KR101920205B1 - Manufacturing method of hardener for preparing cured product having low dielectric constant - Google Patents

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Abstract

본 발명은 경화제, 이의 제조에 사용되는 조성물 및 이를 이용하여 경화제를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로 설명하면 저유전 특성 및 고내열성을 가지는 수지 제품을 제공할 수 있는 특정 중합체를 포함하는 경화제, 이의 제조에 사용되는 조성물 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a curing agent, a composition for use in the preparation thereof, and a method for producing a curing agent using the same, more specifically, to a resin composition comprising a specific polymer capable of providing a resin product having low dielectric properties and high heat resistance A composition for use in the preparation thereof, and a process for producing the same.

Description

에폭시 수지용 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제의 제조방법{Manufacturing method of hardener for preparing cured product having low dielectric constant}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a curing agent for the production of a low dielectric constant and high heat resistant cured product for an epoxy resin,

본 발명은 경화제 조성물, 이를 이용하여 제조한 저유전성 및 고내열성을 확보한 경화제 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a curing agent composition, a curing agent having low dielectric constant and high heat resistance, and a method for producing the same.

인쇄회로기판을 사용하는 전자기기의 정보량이 방대해짐에 따라서 전자제품 또한 고속화, 고밀도화가 되면서 회로 선폭이 줄어들고 단위 면적보다 많은 부품이 탑재되어 고속 신호를 전송시킬 때 상당한 열이 발생된다.As the amount of information of an electronic device using a printed circuit board becomes wider, electronic products are also speeded up and densified, the circuit line width is reduced, and a large amount of heat is generated when a high-speed signal is transmitted by mounting components larger than a unit area.

이러한 열은 부품과 소재 간의 CTE 차이에 따른 기판의 변형 등의 문제를 야기할 수 있고, 또한 RoHS 등의 환경 규제로 인하여 Pb의 사용이 전면 금지되면서 솔더링(Soldering) 온도가 20℃ ~ 40℃ 상승하여, 소재에서는 Lead Free High Tg, 고내열 등의 특성이 요구되고 있다. Such heat may cause problems such as deformation of the substrate due to the difference in CTE between the parts and the material. In addition, since the use of Pb is totally prohibited due to environmental regulations such as RoHS, the soldering temperature is increased by 20 ° C to 40 ° C Therefore, materials such as lead free high Tg and high heat resistance are required.

또한, 현재 사용되고 있는 개인용 컴퓨터의 속도는 1 GHz를 넘어 2 GHz, 휴대폰의 경우 고주파 범위에서 이루어지고 있다. 주파수가 높아질수록 신호를 전송할 때 많은 문제를 발생시키는데, 전체적으로 전송속도를 향상시키고 잡음을 줄일 수 있는 방법으로 소재의 유전율을 낮추면, 잡음 또한 줄일 수 있다.Also, the current speed of personal computers is over 2 GHz in 1 GHz, and in the high frequency range in mobile phones. The higher the frequency, the more problems that can occur in signal transmission. Lowering the dielectric constant of the material by reducing the overall transmission speed and noise can also reduce noise.

일반적으로 에폭시 수지의 내열도를 높이는 방법은 에폭시 수지와 경화제와의 가교 밀도를 높임으로서 구현될 수 있는데, 노볼락계 경화제를 사용한 경우 경화물의 자체의 내열도를 올릴 수는 있지만, 자체의 높은 흡습 특성으로 인하여 전기적 특성인 유전상수, 유전손실은 높아지게 된다. 이는 에폭시 수지의 경화반응에서 생성되는 알콜성 OH의 영향이 큰 것으로 알려져 있는데, 이 알콜성 OH와 수분과의 수소결합 및 에폭시 자체의 망상구조로 인한 높은 자유부피(Free Volume)로 흡습이 촉진된다. Generally, a method of increasing the heat resistance of an epoxy resin can be realized by increasing the cross-linking density between the epoxy resin and the curing agent. When the novolak-based curing agent is used, the heat resistance of the cured product itself can be increased. However, Due to the characteristics, dielectric constant and dielectric loss, which are electrical characteristics, are increased. It is known that the effect of alcoholic OH generated in the curing reaction of epoxy resin is great. Moisture is promoted by the high free volume due to the hydrogen bonding between alcoholic OH and moisture and the network structure of epoxy itself .

일반적으로 내열성을 높이기 위해서 다기능성 노볼락계 경화제 또는 에폭시를 사용함으로써 내열도는 높일 수 있지만, 높은 흡습 특성, 높은 자유부피(Free Volume)로 인하여 전기적 특성인 유전상수, 유전손실은 커질 수 있는 단점을 가지고 있다.Generally, the heat resistance can be increased by using a multifunctional novolac curing agent or epoxy for improving the heat resistance. However, due to the high moisture absorption characteristics and the high free volume, dielectric constant and dielectric loss can be increased Lt; / RTI >

또한, 전기적 특성을 강화하기 위한 방법으로 SMA(Styrene Maleic-anhydride) 수지를 경화제로 사용하여 유전상수와 유전율을 낮추는 방법도 있다. 그러나 SMA수지는 에폭시와의 경화밀도가 현저히 감소하여 내열도 및 접착 특성이 떨어지는 단점을 가지고 있다.In addition, there is a method of lowering the dielectric constant and the dielectric constant by using a styrene maleic-anhydride (SMA) resin as a curing agent as a method for enhancing the electrical characteristics. However, the SMA resin has a disadvantage in that the curing density with the epoxy is remarkably reduced and the heat resistance and adhesion property are deteriorated.

대한민국 공개번호 제10-2015-0079446호(공개일 2015. 07. 08)Korean National Publication No. 10-2015-0079446 (published on July 27, 2015)

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명은 에폭시 수지와 높은 경화밀도를 가짐으로써 높은 유리전이온도를 구현하고, 기존의 SMA수지와 동등 또는 그 이상의 전기적 성능을 확보할 수 있는 경화물 제조에 사용되는 경화제를 제공하고자 한다. 즉, 본 발명은 저유전성 및 고내열성 경화제, 이의 제조에 사용되는 조성물 및 이를 이용하여 저유전성 및 고내열성 경화제를 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition which can realize a high glass transition temperature by having an epoxy resin and a high curing density, To provide a curing agent for use in the production of a cured product. That is, it is an object of the present invention to provide a low dielectric constant and high heat resistant curing agent, a composition for use in the preparation thereof, and a method for producing the low dielectric constant and high heat resistant curing agent using the same.

상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명은 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제 조성물에 관한 것으로서, 하기 화학식 1로 표시되는 스티렌계 화합물, 하기 화학식 2로 표시되는 언하이드라이드계 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 아크릴계 화합물을 포함하는 혼합 모노머; 중합개시제; 및 용제;를 포함한다.The present invention provides a curing agent composition for the production of a cured product having a low dielectric constant and a high heat resistance, which comprises a styrene compound represented by the following formula (1), an anhydride compound represented by the following formula (2) A mixed monomer containing an acrylic compound to be displayed; A polymerization initiator; And a solvent.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112018023060857-pat00001
Figure 112018023060857-pat00001

화학식 1의 R1은 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, R2는 수소원자, C1 ~ C3의 알킬기 또는 C1 ~ C3의 알콕시기이다.R 1 in the general formula (1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms.

[화학식 2](2)

Figure 112018023060857-pat00002
Figure 112018023060857-pat00002

화학식 2의 R3 및 R4는 독립적으로 수소원자 또는 C1 ~ C5의 알킬기이다. R 3 and R 4 in the general formula (2) are independently a hydrogen atom or a C1-C5 alkyl group.

[화학식 3](3)

Figure 112018023060857-pat00003
Figure 112018023060857-pat00003

화학식 3의 R5는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, R6는 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기 또는 C1 ~ C5의 알콕시기이며, R7은 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기, C5 ~ C8의 환형알킬기, 페닐기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이다.R 5 in the formula (3) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 6 is a hydrogen atom, a C 1 to C 5 alkyl group or a C 1 to C 5 alkoxy group, R 7 is a hydrogen atom, a C 1 to C 5 alkyl group, a cyclic alkyl group of C8, phenyl group or - a (CH 2) m OH, in this case, m is a natural number of 1-5.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 상기 조성물은 모노머 100 중량부에 대하여, 상기 중합개시제 4 ~ 12 중량부 및 상기 용제 180 ~ 300 중량부를 포함할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the composition of the present invention may comprise 4 to 12 parts by weight of the polymerization initiator and 180 to 300 parts by weight of the solvent, based on 100 parts by weight of the monomer.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 조성물 성분 중 상기 모노머는 상기 스티렌계 화합물, 상기 언하이드라이드계 화합물 및 아크릴계 화합물을 1 : 0.15 ~ 0.40 : 0.03 ~ 0.28 몰비로 포함할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the monomer may include the styrene compound, the anhydride compound, and the acrylic compound in a molar ratio of 1: 0.15 to 0.40: 0.03 to 0.28.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 아크릴계 화합물은 하기 화학식 3-1로 표시되는 아크릴계 화합물 및 하기 3-2로 표시되는 아크릴계 화합물을 1 : 0.5 ~ 1 몰비로 포함할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the acrylic compound may include an acrylic compound represented by the following Formula 3-1 and an acrylic compound represented by the following 3-2 in a molar ratio of 1: 0.5-1.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112018023060857-pat00004
Figure 112018023060857-pat00004

화학식 3-1의 R5 내지 R7은 모두 수소원자이다. R 5 to R 7 in the general formula (3-1) are all hydrogen atoms.

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure 112018023060857-pat00005
Figure 112018023060857-pat00005

화학식 3-2의 R5는 수소원자이며, R6는 C1 ~ C5의 알킬기 또는 C1 ~ C5의 알콕시기이며, R7은 C2 ~ C3의 알킬기, C5 ~ C8의 환형알킬기, 페닐기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이다.R 5 is a hydrogen atom, R 6 is a C 1 to C 5 alkyl group or a C 1 to C 5 alkoxy group, R 7 is a C 2 to C 3 alkyl group, a C 5 to C 8 cyclic alkyl group, a phenyl group, or - (CH 2 ) m OH, wherein m is a natural number of 1 to 5.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 조성물 성분 중 상기 용제는 1-부탄올, 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 메탄올 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 알코올계 용제; 및 메틸이소부틸케톤(MIBK), 메틸에틸케톤 및 아세톤 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 케톤계 용제;를 포함할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the solvent in the composition of the present invention is an alcohol-based solvent containing at least one selected from 1-butanol, 2-butanol, isopropyl alcohol and methanol; And a ketone-based solvent containing at least one selected from methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl ethyl ketone, and acetone.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 용제는 알코올 용제 및 케톤계 용제를 2 ~ 4 : 1 중량비로 포함할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the solvent may include an alcohol solvent and a ketone solvent at a weight ratio of 2 to 4: 1.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 중합개시제는 벤조일퍼옥사이드(BPO), t-부틸퍼옥사이드(Tert-butyl peroxide), 디큐밀퍼옥사이드(Dicumyl peroxide) 및 아조비스이소부틸로나이트릴(AIBN; Azobisisobutyronitrile) 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. In a preferred embodiment of the present invention, the polymerization initiator is selected from the group consisting of benzoyl peroxide (BPO), t-butyl peroxide, dicumyl peroxide and azobisisobutylonitrile (AIBN; Azobisisobutyronitrile). ≪ / RTI >

본 발명의 다른 목적은 상기 조성물을 이용하여 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상기 화학식 1로 표시되는 스티렌계 화합물, 상기 화학식 3으로 표시되는 아크릴계 화합물을 알코올계 용제에 투입 및 교반시키면서 환류온도 115℃ ~ 125℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하는 1단계; 상기 화학식 2로 표시되는 언하이드라이드계 화합물, 중합개시제 및 케톤계 용제의 제2혼합물을 상기 혼합물에 적가시켜서 제3혼합물을 제조하는 2단계; 제3혼합물을 환류 및 중합반응을 수행하는 3단계; 및 중합반응을 수행한 제3혼합물을 탈수 및 취출공정을 수행하여 하기 화학식 4로 표시되는 중합체를 수득하는 4단계;를 포함하는 공정을 수행하여 경화제를 제조할 수 있다.Another object of the present invention is to provide a method for producing a curing agent for the production of a cured product of low dielectric constant and high heat resistance using the above composition, wherein the styrene compound represented by the formula (1) and the acrylic compound represented by the formula And raising the temperature to a reflux temperature of 115 ° C to 125 ° C to prepare a first mixture; A second step of dropping a second mixture of an anhydride-based compound, a polymerization initiator, and a ketone-based solvent represented by the formula (2) into the mixture to prepare a third mixture; Performing a reflux and a polymerization reaction on the third mixture; And a fourth step of performing a dehydration and extraction process on the third mixture subjected to the polymerization reaction to obtain a polymer represented by the following general formula (4).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112018023060857-pat00006
Figure 112018023060857-pat00006

화학식 4의 R1은 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, R2는 수소원자, C1 ~ C3의 알킬기 또는 C1 ~ C3의 알콕시기이며, R3 및 R4는 독립적으로 수소원자 또는 C1 ~ C5의 알킬기이고, R5는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, R6는 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기 또는 C1 ~ C5의 알콕시기이며, R7은 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기, C5 ~ C8의 환형알킬기, 페닐기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이며 x, y 및 z는 1 : 0.15 ~ 0.40 : 0.03 ~ 0.28 몰비이며, n은 화합물의 중량평균분자량 8,000 ~ 30,000을 만족하는 유리수이다.Wherein R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, R 3 and R 4 are independently a hydrogen atom or a C 1 to C 5 and the alkyl group, R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group C1 ~ C3, R 6 is a hydrogen atom, an alkoxy group of C1 ~ C5 alkyl group or a C1 ~ C5 a, R 7 is a hydrogen atom, an alkyl group, C5 of C1 ~ C5 ~ C8 cyclic alkyl group, a phenyl group or - a (CH 2) m OH, wherein, m is 1-5 natural numbers x, y and z is from 1: 0.15 ~ 0.40 0.03 ~ 0.28 the molar ratio is, n is the weight of the compound Average molecular weight of 8,000 to 30,000.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 3단계의 환류 및 중합반응은 110 ~ 125℃ 하에서 수행할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the reflux and the polymerization in three stages can be carried out at 110 to 125 ° C.

이렇게 제조한 본 발명의 저유전성 및 고내열성 경화제는 산가가 120 ~ 225 mg KOH/g 일 수 있다.The low dielectric constant and high heat resistant curing agent of the present invention thus prepared may have an acid value of 120 to 225 mg KOH / g.

본 발명의 또 다른 목적은 앞서 설명한 경화제를 이용한 경화물을 포함하는 프리프레그에 관한 것으로서, 에폭시 수지, 앞서 설명한 상기 경화제 및 촉진제를 포함하는 바니쉬(varnish)의 경화물을 포함한다.Still another object of the present invention relates to a prepreg comprising a cured product using the above-mentioned curing agent, and it includes a cured product of varnish including an epoxy resin, the aforementioned curing agent and an accelerator.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 경화물은 유리전이온도(Tg)가 180℃ ~ 250℃일 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the cured product may have a glass transition temperature (Tg) of 180 ° C to 250 ° C.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 경화물은 두께가 0.8 ~ 1 mm일 때, 측정주파수 1 GHz 및 측정온도 25℃ ~ 27℃ 하에서 임피던스 분석기(Agilent E4991B)를 이용하여 유전상수 및 유전손실 측정시, 유전상수(Dk)가 3.35 이하이며, 유전손실(Df)가 0.02 이하일 수 있다.As a preferred embodiment of the present invention, the cured product has a dielectric constant and dielectric loss measurement (thickness) of 0.8 to 1 mm using an impedance analyzer (Agilent E4991B) at a measurement frequency of 1 GHz and a measurement temperature of 25 to 27 ° C , The dielectric constant (D k ) is 3.35 or less, and the dielectric loss (Df) is 0.02 or less.

본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 에폭시 수지는 페놀 노블락계 에폭시 수지일 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the epoxy resin may be a phenol novolac-based epoxy resin.

본 발명의 경화제는 에폭시 수지와의 결합력이 우수하여 에폭시 수지의 높은 경화밀도를 확보할 수 있는 바, 에폭시 수지를 이용하여 제조한 제품의 열적특성 향상을 통한 내열성을 확보할 수 있으며, 나아가 낮은 유전 특성을 확보함으로서, 제품의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 경화제는 저유전, 고내열성이 요구되는 인쇄회로기판(CCL, Copper clad laminate), 전자부품용 밀봉제, 접착제 등 제품 제조에 사용되는 수지의 경화제로 사용하기에 적합하다.The curing agent of the present invention is excellent in bonding force with an epoxy resin to ensure a high curing density of the epoxy resin, and it is possible to secure heat resistance by improving the thermal property of a product manufactured using an epoxy resin, By securing the characteristics, the electrical characteristics of the product can be improved. Therefore, the curing agent of the present invention is suitable for use as a curing agent for a resin used for manufacturing products such as a CCL (Copper Clad laminate), a sealing agent for electronic parts, and an adhesive, which are required to have low dielectric constant and high heat resistance.

이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제 제조에 사용되는 조성물에 관한 것으로서, 하기 화학식 1로 표시되는 스티렌계 화합물, 하기 화학식 2로 표시되는 언하이드라이드계 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 아크릴계 화합물을 포함하는 혼합 모노머; 중합개시제; 및 용제;를 포함한다.The present invention relates to a composition for use in the production of a curing agent for the production of a cured product of low dielectric constant and high heat resistance, which comprises a styrene compound represented by the following formula (1), an anhydride compound represented by the following formula A mixed monomer comprising a compound; A polymerization initiator; And a solvent.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112018023060857-pat00007
Figure 112018023060857-pat00007

화학식 1의 R1은 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, 바람직하게는 수소원자 또는 메틸기이다. 그리고, 화학식 1의 R2는 수소원자, C1 ~ C3의 알킬기 또는 C1 ~ C3의 알콕시기이며, 바람직하게는 수소원자, 메틸기 또는 C1 ~ C2의 알콕시기이고, 더욱 바람직하게는 수소원자 또는 메틸기이다.R 1 in the general formula (1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 2 in the formula (1) is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom, a methyl group or a C1 to C2 alkoxy group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group .

[화학식 2](2)

Figure 112018023060857-pat00008
Figure 112018023060857-pat00008

화학식 2의 R3 및 R4는 독립적으로 수소원자 또는 C1 ~ C5의 알킬기이고, 바람직하게는 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이다.R 3 and R 4 in the general formula (2) are independently a hydrogen atom or a C 1 to C 5 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 2 alkyl group.

[화학식 3](3)

Figure 112018023060857-pat00009
Figure 112018023060857-pat00009

화학식 3의 R5는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, 바람직하게는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이다. 화학식 3의 R6는 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기 또는 C1 ~ C5의 알콕시기이며, 바람직하게는 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이다. 또한, 화학식 3의 R7은 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기, C5 ~ C8의 환형알킬기, 페닐기이며 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이며, 바람직하게는 수소원자, C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C5의 분쇄형 알킬기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 3의 자연수이고, 더욱 바람직하게는 수소원자, C1 ~ C2의 알킬기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 3의 자연수이다.R 5 in the general formula (3) is a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group. R 6 in the general formula (3) is a hydrogen atom, a C 1 to C 5 alkyl group or a C 1 to C 5 alkoxy group, preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 2 alkyl group. In formula (3), R 7 is a hydrogen atom, a C 1 to C 5 alkyl group, a C 5 to C 8 cyclic alkyl group, a phenyl group, or - (CH 2 ) m OH wherein m is a natural number of 1 to 5, (CH 2 ) m OH wherein m is a natural number of 1 to 3, more preferably a hydrogen atom, a C 1 to C 2 alkyl group, Alkyl group or - (CH 2 ) m OH, wherein m is a natural number of 1 to 3.

본 발명의 조성물에 있어서, 상기 혼합 모노머는 상기 스티렌계 화합물, 상기 언하이드라이드계 화합물 및 아크릴계 화합물을 1 : 0.15 ~ 0.40 : 0.03 ~ 0.28 몰비로 포함할 수 있으며, 바람직하게는 1 : 0.18 ~ 0.38 : 0.05 ~ 0.25 몰비로 포함할 수 있다. 이때, 언하이드라이드계 화합물의 몰비가 스티렌계 화합물 1몰에 대하여, 0.15 미만이면 에폭시와의 결합성이 떨어저 내열성이 저하되는 문제가 있을 수 있고, 언하이드라이드계 화합물의 몰비가 0.40 몰비를 초과하면 스타이렌의 함량이 상대적으로 낮아지게 되어 유전상수 및 유전손실이 높아지는 문제가 있고 또한 반응성이 높아 합성시 분자량이 급격히 증가하여 수지가 경화되는 문제가 있을 수 있다. 그리고, 아크릴계 화합물의 몰비가 스티렌계 화합물 1몰에 대하여, 0.03 몰비 미만이면 경화제의 유리전이온도가 너무 낮은 문제가 있을 수 있고, 0.28 몰비를 초과하면 본 발명의 경화제를 이용하여 제조한 경화물의 내열특성, 즉 유리전이온도가 향상되나, 유전상수 및 유전손실이 증가하여 전기적 특성이 감소하는 문제가 있을 수 있다.In the composition of the present invention, the mixed monomer may contain the styrene compound, the anhydride compound, and the acrylic compound in a molar ratio of 1: 0.15 to 0.40: 0.03 to 0.28, preferably 1: 0.18 to 0.38 : 0.05 to 0.25 molar ratio. If the molar ratio of the unhydride compound is less than 0.15 with respect to 1 mole of the styrene compound, there may be a problem that the bonding property with the epoxy is poor and the heat resistance is lowered. If the molar ratio of the anhydride compound is 0.40 There is a problem that the content of styrene becomes relatively low to increase the dielectric constant and the dielectric loss, and the reactivity is high, so that the molecular weight increases sharply during the synthesis, so that the resin may be hardened. If the molar ratio of the acrylic compound is less than 0.03 mol based on 1 mol of the styrene compound, the glass transition temperature of the curing agent may be too low. If the molar ratio exceeds 0.28 mol, the heat resistance of the cured product prepared using the curing agent of the present invention The glass transition temperature is improved, but the dielectric constant and the dielectric loss are increased and the electrical characteristics may be reduced.

본 발명의 조성물 중 상기 아크릴계 화합물은 상기 화학식 3으로 표시되는 아크릴계 화합물을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 하기 화학식 3-1로 표시되는 아크릴계 화합물 및 하기 3-2로 표시되는 아크릴계 화합물을 1 : 0.5 ~ 1 몰비로 포함하는 것이 내열특성 향상 및 전기적 특성 향상 측면에서 유리할 수 있다.In the composition of the present invention, the acrylic compound may be an acrylic compound represented by the formula (3), preferably an acrylic compound represented by the following formula (3-1) and an acrylic compound represented by the following formula (3-2) 1 molar ratio may be advantageous in terms of improvement of heat resistance and improvement of electrical characteristics.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112018023060857-pat00010
Figure 112018023060857-pat00010

화학식 3-1의 R5 내지 R7은 모두 수소원자이다.R 5 to R 7 in the general formula (3-1) are all hydrogen atoms.

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure 112018023060857-pat00011
Figure 112018023060857-pat00011

화학식 3-2의 R5는 수소원자이며, R6는 C1 ~ C5의 알킬기 또는 C1 ~ C5의 알콕시기이며, 바람직하게는 R6는 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이다. 그리고, 화학식 3-2의 R7은 C2 ~ C3의 알킬기, C5 ~ C8의 환형 알킬기, 페닐기 및 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이고, 바람직하게는 R7은 수소원자, C1 ~ C2의 알킬기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 3의 자연수이다.R 5 in the formula (3-2) is a hydrogen atom, R 6 is a C 1 to C 5 alkyl group or a C 1 to C 5 alkoxy group, preferably R 6 is a hydrogen atom or a C 1 to C 2 alkyl group. And, R 7 is of the formula 3-2 cyclic alkyl group, a phenyl group of C2 ~ C3 alkyl group, a C5 ~ C8 of and - (CH 2) m OH, and, wherein, m is natural number of 1-5, preferably R 7 It is an alkyl group or a hydrogen atom, C1 ~ C2 - and (CH 2) m OH, wherein, m is natural number of 1-3.

본 발명의 조성물에 있어서, 상기 중합개시제는 당업계에서 사용하는 일반적인 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 벤조일퍼옥사이드(BPO), t-부틸퍼옥사이드(Tert-butyl peroxide), 디큐밀퍼옥사이드(Dicumyl peroxide) 및 아조비스이소부틸로나이트릴(AIBN; Azobisisobutyronitrile) 중에서 선택된 1종 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 그리고, 중합개시제의 사용량은 상기 혼합 모노머 100 중량부에 대하여 4 ~ 12 중량부를, 바람직하게는 6 ~ 12 중량부를, 더욱 바람직하게는 6 ~ 10 중량부를 사용할 수 있다. 이때, 중합개시제 사용량이 4 중량부 미만이면 중합 공정 시간이 너무 길어지는 문제가 있을 수 있고, 12 중량부를 초과하면 반응이 너무 빠르게 진행하고 오히려 하기 화학식 4로 표시되는 경화제의 중량평균분자량이 너무 낮고, 경화제 합성 수율이 낮아지는 문제가 있을 수 있다.In the composition of the present invention, the polymerization initiator may be a conventional one used in the art, preferably, benzoyl peroxide (BPO), t-butyl peroxide, dicumyl peroxide ) And azobisisobutyronitrile (AIBN) may be used alone or in admixture of two or more. The amount of the polymerization initiator to be used may be 4 to 12 parts by weight, preferably 6 to 12 parts by weight, more preferably 6 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the mixed monomer. If the amount of the polymerization initiator used is less than 4 parts by weight, the polymerization time may become too long. If the amount of the polymerization initiator is more than 12 parts by weight, the reaction may proceed too quickly, and the weight average molecular weight of the curing agent represented by the following formula , There may be a problem that the synthesis yield of the curing agent is lowered.

다음으로, 본 발명의 조성물에 있어서, 상기 용제는 혼합 모노머를 용이하게 용해시킬 수 있는 용제로서, 당업계에서 알려진 일반적인 용제를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 상기 용제는 1-부탄올, 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 메탄올 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 알코올계 용제; 및 메틸이소부틸케톤(MIBK), 메틸에틸케톤 및 아세톤 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 케톤계 용제;을 혼합하여 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 상기 알코올계 용제 및 케톤계 용제를 2 ~ 4 : 1 중량비로 혼합하여 사용하는 것이 좋다. 또한, 상기 용제의 사용량은 상기 혼합 모노머 100 중량부에 대하여 200 ~ 350 중량부를, 바람직하게는 230 ~ 320 중량부를, 더욱 바람직하게는 250 ~ 300 중량부를 사용할 수 있다. 이때, 용제의 사용량이 200 중량부 미만이면 혼합 모노머가 충분히 용해되지 않을 수 있고, 용제 사용량이 350 중량부를 초과하면 혼합 모노머들의 중합반응속도가 느려지고, 중합체의 수율이 낮아질 수 있으므로 상기 범위 내로 사용하는 것이 좋다.Next, in the composition of the present invention, the solvent is a solvent capable of easily dissolving a mixed monomer, and may be a solvent commonly known in the art. Preferably, the solvent is 1-butanol, Alcohol-based solvents containing at least one selected from isopropyl alcohol and methanol; And a ketone solvent containing at least one selected from methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl ethyl ketone and acetone, and more preferably, the alcohol solvent and the ketone solvent are mixed at a ratio of 2 to 4: 1 by weight. The solvent may be used in an amount of 200 to 350 parts by weight, preferably 230 to 320 parts by weight, more preferably 250 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the mixed monomer. If the amount of the solvent is less than 200 parts by weight, the mixed monomer may not be sufficiently dissolved. If the amount of the solvent is more than 350 parts by weight, the polymerization reaction rate of the mixed monomers may be slowed down and the yield of the polymer may be lowered. It is good.

앞서 설명한 조성물을 이용하여 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제를 제조할 수 있는데, 좀 더 구체적으로 설명하면, 상기 화학식 1로 표시되는 스티렌계 화합물, 상기 화학식 3으로 표시되는 아크릴계 화합물을 알코올계 용제에 투입 및 교반시키면서 환류온도 115℃ ~ 125℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하는 1단계; 상기 화학식 2로 표시되는 언하이드라이드계 화합물, 중합개시제 및 케톤계 용제의 제2혼합물을 상기 혼합물에 적가시켜서 제3혼합물을 제조하는 2단계; 제3혼합물을 환류 및 중합반응을 수행하는 3단계; 및 중합반응을 수행한 제3혼합물을 탈수 및 취출공정을 수행하여 하기 화학식 4로 표시되는 중합체를 수득하는 4단계;를 포함하는 공정을 수행하여 제조할 수 있다.More specifically, the styrene compound represented by the formula (1) and the acrylic compound represented by the formula (3) are dissolved in an alcohol-based solvent And raising the temperature to a reflux temperature of 115 ° C to 125 ° C to prepare a first mixture; A second step of dropping a second mixture of an anhydride-based compound, a polymerization initiator, and a ketone-based solvent represented by the formula (2) into the mixture to prepare a third mixture; Performing a reflux and a polymerization reaction on the third mixture; And a fourth step of performing a dehydration and extraction process on the third mixture subjected to the polymerization reaction to obtain a polymer represented by the following formula (4).

[화학식 4] [Chemical Formula 4]

Figure 112018023060857-pat00012
Figure 112018023060857-pat00012

화학식 4의 R1은 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, 바람직하게는 수소원자 또는 메틸기이다. R2는 수소원자, C1 ~ C3의 알킬기 또는 C1 ~ C3의 알콕시기이며, 바람직하게는 수소원자, 메틸기 또는 C1 ~ C2의 알콕시기이고, 더욱 바람직하게는 수소원자 또는 메틸기이다. 화학식 4의 R3 및 R4는 독립적으로 수소원자 또는 C1 ~ C5의 알킬기이고, 바람직하게는 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이다. 또한, 화학식 4의 R5는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, 바람직하게는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이다. 그리고, 화학식 4의 R6는 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기 또는 C1 ~ C5의 알콕시기이며, 바람직하게는 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이다. 또한, 화학식 4의 R7은 수소원자, C1 ~ C5의 알킬기, C5 ~ C8의 환형알킬기, 페닐기 및 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이다. 바람직하게는 R7은 수소원자, C1 ~ C3의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C5의 분쇄형 알킬 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 5의 자연수이다. 더욱 바람직하게는 수소원자, C1 ~ C2의 알킬기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 3의 자연수이다.R 1 in formula (4) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom, a methyl group or a C1 to C2 alkoxy group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 3 and R 4 in the general formula (4) are independently a hydrogen atom or a C 1 to C 5 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 2 alkyl group. R 5 in the general formula (4) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 6 in the general formula (4) is a hydrogen atom, a C 1 to C 5 alkyl group or a C 1 to C 5 alkoxy group, preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 2 alkyl group. R 7 in the general formula (4) is a hydrogen atom, a C 1 to C 5 alkyl group, a C 5 to C 8 cyclic alkyl group, a phenyl group, and - (CH 2 ) m OH wherein m is a natural number of 1 to 5. Preferably, R 7 is a hydrogen atom, a straight-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, or - (CH 2 ) m OH, wherein m is a natural number of 1 to 5. More preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a C1 ~ C2 - and (CH 2) m OH, wherein, m is natural number of 1-3.

그리고, 화학식 4의 x, y 및 z는 1 : 0.15 ~ 0.40 : 0.03 ~ 0.28 몰비이며, 바람직하게는 x, y 및 z는 1 : 0.18 ~ 0.38 : 0.05 ~ 0.25 몰비이다. 또한, 화학식 4의 상기 n은 화합물의 중량평균분자량 8,000 ~ 30,000을, 바람직하게는 9,000 ~ 27,000을, 더욱 바람직하게는 10,000 ~ 25,500을 만족하는 유리수이다.X, y and z in the formula (4) are 1: 0.15-0.40: 0.03-0.28 molar ratio, preferably x, y and z are 1: 0.18-0.38: 0.05-0.25 molar ratio. The n in formula (4) is a rational number satisfying the weight average molecular weight of the compound of 8,000 to 30,000, preferably 9,000 to 27,000, and more preferably 10,000 to 25,500.

본 발명의 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제 제조방법에 있어서, 상기 1단계의 제1혼합물의 스티렌계 화합물과 아크릴계 화합물의 사용량 및 2단계의 언하이드라이드계 화합물과 중합개시제의 사용량은 조성물에서 설명한 바와 동일하다. 그리고, 1단계 알코올계 용제 및 2단계의 케톤계 용제의 전체 용제 중 함량비 및 용제의 사용량 또한 앞서 설명한 바와 동일하다.In the method for producing a curing agent for producing a low dielectric constant and high heat resistant cured product according to the present invention, the amount of the styrene compound and the acrylic compound in the first mixture in the first step and the amount of the unhydride compound and the polymerization initiator in the two- The same as described above. The content ratio of the first stage alcoholic solvent and the second stage ketone solvent in the total solvent and the amount of the solvent used are the same as described above.

그리고, 3단계의 환류 및 중합반응은 110 ~ 125℃ 하에서, 바람직하게는 110 ~ 115℃ 하에서 수행할 수 있으며, 이때, 온도가 110℃ 미만이면 중합반응속도가 너무 느린 문제가 있으며, 125℃를 초과하면 중합반응속도는 빠르나 상기 화학식 4로 표시되는 중합체의 수율이 떨어질 수 있고, 중합체의 중량평균분자량이 너무 높아지는 문제가 있을 수 있으므로 상기 범위 내의 온도 하에서 중합반응을 수행하는 것이 좋다.The refluxing and polymerization in three stages can be carried out at 110 to 125 ° C, preferably at 110 to 115 ° C. When the temperature is less than 110 ° C, the polymerization reaction rate is too slow, , The polymerization reaction rate is fast but the yield of the polymer represented by the formula (4) may be lowered, and the weight average molecular weight of the polymer may be too high. Therefore, the polymerization reaction is preferably carried out at a temperature within the above range.

이와 같은 본 발명의 조성물, 이 조성물로 제조한 본 발명의 경화제는 산가가 120 ~ 225 mg KOH/g, 바람직하게는 산가가 125 ~ 215 mg KOH/g, 더욱 바람직하게는 130 ~ 210 mg KOH/g 일 수 있다.The composition of the present invention and the curing agent of the present invention prepared from this composition have an acid value of 120 to 225 mg KOH / g, preferably an acid value of 125 to 215 mg KOH / g, more preferably 130 to 210 mg KOH / g.

그리고, 상기 경화제를 이용하여 제조한 경화물을 포함하는 프리프레그(prepreg)는 저유전성 및 고내열성을 가질 수 있으며, 바람직한 일구현예로서, 상기 경화물을 포함하는 프리프레그는 에폭시 수지, 상기 본 발명의 경화제 및 촉진제를 포함하는 바니쉬(varnish)의 경화물을 포함할 수 있다. 이때, 상기 에폭시 수지는 바람직하게는 페놀 노볼락계 에폭시 수지일 수 있다.The prepreg including the cured product prepared using the curing agent may have low dielectric constant and high heat resistance. In a preferred embodiment, the prepreg containing the cured product is an epoxy resin, A cured product of a varnish comprising the curing agent and the accelerator of the invention. At this time, the epoxy resin may preferably be a phenol novolac-based epoxy resin.

또한, 상기 경화물은 유리전이온도(Tg)가 180℃ ~ 250℃, 바람직하게는 182℃ ~ 240℃로서 내열성이 우수하다. The cured product has a glass transition temperature (Tg) of 180 ° C to 250 ° C, preferably 182 ° C to 240 ° C, and is excellent in heat resistance.

또한, 상기 경화물은 두께가 0.8 ~ 1 mm일 때, 측정주파수 1 GHz 및 측정온도 25℃ ~ 27℃ 하에서 임피던스 분석기(Agilent E4991B)를 이용하여 유전상수 및 유전손실 측정시, 유전상수(Dk) 3.35 이하 및 유전손실(Df) 0.02 이하일 수 있으며, 바람직하게는 유전상수(Dk) 2.75 ~ 3.32 및 유전손실(Df) 0.0100 ~ 0.0200을 가지는 바, 저유전 특성을 가질 수 있다.Further, the dielectric constant (D k ) of the cured product is measured at a measurement frequency of 1 GHz and a measurement temperature of 25 ° C to 27 ° C using an impedance analyzer (Agilent E4991B) ) Of 3.35 or less and a dielectric loss (Df) of 0.02 or less, preferably having a dielectric constant (D k ) of 2.75 to 3.32 and a dielectric loss (Df) of 0.0100 to 0.0200.

따라서, 상기 경화제를 이용하여, 인쇄회로기판(CCL), 전자부품용 밀봉제, 접착제 등의 고내열 및 저유전율을 요하는 다양한 제품의 제조에 사용되는 프리프레그를 제공할 수 있다.Therefore, it is possible to provide a prepreg for use in the production of various products requiring high heat resistance and low dielectric constant such as a printed circuit board (CCL), a sealing agent for electronic parts, and an adhesive using the above-mentioned curing agent.

이하에서는 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기로 하지만, 하기 실시예가 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니며, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석되어야 할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples should not be construed as limiting the scope of the present invention, and should be construed to facilitate understanding of the present invention.

[실시예] [Example]

실시예Example 1 One

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 하기 화학식 1-1로 표시되는 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 하기 화학식 3-3으로 표시되는 아크릴계 화합물 14.41g(0.2mol), 용제인 1-부탄올(1-butanol) 862.02g을 투입 후, 환류 온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다. In a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, 416.6 g (4 mol) of the styrene compound represented by the following formula 1-1, 14.41 g (0.2 mol) of the acrylic compound represented by the following formula 3-3, (1-butanol) were charged, and then the mixture was heated to a reflux temperature of about 118 ° C to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 하기 화학식 2-1로 표시되는 언하이드라이드계 화합물 98.06g(1mol), 용제인 메틸이소부틸케톤(MIBK) 294.18g 및 중합개시제인 75% 농도의 벤조일퍼옥사이드(BPO) 42.33g을 드롭핑(dropping) 펀넬을 이용하여 3 시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. Next, when the reflux is started, 98.06 g (1 mol) of the unhydride compound represented by the following formula (2-1), 294.18 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) as a solvent, 42.33 g of peroxide (BPO) was added dropwise constantly over 3 hours using a dropping funnel.

3시간 동안 적가를 완료한 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행하였다. 그 다음, 200℃에서 탈수, 취출하여 하기 화학식 4로 표시되는 공중합체 520g을 수득하였다. After the dropwise addition was completed for 3 hours, reflux and polymerization were carried out at 113 ° C to 115 ° C for additional 3 hours. Then, dehydration and extraction were carried out at 200 ° C to obtain 520 g of a copolymer represented by the following general formula (4).

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure 112018023060857-pat00013
Figure 112018023060857-pat00013

화학식 1-1의 R1 및 R2는 수소원자이다.R 1 and R 2 in formula (1-1) are hydrogen atoms.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure 112018023060857-pat00014
Figure 112018023060857-pat00014

화학식 2-1의 R3 및 R4는 수소원자이다.R 3 and R 4 in formula (2-1) are hydrogen atoms.

[화학식 3-3][Formula 3-3]

Figure 112018023060857-pat00015
Figure 112018023060857-pat00015

화학식 3-3의 R5는 수소원자이며, R6는 C1의 알킬기이고, R7은 수소원자이다. R 5 in Formula 3-3 is a hydrogen atom, R 6 is an alkyl group of C1, and R 7 is a hydrogen atom.

[화학식 4-1][Formula 4-1]

Figure 112018023060857-pat00016
Figure 112018023060857-pat00016

상기 화학식 4-1에서 R1 및 R2, R3, R4, R5 및 R7은 수소원자이고, R6는 C1의 알킬기이고, x=1, y=0.24 ~ 0.26 및 z=0.04 ~ 0.06이며 n은 화합물의 중량평균분자량 10,948을 만족하는 유리수이다.In Formula 4-1, R 1 and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 7 are each a hydrogen atom, R 6 is a C1 alkyl group, x = 1, y = 0.24 to 0.26, 0.06, and n is a rational number satisfying the weight average molecular weight of the compound of 10,948.

실시예Example 2 2

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 실시예 1의 상기 아크릴계 화합물 36.03g(0.5mol), 1-부탄올 905.26g을 투입 후 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1, 36.03 g (0.5 mol) of the acrylic compound of Example 1 and 905.26 g of 1-butanol were fed into a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, And the temperature was raised to 118 DEG C to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 98.06g (1mol), MIBK 294.18g, 75% 농도의 BPO 44.06g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 동안 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 공중합체 550g을 수득하였다. Next, when the reflux was started, 98.06 g (1 mol) of the anhydride-based compound of Example 1, 294.18 g of MIBK and 44.06 g of BPO at a concentration of 75% were added to the first mixture over 3 hours using a dropping funnel . After completion of dropwise addition for 3 hours, reflux and polymerization were carried out for further 3 hours at 113 ° C to 115 ° C, followed by dehydration at 200 ° C and extraction to obtain 550 g of a copolymer.

실시예Example 3 3

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 실시예 1의 상기 아크릴계 화합물 50.44g(0.7mol), 1-부탄올 934.08g을 투입 후 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1, 50.44 g (0.7 mol) of the acrylic compound of Example 1 and 934.08 g of 1-butanol were introduced into a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, And the temperature was raised to 118 DEG C to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 98.06g (1mol), MIBK 294.18g, 75% 농도의 BPO 45.21g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 동안 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 공중합체 560g을 수득하였다. Next, when the reflux started, 98.06 g (1 mol) of the unhydride compound of Example 1, 294.18 g of MIBK and 45.21 g of 75% BPO were added to the first mixture over a period of 3 hours . After completion of the dropwise addition for 3 hours, reflux and polymerization were carried out for 3 hours at 113 ° C to 115 ° C, followed by dehydration at 200 ° C to obtain 560g of a copolymer.

실시예Example 4 4

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 실시예 1의 상기 아크릴계 화합물 72.06g(1.0mol), 1-부탄올 977.32g을 투입 후 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1, 72.06 g (1.0 mol) of the acrylic compound of Example 1 and 977.32 g of 1-butanol were introduced into a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, And the temperature was raised to 118 DEG C to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 98.06g (1mol), MIBK 294.18g, 75% 농도의 BPO 46.94g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 동안 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 공중합체 580g을 수득하였다. Next, when the reflux was started, 98.06 g (1 mol) of the unhydride compound of Example 1, 294.18 g of MIBK, and 46.94 g of 75% BPO were added to the first mixture over a period of 3 hours using a dropping funnel . After completion of the dropwise addition for 3 hours, reflux and polymerization were carried out for 3 hours at 113 ° C to 115 ° C, followed by dehydration at 200 ° C to obtain 580g of a copolymer.

실시예Example 5 5

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 실시예 1의 상기 아크릴계 화합물 36.03g(0.5mol), 1-부탄올 905.26g을 투입 후 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1, 36.03 g (0.5 mol) of the acrylic compound of Example 1 and 905.26 g of 1-butanol were fed into a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, And the temperature was raised to 118 DEG C to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 78.45g(0.8mol), MIBK 235.34g, 75% 농도의 BPO 44.81g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 동안 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 공중합체 530g을 수득하였다.  Next, when the reflux started, 78.45 g (0.8 mol) of the unhydride compound of Example 1, 235.34 g of MIBK and 44.81 g of 75% BPO were added to the first mixture over 3 hours using a dropping funnel Were added dropwise constantly. After completion of dropwise addition for 3 hours, reflux and polymerization were carried out for 3 hours at 113 ° C to 115 ° C, followed by dehydration at 200 ° C and extraction to obtain 530 g of a copolymer.

실시예Example 6 6

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 하기 화학식 3-4로 표시되는 아크릴계 화합물 39.04g(0.3mol), 1-부탄올 911.28g을 투입 후 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1, 39.04 g (0.3 mol) of the acrylic compound represented by the following formula 3-4 and 911.28 g of 1-butanol were added to a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer The temperature was raised to a reflux temperature of about 118 캜 to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 98.06g(1mol), MIBK 294.18g, 75% 농도의 BPO 44.30g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 하기 화학식 4-2로 표시되는 공중합체 550g을 수득하였다.  Next, when the reflux was started, 98.06 g (1 mol) of the unhydride compound of Example 1, 294.18 g of MIBK and 44.30 g of 75% BPO were added to the first mixture over a period of 3 hours using a dropping funnel . After completion of the dropwise addition for 3 hours, the mixture was refluxed and polymerized for further 3 hours at 113 ° C to 115 ° C. Then, dehydration at 200 ° C was carried out to obtain 550g of a copolymer represented by the following formula 4-2.

[화학식 3-4][Chemical Formula 3-4]

Figure 112018023060857-pat00017
Figure 112018023060857-pat00017

화학식 3-4의 R5은 수소원자이고, R6은 C1의 알킬기이며, R7은 -CH2CH2OH이다. R 5 in Formula 3-4 is a hydrogen atom, R 6 is an alkyl group of Cl, and R 7 is -CH 2 CH 2 OH.

[화학식 4-2][Formula 4-2]

Figure 112018023060857-pat00018
Figure 112018023060857-pat00018

상기 화학식 4-1에서 R1 및 R2, R3, R4 및 R5 수소원자이고, R6는 C1의 알킬기이고, R7은 -CH2CH2OH이며, x=1, y=0.24 ~ 0.26 및 z= 0.074 ~ 0.076이며 n은 화합물의 중량평균분자량 17,130을 만족하는 유리수이다.Wherein R 1 and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms, R 6 is a C1 alkyl group, R 7 is -CH 2 CH 2 OH, x = 1, y = 0.24 To 0.26 and z = 0.074 to 0.076, and n is a rational number satisfying the weight average molecular weight of the compound of 17,130.

실시예Example 7 7

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 실시예 6의 아크릴계 화합물 65.07g(0.5mol), 1-부탄올 963.34g을 투입 후 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1, 65.07 g (0.5 mol) of the acrylic compound of Example 6 and 963.34 g of 1-butanol were fed into a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, Lt; 0 > C to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 98.06g (1mol), MIBK 294.18g, 75% 농도의 BPO 46.38g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 동안 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 공중합체 570g을 수득하였다. Next, when the reflux was started, 98.06 g (1 mol) of the unhydride compound of Example 1, 294.18 g of MIBK and 46.38 g of 75% BPO were added to the first mixture over 3 hours using a dropping funnel . After completion of dropwise addition for 3 hours, reflux and polymerization were carried out for 3 hours at 113 ° C to 115 ° C, followed by dehydration at 200 ° C and extraction to obtain 570 g of a copolymer.

실시예Example 8 8

아크릴계 화합물을 상기 화학식 3-3으로 표시되는 아크릴계 화합물 대신 하기 화학식 3-1 및 화학식 3-2로 표시되는 화합물을 1 : 0.7 몰비로 혼합하여 사용하였으며, 하기 표 2와 같은 조성비를 가지도록 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 공중합체를 제조하였다.The acrylic compound was used in a molar ratio of 1: 0.7 in terms of the compound represented by the following formula (3-1) and the formula (3-2) instead of the acrylic compound represented by the formula (3-3) A copolymer was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative Example 1 One

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 케틀에 실시예 1의 상기 스티렌계 화합물 416.6g(4mol), 1-부탄올 833.2g을 투입 후, 환류온도 약 118℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하였다.416.6 g (4 mol) of the styrene compound of Example 1 and 833.2 g of 1-butanol were charged into a kettle equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, and then heated to a reflux temperature of about 118 캜 to prepare a first mixture.

다음으로, 환류가 시작되면 제1혼합물에 실시예 1의 상기 언하이드라이드계 화합물 98.06g(1mol), MIBK 294.18g, 75% 농도의 BPO 41.17g을 드롭핑 펀넬을 이용하여 3시간에 걸쳐 일정하게 적가시켰다. 3시간 동안 적가를 완료 후, 113℃ ~ 115℃ 하에서 추가 3시간 동안 환류 및 중합반응을 진행했고, 그 다음, 200℃ 탈수, 취출하여 공중합체 510g을 수득하였다. Next, when the reflux started, 98.06 g (1 mol) of the unhydride compound of Example 1, 294.18 g of MIBK and 41.17 g of BPO at a concentration of 75% were added to the first mixture over a period of 3 hours using a dropping funnel . After completion of the dropwise addition for 3 hours, reflux and polymerization were carried out for 3 hours at 113 ° C to 115 ° C, followed by dehydration at 200 ° C and extraction to obtain 510 g of a copolymer.

비교예Comparative Example 2 2

상기 비교예 1과 동일한 스티렌계 화합물, 1-부탄올, 언하이드라드계 화합물, MIBK, BPO를 사용하되, 하기 표 2와 같은 조성비를 사용하여, 공중합체 560g을 수득하였다. 560 g of a copolymer was obtained using the same styrene compound, 1-butanol, anhydride compound, MIBK, and BPO as in Comparative Example 1, but using the composition ratios shown in Table 2 below.

비교예Comparative Example 3 ~  3 ~ 비교예Comparative Example 4 4

상기 실시예 3과 동일한 스티렌계 화합물, 1-부탄올, 언하이드라드계 화합물, MIBK, BPO를 사용하되, 하기 표 2와 같이, 혼합 모노머의 몰비를 달리하여, 하기 표 2와 같은 조성비를 사용하여, 공중합체를 수득하였다. Using the same styrenic compound, 1-butanol, unhydral compound, MIBK and BPO as in Example 3, except that the molar ratios of the mixed monomers were varied as shown in Table 2 below, , A copolymer was obtained.

비교예Comparative Example 5 5

상기 실시예 3과 동일한 스티렌계 화합물, 1-부탄올, 언하이드라드계 화합물, MIBK, BPO를 사용하되, 하기 표 2와 같이, 혼합 모노머의 몰비를 달리하여, 하기 표 2와 같은 조성비를 사용하여, 공중합체를 수득하였다. Using the same styrenic compound, 1-butanol, unhydral compound, MIBK and BPO as in Example 3, except that the molar ratios of the mixed monomers were varied as shown in Table 2 below, , A copolymer was obtained.

구분division 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 스티렌계
화합물
(단위 g, A)
Styrene-based
compound
(Unit g, A)
화학식 1-1(1-1) 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6
언하이드라이드계 화합물
(단위 g, B)
Anhydride-based compound
(Unit g, B)
화학식 1-21-2 98.0698.06 98.0698.06 98.0698.06 98.0698.06 78.7578.75 98.0698.06 98.0698.06
아크릴계 화합물
(단위 g, C)
Acrylic compound
(Unit g, C)
화학식 3-33-3 14.4114.41 36.0336.03 50.4450.44 72.0672.06 36.0336.03 -- --
화학식 3-43-4 -- -- -- -- -- 39.0439.04 65.0765.07 혼합 모노머 몰비
(A:B:C)
Mixed monomer mole ratio
(A: B: C)
1:0.25:
0.05
1: 0.25:
0.05
1:0.25:
0.125
1: 0.25:
0.125
1:0.25:
0.175
1: 0.25:
0.175
1:0.25:
0.25
1: 0.25:
0.25
1:0.2:
0.125
1: 0.2:
0.125
1:0.25:
0.075
1: 0.25:
0.075
1:0.25:
0.125
1: 0.25:
0.125
혼합 모노머
(중량부)
Mixed monomer
(Parts by weight)
100 100 100100 100 100 100100 100 100 100100 100 100
중합개시제
(중량부)
Polymerization initiator
(Parts by weight)
BPOBPO 88 88 88 88 8.448.44 88 88
용제
(중량부)
solvent
(Parts by weight)
1-부탄올1-butanol 218.5218.5 217.8217.8 217.4217.4 216.7216.7 214.6214.6 217.7217.7 216.9216.9
MIBKMIBK 55.655.6 53.453.4 52.152.1 50.150.1 44.344.3 53.153.1 50.750.7

구분division 실시예8Example 8 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 비교예5Comparative Example 5 스티렌계
화합물
(단위 g, A)
Styrene-based
compound
(Unit g, A)
화학식 1-1(1-1) 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6 416.6416.6
언하이드라이드계 화합물
(단위 g, B)
Anhydride-based compound
(Unit g, B)
화학식 1-21-2 98.0698.06 147.09147.09 147.09147.09 39.2239.22 176.51176.51 98.0698.06
아크릴계 화합물
(단위 g, C)
Acrylic compound
(Unit g, C)
화학식 3-33-3 총 14.45 g
(화학식 3-1:화학식 3-2=1:0.7몰비)
Total 14.45 g
(Formula 3-1: Formula 3-2 = 1: 0.7 molar ratio)
-- -- 50.4450.44 50.4450.44 86.4786.47
화학식 3-43-4 -- -- -- -- -- 혼합 모노머 몰비
(A:B:C)
Mixed monomer mole ratio
(A: B: C)
1:0.25:
0.05
1: 0.25:
0.05
1:0.25:
0
1: 0.25:
0
1:0.375:
0
1: 0.375:
0
1:0.1:
0.175
1: 0.1:
0.175
1:0.45:
0.175
1: 0.45:
0.175
1:0.25:
0.30
1: 0.25:
0.30
혼합 모노머
(중량부)
Mixed monomer
(Parts by weight)
100100 100 100 100100 100100 100100 100100
중합개시제
(중량부)
Polymerization initiator
(Parts by weight)
BPOBPO 88 88 88 88 88 88
용제
(중량부)
solvent
(Parts by weight)
1-부탄올1-butanol 218.5218.5 219219 226.1226.1 218.5218.5 218.5218.5 218.5218.5
MIBKMIBK 55.655.6 57.257.2 78.378.3 55.655.6 55.655.6 55.655.6

실험예Experimental Example 1:  One: 산가Acid value 및 분자량 측정 And molecular weight measurement

상기 실시예 및 비교예를 통해 얻은 공중합체(경화제)의 중량평균분자량 및 산가를 하기와 같은 방법으로 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.remind The weight average molecular weight and acid value of the copolymer (curing agent) obtained through Examples and Comparative Examples were measured by the following methods, and the results are shown in Table 3 below.

(1) 중량평균분자량(Mw)의 측정(1) Measurement of weight average molecular weight (Mw)

GPC(켈투과 크로마토 그래피)에 측정하는 중합체는 20,000ppm의 농도가 되도록 테트라히드로푸란(THF)에 용해시켜 GPC에 40㎕ 오토샘플러(Auto sampler)를 통해 주입하였다. GPC의 이동상은 테트라히드로퓨란(THF)을 사용하고, 0.8 ml/분의 유속으로 유입하였으며, 분석은 40℃에서 수행하였다. 컬럼은 Waters HR-05, 4E, 5E 3개를 직렬로 연결하였다. 검출기로는 RI Detector를 이용하여 40℃에서 측정하였다.The polymer to be measured by GPC (gel permeation chromatography) was dissolved in tetrahydrofuran (THF) so as to have a concentration of 20,000 ppm, and the solution was injected into a GPC through a 40 μl autosampler. The mobile phase of GPC was loaded at a flow rate of 0.8 ml / min using tetrahydrofuran (THF) and the assay was carried out at 40 < 0 > C. The column was connected in series with three Waters HR-05, 4E, 5E. The detector was measured at 40 ° C using an RI detector.

(2) (2) 산가Acid value (( mgKOHmgKOH /g)/ g)

실시예 및 비교예를 통해 얻은 공중합체(경화제) 0.1g에 아세톤 용액을 과량 투입하여 충분히 용해한 다음, 페놀프탈레인 지시약을 이용, NaOH로 적정, H2SO4 용액으로 역적정하여 산가를 측정하였다. An acetone solution was added to an amount of 0.1 g of the copolymer (curing agent) obtained in Examples and Comparative Examples to dissolve the copolymer sufficiently, and the acid value was determined by titration with NaOH using a phenolphthalein indicator and reversing with H 2 SO 4 solution.

분석항목Analysis item 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 MwMw 10,94810,948 11,64111,641 14,36814,368 24,09824,098 14,87314,873 17,13017,130 23,40923,409 산가Acid value 149149 167167 182182 201201 131131 164164 177177 분석항목Analysis item 실시예8Example 8 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 비교예5Comparative Example 5 ** MwMw 15,48915,489 15,33915,339 22,34522,345 8,4808,480 38,46238,462 22,96622,966 ** 산가Acid value 191191 6767 112112 140140 221221 198198 **

제조예Manufacturing example 1 ~ 8 및  1 to 8 and 비교제조예Comparative Manufacturing Example 1 ~ 5 :  1 to 5: 프리프레그Prepreg 제조 Produce

페놀 노볼락 에폭시 수지(국도화학, YDPN-638) 10g과 실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 2에서 제조한 각각의 경화제 21.83g, 촉진제(2-Mehtyl imidazole) 0.036g을 넣고 혼합하여 바니쉬를 각각 제조하였다. 10 g of phenol novolac epoxy resin (YUDEN-CHEMICAL, YDPN-638), 21.83 g of each of the curing agents prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2, and 0.036 g of 2-Mehtyl imidazole as an accelerator, Respectively.

다음으로 각각의 바니쉬는 오븐을 이용하여 경화시켰다. 경화조건은 50℃에서 6시간 사전-경화(Pre-cure)시킨 후, 90℃에서 1시간, 120℃에서 1시간, 150℃에서 2시간 동안 순차적으로 경화공정을 수행하여 프리프레그를 수득하여 제조예 1 ~ 7 및 비교제조예 1 ~ 2를 각각 실시하였다.Next, each varnish was cured using an oven. The curing conditions were pre-cured at 50 DEG C for 6 hours and then cured at 90 DEG C for 1 hour, at 120 DEG C for 1 hour, and at 150 DEG C for 2 hours to obtain a prepreg Examples 1 to 7 and Comparative Production Examples 1 and 2 were respectively performed.

실험예Experimental Example 2 :  2 : 프리프레그(경화물)의Of prepreg (hardened) 물성 측정 Property measurement

상기 제조예 및 비교제조예에서 제조한 프리프레그의 유리전이온도 및 유전율을 하기와 같은 방법으로 측정하였고, 그 결과를 하기 표 5 ~ 표 6에 나타내었다.The glass transition temperature and dielectric constant of the prepregs prepared in the Preparation Examples and Comparative Preparations were measured by the following methods, and the results are shown in Tables 5 to 6 below.

(1) (One) TgTg (유리전이온도 측정)(Glass Transition Temperature Measurement)

제조예 및 비교제조예의 프리프레그 시편을 시차주사열량계(DSC)로 측정하였다.Prepreg specimens of Production Examples and Comparative Production Examples were measured by differential scanning calorimetry (DSC).

(2) 유전율 측정(2) Measurement of dielectric constant

제조예 및 비교제조예의 프리프레그 시편을 임피던스 분석기(Agilent E4991B)을 이용하여 경화물의 유전율 및 유전정접을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The dielectric constant and dielectric tangent of the cured product were measured using an impedance analyzer (Agilent E4991B) for the prepreg specimens of the production examples and comparative production examples, and the results are shown in Table 3 below.

(측정주파수 : 1GHz, 측정온도 : 25~27℃, 측정시료 두께 : 0.9 mm)(Measurement frequency: 1 GHz, measurement temperature: 25 to 27 占 폚, measurement sample thickness: 0.9 mm)

분석항목Analysis item 제조예1Production Example 1 제조예2Production Example 2 제조예3Production Example 3 제조예4Production Example 4 제조예5Production Example 5 제조예6Production Example 6 제조예7Production Example 7 Tg(℃)Tg (占 폚) 188188 201201 212212 235235 182182 198198 230230 Dk(유전상수)Dk (dielectric constant) 2.872.87 2.922.92 3.053.05 3.313.31 3.153.15 3.033.03 3.243.24 Df(유전손실)Df (dielectric loss) 0.01120.0112 0.01350.0135 0.01410.0141 0.01700.0170 0.01440.0144 0.01570.0157 0.01760.0176 분석항목Analysis item 제조예8Production Example 8 비교제조예1Comparative Preparation Example 1 비교제조예2Comparative Production Example 2 비교제조예3Comparative Production Example 3 비교제조예4Comparative Production Example 4 비교제조예5Comparative Preparation Example 5 ** Tg(℃)Tg (占 폚) 218218 158158 166166 174174 245245 230230 ** Dk(유전상수)Dk (dielectric constant) 3.043.04 2.892.89 3.013.01 3.143.14 4.044.04 4.184.18 ** Df(유전손실)Df (dielectric loss) 0.01390.0139 0.01310.0131 0.01380.0138 0.01460.0146 0.01790.0179 0.01810.0181 **

상기 표 4의 실험결과를 살펴보면, 아크릴계 화합물을 사용하지 않고서 제조한 경화제인 비교예 1 및 비교예 2을 사용한 비교제조예 1 및 비교제조예 2, 언하이드라이드를 0.15 몰비로 사용하여 제조한 비교예 3의 경화제를 사용한 비교제조예 3의 경우, Tg가 175℃ 미만으로 매우 낮은 문제가 있었다. 그리고, 언하이드라이드를 0.40 몰비를 초과 사용하여 제조한 비교예 4의 경화제를 도입한 비교제조예 4의 경우, 내열성은 우수하나, 유전상수 및 유전손실이 너무 높은 문제가 있었는데, 이는 경화제의 너무 높은 중량평균분자량과 연관이 있는 것으로 판단된다.The results of the tests of Table 4 are as follows: Comparative Preparation Example 1 and Comparative Preparation Example 2 using Comparative Example 1 and Comparative Example 2, which are curing agents prepared without using an acrylic compound, Comparative Example 2 prepared by using an anhydride at a mole ratio of 0.15 In Comparative Production Example 3 using the curing agent of Example 3, there was a problem that the Tg was as low as 175 占 폚 or less. In Comparative Preparation Example 4 in which the curing agent of Comparative Example 4 was prepared by using an anhydride in an amount exceeding 0.40 molar, there was a problem that the heat resistance was excellent but the dielectric constant and the dielectric loss were too high. It is believed to be associated with a high weight average molecular weight.

또한, 아크릴계 화합물을 0.28 몰비를 초과했던 비교예 5의 경화제를 도입한 비교제조예 5의 경화물 역시, 유전상수 및 유전손실이 너무 높은 문제가 발생하였다.Also, the cured product of Comparative Preparation Example 5 in which the curing agent of Comparative Example 5, which had an acrylic compound in an amount exceeding 0.28 molar ratio, was introduced also had a problem that the dielectric constant and the dielectric loss were too high.

이에 반해, 제조예 1 ~ 8의 경우, 180℃ 이상의 높은 유리전이온도를 가지면서, 3.35 이하의 유전상수(Dk) 및 0.02 이하의 유전손실(Df)을 가지는 바, 우수한 내열성과 전기적 특성을 가지는 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, Examples 1 to 8 have a dielectric constant (D k ) of 3.35 or less and a dielectric loss (Df) of 0.02 or less while having a high glass transition temperature of 180 ° C or more. .

상기 실시예 및 실험예를 통하여, 본 발명이 저유전, 고내열성이 요구되는 인쇄회로기판(CCL, Copper clad laminate), 전자부품용 밀봉제, 접착제 등 제품 제조에 사용되는 수지의 경화제로 사용할 수 있음을 확인할 수 있었다.Through the above Examples and Experimental Examples, the present invention can be used as a curing agent for resins used in the production of products such as CCL (Copper Clad laminate), sealing agent for electronic parts, and adhesive, which are required to have low dielectric constant and high heat resistance .

Claims (7)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 하기 화학식 1로 표시되는 스티렌계 화합물, 하기 화학식 3으로 표시되는 아크릴계 화합물을 알코올계 용제에 투입 및 교반시키면서 환류온도 115℃ ~ 125℃로 승온시켜서 제1혼합물을 제조하는 1단계;
하기 화학식 2로 표시되는 언하이드라이드계 화합물, 중합개시제 및 케톤계 용제의 제2혼합물을 상기 제1혼합물에 적가시켜서 제3혼합물을 제조하는 2단계;
제3혼합물을 환류 및 중합반응을 113 ~ 125℃ 하에서 수행하는 3단계; 및
중합반응을 수행한 제3혼합물을 탈수 및 취출공정을 수행하여 하기 화학식 4로 표시되는 중합체를 수득하는 4단계;를 포함하며,
2단계의 제3혼합물은 상기 스티렌계 화합물, 상기 언하이드라이드계 화합물 및 아크릴계 화합물을 1 : 0.18 ~ 0.38 : 0.05 ~ 0.25 몰비로 포함하고,
2단계의 케톤계 용제 및 1단계의 알코올계 용제는 1 : 2 ~ 4 중량비로 포함하며,
상기 알코올계 용제는 1-부탄올, 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 메탄올 중에서 선택된 1종 이상을 포함하고, 상기 케톤계 용제는 메틸이소부틸케톤(MIBK), 메틸에틸케톤 및 아세톤 중에서 선택된 1종 이상을 포함하고,
상기 스티렌계 화합물, 상기 언하이드라이드계 화합물 및 상기 아크릴계 화합물의 총 중량 100 중량부에 대하여, 상기 중합개시제 6 ~ 12 중량부 및 상기 용제 230 ~ 320 중량부를 사용하고,
상기 중합체는 산가가 130 ~ 210 mg KOH/g인 것을 특징으로 하는 저유전성 및 고내열성 경화물 제조용 경화제의 제조방법;
[화학식 1]
Figure 112018066254534-pat00023

화학식 1의 R1은 수소원자 또는 메틸기이며, R2는 수소원자, 메틸기 또는 C1 ~ C2의 알콕시기이며,
[화학식 2]
Figure 112018066254534-pat00024

화학식 2의 R3 및 R4는 독립적으로 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이고,
[화학식 3]
Figure 112018066254534-pat00025

화학식 3의 R5는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, R6는 수소원자, C1 ~ C2의 알킬기이며, R7은 수소원자, C1 ~ C3의 알킬기, C3 ~ C5의 분쇄형 알킬기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 3의 자연수이며,
[화학식 4]
Figure 112018066254534-pat00026

화학식 4의 R1은 수소원자 또는 메틸기이며, R2는 수소원자, 메틸기 또는 C1 ~ C2의 알콕시기이며, R3 및 R4는 독립적으로 수소원자 또는 C1 ~ C2의 알킬기이고, R5는 수소원자 또는 C1 ~ C3의 알킬기이며, R6는 수소원자, C1 ~ C2의 알킬기이며, R7은 수소원자, C1 ~ C3의 알킬기, C3 ~ C5의 분쇄형 알킬기 또는 -(CH2)mOH이고, 이때, m은 1 ~ 3의 자연수이며, x, y 및 z는 1 : 0.18 ~ 0.38 : 0.05 ~ 0.25 몰비이며, n은 화합물의 중량평균분자량 10,000 ~ 25,500을 만족하는 유리수이다.
A step for preparing a first mixture by adding a styrene compound represented by the following general formula (1) and an acrylic compound represented by the following general formula (3) to an alcoholic solvent and stirring the mixture at a temperature of 115 to 125 캜;
A second step of dropping a second mixture of an anhydride-based compound represented by the following formula (2), a polymerization initiator, and a ketone-based solvent into the first mixture to prepare a third mixture;
The third mixture is refluxed and the polymerization reaction is carried out at 113 to 125 캜; And
And a fourth step of performing a dehydration and extraction step of the third mixture subjected to the polymerization reaction to obtain a polymer represented by the following formula (4)
The third mixture in the second stage contains the styrene compound, the anhydride compound and the acrylic compound in a molar ratio of 1: 0.18 to 0.38: 0.05 to 0.25,
The ketone solvent in the two-stage process and the alcoholic solvent in the first process step are contained at a weight ratio of 1: 2 to 4,
Wherein the alcoholic solvent includes at least one selected from 1-butanol, 2-butanol, isopropyl alcohol and methanol, and the ketone solvent is at least one selected from methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl ethyl ketone and acetone / RTI >
6 to 12 parts by weight of the polymerization initiator and 230 to 320 parts by weight of the solvent are used relative to 100 parts by weight of the total weight of the styrene compound, the anhydride compound and the acrylic compound,
Wherein the polymer has an acid value of 130 to 210 mg KOH / g; and a method for producing a curing agent for the production of a low dielectric constant and high heat resistant cured product.
[Chemical Formula 1]
Figure 112018066254534-pat00023

R 1 in the general formula (1) is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a hydrogen atom, a methyl group or a C 1 to C 2 alkoxy group,
(2)
Figure 112018066254534-pat00024

R 3 and R 4 in the general formula (2) are independently a hydrogen atom or a C 1 to C 2 alkyl group,
(3)
Figure 112018066254534-pat00025

R 5 in the formula (3) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; R 6 is a hydrogen atom or a C1 to C 2 alkyl group; R 7 is a hydrogen atom, a C 1 to C 3 alkyl group, a C 3 to C 5 branched alkyl group, (CH 2 ) m OH, wherein m is a natural number of 1 to 3,
[Chemical Formula 4]
Figure 112018066254534-pat00026

R 1 of formula (IV) is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is an alkoxy group of a hydrogen atom, a methyl group, or C1 ~ C2, R 3 and R 4 are independently a hydrogen atom or an alkyl group C1 ~ C2, R 5 is hydrogen R 6 is a hydrogen atom or a C1 to C 2 alkyl group; R 7 is a hydrogen atom, a C 1 to C 3 alkyl group, a C 3 to C 5 branched alkyl group, or - (CH 2 ) m OH; , Wherein m is a natural number of 1 to 3, x, y and z are 1: 0.18 to 0.38: 0.05 to 0.25 molar ratio, and n is a rational number satisfying a weight average molecular weight of the compound of 10,000 to 25,500.
삭제delete
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