KR101919026B1 - 열처리용 일체형 서포트 - Google Patents

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KR101919026B1
KR101919026B1 KR1020170061004A KR20170061004A KR101919026B1 KR 101919026 B1 KR101919026 B1 KR 101919026B1 KR 1020170061004 A KR1020170061004 A KR 1020170061004A KR 20170061004 A KR20170061004 A KR 20170061004A KR 101919026 B1 KR101919026 B1 KR 101919026B1
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권영목
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두산중공업 주식회사
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Abstract

본 발명은 열처리용 일체형 서포트로, ?칭(Quenching) 공정에 있어 가열된 금속 구조물을 지지하는 열처리용 일체형 서포트로서, 금속 구조물이 위치하는 공간부와, 상기 공간부를 둘러싸도록 형성되고, 표면에 복수 개의 음각부가 형성되는 베이스부, 상기 베이스부에 일체로 형성되되, 상기 베이스부의 공간부를 향하여 돌출된 복수 개의 지지대 및 상기 베이스부의 하면에 형성되는 홀부를 포함함으로써, ?칭 공정을 반복하면서 발생하는 열처리용 서포트 자체의 비가역적 변형을 최소화하고, 서포트 내에서 냉각용 액체의 순환을 원활하게 하며, 서포트에 의한 수증기막의 형성 및 폭발을 방지할 수 있는 열처리용 일체형 서포트에 관한 것이다.

Description

열처리용 일체형 서포트{INTEGRAL SUPPORT FOR HEAT TREATMENT}
본 발명은 금속 구조물의 열처리용 서포트에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, ?칭 공정과 같은 열처리에 있어 가열된 돔 형상의 금속 구조물을 지지하는 서포트에 관한 것이다.
열처리용 서포트라 함은, 금속 구조물 특히 원자력에서 사용되는 쉘(Shell) 구조물 등과 같이 돔(Dome)류의 구조물을 소입 열처리시 이를 지지 및 구속하기 위한 서포트(Support) 구조물을 의미한다. 구체적으로 열처리에 있어 가열된 금속 구조물은 약 8시간 동안 냉각용 액체 등에 담금질되는 ?칭(Quenching) 공정을 거치게 된다. 이때, 열처리용 서포트는 금속 구조물을 지지 및 구속하면서 가열시 같이 고온으로 상승하게 되고, ?칭시 같이 급랭하게 되는데, 열처리용 서포트는 재사용되면서 이 같은 급격한 온도 변화에 온전하고 장기적으로 노출된다.
도 1은 종래기술에 대한 열처리용 서포트의 설치 모습을 나타낸 단면도이다. 이를 참조하면, 도 1의 열처리용 서포트는 먼저 서포트의 몸체를 이루는 서포트부재(5)가 구비되고, 각도를 가지는 쇄기(6)가 상기 서포트부재(5)에 조립되어 그 위에 금속 구조물인 헤드 돔(1)을 올리는 구조를 채택하고 있다. 이러한 종래기술은 금속 구조물의 하부를 서포트부재(5)의 내부에 안치시켜 자중에 의한 처짐을 방지하여 '금속 구조물' 자체의 열응력 및 변태응력에 의한 변형을 최소화할 수 있다.
하지만, 종래기술은 고온(약 880℃)에서 반복적인 열처리 공정에 따른 금속 구조물을 지지 및 구속하는 '서포트'의 과다 변형이 발생하는 문제는 해결하지 못하고 있다. 특히 서포트의 이러한 변형은 비가역적인 것으로 일정 회수(통상 약 50회) 열처리시 상기 쇄기(6)의 교체 및 용접수요가 발생하는 문제가 있으며, 장시간 사용시 서포트부재(5)의 수명 또한 단축되어 결국 전체를 새로 제작해야 하는 문제로 귀결된다.
또한, 종래기술은 ?칭 공정시 서포트 하부에 수증기막이 포집되어 폭발함으로써 상기 서포트를 지지하는 레그 등에 충격이 가해지는 등 관련 설비가 파손되어 잦은 정비가 불필요하게 소요되는 문제가 있으며, 이로 인한 경제적 손실 및 작업자의 안전에도 치명적인 해를 끼칠 수 있는 문제가 있다.
대한민국 실용신안등록공보 제20-0327482호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 반복되는 열처리 공정에 의해 서포트가 비가역적으로 변형되는 것을 억제하고, 서포트에 의해 발생하는 수증기막의 폭발 등을 억제하여 관련 설비의 파손을 방지하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 열처리용 일체형 서포트로, ?칭(Quenching) 공정에 있어 가열된 금속 구조물을 지지하는 열처리용 일체형 서포트로서, 금속 구조물이 위치하는 공간부와, 상기 공간부를 둘러싸도록 형성되고, 표면에 복수 개의 음각부가 형성되는 베이스부, 상기 베이스부에 일체로 형성되되, 상기 베이스부의 공간부를 향하여 돌출된 복수 개의 지지대 및 상기 베이스부의 하면에 형성되는 홀부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 베이스부는 상기 공간부를 둘러싸는 링(Ring) 형상으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 베이스부에 형성된 음각부는 상기 베이스부의 표면으로부터 일정한 두께만큼 함몰되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 음각부는 상기 공간부와 마주하는 내주면에 원주방향을 따라 형성되되, 인접한 두 개의 지지대 사이마다 적어도 1개 이상 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 음각부는 상기 베이스부의 외주면에 원주방향을 따라 적어도 2개 이상 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 베이스부의 하면에 형성되되, 상기 베이스부의 하면의 형상과 대응되도록 형성되어 ?칭 공정시 열변형을 방지하는 제1 벤트홀 및 상기 베이스부의 하면에 형성되되, ?칭 공정시 발생하는 수증기를 외부로 배출하도록 상기 제1 벤트홀과 연통되도록 형성된 제2 벤트홀을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제1 벤트홀은 상기 베이스부의 하면의 형상과 대응되도록 링 형상으로 형성되되, 일정한 간격으로 적어도 2개 이상 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제2 벤트홀은 상기 베이스부의 내주면 및 외주면과 각각 연통되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 베이스부에 일체로 형성되되, 상기 베이스부의 외측을 향하여 돌출된 복수 개의 걸림부;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 베이스부 및 지지대는 주조 방법으로 제작되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, ?칭 공정을 반복하면서 발생하는 열처리용 서포트 자체의 비가역적 변형을 최소화하고, 서포트 내에서 냉각용 액체의 순환을 원활하게 하며, 서포트에 의한 수증기막의 형성 및 폭발을 방지하는 이점이 있다.
구체적으로, 고온에서 반복 사용되는 서포트에서 발생하는 전면 배불림 등의 비가역적 과다 변형을 억제하여 잦은 교체로 인한 경제적 손실 등을 절감하는 효과가 있다.
또한, ?칭 공정시 담가진 서포트의 내부에서 냉각용 액체의 순환을 유도하고, 레그 등에 리프팅되어 서포트의 하면이 맞대어지는 경우 밀폐로 인하여 발생하는 수증기막의 폭발을 방지함으로써, 폭발의 충격에 의한 레그 등의 고장원인 및 작업자 위험요소를 근본적으로 제거하는 효과가 있다
다만, 본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 종래기술에 대한 열처리용 서포트의 설치 모습을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 열처리용 일체형 서포트의 사용 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 열처리용 일체형 서포트의 일 실시예를 전체적으로 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 3의 열처리용 일체형 서포트를 아래에서 바라본 도면이다.
도 6은 도 4의 A-A' 및 B-B' 절단선에 따른 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.
또한, 달리 정의하지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 숙련자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 가지며, 상충되는 경우에는, 정의를 포함하는 본 명세서의 기재가 우선할 것이다.
도면에서 제안된 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 그리고, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에서 기술한 "부"란, 특정 기능을 수행하는 하나의 단위 또는 블록을 의미한다.
각 단계들에 있어 식별부호(제1, 제2, 등)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않는 이상 명기된 순서와 다르게 실시될 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 실시될 수도 있고 실질적으로 동시에 실시될 수도 있으며 반대의 순서대로 실시될 수도 있다.
도 2는 본 발명에 따른 열처리용 일체형 서포트(10)의 사용 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
이를 참조하면, 상기 서포트(10)는 고온(약 880℃)으로 가열된 금속 구조물(20)을 고정하고, 상기 서포트(10)는 레그(30)에 의해 지지되어 상기 금속 구조물(20)과 함께 하강하면서 냉각용 액체(40)에 일정 시간동안 담금질된 후, 다시 상기 레그(30)에 의해 상기 금속 구조물(20)과 함께 상승하면서 상기 냉각용 액체(40)로부터 취출된다. 이 같이 상기 서포트(10)는 열처리 공정에 있어 상기 금속 구조물(20)을 지지하면서 함께 가열되고 담금질되는 ?칭(Quenching) 공정을 반복하게 된다.
상기 서포트(10)가 고정 및 지지하는 금속 구조물(20)은 주로 원자력에서 사용되는 쉘(Shell) 구조물 등과 같이 돔(Dome) 형상의 구조물이 될 수 있다. 상기 금속 구조물(20)은 통상적으로 직경이 약 4m 내지 6m일 수 있으며, 상기 금속 구조물(20)의 곡면 또는 경사면 중 일부가 상기 서포트(10)와 접촉되도록 뒤집어진 상태로 지지될 수 있다.
도 3은 본 발명에 따른 열처리용 일체형 서포트(10)의 일 실시예를 전체적으로 나타낸 사시도이고, 도 4는 이를 위에서 바라본 배치도이다.
이를 참조하면, 상기 서포트(10)는 베이스부(100), 지지대(200) 및 홀부(300)가 일체로 형성된다.
구체적으로 상기 베이스부(100)는 금속 구조물(20)이 위치하는 공간부(110)와, 상기 공간부(110)를 둘러싸도록 형성되고, 표면에 복수 개의 음각부(120)가 형성된다.
상기 베이스부(100)는 상기 공간부(110)를 둘러싸는 링(Ring) 형상으로 형성되는 것이 상기 금속 구조물(20)이 대체로 돔 형상으로 형성되어 곡면 또는 경사면을 둘러싸면서 고정 및 지지할 수 있으므로 바람직하다.
상기 베이스부(100)에 형성된 음각부(120)는 상기 베이스부(100)의 표면으로부터 일정한 두께만큼 함몰되도록 형성될 수 있다. 상기 베이스부(100)에 일정한 두께만큼 함몰된 음각부(120)를 적용함으로써 상기 금속 구조물(20)과 함께 고온으로 가열되면서 상기 베이스부(100)의 표면에서 발생하는 배불림 현상을 억제할 수 있고, 비가역적 과다 변형으로 인한 교체수요를 최소화할 수 있게 된다.
상기 음각부(120)는 자세히는 내음각(121) 및 외음각(122)으로 구성될 수 있다. 상기 내음각(121)은 상기 공간부(110)와 마주하는 내주면에 원주방향을 따라 형성되되, 인접한 두 개의 지지대(200) 사이마다 적어도 1개 이상 형성될 수 있으며, 상기 외음각(122)은 상기 베이스부(100)의 외주면에 원주방향을 따라 적어도 2개 이상 형성될 수 있다.
상기 내음각(121) 및 외음각(122) 개수 및 간격은 고온 가열로 인한 배불림 현상 억제에 최적화되도록 상기 내음각(121) 및 외음각(122)의 크기, 상기 지지대(200)의 돌출 간격 및 상기 베이스부(100)의 전체 직경 등을 고려하여 정해질 수 있다.
일 실시예로, 상기 내음각(121) 및 외음각(122)은 직사각형으로 형성되어 표면으로부터 일정한 두께만큼 함몰되도록 형성될 수 있고, 상기 내음각(121)은 인접한 두 개의 지지대(200) 사이에 원주방향을 따라 세 개가 동일한 간격으로 형성될 수 있다(도 3 및 도 4 참조).
다른 실시예로, 상기 베이스부(100)의 외주면에 형성된 외음각(122)은 상기 베이스부(100)의 외주면이 일정한 경사를 가지는 경우 상기 베이스부(100)의 내주면으로부터 일정한 두께만큼 함몰되되, 상측에서 하측으로 내려갈수록 그 함몰두께(h)가 점점 커지도록 형성될 수 있다(단면은 도 6의 (b) 참조). 이로써 상기 베이스부(100)의 경사진 외주면에 대응되도록 배불림 현상을 유도하여 고온으로 가열된 상기 베이스부(100)의 외주면에서 발생하는 비가역적 변형을 최대한 억제할 수 있게 된다.
한편, 상기 베이스부(100)의 하면(130)은 상기 레그(30)에 맞대어져 지지되도록 평편하게 형성될 수 있다. 상기 하면(130)에는 홀부(300)가 일체로 형성될 수 있으며, 이에 대한 자세한 설명은 후술한다.
상기 베이스부(100)의 외주면에는 걸림부(140)가 더 포함될 수 있다. 상기 걸림부(140)는 상기 베이스부(100)에 일체로 형성되되, 상기 베이스부(100)의 외측을 향하여 돌출된 복수 개의 걸림돌기(141)로 구성될 수 있다.
상기 서포트(10)를 지지하는 레그(30) 대신 크레인(미도시)을 사용하여 상기 금속 구조물(20)과 함께 상기 서포트(10)를 인양하는 경우, 상기 서포트(10)는 일체화된 상기 걸림부(140)에 걸려 리프팅될 수 있다.
또한 상기 베이스부(100)의 외주면에 형성된 외음각(122)은 인접한 두 개의 걸림돌기(141) 사이에 적어도 2개 이상이 일정한 간격으로 형성될 수 있다. 상기 외음각(122)의 개수 및 간격은 고온 가열로 인한 상기 베이스부(100)의 외주면의 배불림 현상이 최대한 억제되도록 상기 걸림돌기(141)의 돌출 간격, 상기 외음각(122)의 크기 및 상기 베이스부(100)의 전체 직경 등을 고려하여 정해질 수 있다.
상기 지지대(200)는 상기 베이스부(100)에 일체로 형성되되, 상기 베이스부(100)의 공간부(110)를 향하여 돌출된 복수 개의 지지돌기(210)로 구성된다. 즉 상기 지지대(200)는 복수 개의 지지돌기(210)가 일정한 간격으로 링 형상으로 형성된 상기 베이스부(100)의 내주면을 따라 일체로 형성될 수 있다.
상기 지지돌기(210)는 돔 형상의 금속 구조물(20)의 곡면 또는 경사면이 맞대어지도록 이에 대응되는 형상의 접촉면으로 형성됨이 바람직하다. 상기 지지돌기(210)의 개수 및 간격은 직접 맞대어지는 상기 금속 구조물(20)의 직경, 경사도 및 상기 베이스부(100)의 전체 직경 등을 고려하여 정해질 수 있다.
상기 홀부(300)는 상술한 바와 같이 상기 베이스부(100)의 하면(130)에 일체로 형성된다. 상기 홀부(300)는 ?칭 공정시 냉각용 액체의 유로를 형성함으로써 서포트가 담금된 상태이거나 취출된 상태에서 냉각용 액체의 순환을 원활하게 하고, 동시에 고온 가열된 서포트에 수증기막의 발생을 억제할 수 있게 된다.
도 5는 도 3의 열처리용 일체형 서포트를 아래에서 바라본 도면이고, 도 6은 도 4의 A-A' 및 B-B' 절단선에 따른 단면도이다.
이를 참조하면, 상기 홀부(300)는 상기 베이스부(100)의 하면(130)에 형성되는 제1 벤트홀(310) 및 제2 벤트홀로 구성될 수 있다. 상기 홀부(300)는 상기 베이스부(100)의 하면(130)과 자연스럽게 일체화되도록 반원형의 단면 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 제1 벤트홀(310)은 상기 베이스부(100)의 하면(130)의 형상과 대응되도록 형성될 수 있으며, 구체적으로 상기 제1 벤트홀(310)은 상기 베이스부(100)의 하면(130)의 형상과 대응되도록 링(Ring) 형상으로 형성되되, 일정한 간격으로 적어도 2개 이상 형성되어 ?칭 공정시 냉각용 액체의 순환을 유도함으로써 상기 서포트의 열변형을 방지할 수 있게 된다.
이는, 상기 서포트(10)가 하강하여 냉각용 액체(40)에 담금질되는 동안 상기 냉각용 액체(40)를 담고 있는 탱크에는 자체적인 급수 및 배수시스템으로 인해 냉각용 액체(40)의 순환을 일으키는데, 상기 제1 벤트홀(310)을 베이스부(100)의 하면(130)에 적용함으로써 이 같은 순환을 가이드할 수 있게 된다.
상기 제2 벤트홀(320)은 상기 베이스부(100)의 하면(130)에 형성되되, ?칭 공정시 발생하는 수증기를 외부로 배출하도록 상기 제1 벤트홀(310)과 연통되도록 형성될 수 있다. 구체적으로 상기 제2 벤트홀(320)은 상기 베이스부(100)의 내주면과 연통되거나, 상기 베이스부(100)의 외주면과 연통되도록 형성될 수 있다. 또는 상기 제2 벤트홀(320)은 상기 베이스부(100)의 내주면 및 외주면과 각각 연통되도록 형성될 수 있다.
또한, 상기 제2 벤트홀(320) 중 내주면과 연통되는 홀(321)은 방사형으로 형성되되, 일정한 간격으로 적어도 2개 이상 형성될 수 있고, 상기 제2 벤트홀(320) 중 외주면과 연통되는 홀(322)은 마찬가지로 방사형으로 형성되되, 일정한 간격으로 적어도 2개 이상 형성될 수 있다. 여기서 상기 베이스부(100)의 내주면과 연통되는 복수 개의 홀(321)은 상기 베이스부(100)의 외주면과 연통되는 복수 개의 홀(322)과 원주방향상으로 엇갈리도록 형성될 수 있다.
일 실시예로, 상기 베이스부(100)의 내주면과 연통되는 홀(321)은 원주방향을 따라 90도 간격으로 네 개가 형성될 수 있고, 상기 베이스부(100)의 외주면과 연통되는 홀(322) 역시 원주방향을 따라 90도 간격으로 네 개가 형성될 수 있으며, 인접한 각각의 홀들(321)(322)은 원주방향을 따라 45도 간격으로 형성될 수 있다.
상기 제2 벤트홀(320)을 베이스부(100)의 하면(130)에 적용함으로써, 상기 서포트(10)가 레그(30)에 의해 리프팅되어 상기 베이스부(100)의 하면(130)이 상기 레그(30)에 맞대어지는 경우 밀폐로 인한 수증기의 발생, 성장 및 폭발로 이어지는 고리를 차단하여 레그 등 관련설비의 파손을 방지하고, 이로 인한 작업자 위험요소를 제거할 수 있게 된다.
상기 베이스부(100) 및 지지대(200)는 주조 방법으로 제작될 수 있으며, 이에 따라 ?칭 공정 후 열변형에 의한 크랙을 방지하는 템퍼링 공정이 불필요하여 열처리 시간 및 비용을 절감할 수 있다. 이에 적합한 주조 재질로는 SCW480이 바람직하다.
이처럼 ?칭 공정을 반복하는 금속 구조물(20)을 고정 및 지지하면서 같이 담금질을 반복하는 서포트(10)에 있어서 상기 베이스부(100), 지지대(200) 및 홀부(300)가 일체로 구비됨으로써, 서포트 자체의 비가역적 변형을 최소화하고, 서포트 내에서 열변형을 억제하며, 수증기막의 폭발로 인해 발생하는 레그 등의 파손을 방지할 수 있게 된다.
구체적으로 상기 베이스부(100)에 음각부(120)를 적용함으로써 고온에서 반복 사용되는 서포트에서 발생하는 전면 배불림 등의 비가역적 과다 변형을 억제하여 잦은 교체로 인한 경제적 손실 등을 절감하고, 상기 베이스부(100)에 홀부(300)를 적용함으로써 상기 서포트(10)가 담금질되는 동안 냉각용 액체의 순환을 유도하여 열 변형을 방지하며, 레그에 리프팅되어 베이스부(100)의 하면(130)이 맞대어지는 경우 밀폐로 인하여 발생하는 수증기막의 폭발을 방지할 수 있게 된다.
이상에서 본 발명에 의한 열처리용 일체형 서포트에 대하여 설명하였다. 이러한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다.
10 : 서포트 20 : 금속 구조물
30 : 레그 40 : 냉각용 액체
100 : 베이스부 110 : 공간부
120 : 음각부 200 : 지지대
300 : 홀부 310 : 제1 벤트홀
320 : 제2 벤트홀

Claims (10)

  1. ?칭(Quenching) 공정에 있어 가열된 금속 구조물을 지지하는 열처리용 일체형 서포트로서:
    금속 구조물이 위치하는 공간부와, 상기 공간부를 둘러싸도록 형성되고, 표면에 복수 개의 음각부가 형성되는 베이스부;
    상기 베이스부에 일체로 형성되되, 상기 베이스부의 공간부를 향하여 돌출된 복수 개의 지지대; 및
    상기 베이스부의 하면에 형성되는 홀부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 베이스부는 상기 공간부를 둘러싸는 링(Ring) 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 베이스부에 형성된 음각부는 상기 베이스부의 표면으로부터 일정한 두께만큼 함몰되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 음각부는 상기 공간부와 마주하는 내주면에 원주방향을 따라 형성되되, 인접한 두 개의 지지대 사이마다 적어도 1개 이상 형성되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 음각부는 상기 베이스부의 외주면에 원주방향을 따라 적어도 2개 이상 형성되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 홀부는:
    상기 베이스부의 하면에 형성되되, 상기 베이스부의 하면의 형상과 대응되도록 형성되어 ?칭 공정시 열변형을 방지하는 제1 벤트홀; 및
    상기 베이스부의 하면에 형성되되, ?칭 공정시 발생하는 수증기를 외부로 배출하도록 상기 제1 벤트홀과 연통되도록 형성된 제2 벤트홀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 벤트홀은 상기 베이스부의 하면의 형상과 대응되도록 링 형상으로 형성되되, 일정한 간격으로 적어도 2개 이상 형성되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 제2 벤트홀은 상기 베이스부의 내주면 및 외주면과 각각 연통되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 베이스부에 일체로 형성되되, 상기 베이스부의 외측을 향하여 돌출된 복수 개의 걸림부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 베이스부 및 지지대는 주조 방법으로 제작되는 것을 특징으로 하는 열처리용 일체형 서포트.
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