KR101918294B1 - 광학특성을 향상시킨 광학재료용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학재료의 제조방법 - Google Patents

광학특성을 향상시킨 광학재료용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학재료의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 내광성, 투과율, 내열성 등의 광학특성을 향상시킨 광학재료로의 중합을 위한 수지 조성물과 이를 이용한 광학재료의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, 중합용 조성물에 내부이형제로 사용되는 인산에스테르화합물에 함유된 금속성분의 함유량을 0.01중량%(100ppm) 이하로 저감시키는 간단한 방법으로, 중합에 의해 얻게 되는 광학재료의 중요한 광학특성을 향상시킬 수 있다.

Description

광학특성을 향상시킨 광학재료용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학재료의 제조방법{Resin composition for optical material having advanced property and preparation method of optical material using it}
본 발명은 광학재료용 수지 조성물 및 광학재료의 제조방법에 관한 것으로, 특히 내광성, 투과율, 내열성 등의 광학특성을 향상시킨 광학재료로의 중합을 위한 수지 조성물과 이를 이용한 광학재료의 제조방법에 관한 것이다.
플라스틱 광학재료는, 무기 재료로 이루어지는 광학재료에 비해 가볍고 쉽게 깨지지 않으며, 염색이 가능하다. 최근에는 다양한 수지의 플라스틱 재료들이 광학재료에 이용되고 있으며 그 요구 물성 또한 날로 높아지고 있다.
폴리티올화합물과 이소시아네이트화합물을 사용하여 제조된 폴리티오우레탄 광학수지는 투명성, 아베수, 투과율, 인강강도 등의 광학특성이 우수하여 광학렌즈 소재로 널리 이용되고 있다. 폴리티오우레탄 광학수지는 주형중합에 의하여 성형하는데, 폴리티오우레탄 수지가 강력한 접착력을 갖고 있기 때문에 성형형으로부터 이형시키기 위해 이형제를 사용하는 것이 필수적이다.
이형제에는, 성형형 표면에는 스프레이 등을 이용하여 도포하는 외부이형제와, 원료 수지에 미리 첨가해 두는 내부이형제가 있다. 외부 이형제는 조작이 번잡할 뿐만 아니라, 이형막이 일정하게 되기 어렵고, 면정밀도가 저하하는 문제점이 있어, 내부이형제가 바람직하다. 내부이형제로서 종래 알려져 있는 화합물로는, 지방족 알코올, 지방산 에스테르, 트리글리세리드류, 불소계면활성제, 고급지방산 금속염 등이 있지만 이들을 사용하는 경우, 이형하기가 어렵거나, 수지 내부 또는 표면에 불투명성이 발생하기 쉬워서, 수지 본래의 투명성을 손상시키는 문제점이 있다. 투명성을 손상하는 것은, 매우 고도의 투명성이 요구되는 플라스틱 렌즈로 대표되는 광학재료 분야에서는, 지극히 치명적인 결점이 된다. 따라서 이 문제를 해결하는 방법으로 여러 가지의 제안이 있는데, 일본 특허공고공보 평7-118989, 일본 특허공개공보 평6-020752, 일본 특허 2842658, 일본 특허공개공보 평11-43493, 일본 특허공개공보 2000-281687, 일본 특허공개공보 2001-72692 등에 산성에스테르 화합물의 내부이형제가 개시되어 있다.
또한 중합에는, 내부이형제 이외에도, 첨가제로서 디부틸주석디클로라이드 등의 유기주석 화합물을 중합촉매 또는 중합개시제로 첨가할 필요가 있다. 폴리티오우레탄 수지의 중합에 사용되는 촉매로는, 종래에 촉매로 사용하고 있는 DBC(디부틸주석디클로라이드)나 DBTDL(디부틸주석디라우레이트)로 대표되는 유기 주석계 촉매가 범용되고 있다. 그러나, 이들 유기 주석계 촉매에 대해, 최근 독성, 안전성 면에서 문제가 제기되고 있다.
이와 관련하여, 한국공개특허 10-2008-0098642에서는 금속성분이 함유된 내부이형제를 사용함으로써 유기주석 촉매를 사용하지 않고 렌즈를 제조하는 방법을 개시하고 있다. 그러나, 이렇게 할 경우 유기주석촉매에 비해 반응성이 느리다.
본 발명자들은 통상 내부이형제로 사용되는 시판 인산에스테르화합물에 금속성분(Al, Zn, Cu, Fe, Bi, Ga, Zr 등)이 200~300ppm 정도 함유되어 있는 것을 발견하였다. 이는 제조과정이나 보관용기 등으로부터 혼입되는 것으로 추정되나 정확한 원인은 알 수 없다. 본 발명자들은, 내부이형제로 사용되는 인산에스테르화합물에 포함되어 있는 금속성분이 중합에 의해 얻어지는 광학렌즈의 투과율, 내광성, 열안정성 등의 광학특성에 큰 영향을 미친다는 것과 이 금속성분을 일정 범위 이하, 즉 0.01%(100ppm)로 저감시킴으로써 광학렌즈의 투과율, 내광성, 열안정성과 같은 광학특성을 크게 향상시킬 수 있다는 것을 예기치 않게 발견하였다. 본 발명은 내부이형제로 사용되는 인산에스테르화합물의 금속성분 함량 제어를 통해 광학특성이 향상된 폴리티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에서는,
아래 화학식 1로 표시되고 금속성분의 함유량이 0.01중량%(100ppm) 이하인 인산에스테르화합물을 내부이형제로 포함하는 광학재료용 수지 조성물이 제공된다.
[화학식 1]
Figure 112018062432516-pat00001
식에서,
y는 1~3으로 "R-(-O-X)n-O-"기를 독립적으로 1 내지 3개 가질 수 있으며, 동시에 y+m은 3이다.
X는 알킬렌기를 나타내고,
R은 알킬기, 알킬페닐, 페닐알킬을 나타내며,
n는 0~40를 나타낸다.
m은 0~2이며, 동시에 y+m은 3이다.
상기 광학재료는, 특히 우레탄계수지, 아크릴계수지, 알릴계수지, 술피드계수지, 티에탄계수지 중 어느 하나가 될 수 있다. 상기 광학재료용 수지 조성물은 자외선 흡수제 0.005~6 중량%, 유기 염료 0.5~1,000ppm 및 중합개시제 0.01~5 중량%를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 상기 화학식 1로 표시되는 인산에스테르화합물을 순수로 세척하여 금속성분의 함유량을 0.01중량%(100ppm) 이하로 만드는 단계와,
상기 단계에서 얻은 금속성분 함유량 0.01중량% 이하의 인산에스테르화합물을 내부이형제로서 모노머 혼합물에 첨가하고 중합시키는 단계를 포함하는 광학재료의 제조방법이 제공된다.
또한, 본 발명에서는, 상기 광학재료용 수지 조성물을 중합시킨 광학재료와 이 광학재료로 이루어진 광학렌즈가 제공된다.
본 발명에서는, 내부이형제인 산성인산에스테르화합물에 들어있는 금속성분을 0.01% 이하로 줄임으로써, 중합에 의해 제조된 광학렌즈의 내광성, 투과율, 내열성과 같은 중요한 광학특성을 향상시킬 수 있었다. 본 발명에 따르면, 내부이형제에 존재하는 금속성분을 줄이는 정제과정만으로 광학적인 특성을 크게 향상시켜 우수한 광학렌즈를 제조할 수 있다. 본 발명은 폴리티오우레탄계 렌즈는 물론, 아크릴계 렌즈, 알릴계 렌즈, 에피술피드계 렌즈 및 티에탄계 렌즈 제조에도 유용하게 이용될 수 있다.
본 발명의 광학재료용 수지 조성물은 아래 화학식 1로 표시되고 금속성분의 함유량이 0.01중량%(100ppm) 이하인 인산에스테르화합물을 내부이형제로 포함한다.
[화학식 1]
Figure 112018062432516-pat00002
식에서,
y는 1~3으로 "R-(-O-X)n-O-"기를 독립적으로 1 내지 3개 가질 수 있으며, 동시에 y+m은 3이다.
X는 알킬렌기를 나타내고,
R은 알킬기, 알킬페닐, 페닐알킬을 나타내며,
n는 0~40를 나타낸다.
m은 0~2이며, 동시에 y+m은 3이다.
상기 화학식 1을 만족하는 산성 인산에스테르화합물이면, 모두 금속성분을 저감한 후 본 발명이 목적하는 내부이형제로 사용될 수 있다. 특별히 제한되는 것은 아니나, 내부이형제인 산성인상에스테르화합물은, 예를 들어, (모노, 디)메틸 인산; (모노, 디)에틸인산; (모노, 디)(n-프로필)인산; (모노, 디)이소프로필인산; (모노, 디)(n-부틸)인산; (모노, 디)(n-펜틸)인산; (모노, 디)(n-헥실)인산; (모노,디)(n-헵틸)인산; (모노, 디)(n-옥틸)인산; (모노, 디)(2-에틸헥실)인산; (모노, 디)(n-노닐)인산; (모노, 디)(n-데실)인산; (모노, 디)(이소데실)인산; (모노, 디)(n-운데실)인산; (모노, 디)(n-도데실)인산; (모노, 디)(트리데실)인산; (모노, 디)(n-테트라데실)인산; (모노, 디)(n-펜타데실)인산; (모노, 디)(n-헥사데실)인산; (모노, 디)(n-옥타데실)인산; (모노, 디)(o-메틸데실)인산; (모노, 디)(p-메틸페닐)인산; (모노, 디)(p-에틸페닐)인산; (모노, 디)(p-프로필페닐)인산; (모노, 디)(p-부틸페닐)인산; (모노, 디)(p-노닐페닐)인산; (모노, 디)(p-메틸메틸)인산; (모노, 디)(2-페닐에틸)인산; (모노, 디)(4-페닐부틸)인산; (모노, 디)(3-옥사부틸)인산; (모노,디)(3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(3-옥사헥실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3-옥사옥틸실)인산; (모노, 디)(3-옥사노닐)인산; (모노, 디)(3-옥사운데실)인산; (모노, 디)(3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3-옥사펜타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사노나데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1,2-디메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(1-메틸-2-(o-메틸페녹시)에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸2-(p-노닐페녹시에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-4-페닐-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥타데실)인산; (3,6-디옥사이코실)인산; (3,6-디옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4-디메틸-3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사운데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타코실)인산; (모노, 디)(1,4,7-트리메틸-3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사헵사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사옥틸데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사이코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4,7,10-테트라메틸-3,6,9,12-테트라옥사헥사데실)인산; 트리이소프로필산 포스페이트; 트리부틸산 포스페이트; 트리옥틸산 포스페이트; 트리이소데실산 포스페이트; 트리데칸올산 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 트리메틸산 포스페이트; 트리에틸산 포스페이트; 트리프로필산 에스테르; 벤질산 포스페이트; 디벤질산 포스페이트; 트리벤질산 포스페이트; 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 트리 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리에틸렌글리콜 모노 에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 디포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 포스페이트; 이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트 등이 단독으로 또는 2종 이상 혼합 사용될 수 있다.
상기 금속성분에는 특히 Zn, Cu, Fe, Ga, Bi, Al, Zr 등이 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예에서, Stepan 사가 시판하고 있는 인산에스테르계 내부이형제인 Zelec UN의 금속성분을 분석한 결과, Al 149.116ppm, Fe 9.635ppm, Zn 9.887ppm, Cu 2.015ppm, Zr 0.295ppm, Ga 0.08ppm, Bi 0.006ppm이 포함된 것으로 나왔다. 본 발명에서는 이 내부이형제를 유기용매에 녹이고 순수로 여러 번 세척한 후, 감압하에 용매를 제거하고, 다시 금속성분을 분석하였으며, 그 결과 알루미늄이 13.627 ppm 잔류하는 것 외에는 다른 금속은 거의 검출되지 않았다. 따라서, 본 발명에서는, 순수를 이용한 세척 공정을 거치는 간단한 방법으로 산성인산에스테르계 내부이형제를 정제할 수 있었다.
본 발명의 광학재료용 수지 조성물 중에 정제된 산성인산에스테르화합물(화학식1)은 내부이형제로, 바람직하게는 조성물 전체 중량 중에 0.0001~10 중량%로 포함되며, 더욱 바람직하게는 0.005~2 중량%로 포함된다. 이 범위로 사용하는 것이 렌즈에서 몰드의 탈형성이 좋고 중합수율 또한 높았다. 이형제의 첨가량이 0.005% 이하이면 성형된 광학렌즈를 유리 몰드에서 분리시 유리몰드 표면에 렌즈가 부착되어 일어나는 현상이 발생할 수 있고, 2 중량% 이상이면 주형 중합 중 렌즈가 유리 몰드에서 분리되어 렌즈의 표면에 얼룩이 발생할 수 있는 문제점이 있다.
본 발명의 광학재료용 수지 조성물에는 상기 산성인산에스테르화합물(화학식1) 외에 모노머가 포함된다. 폴리티오우레탄계 수지를 중합하기 위한 조성물인 경우, 이소시아네이트화합물 또는 이소티오시아네이트화합물, 티올화합물 및 중합개시제를 포함한다. 이외에도 조성물에는 광학재료의 특성을 향상시키기 위해 자외선흡수제, 안정제(열안정제), 내부이형제, 색상보정제(안료, 염료), 산화방지제, 이형제 등의 첨가제가 더 포함될 수 있다.
본 발명에서, 폴리티오우레탄계 수지를 중합하기 위해 광학재료용 수지 조성물에 포함될 수 있는 이소시아네이트화합물 또는 이소티오시아네이트화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이토-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 리신디이소시아네이토메틸에스테르, 리신트리이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물; 1,2-디이소시아네이토벤젠, 1,3-디이소시아네이토벤젠, 1,4-디이소시아네이토벤젠, 2,4-디이소시아네이토톨루엔, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 톨릴렌-2,4-디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(페닐이소시아네이트), 4,4-메틸렌비스(2-메틸페닐이소시아네이트), 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, α,α,α',α'-테트라메틸 크실릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈린, 비스(이소시아네이토메틸페닐)에테르, 비스(이소시아네이토에틸)프탈레이트, 2,6-디(이소시아네이토메틸)푸란 등의 방향환 화합물을 가지는 폴리이소시아네이트 화합물; 이소포론디이소시아네이트, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄디이소시아네이트, 2,2′-디메틸디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 비스(4-이소시아네이토-n-부틸리덴)펜타에리트리톨, 다이머산디이소시아네이트, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-5-이소시아네이토메틸비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6-이소시아네이토메틸비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-5-이소시아네이토메틸-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-6-이소시아네이토메틸-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-5-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 1,3,5-트리스(이소시아네이토메틸)-시클로헥산, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI) 등의 지환족 화합물을 가지는 폴리이소시아네이트 화합물; 티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸 티오펜-2,5-디이소시아네이트, 1,4-디티안-2,5-디이소시아네이트, 메틸 1,4-디티안-2,5-디이소시아네이트, 1,3-디티올란-4,5-디이소시아네이트, 메틸 1,3-디티올란-4,5-디이소시아네이트, 메틸 1,3-디티올란-2-메틸-4,5-디이소시아네이트, 에틸 1,3-디티올란-2,2-디이소시아네이트, 테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 에틸 테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸 테트라히드로티오펜-3,4-디이소시아네이트, 1,2-디이소티오시아네이토에탄, 1,3-디이소티오시아네이토프로판, 1,4-디이소티오시아네이토부탄, 1,6-디이소티오시아네이토헥산, p-페닐렌디이소프로필리덴디이소티오시아네이트, 시클로헥산디이소티오시아네이트 등의 헤테로고리 디이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토메틸)설파이드, 비스(이소시아네이토에틸)설파이드, 비스(이소시아네이토프로필)설파이드, 비스(이소시아네이토헥실)설파이드, 비스(이소시아네이토메틸)설파이드, 비스(이소시아네이토메틸)디설파이드, 비스(이소시아네이토에틸)디설파이드, 비스(이소시아네이토프로필)디설파이드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄, 1,2,3-트리스(이소시아네이토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(이소시아네이토에틸티오)프로판, 3,5-디티아-1,2,6,7-헵탄테트라이소시아네이트, 2,6-디이소시아네이토메틸-3,5-디티아-1,7-헵탄디이소시아네이트, 2,5-디이소시아네이토메틸티오펜, 4-이소시아네이토에틸티오-2,6-디티아-1,8-옥탄디이소시아네이트 등의 황함유 지방족 폴리이소시아네이트 화합물; 2-이소시아네이토페닐-4-이소시아네이토페닐설피드, 비스(4-이소시아네이토페닐)설피드, 비스(4-이소시아네이토메틸페닐)설피드 등의 방향족 설피드계 폴리이소시아네이트 화합물; 비스(4-이소시아네이토페닐)디설피드, 비스(2-메틸-5-이소시아네이토페닐)디설파이드, 비스(3-메틸-5-이소시아네이토페닐)디설파이드, 비스(3-메틸-6-이소시아네이토페닐)디설파이드, 비스(4-메틸-5-이소시아네이토페닐)디설파이드, 비스(4-메톡시-3-이소시아네이토페닐)디설파이드 등의 방향족 디설피드계 폴리이소시아네이트 화합물; 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토메틸테트라히드로티오펜, 3,4-디이소시아네이토메틸테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-디이소시아네이토메틸-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)1,3-디티오란, 4,5-디이소시아네이토메틸-2-메틸-1,3-디티오란 등의 황함유 지환족 폴리이소시아네이트 화합물; 1,2-디이소티오시아네이토에탄, 1,6-디이소티오시아네이토헥산 등의 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물; 시클로헥산디이소티오시아네이트 등의 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물; 1,2-디이소티오시아네이토벤젠, 1,3-디이소티오시아네이토벤젠, 1,4-디이소티오시아네이토벤젠, 2,4-디이소티오시아네이토톨루엔, 2,5-디이소티오시아네이토-m-크실렌, 4,4-메틸렌비스(페닐이소티오시아네이트), 4,4-메틸렌비스(2-메틸페닐이소티오시아네이트), 4,4-메틸렌비스(3-메틸페닐이소티오시아네이트), 4,4-디이소티오시아네이토벤조페논, 4,4-디이소티오시아네이토-3,3-디메틸벤조페논, 비스(4-이소티오시아네이토페닐)에테르 등의 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물; 1,3-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, 1,4-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, (2,2-피리딘)-4,4-디카르보닐디이소티오시아네이트 등의 카르보닐 폴리이소티오시아네이트 화합물; 티오비스(3-이소티오시아네이토프로판), 티오비스(2-이소티오시아네이토에탄), 디티오비스(2-이소티오시아네이토에탄) 등의 황함유 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물; 1-이소티오시아네이토-4-[(2-이소티오시아네이토)티오]벤젠, 티오비스(4-이소티오시아네이토벤젠), 설포닐(4-이소티오시아네이토벤젠), 디티오비스(4-이소티오시아네이토벤젠) 등의 황함유 방향족 폴리이소티오시아네이트화합물; 2,5-디이소티오시아네이토티오펜, 2,5-디이소티오시아네이토-1,4-디티안 등의 황함유 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물; 1-이소시아네이토-6-이소티오시아네이토헥산, 1-이소시아네이토-4-이소티오시아네이토시클로헥산, 1-이소시아네이토-4-이소티오시아네이토벤젠, 4-메틸-3-이소시아네이토-1-이소티오시아네이토벤젠, 2-이소시아네이토-4,6-디이소티오시아네이토-1,3,5-트리아진, 4-이소시아네이토페닐-4-이소티오시아네이토페닐설피드, 2-이소시아네이토-에틸-2-이소티오시아네이토에틸디설피드 등의 이소시아네이토기와 이소티오시아네이토기를 가지는 화합물 등을 1종 혹은 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서, 폴리티오우레탄계 수지를 중합하기 위해 광학재료용 수지 조성물에 포함될 수 있는 폴리티올화합물로는, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올; 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올; 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올; 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)설파이드; 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디설파이드; 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올; 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판; 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄; 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안; 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디에탄; 트리스(메르캅토메틸티오)메탄; 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2,4-디티아펜탄; 비스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸; 1,2,3-트리메르캅토벤젠; 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠; 1,2,3-트리스(메르캅토메르캅토에틸)벤젠; 1,3,5-트리스(메르캅토에틸)벤젠; 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠; 1,2,4-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠; 1,3,5-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠; 1,2,3-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠; 1,2,4-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠; 1,3,5-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠; 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄; 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드; 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올; 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르; 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올; 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토프로피오네이트); 글리세롤 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올클로로 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토아세테이트); 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토아세테이트); 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토프로피오네이트) (PETMP); 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)(PETMA); 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(메르캅토프로피오네이트)(BPEHMP); 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(2-메르캅토아세테이트)(BPEHMA); 비스펜타에리트리톨헥사(2-메르캅토아세테이트)(BPEMA); 비스트리메틸올프로판테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) (BTMPMP); 비스트리메틸올프로판테트라키스(2-메르캅토아세테이트)(BTMPMA)을 사용할 수 있으며, 위의 예시한 것에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 광학재료용 수지 조성물은, 상기와 같은 모노머 외에도 기타반응을 조절하기 위해 첨가 가능한 화합물로서, 비닐기(아크릴계, 알릴계 포함) 갖는 화합물, 티오에폭시기를 갖는 화합물, 에폭시화합물, 티에탄화합물, 디설파이드를 가지는 티올화합물 등을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 조성물은 자외선 흡수제를 더 포함할 수 있다. 자외선 흡수제는 광학렌즈에 사용 가능한 공지의 자외선 흡수제면 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트; 2-(2'-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2,4-디히드록시벤조페논; 2-히드록시-4-메톡시벤조페논; 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논; 4-도데실옥시-2-히드록시벤조페논; 4-벤족시-2-히드록시벤조페논; 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논; 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 등이 단독으로 또는 2종 이상 혼합 사용될 수 있다. 바람직하게는, 400㎚ 이하의 파장역에서 양호한 자외선 흡수능을 가지고, 본 발명의 조성물에 양호한 용해성을 갖는 2-(2'-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논; 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트; 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3,5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸 및 2,2-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 등이 단독으로 또는 2종 이상 같이 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물은, 바람직하게는 안정제 0.01~5.00 중량% 더 포함할 수 있다. 안정제는 0.01 중량% 이하 사용할 때에는 안정성 효과가 약하며, 10.00 중량% 이상을 사용할 때에는 경화시 중합불량률이 높고 경화물의 안정성이 도리어 낮아지는 문제점이 있다. 예를 들면, 금속 지방산염계인 칼슘 스테아레이트; 바륨 스테아레이트; 아연 스테아레이트; 카드뮴 스테아레이트; 납 스테아레이트; 마그네슘 스테아레이트; 알루미늄 스테아레이트; 칼륨스테아레이트; 아연 옥토에이트 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용가능하며, 인계인 트리페닐 포스파이트; 디페닐데실포스파이트; 페닐디데실포스파이트; 디페닐도데실포스파이트; 트리노릴페닐포스파이트; 디페닐이소옥틸포스파이트; 트리부틸포스파이트; 트리프로필포스파이트; 트리에틸포스파이트; 트리메틸포스파이트; 트리스(모노데실포스파이트); 트리스(모노페닐)포스파이트 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용가능하며, 납계인 3PbO.PbSO4.4H2O; 2PbO.Pb(C8H4O4); 3PbO.Ph(C4H2O4).H2O 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용가능하며, 유기주석계인 디부틸틴 디아우레이트; 디부틸틴말리에이트; 디부틸틴 비스(이소옥틸말리에이트); 디옥틸말리에이트; 디부틸틴 비스(모노메틸말리에이트); 디부틸틴 비스(라우릴메르캅티드); 디부틸 비스(이소옥실메르캅토아세테이트); 모노부틸틴 트리스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 디메틸틴비스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 트리스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 비옥틸틴비스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 디부틸틴 비스(2-메르캅토에틸로레이트); 모노부틸틴트리스(2-메르캅토에틸로레이트); 디메틸틴 비스(2-메르캅토에틸로이트); 모노메틸틴 트리스(2-메르캅토에틸로레이트) 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상 사용가능하며, 또 예시한 안정제를 2종 이상 혼합하여 사용가능하다. 더욱 바람직한 것은 인계의 안정제를 사용함으로 성형된 렌즈는 초기 색상뿐 아니라 투명성, 충격강도, 내열성 및 중합수율 등 광학특성의 저하 없이 광학렌즈의 안정성을 크게 향상시켜 주었다.
본 발명에서는 시판되는 내부이형제인 산성인산에스테르화합물에 포함되어 있는 금속성분을 제거하는 정제방법으로 순수를 사용하여 여러 번의 세척공정을 통해서 금속함량이 0.01% 이하인 내부이형제를 얻을 수 있었다. 그리고, 이를 이용하여 제조된 광학렌즈는 금속성분을 0.01% 이상으로 포함하고 있는 시판 내부이형제를 사용한 광학렌즈에 비해 내광성, 투과율, 내열성에서 향상된 광학특성을 갖고 있었다. 본 발명에서는 별도로 복잡한 공정과정을 거치지 않고도 순수의 세척 공정을 거쳐 정제하는 간단한 방법으로, 광학렌즈의 광학적인 특성을 크게 향상시킬 수 있다.
[ 실시예 ]
이하 구체적인 실시예들을 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
성능시험
실시예에서 얻어진 광학렌즈의 성능시험은 아래의 방법으로 평가하였다.
1) 금속의 농도: 산성인산에스테르화합물 2.5g의 정확한 무게를 달고 삼각플라스크에 넣고 Hot plate로 가열하여 태운 후, 순수로 추출하고 추출한 양으로 정확한 농도를 계산하고 ICP-AES(고주파 유도결합상 플라즈마 발광분석장치)에 의해 금속 함량을 측정하였다.
2) 굴절률: Atago Co., 1T 및 DR-M4 모델인 아베 굴절계를 사용하여 측정하였다.
3) 내광성(△YI): Q-Lab 사의 QUV/se Accelerlated Weathering Tester (HS)Code 9027.80.8090)모델로 QUV 시험은 두께가 1.2 mm인 평판렌즈를 UBA-340 (340 nm), 광량 0.76W/m2, 4 시간 BPT(blank panel temperature)(60℃), 4 시간 condensation (50℃) 조건하에서 48 시간 동안 조사한 후, GRETAG Macbeth 사 Color Eye 7000 A 분광기로 KS M 3832: 2006(투과법)으로 평판렌즈의 YI 값을 측정하였다. 내광성(△YI)은 초기렌즈의 YI 값과 QUV 시험한 후, 렌즈의 YI 값을 측정하여 변화된 색상차이 값(△YI)을 수치로 나타내었다.
4) 열안정성(△YI): 열안정성은 광학렌즈를 120℃에서 12시간 동안 유지한 후, 초기렌즈의 YI값과 시험 후, 색상이 변화된 렌즈의 △YI값으로 하였다. YI 값의 측정은 색상변화를 SHIMADZU 사 Model UV-2450에 IRS-2200 집광장치를 정착된 색분석 장치를 이용하였고, 측정방법은 공기를 기준점으로 잡고 렌즈를 정착시키는 장치에 고정하여 색상 YI 값을 측정하였다.
5) 투과율: SHIMADZU 사 Model UV-2450의 분광광도계를 이용하여 측정하였다.
실시예 1
현재 상품화되어 있는 산성인산에스테르화합물(Stepan사, 상품명 Zelec UN 중의 금속성분 함량의 분석에서 Al 149.116ppm, Fe 9.635ppm, Zn 9.887ppm, Cu 2.015ppm, Zr 0.295ppm, Ga 0.08ppm, Bi 0.006ppm 등이 포함) 100g을 톨루렌 500g에 녹이고, 순수 100g으로 5회 걸쳐 세척하고 얻은 유기용액을 감압하에서 용매를 제거하고, 고진공에서 1일 동안 건조하였다. 정제과정을 거쳐 얻어진 내부이형제인 산성인산에스테르화합물(Zelec UN) 중의 Al 농도는 13.627 ppm이었고, 다른 금속은 1ppm 미만이었다.
실시예 2
현재 상품화되어 있는 산성인산에스테르화합물(제타켐택사, 상품명 A-PH3 중의 알루미늄 함량분석에서 알루미늄이 264.309ppm 포함) 100g을 톨루렌 500g에 녹이고, 순수 100g으로 5회 걸쳐 세척한 유기용액을 감압하에서 용매를 제거하고, 다시 고진공(0.1 torr 이하)에서 1일 동안 건조하였다. 내부이형제인 A-PH3 중의 Al 농도는 13.378 ppm이었다.
실시예 3
현재 상품화되어 있는 산성인산에스테르화합물(제타켐택사, 상품명 Lub 60인 KPSS-1000 중의 알루미늄 함량분석에서 알루미늄이 123.231ppm 포함) 100g을 톨루렌 500g에 녹이고, 순수 100g으로 5회 걸쳐 세척한 유기용액을 감압하에서 용매를 제거하고, 다시 고진공(0.1 torr 이하)에서 1일 동안 건조하였다. 정제과정을 거쳐 얻어진 산성인산에스테르화합물(Lub 60) 중의 Al 농도는 13.898 ppm이었다.
실시예 4
디시클로헥실메탄디이소시아네이트(H12MDI) 55.39g, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트 3.94g, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판 40.67g을 혼합하여 혼합물을 제조한 후, 자외선흡수제로 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페놀)-2H-벤조트리아졸 1.50g, 이형제로 실시예1에서 정제된 Zelec UN 0.1g, 유기염료로 1-히드록시-4-(p-톨루이디노)엔트라퀴논(blue) 20 ppm, 퍼리온다이(red) 10 ppm, 중합개시제로 부틸틴디클로라이드 0.1 g을 교반기가 장착된 배합통에 넣고 질소 기류하에서 20분간 교반하여 안경렌즈용 수지조성물을 얻은 후, 0.1 torr 이하로 1시간 30분간 감압탈포하고 질소로 채운 후, 질소압력을 이용하여 폴리에스테르 점착테이프로 고정된 유리몰드에 주입하였다(디옵타 -5.00). 안경렌즈용 수지조성물이 주입된 유리몰드를 강제순환식 오븐에 35℃로 유지, 40℃로 3시간 승온, 120℃로 12시간 승온, 120℃로 2시간 유지, 70℃로 2시간에 걸쳐 냉각시켜 가열 경화시킨 후, 고형물에서 몰드를 이형시켜 중심 두께 1.2 mm인 광학렌즈를 얻었다. 얻어진 수지를 130℃에서 2시간 더 어닐링 처리하였다.
실시예 5~6
내부이형제인 산성인산에스테르화합물을 달리하는 것 이외는 실시예4와 동일한 방법으로 하여 얻은 광학렌즈의 물성을 실험하여, 결과를 표1에 나타내었다.
비교예 1
시판되는 금속성분(Zn, Cu, Fe, Ga, Bi, Al, Zr 등)이 146.116ppm 포함한 내부이형제인 Zelec UN를 정제하지 않고 그대로 사용하는 것 이외는 실시예4와 동일한 방법으로 얻은 광학렌즈의 물성을 실험하여, 결과를 표1에 나타내었다.
실시예 비교예
4 5 6 1

모노머 조성물
(g)		 GST 40.67 40.67 40.67 40.67
H12MDI 55.39 55.39 55.39 55.39
HDI 3.94 3.94 3.94 3.94


이형제(g)		 Zelec UN(실시예1) 0.1
Lub 60(실시예2) 0.1
A-PH3(실시예3) 0.1
Zelec UN(원재료) 0.1
자외선흡수제
(g)		 HOPBT 1.5 1.5 1.5 1.5
중합개시제(g) BTC 0.1 0.1 0.1 0.1
유기염료
(ppm)		 HTAQ 20 20 20 20
PRD 10 10 10 10

렌즈
물성
 굴절률(nD 1.595 1.595 1.595 1.595
내광성(△Y) 0.8 0.8 0.8 1.0
투과률 92 92 92 90
열안정성(△Y) 1.3 1.3 1.3 1.6
표 1의 렌즈 물성을 보면, 금속성분을 저감시킨 산성 인산에스테르화합물을 내부이형제로 사용한 실시예들이 금속성분을 저감시키지 않은 산성 인산에스테르화합물(Zelec UN, 원재료)을 사용한 비교예에 비해 내광성, 투과율 및 열안정성에 있어서 모두 좋은 결과를 나타내었다. 이러한 결과는 중합용 조성물에 포함되는 산성 인산에스테르계 내부이형제의 순수를 이용한 간단한 정제과정만으로도 광학적인 특성을 유의성 있게 향상시킬 수 있음을 의미한다.
[약어]
모노머
H12MDI: 디시클로헥실메탄디이소시아네이트(dicyclohexylmethanediisocyanate)
HDI: 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트(1,6-hexamethylene diisocyanate)
GST: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 (2,3-bis(2-mercaptoethylthio)propane-1-thiol)
이형제
ZELEC UN: Stepan 사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물로 상품명 ZELEC UNTM
A-PH3: 제타켐택사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물로 상품명 A-PH3
Lub 60: 제타켐택사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물로 상품명 KPSS-1000(혹은 Lub 60)
자외선 흡수제
HOPBT: 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸
(2-(2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl)benzotriazole)
유기염료
HTAQ:1-히드록시-4-(p-톨루딘)엔트로퀴논
[1-hydroxy-4-(p-toluidin)anthraquinone]
PRD: 퍼리논 염료(perinone dye)
중합개시제
BTC: 디부틸틴디클로라이드

Claims (10)

  1. 내부이형제를 포함하는 광학재료용 수지 조성물에 있어서,
    내광성·투과율 및 열안정성을 향상시키기 위하여 상기 내부이형제로 아래 화학식 1로 표시되고, Al을 포함하는 금속성분의 함유량이 0.01중량%(100ppm) 이하인 인산에스테르화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학재료용 수지 조성물.
    [화학식 1]
    Figure 112019500200382-pat00003

    식에서,
    y는 1~3으로 "R-(-O-X)n-O-"기를 독립적으로 1 내지 3개 가질 수 있으며, 동시에 y+m은 3이다.
    X는 알킬렌기를 나타내고,
    R은 알킬기, 알킬페닐, 페닐알킬을 나타내며,
    n는 0~40를 나타낸다.
    m은 0~2이며, 동시에 y+m은 3이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 인산에스테르화합물은 (모노, 디)메틸 인산; (모노, 디)에틸인산; (모노, 디)(n-프로필)인산; (모노, 디)이소프로필인산; (모노, 디)(n-부틸)인산; (모노, 디)(n-펜틸)인산; (모노, 디)(n-헥실)인산; (모노,디)(n-헵틸)인산; (모노, 디)(n-옥틸)인산; (모노, 디)(2-에틸헥실)인산; (모노, 디)(n-노닐)인산; (모노, 디)(n-데실)인산; (모노, 디)(이소데실)인산; (모노, 디)(n-운데실)인산; (모노, 디)(n-도데실)인산; (모노, 디)(트리데실)인산; (모노, 디)(n-테트라데실)인산; (모노, 디)(n-펜타데실)인산; (모노, 디)(n-헥사데실)인산; (모노, 디)(n-옥타데실)인산; (모노, 디)(o-메틸데실)인산; (모노, 디)(p-메틸페닐)인산; (모노, 디)(p-에틸페닐)인산; (모노, 디)(p-프로필페닐)인산; (모노, 디)(p-부틸페닐)인산; (모노, 디)(p-노닐페닐)인산; (모노, 디)(p-메틸메틸)인산; (모노, 디)(2-페닐에틸)인산; (모노, 디)(4-페닐부틸)인산; (모노, 디)(3-옥사부틸)인산; (모노,디)(3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(3-옥사헥실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3-옥사옥틸실)인산; (모노, 디)(3-옥사노닐)인산; (모노, 디)(3-옥사운데실)인산; (모노, 디)(3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3-옥사펜타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사노나데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1,2-디메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(1-메틸-2-(o-메틸페녹시)에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸2-(p-노닐페녹시에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-4-페닐-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥타데실)인산; (3,6-디옥사이코실)인산; (3,6-디옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4-디메틸-3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사운데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타코실)인산; (모노, 디)(1,4,7-트리메틸-3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사헵사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사옥틸데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사이코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4,7,10-테트라메틸-3,6,9,12-테트라옥사헥사데실)인산; 트리이소프로필산 포스페이트; 트리부틸산 포스페이트; 트리옥틸산 포스페이트; 트리이소데실산 포스페이트; 트리데칸올산 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 트리메틸산 포스페이트; 트리에틸산 포스페이트; 트리프로필산 에스테르; 벤질산 포스페이트; 디벤질산 포스페이트; 트리벤질산 포스페이트; 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 트리 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리에틸렌글리콜 모노 에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 디포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 포스페이트; 이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 및 트리이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광학재료용 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 광학재료는 우레탄계수지, 아크릴계수지, 알릴계수지, 술피드계수지, 티에탄계수지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광학재료용 수지 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 인산에스테르 화합물을 0.0001~10 중량%로 포함하는 광학재료용 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 자외선 흡수제 0.005~6 중량%, 유기 염료 0.5~1,000ppm 및 중합개시제 0.01~5 중량%를 더 포함하는 광학재료용 수지 조성물.
  6. 내부이형제를 모노머 혼합물에 첨가하고 중합시키는 광학재료의 제조방법에 있어서,
    내광성·투과율 및 열안정성을 향상시키기 위하여, 아래 화학식 1로 표시되는 인산에스테르화합물을 순수로 세척하여 Al을 포함하는 금속성분의 함유량을 0.01중량%(100ppm) 이하로 만드는 단계와;
    상기 단계에서 얻은 금속성분 함유량 0.01중량% 이하의 인산에스테르화합물을 내부이형제로서 모노머 혼합물에 첨가하고 중합시키는 단계를 포함하는, 광학재료의 제조방법.
    [화학식 1]
    Figure 112019500200382-pat00004

    식에서,
    y는 1~3으로. "R-(-O-X)n-O-"기를 독립적으로 1 내지 3개 가질 수 있으며, 동시에 y+m은 3이다.
    X는 알킬렌기를 나타내고,
    R은 알킬기, 알킬페닐, 페닐알킬을 나타내며,
    n는 0~40를 나타낸다.
    m은 0~2이며, 동시에 y+m은 3이다.
  7. 제6항에 있어서, 상기 인산에스테르화합물은 (모노, 디)메틸 인산; (모노, 디)에틸인산; (모노, 디)(n-프로필)인산; (모노, 디)이소프로필인산; (모노, 디)(n-부틸)인산; (모노, 디)(n-펜틸)인산; (모노, 디)(n-헥실)인산; (모노,디)(n-헵틸)인산; (모노, 디)(n-옥틸)인산; (모노, 디)(2-에틸헥실)인산; (모노, 디)(n-노닐)인산; (모노, 디)(n-데실)인산; (모노, 디)(이소데실)인산; (모노, 디)(n-운데실)인산; (모노, 디)(n-도데실)인산; (모노, 디)(트리데실)인산; (모노, 디)(n-테트라데실)인산; (모노, 디)(n-펜타데실)인산; (모노, 디)(n-헥사데실)인산; (모노, 디)(n-옥타데실)인산; (모노, 디)(o-메틸데실)인산; (모노, 디)(p-메틸페닐)인산; (모노, 디)(p-에틸페닐)인산; (모노, 디)(p-프로필페닐)인산; (모노, 디)(p-부틸페닐)인산; (모노, 디)(p-노닐페닐)인산; (모노, 디)(p-메틸메틸)인산; (모노, 디)(2-페닐에틸)인산; (모노, 디)(4-페닐부틸)인산; (모노, 디)(3-옥사부틸)인산; (모노,디)(3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(3-옥사헥실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3-옥사옥틸실)인산; (모노, 디)(3-옥사노닐)인산; (모노, 디)(3-옥사운데실)인산; (모노, 디)(3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3-옥사펜타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사노나데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1,2-디메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(1-메틸-2-(o-메틸페녹시)에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸2-(p-노닐페녹시에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-4-페닐-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥타데실)인산; (3,6-디옥사이코실)인산; (3,6-디옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4-디메틸-3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사운데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타코실)인산; (모노, 디)(1,4,7-트리메틸-3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사헵사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사옥틸데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사이코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4,7,10-테트라메틸-3,6,9,12-테트라옥사헥사데실)인산; 트리이소프로필산 포스페이트; 트리부틸산 포스페이트; 트리옥틸산 포스페이트; 트리이소데실산 포스페이트; 트리데칸올산 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 트리메틸산 포스페이트; 트리에틸산 포스페이트; 트리프로필산 에스테르; 벤질산 포스페이트; 디벤질산 포스페이트; 트리벤질산 포스페이트; 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 트리 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리에틸렌글리콜 모노 에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 디포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 포스페이트; 이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 및 트리이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광학재료의 제조방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 광학재료는 우레탄계수지, 아크릴계수지, 알릴계수지, 술피드계수지, 티에탄계수지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광학재료의 제조방법.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 광학재료용 수지 조성물을 중합시킨 광학재료.
  10. 제9항의 광학재료로 이루어진 광학렌즈.
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