KR101886577B1 - Treatment system for harmful waste gases including NOx - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a system for treating harmful gas including nitrogen oxide for nitric acid recovery. The system for treating harmful gas including nitrogen oxide for nitric acid recovery comprises: a collection unit (10) including an oxidizing solution recovery unit (15), a reducing solution recovery unit (16), and a stabilizing solution recovery unit (17) divided on a lower portion thereof; a contact stabilization unit (11) which is arranged on an upper portion of a first gas supply part (5), and includes a gas liquid contact filler layer (46) and a stabilizer spray nozzle (47); a contact oxidizing unit (12) which is arranged on an upper portion of the contact stabilization unit (11), and includes a gas liquid contact filler layer (18) and an oxidizer spray nozzle (23); a contact reducing unit (14) which is arranged on an upper portion of the contact oxidizing unit (12), and includes a gas liquid contact filler layer (34) and a reducer spray nozzle (36); a dispersion separation unit (67, 37) arranged between the contact stabilization unit (11) and the contact oxidizing unit (12) and between the contact oxidizing unit (12) and the contact reducing unit (14); and a nitric acid recovery tank (49) connected to a lower portion of the oxidizing solution recovery unit (15) through a nitric acid recovery pipe (48).

Description

질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템 {Treatment system for harmful waste gases including NOx}[0001] The present invention relates to a system for treating harmful gas containing nitric oxide,

본 발명은 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템에 관한 것으로서, 좀 더 상세히는 구조가 간단하면서도 질소산화물의 처리과정에서 생성되는 질산을 효과적으로 회수함으로써 유해가스를 높은 효율로 처리할 수 있는 새로운 구조의 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a nitrate-recycleable nitrogen oxide-containing noxious gas treatment system, and more particularly, to a new structure capable of treating noxious gas with high efficiency by effectively recovering nitric acid generated in the process of treating nitrogen oxide, The present invention relates to a nitrate-decomposable nitrogen oxide-containing noxious gas treating system.

각종 산업설비에서 배출되는 유해가스에는 다양한 종류의 유해성분이 포함되어 있는데 그중에서도 질소산화물인 NOx는 여러 가지 형태의 오염을 유발하며, 특히 일산화질소가 자외선과 광화학적 반응을 일으켜서 스모그를 일으키고, NOx가 대기 중에서 산화되어 생성되는 이산화질소는 산화질소와 산소라디칼로 분해되어 대기중의 산소와 반응하여 오존의 형성을 유발한다. 이러한 NOx는 독성이 강한 물질로 인체에 치명적 영향을 줄 수 있다.Noxious gases emitted from various industrial facilities include various kinds of harmful substances. Among them, NOx, which is a nitrogen oxide, causes various types of pollution. In particular, nitrogen monoxide causes photochemical reaction with ultraviolet rays, causing smog, The nitrogen dioxide that is produced by oxidation is decomposed into nitrogen oxides and oxygen radicals and reacts with oxygen in the atmosphere to cause the formation of ozone. These NOx are toxic substances and can have a fatal effect on the human body.

이러한 NOx를 포함하는 유해가스를 처리하는 방법으로는 NOx를 중화 또는 환원처리하는 방법이 널리 사용되고 있으나, 일산화질소(NO)는 이에 앞서 산화처리를 요한다. 종래에 이러한 NOx를 함유하는 유해가스의 처리를 위한 산화 또는 환원처리 시스템은 그 장치가 복잡하고 장대하여 제작코스트가 많이 드는 반면 만족할 만한 처리효율을 얻지 못하였다.As a method of treating such noxious gas containing NOx, a method of neutralizing or reducing NOx is widely used, but nitrogen monoxide (NO) requires an oxidation treatment in advance. Conventionally, such an oxidation or reduction treatment system for treating noxious gas containing NOx has not been satisfactory in terms of processing efficiency while the apparatus is complicated and the production cost is large.

이에 본 발명자는 단일의 처리조 내에 하단으로부터 상부로 접촉산화부와 접촉환원부를 순차적으로 적층배치하고, 처리조의 내부 하부에는 산화제액회수부와 환원제수집부를 구획배치하고, 접촉산화부와 접촉환원부 사이에는 피처리가스를 확산시키고 낙하되는 환원제액을 바이패스관로로 유도하는 확산분리부를 구비한 수직타입 유해가스 처리시스템을 제안한 바 있다(특허공개10-2014-0147678호). 이 시스템은 접촉환원부에서 흘러내린 환원제액을 산화제액과 분리하여 수집하고 재순환시켜서 단일의 처리조를 통해서 산화 및 환원처리가 가능하므로, 간단한 구조의 장치로써, 일산화질소를 비롯한 질소산화물을 포함하는 유해가스를 효율적으로 처리할 수 있었다.Therefore, the present inventors have found that a contact oxidation unit and a catalytic reduction unit are sequentially stacked in a single treatment tank from the bottom to the top, the oxidizing agent recovery unit and the reducing agent collecting unit are partitioned, And a diffusion separator for diffusing the gas to be treated and causing the reducing agent liquid to be dropped to the bypass pipe (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0147678). In this system, the reducing agent flowing down from the catalytic reduction unit is separated from the oxidizing agent liquid and collected and recirculated, so that the oxidation and reduction treatment can be performed through a single treatment tank. Therefore, as a simple structure apparatus, It was possible to efficiently treat harmful gas.

그러나 이러한 시스템은 접촉산화부를 거쳐서 회수되는 산화제액 속에 포함된 산화생성물이 물과 반응하여 질산이 생성되므로, 이와 같이 생성된 질산이 다량 포함된 산화제액 등의 폐수의 방출을 위해 부가적인 처리를 요하므로 코스트가 상승되는 문제점이 있었다.However, in this system, since the oxidation product contained in the oxidant solution recovered through the contact oxidation part reacts with water, nitric acid is generated, and therefore, additional treatment is required for releasing the wastewater such as the oxidant solution containing a large amount of nitric acid The cost is increased.

특허공개 제10-2014-0147678호 (2014.12. 30)Patent Publication No. 10-2014-0147678 (Dec. 30, 2014)

본 발명은 전술한 바와 같은 종래의 질소산화물을 포함하는 유해가스의 처리상의 문제점에 착안하여 제안된 것으로서, 구조가 간단하면서도 질소산화물의 처리과정에서 생성되는 질산을 효과적으로 회수함으로써 유해가스를 높은 효율로 처리할 수 있는 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템을 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of conventional noxious gas-containing noxious gas treatment as described above, and it is an object of the present invention to provide a noxious gas- And a nitric acid recycle type nitrogen oxide-containing noxious gas treatment system which can be treated.

본 발명의 제1 특징에 따르면, 하부에 제1가스공급구(5)가 형성되고 상단에 가스배출구(2)가 형성된 처리조(1)와, 상기 처리조(1)의 내부 하부에 형성되며 서로 구획되는 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16) 및 안정화제액회수부(17)를 포함하는 수집부(10)와; 상기 제1가스공급구(5) 상부에 배치되며 안정화제액회수부(17)에 개방되는 기액접촉충전재층(46)과, 상기 안정화제액회수부(17)에 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(46)에 질소산화물 이외의 성분을 주로 중화시키는 안정화제를 분사하는 안정화제분사노즐(47)을 포함하는 접촉안정화부(11)와; 상기 접촉안정화부(11)의 상부에 배치되며 접촉안정화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치되는 기액접촉충전재층(18)과 상기 산화제액회수부(15)에 배관연결되며 이 기액접촉충전재층(18)에 산화제를 분사하는 산화제분사노즐(23)을 포함하는 접촉산화부(12)와; 상기 접촉산화부(12)의 상부에 배치되며 접촉산화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치된 기액접촉충전재층(34)과 상기 환원제액회수부(16)와 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(34)에 환원제를 분사하는 환원제분사노즐(36)을 포함하는 접촉환원부(14)와; 상기 접촉안정화부(11)와 접촉산화부(12) 사이 및 상기 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에 배치되며 상승하는 피처리가스를 확산시키고 낙하되는 산화제액와 환원제액을 바이패스관(45,35)을 통해 각각 상기 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16)로 유도하는 확산분리부(67,37)와; 상기 산화제액회수부(15)의 저부에 질산회수관(48)을 통해 연결되는 질산회수탱크(49)를 포함하는 것을 특징으로 하는 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템이 제공된다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a process container comprising: a process tank (1) having a first gas supply port (5) formed at a lower portion thereof and a gas discharge port (2) formed at an upper end thereof; A collecting part (10) including an oxidant solution collecting part (15), a reducing solution collecting part (16) and a stabilizing solution collecting part (17) partitioned from each other; A gas-liquid contact filler layer 46 disposed on the first gas supply port 5 and opened to the stabilizer removers 17 and a gas-liquid contact filler layer 46 connected to the stabilizer removers 17, And a stabilizing agent spraying nozzle (47) for spraying a stabilizing agent which mainly neutralizes components other than nitrogen oxides in the spraying nozzles (46); A gas-liquid contact filler layer 18 disposed above the contact stabilizing part 11 and arranged to pass a gas to be treated through the contact stabilizing part 11 and a gas-liquid contact filler layer 18 connected to the oxidizing agent solution returning part 15, A contact oxidation part (12) including an oxidant spray nozzle (23) for spraying an oxidant to the contact filler layer (18); A gas-liquid contact filler layer 34 disposed above the contact oxidation part 12 and arranged to allow a gas to be processed to pass through the contact oxidation part 11 to pass therethrough and a reducing agent solution collecting part 16, A contact reducing part (14) including a reducing agent spraying nozzle (36) for spraying a reducing agent onto the contact filler layer (34); The oxidizing agent solution and the reducing agent solution, which are disposed between the contact stabilizing part 11 and the contact oxidizing part 12 and between the contact oxidizing part 12 and the contact reducing part 14, Diffusion dividing sections (67, 37) for guiding the oxidant to the oxidant solution collecting section (15) and the reducing solution collecting section (16) through the path tubes (45, 35); And a nitric acid recovery tank (49) connected to the bottom of the oxidant solution recovery unit (15) through a nitric acid recovery pipe (48).

본 발명의 제2 특징에 따르면, 상기 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에는, 상기 접촉산화부(12)를 거쳐 상승하는 피처리가스가 통과되며 알루미나촉매가 충전된 촉매재층(20)과 이 촉매재층(20)의 상부에서 배치되어 산화제액 또는 수세액을 분사하는 산화제/수세분사노즐(24)을 포함하는 촉매산화부(13)가 상기 확산분리부(37)와 또 다른 확산분리부(27)를 매개로 더 구비되는 것을 특징으로 하는 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템이 제공된다.According to a second aspect of the present invention, a catalyst material layer, through which a gas to be treated, which ascends via the contact oxidation part (12), passes between the catalytic oxidation part (12) and the catalytic reduction part (14) The catalytic oxidizing section 13 including the oxidizing agent / water spray nozzle 24 disposed above the catalyst material layer 20 and injecting the oxidant liquid or the washing liquid is supplied to the diffusion separator 37 and the A nitrogen oxide-containing noxious gas treatment system is further provided, which is further provided with another diffusion separator (27).

본 발명의 제3 특징에 따르면, 하부에 처리할 유해가스가 공급되는 가스공급구(75)가 형성되고 상단에 전처리된 유해가스가 배출되는 가스배출구(76)가 형성된 전처리조(3)와, 하부에 상기 전처리조(3)의 가스배출구(76)에 연결되는 가스연결구(5a)가 형성되고 상단에는 처리된 가스가 배출되는 가스배출구(2a)가 형성되는 메인처리조(4)를 포함하고;According to a third aspect of the present invention, there is provided a gas purifying apparatus comprising: a pretreatment tank (3) having a gas supply port (75) through which a noxious gas to be treated is supplied and a gas discharge port (76) And a main processing vessel 4 having a gas connection port 5a connected to the gas discharge port 76 of the pretreatment tank 3 and formed with a gas discharge port 2a through which the processed gas is discharged, ;

상기 전처리조(3)의 내부에는 전처리조(3)의 하부에 형성되는 안정화제액회수부(17)와, 상기 가스공급구(75)의 상부에 배치되며 안정화제회수부(16)에 개방되는 기액접촉충전재충(46)과, 상기 안정화제액회수부(17)에 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(46)에 질소산화물 이외의 성분을 주로 중화시키는 안정화제를 분사하는 안정화제분사노즐(47)을 포함하는 접촉안정화부(11)가 형성되고;Inside the pretreatment tank 3, there is provided a stabilizer remover 17 formed at the lower part of the pretreatment tank 3 and a stabilizer remover 17 disposed at the upper part of the gas supply port 75 and opened to the stabilizer recovery part 16 Liquid contact filler filler 46 and stabilizer spray nozzles 47 connected to the stabilizer remover 17 for spraying a stabilizer that neutralizes components other than nitrogen oxides in the gas-liquid contact filler layer 46 A contact stabilizing portion 11 is formed;

상기 메인처리조(4)에는 그 하부에 형성되며 서로 구획되는 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16)를 포함하는 수집부(10)와; 상기 가스연결구(5a)의 상부에 배치되며 전처리조(3)의 접촉안정화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치되는 기액접촉충전재층(18)과 상기 산화제액회수부(15)에 배관연결되며 이 기액접촉충전재층(18)에 산화제를 분사하는 산화제분사노즐(23)을 포함하는 접촉산화부(12)와; 상기 접촉산화부(12)의 상부에 배치되며 접촉산화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치된 기액접촉충전재층(34)과 상기 환원제액회수부(16)와 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(34)에 환원제를 분사하는 환원제분사노즐(36)을 포함하는 접촉환원부(14)와; 상기 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에 배치되며 상승하는 피처리가스를 확산시키고 낙하되는 산화제액와 환원제액을 바이패스관(35)을 통해 상기 환원제액회수부(16)로 유도하는 확산분리부(37)와; 상기 산화제액회수부(15)의 저부에 질산회수관(48)을 통해 연결되는 질산회수탱크(49)를 포함하는 것을 특징으로 하는 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템이 제공된다. A collecting part 10 formed at the lower part of the main treatment tank 4 and including an oxidant solution collecting part 15 and a reducing solution collecting part 16; A gas-liquid contact filler layer 18 disposed above the gas connection port 5a and arranged to pass a gas to be treated through the contact stabilizing portion 11 of the pretreatment tank 3, A contact oxidation part (12) piped and connected to the gas-liquid contact filler layer (18), and an oxidant spray nozzle (23) for spraying an oxidant to the gas-liquid contact filler layer (18); A gas-liquid contact filler layer 34 disposed above the contact oxidation part 12 and arranged to allow a gas to be processed to pass through the contact oxidation part 11 to pass therethrough and a reducing agent solution collecting part 16, A contact reducing part (14) including a reducing agent spraying nozzle (36) for spraying a reducing agent onto the contact filler layer (34); The oxidizing agent liquid and the reducing agent solution which are disposed between the contact oxidizing unit 12 and the contact reducing unit 14 and diffuse the rising process gas are dropped to the reducing solution collecting unit 16 through the bypass pipe 35 A diffusion separator (37) for guiding the ions; And a nitric acid recovery tank (49) connected to the bottom of the oxidant solution recovery unit (15) through a nitric acid recovery pipe (48).

본 발명에 따르면, 질소산화물을 포함하는 유해가스를 처리함에 있어서, 처리조의 내부 하부를 산화제액회수부(15)와, 환원제액회수부(16) 및 안정화제액회수부(17)로 구획하고, 제1가스공급부(5)로 유입된 유해가스 중에서 질소산화물 이의 성분을 주로 중화처리하는 접촉안정화부(11)를 통과시켜서 중화처리하여 안정화제액회수부(11)에서 수집하고 안정화제액은 다시 안정화제액분사노즐(47)로 복귀시켜 재사용하고, 접촉안정화부(11)를 통과한 피처리가스는 접촉산화부(12)를 통과시키면서 질소산화물을 중심으로 산화시키고 이때 낙하되는 산화제액과 산화반응 생성물은 바이패스관(45)을 통해 산화제액회수부(15)에서 수집하여 산화제액은 산화제액분사노즐(23)로 복귀시켜서 재사용하고, 이 산화제액회수부(15)에서 생생성된 생성물중에서 상대적으로 비중이 높은 질산은 비중차에 분리하여 별도의 질산회수라인을 통해 분리회수함으로써, 배출되는 처리수의 질산의 농도를 낮추어서 오염도를 줄이면서도 질산은 다른 용도로 사용할 수 있어서 친환경적이고 경제적이다. 한편, 접촉산화부(12)를 통과한 피처리가스는 접촉환원부(14)를 통과하면서 환원반응을 통해 중화처리된 후에 상단의 가스배출구(2)를 통해 배출되고, 접촉환원부(14)에 분사된 환원제액이나 환원반응 생성물은 바이패스관(35)을 통해 환원제회수부(16)로 유도되어 환원제액은 재사용되고 환원반응 생성물은 주기적으로 분리제거된다.According to the present invention, when the noxious gas containing nitrogen oxides is treated, the inner lower part of the treatment tank is partitioned into the oxidizing agent recovery unit 15, the reducing agent recovery unit 16 and the stabilizing agent recovery unit 17, The neutralization treatment is performed by passing through the contact stabilizing part 11 mainly neutralizing the components of the nitrogen oxides in the noxious gas introduced into the first gas supplying part 5 and collected by the stabilizing solution collecting part 11, The gas to be treated which has passed through the contact stabilizing portion 11 is passed through the contact oxidizing portion 12 and oxidized around the nitrogen oxides. At this time, the oxidant solution and the oxidation reaction product falling down The oxidant liquid is collected by the oxidant liquid recovery unit 15 through the bypass pipe 45 and returned to the oxidant liquid spray nozzle 23 for reuse and the oxidant liquid is recovered from the product generated in the oxidant liquid recovery unit 15 relativelyBy being a high silver nitrate to remove the specific gravity difference separation and recovery of nitric acid, in a separate return line, it is possible by lowering the nitrate concentration in the treated water to be discharged while reducing the pollution level is available for other uses silver nitrate environmentally-friendly and economical. On the other hand, the gas to be treated which has passed through the contact oxidation part 12 is neutralized through the reduction reaction while passing through the contact reduction part 14, and then discharged through the gas discharge opening 2 at the upper part. The reducing agent solution or the reduction reaction product injected into the reducing agent recovery unit 16 is led to the reducing agent recovery unit 16 through the bypass pipe 35 so that the reducing agent solution is reused and the reduction reaction product is periodically separated and removed.

또한 본 발명에 따르면, 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에 알루미나촉매가 충전된 촉매재층(20)이 구비된 촉매산화부(13)가 확산분리부(37,27)를 매개로 더 구비되어, 접촉산화부(11)를 통과하면서도 산화되지 못한 나머지 유해가스를 알루미나의 촉매반응에 의해 더욱 산화시켜서 처리되지 않고 배출되는 유해가스를 최대한 억제할 수 있다.According to the present invention, the catalytic oxidation part 13 provided with the catalytic material layer 20 filled with the alumina catalyst between the catalytic oxidation part 12 and the catalytic reduction part 14 is divided into diffusion separation parts 37 and 27 The remaining noxious gas that has not been oxidized while passing through the contact oxidation part 11 is further oxidized by the catalytic reaction of alumina, so that the noxious gas discharged without being treated can be suppressed as much as possible.

또한 본 발명에 따르면, 유해가스의 성분 중에서 질소산화물 이외의 성분을 산화처리하는 접촉안정화부(11)를 별도로 구비되는 전처리조(3)에 구비하여 질소산화물 이외의 성분을 처리하고, 이후의 산화처리 및 환원처리과정은 메인처리조(4)에서 수행함으로써, 처리설비의 설치여건에 따라 처리조를 전처리조(3)와 메인처리조(5)로 분리하여 유해가스처리후에 생성되는 처리수에 포함된 질산을 효과적으로 분리하여 활용하고, 배출되는 처리수의 오염도를 낮출 수 있다.
According to the present invention, a pretreatment vessel (3) provided separately with a contact stabilizing part (11) for oxidizing components other than nitrogen oxides among the components of the noxious gas is provided to treat components other than nitrogen oxides, The treatment and reduction process is performed in the main treatment tank 4 so that the treatment tank is separated into the pretreatment tank 3 and the main treatment tank 5 according to the installation conditions of the treatment facility, The contained nitric acid can be effectively separated and utilized, and the pollution degree of the discharged treated water can be lowered.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예의 구성도
도 2는 본 발명의 다른 실시예의 구성도
도 3은 본 발명의 다른 실시예의 구성도1 is a block diagram of a preferred embodiment of the present invention;
2 is a block diagram of another embodiment of the present invention
3 is a block diagram of another embodiment of the present invention

이하에서 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 개략구성도이다. 도시된 바와 같이 본 발명에 따르면, 하부에 유해가스나 배출가스 등의 피처리가스가 공급되는 제1가스공급부(5)가 형성되고 상단에는 유해물질이 제거된 처리가스가 배출되는 가스배출구(2)가 형성된 처리조(1)가 구비된다. 이 처리조(1)의 내부 하단은 상부에서 바이패스관(45)을 통해 흘러내린 산화제액과 산화반응 생성물이 함께 수집되는 산화제액회수부(15)와, 상부에서 바이패스관(35)을 통해 흘러내린 환원제액과 환원반응 생성물이 함께 수집되는 환원제액회수부(16) 및 상부에서 직접 흘러내린 안정화제액과 그 반응생성물이 함께 수집되는 안정화제액회수부(17)로 이루어진 수집부(10)가 형성된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic block diagram of an apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown in the figure, according to the present invention, a first gas supply unit 5 for supplying a gas to be treated such as a harmful gas or an exhaust gas is formed in a lower part, and a gas discharge port 2 ) Is formed in the processing tank 1. An inner lower end of the treatment tank 1 is provided with an oxidant solution collecting part 15 for collecting the oxidant solution and the oxidation reaction product flowing down through the bypass pipe 45 from the upper part, (10) comprising a reducing agent solution collecting part (16) collecting the reducing agent solution and a reduction reaction product flowing through the upper part and a stabilizing agent collecting part (17) collecting together the stabilizing agent solution and the reaction product, .

그리고 상기 수집부(10)의 상부에는 아래로부터 위쪽으로 순차적으로 접촉안정화부(11), 접촉산화부(12), 촉매산화부(13)와 접촉환원부(14)가 배치된다. 그리고 이들 접촉안정화부(11), 접촉산화부(12), 촉매산화부(13) 및 접촉환원부(14)의 사이에는 각각 확산분리부(67,27,37)가 배치된다.The contact stabilizing portion 11, the contact oxidizing portion 12, the catalytic oxidizing portion 13, and the contact reducing portion 14 are sequentially disposed on the upper portion of the collecting portion 10 from below to above. Diffusion separators 67, 27, and 37 are disposed between the contact stabilizing portion 11, the contact oxidizing portion 12, the catalytic oxidizing portion 13, and the contact reducing portion 14, respectively.

상기 산화제액회수부(15), 환원제액회수부(16) 및 안정화제액회수부(17)에는 각각 유입된 유해가스와 반응하여 중화시키는 산화제, 환원제 및 안정화액(중화제)를 공급하는 공급라인(55,56,57)이 연결된다. 그리고 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16)에는 각각 pH측정기(9)와 산화환원전위측정기(19)가 설치되어 투입되는 산화제와 산화보조제 또는 환원제와 환원보조제의 양을 조절하게 된다. The oxidant solution collecting unit 15, the reducing agent collecting unit 16 and the stabilizing solution collecting unit 17 are connected to a supply line (not shown) for supplying an oxidizing agent, a reducing agent and a stabilizing liquid 55, 56 and 57 are connected. A pH meter 9 and an oxidation-reduction potential meter 19 are provided in the oxidizer-solution collecting section 15 and the reducing agent-solution collecting section 16 to adjust the amount of the oxidizing agent, the oxidizing auxiliary agent or the reducing agent and the reducing auxiliary agent do.

외부에서 처리할 유해가스가 공급되는 제1가스공급부(5)가 처리조(1)의 하부 수집부(10)의 상부 일측에 연결된다. 그리고 이 제1가스공급부(5)의 상부에는 본 발명에 따른 접촉안정화부(11)가 배치된다. 이 접촉안정화부(11)는 피처리가스가 상승하며 통과되는 기액접촉충전재층(46)과, 이 기액접촉충전재층(46)의 상부에 배치되는 안정화제분사노즐(47)을 포함한다.The first gas supply unit 5 to which the noxious gas to be externally processed is supplied is connected to one side of the upper part of the lower collecting unit 10 of the treatment tank 1. The contact stabilizing part 11 according to the present invention is disposed above the first gas supplying part 5. The contact stabilizing portion 11 includes a gas-liquid contact filler layer 46 through which a gas to be treated is raised and a stabilizer spray nozzle 47 disposed on the gas-liquid contact filler layer 46.

상기 기액접촉충전재층(46)에는 Tellerette와 같이 피처리가스와 처리약제가 충분히 접촉하여 반응할 수 있도록 하는 다공성물질이 충전된다. 또한, 안정화제란 유해가스에 포함된 성분 중에서 질소산화물 이외의 성분들과 주로 반응하는 산화제 또는 중화제를 지칭하며 바람직하게는 NaOH를 사용한다. 이에 따라 피처리가스가 접촉안정화부(11)를 지나면서 질소산화물 이외의 성분들이 안정화제와 반응하여 중화된 생성물이 안정화제와 함께 처리조(1) 하부의 안정화액회수부(17)로 낙하된다. 이 중에서 안정화액은 다시 안정화제분사노즐(47)로 리턴되어 재사용되고, 반응생성물들은 주기적으로 외부로 배출되어 제거된다.The gas-liquid contact filler layer 46 is filled with a porous material, such as a tetherette, which allows the target gas and the treating agent to sufficiently contact each other and react. In addition, the stabilizer refers to an oxidizing agent or a neutralizing agent that mainly reacts with components other than nitrogen oxides among components contained in the harmful gas, and preferably NaOH is used. As a result, when the gas to be treated passes through the contact stabilizing portion 11, components other than nitrogen oxides react with the stabilizing agent, and the neutralized product is dropped together with the stabilizing agent into the stabilizing solution collecting portion 17 below the treating tank 1 do. Among them, the stabilizing liquid is returned to the stabilizing agent spraying nozzle 47 and reused, and the reaction products are periodically discharged to the outside and removed.

접촉안정화부(11)를 통과하여 상부로 흐르는 피처리가스는 확산분리부(67)를 거쳐 상부의 접촉산화부(12)로 흐른다. 확산분리부(67)는 처리조(1)의 내벽과 이격되도록 배치되며 중앙배출구(29)는 수집관(33)에 연결되는 호퍼부(28)와, 이 호퍼부(28)의 상부에 이격배치되며 처리조(11)의 내벽과 호퍼부(28) 사이에 형성된 통로를 덮는 링형상판(30)과, 이 링형상판(30)의 상부에 배치되는 원판형상의 확산타공판(31)을 포함한다. 그리고 호퍼부(28)의 하부에도 확산타공판(32)이 배치된다. 그리고 상기 호퍼부(28)의 배출단에 연결되는 바이패스관(45)이 수집조(10)의 산화제액회수부(15)로 하향연장된다. The gas to be treated which flows through the contact stabilizing portion 11 and flows upward flows through the diffusion separating portion 67 to the contact oxidation portion 12 in the upper portion. The diffusion separator 67 is disposed to be spaced apart from the inner wall of the treatment tank 1 and the central outlet 29 is connected to the collecting pipe 33 and a hopper portion 28, Shaped top plate 30 which covers the passage formed between the inner wall of the treatment tank 11 and the hopper portion 28 and a diffusive perforated plate 31 of circular plate shape disposed on the top of the ring top plate 30 . A diffusion perforated plate 32 is also disposed under the hopper portion 28. The bypass pipe 45 connected to the discharge end of the hopper unit 28 extends downward to the oxidant solution collecting unit 15 of the collecting tank 10.

이러한 확산분리부(67)는 상부의 접촉산화부(12)에서 낙하되는 물질이 하부의 접촉안정화부(11)와 격리되도록 하강시켜서 반응적으로는 서로 분리하면서도 하부에서 상부로 상승하는 피처리가스가 균일하게 확산되면서 상승되도록 한다. 한편, 안정화제분사노즐(47)의 상부에는 데미스터(22)가 배치된다. 이 데미스터(22)는 안정화제가 포함된 액적이 비산하여 그 상부로 유입되는 것을 방지한다. The diffusion separator 67 separates the lower part of the contact stabilizing part 11 from the upper part of the contact oxidation part 12, So that it is uniformly diffused. On the other hand, a demister (22) is disposed above the stabilizer spray nozzle (47). This demister 22 prevents the droplet containing the stabilizer from scattering and flowing into the upper portion thereof.

확산분리부(67)의 상부에는 접촉산화부(12)가 배치된다. 이 접촉산화부(12)는 하부의 접촉안정화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치되는 기액접촉충전재층(18)과, 상기 산화제액회수부(15)에 배관연결되며 이 기액접촉충전재층(18)에 산화제를 분사하는 산화제분사노즐(23)이 구비된다. 산화제분사노즐(23)에서 분사된 산화제가 피처리가스의 유해성분 중에서 높은 비율을 차지하는 일산화질소(NO)나 이산화질소(NO2)와 산화반응하여 이들을 이산화질소(NO2)나 질산(HNO3)으로 변화시키고, 생성된 기체상태의 이산화질소(NO2)는 상승하고, 액상의 질산(HNO3)은 반응되지 않은 산화제액과 함께 바이패스관(45)을 통해 산화제액회수부(15)로 흘러내린다. 그리고 상대적으로 비중이 큰 질산은 수집조(10)의 하부에 저류되어 질산회수관(48)을 통해 주기적으로 질소회수탱크(49)로 수집된다.The contact oxidation portion 12 is disposed on the diffusion separating portion 67. The contact oxidation unit 12 includes a gas-liquid contact filler layer 18 disposed so as to pass a gas to be treated through the lower contact stabilizing unit 11 and a gas-liquid contact filler layer 18 connected to the oxidizer- An oxidant spray nozzle 23 for spraying an oxidant onto the filler layer 18 is provided. The oxidizing agent injected from the oxidizing agent injection nozzle 23 is oxidized with the nitrogen monoxide NO or the nitrogen dioxide NO 2 which occupies a high proportion of the harmful components of the gas to be treated and the oxidizing agent is oxidized with the nitrogen dioxide NO 2 or the nitric acid HNO 3 The produced gaseous nitrogen dioxide (NO 2 ) rises, and the liquid nitric acid (HNO 3 ) flows along with the unreacted oxidant solution through the bypass pipe 45 to the oxidizing agent recovery part 15 . The relatively heavy nitric acid is collected in the lower portion of the collecting tank 10 and collected into the nitrogen recovery tank 49 through the nitrate recovery pipe 48 periodically.

그리고 접촉산화부(12)의 상부에는 또 다른 확산분리부(27)가 이 확산분리부(27)의 구조는 하부에 배치되는 확산분리부(67)와 대동소이하다. 이 확산분리부(27)의 호퍼부(28)에는 분사된 세척수나 산화제를 회수하는 회수관(33)이 연결된다. Further, another diffusive separating portion 27 is disposed above the contact oxidizing portion 12, and the diffusing separating portion 27 has a structure similar to that of the diffusing separating portion 67 disposed below. The hopper portion 28 of the diffusion separation portion 27 is connected to a recovery pipe 33 for recovering the sprayed washing water or the oxidizing agent.

이 확산분리부(27)는 유해가스를 처리하는 작동모드에서는 상승하여 흐르는 피처리가스가 확산타공판(32)과 확산타공판(31)에 충돌하여 국부적으로 흐르지 않고 넓게 확산되어, 그 상부에 배치되는 촉매재층(20)과 국부적으로 접촉되지 않고 골고루 접촉되도록 한다. 또한 촉매재층(20)을 재생하는 촉매 재생모드에서는 살포된 세척수나 산화제액을 호퍼부(28)에서 회수관(33)을 통해 수집하여 순환시키거나 배출하게 된다.In the operation mode for treating the noxious gas, the gas to be treated which flows upwardly diffuses the diffused perforated plate 32 and the diffused perforated plate 31 so as not to flow locally but to diffuse widely, So as to make uniform contact with the catalyst material layer 20 without being locally contacted. In the catalyst regeneration mode in which the catalyst material layer 20 is regenerated, the sprayed washing water or oxidant liquid is collected from the hopper 28 through the recovery pipe 33 and circulated or discharged.

이러한 구조에 따라 제1가스공급부(5)를 통해 공급된 유해가스 중에서 일산화질소와 같이 환원처리에 앞서 산화처리를 요하는 피처리가스가 접촉산화부(12)의 기액접촉충전재층(16)을 상향하여 통과하면서 산화제분사노즐(23)에서 살포되어 중력에 의해 하강하는 산화제액과 대향류로서 충돌하면서 활발하게 접촉되어 산화처리된다. 그리고 기액접촉충전재층(16)을 통과한 피처리가스는 확산분리부(27)의 확산타공판(32)과 호퍼부(28) 및 링형상판(30) 및 확산타공판(31)을 거치면서 더욱 골고루 확산되어 상부의 촉매산화부(13)로 도입된다.According to this structure, in the noxious gas supplied through the first gas supply part 5, the gas to be treated which requires oxidation treatment prior to the reduction treatment such as the nitrogen monoxide is supplied to the gas-liquid contact filler layer 16 of the contact oxidation part 12 Is passed through upward and passes through the oxidizing agent spraying nozzle 23 and is actively contacted with the oxidizing liquid descending by the gravity while being in collision as a counter flow and oxidized. The gas to be treated which has passed through the gas-liquid contact filler layer 16 passes through the diffusion perforated plate 32 of the diffusion separating portion 27, the hopper portion 28, the ring-shaped upper plate 30 and the diffusion perforated plate 31, Is diffused and introduced into the upper catalytic oxidation part (13).

촉매산화부(13)에는 흡착재로 기능하면서 산화반응을 촉진하는 알루미나 또는 활성알루미나와 같은 촉매가 충전되는 촉매재층(20)이 구비되고, 촉매재층(20)의 상부에는 수세재생노즐(24)이 구비되고 하부에는 건조공기공급부(25)가 접속된다. 이 수세재생노즐(24)은 배관(56)을 거쳐 시수탱크(54)에 연결된다. 이 시수탱크(54) 이외에도 산화제탱크(51), 환원제탱크(52) 및 보조제탱크(53)가 더 구비되고 이들 탱크들은 배관(55)에 의해 상호 연결되고, 또 다른 배관(57)을 통해 처리조(1)의 회수부(10)로 연결된다.The catalytic oxidation part 13 is provided with a catalytic material layer 20 which functions as an adsorbent and catalyzes a catalyst such as alumina or activated alumina which accelerates the oxidation reaction and the water retention regeneration nozzle 24 is provided on the catalytic material layer 20 And a dry air supply unit 25 is connected to the lower part. The water reclaiming nozzle 24 is connected to the seawater tank 54 via a pipe 56. In addition to the water tank 54, there are further provided an oxidizer tank 51, a reducing agent tank 52 and an auxiliary tank 53. These tanks are interconnected by a pipe 55, And is connected to the recovery unit 10 of the bath 1.

촉매산화부(13)의 촉매재층(20)에는 산화제탱크(51)로부터 공급되는 산화제액을 미리 함침시켜서, 피처리가스를 통과시키면서 흡착시켜 산화처리를 행한다. 그리고 장시간의 사용에 의해 촉매재에 유해가스 성분이 충분히 흡착되면, 수세재생노즐(24)을 이용하여 시수탱크(54)로부터 공급되는 세척수를 적어도 2회 분사하여 촉매재를 세척하고, 이어서 건조공기공급부(25)로부터 더운 건조공기를 공급하여 촉매재를 건조시킨 후에, 산화제탱크(51)나 보조제탱크(53)로부터 산화제와 보조제를 시수와 적당비율로 혼합한 산화제액을 수세재생노즐(24)로 분사함으로써 촉매제를 재생한다. 이에 따라 촉매산화부(13)의 촉매작용에 의해 촉진된 산화처리를 반복적으로 행할 수 있다. 이 촉매산화부(13)는 산화반응속도가 상대적으로 늦어서 전술한 접촉산화부(12)를 거치지면서 완전히 산화되지 않은 유해가스를 완전히 산화시킨다.The oxidant solution supplied from the oxidant tank 51 is impregnated in advance into the catalyst material layer 20 of the catalytic oxidizing section 13 and adsorbed while passing the gas to be treated to carry out oxidation treatment. When the noxious gas component is sufficiently adsorbed to the catalyst material by the use for a long time, the washing water supplied from the seawater tank 54 is sprayed at least twice by using the washing / regeneration nozzle 24 to clean the catalyst material, The oxidizing agent liquid obtained by mixing the oxidizing agent and the auxiliary agent in a suitable ratio with the water is supplied from the oxidizing agent tank 51 and the auxiliary agent tank 53 to the water washing regeneration nozzle 24, To regenerate the catalyst. Thus, the oxidation treatment promoted by the catalytic action of the catalytic oxidation section 13 can be repeatedly performed. The catalytic oxidation part 13 is relatively slow in the oxidation reaction rate, and completely oxidizes the noxious gas which has not completely oxidized by passing through the contact oxidation part 12 described above.

상기 흡착산화부(13)의 상부에는 제2가스공급부(6)가 배치된다. 이 제2가스공급부(6)는 처리를 위해 산화반응을 요하지 않고 환원반응만 요하는 피처리가스를 처리하는 경우에 접촉산화부(12)와 촉매산화부(13)를 거치지 않고 곧바로 접촉환원부(13)를 통과시켜서 유해가스를 처리하기 위해 사용된다.A second gas supply unit 6 is disposed above the adsorption oxidation unit 13. The second gas supply unit 6 is provided with a catalytic oxidation unit 12 and a catalytic oxidation unit 13, which do not require an oxidation reaction for processing but are subjected to a reduction reaction, (13) so as to treat the noxious gas.

촉매산화부(13) 또는 제2가스공급부(6)의 상부에는 확산분리부(37)가 배치된다. 이 확산분리부(37)는 처리조(1)의 내벽과 이격되도록 배치되는 호퍼부(38)를 포함한다. 이 호퍼부(38)의 중앙배출구(39)는 처리조(1)의 일측으로 연장되는 바이패스관로(35)를 통해 처리조(1) 하단 일측의 환원제액회수부(16)로 연결된다. 그리고 이 호퍼부(38)의 상부에는 처리조(1)의 내벽과 호퍼부(38) 둘레부 사이의 통로를 덮는 링형상판(42)이 배치되고, 그 위에는 확산타공판(43)이 배치된다. 그리고 호퍼부(38)의 아래에는 또 다른 확산타공판(44)이 구비된다. 이러한 구조에 따라 상승되는 피처리가스는 확산타공판(44)과 확산타공판(43)에 충돌하면서 그 흐름이 국부적으로 흐르지 않고 넓게 확산되어 기액접촉충전재층(34)이나 촉매재층(20)의 넓은 면적을 상승통과하면서 하강하는 환원제와 원활하게 충돌, 접촉되므로 환원이나 환원반응의 효율이 증대된다. 아울러 호퍼부(38)의 둘레부로 흐른 피처리가스가 링형상판(42)에 의해 차단되어 내향하여 흐르게 되고, 상부의 기액접촉충전재층(34)을 거친 환원제액이 확산타공판(43)과 링형상판(42)을 거쳐서 낙하되면서 내향하는 피처리가스와 서로 교차하는 방향으로 흘러서 충돌하므로, 피처리가스와 훤원제액과의 접촉이 빈틈없이 이루어져서 환원효율이 더욱 높아진다.The diffusion separator 37 is disposed above the catalytic oxidizing unit 13 or the second gas supply unit 6. The diffusion separation section 37 includes a hopper section 38 disposed so as to be spaced from the inner wall of the treatment tank 1. The central outlet 39 of the hopper portion 38 is connected to the reducing solution collecting portion 16 on the lower side of the lower portion of the treatment tank 1 through the bypass pipe 35 extending to one side of the treatment tank 1. A ring-shaped upper plate 42 for covering the passage between the inner wall of the treatment tank 1 and the periphery of the hopper portion 38 is disposed above the hopper portion 38 and a diffusion perforated plate 43 is disposed thereon. Under the hopper portion 38, another diffusion perforated plate 44 is provided. The gas to be raised according to this structure collides with the diffusing perforated plate 44 and the diffusing perforated plate 43 so that the flow does not locally flow but diffuses widely so that a large area of the gas-liquid contact filler layer 34 or the catalyst material layer 20 And the reducing agent is brought into contact with the reducing agent smoothly, so that the efficiency of the reduction or reduction reaction is increased. The target gas flowing into the periphery of the hopper portion 38 is blocked by the ring-shaped top plate 42 and flows toward the inside so that the reducing agent solution passing through the upper gas-liquid contact filler layer 34 passes through the diffusion perforated plate 43 and the ring- And flows in the direction intersecting with the target gas to be inwardly falling while colliding with the gas to be treated, so that the contact between the gas to be treated and the coolant solution can be made without contact.

한편, 확산분리부(37)의 상부의 접촉환원부(13)에는 기액접촉충전재가 충전된 기액접촉충전재층(34)이 수평배치되고, 그 상부에는 처리조(1) 저면의 환원제액회수부(15)와 배관(59)에 의해 연결되는 환원제분사노즐(36)이 배치된다. 이러한 환원제분사노즐(36)을 통해 환원제 및 환원보조약제가 혼합된 환원성 흡수액이 살포되어 피처리가스를 환원반응으로 중화 또는 무해화시키게 된다. 그리고 환원제분사노즐(36)의 상부에는 데미스터(7)가 배치되어 최종적으로 피처리가스에 함유된 수분을 제거한 후에 배출구(2)를 통해 배출된다.On the other hand, the gas-liquid contact filler layer 34 filled with the gas-liquid contact filler is horizontally disposed in the contact reducing part 13 on the upper part of the diffusion separating part 37, A reducing agent spraying nozzle 36 connected by the pipe 15 and the pipe 59 is disposed. The reducing absorbing liquid mixed with the reducing agent and the reducing auxiliary agent is sprayed through the reducing agent spraying nozzle 36 to neutralize or harmless the target gas by the reduction reaction. A demister (7) is disposed on the upper part of the reducing agent injection nozzle (36), and finally the moisture contained in the target gas is removed and then discharged through the discharge port (2).

도 2는 본 발명의 다른 실시예를 보여준다. 본 실시예는 상기 실시예에서 촉매산화부(13)를 생략한 것이다. 촉매산화부(13)를 생략하는 것은, 접촉산화부(12)만으로도 어느 정도의 처리효율을 달성할 수 있어서, 설계조건에 따라서는 촉매산화부(13)를 생략할 수 있기 때문이다. Figure 2 shows another embodiment of the present invention. In this embodiment, the catalyst oxidizing unit 13 is omitted in the above embodiment. The reason for omitting the catalytic oxidation section 13 is that the catalytic oxidation section 13 can be omitted depending on the design conditions since the catalytic oxidation section 12 alone can achieve a certain processing efficiency.

도 3은 본 발명의 또 다른 실시예로서, 상기 제1 실시예와 사실상 동일하고 다른 점은 처리조를 전처리조(3)와 메인처리조(4)로 분리하여, 유해가스의 성분 중에서 질소산화물 이외의 성분을 산화처리하는 접촉안정화부(11)를 분리하여 별도로 구비되는 전처리조(3)에 배치하고, 나머지 처리공정은 메인처리조(4)에 배치한 것이다.FIG. 3 shows another embodiment of the present invention, which is substantially the same as the first embodiment, except that the treatment tank is separated into a pretreatment tank 3 and a main treatment tank 4, The contact stabilizing part 11 for oxidizing the other components is separated and disposed in a separately provided pretreatment tank 3 and the remaining treatment steps are disposed in the main treatment tank 4.

구체적으로는, 전처리조(3)의 하부에는 처리할 유해가스가 공급되는 가스공급구(75)를 형성하고, 전처리조(3)의 상단에 전처리된 유해가스가 배출되는 가스배출구(76)가 형성된다. 그리고 이 전처리조(3)의 가스배출구(76)는 메인처리조(4)의 하부의 가스연결구(5a)에 접속된다. 그리고 이 메인처리조(4)의 상단에는 가스배출구(2a)가 형성된다.Specifically, a gas supply port 75 for supplying noxious gas to be treated is formed in the lower portion of the pretreatment tank 3, and a gas discharge port 76 for discharging the pretreated noxious gas is formed at the upper end of the pretreatment tank 3 . The gas discharge port 76 of the pretreatment tank 3 is connected to the gas connection port 5a at the lower part of the main treatment tank 4. At the upper end of the main treatment tank 4, a gas outlet 2a is formed.

상기 전처리조(3)의 하부에 안정화제액회수부(17)가 형성되고, 상기 가스공급구(75)의 상부에 배치되며 안정화제회수부(17)에 개방되는 기액접촉충전재충(46)이 구비된다. 그리고 안정화제액회수부(17)에 배관연결되며 기액접촉충전재층(46)에 질소산화물 이외의 성분을 주로 중화시키는 안정화제를 분사하는 안정화제분사노즐(47)이 구비된다. 여기서 안정화제는 NaOH와 같이 질소산화물과 잘 반응하지 않는 산화제이다A stabilizer remover 17 is formed in a lower portion of the pretreatment tank 3 and a gas-liquid contact filler 46 disposed above the gas supply port 75 and opened to the stabilizer recovery unit 17 Respectively. And a stabilizing agent spraying nozzle 47 connected to the stabilizing solution collecting part 17 for spraying a stabilizing agent which is mainly connected to the gas-liquid contact filler layer 46 to neutralize components other than nitrogen oxides. Stabilizers are oxidants that do not react well with nitrogen oxides like NaOH

전처리조(3) 상단의 가스배출구(76)는 메인처리조(4)의 하부의 가스연결구(5a)와 접속된다. 이 메인처리조(4)의 하부 수집부(10)는 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16)가 서로 구획되어 구비된다. 그리고 상기 가스연결구(5a)의 상부에는 전처리조(3)의 접촉안정화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되는 기액접촉충전재층(18)과 상기 산화제액회수부(15)에 배관연결되며 이 기액접촉충전재층(18)에 산화제를 분사하는 산화제분사노즐(23)을 포함하는 접촉산화부(12)가 구비된다, 그리고 상기 접촉산화부(12)의 상부에는 접촉산화부(12)를 거친 피처리가스가 통과되는 기액접촉충전재층(34)과 상기 환원제액회수부(16)와 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(34)에 환원제를 분사하는 환원제분사노즐(36)을 포함하는 접촉환원부(14)가 배치된다. 그리고 상기 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에 배치되며 상승하는 피처리가스를 확산시키고 낙하되는 산화제액와 환원제액을 바이패스관(35)을 통해 상기 환원제액회수부(16)로 유도하는 확산분리부(37)가 배치된다. 그리고, 산화제액회수부(15)에서 질산회수관(48)을 통해 질산회수탱크(49)로 연결되어, 산화제액회수부(15)에 포함된 질산이 주기적으로 질산회수탱크(49)로 회수되는 것은 전술한 실시예와 동일하다.The gas discharge port 76 at the upper end of the pretreatment tank 3 is connected to the gas connection port 5a at the lower portion of the main treatment tank 4. The lower collecting portion 10 of the main treatment tank 4 is provided with an oxidant solution collecting portion 15 and a reducing solution collecting portion 16 partitioned from each other. The upper part of the gas connection port 5a is connected to the gas-liquid contact filler layer 18 through which the gas to be treated passes through the contact stabilizing part 11 of the pretreatment tank 3 and the oxidant solution collecting part 15, And a contact oxidizing part 12 including an oxidizing agent injecting nozzle 23 for injecting an oxidizing agent into the gas-liquid contact filler layer 18. The contact oxidizing part 12 is provided on the contact oxidizing part 12 Liquid contact filler layer 34 through which a rough target gas is passed and a reducing agent injection nozzle 36 connected to the reducing agent remover 16 through a reducing agent spray nozzle 36 for spraying a reducing agent onto the gas- The reducing section 14 is disposed. The oxidizing agent liquid and the reducing agent solution, which are disposed between the contact oxidizing unit 12 and the contact reducing unit 14 and are diffused by the rising process gas, are supplied to the reducing solution collecting unit 16 through the bypass pipe 35, And a diffusion separating portion 37 for guiding the light to the light emitting portion. The nitric acid recovery tank 49 is connected to the nitric acid recovery tank 48 through the oxidant solution recovery unit 15 so that the nitric acid contained in the oxidant solution recovery unit 15 is periodically recovered into the nitric acid recovery tank 49 Is the same as the above-described embodiment.

이러한 구조에 따르면, 유해가스 처리시설의 현장여건에 따라, 처리조를 전처리조(3)와 메인처리조(4)로 분리 설치하면서도 유해가스 처리후에 생성되는 처리수에 포함된 질소를 효과적으로 분리하여 활용하고, 배출되는 처리수의 오염도를 낮출 수 있다.According to this structure, the nitrogen contained in the treated water generated after the harmful gas treatment is effectively separated, while the treatment tank is separated into the pretreatment tank 3 and the main treatment tank 4 according to the site conditions of the toxic gas treatment facility And the pollution degree of the treated water to be discharged can be lowered.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. It will be apparent to those of ordinary skill in the art.

Claims (3)

하부에 제1가스공급구(5)가 형성되고 상단에 가스배출구(2)가 형성된 처리조(1)와, 상기 처리조(1)의 내부 하부에 형성되며 서로 구획되는 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16) 및 안정화제액회수부(17)를 포함하는 수집부(10)와; 상기 제1가스공급구(5) 상부에 배치되며 안정화제액회수부(17)에 개방되는 기액접촉충전재층(46)과, 상기 안정화제액회수부(17)에 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(46)에 질소산화물 이외의 성분을 주로 중화시키는 안정화제를 분사하는 안정화제분사노즐(47)을 포함하는 접촉안정화부(11)와; 상기 접촉안정화부(11)의 상부에 배치되며 접촉안정화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치되는 기액접촉충전재층(18)과 상기 산화제액회수부(15)에 배관연결되며 이 기액접촉충전재층(18)에 산화제를 분사하는 산화제분사노즐(23)을 포함하는 접촉산화부(12)와; 상기 접촉산화부(12)의 상부에 배치되며 접촉산화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치된 기액접촉충전재층(34)과 상기 환원제액회수부(16)와 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(34)에 환원제를 분사하는 환원제분사노즐(36)을 포함하는 접촉환원부(14)와; 상기 접촉안정화부(11)와 접촉산화부(12) 사이 및 상기 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에 배치되며 상승하는 피처리가스를 확산시키고 낙하되는 산화제액와 환원제액을 바이패스관(45,35)을 통해 각각 상기 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16)로 유도하는 확산분리부(67,37)와; 상기 산화제액회수부(15)의 저부에 질산회수관(48)을 통해 연결되는 질산회수탱크(49)를 포함하는 것을 특징으로 하는 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템.
(1) having a first gas supply port (5) formed at the lower part thereof and a gas discharge port (2) formed at the upper end thereof and an oxidant solution collecting part A collecting part 10 including a reducing solution collecting part 16 and a stabilizing solution collecting part 17; A gas-liquid contact filler layer 46 disposed on the first gas supply port 5 and opened to the stabilizer removers 17 and a gas-liquid contact filler layer 46 connected to the stabilizer removers 17, And a stabilizing agent spraying nozzle (47) for spraying a stabilizing agent which mainly neutralizes components other than nitrogen oxides in the spraying nozzles (46); A gas-liquid contact filler layer 18 disposed above the contact stabilizing part 11 and arranged to pass a gas to be treated through the contact stabilizing part 11 and a gas-liquid contact filler layer 18 connected to the oxidizing agent solution returning part 15, A contact oxidation part (12) including an oxidant spray nozzle (23) for spraying an oxidant to the contact filler layer (18); A gas-liquid contact filler layer 34 disposed above the contact oxidation part 12 and arranged to allow a gas to be processed to pass through the contact oxidation part 11 to pass therethrough and a reducing agent solution collecting part 16, A contact reducing part (14) including a reducing agent spraying nozzle (36) for spraying a reducing agent onto the contact filler layer (34); The oxidizing agent solution and the reducing agent solution, which are disposed between the contact stabilizing part 11 and the contact oxidizing part 12 and between the contact oxidizing part 12 and the contact reducing part 14, Diffusion dividing sections (67, 37) for guiding the oxidant solution to the oxidant solution collecting section (15) and the reducing solution collecting section (16) through the path tubes (45, 35); And a nitric acid recovery tank (49) connected to the bottom of the oxidant solution recovery unit (15) through a nitric acid recovery pipe (48).
삭제delete 하부에 처리할 유해가스가 공급되는 가스공급구(75)가 형성되고 상단에 전처리된 유해가스가 배출되는 가스배출구(76)가 형성된 전처리조(3)와, 하부에 상기 전처리조(3)의 가스배출구(76)에 연결되는 가스연결구(5a)가 형성되고 상단에는 처리된 가스가 배출되는 가스배출구(2a)가 형성되는 메인처리조(4)를 포함하고;
상기 전처리조(3)의 내부에는 전처리조(3)의 하부에 형성되는 안정화제액회수부(17)와, 상기 가스공급구(75)의 상부에 배치되며 안정화제회수부(16)에 개방되는 기액접촉충전재충(46)과, 상기 안정화제액회수부(17)에 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(46)에 질소산화물 이외의 성분을 주로 중화시키는 안정화제를 분사하는 안정화제분사노즐(47)을 포함하는 접촉안정화부(11)가 형성되고;
상기 메인처리조(4)에는 그 하부에 형성되며 서로 구획되는 산화제액회수부(15)와 환원제액회수부(16)를 포함하는 수집부(10)와; 상기 가스연결구(5a)의 상부에 배치되며 전처리조(3)의 접촉안정화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치되는 기액접촉충전재층(18)과 상기 산화제액회수부(15)에 배관연결되며 이 기액접촉충전재층(18)에 산화제를 분사하는 산화제분사노즐(23)을 포함하는 접촉산화부(12)와; 상기 접촉산화부(12)의 상부에 배치되며 접촉산화부(11)를 거친 피처리가스가 통과되도록 배치된 기액접촉충전재층(34)과 상기 환원제액회수부(16)와 배관연결되며 상기 기액접촉충전재층(34)에 환원제를 분사하는 환원제분사노즐(36)을 포함하는 접촉환원부(14)와; 상기 접촉산화부(12)와 접촉환원부(14) 사이에 배치되며 상승하는 피처리가스를 확산시키고 낙하되는 산화제액와 환원제액을 바이패스관(35)을 통해 상기 환원제액회수부(16)로 유도하는 확산분리부(37)와; 상기 산화제액회수부(15)의 저부에 질산회수관(48)을 통해 연결되는 질산회수탱크(49)를 포함하는 것을 특징으로 하는 질산회수식 질소산화물 포함 유해가스 처리시스템.A pretreatment vessel 3 in which a gas supply port 75 through which a noxious gas to be treated is formed is formed and a gas discharge port 76 through which noxious gas pretreated at the upper end is discharged is formed; And a main processing tank (4) having a gas outlet (5a) connected to a gas outlet (76) and a gas outlet (2a) formed at an upper end thereof for discharging the processed gas;
Inside the pretreatment tank 3, there is provided a stabilizer remover 17 formed at the lower part of the pretreatment tank 3 and a stabilizer remover 17 disposed at the upper part of the gas supply port 75 and opened to the stabilizer recovery part 16 Liquid contact filler filler 46 and stabilizer spray nozzles 47 connected to the stabilizer remover 17 for spraying a stabilizer that neutralizes components other than nitrogen oxides in the gas-liquid contact filler layer 46 A contact stabilizing portion 11 is formed;
A collecting part 10 formed at the lower part of the main treatment tank 4 and including an oxidant solution collecting part 15 and a reducing solution collecting part 16; A gas-liquid contact filler layer 18 disposed above the gas connection port 5a and arranged to pass a gas to be treated through the contact stabilizing portion 11 of the pretreatment tank 3, A contact oxidation part (12) piped and connected to the gas-liquid contact filler layer (18), and an oxidant spray nozzle (23) for spraying an oxidant to the gas-liquid contact filler layer (18); A gas-liquid contact filler layer 34 disposed above the contact oxidation part 12 and arranged to allow a gas to be processed to pass through the contact oxidation part 11 to pass therethrough and a reducing agent solution collecting part 16, A contact reducing part (14) including a reducing agent spraying nozzle (36) for spraying a reducing agent onto the contact filler layer (34); The oxidizing agent liquid and the reducing agent solution which are disposed between the contact oxidizing unit 12 and the contact reducing unit 14 and diffuse the rising process gas are dropped to the reducing solution collecting unit 16 through the bypass pipe 35 A diffusion separator (37) for guiding the ions; And a nitric acid recovery tank (49) connected to the bottom of the oxidant solution recovery unit (15) through a nitric acid recovery pipe (48).
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