KR101883600B1 - Method of manufacturing organic light emitting diode comprising light extraction layer with flexibility - Google Patents

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진병두
조성민
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단국대학교 산학협력단
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Abstract

The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting device and an organic light emitting device manufactured by the method, in which the method of manufacturing the organic light emitting device includes the following steps: i) forming a light extraction layer by coating a transparent substrate with a curable solution to which TiO_2 nanoparticles and poly(ethylene glycol) diacrylate are added, and exposing the coated substrate to light; ii) forming a stabilization layer by coating the light extraction layer with a polymer solution containing poly(pyromellitic dianhydride-co-4,4′-oxydianiline); and iii) preparing a metal grid electrode on the stabilization layer. A material that imparts flexibility is added to the light extraction layer in a process of preparing the light extraction layer, so that an organic light emitting device suitable as a material for a flexible display is provided.

Description

유연성을 갖는 광추출층을 포함하는 유기발광소자의 제조 방법{Method of manufacturing organic light emitting diode comprising light extraction layer with flexibility}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting device including a light extracting layer having flexibility,

본 발명은 유기발광소자의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기발광소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광추출층에 유연성을 부여할 수 있는 유기발광소자의 제조 방법 및 이에 따라 플렉서블 디스플레이 소재로 다양한 응용이 가능한 유기발광소자에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting device and an organic light emitting device manufactured thereby, and more particularly, to a method of manufacturing an organic light emitting device capable of imparting flexibility to a light extracting layer, To an organic light emitting device capable of emitting light.

플렉서블 디스플레이(flexible display)는 가볍고 잘 깨지지 않으며 휴대가 편리하면서 다양한 형태의 디자인이 가능한 장점으로 인하여 다양한 IT 제품에 적용이 기대되고 있는 차세대 디스플레이이다. 따라서 플렉서블 디스플레이의 상용화는 디스플레이 산업의 영역을 대폭 확대시켜 디스플레이 산업의 새로운 성장동력이 될 것으로 전망되고 있다. 이러한 플렉서블 디스플레이로서 가장 주목받고 있는 디스플레이가 OLED 방식이며, 이에 따라 유리 기판은 플라스틱으로 대체되고, 깨지기 쉬운 저분자 대신 고분자 물질에 대한 연구가 각광받고 있다. Flexible display is a next generation display that is expected to be applied to various IT products because it is light, does not break easily, is convenient to carry and can design various forms. Accordingly, the commercialization of flexible displays is expected to become a new growth engine for the display industry by greatly expanding the display industry. As a flexible display, OLED is the most popular display, and glass substrates are replaced with plastics, and research on polymer materials instead of fragile low molecular materials is getting popular.

또한 유기발광소자의 재료 효율에 한계점을 돌파할 수 있는 방법으로 광추출 기술이 개발되어지고 있다. 기본적으로 OLED 내부에서 손실되는 광을 외부로 추출하는 기술을 광추출 기술이라고 한다. 광추출 기술은 크게 외부 광추출과 내부 광추출 기술로 분류가 되며, 외부 광추출 기술은 OLED 소자 외부에 MLA (micro lens array), 나노 산란 구조, 격자, 요철과 같은 구조체가 적용된다. 반면에 웨이브가이드 모드(waveguide mode)와 SPP 모드와 같이 기판 내부의 광학 두께 조절에 의한 마이크로 캐비티(micro cavity) 최적화 및 투명전극과 유리 기판 사이에 나노 입자 또는 나노 구조체를 도입하여 내부의 광을 외부로 추출하는 기술을 내부 광추출 기술이라고 한다. Further, a light extraction technique has been developed as a method of breaking the limit of the material efficiency of the organic light emitting device. Basically, the technique of extracting light that is lost inside the OLED to the outside is called light extraction technology. The light extraction technology is largely classified into external light extraction and internal light extraction technology. External light extraction technology is applied to the outside of the OLED device such as MLA (micro lens array), nano scattering structure, lattice, and concave and convex structure. On the other hand, optimization of a micro cavity by optical thickness control inside the substrate such as waveguide mode and SPP mode, and introduction of nanoparticles or nanostructure between the transparent electrode and the glass substrate, Is called internal light extraction technology.

현재까지 플렉서블 유기발광소자의 광추출층 효율을 높이기 위해 몇 가지 연구결과가 보고되어 왔다. 한국공개특허 제10-2016-0123535호는 유연성 투명 기판의 제조 방법 및 이에 의한 유연성 투명 기판에 관한 것으로서, 나노셀룰로오즈 기반의 투명 기판을 제작하고, 표면 거칠기를 보완하기 위해 고분자 필름을 도포하는 방법이 기재되어 있다. 그러나 상기 특허에는 구체적인 고분자 막의 정보가 부족하고, 이를 기판으로 사용함에 있어 전극 테스트를 진행하지 않아 기판으로의 사용 가능성을 판단할 수 없다는 문제점이 있다. To date, several studies have been reported to increase the efficiency of the optical extraction layer of flexible organic light emitting devices. Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2016-0123535 relates to a method of manufacturing a flexible transparent substrate and a flexible transparent substrate therefrom, and a method of manufacturing a nanocellulose-based transparent substrate and coating a polymer film to compensate for surface roughness . However, in the above patent, there is a problem that the information of the specific polymer film is insufficient and the electrode test is not performed in using the polymer film as a substrate, so that it is impossible to judge the possibility of use as a substrate.

또한 D. Riedel and C. J. Brabec, Organic Electronics 2016, 32, 27에는 산란층을 광추출층으로 하여, 그 상부에 평탄화층을 사용해 표면 거칠기를 제어하고 유기발광소자를 제작하는 방법이 개시되어 있는데, 유리 기판 기반의 평탄한 디스플레이에는 적합하나, 유연소재에 적용이 가능한지 여부가 불분명하다. In addition, D. Riedel and CJ Brabec, Organic Electronics 2016, 32, and 27 disclose a method in which a scattering layer is used as a light extracting layer, a surface roughness is controlled using a planarization layer thereon, It is suitable for a substrate-based flat display, but it is unclear whether it can be applied to a flexible material.

또한, Z. Xu and J. Peng, Organic Electronics 2017, 44, 225에는 폴리이미드 기반 광추출 기판이 개시되어 있는데, 마이크로 패터닝을 한 유리 기판에 폴리이미드로 본을 뜨고, 이를 광추출 기판으로 사용하여 유기발광 소자를 제작하는 방법으로서, 기판 자체에 광추출 구조를 일체화함으로써 소자의 효율을 높인다는 점에서 공정이 간소화되는 장점이 있으나, 특수한 경우에만 사용이 가능하여 범용성이 낮으며, 유연 소자에 대한 안정성 평가가 부족하다는 한계가 있다. In addition, Z. Xu and J. Peng, Organic Electronics 2017, 44, and 225 disclose a polyimide-based light extraction substrate. A polyimide substrate is patterned on a micro patterned glass substrate, As a method of manufacturing an organic light emitting device, there is an advantage that the process is simplified in that the light extracting structure is integrated into the substrate itself to increase the efficiency of the device, but the device is only usable in a special case and the versatility is low. There is a limit to the lack of stability evaluation.

그 밖에, 한국등록특허 제10-1735445호, 한국등록특허 제10-1356105호 및 한국공개특허 제10-2013-0116559호 등에도 유기발광소자의 광추출층 제조 방법이 개시되어 있으나, 플렉서블 유기발광소자에 적용하기 위한 필수적인 요소인 반복 굽힘 안정성 즉 유연성 개선을 위한 효과적인 방법은 제시되지 않았다. Korean Patent No. 10-1735445, Korean Patent No. 10-1356105, and Korean Patent Laid-Open No. 10-2013-0116559 disclose a method of manufacturing a light extracting layer of an organic light emitting device. However, No repetitive bending stability, i.e., an effective method for improving flexibility, which is an essential element for application to a device, has been proposed.

한국공개특허 제10-2016-0123535호Korean Patent Publication No. 10-2016-0123535 한국공개특허 제10-2013-0116559호Korean Patent Publication No. 10-2013-0116559 한국등록특허 제10-1735445호Korean Patent No. 10-1735445 한국등록특허 제10-1356105호Korean Patent No. 10-1356105

D. Riedel and C. J. Brabec, Organic Electronics 2016, 32, 27D. Riedel and C. J. Brabec, Organic Electronics 2016, 32, 27 Z. Xu and J. Peng, Organic Electronics 2017, 44, 225Z. Xu and J. Peng, Organic Electronics 2017, 44, 225

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 간단한 첨가제를 광추출층 제조 공정에 도입하여 광추출층의 유연 안정성을 개선할 수 있는 유기발광소자의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 플랙서블 디스플레이 또는 조명 등의 전자 소재로 적용이 가능한 유기발광소자를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an organic light emitting device capable of improving the flexibility stability of a light extraction layer by introducing a simple additive into a light extraction layer manufacturing process, And an organic electroluminescent device.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 i) 투명 기판 상에 TiO2 나노입자 및 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트가 첨가된 경화성 용액을 코팅한 후 노광하여 광추출층을 형성하는 단계; ii) 상기 광추출층 상에 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) [PMDA-ODA, Poly(pyromellitic dianhydride-co-4,4’- oxydianiline)]을 포함하는 고분자 용액을 코팅하여 안정화층을 형성하는 단계; 및 iii) 상기 안정화층 상에 금속 그리드 전극을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법을 제공한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device, comprising: i) forming a light extracting layer by coating a curable solution containing TiO 2 nanoparticles and poly (ethylene glycol) diacrylate on a transparent substrate; ii) forming a poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) (PMDA-ODA, poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) Coating a polymer solution to form a stabilizing layer; And iii) fabricating a metal grid electrode on the stabilizing layer.

또한 본 발명은 a) 투명 기판, b) 투명 기판 상에 광추출층, c) 상기 광추출층 상에 형성된 안정화층 및 d) 상기 안정화층 상에 형성된 금속 그리드 전극을 포함하는 유기발광소자로서, 상기 광추출층은 TiO2 나노입자 및 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트를 포함하며, 상기 안정화층은 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자를 제공한다. The present invention also provides an organic light emitting device comprising a) a transparent substrate, b) a light extraction layer on a transparent substrate, c) a stabilization layer formed on the light extraction layer, and d) a metal grid electrode formed on the stabilization layer, Wherein the light extracting layer comprises TiO 2 nanoparticles and poly (ethylene glycol) diacrylate, and the stabilizing layer comprises poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) And an organic electroluminescent device.

본 발명에 따르면, 광추출층의 제조 용액에 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트를 첨가하여 광추출층의 유연성을 향상시킬 수 있으며, 기계적 강도가 우수한 구조의 고분자를 광추출층의 상부에 코팅하여 안정화층을 형성함으로써 반복 굽힘에도 안정적인 광추출층을 제조할 수 있다. 이에 따라 플렉서블 디스플레이 등의 분야에 사용하기 적합한 유연 안정성을 우수한 유기발광소자를 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to improve the flexibility of the light extracting layer by adding poly (ethylene glycol) diacrylate to the solution for preparing the light extracting layer, and to coat the polymer having a structure having excellent mechanical strength on the light extracting layer By forming the stabilizing layer, a stable light extraction layer can be produced even in repeated bending. Accordingly, it is possible to provide an organic light emitting device excellent in flexibility stability suitable for use in fields such as flexible displays.

도 1은 본 발명의 실시예 및 비교예에 따른 광추출층과 안정화층을 포함하는 유기발광소자의 개략적인 모식도이다.
도 2는 본 발명에 적용된 반복굽힘 시험의 이미지를 보여준다.
도 3a는 본 발명의 실시예 및 비교예에 따라 제조된 유기발광소자의 반복 굽힘 시험 중 편 상태에서의 전도도를 상대적으로 나타낸 그래프이고, 도 3b는 반복 굽힘 시험 중 접힌 상태에서의 전도도를 상대적으로 나타낸 그래프이다.
1 is a schematic diagram of an organic light emitting device including a light extracting layer and a stabilizing layer according to an embodiment of the present invention and a comparative example.
2 shows an image of a repetitive bending test applied to the present invention.
FIG. 3A is a graph showing the relative conductivity of the organic light emitting device according to an embodiment of the present invention and a comparative example during a repeated bending test in a single state, and FIG. 3B is a graph showing the relative conductivity in a folded state Fig.

실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and drawings.

현재 유기발광소자의 내부 광효율은 재료의 구조나 순도를 개선하여 거의 100%의 효율을 나타내고 있다. 그러나 외부 광효율의 경우 재료의 굴절율과 기판의 굴절율, 두께등에 영향을 받아 이론상 20% 밖에 되질 않는다. 이러한 외부 광효율을 개선하기 위한 많은 연구들이 진행되고 있으며, 그 중 가장 효율적인 방법으로는 기판 내부의 광추출층으로 산란층이 대두되고 있다. At present, the internal light efficiency of the organic light emitting device is improved by improving the structure and purity of the material, so that the efficiency is almost 100%. However, in the case of external light efficiency, the refractive index of the material, the refractive index of the substrate, and the thickness of the substrate are influenced by theoretically about 20%. Many studies have been conducted to improve the external light efficiency, and as a most efficient method, a scattering layer is emerging as a light extracting layer inside the substrate.

이와 같이 내부 산란층을 광추출층으로 사용한 경우 유기발광소자의 광효율을 크게 개선할 수 있다. 이는 유기발광소자의 글래스 표면에서 전반사되어 외부로 추출되지 못하는 빛을 굴절율이 높은 TiO2 입자를 이용하여 추출하는 원리를 사용한다. 본 발명에서는 산란층에 유연성을 부여함으로써 유연한 유기발광소자의 광효율을 개선하는 방법을 제시한다. When the inner scattering layer is used as the light extracting layer, the light efficiency of the organic light emitting device can be greatly improved. The principle of extracting light that is totally reflected on the glass surface of the organic light emitting device and can not be extracted to the outside is extracted using TiO 2 particles having high refractive index. The present invention proposes a method of improving the light efficiency of a flexible organic light emitting device by imparting flexibility to the scattering layer.

이에 본 발명에서는 광추출층의 기반 물질로 이용되는 다관능성 트리아크릴레이트에 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트를 적절한 비율로 첨가하여 광추출층에 유연성을 부여하였다. Accordingly, in the present invention, poly (ethylene glycol) diacrylate is added to the polyfunctional triacrylate used as a base material of the light extracting layer in an appropriate ratio to impart flexibility to the light extracting layer.

하기 [화학식 1]과 [화학식 2]는 광추출층의 주성분인 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(Trimethylolpropane triacrylate) (TMPTA)와 첨가제로 사용된 물질인 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트(Poly(ethyleneglycol) diacrylate) (PEGDA)의 구조를 나타낸 것이다. 광추출층의 기반 물질로 사용된 TMPTA는 빛과 열을 통해 경화되며, 3관능지점을 지니며 경화지점간의 거리가 가까워 경화 후에 경직한 구조를 지닌다. Trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), which is a main component of the light extracting layer, and poly (ethyleneglycol) acrylate, which is a substance used as an additive, diacrylate (PEGDA). TMPTA, which is used as a base material of the light extracting layer, is cured through light and heat, has three functional points, and has a rigid structure after curing because the distance between the curing points is short.

Figure 112017049697096-pat00001
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Figure 112017049697096-pat00002
Figure 112017049697096-pat00002

또한, 유연소재 광추출층의 반복 굽힘 안정화층을 형성하기 위하여, 인쇄성이 좋고, 증착이 가능한 고분자인 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) [PMDA-ODA, Poly(pyromellitic dianhydride-co-4,4’- oxydianiline)]를 선정하여, 광추출층의 안정화층을 제작하였다. PMDA-ODA의 화학구조식은 하기 [화학식 3]에 표현되어 있다. Further, a poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) [PMDA-4,4'-oxydianiline] which is a high-printability and vapor-depositable polymer is used in order to form a repeated bending- ODA, poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline)] was selected to prepare a stabilized layer of the light extraction layer. The chemical structure of PMDA-ODA is represented by the following formula (3).

Figure 112017049697096-pat00003
Figure 112017049697096-pat00003

또한 산란층, 유리 기판 등에 박막 형성이 용이하고 간편한 스핀 코팅 공정을 채용하였으며, 박막의 두께를 조절하여 투과도의 소실을 최대한 줄이고, 표면 거칠기의 개선도를 최대화하였다. 또한 안정화층의 상부에 잉크젯 장비를 통해 실버 그리드(silver grid)를 제작하여 공정 안정성 또한 확인하였다. 특히, 종래 기술에서는 확인이 불가능한 반복 굽힘 시험을 진행하여, 전극을 제작했을 때의 안정성을 평가하였다. In addition, it is easy to form a thin film on a scattering layer or a glass substrate, and a simple spin coating process is adopted. By controlling the thickness of the thin film, the loss of permeability is minimized and the improvement of surface roughness is maximized. In addition, a silver grid was fabricated on the top of the stabilized layer through ink jet equipment to confirm the process stability. Particularly, in the prior art, repeated bending tests, which can not be confirmed, were carried out to evaluate the stability when the electrodes were produced.

도 1은 본 발명에 따른 광추출층과 안정화층의 개략적인 모식도이다. 기판은 100㎛의 PC 필름을 사용하였으며, 3㎛ 두께의 광추출층은 30nm 와 350nm 크기의 TiO2입자를 포함한 광/열경화성 물질을 사용하였다. 안정화층으로는 폴리머를 약 30nm의 두께로 코팅하여 사용하였다. 전극으로는 100㎛의 선폭을 지닌 실버 그리드를 사용하였다. 본 발명에 사용된 첨가제는 광추출층에 첨가하였으며, 그 함량을 달리하여 최적 구조를 개발하였다. Figure 1 is a schematic diagram of a light extraction layer and a stabilization layer according to the present invention. A PC film with a thickness of 100 μm was used as the substrate, and a light / thermosetting material including TiO 2 particles having a size of 30 nm and 350 nm was used as the light extraction layer having a thickness of 3 μm. As the stabilizing layer, a polymer was coated to a thickness of about 30 nm and used. A silver grid with a line width of 100 μm was used as the electrode. The additives used in the present invention were added to the light extracting layer, and the optimal structure was developed by varying the contents thereof.

구체적으로, 본 발명에 따른 유기발광소자의 제조 방법은 i) 투명 기판 상에 TiO2 나노입자 및 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트가 첨가된 경화성 용액을 코팅한 후 노광하여 광추출층을 형성하는 단계; ii) 상기 광추출층 상에 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린)을 포함하는 고분자 용액을 코팅하여 안정화층을 형성하는 단계; 및 iii) 상기 안정화층 상에 금속 그리드 전극을 제조하는 단계를 포함하는 것이 특징이다. Specifically, the method for manufacturing an organic light emitting diode according to the present invention comprises the steps of: i) coating a curable solution to which TiO 2 nanoparticles and poly (ethylene glycol) diacrylate are added on a transparent substrate, step; ii) coating a polymer solution containing poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) on the light extracting layer to form a stabilizing layer; And iii) fabricating a metal grid electrode on the stabilizing layer.

먼저 본 발명에 사용되는 투명 기판은 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리(에테르설폰), 폴리(에틸렌테레프탈레이트), 폴리(메틸메타크릴레이트), 폴리(에테르에테르케톤), 유리로 이루어진 군으로부터 선택할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 이 중에서 특히 폴리카보네이트(PC)는 투명하고, 가벼우며, 필름 형태인 경우 가공성이 좋고, 열적안정성, 치수안정성도 우수하며, 기계적 물성이 좋아 기판으로 사용하기 적합하다. The transparent substrate used in the present invention may be selected from the group consisting of polycarbonate, polyimide, poly (ether sulfone), poly (ethylene terephthalate), poly (methyl methacrylate), poly (ether ether ketone) Among them, polycarbonate (PC) is preferably transparent, light in weight, good in processability in the form of a film, excellent in thermal stability and dimensional stability, good in mechanical properties and suitable for use as a substrate .

한편, 본 발명의 특징은 광추출층의 제조 단계에서 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트(PEGDA)를 사용하여 광추출층에 유연성을 부여하는 것이다. 이를 위해, 광추출층 형성을 위한 경화성 용액 중에 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트(PEGDA) 첨가하가 되는데, 이때, 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트의 농도는 경화성 용액을 기준으로 3 내지 7 wt% 범위인 것이 바람직하다. 이를 초과할 경우 광추출층의 경화도가 감소하며, 3 wt% 미만일 경우 광추출층에 유연성이 충분히 부여되지 않는다. On the other hand, a feature of the present invention is that flexibility is imparted to the light extracting layer by using poly (ethylene glycol) diacrylate (PEGDA) in the step of producing the light extracting layer. To this end, poly (ethylene glycol) diacrylate (PEGDA) is added to the curable solution for forming the light extraction layer, wherein the concentration of poly (ethylene glycol) diacrylate is in the range of from 3 to 7 wt %. If it is more than 3 wt%, the degree of curing of the light extracting layer is reduced.

본 발명에 사용되는 경화성 용액의 주성분은 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트로서, 열 또는 빛에 의해 쉽게 경화될 수 있다. 본 발명에서는 이러한 경화성 용액을 네거티브 포토레지스트 (negative PR) 용액으로 사용하여, 노광하는 방식으로 광추출층을 제조하였다. 상기 재료는 경화시 투과도가 우수하고, 유기발광소자에 적용하기 위해 네거티브 방식으로 경화되어 선정하였다. The main component of the curable solution used in the present invention is trimethylolpropane triacrylate, which can be easily cured by heat or light. In the present invention, the light extracting layer is prepared by exposing the curable solution to a negative photoresist (negative PR) solution. The material was excellent in transparency upon curing and cured in a negative manner for application to organic light emitting devices.

이때, 상기 포토레지스트 용액을 코팅한 후 노광 전에 80 내지 120℃의 범위에서 프리베이킹(prebaking)하고, 상기 포토레지스트 용액의 노광 후에 100 내지 300℃의 범위에서 열처리를 수행한다. 이와 같은 프리베이킹을 통해 포토레지스트 용액 내의 용매를 제거해주고, 표면을 안정시켜줄 수 있다. 또한 노광을 통해 광경화 과정을 수행하게 되는데, 경화도를 높이기 위해 100 내지 300℃에서 열처리를 진행한다. 낮은 온도에서 열처리를 할 경우 그 시간을 증가시켜 경화를 진행시킨다. At this time, the photoresist solution is coated and then prebaked at 80 to 120 ° C before exposure, and heat treatment is performed at 100 to 300 ° C after exposure of the photoresist solution. This prebaking can remove the solvent in the photoresist solution and stabilize the surface. In addition, the photocuring process is performed through exposure. In order to increase the degree of curing, heat treatment is performed at 100 to 300 ° C. When the heat treatment is performed at a low temperature, the time is increased to advance the curing.

또한 본 발명에 사용되는 TiO2 나노입자의 크기는 10 내지 1000 nm 범위로서, 10 내지 50 nm 범위의 TiO2 나노입자와 100 내지 1000 nm 범위의 TiO2 나노입자 즉, 두 종류의 크기를 갖는 입자들로 구성하는 것이 바람직하다. 보다 상세히 설명하면, 본 발명에서 광추출층은 TiO2 나노입자를 산란층에 사용하여 광추출 효과를 얻게 되는데, 이때 광추출 효과를 나타위해 사용하는 TiO2 나노입자의 크기는 100 내지 1000 nm 범위인 것이 적합하다. TiO2 나노입자의 크기가 100nm 미만인 경우 산란효과의 영향을 받기가 힘들며, 1000nm 이상인 경우 입자간 인력에 의해 응집되는 현상이 발생하여 산란층의 역할을 수행하지 못하는 문제가 있다. 한편, 굴절률을 조절하고, 표면거칠기를 완화하는 평탄화 효과를 위해, 10 내지 50 nm 범위의 미세한 TiO2 나노입자를 함께 사용하는 것이 더욱 바람직하다. In addition, particles having a size as from 10 to 1000 nm range of the size of the TiO 2 nanoparticles, TiO 2 nanoparticles, that is, two types of TiO 2 nanoparticles and from 100 to 1000 nm in the range of 10 to 50 nm range used in the present invention As shown in FIG. More specifically, in the present invention, the light extracting layer obtains a light extraction effect by using TiO 2 nanoparticles as a scattering layer. In this case, the size of the TiO 2 nanoparticles used for extracting light is in the range of 100 to 1000 nm . When the size of the TiO 2 nanoparticles is less than 100 nm, it is difficult to be influenced by the scattering effect. When the size of the TiO 2 nanoparticles is more than 1000 nm, coagulation due to the intergranular attracting force occurs. On the other hand, it is more preferable to use fine TiO 2 nanoparticles in the range of 10 to 50 nm together for the purpose of controlling the refractive index and for smoothing the surface roughness.

본 발명에서는 위와 같이 투명 기판 상에 광추출층의 제조가 완료된 후, 그 상부에 안정화층을 형성한다. 안정화층은 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) (Poly(pyromellitic dianhydride-co-4,4’- oxydianiline))를 포함하는 고분자 용액을 코팅하여 형성한다. 본 발명에 사용가능한 안정화층을 코팅하는 방법으로는 스핀 코팅, 바 코팅, 딥 코팅, 브러쉬 코팅, 롤투롤 공정 등을 예로 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 통상적인 고분자 코팅 방식이 모두 적용가능하다. 이 중에서, 스핀 코팅 공정을 이용하면, 상대적으로 작은 기판에도 적은양의 용액으로 코팅이 가능한 장점이 있다. 그러나 기판의 크기가 커질 경우 다른 공정의 코팅 방법을 사용할 수 있다. In the present invention, after the production of the light extracting layer is completed on the transparent substrate as described above, a stabilizing layer is formed thereon. The stabilizing layer is formed by coating a polymer solution containing poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) (poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline)). Examples of the method for coating the stabilizing layer usable in the present invention include, but not limited to, spin coating, bar coating, dip coating, brush coating and roll-to-roll process. Do. Among them, the use of a spin coating process has an advantage that a relatively small substrate can be coated with a small amount of a solution. However, if the size of the substrate is large, coating methods of other processes can be used.

한편 상기 고분자 용액의 용매는 디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 방향족 탄화수소계 용매 중에서 1종 이상 선택될 수 있으며, 이중에서 디메틸아세트아미드를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 고분자 용액의 농도는 3 ~ 7 wt% 범위인 것이 적합하고, 안정화층의 두께는 20 내지 50 nm 범위인 것이 바람직하다. 본 발명에서는 안정화층 필름의 두께도 중요한데, 7 wt%를 초과하여 두께가 너무 두꺼워질 경우 필름의 투과도에 큰 영향을 줄 수 있으며, 3 wt% 미만일 경우에는 필름이 너무 얇아 산란층에 가해지는 스트레스를 완화시켜주기 힘들다. On the other hand, the solvent of the polymer solution may be selected from one or more of dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and aromatic hydrocarbon solvents. Of these, dimethylacetamide is preferably used. The concentration of the polymer solution is preferably in the range of 3 to 7 wt%, and the thickness of the stabilizing layer is preferably in the range of 20 to 50 nm. In the present invention, the thickness of the stabilizing layer film is also important. If the thickness is excessively thick, the film may have a large influence on the transmittance of the film. If the thickness is less than 3 wt%, the film is too thin, .

상기와 같이 광추출층과 안정화층을 제조한 다음, 유기발광소자에 필요한 금속 그리드 전극을 형성하는데, 예를 들어, Ag 그리드 전극을 형성할 수 있다. 이때, 상기 그리드 전극의 선폭은 50 내지 150 ㎛ 범위이며, 간격은 100 내지 300 ㎛ 범위인 것이 바람직하다. After the light extraction layer and the stabilization layer are formed as described above, a metal grid electrode necessary for the organic light emitting device may be formed, for example, an Ag grid electrode may be formed. At this time, the line width of the grid electrode ranges from 50 to 150 mu m, and the interval preferably ranges from 100 to 300 mu m.

한편 본 발명은 상기 제조 방법에 따라 얻어진 유기발광소자는 a) 투명 기판, b) 투명 기판 상에 광추출층, c) 상기 광추출층 상에 형성된 안정화층 및 d) 상기 안정화층 상에 형성된 금속 그리드 전극을 포함하는 유기발광소자로서, 상기 광추출층은 TiO2 나노입자 및 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트를 포함하며, 상기 안정화층은 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린)을 포함하는 것이 특징이다. 도 1에 본 발명에 따른 유기발광소자의 구조를 보여주는 모식도가 나타나있다. In the meantime, the present invention provides an organic light emitting device obtained according to the above manufacturing method, which comprises a) a transparent substrate, b) a light extracting layer on a transparent substrate, c) a stabilizing layer formed on the light extracting layer, and d) An organic electroluminescent device comprising a grid electrode, said light extracting layer comprising TiO 2 nanoparticles and poly (ethylene glycol) diacrylate, said stabilizing layer comprising poly (pyromellitic dianhydride-co- '-Oxydianiline). FIG. 1 is a schematic view showing the structure of an organic light emitting diode according to the present invention.

이와 같이 본 발명에 따른 광추출층에 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트를 첨가하여 유연성을 부여하고, 또 특정 고분자 안정화층을 형성하는 기술은 유연기반 유기발광소자의 광추출층에 적용이 가능하며, 디스플레이 및 조명에 가장 큰 영향을 줄 것으로 예상된다. 그 외에도 웨어러블 전자소자, 바이오소자 등 다양한 유기/나노 반도체 기반의 전자소자/ 스마트소자에 적용이 가능하며, 소재부품, 모듈, 회로, 패키팅, 진단시약 등의 바이오-IT융합기술 등의 인체친화적인 산업분야에도 의미있는 파급효과를 가져올 수 있을 것이다. As described above, the technique of adding flexibility to poly (ethylene glycol) diacrylate to the light extracting layer according to the present invention and forming a specific polymer stabilized layer can be applied to a light extracting layer of a flexible organic light emitting device , Display and lighting. In addition, it can be applied to electronic devices / smart devices based on various organic / nano semiconductors such as wearable electronic devices and bio devices. It is also applicable to human-friendly devices such as bio-IT convergence technologies such as material parts, modules, circuits, It will have a meaningful ripple effect on the industrial sector.

또한 유연기반 전자소자에 직접적으로 적용이 가능하며, 박막으로 적용가능하기 때문에 웨어러블 전자소자 기술의 기반이 될 수 있다. 스티커형 IC칩, 디스플레이, 의료 및 환경 모니터링 센서와 같은 제품 등에서 다양하게 응용이 가능하다. 간단한 공정을 통해 유연기반 광추출층의 안정성을 향상시킨 공정으로, 유연기반 유기발광소자 및 전자소자 부문에 다양하게 적용이 가능하다. 특히, 최근 이슈화되고 있는 벤더블, 플렉서블 유기발광소자에 적용 가능한 기반기술로, 차세대 전자부품 관련 산업에서 실제 적용가능성이 높다고 할 수 있다. In addition, it can be applied directly to flexible electronic devices and can be applied as a thin film, which can be a basis for wearable electronic device technology. It can be applied to a variety of applications such as sticky IC chips, displays, medical and environmental monitoring sensors, and so on. It is a process that improves the stability of the flexible-based light extracting layer through a simple process, and it can be applied variously to flexible organic light emitting devices and electronic devices. In particular, it can be applied to next-generation electronic parts-related industries as a base technology that can be applied to a recent issue of Ben Double and flexible organic light emitting devices.

이하 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위해 예시적으로 제시된 것으로서 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다. 각각의 샘플은 3개씩 제작하였으며, 모든 측정값은 3개 샘플의 평균값을 사용하였다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the following examples are provided to illustrate the present invention and should not be construed as limiting the scope of the present invention. Each sample was made in triplicate and all measurements were averaged over three samples.

<비교예><Comparative Example>

비교예로는 PC 필름에 광추출층을 제작하고, 그 상부에 잉크젯 장비를 이용해서 Ag grid 전극을 제작하였다. 먼저 25.4mm x 25.4mm의 크기의 PC 필름을 이소프로판올에 담군 후 30분간 초음파 세척을 진행하고, UV-O3 처리를 10분간 실시하였다. 30nm 크기와 350nm 크기의 TiO2 입자를 negative PR (Ormocomp)에 혼합하여 24시간 동안 교반하여 광추출층을 제조할 용액을 준비하였다. 세척이 완료된 PC 필름에 광추출층 용액을 스핀코팅하고, 100℃에서 5분간 프리베이킹(prebaking)을 실시하였다. 필름 전면에 노광을 진행하고, 130℃에서 2시간 동안 열처리를 진행하였다. 광추출층이 완료되면, 안정화층으로 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) (PMDA-ODA) 용액을 4000rpm의 속도로 60초간 스핀코팅하고 130℃로 2시간 동안 용매를 제거하였. 그 다음 안정화층의 상부에 잉크젯 장비를 이용하여 기판의 중심부에 2.54mm x 10mm의 크기로 Ag 그리드 전극을 제작한다. 그리드(grid)의 선폭은 약 100㎛이며, 그 간격은 200㎛로 설정하였다. 제작이 완료된 샘플은 양 끝단의 저항을 측정하고, 반복 굽힘 시험기를 통해 1회부터 1000회까지 굽힌 상태와 편 상태에서의 저항을 실시간으로 측정하였다. 측정된 저항을 역수로 변환하여 전도도를 구하고, 시험 전의 기준수치를 기준으로 상대적인 수치로 변환하여 유연기반 광추출층의 안정성을 분석하였다. As a comparative example, a light extraction layer was formed on a PC film, and an Ag grid electrode was formed on the top of the light extraction layer using an ink jet apparatus. First, a PC film having a size of 25.4 mm x 25.4 mm was immersed in isopropanol, followed by ultrasonic cleaning for 30 minutes and UV-O 3 treatment for 10 minutes. TiO 2 particles having a size of 30 nm and a size of 350 nm were mixed in a negative PR (Ormocomp) and stirred for 24 hours to prepare a solution for preparing a light extraction layer. The light extraction layer solution was spin-coated on the cleaned PC film and prebaked at 100 ° C for 5 minutes. The entire surface of the film was exposed, and heat treatment was performed at 130 캜 for 2 hours. When the light extraction layer is completed, the poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) (PMDA-ODA) solution is spin coated as a stabilizing layer at a rate of 4000 rpm for 60 seconds, The solvent was removed over time. Next, an Ag grid electrode is formed in the center of the substrate with a size of 2.54 mm x 10 mm by using an ink jet apparatus on top of the stabilization layer. The line width of the grid is about 100 탆, and the interval is set to 200 탆. The resistance of both ends of the fabricated sample was measured, and the resistance in the bending state and the bending state were measured in real time by a repeated bending tester. The stability of the flux - based optical extraction layer was analyzed by converting the measured resistance to an inverse number to obtain the conductivity and converting it to a relative value based on the reference value before the test.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

실시예 1은 광추출층에 5wt%의 함량비로 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트(PEGDA))를 첨가하였다. 중량비의 기준은 30nm, 350nm 크기의 TiO2 입자가 포함되어 있는 광추출 용액으로 하였다. 세척된 PC 필름상에 첨가제가 혼합된 광추출용액을 스핀코팅하고, 100℃에서 5분간 프리베이킹한다. 필름 전면에 노광을 진행하고, 130℃에서 2시간 동안 열처리를 진행하였다. 광추출층 제조가 완료된 후, 안정화층으로 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) (PMDA-ODA) 용액을 용매(Dimethylacetamide)를 이용하여 5wt%로 희석하고, 4000rpm의 속도로 60초간 스핀코팅하고 130℃에서 2시간 동안 용매를 제거하였다. 그 다음 안정화층의 상부에 잉크젯 장비를 이용하여 기판의 중심부에 2.54mm x 10mm의 크기로 Ag 그리드 전극을 제작하였다. 그리드의 선폭은 약 100㎛이며, 그 간격은 200㎛로 설정하였다. In Example 1, poly (ethylene glycol) diacrylate (PEGDA) was added to the light extracting layer in a content ratio of 5 wt%. The standard of the weight ratio was a light extraction solution containing TiO 2 particles having sizes of 30 nm and 350 nm. The optical extraction solution mixed with the additives on the cleaned PC film is spin-coated and pre-baked at 100 ° C for 5 minutes. The entire surface of the film was exposed, and heat treatment was performed at 130 캜 for 2 hours. After the light extraction layer was prepared, a poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) (PMDA-ODA) solution was diluted with a solvent (Dimethylacetamide) to 5 wt% , Spin coated at a speed of 4000 rpm for 60 seconds, and the solvent was removed at 130 캜 for 2 hours. Next, an Ag grid electrode having a size of 2.54 mm x 10 mm was formed at the center of the substrate by using an ink jet apparatus on top of the stabilization layer. The line width of the grid is about 100 mu m, and the interval is set to 200 mu m.

제조가 완료된 샘플은 양 끝단의 저항을 측정하고, 반복굽힘 시험기를 통해 1회부터 1000회까지 굽힌 상태와 편 상태에서의 저항을 실시간으로 측정하였다. 측정된 저항을 역수로 변환하여 전도도를 구하고, 시험 전의 기준수치를 기준으로 상대적인 수치로 변환하여 유연기반 광추출층의 안정성을 분석하였다. The resistance of both ends of the sample was measured, and the resistance in the bending state and the bending state were measured in real time by repeating a bending test machine from 1 to 1000 times. The stability of the flux - based optical extraction layer was analyzed by converting the measured resistance to an inverse number to obtain the conductivity and converting it to a relative value based on the reference value before the test.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

실시예 2는 광추출층에 10wt%의 비로 PEGDA를 첨가하였다. 중량비의 기준은 30nm, 350nm 크기의 TiO2 입자가 포함되어 있는 광추출 용액으로 하였다. 세척된 PC 필름상에 첨가제가 혼합된 광추출용액을 스핀코팅하고, 100℃에서 5분간 프리베이킹하였다. 필름전면에 노광을 진행하고, 130℃에서 2시간 동안 열처리를 진행하였다. 광추출층 제조가 완료된 후, 안정화층으로 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) (PMDA-ODA) 용액을 4000rpm의 속도로 60초간 스핀코팅하고, 130℃에서 2시간 동안 용매를 제거하였다. 그 다음 안정화층의 상부에 잉크젯 장비를 이용하여 기판의 중심부에 2.54mm x 10mm의 크기로 Ag 그리드 전극을 제작하였다. 그리드의 선폭은 약 100㎛이며, 그 간격은 200㎛로 설정하였다. In Example 2, PEGDA was added to the light extracting layer at a ratio of 10 wt%. The standard of the weight ratio was a light extraction solution containing TiO 2 particles having sizes of 30 nm and 350 nm. The light extract solution mixed with the additives on the washed PC film was spin-coated and pre-baked at 100 ° C for 5 minutes. The entire surface of the film was exposed, and heat treatment was performed at 130 캜 for 2 hours. After preparation of the light extracting layer, a poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) (PMDA-ODA) solution was spin coated as a stabilizing layer at a speed of 4000 rpm for 60 seconds, Lt; / RTI &gt; for 2 hours. Next, an Ag grid electrode having a size of 2.54 mm x 10 mm was formed at the center of the substrate by using an ink jet apparatus on top of the stabilization layer. The line width of the grid is about 100 mu m, and the interval is set to 200 mu m.

제작이 완료된 샘플은 양 끝단의 저항을 측정하고, 반복 굽힘 시험기를 통해 1회부터 1000회까지 굽힌 상태와 편 상태에서의 저항을 실시간으로 측정하였다. 측정된 저항을 역수로 변환하여 전도도를 구하고, 시험 전의 기준수치를 기준으로 상대적인 수치로 변환하여 유연기반 광추출층의 안정성을 분석하였다. The resistance of both ends of the fabricated sample was measured, and the resistance in the bending state and the bending state were measured in real time by a repeated bending tester. The stability of the flux - based optical extraction layer was analyzed by converting the measured resistance to an inverse number to obtain the conductivity and converting it to a relative value based on the reference value before the test.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

실시예 3에서는 광추출층에 15 wt%의 비로 PEGDA를 첨가하였다. 중량비의 기준은 30nm, 350nm 크기의 TiO2 입자가 포함되어 있는 광추출 용액으로 하였다. 세척된 PC 필름상에 첨가제가 혼합된 광추출용액을 스핀코팅하고, 100℃에서 5분간 프리베이킹하였다. 필름 전면에 노광을 진행하고, 130℃에서 2시간 동안 열처리를 진행하였다. 광추출층 제조가 완료된 후, 안정화층으로 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린) (PMDA-ODA) 용액을 4000rpm의 속도로 60초간 스핀코팅하고 130℃에서 2시간 동안 용매를 제거하였다. 그 다음 안정화층의 상부에 잉크젯 장비를 이용하여 기판의 중심부에 2.54mm x 10mm의 크기로 Ag 그리드 전극을 제작하였다. 그리드의 선폭은 약 100㎛이며, 그 간격은 200㎛로 설정하였다. In Example 3, PEGDA was added to the light extracting layer at a ratio of 15 wt%. The standard of the weight ratio was a light extraction solution containing TiO2 particles of 30 nm and 350 nm size. The light extract solution mixed with the additives on the washed PC film was spin-coated and pre-baked at 100 ° C for 5 minutes. The entire surface of the film was exposed, and heat treatment was performed at 130 캜 for 2 hours. After preparation of the light extracting layer, a poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) (PMDA-ODA) solution was spin-coated as a stabilizing layer at a speed of 4000 rpm for 60 seconds, The solvent was removed for 2 hours. Next, an Ag grid electrode having a size of 2.54 mm x 10 mm was formed at the center of the substrate by using an ink jet apparatus on top of the stabilization layer. The line width of the grid is about 100 mu m, and the interval is set to 200 mu m.

제작이 완료된 샘플은 양 끝단의 저항을 측정하고, 반복 굽힘 시험기를 통해 1회부터 1000회까지 굽힌 상태와 편 상태에서의 저항을 실시간으로 측정하였다. 측정된 저항을 역수로 변환하여 전도도를 구하고, 시험 전의 기준수치를 기준으로 상대적인 수치로 변환하여 유연기반 광추출층의 안정성을 분석하였다.The resistance of both ends of the fabricated sample was measured, and the resistance in the bending state and the bending state were measured in real time by a repeated bending tester. The stability of the flux - based optical extraction layer was analyzed by converting the measured resistance to an inverse number to obtain the conductivity and converting it to a relative value based on the reference value before the test.

<실험예> <Experimental Example>

도 2는 반복 굽힘 시험의 이미지를 나타낸 것이다. 시편은 25.4mm x 25.4mm의 크기로 제작되었으며, 전극은 10mm x 25.4mm 의 크기로 제작하였다. 곡률반경은 3.2mm(3.2R)로 설정하였으며, 총 1000회의 반복 굽힘 시험을 실시하였다. 편 상태와 굽힘 상태에서의 저항을 측정하여 상대적인 전도도를 비교하였다. Fig. 2 shows an image of a repeated bending test. The specimen was 25.4mm x 25.4mm and the electrode was 10mm x 25.4mm. The radius of curvature was set to 3.2 mm (3.2 R) and a total of 1000 repetitive bending tests were performed. The relative conductivities were compared by measuring the resistance in the union state and the bending state.

도 3a는 상기 실시예 및 비교에에 따라 제조된 유기발광소자의 반복 굽힘 시험 중 편 상태에서의 전도도를 상대적으로 나타낸 것이다. 도 3b는 반복 굽힘 시험 중 접힌 상태에서의 전도도를 상대적으로 나타낸 것이다. 두 그래프를 살펴보면, 같은 경향성을 나타내는데, PEGDA의 함량이 5wt%인 실시예 1에서 안정성이 향상됨을 확인할 수 있다. 그러나 첨가제의 함량이 증가할수록, 실시예 2와 3에서는 그 안정성이 감소하였다. 이는 트리아크릴레이트 간의 경화 지점에 디아크릴레이트가 침투하여, 그 경화도를 낮추었다고 할 수 있다. 또한, 에틸렌글리콜의 양이 증가함에 따라 경화지점간의 거리가 증가하여, 적정량 사용한 실시예 1에서는 그 유연성이 증가하지만, 실시예 2와 3에서는 간격이 멀어 경화도가 감소한다고도 볼 수 있다. 한편 도 3a에서 1000회 굽힘 시험 후의 상대 전도도는 각각 0.61, 0.78, 0.63, 0.50 이며, 도 3b에서의 1000회 굽힘 시험 후의 상대 전도도는 각각 0.55, 0.74, 0.55, 0.40 이다. FIG. 3A is a graph showing the conductivity of the organic light emitting device manufactured in accordance with the above-described embodiment and the comparative example in the repeated state bending test. Fig. 3B shows the relative conductivity in the folded state during the repeated bending test. Both graphs show the same tendency. It can be confirmed that the stability is improved in Example 1 in which the content of PEGDA is 5 wt%. However, as the content of the additive was increased, the stability was decreased in Examples 2 and 3. It can be said that the diacrylate penetrates into the curing point between the triacrylates and the degree of curing is lowered. Further, as the amount of ethylene glycol is increased, the distance between the curing points increases, and the flexibility is increased in Example 1, but the curing degree is decreased because the distance between Examples 2 and 3 is too long. In FIG. 3A, the relative conductivities after the 1000-time bending test are 0.61, 0.78, 0.63, and 0.50, respectively, and the relative conductivities after the 1000-time bending test are 0.55, 0.74, 0.55, and 0.40, respectively.

Claims (22)

i) 투명 기판 상에 TiO2 나노입자 및 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트가 첨가된 경화성 용액을 코팅한 후 노광하여 광추출층을 형성하는 단계;
ii) 상기 광추출층 상에 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린)을 포함하는 3 내지 7 중량% 농도의 고분자 용액을 코팅하여 20 내지 50 nm 범위의 두께를 갖는 안정화층을 형성하는 단계; 및
iii) 상기 안정화층 상에 금속 그리드 전극을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
i) forming a light extracting layer by coating a curable solution to which TiO 2 nanoparticles and poly (ethylene glycol) diacrylate are added on a transparent substrate and exposing the coating;
ii) coating a polymer solution having a concentration of 3 to 7% by weight with poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) on the light extracting layer to form a film having a thickness in the range of 20 to 50 nm &Lt; / RTI &gt; And
and iii) fabricating a metal grid electrode on the stabilization layer.
제1항에 있어서,
상기 투명 기판은 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리(에테르설폰), 폴리(에틸렌테레프탈레이트), 폴리(메틸메타크릴레이트), 폴리(에테르에테르케톤), 유리로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the transparent substrate is selected from the group consisting of polycarbonate, polyimide, poly (ether sulfone), poly (ethylene terephthalate), poly (methyl methacrylate), poly (etheretherketone) / RTI &gt;
제1항에 있어서,
상기 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트의 농도는 경화성 용액을 기준으로 3 내지 7 중량% 범위인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the concentration of the poly (ethylene glycol) diacrylate is in the range of 3 to 7 wt% based on the curable solution.
제1항에 있어서,
상기 경화성 용액은 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the curable solution comprises trimethylolpropane triacrylate. &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 11. &lt; / RTI &gt;
제1항에 있어서,
상기 경화성 용액은 네거티브 포토레지스트 용액인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the curable solution is a negative photoresist solution.
제5항에 있어서,
상기 포토레지스트 용액을 코팅한 후 노광 전에 80 내지 120℃의 범위에서 프리베이킹(prebaking)하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the photoresist solution is coated and then prebaked at a temperature in a range of 80 to 120 캜 before exposure.
제5항에 있어서,
상기 포토레지스트 용액의 노광 후에 100 내지 300℃의 범위에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the heat treatment is performed at a temperature in the range of 100 to 300 占 폚 after the exposure of the photoresist solution.
제1항에 있어서,
상기 TiO2 나노입자의 크기는 10 내지 1000 nm 범위인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the size of the TiO 2 nanoparticles ranges from 10 to 1000 nm.
제8항에 있어서,
상기 TiO2 나노입자는 10 내지 50 nm 범위 및 100 내지 1000 nm 범위의 두 종류의 크기를 갖는 입자들로 구성된 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the TiO 2 nanoparticles are composed of particles having two sizes ranging from 10 to 50 nm and from 100 to 1000 nm.
제1항에 있어서,
상기 안정화층을 형성하는 단계는 고분자 용액을 스핀 코팅하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the stabilizing layer is performed by spin coating a polymer solution.
제1항에 있어서,
상기 고분자 용액의 용매는 디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 방향족 탄화수소계 용매로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택된 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the solvent of the polymer solution is selected from the group consisting of dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and aromatic hydrocarbon solvents.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 전극은 Ag 그리드 전극인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the electrode is an Ag grid electrode.
제1항에 있어서,
상기 그리드 전극의 선폭은 50 내지 150㎛ 범위이며, 간격은 100 내지 300㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the line width of the grid electrode ranges from 50 to 150 占 퐉 and the interval ranges from 100 to 300 占 퐉.
a) 투명 기판, b) 투명 기판 상에 형성된 광추출층, c) 상기 광추출층 상에 형성된 안정화층 및 d) 상기 안정화층 상에 형성된 금속 그리드 전극을 포함하는 유기발광소자로서, 상기 광추출층은 TiO2 나노입자 및 폴리(에틸렌글리콜) 디아크릴레이트를 포함하고, 상기 안정화층은 폴리(피로멜리틱 디언하이드라이드-코-4,4’-옥시디아닐린)을 포함하며, 20 내지 50 nm 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 유기발광소자.An organic electroluminescent device comprising a) a transparent substrate, b) a light extraction layer formed on a transparent substrate, c) a stabilization layer formed on the light extraction layer, and d) a metal grid electrode formed on the stabilization layer, Layer comprises TiO 2 nanoparticles and poly (ethylene glycol) diacrylate, said stabilizing layer comprising poly (pyromellitic dianhydride-co-4,4'-oxydianiline) lt; RTI ID = 0.0 &gt; nm. &lt; / RTI &gt; 제16항에 있어서,
상기 투명 기판은 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리(에테르설폰), 폴리(에틸렌테레프탈레이트), 폴리(메틸메타크릴레이트), 폴리(에테르에테르케톤), 유리로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
17. The method of claim 16,
Wherein the transparent substrate is selected from the group consisting of polycarbonate, polyimide, poly (ether sulfone), poly (ethylene terephthalate), poly (methyl methacrylate), poly (etheretherketone) device.
제16항에 있어서,
상기 TiO2 나노입자의 크기는 10 내지 1000 nm 범위인 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
17. The method of claim 16,
Wherein the size of the TiO 2 nanoparticles ranges from 10 to 1000 nm.
제18항에 있어서,
상기 TiO2 나노입자는 10 내지 50 nm 범위 및 100 내지 1000 nm 범위의 두 종류의 크기를 갖는 입자들로 구성된 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
19. The method of claim 18,
Wherein the TiO 2 nanoparticles are composed of particles having two sizes ranging from 10 to 50 nm and from 100 to 1000 nm.
삭제delete 제16항에 있어서,
상기 전극은 Ag 그리드 전극인 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
17. The method of claim 16,
Wherein the electrode is an Ag grid electrode.
제16항에 있어서,
상기 그리드 전극의 선폭은 50 내지 150 ㎛ 범위이며, 간격은 100 내지 300 ㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
17. The method of claim 16,
Wherein the line width of the grid electrode ranges from 50 to 150 mu m and the interval ranges from 100 to 300 mu m.
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