KR101901339B1 - liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
본발명은, 표시영역과 비표시영역으로 구분되고, 상기 표시영역에는 열 방향으로 연장되는 다수의 세로공통배선이 형성되고, 상기 비표시영역에는 행 방향으로 연장되는 하부공통배선을 포함한 외곽공통배선이 형성되는 액정패널과; 상기 액정패널에 데이터전압을 공급하는 데이터구동회로를 포함하고, 상기 하부공통배선은 상기 다수의 세로공통배선과 동일한 층에 형성되어 서로 연결되는 액정표시장치를 제공한다.The present invention is characterized in that a plurality of vertical common wirings extending in the column direction are formed in the display region, and a plurality of vertical common wirings extending in the row direction are formed in the non-display region, A liquid crystal panel formed on the substrate; And a data driving circuit for supplying a data voltage to the liquid crystal panel, wherein the lower common wiring is formed in the same layer as the plurality of vertical common wirings and connected to each other.
Description
본발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 액정패널 제조 공정 중 발생하는 정전기를 효율적으로 분산하는 액정표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device that efficiently disperses static electricity generated during a liquid crystal panel manufacturing process.
정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD : liquid crystal display), 플라즈마표시장치(PDP : plasma display panel), 유기전계발광소자 (OLED : organic light emitting diode)와 같은 여러 가지 평판표시장치(flat display device)가 활용되고 있다.2. Description of the Related Art [0002] With the development of an information society, demands for a display device for displaying images have been increasing in various forms. Recently, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) Various flat display devices such as an organic light emitting diode (OLED) have been utilized.
여기서, 액정표시장치는 소형화가 가능하여 휴대용 정보기기, 컴퓨터 등에서 다양하게 활용되고 있다. 이러한 액정표시장치는, 화소전극에 데이터전압이 인가되고, 공통전극에 공통전압이 인가되어, 그 전압차에 의해서 액정을 구동한다.Here, the liquid crystal display device can be downsized, and is widely used in portable information devices and computers. In such a liquid crystal display device, a data voltage is applied to the pixel electrode, a common voltage is applied to the common electrode, and the liquid crystal is driven by the voltage difference.
이하, 도 1을 참조하여 공통전압을 각 대응하는 화소의 공통전극에 전달하는 공통배선에 대해서 살펴본다. Hereinafter, common wiring for transmitting a common voltage to the common electrode of each corresponding pixel will be described with reference to FIG.
도 1은 종래 액정표시장치(10)에서 형성되는 공통배선을 개략적으로 도시한 도면이다.Fig. 1 is a view schematically showing a common wiring formed in the conventional liquid
도 1에 도시한 바와 같이, 공통전극에 공통전압을 인가하기 위하여, 다수의 세로공통배선(CLV)이 형성된다. 세로공통배선(CLV)은 액정패널(20)의 상단 즉, 데이터구동회로(미도시) 측에 형성된 가로공통배선(CLH)과 서로 연결되어 공통전압을 전달받는다. 또한, 세로공통배선(CLV)을 액정패널(20)의 하부에 형성된 접지전압(GND)과 연결한다.As shown in Fig. 1, in order to apply a common voltage to the common electrode, a plurality of vertical common wirings (CLV) are formed. The vertical common wiring CLV is connected to an upper end of the
이러한 세로공통배선(CLV)은 제조 공정 과정 중에 정전기가 축적되는데, 구체적으로 설명하면, 박막트랜지스터 형성 단계 중, 보호층 증착 및 식각 공정 등은 플라즈마(plasma)를 이용할 수 있는데, 이 경우, 금속 배선(예를 들어, 데이터배선 또는 공통배선) 등에 정전기가 축적된다. 이때, 세로공통배선(CLV)에 축전된 정전기가 방전되지 않을 경우, 데이터배선(미도시)과 세로공통배선(CLV)이 서로 단락되는 문제점이 발생한다.In this vertical common wiring (CLV), static electricity accumulates during the fabrication process. Specifically, in the thin film transistor forming step, the protective layer deposition and etching processes can use plasma. In this case, (For example, data wiring or common wiring). At this time, if the static electricity accumulated in the vertical common wiring CLV is not discharged, there is a problem that the data wiring (not shown) and the vertical common wiring CLV are short-circuited.
이를 방지하기 위한 차선책으로, 액정패널(20)에 세로공통배선(CLV)을 생성한 후, 세로공통배선(CLV)의 하단에 정전기 방지 회로(21)을 구성한다. 그러나, 이는 제조 공정 중에 발생하는 세로공통배선(CLV)의 합선 문제점을 효율적으로 개선하지 못한다.As a workaround to prevent this, the vertical common wiring (CLV) is formed in the
또한, 정전기 방지 회로(21)을 더욱 추가해야 하는 바, 제조공정이 복잡해지고, 생산비용이 증가되는 문제점이 있다.Further, since the static
세로공통배선의 하단을 외곽공통배선과 동일한 층에서 서로 연결함으로써, 액정패널 제조 공정 중 발생하는 정전기를 효율적으로 분산시켜, 세로공통배선의 합선을 방지하는 액정표시장치를 제공하는데 그 과제가 있다.There is a problem in providing a liquid crystal display device that effectively dissipates static electricity generated during a liquid crystal panel manufacturing process and prevents short circuits of vertical common wirings by connecting the lower ends of the vertical common wirings to each other in the same layer as the outer common wirings.
전술한 바와 같은 과제를 달성하기 위해, 본발명은, 표시영역과 비표시영역으로 구분되고, 상기 표시영역에는 열 방향으로 연장되는 다수의 세로공통배선이 형성되고, 상기 비표시영역에는 행 방향으로 연장되는 하부공통배선을 포함한 외곽공통배선이 형성되는 액정패널과; 상기 액정패널에 데이터전압을 공급하는 데이터구동회로를 포함하고, 상기 하부공통배선은 상기 다수의 세로공통배선과 동일한 층에 형성되어 서로 연결되는 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is characterized in that the display region is divided into a display region and a non-display region, and a plurality of vertical common wirings extending in the column direction are formed in the display region, A liquid crystal panel in which an outline common wiring including a lower common wiring extending is formed; And a data driving circuit for supplying a data voltage to the liquid crystal panel, wherein the lower common wiring is formed in the same layer as the plurality of vertical common wirings and connected to each other.
상기 하부공통배선은 상기 데이터구동회로의 반대쪽에 형성된다.And the lower common wiring is formed on the side opposite to the data driving circuit.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선은 게이트절연막 상부에 형성된다.The lower common wiring and the plurality of vertical common wirings are formed on the gate insulating film.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선의 상부에 보호층이 형성된다.A protective layer is formed on the lower common wiring and the plurality of vertical common wirings.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선은 소스전극과 드레인전극이 형성되는 층과 동일한 층에 형성된다.The lower common wiring and the plurality of vertical common wirings are formed in the same layer as the layer in which the source electrode and the drain electrode are formed.
유리기판에 하부공통배선과 다수의 세로공통배선을 형성하는 액정표시장치 제조방법에 있어서, 상기 유리기판 상부에 게이트절연막을 형성하고, 상기 게이트절연막 상부에 상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선이 서로 연결되도록 형성하고, 상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선 상부에 보호층을 형성하는 액정표시장치 제조방법을 제공한다.A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a lower common wiring and a plurality of vertical common wirings are formed on a glass substrate, the method comprising: forming a gate insulating film on the glass substrate; And a protective layer is formed on the lower common wiring and the plurality of vertical common wirings.
상기 하부공통배선은 데이터구동회로의 반대쪽에 형성된다.The lower common wiring is formed on the opposite side of the data driving circuit.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선은 소스전극과 드레인전극이 형성되는 층과 동일한 층에 형성된다.The lower common wiring and the plurality of vertical common wirings are formed in the same layer as the layer in which the source electrode and the drain electrode are formed.
세로공통배선과 하부공통배선을 동일한 층에서 서로 연결하여, 액정패널의 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 효율적으로 분산하여 세로공통배선과 데이터배선의 합선을 방지한다. The vertical common wiring and the lower common wiring are connected to each other in the same layer to effectively distribute the static electricity generated during the manufacturing process of the liquid crystal panel to prevent the short circuit between the vertical common wiring and the data wiring.
세로공통배선 하단에 별도의 정전기 방지 회로를 형성 할 필요가 없는 바, 제조공정의 효율성 증가 및 생산비용을 절감 할 수 있는 효과가 있다.There is no need to form an additional antistatic circuit at the lower end of the vertical common wiring, which can increase the efficiency of the manufacturing process and reduce the production cost.
도 1은 종래 공통배선이 형성된 액정표시장치를 개략적으로 도시한 단면도.
도 2는 본발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 나타낸 단면도.
도 3은 본발명의 실시예에 따른 부화소의 등가회로도.
도 4는 본발명의 실시예에 따른 액정패널의 일부를 개략적으로 도시한 단면도.
도 5는 본발명의 실시예에 따른 부화소를 개략적으로 도시한 단면도.
도 6은 도 5의 Ⅳ-Ⅳ 선으로 자른 단면도.
도 7은 본발명의 실시예에 따른 공통배선이 형성된 액정표시장치를 개략적으로 도시한 단면도.
도 8은 도 7의 Ⅴ-Ⅴ 선으로 자른 단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device in which a common wiring line is formed; Fig.
2 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
3 is an equivalent circuit diagram of a sub-pixel according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view schematically showing a part of a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view schematically illustrating a sub-pixel according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in Fig. 5;
7 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device having a common wiring according to an embodiment of the present invention.
8 is a sectional view taken along the line V-V in Fig.
이하, 도면을 참조하여 본발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 2는 본발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 3은 본발명의 실시예에 따른 부화소의 등가회로도이다.FIG. 2 is a schematic diagram of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a subpixel according to an embodiment of the present invention.
도시한 바와 같이, 본발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 액정패널(200)과 구동회로(700)와, 백라이트(800)를 포함한다.As shown in the figure, a
먼저, 액정패널(200)은 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)으로 구분 될 수 있다. 표시영역(DA)은 영상이 표시되는 영역으로서, 예를 들면 액정패널(200)의 외각 가장자리를 제외한 부분이 될 수 있다. 반면에, 비표시영역(NDA)은 영상이 표시되지 않는 영역으로서, 예를 들면 액정패널(200)의 외각 가장자리가 될 수 있다.First, the
액정패널(200)의 표시영역(DA)에는, 제 1 방향 예를 들면 행 방향으로 다수의 제 1 및 제 2게이트배선(GL11 내지 GLn1 및 GL12 내지 GLn2)이 연장되어 있다. 그리고, 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향 예를 들면 열 방향으로 다수의 데이터배선(DL)이 연장되어 있다. In the display area DA of the
여기서, 다수의 제 1 및 제 2게이트배선(GL11 내지 GLn1 및 제 GL12 내지 GLn2)과 다수의 데이터배선(DL)은 서로 교차하여 매트릭스(matrix) 형태로 배치된 다수의 부화소(SP)를 정의한다. 즉, 하나의 부화소(SP)는 하나의 제 1 게이트배선(GL11 내지 GLn1)과, 하나의 제 2 게이트배선(GL12 내지 GLn2) 및 하나의 데이터배선(DL)으로 정의된다. 부화소(SP)는 예를 들면, 레드(red)를 방출하는 R부화소, 그린(green)을 방출하는 G부화소, 블루(blue)를 방출하는 B부화소를 포함할 수 있다. 이와 같은 R, G, B 부화소(SP) 각각에는, 대응되는 R, G, B 영상데이터가 입력된다. 여기서, 서로 이웃하는 R, G, B 부화소(SP)는 하나의 화소를 구성하게 된다. Here, a plurality of first and second gate lines GL11 to GLn1 and GL12 to GLn2 and a plurality of data lines DL intersect each other to define a plurality of sub-pixels SP arranged in a matrix form do. That is, one subpixel SP is defined as one first gate line GL11 to GLn1, one second gate line GL12 to GLn2, and one data line DL. The sub-pixel SP may include, for example, an R sub-pixel that emits red, a G sub-pixel that emits green, and a B sub-pixel that emits blue. The corresponding R, G, and B image data are input to each of the R, G, and B subpixels SP. Here, neighboring R, G, and B subpixels SP constitute one pixel.
도 3을 참조하면, 각 부화소(SP)는, 박막트랜지스터(T)와, 액정커패시터(Clc)와, 스토리지커패시터(Cst)를 포함한다.Referring to FIG. 3, each sub-pixel SP includes a thin film transistor T, a liquid crystal capacitor Clc, and a storage capacitor Cst.
박막트랜지스터(T)는, 제 1 게이트배선(GL11 내지 GLn1) 또는 제 2게이트배선(GL12 내지 GLn2)과 데이터배선(DL)의 교차부에 형성된다. 화소전극(미도시)은 박막트랜지스터(T)와 연결되어 있다. 한편, 화소전극에 대응하여 공통전극(미도시)이 형성된다. 화소전극에 데이터전압이 인가되고, 공통전극에 공통전압(Vcom)이 인가되면, 이들 사이에 전기장이 형성되어 액정을 구동하게 된다. 화소전극과 공통전극 그리고 이들 전극 사이에 위치하는 액정은 액정커패시터(Clc)를 구성하게 된다. 한편, 각 부화소(SP)에는, 스토리지커패시터(Cst)가 더욱 구성되며, 이는 화소전극에 인가된 데이터전압을 다음 프레임까지 저장하는 역할을 하게 된다.The thin film transistor T is formed at the intersection of the first gate lines GL11 to GLn1 or the second gate lines GL12 to GLn2 and the data line DL. A pixel electrode (not shown) is connected to the thin film transistor T. On the other hand, a common electrode (not shown) is formed corresponding to the pixel electrode. When a data voltage is applied to the pixel electrode and a common voltage Vcom is applied to the common electrode, an electric field is formed between them to drive the liquid crystal. The pixel electrode, the common electrode, and the liquid crystal located between these electrodes constitute a liquid crystal capacitor Clc. Each sub-pixel SP further includes a storage capacitor Cst, which serves to store the data voltage applied to the pixel electrode until the next frame.
다시 도 2를 참조하면, 액정패널(200)의 표시영역(DA)에는, 다수의 데이터배선(DL)과 평행하게 다수의 세로공통배선(VCL)이 연장된다. 이때, 다수의 세로공통배선(VCL)은 예를 들면, 행 방향으로 이웃하는 두 개의 부화소(SP)마다 형성된다.Referring again to FIG. 2, in the display area DA of the
액정패널(200)의 비표시영역(NDA)에는 외곽공통배선(ACL)이 형성된다. 구체적으로, 외곽공통배선(ACL)은 행 방향으로 연장되는 2개의 가로배선과 열 방향으로 연장되는 2개의 세로배선으로 구성되고, 각각의 가로 및 세로배선들은 서로 연결되어 폐쇄 구조로 형성된다. 즉, 외곽공통배선(ACL)은 액정패널(200)의 비표시영역(NDA)에 4개의 변을 따라 형성된다.The outer common line (ACL) is formed in the non-display area (NDA) of the liquid crystal panel (200). Specifically, the outer common wiring (ACL) is composed of two horizontal wirings extending in the row direction and two vertical wirings extending in the column direction, and the respective horizontal and vertical wirings are connected to each other to form a closed structure. That is, the outer common line ACL is formed along the four sides in the non-display area NDA of the
여기서, 행 방향으로 연장되는 외곽공통배선(ACL)의 가로배선은 세로공통배선(VCL)과 연결된다. 구체적으로, 세로공통배선(VCL)의 일 단은 행 방향으로 연장되며 액정패널(200)의 상부에 위치하는 외곽공통배선(ACL)과 연결되고, 세로공통배선(VCL)의 타 단은 행방으로 연장되며 액정패널(200)의 하부에 위치하는 외곽공통배선(ACL)과 연결된다. Here, the horizontal wiring of the outer common wiring (ACL) extending in the row direction is connected to the vertical common wiring (VCL). Specifically, one end of the vertical common wiring (VCL) is connected to the outer common wiring (ACL) extending in the row direction and located at the upper portion of the
또한, 열 방향으로 연장되는 외곽공통배선(ACL)의 세로배선은 공통전압공급회로(600)로부터 공통전압(Vcom)을 인가 받는다. 이에 따라, 공통전압(Vcom)은 액정패널(200)의 상부에 위치하는 외곽공통배선(ACL) 및 세로공통배선(VCL)을 통과하여 대응하는 각 부화소(SP)에 전달된다.The vertical wiring of the outer common wiring (ACL) extending in the column direction receives the common voltage (Vcom) from the common voltage supply circuit (600). Thus, the common voltage Vcom is transmitted to the corresponding sub-pixels SP through the outer common line ACL and the vertical common line VCL located at the upper portion of the
백라이트(800)는, 빛을 액정패널(200)에 공급하는 역할을 하게 된다. 백라이트(800)의 광원으로, 냉음극형광램프(Cold Cathode Fluorescent Lamp : CCFL), 외부전극형광램프(External Electrode Fluorescent Lamp : EEFL), 발광다이오드(Light Emitting Diode : LED) 등이 사용될 수 있다. The
구동회로(D)는, 타이밍컨트롤러(300)와, 게이트구동회로(400)와, 데이터구동회로(500)와, 공통전압공급회로(600)를 포함할 수 있다.The driving circuit D may include a
여기서, 타이밍컨트롤러(300)는, TV시스템이나 비디오카드와 같은 외부시스템으로부터 영상데이터(RGB)와, 수직동기신호(Vsync)와 수평동기신호(Hsync)와 클럭신호(CLK)와 데이터인에이블신호(DE) 등의 제어신호(TCS)를 입력 받게 된다. 한편, 도시하지는 않았지만, 이와 같은 신호들은, 타이밍컨트롤러(300)에 구성된 인터페이스(interface)를 통해 입력될 수 있다.Here, the
타이밍컨트롤러(300)는, 입력된 제어신호(TCS)를 사용하여, 게이트구동회로(400)를 제어하기 위한 게이트제어신호(GCS)와 데이터구동회로(500)를 제어하기 위한 데이터제어신호(DCS)를 생성한다. The
게이트제어신호(GCS)는, 게이트스타트펄스(Gate Start Pulse : GSP), 게이트쉬프트클럭(Gate Shift Clock : GSC), 게이트출력인에이블신호(Gate Output Enable : GOE) 등을 포함한다. The gate control signal GCS includes a gate start pulse GSP, a gate shift clock GSC and a gate output enable signal GOE.
데이터제어신호(DCS)는 소스스타트펄스(Source Start Pulse : SSP), 소스샘플링클럭(Source Sampling Clock : SSC), 소스출력인에이블신호(Source Output Enable : SOE), 극성신호(Polarity : POL) 등을 포함할 수 있다. The data control signal DCS includes a source start pulse (SSP), a source sampling clock (SSC), a source output enable (SOE) signal, a polarity signal (POL) . ≪ / RTI >
또한, 타이밍컨트롤러(300)는, 외부의 시스템으로부터 영상데이터(RGB)를 전달받고, 이를 정렬하여 데이터구동회로(500)에 전달하게 된다. In addition, the
게이트구동회로(400)는, 타이밍컨트롤러(300)로부터 공급되는 게이트제어신호(GCS)에 응답하여, 다수의 제 1 및 제 2 게이트배선(GL11 내지 GLn1 및 GL12 내지 GLn2)을 순차적으로 스캔(scan)한다. 예를 들면, 매 프레임(frame) 동안 다수의 제 1 및 제 2 게이트배선(GL11 내지 GLn1 및 GL12 내지 GLn2)을 순차적으로 선택하고, 선택된 게이트배선(GL)에 대해 게이트하이전압을 출력하게 된다. 보다 구체적으로 예를 들면, 첫 번째 제 1 게이트배선(GL11)을 선택하여 게이트하이전압을 출력한 후, 첫 번째 제 2 게이트배선(GL12)을 선택하여 게이트하이전압을 출력한다. 이어서, 두 번째 제 1 게이트배선(GL21)을 선택한 후, 두 번째 제 2 게이트배선(GL22)를 선택한다. 마찬가지로, 세 번째 제 1 게이트배선(GL13)부터 n 번째 제 2 게이트배선(GLn2)까지 순차적으로 선택되고 게이트하이전압이 출력된다. 게이트하이전압에 의해, 해당 행라인에 위치하는 박막트랜지스터(T)는 턴온(turn on)된다. 한편, 다음 프레임의 스캔시까지는 제 1 및 제 2 게이트배선(GL11 내지 GLn1 및 GL12 내지 GLn2)에 턴오프(turn off) 전압인 게이트로우전압이 공급되어, 박막트랜지스터(도 3의 T)는 턴오프 상태를 유지하게 된다.The
데이터구동회로(500)는, 타이밍컨트롤러(300)로부터 공급되는 데이터제어신호(DCS)와 영상데이터(RGB)에 응답하여, 데이터전압을 다수의 데이터배선(DL)에 공급하게 된다. 즉, 감마전압을 사용하여, 영상데이터(RGB)에 대응되는 데이터전압을 생성하고, 생성된 데이터전압을 데이터배선(DL)에 출력하게 된다.The
이하, 도 4를 더욱 참조하여 본발명의 실시예에 따른 액정패널(200)의 표시영역(DA)에 대해서 보다 상세하게 살펴본다.Hereinafter, the display area DA of the
도 4는 본발명의 실시예에 따른 액정패널(200)의 표시영역(DA)을 도시한 도면으로서, 표시영역(DA)에 2개의 제 1 및 제 2 게이트배선(GL11 내지 GL22)과, 세로공통배선(VCL1, VLC2)과, 데이터배선(DL1, DL2)이 형성된 액정패널(200)의 일부를 일예로서 도시한 도면이다. 4 shows a display area DA of a
먼저, 도 4에 도시한 바와 같이, 이웃하는 첫 번째 R 부화소(R1) 및 G 부화소(G1)는 첫 번째 제 1 게이트배선(GL11) 및 첫 번째 제 2 게이트배선(GL12)이 첫 번째 데이터배선(DL1)과 교차하여 정의된다. First, as shown in FIG. 4, the first R sub-pixel R1 and the G sub-pixel G1 adjacent to each other are arranged such that the first first gate wiring GL11 and the first second gate wiring GL12 are connected to the first And is defined to intersect the data line DL1.
이때, 첫 번째 R 부화소(R1)의 박막트랜지스터(T)는 제 1 데이터배선(DL1)의 좌측에 연결되어 첫 번째 R 부화소(R1)의 화소전극(Ep)과 연결되고, 첫 번째 G 부화소(G1)의 박막트랜지스터(T)는 제 1 데이터배선(DL1)의 우측에 연결되어 첫 번째 G 부화소(G1)의 화소전극(Ep)과 연결된다. At this time, the thin film transistor T of the first R sub-pixel R1 is connected to the left side of the first data line DL1 to be connected to the pixel electrode Ep of the first R sub-pixel R1, The thin film transistor T of the sub-pixel G1 is connected to the right of the first data line DL1 and is connected to the pixel electrode Ep of the first G sub-pixel G1.
또한, 첫 번째 B 부화소(B1)는 이웃하는 R 부화소(R)와 함께, 첫 번째 제 1 게이트배선(GL11) 및 첫 번째 제 2 게이트배선(GL12)이 두 번째 데이터배선(DL2)과 교차하여 정의된다.The first B sub-pixel B1 is connected to the second R sub-pixel R and the first gate wiring GL11 and the first gate wiring GL12 are connected to the second data wiring DL2, .
이때, 첫 번째 B 부화소(B1)의 박막트랜지스터(T)는 제 2 데이터배선(DL2)의 좌측에 연결되어 첫 번째 B 부화소(B1)의 화소전극(Ep)과 연결되고, 이웃하는 R 부화소(R)의 박막트랜지스터(T)는 제 2 데이터배선(DL2)의 우측에 연결되어 이웃하는 R 부화소(R)의 화소전극(Ep)과 연결된다. At this time, the thin film transistor T of the first B sub-pixel B1 is connected to the left side of the second data line DL2 to be connected to the pixel electrode Ep of the first B sub-pixel B1, The thin film transistor T of the sub pixel R is connected to the right side of the second data line DL2 and connected to the pixel electrode Ep of the neighboring R sub pixel R.
마찬가지로, 이웃하는 두 번째 R 부화소(R2) 및 G 부화소(G2)는 두 번째 제 1 게이트배선(GL21) 및 두 번째 제 2 게이트배선(GL22)이 첫 번째 데이터배선(DL1)과 교차하여 정의된다. Similarly, in the neighboring second R sub-pixel R2 and the G sub-pixel G2, the second first gate wiring GL21 and the second second gate wiring GL22 intersect with the first data wiring DL1 Is defined.
이때, 두 번째 R 부화소(R2)의 박막트랜지스터(T)는 제 1 데이터배선(DL1)의 좌측에 연결되고, 두 번째 G 부화소(G2)의 박막트랜지스터(T)는 제 1 데이터배선(DL1)의 우측에 연결된다. At this time, the thin film transistor T of the second R sub-pixel R2 is connected to the left side of the first data line DL1, the thin film transistor T of the second G sub-pixel G2 is connected to the first data line DL DL1).
또한, 두 번째 B 부화소(B2)는 이웃하는 R’ 부화소(R’)와 함께, 두 번째 제 1 게이트배선(GL21) 및 두 번째 제 2 게이트배선(GL22)이 두 번째 데이터배선(DL2)과 교차하여 정의된다.The second B sub-pixel B2 includes the second R'-subpixel R 'and the second first gate line GL21 and the second second gate line GL22 together with the second data line DL2 ). ≪ / RTI >
이때, 두 번째 B 부화소(B2)의 박막트랜지스터(T)는 제 2 데이터배선(DL2)의 좌측에 연결되고, 이웃하는 R’ 부화소(R’)의 박막트랜지스터(T)는 제 2 데이터배선(DL2)의 우측에 연결된다.At this time, the thin film transistor T of the second B sub-pixel B2 is connected to the left side of the second data line DL2 and the thin film transistor T of the neighboring R 'sub-pixel R' And is connected to the right side of the wiring DL2.
즉, 하나의 부화소(SP)는 예를 들면 두 개의 게이트배선과 하나의 데이터배선이 서로 교차하여 정의된다. 구체적으로, 데이터배선은 행 방향으로 이웃하는 두 개의 부화소(SP) 사이에 형성되어, 행 방향으로 이웃하는 두 개의 부화소(SP)는 하나의 데이터배선을 공유하게 된다. 이때, 이웃하는 부화소(SP)의 박막트랜지스터(T)는 데이터배선의 좌/우측에 교번하여 연결되어, 각 대응하는 화소전극(Ep)과 연결된다. That is, one sub-pixel SP is defined, for example, by intersecting two gate lines and one data line. Specifically, the data line is formed between two neighboring sub-pixels SP in the row direction, and two sub-pixels SP adjacent in the row direction share one data line. At this time, the thin film transistors T of the neighboring subpixels SP are alternately connected to the left and right sides of the data lines and are connected to the corresponding pixel electrodes Ep.
이때, 제 1 세로공통배선(VCL1) 및 제 2 세로공통배선(VLC2)은 제 1 및 제 2 데이터배선(DL1, DL2)과 평행하게 연장되어, 각 대응하는 공통전극(미도시)에 공통전압(도 2의 Vcom)을 전달한다. 여기서, 제 1 세로공통배선(VCL1)과 제 2 세로공통배선(VCL2)은 행 방향으로 이웃하는 두 개의 부화소(SP)(예를 들면, 첫 번째 R 부화소(R1) 및 첫 번째 G 부화소(G1) 또는 두 번째 R 부화소(R2) 및 두 번째 G 부화소(G2))마다 형성된다.At this time, the first vertical common wiring VCL1 and the second vertical common wiring VLC2 extend in parallel with the first and second data lines DL1 and DL2, and a common voltage (not shown) is applied to each corresponding common electrode (Vcom in Fig. 2). Here, the first vertical common wiring VCL1 and the second vertical common wiring VCL2 are formed by two sub-pixels SP adjacent in the row direction (for example, the first R sub-pixel R1 and the first G sub- Pixel G1 or the second R sub-pixel R2 and the second G sub-pixel G2).
구체적으로 예를 들면, 첫 번째 제 1 게이트배선(GL11)에 게이트하이전압이 출력 될 때, 첫 번째 R 부화소(R1)와 첫 번째 B 부화소(B1)의 박막트랜지스터(T)는 턴온 된다. 이에 따라, 공통전압(도 2의 Vcom)은 제 1 세로공통배선(VCL1) 및 제 2 세로공통배선(VCL2)을 통과하여 각 대응하는 공통전극에 인가된다.Specifically, for example, when a gate high voltage is output to the first first gate line GL11, the thin film transistor T of the first R sub-pixel R1 and the first B sub-pixel B1 is turned on . Thus, the common voltage (Vcom in Fig. 2) is applied to the corresponding common electrode through the first vertical common wiring VCL1 and the second vertical common wiring VCL2.
즉, 세로공통배선은 행 방향으로 이웃하는 두 개의 부화소(SP)마다 데이터배선과 평행하게 형성되어, 각 대응하는 부화소(SP)의 공통전극에 공통전압(도 2의 Vcom)을 전달한다. 결국, 세로공통배선과 데이터배선은 서로 교대로 배치된다.That is, the vertical common wiring is formed in parallel with the data line for each of the two neighboring sub-pixels SP in the row direction, and transmits a common voltage (Vcom in Fig. 2) to the common electrode of the corresponding sub-pixel SP . As a result, the vertical common wiring and the data wiring are alternately arranged.
이하, 도 5 및 도 6을 참조하여, 본발명의 실시예에 따른 부화소(SP)의 구조에 대해서 살펴본다.Hereinafter, the structure of the sub-pixel SP according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6. FIG.
도 5는 도 4의 점선 부분(BLA)을 나타낸 도면으로서, AH IPS(Advanced High performance In-Plane Switching) 구동모드로 동작되는 부화소(SP)의 일예를 도시한 도면이고, 도 6은 도 5의 Ⅳ-Ⅳ 선으로 자른 단면도이다.FIG. 5 is a view showing an example of a sub-pixel SP operated in the AH IPS (Advanced High Performance In-Plane Switching) driving mode, and FIG. 6 is a cross- Sectional view taken along the line IV-IV of Fig.
도 5에 도시한 바와 같이, 액정패널(200)에는 첫 번째 제 1 게이트배선(GL11) 및 첫 번째 제 2 게이트배선(GL12)이 제 1 데이터배선(DL1)과 서로 교차되어 첫 번째 R 부화소(R1) 및 G 부화소(G1)가 정의된다. 즉, 제 1 데이터배선(DL1)은 행 방향으로 이웃하는 첫 번째 R 부화소(R1)와 첫 번째 G 부화소(G1) 사이에 형성된다. 이하, 설명의 편의를 위하여 순서 관형사를 생략하도록 한다.5, the first gate line GL11 and the first second gate line GL12 intersect with the first data line DL1 in the
또한, 제 1 게이트배선(GL11) 또는 제 2 게이트배선(GL12)과 제 1 데이터배선(DL1)의 교차영역에는 박막트랜지스터(T)가 형성된다. 이때, R 부화소(R1)의 박막트랜지스터(T)는, 제 1 데이터배선(DL1)의 좌측 하부에 형성되는데, 구체적으로 제 2 게이트배선(GL12)과 제 1 데이터배선(DL1)의 교차영역에 형성된다. 반면에 G 부화소(G1)의 박막트랜지스터(T)는, 제 1 데이터배선(DL1)의 우측 상부에 형성되는데, 구체적으로 제 1 게이트배선(GL11)과 제 1 데이터배선(DL1)의 교차영역에 형성된다. A thin film transistor T is formed in the intersection region of the first gate wiring GL11 or the second gate wiring GL12 and the first data wiring DL1. At this time, the thin film transistor T of the R sub-pixel R1 is formed at the lower left of the first data line DL1. Specifically, the thin film transistor T is formed at the intersection region of the second gate line GL12 and the first data line DL1 As shown in FIG. On the other hand, the thin film transistor T of the G sub-pixel G1 is formed on the upper right side of the first data line DL1. Specifically, the thin film transistor T is formed in the intersection region of the first gate line GL11 and the first data line DL1 As shown in FIG.
박막트랜지스터(T)는 게이트전극(201)과, 반도체층(도 6의 SC)과, 오믹컨택층(도 6의 OC)과, 소스전극(202) 및 드레인전극(203)을 포함한다.The thin film transistor T includes a
여기서, 게이트전극(201)은 제 1 또는 제 2 게이트배선(GL11 또는 GL12)과 연결되어 형성되고, 게이트전극(201) 상부에는 반도체층(도 6의 SC)과 오믹컨택층(도 6의 OC)이 차례대로 형성된다. The
또한, 오믹컨택층(도 6의 OC) 상부에는 소스전극(202) 및 드레인전극(203)이 형성된다. 소스전극(202)은 제 1 데이터배선(DL1)과 연결되고, 드레인전극(203)은 게이트전극(201)을 사이에 두고 소스전극(202)과 대응되게 형성되는데, 소스전극(202) 및 드레인전극(203)은 오믹컨택층(도 6의 OC )을 개재하여 반도체층(도 6의 SC)의 양측과 중첩되게 형성된다.A
또한, R 부화소(R1) 및 G 부화소(G1)에는 각각 화소전극(Ep)이 형성된다. 화소전극(Ep)은 박막트랜지스터(T)를 통해 제 1 데이터배선(DL1)으로부터 데이터전압이 인가되는 것으로, 게이트절연막(도 6의 GI)에 형성된 제 1 컨택트홀(CH1)을 통해 박막트랜지스터(T)의 드레인전극(224)과 전기적으로 접속된다.Pixel electrodes Ep are formed on the R sub-pixel R1 and the G sub-pixel G1, respectively. The pixel electrode Ep is formed by applying a data voltage from the first data line DL1 through the thin film transistor T and the thin film transistor Tl through the first contact hole CH1 formed in the gate insulating film (GI in Fig. 6) T of the source electrode 224.
또한, R 부화소(R1) 및 G 부화소(G1)에는 각각 공통전극(Ec)이 형성된다. 여기서, R 부화소(R1)와 G 부화소(G1)는 각각 대응하는 제 1 또는 제 2 세로공통배선(VCL1, VCL2)과 일부 중첩된다. 또한, R 부화소(R1)와 G 부화소(G1) 각각의 공통전극(Ec)은 제 2 컨택트홀(CH2)을 통해 대응하는 제 1 또는 제 2 세로공통배선(VCL1, VCL2)과 전기적으로 접속된다. 구체적으로 예를 들면, R 부화소(R1)의 공통전극(Ec)은 제 1 세로공통배선(VCL1)과 일부 중첩되고, 제 2 컨택트홀(CH2)를 통해 제 1 세로공통배선(VCL1)과 전기적으로 접속된다. G 부화소(G1)는 제 2 세로공통배선(VCL2)과 일부 중첩되고, 제 2 컨택트홀(CH2)를 통해 제 2 세로공통배선(VCL2)과 전기적으로 접속된다. The common electrode Ec is formed in each of the R sub-pixel R1 and the G sub-pixel G1. Here, the R sub-pixel R1 and the G sub-pixel G1 partially overlap with the corresponding first or second vertical common lines VCL1 and VCL2, respectively. The common electrode Ec of each of the R sub-pixel R1 and the G sub-pixel G1 is electrically connected to the corresponding first or second vertical common wiring VCL1 or VCL2 through the second contact hole CH2 Respectively. Specifically, for example, the common electrode Ec of the R sub-pixel R1 is partially overlapped with the first vertical common wiring VCL1, and the first vertical common wiring VCL1 and the second vertical common wiring VCL2 are overlapped with each other via the second contact hole CH2. And is electrically connected. The G sub-pixel G1 is partially overlapped with the second vertical common wiring VCL2 and is electrically connected to the second vertical common wiring VCL2 through the second contact hole CH2.
도 6을 참조하면, 유리기판(GLASS) 상부에 게이트절연막(GI)이 형성되고, 게이트절연막(GI) 상부에 제 2 세로공통배선(VCL2)이 형성된다. 제 2 세로공통배선(VLC2) 상부에는 보호층(PAS)이 형성되고, 제 2 컨택트홀(CH2)를 통하여 공통전극(Ec)은 제 2 세로공통배선(VCL2)과 전기적으로 접속하게 된다. Referring to FIG. 6, a gate insulating film GI is formed on a glass substrate GLASS, and a second vertical common wiring VCL2 is formed on a gate insulating film GI. A protection layer PAS is formed on the second vertical common wiring VLC2 and the common electrode Ec is electrically connected to the second vertical common wiring VCL2 through the second contact hole CH2.
또한, R 부화소(R1)와 G 부화소(G1)는 서로 수평 방향으로 대향하는 공통전극(Ec)과 화소전극(Ep) 간의 전위차에 의해 구동된다.The R sub-pixel R1 and the G sub-pixel G1 are driven by a potential difference between the common electrode Ec and the pixel electrode Ep opposing each other in the horizontal direction.
즉, 본발명의 실시예에서는 하나의 데이터배선(DL1)을 행 방향으로 이웃하는 2개의 부화소(R1, G1)가 서로 공유하고, 행 방향으로 이웃하는 2개의 부화소(R1, G1)마다 세로공통라인(VCL1, VCL2)를 형성함으로써, 액정패널(200)의 개구율을 향상 할 수 있는 효과가 있다. That is, in the embodiment of the present invention, one sub-pixel R1 and one sub-pixel G1 adjacent to each other in the row direction share one data line DL1, and two sub-pixels R1 and G1 neighboring in the row direction By forming the vertical common lines VCL1 and VCL2, the aperture ratio of the
이하, 도 7 및 도 8을 더욱 참조하여 본발명의 실시예에 따른 수직공통배선과 외곽공통배선에 보다 상세하게 살펴본다.Hereinafter, the vertical common wiring and the outer common wiring according to the embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 7 and 8. FIG.
도 7은 수직공통배선 및 외곽공통배선이 형성된 액정패널의 평면도를 일예로서 도시한 도면이고, 도 8은 도 7의 Ⅴ-Ⅴ 선으로 자른 단면도이다.Fig. 7 is a plan view of a liquid crystal panel in which a vertical common wiring and an outer common wiring are formed, and Fig. 8 is a sectional view taken along the line V-V in Fig.
도 7에 도시한 바와 같이, 액정패널(200) 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)으로 구분 될 수 있다.As shown in FIG. 7, the
액정패널(200)의 표시영역(DA)에는, 열 방향으로 다수의 세로공통배선(VCL)이 연장된다. 이때, 다수의 세로공통배선(VCL)은 예를 들면, 행 방향으로 이웃하는 두 개의 부화소(도 2의 SP)마다 형성된다.In the display area DA of the
액정패널(200)의 비표시영역(NDA)에는 외곽공통배선(ACL)이 형성된다. 구체적으로, 외곽공통배선(ACL)은 행 방향으로 연장되는 2개의 변과 열 방향으로 연장되는 2개의 변으로 구성되고, 각각의 변은 서로 연결되어 폐쇄 구조로 형성된다. 즉, 외곽공통배선(ACL)은 액정패널(200)의 비표시영역(NDA)에 4개의 변을 따라 형성된다.The outer common line (ACL) is formed in the non-display area (NDA) of the liquid crystal panel (200). Specifically, the outer common wiring (ACL) is composed of two sides extending in the row direction and two sides extending in the column direction, and the respective sides are connected to each other to form a closed structure. That is, the outer common line ACL is formed along the four sides in the non-display area NDA of the
여기서, 열 방향으로 연장되는 외곽공통배선(ACL)의 세로배선은 공통전압공급회로(도 2의 600)로부터 공통전압(도 2의 Vcom)을 인가 받는다. 이에 따라, 공통전압(Vcom)은 액정패널(200)의 상부에 위치하는 외곽공통배선(ACL) 및 세로공통배선(VCL)을 통과하여 대응하는 각 부화소(SP)에 전달된다.Here, the vertical wirings of the outer common wirings ACL extending in the column direction are supplied with the common voltage (Vcom in Fig. 2) from the common voltage supply circuit (600 in Fig. 2). Thus, the common voltage Vcom is transmitted to the corresponding sub-pixels SP through the outer common line ACL and the vertical common line VCL located at the upper portion of the
또한, 행 방향으로 연장되는 외곽공통배선(ACL)의 가로배선은 세로공통배선(VCL)과 연결된다. 구체적으로, 세로공통배선(VCL)의 일 단은 행 방향으로 연장되며 액정패널(200)의 상부에 위치하는 외곽공통배선(ACL)과 연결되고, 세로공통배선(VCL)의 타 단은 행방으로 연장되며 액정패널(200)의 하부에 위치하는 외곽공통배선(ACL)과 연결된다. The lateral wirings of the outer common wirings (ACL) extending in the row direction are connected to the vertical common wirings (VCL). Specifically, one end of the vertical common wiring (VCL) is connected to the outer common wiring (ACL) extending in the row direction and located at the upper portion of the
이때, 외곽공통배선(ACL)은 예를 들면, 세로공통배선(VCL)보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 이는 외곽공통배선(ACL)과 세로공통배선(VCL)의 저항을 줄임으로써, 대응하는 공통전극에 공통전압(도 2의 Vcom)을 효율적으로 인가하기 위함이다. 또한, 세로공통배선(VCL)은 데이터배선(도 2의 DL)보다 작은 폭으로 형성하여 액정패널(200)의 개구율의 저하를 방지함이 바람직하다. At this time, the outer common line (ACL) may be formed to have a larger width than, for example, the vertical common wiring (VCL). This is to effectively apply the common voltage (Vcom in Fig. 2) to the corresponding common electrode by reducing the resistance of the outer common wiring ACL and the vertical common wiring VCL. It is preferable that the vertical common wiring line VCL is formed to have a smaller width than the data line (DL in FIG. 2) to prevent the lowering of the aperture ratio of the
또한, 도시하지는 않았으나, 예를 들면 데이터배선(도 2의 DL)과 외곽공통배선(ACL)의 가로배선은 서로 교차된다. 이때, 데이터배선(도 2의 DL)과 가로배선은 동일층에서 형성되는 바, 가로배선의 인접 부분의 데이터배선(도 2의 DL)을 단선하고, 가로배선에 인접하는 데이터배선(도 2의 DL)의 끝 단에 점핑홀(jumping hole)을 생성하여, 데이터배선(도 2의 DL)과 가로배선의 전기적 접속을 방지한다. 구체적으로, 가로배선과 데이터배선(도 2의 DL)의 교차부분에 대응하여 데이터배선(도 2의 DL)을 단선한다. 또한, 가로배선에 인접하고 가로배선을 사이에 두는 두 개의 점핑홀을 가로배선에 인접하는 데이터배선(도 2의 DL)의 끝 단에 형성한다. 또한, 가로배선이 형성되지 않는 다른 층에 금속 패턴을 형성하고, 점핑홀을 이용하여 데이터배선(도 2의 DL)과 금속패턴을 연결함으로써, 가로배선과 데이터배선(도 2의 DL)과 전기적 접속을 방지한다. Although not shown, for example, the data lines (DL in Fig. 2) and the lateral wirings of the outer common wiring line ACL cross each other. At this time, the data wiring (DL in Fig. 2) and the horizontal wiring are formed in the same layer, and the data wiring (DL in Fig. 2) adjacent to the horizontal wiring is disconnected, (DL in FIG. 2) and the horizontal wiring are prevented by creating jumping holes at the ends of the data lines DL. Concretely, the data line (DL in Fig. 2) is disconnected corresponding to the intersection of the horizontal wiring and the data wiring (DL in Fig. 2). Two jumping holes adjacent to the horizontal wiring and between the horizontal wiring are formed at the end of the data line (DL in Fig. 2) adjacent to the horizontal wiring. Further, a metal pattern is formed on another layer in which the horizontal wiring is not formed, and the data wiring (DL in Fig. 2) and the metal pattern are connected by using the jumping holes, To prevent connection.
이하, 도 8을 더욱 참조하여, 행 방향으로 연장되는 외곽공통배선(ACL)의 가로배선 중 데이터구동회로(도 2의 500)의 반대쪽에 형성되는 외곽공통배선(ACL)과 세로공통배선(VCL)의 연결에 대해서 살펴본다.8, the outer common wiring ACL and the vertical common wiring VCL (not shown) formed on the opposite side of the data driving circuit (500 in Fig. 2) among the horizontal wirings of the outer common wiring ACL extending in the row direction, ).
먼저, 행 방향으로 연장되는 외곽공통배선(ACL)의 가로배선 중 데이터구동회로(도 2의 500)의 반대쪽 즉, 액정패널(200)의 하부에 위치하는 외곽공통배선(ACL)은 예를 들면 세로공통배선(VCL)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 이하, 설명의 편의를 위하여, 액정패널(200)의 하부에 위치하는 외곽공통배선(ACL)을 하부공통배선(SCL)이라고 칭한다. First, the outer common wiring line ACL located on the opposite side of the data driving circuit (500 in Fig. 2) of the lateral wiring of the outer common wiring (ACL) extending in the row direction, that is, the lower side of the
구체적으로 설명하면, 세로공통배선(VCL)과 하부공통배선(SCL)은 데이터배선(도 2의 DL)과 동일한 층에 형성된다.
More specifically, the vertical common wiring VCL and the lower common wiring SCL are formed in the same layer as the data wiring (DL in FIG. 2).
즉, 세로공통배선(VCL)과 하부공통배선(SCL)은 동일한 층에서 형성되어 연결된다. 예를 들면, 세로공통배선(VCL)과 하부공통배선(SCL)은 소스전극(도 6의 202)과 드레인전극(도 6의 203)이 형성되는 층에서 연결될 수 있다.That is, the vertical common wiring VCL and the lower common wiring SCL are formed and connected in the same layer. For example, the vertical common wiring VCL and the lower common wiring SCL may be connected in a layer where the source electrode (202 in FIG. 6) and the drain electrode (203 in FIG. 6) are formed.
이에 따라, 아래와 같은 효과가 있다.Thereby, the following effects are obtained.
먼저, 폭이 넓은 외곽공통배선과 세로공통배선을 포함하여 액정패널에 공통배선을 형성함으로써, 공통배선의 로드(load)를 줄일 수 있다. 이에 따라, 각 부화소에 전달되는 공통전압의 왜곡을 방지할 수 있다. First, by forming a common wiring in the liquid crystal panel including a wide outer common wiring and a vertical common wiring, the load of the common wiring can be reduced. Thus, it is possible to prevent distortion of the common voltage transmitted to each sub-pixel.
또한, 액정패널의 하부에 하부공통배선을 포함하여 외곽공통배선을 형성하고, 하부공통배선을 세로공통배선과 동일한 층에서 서로 연결하여, 액정패널의 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 분산한다. 구체적으로 설명하면, 박막트랜지스터를 형성 단계 중, 보호층 증착 및 식각 공정 등은 플라즈마(plasma)를 이용할 수 있는데, 이 경우, 금속 배선(예를 들어, 데이터배선 또는 공통배선) 등에 정전기가 축적된다. 이때, 세로공통배선에 축전된 정전기를 하부공통배선을 통하여 분산시킴으로써, 공통배선과 데이터배선의 합선을 방지한다. In addition, an outline common wiring is formed by including a lower common wiring below the liquid crystal panel, and the lower common wiring is connected to the same layer as the vertical common wiring to disperse the static electricity generated during the manufacturing process of the liquid crystal panel. More specifically, in the step of forming the thin film transistor, plasma may be used for the protective layer deposition and etching process. In this case, static electricity is accumulated in a metal wiring (for example, a data wiring or a common wiring) . At this time, static electricity accumulated in the vertical common wiring is dispersed through the lower common wiring to prevent short-circuiting between the common wiring and the data wiring.
또한, 제조 공정 중에 세로공통배선과 하부공통배선을 동일한 층에서 서로 연결하여 정전기를 분산시키는 바, 공통배선을 완성 한 후에 공통배선 하단에 별도의 정전기 방지 회로를 형성 할 필요가 없는 바, 제조공정의 효율성 증가 및 생산비용을 절감 할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the vertical common wiring and the lower common wiring are connected to each other in the same layer and the static electricity is dispersed during the manufacturing process, it is not necessary to form another static electricity prevention circuit at the lower end of the common wiring after completing the common wiring, And the production cost can be reduced.
전술한 본발명의 실시예는 본발명의 일예로서, 본발명의 정신에 포함되는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본발명은, 첨부된 특허청구범위 및 이와 등가되는 범위 내에서의 본발명의 변형을 포함한다.The embodiment of the present invention described above is an example of the present invention, and variations are possible within the spirit of the present invention. Accordingly, the invention includes modifications of the invention within the scope of the appended claims and equivalents thereof.
100 : 액정표시장치 200 : 액정패널
300 : 타이밍 컨트롤러 400 : 게이트 구동회로
500 : 데이터 구동회로 600 : 공통전압공급구동회로
VCL : 세로공통배선 ACL : 외곽공통배선
SCL : 하부공통배선 100: liquid crystal display device 200: liquid crystal panel
300: timing controller 400: gate driving circuit
500: Data driving circuit 600: Common voltage supply driving circuit
VCL: Vertical common wiring ACL: Outer common wiring
SCL: Lower common wiring
Claims (10)
상기 액정패널에 데이터전압을 공급하는 데이터구동회로를 포함하고,
상기 하부공통배선은 상기 다수의 세로공통배선과 동일한 층에 형성되어 서로 연결되고,
상기 부화소의 공통전극은, 상기 부화소에 대응되는 상기 세로공통배선과 컨택트홀을 통해 접속되고,
상기 기판에는, 상기 열 방향으로 연장되며 양측에 배치된 각 행라인의 두 개의 상기 부화소 각각에 연결되는 데이터배선과, 상기 각 행라인의 두 개의 부화소 중 하나에 연결되는 제1게이트배선과 다른 하나에 연결되는 제2게이트배선이 형성되고,
상기 세로공통배선은 상기 데이터배선과 하나의 상기 부화소를 단위로 교대로 배치되는
액정표시장치.
A plurality of vertical common wirings extending in the column direction are formed in the display region, and as the outer common wirings formed in the non-display region in a closed structure along four sides thereof, the display region is divided into a display region and a non- The outer common wiring including the upper common wiring and the lower common wiring extending in the row direction and the left common wiring and the right common wiring extending in the column direction are formed and the substrate having the pixel electrode and the common electrode formed in each sub- A liquid crystal panel;
And a data driving circuit for supplying a data voltage to the liquid crystal panel,
The lower common wiring is formed in the same layer as the plurality of vertical common wirings and connected to each other,
The common electrode of the sub-pixel is connected to the vertical common wiring corresponding to the sub-pixel through the contact hole,
The substrate includes a data line extending in the column direction and connected to each of two sub-pixels of each row line arranged on both sides, a first gate wiring connected to one of the two sub-pixels of each row line, A second gate wiring connected to the other is formed,
Wherein the vertical common wiring is alternately arranged in units of the data wiring and one of the sub-pixels
Liquid crystal display device.
상기 하부공통배선은 상기 데이터구동회로의 반대쪽에 형성되는
액정표시장치.
The method according to claim 1,
And the lower common wiring is formed on the side opposite to the data driving circuit
Liquid crystal display device.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선은
게이트절연막 상부에 형성되는
액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the lower common wiring and the plurality of vertical common wirings
The gate insulating film
Liquid crystal display device.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선의 상부에 보호층이 형성되는
액정표시장치.
The method of claim 3,
Wherein a protective layer is formed on the lower common wiring and the plurality of vertical common wirings
Liquid crystal display device.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선은 소스전극과 드레인전극이 형성되는 층과 동일한 층에 형성되는
액정표시장치.
5. The method of claim 4,
The lower common wiring and the plurality of vertical common wirings are formed in the same layer as the layer in which the source electrode and the drain electrode are formed
Liquid crystal display device.
상기 기판 상부에 게이트절연막을 형성하고,
상기 게이트절연막 상부에 상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선이 서로 연결되도록 형성하고,
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선 상부에 보호층을 형성하며,
상기 세로공통배선은 상기 표시영역에 열 방향으로 연장되며,
상기 외곽공통배선은 상기 비표시영역에 이의 4개의 변을 따라 폐쇄 구조로 형성되며 행 방향으로 연장된 상부공통배선 및 상기 하부공통배선과 열 방향으로 연장된 좌측공통배선 및 우측공통배선을 포함하고,
상기 표시영역의 각 부화소에는 화소전극 및 공통전극이 형성되며,
상기 공통전극은, 상기 부화소에 대응되는 상기 세로공통배선과 컨택트홀을 통해 접속되고,
상기 기판에는, 상기 열 방향으로 연장되며 양측에 배치된 각 행라인의 두 개의 상기 부화소 각각에 연결되는 데이터배선과, 상기 각 행라인의 두 개의 부화소 중 하나에 연결되는 제1게이트배선과 다른 하나에 연결되는 제2게이트배선이 형성되고,
상기 세로공통배선은 상기 데이터배선과 하나의 상기 부화소를 단위로 교대로 배치되는
액정표시장치 제조방법.
A method of manufacturing a liquid crystal display device in which an outline common wiring including a lower common wiring and a plurality of vertical common wirings are formed on a substrate divided into a display area and a non-display area,
Forming a gate insulating film on the substrate,
The lower common wiring and the plurality of vertical common wirings are connected to each other over the gate insulating film,
Forming a protective layer on the lower common wiring and the plurality of vertical common wirings,
Wherein the vertical common wiring extends in the column direction in the display region,
The outer common wiring includes an upper common wiring extending in the row direction and a left common wiring and a right common wiring extending in the column direction and formed in a closed structure along four sides of the non- ,
A pixel electrode and a common electrode are formed in each sub-pixel of the display region,
The common electrode is connected to the vertical common wiring corresponding to the sub-pixel through a contact hole,
The substrate includes a data line extending in the column direction and connected to each of two sub-pixels of each row line arranged on both sides, a first gate wiring connected to one of the two sub-pixels of each row line, A second gate wiring connected to the other is formed,
Wherein the vertical common wiring is alternately arranged in units of the data wiring and one of the sub-pixels
A method of manufacturing a liquid crystal display device.
상기 하부공통배선은 데이터구동회로의 반대쪽에 형성되는
액정표시장치 제조방법.
The method according to claim 6,
The lower common wiring is formed on the opposite side of the data driving circuit
A method of manufacturing a liquid crystal display device.
상기 하부공통배선과 상기 다수의 세로공통배선은 소스전극과 드레인전극이 형성되는 층과 동일한 층에 형성되는
액정표시장치 제조방법.The method according to claim 6,
The lower common wiring and the plurality of vertical common wirings are formed in the same layer as the layer in which the source electrode and the drain electrode are formed
A method of manufacturing a liquid crystal display device.
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