KR101876567B1 - Liquid crystal display device and method of manfacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 광 투과부와 광 반사부로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판; 상기 광반사부의 상기 제 1 기판상에 배치된 반사전극; 상기 광투과부의 상기 제 1 기판상에 배치된 투명전극; 상기 제 1 기판과 대응된 제 2 기판; 상기 제 2 기판의 내측면에 형성된 컬러필터층; 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치된 공통전극; 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층; 및 상기 광투과부와 상기 광 반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치되며, 상기 광반사부에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층;을 포함하는 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 제공한다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, including: a first substrate having a plurality of pixels divided into a light transmitting portion and a light reflecting portion; A reflective electrode disposed on the first substrate of the light reflection portion; A transparent electrode disposed on the first substrate of the light transmitting portion; A second substrate corresponding to the first substrate; A color filter layer formed on an inner surface of the second substrate; A common electrode disposed on an inner surface of one of the first and second substrates; A liquid crystal layer interposed between the first and second substrates; And a retarder layer disposed on an inner surface of the substrate of either the first or second substrate including the light transmitting portion and the light reflecting portion and delaying the phase of the light transmitted through the light reflecting portion by? / 4 And a method of manufacturing the same.

Description

액정표시장치 및 이의 제조방법{Liquid crystal display device and method of manfacturing the same}[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof,

본 발명은 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 단일 셀갭을 갖는 반투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a transflective liquid crystal display device having a single cell gap and a method of manufacturing the same.

일반적으로 액정표시장치는 저소비 전력으로 구동될 뿐만 아니라 박형화의 가능으로 최근 디스플레이 산업분야에서 널리 이용되고 있다.In general, a liquid crystal display device is widely used in the display industry field because it can be driven not only at a low power consumption but also at a thin thickness.

액정표시장치는 투과형 액정표시장치와 반사형 액정표시장치의 장점을 모두 갖는 반투과형 액정표시장치에 대한 개발이 이루어지고 있다. 즉, 반투과형 액정표시장치는 투과형 액정표시장치에서와 같이 높은 콘트라스트를 확보할 수 있으며, 반사형 액정표시장치에서와 같이 외광의 채용으로 인해 소비 전력을 낮출 수 있다.A liquid crystal display device has been developed for a transflective liquid crystal display device having both advantages of a transmissive liquid crystal display device and a reflective liquid crystal display device. That is, the transflective liquid crystal display device can secure a high contrast as in the transmissive liquid crystal display device, and can reduce the power consumption due to the adoption of external light as in the reflection type liquid crystal display device.

이와 같은 반투과형 액정표시장치는 반사부와 투과부의 편광 상태를 일치시키기 위해 보상필름이나 셀 갭 차이를 두고 있다. In such a transflective liquid crystal display device, a compensation film or a cell gap difference is provided in order to match the polarized states of the reflective portion and the transmissive portion.

그러나, 보상필름을 이용할 경우, 반사부와 투과부에 서로 다른 보상필름을 부착해야 하므로 복잡한 공정뿐만 아니라 제조비용이 상승하는 문제점이 있다. 또한, 반사부와 투과부의 셀갭 차이를 둘 경우에 액정의 배향 불량이 발생할 수 있으며 제조 공정이 복잡해질 수 있다.
However, when a compensation film is used, a different compensation film must be attached to the reflective portion and the transmissive portion. In addition, when the cell gap difference between the reflective portion and the transmissive portion is set, the alignment defect of the liquid crystal may occur and the manufacturing process may become complicated.

따라서, 본 발명은 액정표시장치 및 이의 제조 방법에서 발생될 수 있는 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 구체적으로 선택적인 편광UV 조사를 통해 부분적으로 위상차를 구현할 수 있는 리타더층을 이용하여 단일 셀갭을 갖는 반투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
Accordingly, the present invention has been made to solve the problems that may occur in a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same which are capable of realizing a single cell gap by using a retarder layer, And a method of manufacturing the liquid crystal display device.

본 발명에 따른 제 1 해결 수단의 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 광 투과부와 광 반사부로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판; 상기 광반사부의 상기 제 1 기판상에 배치된 반사전극; 상기 광투과부의 상기 제 1 기판상에 배치된 투명전극; 상기 제 1 기판과 대응된 제 2 기판; 상기 제 2 기판의 내측면에 형성된 컬러필터층; 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치된 공통전극; 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층; 및 상기 광투과부와 상기 광 반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치되며, 상기 광반사부에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층;을 포함할 수 있다.
A liquid crystal display device of a first solution means according to the present invention is provided. The liquid crystal display device includes a first substrate having a plurality of pixels divided into a light transmitting portion and a light reflecting portion; A reflective electrode disposed on the first substrate of the light reflection portion; A transparent electrode disposed on the first substrate of the light transmitting portion; A second substrate corresponding to the first substrate; A color filter layer formed on an inner surface of the second substrate; A common electrode disposed on an inner surface of one of the first and second substrates; A liquid crystal layer interposed between the first and second substrates; And a retarder layer disposed on an inner surface of the substrate of either the first or second substrate including the light transmitting portion and the light reflecting portion and delaying the phase of the light transmitted through the light reflecting portion by? / 4 can do.

본 발명에 따른 제 2 해결 수단의 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 광 투과부와 광 반사부로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판과 제 2 기판을 제공하는 단계; 상기 광반사부의 상기 제 1 기판상에 배치된 반사전극과 상기 광투과부의 상기 제 1 기판상에 배치된 투명전극을 형성하고, 상기 제 2 기판에 컬러필터층과 공통전극을 형성하는 단계; 상기 광투과부와 상기 광 반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 상기 광반사부에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층을 형성하는 단계; 및A second method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is provided. The manufacturing method includes: providing a first substrate and a second substrate having a plurality of pixels partitioned by a light transmitting portion and a light reflecting portion; Forming a reflective electrode disposed on the first substrate of the light reflection part and a transparent electrode disposed on the first substrate of the light transmission part, and forming a color filter layer and a common electrode on the second substrate; Forming a retarder layer on the inner surface of one of the first and second substrates including the light transmitting portion and the light reflecting portion to retard the phase of light transmitted through the light reflecting portion by? / 4; And

상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정을 개재하며 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착하는 단계;를 포함할 수 있다.
And bonding the first and second substrates with liquid crystal interposed between the first and second substrates.

본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 선택적인 편광UV 조사를 통해 부분적으로 위상차를 구현할 수 있는 리타더층을 구비함에 따라 광투과부와 광반사부의 단일 셀갭으로 형성할 수 있어, 셀갭 차이로 인한 액정 배향 불량을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 셀 갭 변동으로 인한 정면 광학 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.The liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention can form a single cell gap of the light transmitting portion and the light reflecting portion by having the retarder layer which can partially realize the phase difference through the selective polarized UV irradiation, It is possible not only to prevent the orientation defects but also to prevent the front optical characteristics from being deteriorated due to the cell gap variation.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 하나의 리타더층을 통해 반사부와 투과부에서 편광특성을 일치시킬 수 있어, 제조 비용 및 제조 공정을 단순화시킬 수 있다.
Further, the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention can match the polarization characteristics at the reflective portion and the transmissive portion through one retarder layer, thereby simplifying the manufacturing cost and the manufacturing process.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 7은 UV 조사에 따른 리타더층의 굴절률 변화를 보여주는 그래프이다.
도 8은 경화온도 및 경화시간에 따른 리타더층의 위상차 변화를 보여주는 그래프이다.
1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
3 to 6 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
7 is a graph showing a change in the refractive index of the retarder layer according to UV irradiation.
8 is a graph showing the retardation change of the retarder layer with the curing temperature and the curing time.

본 발명의 실시예들은 액정표시장치의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings of a liquid crystal display device. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention.

따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of an apparatus may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치는 제 1 기판(110), 반사전극(120), 투명전극(130), 제 2 기판(210), 컬러필터층(220), 액정층(300) 및 리타더층(140)을 포함할 수 있다.1, a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention includes a first substrate 110, a reflective electrode 120, a transparent electrode 130, a second substrate 210, a color filter layer 220, A liquid crystal layer 300, and a retarder layer 140. [

구체적으로, 제 1 및 제 2 기판(110, 210)은 각각 광투과부(TA)와 광반사부(RA)로 구획된 화소를 다수개 구비할 수 있다. 이때, 제 1 기판(110)의 화소와 제 2 기판(210)의 화소는 서로 대응되도록 제 1 및 제 2 기판(110, 210)은 서로 마주하며 합착되어 있을 수 있다.Specifically, the first and second substrates 110 and 210 may include a plurality of pixels partitioned by the light transmitting portion TA and the light reflecting portion RA, respectively. At this time, the first and second substrates 110 and 210 may be attached to each other such that the pixels of the first substrate 110 and the pixels of the second substrate 210 correspond to each other.

도면에는 도시되지 않았으나, 제 1 기판(110)의 각 화소는 서로 교차하는 게이트 배선과 데이터 배선에 의해 정의될 수 있다. 각 화소에 배치되며 게이트 배선과 데이터 배선과 연결된 박막트랜지스터가 구비되어 있을 수 있다. 박막트랜지스터는 제 1 기판(110)상에 배치된 게이트 전극, 게이트 전극을 포함한 제 1 기판(110)상에 배치된 게이트 절연막, 게이크 전극과 대응된 게이트 절연막상에 배치된 반도체층, 반도체층 상에 서로 이격되어 배치된 소스 및 드레인 전극을 포함할 수 있다. 여기서, 게이트 전극은 게이트 배선과 연결되며, 소스 전극은 데이터 배선과 전기적으로 연결되어 있을 수 있다. 이에 더하여, 박막트랜지스터를 덮으며 제 1 기판(110)상에 배치된 보호막이 더 배치될 수 있다.Although not shown in the figure, each pixel of the first substrate 110 may be defined by a gate wiring and a data wiring intersecting with each other. A thin film transistor disposed in each pixel and connected to the gate line and the data line may be provided. The thin film transistor includes a gate electrode disposed on the first substrate 110, a gate insulating film disposed on the first substrate 110 including the gate electrode, a semiconductor layer disposed on the gate insulating film corresponding to the gauge electrode, And source and drain electrodes spaced apart from each other. Here, the gate electrode may be connected to the gate wiring, and the source electrode may be electrically connected to the data line. In addition, a protective film covering the thin film transistor and disposed on the first substrate 110 can be further disposed.

투명전극(130)은 광투과부(TA)와 대응된 제 1 기판(110), 예컨대 보호막 상에 배치될 수 있다. 여기서, 투명전극(130)은 박막트랜지스터의 드레인 전극과 전기적으로 연결되어, 박막트랜지스터의 구동신호에 의해 전압을 인가받아 액정을 구동할 수 있다.The transparent electrode 130 may be disposed on the first substrate 110, for example, a protective film corresponding to the light transmitting portion TA. Here, the transparent electrode 130 is electrically connected to the drain electrode of the thin film transistor, and the liquid crystal can be driven by receiving the voltage by the drive signal of the thin film transistor.

반사전극(120)은 광반사부(RA)와 대응된 제 1 기판(110), 예컨대 보호막 상에 배치될 수 있다. 여기서, 반사전극(120)의 하부나 상부에 투명전극(130)이 더 연장되어 배치될 수도 있다. 이때, 반사전극(120)은 박막트랜지스터의 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있을 수 있다.The reflective electrode 120 may be disposed on the first substrate 110, for example, a protective film corresponding to the light reflection portion RA. Here, the transparent electrode 130 may be further extended to the lower or upper portion of the reflective electrode 120. At this time, the reflective electrode 120 may be electrically connected to the drain electrode of the thin film transistor.

이에 더하여, 반사전극(120) 하부에 엠보싱 패턴이 더 배치될 수 있다. 여기서, 반사전극(120)은 엠보싱 패턴에 의해 엠보싱 형태를 가질 수 있어, 외부로부터 입사된 광 반사율을 높일 수 있다.In addition, an embossing pattern may be further disposed under the reflective electrode 120. Here, the reflective electrode 120 may have an embossed pattern by an embossing pattern, so that the light reflectance incident from the outside can be increased.

리타더층(140)은 반사전극(120)과 투명전극(130)을 포함한 제 1 기판(110)의 내측면에 배치될 수 있다. 즉, 리타더층(140)은 광투과부(TA)와 광반사부(RA)상에 배치될 수 있다. 여기서, 리타더층(140)은 광반사부(RA)와 대응된 제 1 영역(141)과 광투과부(TA)와 대응된 제 2 영역(142)을 포함할 수 있다. 이때, 제 1 영역(141)은 λ/4 의 위상 지연을 가질 수 있다. 또한, 제 2 영역(142)은 위상 지연을 발생시키지 않는다.The retarder layer 140 may be disposed on the inner surface of the first substrate 110 including the reflective electrode 120 and the transparent electrode 130. That is, the retarder layer 140 may be disposed on the light transmitting portion TA and the light reflecting portion RA. Herein, the retarder layer 140 may include a first region 141 corresponding to the light reflection portion RA and a second region 142 corresponding to the light transmission portion TA. At this time, the first region 141 may have a phase delay of? / 4. Also, the second region 142 does not cause a phase delay.

여기서, 광반사부(RA)에서 액정이 λ/4의 위상지연을 가지고, 제 1 영역(141)의 리타더층(140)이 λ/4 의 위상 지연을 발생시킴에 따라, 결국 제 1 및 제 2 기판(110, 210)을 투과한 광은 λ/2 의 위상 지연을 가질 수 있다. 또한, 광투과부(TA)에서 액정이 λ/2의 위상 지연을 가질 수 있다. 이에 따라, 광반사부(RA)와 광투과부(TA)의 위상 지연은 동일하게 발생될 수 있다. 즉, 광투과부(TA)의 셀갭과 광반사부(RA)의 셀갭은 동일하더라도, 리타더층(140)의 제 1 영역(141)에 의해 광반사부(RA)의 위상지연을 통해 광반사부(RA)와 광투과부(TA)의 편광상태는 동일해질 수 있다.As the liquid crystal in the light reflection portion RA has a phase delay of? / 4 and the retarder layer 140 in the first region 141 generates a phase delay of? / 4, 2 light transmitted through the substrates 110 and 210 may have a phase delay of? / 2. Further, the liquid crystal in the light transmitting portion TA can have a phase delay of? / 2. Accordingly, the phase delays of the light reflection portion RA and the light transmission portion TA can be generated in the same manner. That is, even if the cell gap of the light transmitting portion TA is the same as the cell gap of the light reflecting portion RA, the first region 141 of the retarder layer 140 can reflect light, The polarization states of the light transmitting portion RA and the light transmitting portion TA can be the same.

리타더층(140)의 위상차는 리타더층(140)의 두께와 굴절률을 통해 조절될 수 있다. 예컨대, 리타더층(140)의 위상차가 120nm를 가질 경우, 위상차 발현을 위한 리타더층(140)의 두께는 0.5㎛ 내지 10㎛의 범위를 가질 수 있다. 또한, 리타더층(140)의 굴절률은 0.02 내지 0.14의 범위를 가질 수 있다. 이때, 리타더층(140)의 바람직한 두께는 1.2㎛이며, 굴절률은 0.1일 수 있다.The retardation of the retarder layer 140 can be controlled through the thickness and the refractive index of the retarder layer 140. For example, when the retarder 140 has a retardation of 120 nm, the thickness of the retarder layer 140 for phase difference development may be in the range of 0.5 to 10 占 퐉. Further, the refractive index of the retarder layer 140 may be in the range of 0.02 to 0.14. At this time, the thickness of the retarder layer 140 is preferably 1.2 占 퐉, and the refractive index may be 0.1.

리타더층(140)은 편광 UV에 의해 편광방향의 수직 또는 수평방향으로 정렬하는 광반응 모노머와 고굴절 특성을 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 이에 따라, 리타더층(140)은 편광UV에 의한 분자배열로 굴절률을 발현시킴에 따라, 그 하부에 별도의 배향막을 형성하지 않아도 된다.The retarder layer 140 may include a photoreactive monomer aligned in the vertical or horizontal direction of the polarization direction by polarized UV and a monomer having high refractive index characteristics. Accordingly, since the retarder layer 140 exhibits a refractive index in a molecular arrangement by polarized UV, it is not necessary to form a separate alignment film under the retarder layer 140.

리타더층(140)은 제 1 영역(141)에서 위상차를 발현시킴에 따라, 제 2 영역(142)보다 제 1 영역(141)의 굴절률이 클 수 있다.The refractive index of the first region 141 may be larger than the refractive index of the second region 142 as the retarder 140 expands the phase difference in the first region 141.

본 발명의 실시예에서, 리타더층(140)은 반사전극(120)과 투명전극(130)상에 배치되는 것으로 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 리타더층(140)은 제 2 기판(210)의 내측면, 예컨대 컬러필터층 상부, 오버코트층 상부 및 공통전극 상부 중 어느 하나의 상부에 배치될 수 있다.In the embodiment of the present invention, the retarder layer 140 is disposed on the reflective electrode 120 and the transparent electrode 130, but the present invention is not limited thereto. For example, the retarder layer 140 may be disposed on the inner surface of the second substrate 210, such as above the color filter layer, over the overcoat layer, and over the common electrode.

한편, 제 1 기판(110)과 마주하는 제 2 기판(210)상에 컬러필터층과 블랙매트릭스층이 더 배치될 수 있다. On the other hand, a color filter layer and a black matrix layer may be further disposed on the second substrate 210 facing the first substrate 110.

컬러필터층과 블랙매트릭스층상에 반사전극(120) 및 투명전극(130)과 함께 액정의 구동을 위한 전계를 형성하기 위한 공통전극(230)이 더 배치될 수 있다.A common electrode 230 for forming an electric field for driving the liquid crystal together with the reflective electrode 120 and the transparent electrode 130 may be further disposed on the color filter layer and the black matrix layer.

이에 더하여, 도면에는 도시되지 않았으나, 컬러필터층 및 블랙매트릭스간의 단차를 제거하기 위해, 컬러필터층 및 블랙매트릭스과 공통전극 사이에 오버코트층이 더 배치될 수 있다.In addition, although not shown in the drawing, an overcoat layer may be further disposed between the color filter layer and the black matrix and the common electrode to remove the step between the color filter layer and the black matrix.

이에 더하여, 제 1 및 제 2 기판(110, 210)의 외측면에 각각 제 1 및 제 2 편광필름(150, 240)이 배치될 수 있다. 여기서, 제 1 및 제 2 편광필름(150, 240)은 서로 수직한 광투과축을 가질 수 있다.In addition, the first and second polarizing films 150 and 240 may be disposed on the outer surfaces of the first and second substrates 110 and 210, respectively. Here, the first and second polarizing films 150 and 240 may have light transmission axes perpendicular to each other.

본 발명의 실시예에서, 액정표시장치는 TN 모드의 액정표시장치로 한정하여 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 당업자라면 본 발명의 기술적 구성, 즉 단층의 리타더층으로 광반사부와 광투과부의 편광 상태를 일치시키는 기술적 구성을 IPS 모드, VA 모드, OCB 모드 및 ECB 모드에 충분히 적용할 수 있을 것이다. 이로써, 본 발명의 실시예에서, 공통전극은 제 2 기판의 내측면에 배치된 것으로 설명하였으나, 액정모드에 따라 공통전극은 제 1 기판의 내측면에 배치될 수도 있다.However, the present invention is not limited to the TN mode liquid crystal display, and a person skilled in the art will understand that the technical structure of the present invention, that is, the retarder layer of a single layer, The technical configuration for matching the polarization states can be sufficiently applied to the IPS mode, the VA mode, the OCB mode, and the ECB mode. Thus, in the embodiment of the present invention, although the common electrode is described as being disposed on the inner surface of the second substrate, the common electrode may be disposed on the inner surface of the first substrate depending on the liquid crystal mode.

따라서, 본 발명의 제 1 실시예에서와 같이, 부분적으로 위상차를 구현할 수 있는 리타더층을 이용하여 광투과부와 광반사부의 편광특성을 일치시킬 수 있으므로, 광투과부와 광반사부에서 셀갭 차이를 둘 필요, 즉, 액정표시장치는 단일 셀갭으로 형성될 수 있다. 이에 따라, 액정 배향 불량을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 셀 갭 변동으로 인한 정면 광학 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.Therefore, as in the first embodiment of the present invention, the polarizing characteristics of the light transmitting portion and the light reflecting portion can be made to coincide with each other by using the retarder capable of partially implementing the phase difference. That is, the liquid crystal display device can be formed with a single cell gap. Thus, it is possible not only to prevent the liquid crystal alignment defect, but also to prevent the front optical property due to the cell gap variation from being deteriorated.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 단일층으로 형성된 리타더층을 통해 반사부와 투과부에서 편광특성을 일치시킬 수 있어, 제조 비용 및 제조 공정을 단순화시킬 수 있다.
Also, the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention can match the polarization characteristics at the reflective portion and the transmissive portion through the retarder layer formed as a single layer, thus simplifying the manufacturing cost and the manufacturing process.

도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

여기서, 보상필름을 더 구비하는 것을 제외하고 앞서 설명한 제 1 실시예에 따른 액정표시장치와 동일한 기술적 구성을 포함하며, 이에 따라 제 1 실시예와 반복된 설명은 생략하기로 하고 제 1 실시예와 반복된 기술적 구성에 대해서 동일한 참조 번호를 부여하기로 한다.Here, the liquid crystal display device according to the first embodiment has the same technical structure as the liquid crystal display device according to the first embodiment except that the compensation film is further provided. Accordingly, the first embodiment and the repeated description will be omitted, The same reference numerals will be assigned to the repeated technical constructions.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치는 광투과부(TA)와 광반사부(RA)로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판(110), 광반사부(RA)의 제 1 기판(110)상에 배치된 반사전극(120), 광투과부(TA)의 제 1 기판(110)상에 배치된 투명전극(130), 제 1 기판(110)과 대응된 제 2 기판(210), 제 2 기판(210)의 내측면에 형성된 컬러필터층, 제 1 및 제 2 기판(110, 210) 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치된 공통전극(230), 제 1 및 제 2 기판(110, 210) 사이에 개재된 액정층(300), 및 광투과부(TA)와 광반사부(RA)를 포함한 제 1 및 제 2 기판(110, 210) 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치되며 광반사부(RA)에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층(140)을 포함할 수 있다.2, a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 110 having a plurality of pixels partitioned by a light transmitting portion TA and a light reflecting portion RA, A transparent electrode 130 disposed on the first substrate 110 of the light transmitting portion TA, and a reflective electrode 120 disposed on the first substrate 110 of the first substrate RA, A color filter layer formed on the inner surface of the second substrate 210, a common electrode 230 disposed on the inner surface of one of the first and second substrates 110 and 210, The liquid crystal layer 300 interposed between the first and second substrates 110 and 210 and the first and second substrates 110 and 210 including the light transmitting portion TA and the light reflecting portion RA And a retarder layer 140 disposed on the inner surface of the substrate of the light reflection part RA and delaying the phase of the light transmitted through the light reflection part RA by? / 4.

여기서, 제 1 및 제 2 기판(110, 210)의 내측면에 서로 수직하게 교차하는 광축을 갖는 제 1 및 제 2 편광필름(150, 240)이 각각 부착되어 있을 수 있다.Here, first and second polarizing films 150 and 240 having optical axes perpendicularly intersecting each other may be attached to inner surfaces of the first and second substrates 110 and 210, respectively.

제 2 기판(210)과 제 2 편광필름(240) 사이에 순차적으로 적층된 λ/2 파장 위상차 보상필름(260)과 λ/2 파장 위상차 보상필름(260)상에 배치된 λ/4 파장 위상차 보상필름(250)을 더 구비할 수 있다. 여기서, λ/2 파장 위상차 보상필름(260)의 광투과축은 제 2 편광 필름(240)의 광투과축을 기준으로 0°내지 45°의 범위를 가질 수 있다. 또한, λ/4 파장 위상차 보상필름(250)의 광투과축은 제 2 편광 필름(240)의 광투과축을 기준으로 45°내지 90°의 범위를 가질 수 있다. The retardation film 260 is formed by sequentially laminating a λ / 2 wavelength retardation compensation film 260 between the second substrate 210 and the second polarizing film 240 and a λ / 4 wavelength retardation film 260 disposed on the λ / A compensation film 250 may be further provided. Here, the light transmission axis of the? / 2 wavelength retardation compensation film 260 may have a range of 0 to 45 degrees with respect to the light transmission axis of the second polarizing film 240. The light transmission axis of the? / 4 wavelength retardation compensation film 250 may have a range of 45 to 90 degrees with respect to the light transmission axis of the second polarizing film 240.

여기서, λ/2 파장 위상차 보상필름(260)과 λ/4 파장 위상차 보상필름(250)은 광대역 가시광선, 예컨대 대부분의 가상광선이 파장대별로 편광판을 투과시키거나 투과시키지 않게 함으로써, 파장별 분산의 문제를 줄일 수 있다. 즉, λ/2 파장 위상차 보상필름(260)과 λ/4 파장 위상차 보상필름(250)은 액정표시장치의 콘트라스트비를 개선하는 역할을 할 수 있다.Here, the? / 2 wavelength retardation compensation film 260 and the? / 4 wavelength retardation compensation film 250 can prevent a broadband visible light, for example, most virtual light, from transmitting or transmitting through the polarizing plate per wavelength band, Problems can be reduced. That is, the? / 2 wavelength retardation compensation film 260 and the? / 4 wavelength retardation compensation film 250 can improve the contrast ratio of the liquid crystal display device.

여기서, λ/2 파장 위상차 보상필름(260)과 λ/4 파장 위상차 보상필름(250)은 제 2 기판(210)과 제 2 편광필름(240) 사이에 배치되는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 제 2 기판(210)의 내측면에 배치될 수도 있다.
In the above description, the? / 2 wavelength retardation compensation film 260 and the? / 4 wavelength retardation compensation film 250 are disposed between the second substrate 210 and the second polarizing film 240. However, And may be disposed on the inner surface of the second substrate 210.

도 3 내지 도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 공정을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.3 to 6 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 제 1 및 제 2 기판(110, 210)을 각각 제공한다. 제 1 및 제 2 기판(110, 210) 각각은 광투과부(TA)와 광반사부(RA)로 구획된 화소를 다수개 구비할 수 있다.Referring to FIG. 3, first and second substrates 110 and 210 are provided in a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, respectively. Each of the first and second substrates 110 and 210 may include a plurality of pixels divided into a light transmitting portion TA and a light reflecting portion RA.

여기서, 도면에는 도시하지 않았으나, 제 1 기판(110)상에 서로 교차하여 화소를 정의하며 형성된 게이트 배선과 데이터 배선이 형성되어 있을 수 있다. 또한, 각 화소에 게이트 배선 및 데이터 배선에 전기적으로 연결된 박막트랜지스터가 형성되어 있을 수 있다. 이에 더하여, 박막트랜지스터를 포함하는 제 1 기판(110)상에 보호막이 더 형성될 수 있다. 또한, 광반사부(RA)와 대응된 보호막상에 엠보싱 패턴을 더 형성할 수도 있다. 이때, 광반사부(RA)와 광투과부(TA)는 동일한 셀갭을 가지도록 형성한다.Here, although not shown in the drawing, gate wirings and data wirings may be formed on the first substrate 110 so as to define pixels and intersect with each other. Further, a thin film transistor electrically connected to the gate wiring and the data wiring may be formed in each pixel. In addition, a protective film may be further formed on the first substrate 110 including the thin film transistor. Further, an embossing pattern may be further formed on the protective film corresponding to the light reflecting portion RA. At this time, the light reflecting portion RA and the light transmitting portion TA are formed to have the same cell gap.

광투과부(TA) 및 광반사부(RA)에 각각 대응되어 제 1 기판(110)상에 투명전극(130)과 반사전극(120)을 형성한다. 여기서, 투명전극(130)과 반사전극(120)은 박막트랜지스터와 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 투명전극(130)을 광투과부(TA)과 광반사부(RA)에 형성한 후, 광반사부(RA)의 투명전극(130)상에 반사도전물질을 도포하여 반사전극(120)을 형성할 수 있다. 여기서, 광반사부(RA)에 엠보싱 패턴이 형성되어 있을 경우, 반사전극(120)은 엠보싱 패턴에 의해 엠보싱 형태를 가질 수 있다. 본 발명의 실시예에서 투명전극(130)을 광투과부(TA)와 광반사부(RA) 전면에 형성하고, 반사전극(120)을 광반사부(RA)의 투명전극상에 형성하는 것으로 설명하였으나, 본 발명의 실시예에서 이를 한정하는 것은 아니며 다양한 방법과 형태로 형성할 수 있다.A transparent electrode 130 and a reflective electrode 120 are formed on the first substrate 110 in correspondence with the light transmitting portion TA and the light reflecting portion RA, respectively. Here, the transparent electrode 130 and the reflective electrode 120 may be electrically connected to the thin film transistor. After the transparent electrode 130 is formed on the light transmitting portion TA and the light reflecting portion RA, a reflective conductive material is coated on the transparent electrode 130 of the light reflecting portion RA to form the reflective electrode 120, Can be formed. Here, when an embossing pattern is formed on the light reflection part RA, the reflection electrode 120 may have an embossing pattern by an embossing pattern. In the embodiment of the present invention, the transparent electrode 130 is formed on the entire surface of the light transmission portion TA and the light reflection portion RA and the reflection electrode 120 is formed on the transparent electrode of the light reflection portion RA However, the present invention is not limited to these embodiments, and various methods and forms can be used.

광투과부(TA)와 광반사부(RA)를 포함한 제 1 기판(110)의 내측면, 예컨대 투명전극(130) 및 반사전극(120)을 포함한 보호막 상에 예비 리타더층(140a)을 형성한다. 여기서, 예비 리타더층(140a)은 도포공정, 예컨대 스프레이 코팅법, T-다이 코팅법, 딥 코팅법, 스핀 코팅법, 바 코팅법, 및 스크린 코팅법등을 통해 형성할 수 있다.A preliminary retarder layer 140a is formed on the protective film including the inner surface of the first substrate 110 including the light transmitting portion TA and the light reflecting portion RA, for example, the transparent electrode 130 and the reflective electrode 120 . Here, the preliminary retarder layer 140a can be formed through a coating process such as a spray coating process, a T-die coating process, a dip coating process, a spin coating process, a bar coating process, and a screen coating process.

예비 리타더층(140a)은 편광 UV와 후경화(post cure)를 통해 위상차를 발현할 수 있는 재질, 예컨대 아크릴계 경화 재질을 포함할 수 있다.The preliminary retarder layer 140a may include a material capable of developing a retardation through polarized UV and post cure, for example, an acrylic hardening material.

형성하고자 하는 리타더층(140)의 위상차가 120nm를 가질 경우, 위상차 발현을 위한 예비 리타더층(140a)의 두께는 0.5㎛ 내지 10㎛의 범위내로 형성할 수 있다.When the retarder 140 to be formed has a retardation of 120 nm, the thickness of the preliminary retarder layer 140a for phase difference development may be in the range of 0.5 to 10 占 퐉.

도 4를 참조하면, 예비 리타더층(140a)을 형성한 후, 예비 리타더층(140a) 상에 광반사부(RA)와 대응된 개구를 갖는 제 1 마스크(M1)를 제공한다. 이후, 제 1 마스크(M1)를 포함한 예비 리타더층(140a) 상으로 제 1 UV를 조사한다. 제 1 UV는 제 1 마스크(M1)로 인해 광반사부(RA)에 대응된 예비 리타더층(140a) 상으로만 조사되어, 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 제 1 영역(141)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4, after forming the preliminary retarder layer 140a, a first mask M1 having an opening corresponding to the light reflection portion RA on the preliminary retarder layer 140a is provided. Then, the first UV is irradiated onto the preliminary retarder layer 140a including the first mask M1. The first UV is irradiated only onto the preliminary retarder layer 140a corresponding to the light reflection portion RA due to the first mask M1 so that a first region 141 for delaying the phase of the light by? .

여기서, 제 1 UV는 예비 리타더층(140a)에 위상차를 발현시키기 위하여 편광 UV일 수 있다. Here, the first UV may be polarized UV to develop a retardation in the preliminary retarder layer 140a.

리타더층(140)의 위상차는 리타더층(140)의 두께와 굴절률을 통해 조절될 수 있다. 여기서, 리타더층(140)의 굴절률은 제 1 UV의 노광에너지에 의해 조절될 수 있다. 즉, 제 1 UV의 노광에너지에 따라 리타더층(140)의 굴절률이 증가할 수 있다. 여기서, 제 1 UV, 즉 편광 UV 노광 에너지는 1mJ 내지 1000mJ의 범위내에서 수행될 수 있다. 이는 제 1 UV의 노광 에너지가 1mJ미만일 경우, 원하는 굴절률을 얻을 수 없으며, 반면, 1000mJ을 초과할 경우, 굴절률의 변화가 없기 때문이다. The retardation of the retarder layer 140 can be controlled through the thickness and the refractive index of the retarder layer 140. Here, the refractive index of the retarder layer 140 can be controlled by the exposure energy of the first UV. That is, the refractive index of the retarder layer 140 may increase with the exposure energy of the first UV. Here, the first UV, i.e., the polarization UV exposure energy, can be performed within the range of 1 mJ to 1000 mJ. This is because when the exposure energy of the first UV is less than 1 mJ, a desired refractive index can not be obtained, whereas when it exceeds 1000 mJ, there is no change in the refractive index.

이에 더하여, 예비 리타더층(140a)은 광개시제를 포함할 수 있다. 여기서, 광개시제의 종류에 따라, 제 1 UV의 광원 파장을 선택할 수 있다. 예컨대, 광개시제가 UV A 타입일 경우, 제 1 UV의 광원 파장은 315nm 내지 400nm의 범위에서 선택될 수 있으며, 광개시제가 UV B 타입일 경우, 제 1 UV의 광원 파장은 280nm 내지 315nm의 범위에서 선택될 수 있으며, 광개시제가 UV C타입일 경우, 제 1 UV의 광원 파장은 100nm 내지 280nm의 범위에서 선택될 수 있다. In addition, the preliminary retarder layer 140a may comprise a photoinitiator. Here, the light source wavelength of the first UV can be selected depending on the kind of the photoinitiator. For example, when the photoinitiator is of the UV A type, the light source wavelength of the first UV may be selected from the range of 315 nm to 400 nm, and when the photoinitiator is of the UV B type, the light source wavelength of the first UV may be selected within the range of 280 nm to 315 nm And when the photoinitiator is UV C type, the light source wavelength of the first UV may be selected in the range of 100 nm to 280 nm.

도 5를 참조하면, 제 1 UV를 조사한 후, 예비 리타더층(140a) 상에 광투과부(TA)와 대응된 개구를 갖는 제 2 마스크(M2)를 제공한다. 이후, 제 2 마스크(M2)를 포함한 예비 리타더층(140a) 상에 제 2 UV를 조사한다. 여기서, 제 2 UV는 예비 리터더층(140a)에 굴절률의 변화없이 경화시킬 수 있는 비편광 UV일 수 있다.Referring to Fig. 5, after irradiating the first UV, a second mask M2 having an opening corresponding to the light transmitting portion TA is provided on the preliminary retarder layer 140a. Then, the second UV is irradiated onto the preliminary retarder layer 140a including the second mask M2. Here, the second UV may be unpolarized UV that can be cured without changing the refractive index in the preliminary retarder layer 140a.

본 발명의 실시예에서, 제 1 UV를 조사한 후 제 2 UV를 조사하는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 제 2 UV를 조사한 후, 제 1 UV를 조사할 수도 있다.In the embodiment of the present invention, the first UV is irradiated and then the second UV is irradiated. However, the present invention is not limited thereto. For example, after the second UV irradiation, the first UV may be irradiated.

제 2 UV 조사를 한 후, 예비 리타더층(140a)에 후경화(Post cure)를 수행하여 리타더층(140)을 형성할 수 있다. 후경화는 열경화를 통해 수행될 수 있다. 열 경화 조건에 따라, 제 1 영역(141)의 리타더층(140)의 위상차가 조절될 수 있다. 여기서, 열 경화의 경화온도에 따라 증가될 수 있다. 예컨대, 열 경화 온도는 80℃ 내지 160℃의 범위내에서 선택적으로 수행할 수 있다. 또한, 열 경화 시간은 1분 내지 120분의 범위내에서 선택적으로 수행할 수 있다. 이는, 열 경화 온도나 열 경화 시간의 범위 미만일 경우, 원하는 리타더층(140)의 위상차를 얻을 수 없었으며, 열 경화 온도나 열 경화 시간의 범위를 초과할 경우, 리타더층(140)의 위상차의 변화가 없었기 때문이다.After the second UV irradiation, the retarder layer 140 can be formed by performing post cure on the preliminary retarder layer 140a. Post curing can be performed through thermal curing. According to the thermosetting condition, the retardation of the retarder layer 140 of the first region 141 can be adjusted. Here, it can be increased according to the curing temperature of the thermosetting. For example, the heat curing temperature can be optionally selected within the range of 80 to 160 占 폚. In addition, the heat curing time can be selectively performed within a range of 1 minute to 120 minutes. When the temperature is less than the range of the thermosetting temperature or the thermosetting time, the phase difference of the desired retarder layer 140 can not be obtained, and when the temperature exceeds the thermosetting temperature or the thermosetting time range, There was no change.

도 6을 참조하면, 제 1 기판(110)과 별도로 제 2 기판(210)상에 컬러필터층(220)과 블랙매트릭스층을 형성한다. 이후, 컬러필터층(220)과 블랙매트릭스층 상에 공통전극(230)을 형성한다. 이때, 컬러필터층(220) 및 블랙매트릭스층과 공통전극(230)사이에 컬러필터층(220)과 블랙매트릭스층의 단차를 제거하기 위해 오버 코트층을 더 형성할 수 있다.Referring to FIG. 6, a color filter layer 220 and a black matrix layer are formed on a second substrate 210 separately from the first substrate 110. Then, a common electrode 230 is formed on the color filter layer 220 and the black matrix layer. At this time, an overcoat layer may be further formed between the color filter layer 220 and the black matrix layer and the common electrode 230 to remove a step between the color filter layer 220 and the black matrix layer.

이후, 제 1 및 제 2 기판(110, 210) 사이에 액정을 주입하여 액정층(300)을 형성하며, 제 1 및 제 2 기판(110, 210)을 합착하여 액정표시장치를 제조할 수 있다.The liquid crystal layer 300 may be formed by injecting liquid crystal between the first and second substrates 110 and 210 and the first and second substrates 110 and 210 may be bonded together to manufacture a liquid crystal display device .

본 발명의 실시예에서, 리타더층(140)은 제 1 기판(110)의 내측면에 형성하는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 리타더층(140)은 제 2 기판(210)의 내측면, 예컨대 컬러필터층(220) 상부, 오버코트층 상부 및 공통전극(230) 상부 중 어느 하나의 상부에 형성할 수도 있다.In the embodiment of the present invention, the retarder layer 140 is formed on the inner surface of the first substrate 110, but the present invention is not limited thereto. For example, the retarder layer 140 may be formed on the inner surface of the second substrate 210, for example, above the color filter layer 220, the overcoat layer, and the upper portion of the common electrode 230.

이에 더하여, 제 1 및 제 2 기판(110, 210)의 외측면에 서로 수직하는 광투과축을 갖는 제 1 및 제 2 편광 필름(150, 240)을 각각 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the method may further include forming first and second polarizing films 150 and 240 having light transmission axes perpendicular to each other on outer surfaces of the first and second substrates 110 and 210, respectively.

또한, 제 2 편광 필름(240)을 형성하기 이전에, 파장별 분산을 방지하여 콘트라스트비를 향상시키기 위해 제 2 기판(210)의 외측면에 λ/2 파장 위상차 보상필름(260)과 λ/4 파장 위상차 보상필름(250)을 더 형성할 수 있다. 이때, λ/2 파장 보상필름(250)의 광투과축은 제 2 편광 필름(240)의 광투과축을 기준으로 0°내지 45°의 범위를 가지며, λ/4 파장 위상차 보상필름(250)의 광투과축은 제 2 편광 필름(240)의 광투과축을 기준으로 45°내지 90°의 범위를 가질 수 있다. 여기서, λ/2 파장 위상차 보상필름(260)과 λ/4 파장 위상차 보상필름(250)은 제 2 기판(210)과 제 2 편광필름(240) 사이에 형성하는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 제 2 기판(210)의 내측면에 형성할 수도 있다.Further, before the second polarizing film 240 is formed, a? / 2 wavelength retardation compensation film 260 and a? / 2 retardation compensation film 260 are formed on the outer surface of the second substrate 210 to prevent dispersion by wavelengths to improve the contrast ratio. A four-wavelength retardation compensation film 250 can be further formed. At this time, the light transmission axis of the? / 2 wavelength compensation film 250 has a range of 0 to 45 degrees with respect to the light transmission axis of the second polarizing film 240, and the light of the? / 4 wavelength retardation compensation film 250 The transmission axis may have a range of 45 ° to 90 ° with respect to the light transmission axis of the second polarizing film 240. Here, it is described that the? / 2 wavelength retardation compensation film 260 and the? / 4 wavelength retardation compensation film 250 are formed between the second substrate 210 and the second polarizing film 240, Or may be formed on the inner surface of the second substrate 210.

도 7은 UV 조사에 따른 리타더층의 굴절률 변화를 보여주는 그래프이다.7 is a graph showing a change in the refractive index of the retarder layer according to UV irradiation.

도 7에서와 같이, UV 조사 에너지에 따라 리타더층의 굴절률이 증가하는 것을 확인할 수 있었다.As shown in FIG. 7, it was confirmed that the refractive index of the retarder layer increases according to the UV irradiation energy.

도 8은 경화온도 및 경화시간에 따른 리타더층의 위상차 변화를 보여주는 그래프이다.8 is a graph showing the retardation change of the retarder layer with the curing temperature and the curing time.

도 8에서와 같이, 경화온도 및 경화시간에 따라 리타더층의 위상차가 변화되는 것을 확인할 수 있었다.As shown in FIG. 8, it was confirmed that the retardation of the retarder layer changes according to the curing temperature and the curing time.

따라서, 본 발명의 실시예에서와 같이, 리타더층의 형성 조건, 즉 UV 조사 에너지, 경화온도 및 경화시간등을 통하여 리타더층의 위상차를 조절할 수 있었다.Therefore, as in the embodiment of the present invention, the phase difference of the retarder layer can be controlled through the formation conditions of the retarder layer, that is, the UV irradiation energy, the curing temperature, and the curing time.

또한, 하나의 리타더층을 통해 반사부와 투과부에서 편광특성을 일치시킬 수 있어, 제조 비용 및 제조 공정을 단순화시킬 수 있다.Further, polarization characteristics can be made to coincide with each other in the reflective portion and the transmissive portion through one retarder layer, which can simplify the manufacturing cost and the manufacturing process.

또한, 광투과부와 광반사부의 셀갭 차이를 두지 않고 하나의 리타더층을 통해 반사부와 투과부에서 편광특성을 일치시킬 수 있으므로, 광투과부와 광반사부의 셀갭 차이로 인한 액정의 배향 불량을 방지할 수 있다.
In addition, since polarization characteristics can be made to coincide with each other in the reflective portion and the transmissive portion through one retarder layer without providing a difference in cell gap between the transmissive portion and the reflective portion, it is possible to prevent the alignment defect of the liquid crystal due to the difference in cell gap between the transmissive portion and the reflective portion have.

110 : 제 1 기판 120 : 반사전극
130 : 투명전극 140 : 리타더층
150 : 제 1 편광필름 210 : 제 2 기판
220 : 컬러필터층 230 : 공통전극
240 : 제 2 편광필름 300 : 액정층
110: first substrate 120: reflective electrode
130: transparent electrode 140: retarder layer
150: first polarizing film 210: second substrate
220: color filter layer 230: common electrode
240: second polarizing film 300: liquid crystal layer

Claims (14)

광 투과부와 광 반사부로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판;
상기 광반사부의 상기 제 1 기판상에 배치된 반사전극;
상기 광투과부의 상기 제 1 기판상에 배치된 투명전극;
상기 제 1 기판과 대응된 제 2 기판;
상기 제 2 기판의 내측면에 형성된 컬러필터층;
상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치된 공통전극;
상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층; 및
상기 광투과부와 상기 광 반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치되며, 상기 광반사부에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층;
을 포함하고, 상기 리타더층은 편광 UV에 의해 편광 방향의 수직 또는 수평 방향으로 정렬하는 광반응 모노머를 포함하는 액정표시장치.
A first substrate having a plurality of pixels divided into a light transmitting portion and a light reflecting portion;
A reflective electrode disposed on the first substrate of the light reflection portion;
A transparent electrode disposed on the first substrate of the light transmitting portion;
A second substrate corresponding to the first substrate;
A color filter layer formed on an inner surface of the second substrate;
A common electrode disposed on an inner surface of one of the first and second substrates;
A liquid crystal layer interposed between the first and second substrates; And
A retarder layer disposed on an inner surface of the substrate of either the first or second substrate including the light transmitting portion and the light reflecting portion and retarding the phase of light transmitted through the light reflecting portion by? / 4;
Wherein the retarder layer comprises a photoreactive monomer aligned in the vertical or horizontal direction of the polarization direction by polarized UV.
제 1 항에 있어서,
상기 리타더층은 120nm의 지연을 갖는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the retarder layer has a retardation of 120 nm.
제 2 항에 있어서,
상기 리타더층의 두께는 0.5㎛ 내지 10㎛의 범위를 갖는 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the thickness of the retarder layer is in the range of 0.5 占 퐉 to 10 占 퐉.
제 2 항에 있어서,
상기 광반사부에서 상기 리타더층의 굴절률은 0.02 내지 0.14의 범위를 갖는 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
And the refractive index of the retarder layer in the light reflecting portion has a range of 0.02 to 0.14.
제 1 항에 있어서,
상기 광투과부와 대응된 영역의 리타더층보다 상기 광반사부에 대응된 영역의 리타더층이 더 큰 굴절률을 갖는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the retarder in the region corresponding to the light reflection portion has a larger refractive index than the retarder layer in the region corresponding to the light transmission portion.
제 1 항에 있어서,
상기 광투과부의 셀갭과 상기 광반사부의 셀갭은 동일한 액정표시장치.
The method according to claim 1,
And the cell gap of the light transmitting portion and the cell gap of the light reflecting portion are the same.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 기판의 외측면에 배치된 제 1 편광 필름;
상기 제 2 기판의 외측면에 배치되고 상기 제 1 편광 필름과 수직하는 광투과축을 갖는 제 2 편광 필름; 및
상기 제 2 기판 중 어느 일면에 배치된 λ/2 파장 위상차 보상필름;
상기 λ/2 파장 위상차 보상필름상에 배치된 λ/4 파장 위상차 보상필름을 더 구비하며,
상기 λ/2 파장 위상차 보상필름의 광투과축은 상기 제 2 편광 필름을 기준으로 0°내지 45°의 범위를 가지며,
상기 λ/4 파장 위상차 보상필름의 광투과축은 상기 제 2 편광 필름을 기준으로 45°내지 90°의 범위를 갖는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
A first polarizing film disposed on an outer surface of the first substrate;
A second polarizing film disposed on an outer surface of the second substrate and having a light transmission axis perpendicular to the first polarizing film; And
A? / 2 wavelength retardation compensation film disposed on any one surface of the second substrate;
And a? / 4 wavelength retardation compensation film disposed on the? / 2 wavelength retardation compensation film,
The light transmission axis of the? / 2 wavelength retardation compensation film has a range of 0 to 45 degrees with respect to the second polarizing film,
And the light transmission axis of the? / 4 wavelength retardation compensation film has a range of 45 ° to 90 ° with respect to the second polarizing film.
광 투과부와 광 반사부로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판과 제 2 기판을 제공하는 단계;
상기 광반사부의 상기 제 1 기판상에 배치된 반사전극과 상기 광투과부의 상기 제 1 기판상에 배치된 투명전극을 형성하고, 상기 제 2 기판에 컬러필터층과 공통전극을 형성하는 단계;
상기 광투과부와 상기 광 반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 상기 광반사부에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층을 형성하는 단계; 및
상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정을 개재하며 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착하는 단계; 를 포함하고,
상기 리타더층을 형성하는 단계는, 상기 광투과부와 상기 광반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판의 어느 일면에 예비 리타더층을 형성하는 단계;
상기 예비 리타더층의 광반사부에 편광 UV를 조사하고, 상기 예비 리타더층의 광투과부에 비편광 UV를 조사하는 단계; 및
상기 예비 리타더층을 열경화시키는 단계; 를 포함하며,
상기 리타더층은 상기 편광 UV에 의해 편광 방향의 수직 또는 수평 방향으로 정렬하는 광반응 모노머를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.
Providing a first substrate and a second substrate having a plurality of pixels partitioned into a light transmitting portion and a light reflecting portion;
Forming a reflective electrode disposed on the first substrate of the light reflection part and a transparent electrode disposed on the first substrate of the light transmission part, and forming a color filter layer and a common electrode on the second substrate;
Forming a retarder layer on the inner surface of one of the first and second substrates including the light transmitting portion and the light reflecting portion to retard the phase of light transmitted through the light reflecting portion by? / 4; And
Attaching the first and second substrates through a liquid crystal between the first and second substrates; Lt; / RTI >
The step of forming the retarder layer may include: forming a preliminary retarder layer on one surface of the first and second substrates including the light transmitting portion and the light reflecting portion;
Irradiating the light reflection portion of the preliminary retarder layer with polarized UV and irradiating the light transmission portion of the preliminary retarder layer with unpolarized UV; And
Thermally curing the preliminary retarder layer; / RTI >
Wherein the retarder layer comprises a photoreactive monomer aligned in the vertical or horizontal direction of the polarization direction by the polarized UV.
삭제delete 제 8 항에 있어서,
상기 편광 UV의 노광 에너지는 1mJ 내지 1000mJ의 범위를 갖는 액정표시장치의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
And the exposure energy of the polarized UV is in the range of 1 mJ to 1000 mJ.
제 8 항에 있어서,
상기 예비 리타더층의 열경화 온도는 80℃ 내지 160℃의 범위를 갖는 액정표시장치의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the preliminary retarder layer has a thermosetting temperature in the range of 80 캜 to 160 캜.
제 8 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정을 개재하며 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착하는 단계 이후에,
상기 제 1 및 제 2 기판의 외측면에 서로 수직하는 광투과축을 갖는 제 1 및 제 2 편광 필름을 각각 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
After the step of bonding the first and second substrates through the liquid crystal between the first and second substrates,
And forming first and second polarizing films respectively having light transmission axes perpendicular to each other on outer surfaces of the first and second substrates.
제 12 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 기판의 외측면에 서로 수직하는 광투과축을 갖는 제 1 및 제 2 편광 필름을 각각 형성하는 단계 이전에,
상기 제 2 기판 중 어느 일면에 배치된 λ/2 파장 위상차 보상필름과 상기 λ/2 파장 위상차 보상필름상에 배치된 λ/4 파장 위상차 보상필름을 더 형성하며,
상기 λ/2 파장 위상차 보상필름의 광투과축은 상기 제 2 편광 필름을 기준으로 0°내지 45°의 범위를 가지며, 상기 λ/4 파장 위상차 보상필름의 광투과축은 상기 제 2 편광 필름을 기준으로 45°내지 90°의 범위를 갖는 액정표시장치의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
Before forming the first and second polarizing films respectively having light transmission axes perpendicular to each other on outer surfaces of the first and second substrates,
/ 2 wavelength retardation compensation film disposed on one surface of the second substrate and a? / 4 wavelength retardation compensation film disposed on the? / 2 wavelength retardation compensation film,
The light transmission axis of the? / 2 wavelength retardation compensation film has a range of 0 to 45 degrees with respect to the second polarizing film, and the light transmission axis of the? / 4 wavelength retardation compensation film is And has a range of 45 DEG to 90 DEG.
광투과부와 광반사부로 구획된 화소를 다수개 구비하는 제 1 기판;
상기 광반사부의 상기 제 1 기판상에 배치된 반사전극;
상기 광투과부의 상기 제 1 기판상에 배치된 투명전극;
상기 제 1 기판과 대응된 제 2 기판;
상기 제 2 기판의 내측면에 형성된 컬러필터층;
상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치된 공통전극;
상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층; 및
상기 광투과부와 상기 광반사부를 포함한 상기 제 1 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 내측면에 배치되며, 상기 광반사부에서 투과되는 광의 위상을 λ/4 로 지연시키는 리타더층; 을 포함하고,
상기 광반사부에 대응되는 액정층은 λ/4의 위상지연을 갖고, 상기 광투과부에 대응되는 액정층은 λ/2의 위상지연을 갖는 액정표시장치.
A first substrate having a plurality of pixels divided into a light transmitting portion and a light reflecting portion;
A reflective electrode disposed on the first substrate of the light reflection portion;
A transparent electrode disposed on the first substrate of the light transmitting portion;
A second substrate corresponding to the first substrate;
A color filter layer formed on an inner surface of the second substrate;
A common electrode disposed on an inner surface of one of the first and second substrates;
A liquid crystal layer interposed between the first and second substrates; And
A retarder layer disposed on an inner surface of the substrate of either the first or second substrate including the light transmitting portion and the light reflecting portion and retarding the phase of light transmitted through the light reflecting portion by? / 4; / RTI >
The liquid crystal layer corresponding to the light reflection portion has a phase delay of? / 4, and the liquid crystal layer corresponding to the light transmission portion has a phase delay of? / 2.
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