrical aluminum substrate degreased by the degreasing process in an etching solution containing sulfuric acid at a temperature of 0 캜 to 15 캜 to uniformly treat the surface of the cylindrical aluminum substrate; A washing step of washing the cylindrical aluminum substrate subjected to the etching treatment by the etching step with water; And a photoreceptor forming step of applying a photosensitive coating material to the outer surface of the cylindrical aluminum substrate washed by the water washing step and thermally curing the photosensitive coating material.

본 발명의 일 태양(aspect)에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에서, 상기 에칭 공정에서, 상기 에칭액은, 2℃~12℃의 온도로 준비되는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an aspect of the present invention, in the etching step, the etchant is preferably prepared at a temperature of 2 ° C to 12 ° C.

본 발명의 일 태양(aspect)에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에서, 상기 에칭 공정에서, 상기 에칭액은, 황산이 10~20%농도로 희석되어 준비되는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an aspect of the present invention, it is preferable that in the etching step, the etching solution is prepared by diluting sulfuric acid to a concentration of 10 to 20%.

본 발명의 일 태양(aspect)에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에서, 상기 에칭 공정은, 전류의 인가 없이 15분~20분의 시간 범위 내에서 진행되는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an aspect of the present invention, it is preferable that the etching process is performed within a time range of 15 minutes to 20 minutes without application of an electric current.

본 발명의 일 태양(aspect)에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에서, 상기 탈지 공정은, 초음파를 인가하는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an aspect of the present invention, it is preferable that ultrasonic waves are applied to the degreasing step.

본 발명의 일 태양(aspect)에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에서, 상기 에칭액은, 인산, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 2-아미노-2-메틸-2-프로판올, 3-아미노-1-프로판올, 2-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올 및 1-아미노-펜탄올 중 적어도 하나 이상이 추가되어 준비되는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an aspect of the present invention, the etching solution is selected from the group consisting of phosphoric acid, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2-amino- Amino-1-propanol, 2-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol and 1-amino-pentanol are preferably added.

본 발명에 의하면, 아노다이징 공정(양극산화 공정)의 진행 없이, 알루미늄 기판의 에칭 공정만으로 감광체 기재와 감광층 사이의 적정한 접착성이 구현되므로, 공정시간 및 공정비용을 크게 절감시킬 수 있다.According to the present invention, since proper adhesion between the photosensitive material substrate and the photosensitive layer is realized only by the etching process of the aluminum substrate without proceeding with the anodizing process (anodizing process), the process time and the process cost can be greatly reduced.

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법을 설명하기 위한 도면.
도 2는, 도 1에서 탈지 공정 후 알루미늄 기재의 표면 SEM 사진.
도 3은, 도 1에서 에칭 공정 후 알루미늄 기재의 표면 SEM 사진.
도 4는, 도 1의 탈지 공정 후 종래 아노다이징 공정을 거친 알루미늄 기재의 표면 SEM 사진.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view for explaining a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an embodiment of the present invention; FIG.
Fig. 2 is a SEM photograph of the surface of the aluminum substrate after the degreasing step in Fig. 1; Fig.
Fig. 3 is a photograph of the surface SEM of the aluminum substrate after the etching process in Fig. 1; Fig.
4 is a photograph of a surface SEM of an aluminum substrate subjected to a conventional anodizing process after the degreasing process of FIG. 1;

이하, 본 발명에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법을 구현한 실시형태를 도면을 참조하여 자세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

다만, 본 발명의 사상은 이하에서 설명되는 실시형태에 의해 그 실시 가능 형태가 제한된다고 할 수는 없고, 본 발명의 사상을 이해하는 통상의 기술자는 본 개시와 동일한 기술적 사상의 범위 내에 포함되는 다양한 실시 형태를 치환 또는 변경의 방법으로 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 기술적 사상에 포함됨을 밝힌다.It is to be understood, however, that the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below, and those skilled in the art of the present invention, other than the scope of the present invention, It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention.

또한, 이하에서 사용되는 용어는 설명의 편의를 위하여 선택한 것이므로, 본 발명의 기술적 내용을 파악하는 데 있어서, 사전적 의미에 제한되지 않고 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미로 적절히 해석되어야 할 것이다. In addition, the terms used below are selected for convenience of explanation. Therefore, the technical meaning of the present invention should not be limited to the prior meaning, but should be properly interpreted in accordance with the technical idea of the present invention.

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining a method of manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시형태에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법은, 탈지 공정(S10), 에칭 공정(S20), 수세 공정(S30) 및 감광체 형성 공정(S40)을 포함한다.Referring to Fig. 1, the method for manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to the present embodiment includes a degreasing step (S10), an etching step (S20), a washing step (S30) and a photoreceptor forming step (S40).

각 공정을 자세하게 설명하기에 앞서, 본 발명의 가장 큰 특징은, 종래 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법에서 필수적으로 적용하는 공정인 양극산화공정, 즉 아노다이징(Anodizing) 공정 - 금속 재질의 표면을 의도적으로 산화·부식 시켜 생긴 산화막 자체가 외부의 영향으로부터 제품을 보호하는 역할을 하게 하고 그 다공성 표면 위에 착색도 가능하게 하는 표면 처리법 - 이 제거된 점이다.Prior to describing each process in detail, the most important feature of the present invention is that an anodizing process, that is, an anodizing process, which is a process that is essentially applied in a conventional method for manufacturing an electrophotographic photosensitive drum, This is because the oxide film itself created by intentionally oxidizing and corroding has a role of protecting the product from external influences and a surface treatment method which enables coloring on the porous surface.

이로 인해, 양극산화 공정에 요구되는 공정시간 및 공정비용을 절감할 수 있음은 물론, 양극산화 공정 후 반드시 요구되는 봉공 공정 - 양극산화 공정에 의해 알루미늄 기재의 표면에 발생 되는 핀홀(pin-hole)을 메우기 위한 공정 - 이 필요 없어진다.Therefore, not only the process time and process cost required for the anodic oxidation process can be reduced, but also the pin-hole generated on the surface of the aluminum substrate by the anodic oxidation process, which is necessarily required after the anodization process, A process for filling the gap is not necessary.

결국, 본 발명은 에칭 공정(S20)에 새로운 공정조건을 채용함으로써, 종래 양극산화 공정 및 봉공 공정을 거칠 필요가 없게 한 점을 특징으로 한다.As a result, the present invention is characterized by adopting a new process condition in the etching step (S20), so that there is no need to undergo the conventional anodic oxidation process and the sealing process.

여기서, 새로운 공정조건은, 에칭 공정(S20)이 수행되는 용액의 종류와 그 온도를 제한한 것이다. 구체적으로 종래 에칭 공정은, 상온 내지 60℃에서 수행되는데 반해, 본 발명에서 에칭 공정(S20)은 0℃~15℃의 황산용액으로 상대적으로 저온인 점에 특징을 가진다. Here, the new process conditions are limited to the kind of the solution to be subjected to the etching step (S20) and the temperature thereof. Specifically, in the conventional etching process, the etching process (S20) in the present invention is characterized by a relatively low temperature with a sulfuric acid solution of 0 ° C to 15 ° C, while the etching process is performed at a room temperature to 60 ° C.

이하 본 실시형태에 따른 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법의 각 공정에 대해 설명한다.Each step of the method for manufacturing an aluminum drum for electrophotographic photosensitive drum according to the present embodiment will be described below.

탈지 공정(S10)은, 원통형의 알루미늄 기재의 표면에 남아 있는 절삭유 등의 이물질을 제거하기 위한 것으로 약알칼리 또는 약산성의 용액을 사용한다.The degreasing step (S10) uses a weakly alkaline or slightly acidic solution for removing foreign matter such as cutting oil remaining on the surface of the cylindrical aluminum base material.

탈지 공정(S10)은, 초음파를 병용하여 사용함으로써 불순물을 보다 효과적으로 제거할 수 있다. In the degreasing step (S10), impurities can be more effectively removed by using ultrasonic waves in combination.

탈지 공정(S10)이 완료된 후 탈지액을 제거하기 위해 수세 공정을 포함할 수 있는데 수세 공정에 사용하는 물은 50 내지 70℃로 가열된 정제수를 사용하는 것이 물의 양을 적게 사용하면서도 효과적으로 탈지액을 제거할 수 있어서 바람직하다.The water used for the water washing process may be water which is heated to 50 to 70 DEG C so as to effectively remove the water from the degreasing solution while using a small amount of water. So that it is preferable.

수세에 사용되는 물의 온도가 50℃보다 낮은 경우 수세 효과가 미미하고 70℃보다 높은 경우에는 운전 비용이 높아지는 문제점이 있다. When the temperature of water used for washing with water is lower than 50 캜, the washing effect is insignificant and when the temperature is higher than 70 캜, the operation cost is increased.

에칭 공정(S20)은, 탈지 공정(S10)에 의해 탈지된 원통형 알루미늄 기재를 황산을 함유하며 0℃~15℃의 온도로 준비된 에칭액에 담가 원통형 알루미늄 기재의 표면을 균일하게 처리하는 공정이다.The etching step S20 is a step of immersing the degreased cylindrical aluminum substrate in a degreasing step S10 in an etching solution containing sulfuric acid at a temperature of 0 캜 to 15 캜 to uniformly treat the surface of the cylindrical aluminum substrate.

에칭 공정(S20)은 탈지 공정(S10) 후에 잔존하는 유기물 찌꺼기 등의 불순물을 제거함과 동시에 알루미늄 기재의 표면을 보다 균일하게 하기 위한 공정이다. The etching step S20 is a step for removing impurities such as organic residue remaining after the degreasing step S10 and for making the surface of the aluminum substrate more uniform.

에칭 공정(S20)은, 황산을 함유하는 에칭액을 이용하여 수행되는데, 에칭액은 10~20%농도로 희석되어 준비되는 것이 바람직하다. The etching step S20 is carried out using an etching solution containing sulfuric acid. It is preferable that the etching solution is diluted to a concentration of 10 to 20%.

더욱 바람직하게는 18%농도 이하의 황산용액으로 준비되는 것이 바람직하다.And more preferably a sulfuric acid solution having a concentration of 18% or less.

한편, 에칭액은, 인산, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 2-아미노-2-메틸-2-프로판올, 3-아미노-1-프로판올, 2-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올 및 1-아미노-펜탄올 중 적어도 하나 이상이 추가되어 준비되는 것도 바람직하다.On the other hand, the etching solution is preferably a solution of at least one selected from the group consisting of phosphoric acid, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2-amino-2-methyl-2-propanol, -Propanol and 1-amino-pentanol are preferably added and prepared.

여기서 에칭 공정(S20)은, 저온상태의 에칭액을 이용하여 수행되는 것이 가장 큰 특징인데, 에칭액은, 2℃~12℃의 온도로 준비되는 것이 더욱 바람직하다.Here, the etching process (S20) is most importantly performed using an etchant in a low temperature state, and it is more preferable that the etchant is prepared at a temperature of 2 占 폚 to 12 占 폚.

또한, 에칭 공정(S20)은, 15분~20분의 시간 범위 내에서 진행되는 것이 바람직하다. 또한 양극산화 공정과 달리 전류의 인가 없이 진행되는데 특징이 있다.The etching step (S20) is preferably carried out within a time range of 15 minutes to 20 minutes. Unlike the anodic oxidation process, it is characterized in that it proceeds without current application.

시간이 15분보다 짧은 경우 에칭 효과가 미미하고, 시간이 20분보다 긴 경우 알루미늄 기재가 물러지거나 그 표면에 핀홀이 형성되는 문제가 있다. When the time is shorter than 15 minutes, the etching effect is insignificant, and when the time is longer than 20 minutes, there is a problem that the aluminum substrate is backed or pinholes are formed on the surface.

수세 공정(S30)은, 에칭 공정(S20)에 의해 에칭 처리된 원통형 알루미늄 기재를 물로 씻어 내는 공정이다. The water washing step (S30) is a step of washing the cylindrical aluminum substrate subjected to the etching treatment by the etching step (S20) with water.

수세 공정(S30)은 앞서 탈지 공정 후 수세 공정과 동일하게 50 내지 70℃로 가열된 정제수 또는 탈이온수를 사용하는 것이 바람직하다. 이에 의해 알루미늄 기재의 표면에 이물질이 흡착되는 것을 방지하고, 화상에 흑점이 생기는 것을 방지할 수 있다.In the water washing step (S30), purified water or deionized water heated to 50 to 70 DEG C is preferably used as in the water washing step after the degreasing step. As a result, it is possible to prevent foreign matter from being adsorbed on the surface of the aluminum base material and to prevent occurrence of black spots in the image.

수세 공정(S30) 후에는 건조기에서 100 내지 150℃로 유지하여 수분을 완전히 제거하는 것이 바람직하다. After the water washing step (S30), it is preferable to maintain the water at 100 to 150 DEG C in the dryer to completely remove water.

다음으로, 감광체 형성 공정(S40)은, 수세 공정에 의해 수세 된 원통형 알루미늄 기재의 외면에 감광 도료를 도포하고 열 경화시켜 감광체 층을 형성하는 공정이다.Next, the photoreceptor forming step (S40) is a step of applying a photosensitive paint to the outer surface of the cylindrical aluminum substrate washed by the water washing step and thermally curing to form a photoreceptor layer.

감광체 층은 공지의 예로서, 전하 발생 층 및 전하 이동 층을 순차로 도포하여 적층하는데, 전하 발생 층은, 금속프탈로시아닌을 염화비닐 초산비닐 공중합체에 1 대 1의 비율로 분산시켜 도포한 후, 전하 이동 층으로서 폴리카보네이트와 히드라존계 재료를 혼합하여 도포하여 형성할 수 있다.As the photosensitive layer, a charge generation layer and a charge transfer layer are successively coated and laminated. In the charge generation layer, metal phthalocyanine is dispersed in a vinyl chloride vinyl acetate copolymer in a ratio of 1: 1, The charge transport layer can be formed by mixing polycarbonate and a hydrazone-based material and coating them.

[실시예][Example]

절단된 원통형 알루미늄 기재를 탈지제(제조사 : DIPSOL 제품명 : AL-47, 30g/l)로 40℃에서 4분간 초음파를 병용하여 처리하였다.The cut cylindrical aluminum substrate was treated with a degreasing agent (manufacturer: DIPSOL product name: AL-47, 30 g / l) for 4 minutes at 40 캜 in combination with ultrasonic waves.

탈지 공정 후 60℃ 정제수를 사용하여 알루미늄 기재를 세정 처리한 후, 정제수를 이용하여 18%농도와 7℃ 온도를 가지는 황산용액을 에칭액으로 준비한 후, 16분간 에칭 처리하였다. After the degreasing process, the aluminum substrate was washed with purified water at 60 캜, and then a sulfuric acid solution having a concentration of 18% and a temperature of 7 캜 was prepared as an etchant by using purified water and then etched for 16 minutes.

에칭처리 후 60℃ 정제수를 사용하여 알루미늄 기재를 세정처리 하였다.After the etching treatment, the aluminum substrate was cleaned using purified water at 60 占 폚.

세정처리는 60℃ 탈이온수로 2회 초음파 세척한 후 건조기에서 120℃에서 12분간 건조하여 수분을 제거하였다.Washing treatment was performed by ultrasonic washing twice with deionized water at 60 ° C, followed by drying at 120 ° C for 12 minutes in a dryer to remove moisture.

다음으로, 감광체 층은, 전하 발생 층으로, 금속프탈로시아닌을 염화비닐 초산비닐 공중합체에 1 대 1의 비율로 분산시켜 도포한 후, 전하 이동 층으로서 폴리카보네이트와 히드라존계 재료를 혼합하여 도포하여 형성하였다.Next, the photoconductor layer is formed by applying and dispersing the metal phthalocyanine to the vinyl chloride vinyl acetate copolymer in a ratio of 1: 1 as a charge generation layer, and then coating the mixture with a polycarbonate and hydrazone material as a charge transfer layer to form Respectively.

[비교예][Comparative Example]

절단된 원통형 알루미늄 기재를 탈지제(제조사 : DIPSOL 제품명 : AL-47, 30g/l)로 40℃에서 4분간 초음파를 병용하여 처리하였다.The cut cylindrical aluminum substrate was treated with a degreasing agent (manufacturer: DIPSOL product name: AL-47, 30 g / l) for 4 minutes at 40 캜 in combination with ultrasonic waves.

탈지 공정 후 60℃ 정제수를 사용하여 알루미늄 기재를 세정처리 한 후 황산 25%, 인산 5%, 트리에탄올 아민 0.2중량% 및 나머지는 탈이온수로 이루어진 에칭액에서 40℃, 1분간 처리하였다. After the degreasing process, the aluminum substrate was cleaned using purified water at 60 캜, and then treated with an etching solution consisting of 25% sulfuric acid, 5% phosphoric acid, 0.2% by weight triethanolamine and the rest in deionized water at 40 占 폚 for 1 minute.

에칭처리 후 60℃ 정제수를 사용하여 알루미늄 기재를 세정처리 하였다.After the etching treatment, the aluminum substrate was cleaned using purified water at 60 占 폚.

황산 15중량%, 옥살산 0.3중량% 및 나머지는 탈이온수로 이루어진 전해액을 사용하여 전해액의 온도는 20±1℃로 유지시키고, 전류밀도는 DC 1.0±0.3 A/dm2로 하여 20분간 양극산화시켜 평균 5㎛의 산화피막을 형성하였다.15% by weight of sulfuric acid, oxalic acid, 0.3% by weight and the rest is a temperature of the electrolytic solution by using an electrolyte solution consisting of de-ionized water and maintained at 20 ± 1 ℃, current density is oxidized anode 20 minutes to a DC 1.0 ± 0.3 A / dm 2 An average thickness of 5 탆 was formed.

봉공처리를 위한 실링제로 7g/l의 농도의 초산니켈을 30℃에서 5분 동안 수행하였다. 60℃ 탈이온수로 2회 초음파 세척한 후 건조기에서 120℃에서 12분간 건조하여 수분을 제거하였다.Nickel acetate at a concentration of 7 g / l as a sealing agent for sealing treatment was performed at 30 ° C for 5 minutes. After ultrasonic washing twice with deionized water at 60 캜, it was dried at 120 캜 for 12 minutes in a dryer to remove moisture.

감광체 층은, 상기한 실시예와 동일하게 형성하였다.The photoconductor layer was formed in the same manner as in the above example.

도 2는, 상기한 실시예와 비교예에서 탈지 공정 후 알루미늄 기재의 표면 SEM 사진이다.2 is a SEM photograph of the surface of the aluminum substrate after the degreasing process in the above-described embodiment and comparative example.

도 3은, 상기한 실시예에서 에칭 공정 후 알루미늄 기재의 표면 SEM 사진이다.3 is a SEM photograph of the surface of the aluminum substrate after the etching process in the above embodiment.

도 4는, 상기한 비교예에서 아노다이징 공정을 거친 알루미늄 기재의 표면 SEM 사진이다.4 is a SEM photograph of a surface of an aluminum substrate subjected to an anodizing process in the above comparative example.

도 2를 기준으로 도 3(실시예) 및 도 4(비교예)를 대비하면, 도 4(비교예)의 경우 표면이 매끄러워지나 표면에 많은 핀홀이 형성되어 추가의 봉공 공정이 요구된다. 그러나 도 3의 경우 도 4에 비해 표면의 매끄러운 정도가 덜하나 핀홀의 발생이 거의 없음을 확인할 수 있다.Compared to FIG. 3 (Example) and FIG. 4 (Comparative Example) on the basis of FIG. 2, the surface is smooth in FIG. 4 (Comparative Example), but many pinholes are formed on the surface. 3, the degree of smoothness of the surface is less than that of FIG. 4, but pinholes hardly occur.

한편, 도 3 및 도 4의 표면처리 효과를 비교하기 위해, 실시예와 비교예의 감광체 층의 표면 전위를 측정하고 초기 시간 및 100,000매 복사 후 1차 회전 및 2차 회전 간의 전하 전위차를 측정하고 화상을 평가하여 그 결과를 표 1로 나타내었다.On the other hand, in order to compare the surface treatment effects of Figs. 3 and 4, the surface potentials of the photoconductor layers of Examples and Comparative Examples were measured, and the charge potential difference between the first rotation and the second rotation after the initial time and 100,000 copies were measured, And the results are shown in Table 1.

초기Early 100,000매 복사 후After 100,000 copies 1차회전
전위
Primary rotation
electric potential
2차회전
전위
2nd rotation
electric potential
전위차Potentiometer 화상burn 1차회전
전위
Primary rotation
electric potential
2차회전
전위
2nd rotation
electric potential
전위차Potentiometer 화상burn
실시예Example -530-530 -538-538 88 양호Good -523-523 -535-535 1212 양호Good 비교예Comparative Example -539-539 -549-549 1010 양호Good -533-533 -547-547 1414 양호Good

표 1을 참조하면, 실시예의 경우에도 비교예와 유사하게 초기 및 장기간 사용 후 1차 회전 및 2차 회전 전위차가 현저히 작음을 알 수 있고 화상에서 흐린 화상결합이 나타나지 않았다. Referring to Table 1, it can be seen that the primary and secondary rotation potential differences after the initial and long-term use are remarkably small even in the case of the comparative example, and blurred image coupling did not appear in the image.

Claims (6)

원통형 알루미늄 기재를 탈지하는 탈지 공정;
상기 탈지 공정에 의해 탈지된 원통형 알루미늄 기재를 황산을 함유하며 2℃~12℃의 온도로 준비된 에칭액에 담가 원통형 알루미늄 기재의 표면을 균일하게 처리하는 에칭 공정;
상기 에칭 공정에 의해 에칭 처리된 원통형 알루미늄 기재를 물로 씻어 내는 수세 공정; 및
상기 수세 공정에 의해 수세 된 원통형 알루미늄 기재의 외면에 감광 도료를 도포하고 열 경화시키는 감광체 형성 공정;을 포함하되,
상기 에칭 공정에서, 상기 에칭액은, 황산이 10~20%농도로 희석되어 준비되는 것을 특징으로 하고,
상기 에칭 공정은, 전류의 인가 없이 15분~20분의 시간 범위 내에서 진행되는 것을 특징으로 하고,
상기 에칭액은, 인산, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 2-아미노-2-메틸-2-프로판올, 3-아미노-1-프로판올, 2-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올 및 1-아미노-펜탄올 중 적어도 하나 이상이 추가되어 준비되는 것을 특징으로 하며,
상기 원통형 알루미늄 기재와 상기 감광 도료 사이의 접착성 향상을 위해, 알루미늄 기재의 표면을 양극산화에 의하여 피막을 형성(아노다이징, Anodizing)시키는 공정이 수행되지 않는 것을 특징으로 하는 전자사진 감광용 알루미늄 드럼의 제조방법.

A degreasing step of degreasing the cylindrical aluminum substrate;
An etching step of immersing the cylindrical aluminum substrate degreased by the degreasing process in an etching solution containing sulfuric acid at a temperature of 2 ° C to 12 ° C to uniformly treat the surface of the cylindrical aluminum substrate;
A washing step of washing the cylindrical aluminum substrate subjected to the etching treatment by the etching step with water; And
And a photoconductor forming step of applying a photosensitive coating material to the outer surface of the cylindrical aluminum substrate washed by the water washing step and thermally curing the photosensitive coating material,
In the etching step, the etching solution is prepared by diluting sulfuric acid to a concentration of 10 to 20%
Wherein the etching process is performed within a time range of 15 minutes to 20 minutes without application of an electric current,
The etchant may be at least one selected from the group consisting of phosphoric acid, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2-amino-2-methyl-2-propanol, Propanol and 1-amino-pentanol are added and prepared,
Wherein the step of forming an anodizing film on the surface of the aluminum base material by anodic oxidation is not performed in order to improve the adhesion between the cylindrical aluminum base material and the photosensitive paint. Gt;

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