KR101902348B1 - Mlcc 엑추에이터를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템 - Google Patents

Mlcc 엑추에이터를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템 Download PDF

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전성빈
조장현
최국종
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Abstract

본 발명은, 참조광을 반사하는 위상변화미러; 및 상기 위상변화미러를 이동시켜 참조광의 광경로길이를 변화시키는 액추에이터;를 포함하고, 상기 액추에이터는 인가되는 전압에 따라 부피가 변화하는 적층 세라믹 커패시터(MLCC)인 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템을 제공한다.

Description

MLCC 엑추에이터를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템{Digital holography system using a MLCC actuator}
본 발명은 디지털 홀로그래피 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 참조광의 경로는 변화시키는 엑추에이터로서 MLCC를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템에 관한 것이다.
디지털 홀로그래피를 이용한 정밀 3차원 측정의 경우, 간섭 이미지로부터 물체광의 complex amplitude를 복원하여 위상과 세기값을 동시에 획득하고, 그 정보를 기반으로 깊이 방향의 정보를 나노미터 단위의 해상도로 복원하는 것을 골자로 한다. 이 때, 수치적 복원 과정에서 발생하는 불필요한 0차 및 -1차 회절 성분을 제거하기 위하여, 디지털 홀로그래피를 취득하는 시스템은 크게 off-axis와 위상천이 방식으로 분류할 수 있다. off-axis 방식의 경우 간섭 이미지를 형성하는 과정에서 참조광과 물체광의 각도를 의도적으로 다르게 입사하도록 조절하여, 선형 fringe 성분을 추가한다.
이 홀로그램을 복원하는 과정에서, Fourier transform을 통해 취득한 주파수 정보는 이 각도에 의해 상기한 0차 및 -1차 회절 성분이 공간적으로 분리되며, 이를 제거하여 이미지를 취득할 수 있다. 이 방식은 한 장의 홀로그램으로 물체 정보를 복원할 수 있다는 장점이 있으나, 물리적으로 특정 성분을 제거해야 하므로 전체 센서 영역 대비 최대 1/4의 데이터만 복원에 이용되며, 그로 인한 해상도의 저하라는 단점을 가지고 있다.
이를 해결하기 위해 제안된 위상천이 디지털 홀로그래피의 경우, 고정된 물체광에 대해 참조광의 위상을 변경하여 복수의 홀로그램을 측정하고, 이를 이용하여 불필요한 성분을 수치적으로 제거하는 방식을 취한다. 도 1을 참조하면, 위상의 변화를 위해서는 일반적으로 Piezoelectric Transducer (PZT)를 거울 등에 사용하여 참조광의 광로 길이를 수십~수백 나노미터 단위로 미세하게 조정하는 방식을 사용한다. 이 방식은 여러 장의 홀로그램을 촬영해야 한다는 단점이 있으나, off-axis 방식에 비해 광학 시스템이 확보할 수 있는 최대의 해상도로 물체의 정보를 복원할 수 있으므로, 그 정밀도에서 이점이 있다.
위상천이 디지털 홀로그래피는 상기하였듯 PZT 등 나노/마이크로 액추에이터를 사용하여 참조광의 위상을 변화시킨다. 이 때, 액추에이터의 구동은 DC 전압을 변화시켜 PZT를 팽창 또는 수축시키는 방식으로 이루어진다. 그러나 PZT 기반 위상천이 장치는 두 가지 한계를 가진다.
첫째, PZT의 구동 특성은 비선형적이므로, 원하는 길이만큼 변조하기 위해서는 전압 및 변조량의 곡선을 매핑해야 한다.
둘째, PZT 구동을 위해서는 100~200V 가량의 고직류전압을 적용해야 한다. 이 한계로 인해, 위상천이 디지털 홀로그래피에 필요한 사양의 PZT 액추에이터는 고정밀 및 고가의 제어장치 및 앰프를 필요로 한다. 이로 인해, off-axis에 비해 위상천이 디지털 홀로그래피에 소요되는 비용은 매우 커지며, 특히 소형 및 저가의 시스템이나, 모바일 장치에 접목된 측정 장비를 구현하기 어려우므로 산업적 제품화에 한계를 갖는다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, PZT에 비해 전압 대비 높은 선형성으로 구동되며, 상대적으로 낮은 구동전압을 가지는 MLCC 엑추에이터를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상술한 목적을 달성하기 위하여, 참조광을 반사하는 위상변화미러; 및 상기 위상변화미러를 이동시켜 참조광의 광경로길이를 변화시키는 액추에이터;를 포함하고, 상기 액추에이터는 인가되는 전압에 따라 부피가 변화하는 적층 세라믹 커패시터(MLCC)인 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템을 제공한다.
이때, 상기 적층 세라믹 커패시터에 전압을 인가하는 전압공급장치를 더 포함할 수 있다.
더불어, 상기 전압공급장치에서 공급되는 전압 세기를 제어하는 컨트롤러;를 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 적층 세라믹 커패시터는 상기 위상변화미러의 일측면에 결합되어 인가되는 전압에 따라 상기 위상변화미러의 위치를 변화시킬 수 있다.
한편, 상기 디지털 홀로그래피 시스템은 빛이 촬상 대상을 통과하는 투과형 또는 빛이 촬상 대상에 반사되는 반사형일 수 있다.
한편, 상기 적층형 세라믹 커패시터의 일측에는 고정플레이트가 결합될 수 있다.
한편, 상기 적층 세라믹 커패시터는 단수 또는 복수개가 포함될 수 있다.
한편, 본 발명은, 참조광을 반사하는 위상변화미러; 상기 위상변화미러를 이동시켜 참조광의 광경로길이를 변화시키는 적층 세라믹 커패시터 액추에이터; 및 상기 적층 세라믹 커패시터 액추에이터에 전압을 인가하는 전압공급장치;를 포함하는 디지털 홀로그래피 시스템의 참조광 위상변화장치를 제공한다.
또한, 본 발명은, 참조광의 위상을 변화시키는 엑추에이터를 적층 세라믹 커패시터 로 이용하는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법에 있어서, 상기 적층 세라믹 커패시터에 제1전압을 인가하여 오브젝트의 제1홀로그램을 획득하는 단계; 상기 적층 세라믹 커패시터에 상기 제1전압과 상이한 제2전압을 인가하여 오브젝트의 제2홀로그램을 획득하는 단계를 포함하는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법을 제공한다.
이때, 상기 제1전압은 제2전압보다 더 낮을 수 있다.
본 발명은 수 마이크로미터 내지 나노미터 단위의 해상도로 구동가능한 MLCC를 참조광의 위상변화 액추에이터로 활용하여, PZT에 비해 전압 대비 높은 선형성을 가지는 이점이 있다.
또한, PZT에 비해 상대적으로 낮은 전압의 구동전압을 이용함으로써 복잡한 컨트롤로 및 전원공급장치를 필요로 하지 않으며 저전압의 전원공급장치만으로 구동이 가능한 이점이 있다.
또한, 기존 PZT에 비해 저가의 비용으로 디지털 홀로그래피 시스템을 구축할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 종래 PZT를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템의 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따를 반사형 디지털 홀로그래피 시스템의 개략도.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 투과형 디지털 홀로그래피 시스템의 개략도.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
본 명세서에서 사용되는 용어에 대해 간략히 설명하고, 본 발명에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
본 발명에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 발명에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 발명의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다.
명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
이하 도 2 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 홀로그래피 시스템에 대해 설명한다. 먼저 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 홀로그래피 시스템을 설명한다. 도 2에 도시된 디지털 홀로그래피 시스템은 광을 오브젝트에 조사하고 반사되는 광을 수집하여 홀로그램 데이터를 획득하는 반사형 디지털 홀로그래피 시스템이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 홀로그래피 시스템은 광원(10)을 포함한다. 또한, 상기 광원(10)에서 생성된 광을 평행광으로 변화시키는 콜리메이터(20)(collimator)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 콜리메이터(20)를 통과한 광의 노이즈를 제거하는 공간필터(30)(spatial filter)를 포함할 수 있다. 또한, 광의 주파수 대역을 조절하는 밴드패스 필터(40)를 포함할 수 있다. 또한. 입사된 광을 오브젝트(1) 방향과 위상변화미러(80) 방향으로 분할하고, 반사된 광을 합성하는 빔스플리터(50)(Beam splitter)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 빔스플리터(50)를 통해 합성된 광을 측정하는 디지털 이미지 센서(60)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 디지털 이미지 센서(60)에 의해 측정된 간섭무늬 정보를 저장하는 저장부(70)를 포함할 수 있다.
상기 광원(10)은 혼합광 또는 백색광을 발생시키는 구성으로서, LED 또는 레이저로 구성될 수 있다. 이때, 상기 광원(10)이 백색광을 발생시키는 경우 방출되는 백색광은 가시광선의 각 파장을 동일한 강도로 가질 수 있으며, 빨강, 주황, 노랑, 초록, 파랑, 남색, 보라색 등 모든 색깔의 빛이 다 포함될 수 있다.
상기 공간필터(30)는 광원(10)으로부터 방출된 빛이 콜리메이터(20)를 통과하면, 콜리메이터(20)를 통과한 빛의 노이즈 성분을 제거한다. 노이즈 성분이 제거된 빛은 상기 밴드패스 필터(40)로 입사된다.
상기 밴드패스 필터(40)는 상기 콜리메이터(20)를 통과한 빛에서 특정 대역의 주파수의 빛만 통과시키는 대역필터부재이다.
상기 빔스플리터(50)는 상기 밴드패스 필터(40)를 통과한 빛을 참조광과 물체광으로 분할하고 다시 합성한다. 상기 밴드패스 필터(40)를 통과한 빛은 상기 빔스플리터(50)를 통해 오브젝트(1)로 향하는 물체광과 위상변화미러(80)로 향하는 참조광으로 분할된다.
상기 빔스플리터(50)를 통과한 물체광은 오브젝트(1)에 조사되어 반사되고, 반사된 빛은 상기 빔스플리터(50)를 통과하여 상기 디지털 이미지 센서(60)로 입사된다.
상기 빔스플리터(50)를 통과한 참조광은 위상변화미러(80)에 조사되어 반사되고 반사된 빛은 빔스플리터(50)를 통해 상기 디지털 이미지 센서(60)로 입사된다. 상기 디지털 이미지 센서(60)는 CCD(Charge Coupled Device)일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서는 상기 참조광의 광경로길이를 변화시키기 위해 상기 위상변화미러(80)의 위치를 변화시키는 액추에이터를 포함할 수 있다. 본 발명에서 상기 액추에이터는 적층 세라믹 커패시터(90)(Multi-Layer Ceramic Capacitor, 이하 MLCC)인 것이 바람직하다. 또한 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 홀로그래피 시스템은 상기 MLCC(90)에 전압을 인가하는 전압공급장치(91)를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 전압공급장치(91)에 인가하는 전압의 세기를 제어하는 제어부(93)를 더 포함할 수 있다.
상기 MLCC(90)는 상기 위상변화미러(80)의 위치를 변화시키는 액추에이터로서, 인가되는 전압 또는 시간에 따라 그 부피가 변하게 된다. MLCC(90)에 전압이 높을수록 상기 MLCC(90)의 부피는 커지게 되며, 전압이 낮을수록 MLCC(90)의 부피는 작아진다. 상기 MLCC(90)의 부피가 변함에 따라 상기 MLCC(90)에 결합된 위상변화미러(80)의 위치가 변하게 된다. 더불어, 상기 위상변화미러(80)의 위치가 변함에 따라 참조광의 광경로길이가 변할 수 있다.
통상 홀로그램 데이터 정보를 얻기 위해서 참조광의 위상을 0, ∏/2, ∏, 3∏/2 변조시킨 4장의 홀로그램을 획득한다. 본 발명에서는 상기 MLCC의 크기(부피)를 변화시켜 참조광의 경로길이를 제어할 수 있으며, 이에 따라 참조광의 위상이 변화된 홀로그램을 획득할 수 있다.
상기 제어부(93)는 원하는 참조광의 위상에 대응되는 MLCC(90)의 부피에 따른 전압인가 신호를 상기 전압공급장치(91)에 전달하고, 상기 전압공급장치(91)는 이에 따른 전압을 상기 MLCC(90)에 인가한다.
참조광의 위상변화가 0인 경우에는 상기 제어부(93)는 전압공급장치(91)에 전압인가신호를 내리지 않으며, 상기 전압공급장치(91)는 MLCC(90)에 전압을 인가하지 않는다.
참조광의 위상변화가 필요한 경우, 원하는 위상변화에 대응되는 위상변화미러(80)의 위치변화량이 산출되면, 위상변화미러(80)의 위치변화량에 대응되는 MLCC(90)의 부피변화량을 산출한다.
다시, MLCC(90)의 부피변화량에 대응되는 전압이 결정되며, 제어부(93)는 상기 부피변화량에 대응되는 전압인가신호를 전압공급장치(91)에 전달한다.
상기 전압공급장치(91)는 상기 제어부(93)로부터 전달받은 전압인가신호에 대응되는 전압을 상기 MLCC(90)에 인가하며, 상기 MLCC(90)에 인가된 전압에 따라 MLCC(90)의 부피가 변하면서 상기 위상변화미러(80)가 이동하면서 위치가 변화되고, 참조광의 위상이 변화될 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따를 경우 상기 MLCC(90)의 일측에는 고정플레이트(95)가 결합되는 것이 바람직하다.
즉, MLCC(90)의 일면에는 상기 위상변화미러(80)가 결합되며, 타면에는 상기 고정플레이트(95)가 결합된다. MLCC(90)에 인가되는 전압에 따라 MLCC(90)의 부피가 변화하는 경우 고정플레이트(95)는 이동하지 않고 고정되어 있으며, MLCC(90)의 부피변화에 따라 상기 위상변화미러(80)만이 이동하도록 구성하는 것이 바람직하다.
한편, MLCC(90)는 단수 또는 복수를 조합하여 구성할 수 있으며, MLCC(90)가 복수일 경우 부피가 커지는 대신 상대적으로 저전압으로 동일한 광경로길이를 변화시키는 것이 가능하다. 다시 말해, MLCC(90)는 단수개가 배치될 수도 있고, 복수개가 일렬로 나란하게 배치될 수도 있다. 이하 도 3을 참조하여 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 디지털 홀로그래피 시스템을 설명한다.
도 3은 물체광이 오브젝트(1)를 통과하는 투과형 디지털 홀로그래피 시스템이다. 이하에서는 도 1과 중복되는 구성 및 당업자에게 자명한 사항에 대해서는 설명을 생략한다.
도 3의 투과형 디지털 홀로그래피 시스템은 광원(10)으로부터 방출된 빛이 공간필터(30)를 통과하며, 공간필터(30)를 통과한 빛은 제1빔스플리터(51)에 의해 물체광과 참조광으로 분할된다.
참조광은 제1반사미러(111)를 통해 제2빔스플리터(53)로 조사되며, 물체광은 제2반사미러(113)를 통해 오브젝트(3)로 조사된다. 오브젝트(3)를 통과한 물체광은 렌즈(115)를 통해 제2빔스플리터(53)로 조사된다.
한편, 제1반사미러(111)를 통해 제2빔스플리터(53)로 입사된 참조광은 제2빔스플리터(53)를 통해 위상변화미러(80)로 조사된다.
상기 위상변화미러(80)에는 MLCC(90)가 결합되며, 상기 MLCC(90)는 전압공급장치(91)에 연결된다. 상기 전압공급장치(91)는 제어부(93)와 연결된다. 본 실시예에서 MLCC(90), 전압공급장치(91), 제어부(93)의 구성 및 작동은 도 1을 참조하여 설명한 실시예와 동일하므로 자세한 설명을 생략한다.
상기 제2빔스플리터(53)는 위상변화미러(80)로부터 반사된 참조광과 물체광을 합성하여 디지털 이미지 센서(60)로 조사한다.
한편, 본 실시예에서는 제1반사미러(111)와 위상변화미러(80)를 별도로 구성하였으나, 제1반사미러(111)를 위상변화미러(80)로 대체할 수 있음은 물론이다. 이 경우 제1반사미러(111)에 MLCC(90)가 연결되고, MLCC(90)의 부피변화에 따라 제1반사미러(111)가 이동함으로써 참조광의 광경로길이를 조절할 수 있다.
이하에서는 참조광의 위상을 변화시키는 엑추에이터를 적층 세라믹 커패시터(MLCC)로 이용하는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법에 대해 설명한다.
먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법은 상기 적층 세라믹 커패시터(90)에 제1전압을 인가하여 오브젝트(1)의 제1홀로그램을 획득하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 상기 적층 세라믹 커패시터(90)에 상기 제1전압과 상이한 제2전압을 인가하여 오브젝트(1)의 제2홀로그램을 획득하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1홀로그램을 획득하는 단계에서 제1전압은 상기 제2전압보다 더 낮은 전압인 것이 바람직하다. 참조광의 위상이 0인 경우의 홀로그램을 획득하는 경우 상기 제1전압은 0 V(Zero volt)일 수 있다.
이상에서 본 발명의 설명을 돕기위해 도 2 및 도 3을 참조하여 MLCC를 이용한 디지털 홀로그래피 시스템을 설명하였으나, 본 발명의 디지털 홀로그래피 시스템은 도 2 및 도 3의 디지털 홀로그래피 시스템에 한정되지 않는다. 즉, 참조광의 위상변화를 위해 참조광의 광경로길이를 변화시키는 액추에이터로서 MLCC를 이용한 모든 디지털 홀로그래피 시스템에 적용가능 함은 물론이다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10 광원
20 콜리메이터
30 공간필터
40 밴드패스 필터
50 빔스플리터
60 디지털 이미지 센서
70 저장부
80 위상변화미러
90 MLCC
91 전압공급장치
93 제어부
95 고정플레이트

Claims (10)

  1. 참조광을 반사하는 위상변화미러; 및
    상기 위상변화미러를 이동시켜 참조광의 광경로길이를 변화시키는 액추에이터;를 포함하고,
    상기 액추에이터는 인가되는 전압에 따라 부피가 변화하는 적층 세라믹 커패시터(MLCC)인 것을 특징으로 하되,
    상기 적층 세라믹 커패시터에 전압을 인가하는 전압공급장치; 및
    상기 전압공급장치에서 공급되는 전압 세기를 제어하는 컨트롤러;를 포함하며,
    참조광의 위상변화가 필요 없는 경우, 상기 컨트롤러는 전압인가신호를 상기 전압공급장치에 내리지 않으며, 상기 전압공급장치는 상기 적층 세라믹 커패시터에 전압이 인가하지 않고,
    참조광의 위상 변화가 필요할 경우, 상기 컨트롤러는 필요한 위상변화에 대응되는 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량을 산출하고, 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량에 대응되는 전압인가신호를 상기 전압공급장치에 전달하고, 상기 전압공급장치는 상기 컨트롤러로부터 전달받은 전압인가신호에 대응되는 전압을 상기 적층 세라믹 커패시터에 인가하며, 상기 적층 세라믹 커패시터에 인가된 전압에 따라 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피가 변하면서 상기 위상변화미러가 이동됨에 따라 참조광의 위상이 변화되는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 적층 세라믹 커패시터는 상기 위상변화미러의 일측면에 결합되어 인가되는 전압에 따라 상기 위상변화미러의 위치를 변화시키는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 디지털 홀로그래피 시스템은 빛이 촬상 대상을 통과하는 투과형 또는 빛이 촬상 대상에 반사되는 반사형인 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 적층 세라믹 커패시터의 일측에는 고정플레이트가 결합되는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 적층 세라믹 커패시터는 단수 또는 복수개가 포함되는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템.
  8. 삭제
  9. 참조광의 위상을 변화시키는 엑추에이터를 적층 세라믹 커패시터로 이용하고, 상기 적층 세라믹 커패시터의 일면에는 위상변화미러가 결합되는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법에 있어서,
    상기 적층 세라믹 커패시터에 제1전압을 인가하여 오브젝트의 제1홀로그램을 획득하는 단계; 및
    상기 적층 세라믹 커패시터에 상기 제1전압과 상이한 제2전압을 인가하여 오브젝트의 제2홀로그램을 획득하는 단계를 포함하되,
    상기 제1전압은 제2전압보다 더 낮고,
    참조광의 위상변화에 필요한 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량을 산출하고, 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량에 필요한 전압을 상기 적층 세라믹 커패시터에 공급하여 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피를 변화시켜 상기 위상변화미러를 이동시켜서 참조광의 위상을 변화시키는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법.
  10. 삭제
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