KR101904943B1 - 플라즈마 증착장치 및 그 제어방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 내식성, 친수성, 항균성 등과 같은 기능성을 발휘하는 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마 반응이 수행되어 내부에 수용된 대상물에 기능성 막을 제공하는 챔버; 상기 대상물에 기계적이고 전기적으로 연결되는 팔레트; 상기 챔버의 외부에서 내부로 상기 팔레트를 이송하는 이송장치; 그리고 무빙 접점을 갖고 선택적으로 상기 팔레트로 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지는 플라즈마 증착 장치가 제공될 수 있다.

Description

플라즈마 증착장치 및 그 제어방법{plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same}

본 발명은 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 내식성, 친수성, 항균성 등과 같은 기능성을 발휘하는 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.

구체적으로 본 발명은 PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition ) 장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.

산업 전반에 걸쳐서, 모재의 표면에 특정 기능을 가지는 막(기능성 막)을 형성시켜 사용하는 것이 요구되어 왔다. 왜냐하면, 기능성 막이 모재가 가지지 못하는 성능을 보완할 수 있기 때문이다. 예들 들어, 열교환기의 표면, 자동차용 사이드 미러의 표면 등에 특정 기능-부식성, 친수성 등-을 가지는 기능성 막을 형성시켜 사용한다. 그 예로서, 공기조화기용 열교환기를 설명하면 다음과 같다.

공기조화기는 소정 공간을 원하는 온도 및 습도로 제어하는 기능을 가지는 장치이다. 공기조화기는 일반적으로 냉동사이클을 이용하며, 상기 냉동사이클은 압축기, 증발기, 팽창밸브, 응축기를 포함하여 구성된다. 증발기 및 응축기는 일종의 열교환기이며, 냉매가 흐르는 튜브와 상기 튜브에 설치되는 냉각핀을 포함하여 구성된다. 즉 증발기와 응축기에서는 그 내부를 유동하는 냉매와 주위 공기가 열교환이 이루어진다. 증발기에서는 냉매의 증발시에 주위 공기의 열을 흡수하게 되며, 응축기에서는 냉매의 응축시에 주위 공기로 열이 방출된다.

그런데, 열교환기의 표면 온도가 주위 공기의 이슬점 온도 이하가 되면, 공기가 응축하여 열교환기의 표면에 물방울이 생기게 된다. 이러한 현상이 더욱 심해지면, 물방울이 얼어서 성에가 된다. 열교환기 표면에 생성되는 물방울 및/또는 성에는 여러 가지 문제를 야기한다. 예를 들어, 물방울 및/또는 성에는, 열교환 면적을 줄이게 되어 열교환기 자체의 열교환 성능을 저하시킨다. 또한 이들은 일종의 유동 저항이 되므로, 열교환기로 공기를 유동시키기 위하여 사용되는 송풍 팬의 파워를 증가시키게 된다. 따라서, 열교환기의 표면에 물방울 등이 응축되지 않도록 하는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 열교환기의 표면이 친수성을 갖도록 하여, 열교환기의 표면에서 응축되는 물방울이 흘러내리도록 하여, 이러한 문제점을 해결하려는 시도가 있어 왔다.

한편 열교환기 특히 실외기에 설치되는 열교환기는 그대로 외부 환경이 노출되므로, 사용 시간이 경과 함에 따라 부식이 발생한다. 이러한 현상을 특히 해안가 등과 같이 염분 등이 있는 환경에 열교환기기 설치되는 경우에 더욱 심하다. 따라서, 열교환기의 표면에 내식성 코팅을 하는 것이 제안되어 왔다.

또한 열교환기는 사용 시간이 경과 함에 따라 열교환기의 표면에 곰팡이, 세균 등이 서식하여 냄새가 발생하며 위생상 좋지 않은 문제가 발생한다. 그런데 열교환기는 통상 실내기 또는 실외기의 내부에 장착되므로, 이를 청소하기가 용이하지 않다. 따라서 열교환기의 표면에 살균성/항균성(Anti-bacteria/Anti-fungi, 이하 총칭하여 '항균성'이라 함) 코팅을 하는 것이 제안되어 왔다.

한편, 종래의 플라즈마 증착을 이용하여 기능성 막을 만든 제조장치 및 방법을 살펴 보면 다음과 같다.

먼저 모재를 세정 챔버에서 세정한다. 그 다음에 세정된 모재를 플라즈마 반응 챔버에 넣어서 플라즈마 반응을 시켜서 기능성 막을 만든다. 기능성 막이 구비된 모재를 다시 세정 챔버에서 세정한다. 즉 종래의 기술에서는 전세정, 기능성 막 형성 및 후세정을 각각의 챔버에서 수행한다. 또한 기능성 막의 형성의 경우에도, 내식성막, 친수성막 및 항규성 막을 각각 다른 챔버에서 형성한다. 따라서, 종래 기술에서는 각각의 공정을 수행하는 챔버가 별도로 존재하고, 각각의 챔버에서 각각의 공정이 수행되므로, 기능성 막을 만들기 위한 장치 및 제어방법이 복잡해진다는 단점이 있다.

또한, 종래에는 제품 자체에 기능성 막을 형성하지 않고, 그 소재에 기능성 막을 형성하여 이후 제품을 제조하는 방법도 제시되어 왔다. 즉, 시트 상태의 소재 표면에 기능성 막을 형성하고, 그 소재를 가공하여 열교환기의 방열핀을 제조하는 방법이 제시되어 왔다.

그러나, 이 경우에는 제품 자체가 모두 기능성 막이 형성된 소재로만 이루어지지 않는 문제가 있다. 또한, 소재에서 가공된 부분, 예를 들어 전단면에는 기능성 막이 형성되지 않아 국부적으로 부식 등이 발생되어 전체적인 제품의 신뢰도를 저하시키는 문제가 있었다.

이러한 문제를 해결하기 하여 한국공개특허공보 제10-2003-0078455호에서는 제품 자체에 기능성 막을 형성하기 위한 플라즈마 증착장치를 개시하고 있다.

상기 플라즈마 증착장치에서는 기능성 막을 형성하기 위하여 제품을 캐리어로 이송하며, 한 쌍의 롤러에 접촉되는 캐리어를 통해서 제품에 전원이 공급되는 방식이 사용되고 있다. 따라서, 전원 공급 방식이 매우 복잡하고, 롤러를 통해 전원이 공급되므로 전원 공급의 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다. 그리고, 캐리어에도 기능성 막이 형성되므로 효율성이 저하되는 문제가 있었다.

또한, 제품 즉 열교환기가 캐리어에 매달린 상태로 이송되기 때문에 이송 구조가 복잡하고 캐리어와 열교환 사이에 안정적으로 전원이 공급되지 못하는 문제가 있었다. 왜냐하면 열교환기가 안정적으로 고정되어 있지 않기 때문이다.

그리고, 상기 열교환기에 형성되는 전기적 접점이 하나일 수밖에 없어서 열교환기 전체적으로 고른 기능성 막이 형성되지 못하는 문제가 있었다.

또한, 종래에는 사용자가 열교환기를 캐리어에 장착하고 분해하는 데 어려움이 많았고, 다양한 열교환기에 기능성 막을 형성하는데 어려움이 있었다. 한편, 작업자가 열교환기뿐만 아니라 캐리어를 취급하는 수고를 하여야 하므로 작업의 어려움이 많았다.

본 발명은 기본적으로 전술한 종래 기술에 대한 문제점을 해결하기 위한 것이다.

보다 구체적으로, 본 발명의 목적은 간단하고 효율적인 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 목적은 보다 안정적으로 제품에 전원을 공급하여 대량 생산이 가능한 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법을 제공하는 것이다.

아울러, 본 발명의 목적은 작업자가 용이하게 제품의 로딩과 언로딩을 할 수 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 제품을 지지하는 지지점의 수와 전기적 접점의 수를 늘리는 한편, 이를 골고루 분산하여 제품 전체에 고른 기능성 막이 형성될 수 있는 플라즈마 증착 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 상기 지지점들 사이의 피치를 가변시킬 수 있어 다양한 제품 그리고 제품 크기에 따라 보다 안정적인 지지 및 전기적 접점을 형성할 수 있는 플라즈마 증착 장치를 제공하는 것이다.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예는, 대상물에 플라즈마 반응을 통하여 기능성 막을 제공하기 위하여 상기 대상물을 적재하고 이송하기 위한 팔레트를 포함하여 이루어지며, 상기 팔레트는, 베이스; 상기 대상물을 고정시키기 위한 지그; 그리고 상기 베이스의 상부에서 상기 지그와 결합되어 상기 대상물을 상기 팔레트에 고정시키는 고정부를 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치를 제공할 수 있다.

상기 대상물은 팔레트 상에 안정적으로 기계적이고 전기적으로 고정되며, 상기 팔레트를 이송함으로써 상기 대상물이 이송될 수 있다. 아울러, 상기 팔레트로 전원을 공급함으로써 상기 대상물로 전원을 공급할 수 있다.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예는, 플라즈마 반응이 수행되어 내부에 수용된 대상물에 기능성 막을 제공하는 챔버; 상기 대상물에 기계적이고 전기적으로 연결되는 팔레트; 상기 챔버의 외부에서 내부로 상기 팔레트를 이송하는 이송장치; 그리고 선택적으로 상기 팔레트로 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지는 플라즈마 증착 장치를 제공할 수 있다.

상기 플라즈마 증착 장치는, 상기 챔버 내부에 구비되고, 상기 전원공급부와는 반대 극을 갖는 전원이 공급되는 전극부를 포함하여 어질 수 있다.

상기 전원공급부는 양극(아노드) 전원을 공급하고, 상기 전극부에는 음극(캐소드) 전원이 공급될 수 있다.

상기 플라즈마 증착 장치는, 상기 챔버를 선택적으로 개폐하는 전방 도어를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 이송장치는, 상기 전방 도어의 전방에 구비되어 상기 팔레트를 상기 챔버로 이송하는 전방 이송장치를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 전방 이송장치는 상기 팔레트의 수직 위치를 변경하기 위한 승강장치를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 이송장치는, 상기 팔레트를 상기 챔버 내부에서 이송하는 내부 이송장치를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 플라즈마 증착 장치는, 상기 챔버를 선택적으로 개폐하는 후방 도어를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 이송장치는, 상기 후방 도어의 후방에 구비되어 상기 팔레트를 상기 챔버의 외측으로 이송하는 후방 이송장치를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 후방 이송장치는 팔레트의 수직 위치를 변경하기 위한 승강장치를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 이송장치는 상기 전방 이송장치에서 상기 후방 이송장치로 상기 팔레트를 이송하기 위하여 상기 챔버의 외측에 구비되는 연결 이송장치를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 팔레트는, 베이스; 상기 대상물을 고정시키기 위한 지그; 그리고 상기 베이스의 상부에서 상기 지그와 결합되어 상기 대상물을 상기 팔레트에 고정시키는 고정부를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 고정부는 상기 팔레트의 길이 방향으로 양측에 구비될 수 있다.

상기 고정부는 상기 무빙 접점과 선택적으로 접촉하는 팔레트 접점을 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 팔레트 접점은 어느 하나의 고정부에만 구비되며, 상기 고정부들을 전기적을 연결하기 위한 연결선을 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 고정부는 상기 지그와 연결되기 위한 홀이 복수 개 형성되어 상기 지그가 고정되는 위치를 변경하도록 구비되는 조절 플레이트를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 고정부는 상기 지그와 상기 고정부 플레이트 사이에 개재되어 상기 지그를 고정하는 고정 플레이트를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 베이스와 상기 고정부 사이는 절연됨이 바람직하다.

상기 챔버의 측면에서 상기 챔버를 선택적으로 개폐하는 측면 도어가 각각 형성됨이 바람직하다.

상기 측방 도어의 내측에 상기 전극이 구비될 수 있다.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예는, 플라즈마 반응이 수행되어 내부에 수용된 대상물에 기능성 막을 제공하는 챔버; 상기 대상물에 기계적이고 전기적으로 연결되며 팔레트 접점을 갖는 팔레트; 상기 챔버의 외부에서 내부로 상기 팔레트를 이송하는 이송장치; 상기 챔버 내부에 구비되는 전극; 그리고 무빙 접점을 갖고 상기 팔레트가 상기 전극에 위치하여 정지되었을 때 상기 팔레트 접점으로 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지는 플라즈마 증착장치를 제공할 수 있다.

상기 팔레트는, 베이스; 상기 베이스의 상부에서 상기 대상물을 상기 팔레트에 고정시키는 복수 개의 고정부; 상기 고정부와 상기 베이스 사이에 개재되어 상기 베이스와 고정부 사이를 절연하는 절연재; 그리고 상기 복수 개의 고정부를 서로 전기적으로 연결하는 연결선을 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 베이스는 상기 이송장치와의 사이에 개재되는 절연재를 포함함이 바람직하다.

상기 플라즈마 증착장치는 상기 고정부에서 상기 대상물을 지지하는 복수 개의 지그를 포함하여 이루어짐이 바람직하다.

상기 고정부에는 복수 개의 홀이 형성되어 상기 지그가 상기 홀에 삽입되어 고정될 수 있다.

상기 지그와 지그 사이의 길이 방향 피치와 폭 방향 피치가 달라지도록 상기 고정부의 길이 방향과 폭 방향으로 상기 지그와 결합되는 복수 개의 홀이 각각 형성됨이 바람직하다.

전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예는, 플라즈마 반응이 수행되어 내부에 수용된 대상물에 기능성 막을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 외부에서 내부로 상기 팔레트를 이송하는 이송장치; 상기 챔버 내부에 구비되는 전극; 그리고 무빙 접점을 갖고 상기 팔레트가 상기 전극에 위치하여 정지되었을 때 상기 대상물로 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어진 플라즈마 증착장치를 제공할 수 있다.

상기 팔레트는, 베이스; 상기 베이스의 상부에서 복수 개의 대상물 각각을 상기 팔레트 상에 고정시키도록 구비되는 고정부; 상기 고정부와 상기 베이스 사이에 개재되어 상기 베이스와 고정부 사이를 절연하는 절연재; 그리고 상기 복수 개의 고정부를 서로 전기적으로 연결하는 연결선을 포함하여 이루어질 수 있다.

전술한 본 발명에 따른 선 상술한 본 발명에 따른 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법의 효과는 다음과 같다.

첫째, 본 발명의 실시예에 따르면, 보다 용이하고 간단하게 내식성, 친수성 및 항균성등과 같은 기능성 막을 가지는 제품을 제조할 수 있다는 이점이 있다.

둘째, 본 발명의 실시예에 따르면, 보다 안정적으로 제품에 전원을 공급하여 대량 생산이 가능하여 생산 원가를 절감할 수 있다는 이점이 있다.

셋째, 본 발명의 실시예에 따르면, 작업자가 용이하게 제품의 로딩과 언로딩을 할 수 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치 및 그 제어방법을 제공할 수 있다.

넷째, 본 발명의 실시예에 따르면, 제품을 지지하는 지지점의 수와 전기적 접점의 수를 늘리는 한편, 이를 골고루 분산하여 제품 전체에 고른 기능성 막이 형성할 수 있다.

다섯째, 본 발명의 실시예에 따르면, 제품을 지지하는 지지점들 사이의 피치를 가변시킬 수 있어 다양한 제품 그리고 제품 크기에 따라 보다 안정적인 지지 및 전기적 접점을 형성할 수 있다.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 증착장치의 일례를 도시한 사시도;
도 2는 도 1에 도시된 플라즈마 증착장치의 블럭도;
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 증착 과정을 도시한 플로우차트;
도 4는 도 1에 도시된 팔레트의 순환 구조를 도시한 정면도;
도 5는 팔레트의 단면도;
도 6은 팔레트의 고정부에 대한 단면도;
도 7은 팔레트의 사시도;
도 8은 지그의 사시도;
도 9는 팔레트의 고정 플레이트에 대한 사시도;
도 10은 전극을 도시한 정면도;
도 11은 전극을 도시한 평면도;
도 12는 전원공급부를 도시한 사시도;
도 13은 전원공급부의 일례를 도시한 분해 사시도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.

아래에서, 기능성 막을 가지는 제품의 일 예로서, 열교환기를 설명하지만 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다른 제품에 적용하는 것도 물론 가능하다.

먼저, 도 1을 참조하여, 본 발명에 따른 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치의 바람직한 실시예의 전체적인 구성을 설명한다.

본 실시예에서는, 열교환기(5), 즉 대상물에 기능성 막을 제공하기 위하여 플라즈마 반응이 수행되는 챔버(1)가 구비된다. 즉, 본 실시예에서는 플라즈마 반응 전후에 열교환기(5)를 세정하는 챔버가 별도로 구비되지 않고, 하나의 챔버(1)에서 이러한 기능이 수행될 수 있다. 상기 챔버에서는 플라즈마 반응이 수행되어 내부에 수용된 대상물, 예를 들어 열교환기에 기능성 막이 제공된다.

따라서, 챔버(1)에는, 기능성 막 형성을 위한 프리커서를 상기 챔버(1)에 공급하는 프리커서 공급유닛(400)이 연결되며, 반응성 가스를 상기 챔버(1)에 공급하는 반응성가스 공급유닛(300)이 연결될 수 있다. 또한, 챔버(1)에는 플라즈마 반응 전후에 열교환기(5)를 세정하기 위한 세정가스를 상기 챔버(1)에 공급하는 세정가스 공급유닛(200)이 연결될 수 있다. 그리고, 챔버(1)에는, 챔버(1) 내부의 가스 즉 세정 후의 세정가스 및 플라즈마 반응 후의 가스들을 상기 챔버(1)의 외부를 배출하는 배출유닛(100)이 연결될 수 있다.

그리고, 챔버(1)에서, 전처리 세정, 기능성 막 제공 및 후처리 세정을 수행하도록, 프리커서 공급유닛(400), 반응성가스 공급유닛(300), 세정가스 공급유닛(200) 및 배출유닛(100)은 제어유닛(500)(도 2 참조)에 의하여 제어된다.

본 실시예에서 상기 챔버(1)는 열교환기와 같은 대상물, 예를 들어 추가적인 기계 가공이 수행되지 않을 제품이나 부품 자체에 기능성 막을 제공하는 공간이다. 따라서, 대상물을 이송할 수 있는 이송장치가 필요하다.

구체적으로, 본 실시예에서는 상기 대상물에 기계적이고 전기적으로 연결되는 팔레트(7)를 포함함이 바람직하다. 상기 팔레트(7)에 대상물이 안정적으로 적재되어 지지되며, 상기 팔레트(7)를 통하여 전원이 대상물에 인가될 수 있다.

한편, 챔버(1)는 상기 챔버를 선택적으로 개폐하는 전방도어(12a)를 포함함이 바람직하다. 상기 전방도어(12a)를 통해 열교환기(5)를 상기 챔버 내부로 투입하면, 상기 챔버(1) 내부에서 기능성 막이 제공된다. 따라서, 전방도어(12a)의 전후를 각각 로딩 영역(A)과 작업 영역(B)이라 할 수 있다. 물론, 작업 영역(B)은 챔버 내부라 할 수 있다.

전술한 바와 같이, 본 실시예에서는 대량으로 대상물에 대한 기능성 막을 제공함이 바람직하다. 이를 위해 상기 챔버(1) 내부로 열교환기(5)를 투입하기 위한 이송장치(3)가 구비됨이 바람직하다. 즉, 상기 챔버 외부(로딩 영역, A)에서 챔버 내부(작업 영역, B)으로 열교환기(5)를 이송시키기 위한 이송장치(3)가 구비됨이 바람직하다.

구체적으로, 상기 열교환기(5)는 상기 팔레트(7)에 기계적이고 전기적으로 연결됨이 바람직하다. 즉, 상기 열교환기(5)는 상기 팔레트(7)에 안정적으로 적재되어 지지되어 있으며, 상기 열교환기(5)는 상기 팔레트(7)와 전기가 통하도록 연결되어 있다. 그리고, 상기 이송장치(3)는 상기 팔레트를 이송하도록 구비됨이 바람직하다. 상기 이송장치(3)를 통해 상기 팔레트가 직접 이송되기 때문에 간접적으로 상기 대상물이 이송될 수 있다.

상기 이송장치(3)는 상기 전방도어12(a)의 전방에 구비되어 상기 챔버(1)로 팔레트(7)를 이송하는 전방 이송장치(3a)를 포함하여 이루어질 수 있다. 아울러, 상기 이송장치(3)는 상기 챔버 내부에서 상기 팔레트(7)를 이송하는 내부 이송장치(3c)를 포함하여 이루어질 수 있다.

상기 내부 이송장치(3c)는 챔버(1) 내부에 기 설정된 위치, 즉 기능성 막 제공을 위해 대상물에 전원이 인가되기 위한 위치로 상기 팔레트(1)를 이송하기 위한 구성이라 할 수 있다.

전술한, 전방 이송장치(3a), 전방 도어(12a) 그리고 내부 이송장치(3c)를 통해 열교환기(5)의 로딩, 투입 그리고 기능성 막 제공이 가능하게 된다. 그리고, 기능성 막이 제공된 열교환기(5)는 내부 이송장치(3c), 전방 도어(12a) 그리고 전방 이송장치(3a)를 통해 배출될 수 있다. 이 경우, 상기 로딩 영역(A)은 언로딩 영역(B)과 동일 할 수 있다. 즉, 전방도어(12a)의 전방에서 열교환기(5)의 로딩과 언로딩이 수행될 수 있다.

그러나, 이 경우 로딩과 언로딩 영역이 겹치기 때문에 원활한 작업이 수행되기 어려운 문제가 있다. 왜냐하면, 기능성 막 형성 후 동일 위치에서 언로딩 후 다시 로딩이 수행되어야 하기 때문이다. 다시 말하면, 기능성 막이 형성되는 동안 언로딩이나 로딩 작업이 수행될 수 없어 작업 공정 시간이 늘어나는 문제가 있다.

이를 해소하기 위해 상기 챔버(1)에는 후방도어(12b)가 구비되는 것이 바람직하다. 마찬가지로 상기 후방도어(12b)는 선택적으로 챔버(1)를 개폐하도록 구성되며, 기능성 막이 제공된 열교환기(5)가 이를 통해 챔버(1) 외부로 배출되도록 할 수 있다.

상기 이송장치(3)는 상기 후방도어(12b)의 후방에 구비되어 상기 챔버(1)로부터 팔레트(7)를 이송하는 후방 이송장치(3b)를 포함하여 이루어질 수 있다. 따라서, 기능성 막이 제공된 대상물이 내부 이송장치(3a), 후방도어(12b) 그리고 후방 이송장치(3b)를 통해 챔버 내부에서 외부로 배출될 수 있다. 따라서, 후방도어(12b)의 후방 영역은 대상물이 언로딩되는 언로딩 영역(C)이라 할 수 있다.

이러한, 이송장치(3)의 구성을 통해, 대상물의 로딩, 기능성 막 제공 그리고 대상물의 언로딩이 연속적으로 수행될 수 있어 대량으로 대상물에 기능성 막을 제공하는 것이 가능하게 된다.

구체적으로, 상기 이송장치(3)는 서로 구획되는 전방 이송장치(3a), 내부 이송장치(3c) 그리고 후방 이송장치(3b)를 포함하여 이루어질 수 있다. 그러나, 이들 이송장치는 서로 연속적으로 팔레트를 이송시킬 수 있도록 구비됨이 바람직하다. 여기서, 구획이라는 의미는 공간적으로 나뉜다는 의미뿐만 아니라 개별 제어가 가능하다는 의미를 포함한다.

상기 이송장치(3) 위에서 상기 팔레트(7)가 이동된다. 물론, 상기 팔레트(7)에는 열교환기(5)가 적재되어 있다. 따라서, 팔레트(7)와 이송장치들을 통해 열교환기(5)의 로딩, 기능성 막 제공 그리고 언로딩이 연속적으로 수행될 수 있게 된다.

한편, 본 실시예에 따른 제조장치는 팔레트(7)가 순환될 수 있는 구조를 제공한다. 즉, 언로딩 영역(C)에서 언로딩이 완료된 팔레트(7)가 다시 로딩 영역(A)로 이송될 수 있는 구조를 제공한다. 이를 위해서, 상기 제조장치는 순환 영역(D)을 포함하여 이루어질 수 있다. 따라서, 이송장치(3)는 팔레트를 로딩 영역(A), 작업 영역(B), 언로딩 영역(C) 그리고 순환 영역(D) 순으로 이송시켜 팔레트가 순환되도록 하게 된다.

상술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 제조장치는 기능성 막 제공을 위하여 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다. 즉, 챔버(1), 프리커서 공급유닛(400), 반응성가스 공급유닛(300), 세정가스 공급유닛(200), 배출유닛(100) 및 제어유닛(500)을 포함하여 구성될 수 있다.

도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 제조장치의 각각의 구성요소를 상세히 설명하면 다음과 같다.

먼저, 챔버(1)에 대하여 설명하면 다음과 같다.

챔버(1)의 몸체(13)의 내부에는 플라즈마 반응을 발생시키기 위한 전극(16)에 구비되며, 프리커서, 반응성 가스 및 세정 가스가 토출되는 노즐(14)이 구비된다. 그리고 챔버(1) 내부의 온도를 제어하기 위하여, 상기 챔버(1)에는 히터(미도시)가 구비되는 것이 바람직하다. 전극(16), 노즐(14), 히터 등과 같은 플라즈마 반응을 위한 구성들이 챔버(1) 내부에 구비된다.

상기 챔버(1)의 측면에는 측면도어(12c)가 형성됨이 바람직하다. 그리고, 상기 측면도어(12c)에는 윈도우(12d)가 구비됨이 바람직하다. 상기 윈도우를 통해서 챔버 내부를 살펴볼 수 있게 된다.

상기 측면도어(12c)는 작업자가 챔버 내부에 접근할 수 있도록 마련된 구성이라 할 수 있다. 따라서, 상기 측면도어는 챔버 내부에 위치되는 팔레트의 수에 대응되도록 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 챔버의 일측면에 두 개의 측면도어(12c)가 형성된 것이 예시되어 있다. 마찬가지로 타측면에도 두 개의 측면도어가 형성됨이 바람직하다.

도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버의 중앙부에는 챔버를 양쪽으로 구획하는 격벽(18)이 구비되어 있다. 상기 격벽의 양쪽에서 플라즈마 반응이 각각 수행될 수 있다. 예를 들어, 팔레트(7)의 왼쪽에 적재된 열교환기는 상기 격벽의 왼쪽에서 그리고 상기 팔레트의 오른쪽에 적재된 열교환기는 상기 격벽의 오른쪽에서 각각 플라즈마 반응에 노출되게 된다.

이러한 플라즈마 반응 처리를 위해 상기 격벽(18)의 양측에는 전극(16), 노즐(14) 그리고 히트와 같은 구성들이 구비된다. 마찬가지로 상기 격벽과 마주보는 측면도어(12c)에도 이러한 구성들이 구비된다. 따라서, 작업자가 상기 측면도어(12c)를 통해 챔버를 개방하면, 격벽(18)에 구비되는 구성들과 측면도어에 구비되는 구성들에 쉽게 접근이 가능하게 된다. 따라서, 작업자는 챔버 내부의 유지와 보수를 용이하게 할 수 있게 된다.

한편, 본 실시예에서는, 상기 챔버(1)에서 전후 세정, 플라즈마 반응이 수행되므로, 상기 챔버(1)에 프리커서 공급유닛(400), 반응성가스 공급유닛(300), 세정가스 공급유닛(200)이 연결되어야 한다. 물론, 세정후 및 프라즈마 반응 후의 잔여물들을 챔버(1)의 외부로 배출하기 위한 배출유닛(100)도 상기 챔버(1)에 연결된다.

프리커서 공급유닛(400)을 설명하면 다음과 같다.

종래 기술에서는 내식성, 친수성 및 항균성을 위한 챔버(1)가 별도로 구비되었고, 각각의 챔버(1)에 각각의 프리커서가 공급된다. 그러나, 본 실시예에서는 내식성, 친수성 및 항균성 기능을 가지는 하나의 프리커서(이러한 프리커서에 대한 상세한 내용은 후술함)를 사용하고, 이에 따라 하나의 챔버(1)에서 열교환기(5)에 내식성, 친수성 및 항균성을 가지는 막을 한번에 형성시키는 것이 바람직하다. 따라서, 프리커서 공급유닛(400)도 하나인 것이 바람직하다.

액상의 프리커서를 수용하는 용기(410)와 챔버(1)의 사이에는 공급관(402)이 연결되고, 상기 공급관(402)의 소정 위치에는 상기 액상 프리커서의 유동을 제어하는 유동제어부(420) 및 액상의 프리커서를 기화시키는 기화기(430)가 구비된다. 액상의 프리커서를 효율적으로 이동시키기 위하여, 공급관(402)의 소정 위치에 캐리어 가스 탱크(600)가 연결되는 것이 바람직하다. 또한, 기화기(430)와 챔버(1) 사이의 공급관(402)에는 기화된 프리커서가 그 상태를 유지할 수 있도록 열선과 같은 발열부(432)가 구비되는 것이 더욱 바람직하다.

프리커서는 내식성, 친수성 및 항균성 막을 형성할 수 있는 프리커서(이하, '다기능 프리커서' 상세한 내용은 후술함)를 사용하는 것이 바람직하며, 캐리어 가스는 헬륨, 아르곤 등을 사용하는 것이 가능하다. 캐리어 가스는 종래의 기술과 유사하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.

반응성가스 공급유닛(300)을 설명하면 다음과 같다.

반응성 가스를 수용하는 용기(310)와 챔버(1)의 사이에는 공급관(302)이 연결되고, 상기 공급관(302)의 소정 위치에는 상기 반응성 가스의 유동을 제어하는 유동제어부(320)가 구비된다. 반응성 가스로서 공기, 산소, 헬륨 등을 사용하는 것이 가능하다.

세정가스 공급유닛(200)을 설명하면 다음과 같다.

세정 가스를 수용하는 용기(210)와 챔버(1)의 사이에는 공급관(202)이 연결되고, 상기 공급관(202)의 소정 위치에는 상기 세정 가스의 유동을 제어하는 유동제어부(220)가 구비된다. 세정 가스로서 공기를 사용하는 것이 가능하다. 이러한 것들은 종래의 기술과 유사하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. 만약 반응성 가스로 공기를 사용하면, 별도로 세정가스 공급유닛(200)을 구비하지 않고, 반응성가스 공급유닛(300)을 세정가스 공급유닛(200)으로 같이 사용하는 것도 가능하다.

챔버(1) 내부의 가스들을 상기 챔버(1)의 외부로 배출하는 배출유닛(100)을 설명하면 다음과 같다.

챔버(1) 내부의 가스를 외부로 배출하기 위한 펌프(110)와 챔버(1)의 사이에는 배출관(102)이 연결된다. 배출관(102)의 소정 위치에는 외부로 배출되는 가스를 필터링하는 필터(120)가 구비되는 것이 바람직하다. 펌프(110)는 챔버(1) 내부의 가스들을 외부로 배출하고 또한 진공으로 만들기 위하여 진공 펌프를 사용하는 것이 바람직하다.

제어유닛(500)에 대하여 설명하면 다음과 같다.

제어유닛(500)은 챔버(1), 프리커서 공급유닛(400), 반응성가스 공급유닛(300), 세정가스 공급유닛(200) 및 배출유닛(100)을 제어하는 것이 바람직하다. 또한 제어유닛(500)은 열교환기(5)를 적재한 팔레트를 이동시키는 이송장치(3a, 3b, 3c)를 제어하는 것이 바람직하다.

도 2 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기능성 막을 가지는 제품의 제조장치의 제어방법을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 챔버(1)에 대상물(본 실시예에서는 열교환기(5))을 공급한다(공급단계)(S1). 열교환기(5)가 챔버(1)에 있는 상태에서, 상기 챔버(1)에 세정 가스를 공급하여 상기 열교환기(5)를 세정한다(전세정단계)(S3). 물론, 열교환기가 이미 세정이 된 경우에는 본 단계가 생략될 수 있다.

열교환기(5)를 세정한 후, 챔버(1)에 프리커서를 공급하여 플라즈마 반응시켜, 상기 열교환기(5)에 기능성 막을 제공한다(기능성 막 제공단계)(S5). 기능성 막이 형성된 후, 챔버(1)에 세정 가스를 공급하여 기능성 막이 형성된 열교환기(5)를 다시 세정한다(후세정 단계)(S7). 마지막으로 기능성 막이 형성된 열교환기(5)를 챔버(1)의 외부로 배출한다(배출단계)(S9).

각각의 단계를 상세히 설명하면 다음과 같다.

챔버(1)에 열교환기(5)를 공급하는 공급단계(S1)를 설명한다. 열교환기(5)는 팔레트(7)에 적재되어, 전방 이송장치(3a)에 의하여, 챔버(1)에 공급되는 것이 바람직하다. 즉, 전방도어(12a)를 열고 전방 이송장치(3a)와 내부 이송장치(3c)를 구동하여 열교환기를 챔버 내부로 투입한다. 그리고, 열교환기의 투입이 완료되면 상기 전방도어(12a)를 닫는다.

한편, 상기 이송장치들(3a, 3b, 3c)은 각각 독립적으로 제어될 수도 있지만, 서로 연동되어 제어되는 것이 가능하다. 서로 연동되어 제어될 때 상기 열교환기(5)의 투입 및 배출을 동시에 할 수 있게 된다.

기능성 막 형성 전의 열교환기(5)를 세정하는 전세정 단계(S3)를 설명한다. 세정가스 공급유닛(200)에 의하여, 챔버(1)에 세정가스를 공급하고, 상기 세정가스에 의하여 열교환기(5)가 세정된다. 모재의 세정이 완료되면, 배출유닛(100)의 펌프(110)에 의하여 챔버(1) 내부의 가스를 상기 챔버(1)의 외부로 배출한다. 이 과정에서 상기 챔버 내부가 초기 진공도에 도달될 때까지 가스의 배출이 수행된다.

열교환기(5)에 기능성 막을 형성하는 기능성 막 공급단계(S5)를 설명한다. 먼저, 챔버(1) 내부의 환경이 플라즈마 반응에 적합하도록, 배출유닛(100)을 이용하여 즉 펌프(110)를 작동시켜 상기 챔버(1) 내부의 가스들을 상기 챔버(1)의 외부로 실질적으로 완전히 배출하여 상기 챔버(1)를 작업 진공도에 도달될 때까지 진공상태로 만든다. 또한, 챔버(1)를 소정 온도 조건을 만족하도록, 상기 챔버(1)에 구비된 히터를 이용하여, 상기 챔버(1)가 소정 온도가 되도록 제어한다.

그리고, 열교환기(5) 구체적으로는 팔레트(7)에 전원을 공급할 준비를 한다. 이에 대해서는 후술한다.

챔버(1) 내부의 환경이 플라즈마 반응에 적합하도록 되면, 즉, 챔버 내부의 진공도가 작업 진공도에 도달되며, 반응성가스 공급유닛(300)의 유동제어부(320)를 제어하여, 반응성 가스를 상기 챔버(1)에 공급하고, 프리커서 공급유닛(400)의 유동제어부(420)를 제어하여, 프리커서를 상기 챔버(1)에 공급한다.

상기 반응성가스의 공급량과 공급 시간, 상기 프리커서의 공급량과 공급 시간 그리고 플라즈마 반응 시간은 최적으로 제어될 수 있다.

기능성 막이 형성된 열교환기(5)를 세정하는 후세정 단계를 설명한다. 세정가스 공급유닛(200)에 의하여, 챔버(1)에 세정가스를 공급하고, 상기 세정가스에 의하여 기능성 막을 가지는 열교환기(5)가 세정된다. 세정이 완료되면, 배출유닛(100)의 펌프(110)에 의하여 챔버(1) 내부의 가스를 상기 챔버(1)의 외부로 배출한다.

한편, 상기 후세정 단계는 상기 플라즈마 반응 완료 후 동시에 수행될 수 있다. 즉, 플라즈만 반응 완료 후 세정가스를 공급하여 반응 잔여물을 외부로 배출함과 동시에 열교환기를 세정하는 것도 가능하다.

상기 플라즈마 반응은 열교환기에 전원을 공급하여 수행된다. 따라서, 플라즈마 반응이 종료하면 상기 열교환기에 전원을 공급하기 위한 동작을 해제하게 된다. 이러한 전원 공급 해제 동작은 플라즈만 반응 완료 후에 수될 수 있으며, 상기 후세정단계에서 수행되는 것도 가능하다.

이러한 후세정단계가 완료되면 챔버 내부 공간과 외부 공간의 압력 차이를 해소하는 벤트 단계가 수행됨이 바람직하다.

챔버(1)에서 기능성 막을 가지는 열교환기(5)를 배출하는 배출단계를 설명한다. 기능성 막을 가지는 열교환기(5)는 팔레트(7)에 적재되어 이송장치들(3a, 3b, 3c)에 의하여 챔버(1)의 외부로 배출되게 되는 것이 바람직하다. 따라서, 열교환기의 투입과 배출이 동시에 수행될 수 있다. 그리고, 플라즈마 반응 도중에 열교환기의 로딩과 언로딩이 동시에 수행될 수 있다. 이를 통해 대량 작업과 연속 작업이 가능하게 된다.

이하에서는 도 4를 참조하여 이송장치(3)를 기준으로 팔레트(7)의 순환에 대해서 상세히 설명한다.

전술한 바와 같이, 하나의 팔레트(7) 상에는 양측으로 두 개의 열교환기(5)가 적재될 수 있다. 그리고, 상기 챔버(1)는 길이 방향으로 두 개의 팔레트(7)를 수용할 수 있도록 마련될 수 있다. 이 경우, 한 번의 플라즈마 작업으로 두 개의 팔레트에 해당되는 열교환기, 즉 4 개의 열교환기에 기능성 막을 제공할 수 있다. 물론, 상기 챔버(1)는 두 개 이상의 팔레트를 수용할 수 있도록 마련될 수도 있을 것이다. 그리고 하나의 팔레트에 두 개 이상의 대상물을 수용하는 것도 가능할 것이다.

대량 작업의 효율을 위해, 로딩 영역(A)에 길이 방향으로 두 개의 팔레트(7)가 위치되고, 언로딩 영역(B)에도 길이 방향으로 두 개의 팔레트(7)가 위치될 수 있다. 이때, 상기 챔버(1) 내부에도 두 개의 팔레트(7)가 위치될 수 있다. 물론, 이러한 팔레트(7)들은 각각 전방 이송장치(3a), 내부 이송장치(3c) 그리고 후방 이송장치(3b) 상에 위치하고 있을 것이다.

상기 팔레트(7)의 순환을 위하여, 이송장치(3)는 상기 전방 이송장치(3a)에서 상기 후방 이송장치(3b)로 상기 팔레트(7)를 이송하는 연결 이송장치(3d)를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 연결 이송장치(3d)는 상기 챔버(1)의 외측에 구비됨이 바람직하다. 특히, 상기 연결 이송장치(3d)는 상기 챔버(1)의 하측에 구비될 수 있다.

보다 구체적으로, 상기 연결 이송장치(3d)는 다른 이송장치들의 하부에 나란하게 위치될 수 있다.

한편, 상기 전방 이송장치(3a)와 후방 이송장치(3b)는 상기 팔레트(7)의 수직 위치를 변경하기 위한 승강장치(4a, 4b)를 각각 포함하여 이루어질 수 있다.

먼저, 상기 언로딩 영역(C)에서 열교환기(5)의 언로딩이 완료되면, 팔레트(7)는 상기 승강장치(4b)의 작동을 통해 하부로 이송될 수 있다. 그리고, 상기 팔레트(7)는 순환 영역(D)에서 상기 연결 이송장치(3d)를 통해 로딩 영역(A)으로 이송된다. 이 때, 상기 팔레트(7)는 하부에 위치되므로, 상기 승강장치(4a)의 작동을 통해 상부로 이송될 수 있다. 상기 승강장치(4a, 4b)는 팔레트(7) 전체를 승강시키도록 마련될 수 있다. 따라서, 상기 이송장치(3)의 각 구성요소들을 통해 상기 팔레트는 순환될 수 있게 된다.

여기서, 로딩과 언로딩은 작업자에 의해 수행될 수 있다. 그러므로, 로딩과 언로딩이 이루어지는 수직 위치는 작업 편의를 위해 매우 중요하다. 그리고 이때의 수직 위치는 챔버(1) 내의 팔레트의 수직 위치와는 다를 수 있다.

그러므로, 상기 승강장치(4a, 4b)는 복수 개의 기설정 높이로 조절될 수 있도록 마련됨이 바람직하다. 즉, 기본적으로는 이송 위치와 순환 위치로 수직 높이가 조절됨이 바람직하다. 그리고, 로딩과 언로딩이 수행되는 위치로 조절됨이 바람직하다. 상기 로딩과 언로딩 위치는 상기 이송 위치와 순환 위치 사이일 수 있으며, 상기 이송 위치보다는 높은 위치일 수 있다.

한편, 상기 언로딩 영역(C)에서 로딩 영역(A)으로 팔레트가 순환되어 이송될 때 많은 시간이 소요될 여지가 있다. 따라서, 상기 순환 영역(D)에도 팔레트가 구비됨이 바람직하다. 즉, 기능성 막 제공이 완료되면, 상기 순환 영역에 있는 팔레트가 상기 로딩 영역으로 이송되고, 언로딩 영역에 있는 팔레트는 상기 순환 영역으로 이송될 수 있다. 따라서, 팔레트의 순환 이송에 소요되는 시간을 현저히 줄이는 것이 가능하게 된다.

팔레트의 순환과 관련된 작업 흐름을 설명하면 다음과 같다.

로딩 영역(A)에서 로딩 작업, 작업 영역(B)에서 기능성 막 제공, 언로딩 영역(C)에서 언로딩 작업이 동시에 이루어진다. 그리고 순환 영역(D)에는 열교환기가 적재되지 않은 팔레트가 대기 중이다. 이러한 작업이 모두 끝나면 각 영역에 있던 팔레트들은 순차적으로 다음 영역으로 이동한다. 따라서, 연속적으로 작업이 수행될 수 있어 공정 시간이 현저히 단축될 수 있다.

이하에서는 도 5 내지 도 8을 통해 팔레트에 대해서 상세히 설명한다.

도 5는 이송장치(3) 상에 위치된 팔레트의 단면을 도시하고 있다.

팔레트(7)는 베이스(7a)를 포함하여 이루어진다. 상기 베이스(7a)는 이송장치(3)의 상부에 위치되어 이송장치에 의해 직접 이송되는 구성이라 할 수 있다. 상기 이송장치(3)와 상기 베이스(7a)의 연결 구조로 인해 상기 팔레트(7)는 좌우로 흔들리지 않고 안정적으로 이송될 수 있다. 한편, 후술하는 바와 같이, 상기 이송장치(3)로부터 상기 팔레트(7)로 전원이 인가되지 않고 상기 팔레트(7)로 직접 전원이 인가된다. 따라서, 안정적으로 상기 팔레트(7)로 전원을 인가할 수 있다.

여기서, 상기 팔레트(7)를 통해서 상기 이송장치(3)로 전원이 인가되는 것을 방지할 필요가 있다. 왜냐하면 이송장치(3)에 전원이 인가되면 불필요한 기능성 막이 상기 이송장치(3)에 형성될 수 있기 때문이다. 이를 위해서, 상기 이송장치(3)와 상기 팔레트의 베이스(7a) 사이에는 절연재(7f)가 구비됨이 바람직하다. 물론, 상기 절연재는 상기 베이스(7a)의 하부에 결합되는 것이 바람직하다. 그리고 상기 베이스(7a)는 상기 절연재를 포함하여 이루어질 수 있다. 즉, 상기 베이스(7a)는 하부에 구비되는 절연재(7f)를 포함하여 이루어질 수 있다.

한편, 상기 팔레트(7)는 열교환기(5)를 적재하기 위한 지그(7b)를 포함하여 이루어진다. 즉, 대상물을 고정시키기 위한 지그(7b)를 포함하여 이루어진다. 상기 지그(7b)는 복수 개 구비될 수 있어 보다 안정적으로 열교환기(5)를 고정시킬 수 있다.

상기 지그(7b)는 대상물을 보다 안정적으로 지지하고 전기적 접점을 형성하기 위하여 팔레트의 길이 방향으로 복수 개 구비될 수 있다. 그리고 팔레트의 폭 방향으로 복수 개 구비될 수 있다. 따라서, 하나의 제품에 대한 복수 개의 지지점과 전기적 접점을 형성할 수 있게 된다. 이는 제품을 보다 안정적으로 지지하는 한편 제품 전체에 고르게 전원을 공급할 수 있는 효과가 있다. 그러므로, 제품 전체적으로 고른 기능성 막이 형성될 수 있다.

상기 팔레트(7)는 상기 베이스(7a)의 상부에서 상기 지그(7b)와 결합되어 상기 열교환기(5)를 상기 팔레트(7)에 고정시키는 고정부(7c)를 포함하여 이루어진다.

상기 고정부(7c)는 복수개 형성될 수 있다. 그리고 상기 팔레트(7)의 길이 방향으로 양측에 각각 형성될 수 있다. 따라서, 하나의 팔레트(7)에 두 개의 열교환기(5)가 적재될 수 있다. 물론, 하나의 고정부의 길이 방향으로 복수 개의 열교환기가 적재될 수도 있을 것이다. 그리고, 상기 고정부(7c)는 팔레트 접점(7d)를 포함하여 이루어질 수 있다. 즉, 상기 팔레트 접점(7d)을 통해 상기 팔레트(7)로 전원이 인가될 수 있다.

상기 팔레트 접점(7d)은 어느 하나의 고정부(7c)에만 구비될 수 있다. 왜냐하면, 팔레트 하나 당 전원이 공급되는 위치가 하나일 수 있기 때문이다. 따라서, 어느 하나의 고정부(7c)는 다른 고정부(7c)와 연결선(7e)을 통하여 전기적으로 연결됨이 바람직하다. 다시 말하면, 상기 고정부(7c)와 상기 베이스(7a)는 서로 전기적으로 연결되지 않는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 기능성 막이 불필요하게 팔레트에 형성되는 것을 방지하기 위함이다. 따라서, 상기 고정부(7c)와 베이스(7a) 사이는 서로 절연됨이 바람직하며, 이를 위해 절연재(7g)가 개재될 수 있다. 상기 절연재(7g)는 팔레트 접점(7d)와 베이스(7a) 사이에 개재되어 양자 사이를 절연하는 기능을 수행할 수 있다.

따라서, 상기 고정부에만 전원이 공급될 수 있고, 복수 개의 고정부들 사이에서는 연결선이 연결되어 서로 전기적으로 연결될 수 있다.

한편, 상기 팔레트 접점(7d)은 어느 하나의 고정부(7c)에 길이 방향으로 복수 개 형성될 수 있다. 물론, 전원 공급은 어느 하나의 팔레트 접점에서만 이루어질 것이다. 이는 전술한 바와 같이 길이 방향으로 복수 개의 팔레트가 챔버 내부로 투입될 수 있기 때문이다. 즉, 앞에 있는 팔레트와 뒤에 있는 팔레트에서 전원이 인가되는 위치가 달라질 수 있기 때문이다.

예를 들어, 팔레트의 앞에 있는 접점은 상기 팔레트가 앞에 있는 경우에 사용되는 접점이고, 팔레트의 뒤에 있는 접점은 상기 팔레트가 뒤에 있는 경우에 사용되는 접점일 수 있다.

여기서, 상기 팔레트가 이동하여 상기 챔버 내에서 정지 상태에 있을 때 전원공급부의 무빙 접점과 상기 팔레트 접점이 선택적으로 접촉됨이 바람직하다. 따라서, 정지 상태에서 전원이 공급되기 때문에 보다 안정적이고 지속적인 전원 공급이 가능하게 된다.

도 6을 참조하여 팔레트(7)의 고정부 구조에 대해서 상세히 설명한다.

상기 고정부(7c)는 상기 지그(7b)와 연결되기 위한 홀(71)이 복수 개 형성되어 있는 조절 플레이트(70)를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 복수 개의 홀은 지그(7b)가 고정되는 위치를 변경하도록 형성될 수 있다. 그리고, 복수 개의 지그가 결합되는 경우 지그 사이의 피치를 조절할 수 있게 된다.

상기 피치는 팔레트(7)의 길이 방향에 대한 피치와 폭 방향의 피치를 모두 포함한다. 따라서, 이러한 복수 개의 홀(71)을 통해 지그와 지그 사이의 길이 방향 간격뿐만 아니라 폭 방향 간격을 조절할 수 있게 된다. 따라서, 다양한 제품에 대해서 안정적으로 지지하는 것이 가능하게 된다.

또한, 상기 고정부(7c)는 상기 지그와 상기 조절 플레이트(70) 사이에 개재되어 상기 지그를 고정하는 고정 플레이트(72)를 포함하여 이루어질 수 있다.

도 6과 도 8에 도시된 도시된 바와 같이, 지그(7b)는 바디(75)와 지지부(76)를 포함하여 이루어진다. 상기 바디(75)에는 도 8에 도시된 바와 같이 홈(78)이 형성되어 있어 열교환기의 일부가 상기 홈에 끼워져 고정된다. 예를 들어, 열교환기의 측면에 구비되는 냉매 튜브가 상기 홈(78)에 끼워 맞춰질 수 있다. 따라서, 상기 홈의 형상은 결합되는 대상물의 형상에 맞게 다양하게 변형될 수 있다. 물론, 이러한 지그의 홈 형상은 열교환기의 종류에 따라 달리 형성될 수 있다. 일례로 상기 홈(78)은 "U"자 형상으로 형성될 수 있다. 지그(7b)는 열교환기를 지지하는 구성임과 동시에 열교환기로 상기 팔레트 접점(7d)로부터 인가되는 전원을 전달하는 구성이라 할 수 있다.

한편, 상기 열교환기의 튜브는 열교환기의 크기에 따라 개수, 위치 그리고 튜브 자체의 크기나 형상이 달라질 수 있다. 그러나, 이러한 튜브의 수는 일반적으로 복수 개일 것이다. 따라서, 복수 개의 지그를 통해서 열교환기를 전체를 안정적으로 지지할 수 있고, 안정적인 전원이 공급되도록 할 수 있다. 그리고, 지그를 바꿈으로써 다양한 열교환기에 용이하게 대응할 수 있다.

여기서, 상기 홈(78)을 통해 열교환기의 지지는 다음과 같은 효과를 갖는다. 즉, 홈의 형상을 냉매 튜브의 형상으로 형성하므로 홈 내부에서는 지그와 냉매 튜브가 면접촉을 하게 된다. 따라서, 전기적 접점들이 면을 이루므로 보다 안정적으로 고른 전원 공급이 가능하게 된다.

여기서, 전기적 접점들이 이루는 면적은 매우 중요하다. 왜냐하면 전원이 특정 위치에만 편중되게 공급되면 스파크가 발생될 수 있기 때문이다. 이러한 스파크는 안정적인 플라즈마 반응을 방해한다. 따라서, 고른 기능성 막 형성이 어려울 수 있다.

그러므로, 지그의 홈(78)을 통해 제품의 지지는 매우 효과적이고 바람직하다.

상기 지그(7b)의 지지부(76)는 봉 형상으로 형성되며, 상기 지지부(76)에는 반경이 작은 슬롯(77)이 형성될 수 있다.

도 7과 도 8을 참조하여 상기 지그(7b), 조절 플레이트(70) 그리고 고정 플레이트(72) 사이의 결합관계에 대해서 설명한다.

전술한 바와 같이 상기 조절 플레이트(70)에는 복수 개의 홀(71)이 형성된다. 상기 복수 개의 홀은 일정 패턴을 갖고 형성될 수 있다. 예를 들어, 하나의 고정부(7c)에 길이 방향으로 두 개의 홀이 형성되고 그 다음에는 하나의 홀이 형성되고, 이러한 패턴이 반복될 수 있다. 물론, 네 개의 홀과 두 개의 홀이 형성되는 패턴일 수도 있다. 따라서, 이러한 복수 개의 홀을 통해 지그(7b) 사이의 폭을 조절할 수 있고, 하나의 고정부에 복수 개의 열교환기를 적재하는 것도 가능하게 된다. 따라서, 이러한 복수 개의 홀을 통해 지그(7b) 사이의 폭을 조절할 수 있고, 하나의 고정부에 복수 개의 열교환기를 적재하는 것도 가능하게 된다. 또한, 다양한 열교환기를 안정적으로 지지할 수 있게 할 수 있다. 이는 상기 복수 개의 홀이 형성된 패턴으로 인해 지그와 지그 사이의 길이 방향과 폭 방향의 피치를 가변시킬 수 있기 때문이다.

상기 지그(7b)의 지지부(76)는 상기 조절 플레이트(70)의 특정 홀(71)에 삽입되어 지지된다. 이때, 상기 고정 플레이트(72)가 상기 지그(7b)를 상기 조절 플레이트(70)에 대해서 견고히 고정하는 역할을 수행한다.

구체적으로, 도 8에 도시된 바와 같이 상기 고정 플레이트(72)에는 상기 조절 플레이트(70)의 홀(71)에 대응되는 복수 개의 슬롯(73)이 형성되어 있다. 상기 슬롯(73)의 폭은 상기 고정 플레이트의 홀(71)의 직경보다는 작은 것이 바람직하다. 그리고, 상기 슬롯(73)의 폭은 상기 지지부(76)의 슬롯(77)의 폭과 대응됨이 바람직하다. 또한 상기 고정 플레이트 슬롯(73)은 일 방향이 개방된 것이 바람직하다.

따라서, 상기 고정 플레이트(72)는 상기 조절 플레이트(70)의 홀(71)에 상기 지그(7b)가 삽입된 상태에서 상기 조절 플레이트(70) 상에 슬라이딩될 수 있다.

즉, 상기 고정 플레이트(72)의 슬롯(73) 내부로 상기 지지부(77)의 슬롯(77)이 삽입된 채로 슬라이딩될 수 있다. 이후, 상기 고정 플레이트(73)를 상기 조절 플레이트(70)에 고정시킴으로써 상기 지그가 상기 조절 플레이트에 견고히 결합될 수 있게 된다. 고정 플레이트(73)를 상기 조절 플레이트(70)에 고정시키기 위하여 상기 고정 플레이트(73)에는 체결홀(74)가 형성될 수 있다.

이러한 구조를 통해서 용이하게 지그의 고정과 지그의 폭을 조절할 수 있게 된다. 따라서, 열교환기의 다양한 크기와 종류에 용이하고 쉽게 대응할 수 있게 된다.

이하에서는 도 9를 참조하여 전극에 대해서 상세히 설명한다.

상기 전극(16)은 적어도 마주 보는 한 쌍의 전극면(160)을 포함하여 이루어질 수 있다. 즉, 대상물의 양측에 전극면이 형성되도록 함이 바람직하다.

상기 전극면(160)은 상기 격벽(18)에 구비될 수 있고 상기 측면도어(12c)에 구비될 수도 있다. 즉, 도 9에 도시된 일측의 전극면(160)은 격벽(180)에 구비되고 타측의 전극면(160)은 측면도어(12c)에 구비될 수 있다.

이러한 전극면(160)은 그물망 형태의 플라즈마 반응면(161)과 상기 반응면(161) 양측에서 상기 반응면을 지지하는 전극 홀더(162)를 포함하여 이루어질 수 있다.

또한, 상기 챔버의 내벽에는 상기 전극 홀더가 결합되어 지지되는 홀더 결합부(163)가 구비될 수 있다. 상기 챔버의 내벽은 상기 측면도어(12c)의 내벽일 수도 있으며 상기 격벽(18)의 내벽일 수도 있다.

플라즈마 반응이 반복되다 보면 상기 플라즈마 반응면(161)이 늘어나서 하부로 쳐지는 문제가 발생될 수 있다. 따라서, 플라즈마 반응이 골고루 수행되지 못하는 문제가 있다. 이를 위해서, 상기 플라즈마 반응면(161)에 항상 인장력이 가해지도록 하는 것이 바람직하다.

이를 위해서, 상기 홀더 결합부(162)는 외측으로 탄성력이 가해지도록 탄성지지됨이 바람직하다. 즉, 상기 홀더 결합부(162)의 후방으로 스프링(164)가 구비될 수 있다. 따라서, 처음으로 홀더 결합부(162)에 전극 홀더(162)가 결합될 때 상기 홀더 결합부(162)는 스프링이 인장된 상태이다. 따라서, 플라즈마 반응면(161)이 느슨해지는 경우 스프링의 복원력으로 인해 다시 플라즈마 반응면에 인장력이 가해질 수 있다. 즉, 스프링이 원위치로 완전히 복구되기까지는 항상 인장력이 가해지기 때문에 전극면이 늘어나 하부로 쳐지는 것을 방지할 수 있게 된다.

한편, 상기 전극면(160)은 복수 개의 층으로 이루어질 수 있다. 따라서, 대상물의 높이에 따라 플라즈마 반응이 수행되는 전극면(160)을 선택적으로 제어하는 것이 가능하다.

도 9에 도시된 바와 같이, 노즐(14)은 전극면(160)과 전극면(160) 사이에 위치되는 것이 바람직하다. 상기 노즐(14)을 통해서 반응성 가스, 프리커서 그리고 캐리어 가스가 챔버 내부로 공급될 수 있다.

여기서, 상기 노즐은 원형 튜브에 형성됨이 바람직하다. 즉, 원형 튜브를 따라 이동되는 가스 등이 상기 원형 튜브의 전면에 형성된 노즐을 통해 대상물로 상기 가스 등을 공급할 수 있다.

한편, 상기 원형 튜브는 복수 개 구비될 수 있다. 전극을 따라 길이 방향으로 복수 개 구비될 수 있고, 수직 방향으로 복수 개 구비될 수도 있다. 실질적으로 길이 방향으로 구비되는 원형 튜브를 통해 프리커서 등이 챔버 내부로 공급된다.

여기서, 상기 원형 튜브는 손상 시 교체하기 위하여 양측의 피팅(149)을 통하여 서로 연통된다. 그리고, 복수 개의 원형 튜브는 서로 동일한 길이를 갖도록 형성됨이 바람직하다. 따라서, 다양한 길이의 원형 튜브를 예비적으로 준비할 필요가 없게 된다. 그리고, 후술하는 바와 같이 상기 원형 튜브에 커버를 통해 히터가 매설되므로 히터에 전기를 연결하는 것도 매우 용이할 수 있다.

한편, 상기 원형 튜브의 위치는 상기 전극면(160) 보다 앞인 것이 바람직하다. 즉, 보다 대상물에 더욱 근접한 위치에 구비됨이 바람직하다. 보다 구체적으로는 노즐의 위치가 상기 전극면(160) 보다 앞인 것이 바람직하다. 이를 통해 상기 노즐이 막히는 것을 현저히 줄일 수 있게 된다.

노즐에서 공급된 반응성 가스, 프리커서 그리고 캐리어 가스를 통해 플라즈마 반응이 수행된다. 따라서, 반응이 진행되는 위치에서 이러한 프리커스 등을 공급하는 것과 반응이 진행되는 위치로 이러한 프리커서 등을 공급하는 것의 차이가 있을 수 있다.

반응이 진행되는 위치에서 프리커서 등을 공급하면, 공급된 프리커서 등의 대부분이 플라즈마 반응에 사용되어 노즐 내부와 외부 사이의 압력차이가 지속적으로 유지될 수 있다. 따라서, 프리커서 등이 노즐을 통해 지속적으로 공급될 수 있다. 그러나, 반대로 반응이 진행되지 않는 곳에서 반응이 진행되는 위치로 프리커서 등을 공급하면, 공급된 프리커서 등의 일정 부분은 플라즈마 반응에 사용되지 않을 수 있다. 따라서, 노즐 외부의 압력이 높아질 수 있고 이로 인해 노즐 막힘 현상이 발생될 우려가 있게 된다. 그러므로, 상기 원형 튜브의 위치, 즉 노즐의 위치는 전극면(160) 보다 앞에 위치하는 것이 바람직하다. 다시 말하면, 전극면보다 노즐이 플라즈마 대상물에 더욱 근접하게 위치되는 것이 바람직하다.

상기 원형 튜브(140)에는 히터(402)가 구비될 수 있다. 즉, 내부에서 유동하는 가스 등을 가열하여 보다 원활히 공급될 수 있도록 하기 위함이다. 그러나, 상기 히터(402)는 플라즈마 반응에 의해 쉽게 손상될 우려가 있다. 따라서, 상기 원형 튜브(140)와 히터를 일체로 제작하는 것은 바람직하지 않다.

이러한 문제로 인해 히터의 설치와 보수를 용이하기 위해서 상기 원형 튜브의 후면에 히터(402)를 매설하고 커버(143)를 씌운 후 와이어(142)로 고정시키는 구조를 사용할 수 있다.

여기서, 상기 노즐(14)이 형성된 원형 튜브(140)는 복수 개 구비된다. 이러한 원형 튜브들은 피팅(149)을 통해 서로 연결된다. 따라서, 어느 하나의 원형 튜브의 손상, 예를 들어 노즐 막힘, 히터 손상 등이 발생되는 경우 손상된 원형 튜브만 손쉽게 교체할 수 있게 된다.

이하에서는 도 11과 도 12를 참조하여 팔레트로 전원을 공급하는 전원공급부(80)에 대해서 상세히 설명한다.

전술한 전극(16)은 챔버(1) 내부에 구비된다. 즉, 챔버 내부의 격벽(18)과 측면도어(12c)에 전극이 서로 마주보도록 구비된다. 이러한 전극 사이에 열교환기(5)가 위치된다.

플라즈마 반응을 위해서는 상기 전극(16)과 열교환기(5)의 극이 반대여야 한다. 본 실시예에서는 열교환기에서의 극이 양극, 즉 아노드이며 상기 전극에서의 극이 음극, 즉 캐소드인 것이 바람직하다.

상기 열교환기, 보다 구체적으로는 팔레트(7)에 전원을 공급하기 위하여 전원공급부(80)는 무빙 접점(81)을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로 상기 무빙 접점(81)은 상기 팔레트(7)의 이송 시에는 상기 팔레트와 이격되어 있다가 플라즈마 반응을 위해서 상기 팔레트로 접근하여 상기 팔레트와 접점을 형성하도록 함이 바람직하다. 이러한 무빙 접점(81)을 구현하기 위하여 에어 실린더(86)가 구비될 수 있다. 따라서, 상기 무빙 접점(81)은 기본적으로 상기 에어 실린더(86)의 작동에 의해 전진과 후진을 하게 된다.

즉, 상기 무빙 접점(81)은 팔레트의 접점(7d)과 선택적으로 접촉됨이 바람직하다. 상기 무빙 접점과 팔레트의 접점은 평면을 포함하여 이루어지고, 이러한 평면들이 서로 접촉하여 면접촉되도록 함이 바람직하다. 따라서, 보다 안정적으로 전원이 공급될 수 있다.

또한, 상기 무빙 접점은 탄성적으로 지지됨이 바람직하다. 즉, 상기 무빙 접점이 이동하여 상기 팔레트의 접점과 접촉하는 경우에도 소정 거리 더 이동될 수 있는 것이 바람직하다. 물론, 상기 무빙 접점 자체는 이동하지 않겠지만 무빙 접점을 제외한 나머지 부분이 소정 거리 더 이동될 수 있다. 상기 소정 거리는 상기 탄성적 지지로 인해 접점이 신뢰성이 있게 보장될 수 있는 거리 이상인 것이 바람직하다. 따라서, 진동이 발생되더라도 탄성적 지지로 인해 안정적으로 전원이 공급될 수 있다.

한편, 상기 전원공급부(80)는 상기 무빙 접점(81)의 탄성 변형에 따라 상기 무빙 접점(81)으로 선택적으로 전원을 인가하는 스위치(82') 또는 스위치 부재를 포함하여 이루어질 수 있다.

보다 구체적으로, 상기 전원공급부(80)는 무빙 접점(81)을 수용하는 접점 수용부(82)를 포함하여 이루어지고, 상기 접점 수용부(82)에서 상기 무빙 접점(81)은 탄성부재(81')를 통해 탄성 지지된다. 상기 탄성부재는 스프링일 수 있으며 상기 접점 수용부(82)의 내측에 구비될 수 있다. 따라서, 상기 무빙 접점과 팔레트 접점이 서로 접촉하더라도 상기 접점 수용부(82)는 더욱 전진하는 것이 가능하다. 이때, 상기 무빙 접점(81)은 전진하지 않고 상기 무빙 접점과 접점 수용부 사이의 탄성부재는 탄성 변형된다.

상기 스위치 부재(82')는 샤프트 형태로 형성될 수 있다. 상기 스위치 부재의 일측은 상기 무빙 접점과 선택적으로 전기적 연결될 수 있다. 그리고, 상기 스위치 부재의 타측은 전원선(미도시)과 연결될 수 있다.

여기서, 상기 스위치 부재는 상기 무빙 접점(81)이 탄성력에 의해 이동될 때 상기 무빙 접점과 전기적으로 연결됨이 바람직하다. 따라서, 보다 안정적으로 전원을 공급할 수 있다.

그리고, 상기 접점 수용부(82)의 후방에는 안전판(85)이 구비될 수 있다. 또한, 상기 무빙 접점(81)의 전후방 이송 거리 및 위치와 높이 등을 결정하기 위한 복수 개의 연결부재(84)가 구비될 수 있다. 상기 연결부재들은 블럭 형태로 형성될 수 있다. 구체적으로 상기 블럭들은 수평 블럭(84a)와 수직 블럭(85b)를 포함하여 이루어질 수 있다.

여기서, 어느 하나의 수평 블럭에는 관통홀(87)이 형성될 수 있으며, 상기 관통홀을 관통하는 전원선을 통해 상기 무빙 접점(81)으로 전원을 공급하는 것이 가능하다.

한편, 상기 연결부재(84)는 상기 안전판(85)과 무빙 접점 수용부(82) 사이에 개재될 수 있다. 따라서, 상기 연결부재는 양자 사이에서 절연 기능을 수행함이 바람직하다. 이를 위해 상기 연결부재는 세라믹 재질로 형성될 수 있다.

도 11은 전원공급부(80)의 전체적인 모습을 도시한 것이다. 따라서, 상기 전원공급부(80)는 베이스부(89a), 무빙 발생부(89b) 그리고 무빙 접점부(89c)를 포함하여 이루어질 수 있다. 구체적으로 상기 베이스부(89a)와 무빙 발생부(89b)는 외부로 노출되지 않도록 함이 바람직하다. 따라서, 도 10에는 무빙 접점부(89c)만 챔버 내부에서 노출된 형태가 도시되어 있다. 즉 1a로 지시된 라인인 챔버 내부와 챔버를 구성하는 내벽의 경계를 의미한다.

이러한 구성을 통해 챔버 내에 구비되는 전원공급부(80) 부분을 최소화할 수 있다. 다시 말하면, 무빙 발생부(89b)를 챔버 내로 노출시키지 않기 때문에 보다 안정적으로 무빙 접점부를 이동시킬 수 있게 된다.

그리고, 상기 전원공급부(80)는 안전 스위치(83)을 포함하여 이루어질 수 있다. 이러한 안전 스위치(83)는 상기 무빙 점접부의 이동에 따라 전원을 인가하도록 하거나 차단하도록 하는 스위치 기능을 수행한다. 즉, 상기 안전 스위치(83)는 상기 안전판(85)에 의해 이동된다. 무빙 점접부가 전방으로 이동하면 상기 안전판과 안전 스위치(83)는 접촉되지 않는다. 반대로 무빙 점접부가 후방으로 이동하면 상기 안전판이 상기 안전 스위치와 접촉되어, 상기 안전 스위치를 후방으로 이동시킨다.

따라서, 상기 안전 스위치(83)은 상기 안전판(85)에 의해 전방 위치와 후방 위치 사이에서 이동한다. 구체적으로 상기 안전 스위치(83)의 스위치 부재(83a)가 상기 안전판(85)에 의해 전방 위치와 후방 위치 사이에서 이동한다.

상기 안전 스위치의 후방 위치는 전원공급부(80)에서 무빙 접점부로 전원을 차단되는 상태다. 따라서, 제어부에서 전원공급부를 통해 전원 공급을 인가하더라도 안전 스위치로 인해 실제로는 전원 공급이 차단된다고 할 수 있다. 따라서, 보다 안정적으로 전원 공급이 이루어질 수 있고, 보다 안전하게 전원 공급이 이루어질 수 있게 된다.

한편, 상기 무빙 점접부(89a)에는 전원이 인가되는 부분이 형성된다. 따라서, 이러한 무빙 접점부가 챔버 내에 노출되면 그 표면에 기능성막이 형성될 수 있다. 따라서, 불필요한 기능성막 형성을 차단하기 위해 커버(89d)가 구비됨이 바람직하다.

상기 커버는 무빙 접점부의 상부와 측부, 즉 상면과 측면들을 커버하고 전면은 상기 무빙 접점의 이동을 위해 개방됨이 바람직하다. 그리고 후면도 막혀 있을 수 있으나 상기 내벽(1a)과 맞닿기 때문에 특별히 막혀있을 필요는 없다.

상기 무빙 접점부와 상기 무빙 발생부 사이에는 실링부재(88)가 구비될 수 있다. 즉, 상기 내벽(1a)에 구비되는 실링을 통해 챔버 내부와 내벽 내측이 서로 구분될 수 있다. 따라서, 상기 실링은 절연재질임이 바람직하고 무빙 접점부에 인가되는 전원이 상기 무빙 발생부로 인가되는 것을 방지할 수 있다.

상술한 본 실시예에 따르면, 하나의 챔버(1)에 연결된 프리커서 공급유닛(400), 반응성가스 공급유닛(300), 세정가스 공급유닛(200) 및 배출유닛(100) 등을 제어유닛(500)이 적절히 제어함으로써 열교환기(5)에 기능성 막을 형성할 수 있다. 더 나아가, 내식성, 친수성 및 항균성을 동시에 가질 수 있는 다기능성 프리커서를 사용함으로써 내식성, 친수성 및 항균성 막도 하나의 단일의 챔버(1)에서 한번에 형성하는 것이 가능하다.

한편, 상술한 본 실시예에서는 열교환기를 예를 들어서 설명하였지만 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 자동차용 사이드 미러 등에 사용하는 것도 물론 가능하다.

1 : 챔버 100 : 배출유닛
200 : 반응성 가스 공급유닛 300 : 반응성 가스 공급유닛
400 : 프리커서 공급유닛 500 : 제어유닛

Claims (18)

1. 대상물에 플라즈마 반응을 통하여 기능성 막을 제공하기 위하여 상기 대상물을 적재하고 이송하기 위한 팔레트 및 선택적으로 상기 팔레트로 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지며,
   상기 팔레트는,
   베이스;
   상기 대상물을 고정시키기 위한 지그; 그리고
   상기 베이스의 상부에서 상기 지그와 결합되어 상기 대상물을 상기 팔레트에 고정시키는 고정부를 포함하고,
   상기 전원공급부로부터 공급되는 전원은 상기 지그를 통하여 상기 대상물에 공급됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 팔레트를 이송하는 이송장치를 포함하여 이루어지며, 상기 베이스와 상기 이송장치 사이에는 절연재가 개재됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
3. 삭제
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 고정부는 상기 팔레트의 길이 방향으로 양측에 구비됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 고정부는 상기 전원공급부와 선택적으로 면접촉하는 팔레트 접점을 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
6. 제 4 항에 있어서,
   상기 고정부들을 전기적을 연결하기 위한 연결선을 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 고정부는 상기 지그와 연결되기 위한 홀이 복수 개 형성되어 상기 지그가 고정되는 위치를 변경하도록 구비되는 조절 플레이트를 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 지그는,
   열교환기의 일부가 끼워지도록 형성된 홈을 갖는 바디; 그리고
   상기 홀에 삽입되어 상기 바디를 지지하는 지지부를 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 지지부에는 반경이 작은 슬롯이 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 고정부는 상기 지그의 바디와 상기 조절 플레이트 사이에 개재되어 상기 지그를 고정하는 고정 플레이트를 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 고정 플레이트는 길이 방향으로 복수 개 형성되는 슬롯이 형성되고, 상기 슬롯에 상기 지지부의 슬롯이 삽입됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
12. 제 11 항에 있어서,
    상기 슬롯은 길이가 긴 슬롯과 길이가 짧은 슬롯을 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
13. 제 2 항에 있어서,
    상기 베이스와 상기 고정부 사이에는 절연재가 개재됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
14. 플라즈마 반응이 수행되어 내부에 수용된 대상물에 기능성 막을 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 외부에서 내부로 팔레트를 이송하는 이송장치;
    상기 챔버 내부에 구비되는 전극; 그리고
    무빙 접점을 갖고 상기 팔레트가 상기 전극에 위치하여 정지되었을 때 상기 대상물로 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지며,
    상기 팔레트는,
    베이스;
    상기 베이스의 상부에서 복수 개의 대상물 각각을 상기 팔레트 상에 고정시키도록 구비되는 고정부;
    상기 고정부에서 상기 대상물을 지지하는 복수 개의 지그;
    상기 고정부와 상기 베이스 사이에 개재되어 상기 베이스와 고정부 사이를 절연하는 절연재; 그리고
    상기 복수 개의 고정부를 서로 전기적으로 연결하는 연결선을 포함하고,
    상기 전원공급부로부터 공급되는 전원은 상기 지그를 통하여 상기 대상물에 공급됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
15. 제 14 항에 있어서,
    상기 베이스는 상기 이송장치와의 사이에 개재되는 절연재를 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
16. 제 15 항에 있어서,
    상기 지그와 지그 사이의 길이 방향 피치와 폭 방향 피치가 달라지도록 상기 고정부의 길이 방향과 폭 방향으로 상기 지그와 결합되는 복수 개의 홀이 각각 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
17. 제 14 항에 있어서,
    상기 챔버 내부에는 양쪽을 구획하는 격벽과 챔버의 양측에 각각 형성되는 측면 도어를 포함하여 이루어지고, 상기 격벽의 양측 그리고 측면 도어 각각에서 서로 마주보는 전극이 구비됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.
18. 제 17 항에 있어서,
    상기 고정부는 상기 팔레트의 길이 방향으로 양측에 각각 형성되며, 상기 챔버 내부에서 플라즈마 반응 시 상기 고정부들 사이에 상기 격벽이 위치됨을 특징으로 하는 플라즈마 증착 장치.

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