KR101874396B1 - Quantum rod luminescent display device and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 다수의 화소영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판의 상의 각 화소영역에 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극 상부에 형성되며 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층과; 상기 퀀텀 로드층 상부에 형성된 제 2 전극과; 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판과; 상기 제 1 기판의 외측면에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하는 퀀텀 로드 발광 표시장치 및 이의 제조 방법을 제공한다.The present invention provides a liquid crystal display comprising: a first substrate on which a plurality of pixel regions are defined; A first electrode formed on each pixel region of the first substrate; A quantum rod layer formed on the first electrode and having a plurality of quantum rods oriented in one direction; A second electrode formed on the quantum rod layer; A second substrate facing the first substrate; And a backlight unit provided on an outer surface of the first substrate, and a method of manufacturing the same.

Description

퀀텀 로드 발광 표시장치 및 이의 제조 방법{Quantum rod luminescent display device and method of fabricating the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a quantum rod light emitting display device,

본 발명은 퀀텀 로드 발광 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광효율을 극대화시킨 퀀텀 로드 발광 표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a quantum rod light emitting display, and more particularly, to a quantum rod light emitting display having a maximized light efficiency and a manufacturing method thereof.

최근, 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판표시장치(flat panel display)가 널리 개발되어 다양한 분야에 적용되고 있다. 2. Description of the Related Art Flat panel displays having excellent characteristics such as thinning, lightening, and low power consumption have been widely developed and applied to various fields.

대표적인 평판표시장치로서 액정표시장치가 가장 널리 보급되어 이용되고 있다.As a representative flat panel display device, a liquid crystal display device has been widely used and widely used.

하지만, 액정표시장치는 도 1(일반적인 액정표시장치의 개략적인 단면 구성을 나타낸 도면)을 참조하면, 제 1 및 제 2 기판(미도시)과 배향막(미도시)과 컬러필터층(미도시) 및 액정층(미도시)을 포함하는 액정패널(10)과 다수의 광학필름(22)을 포함하는 백라이트 유닛(20)과, 상/하부 편광판(31, 32)을 포함하여 구성되고 있다.However, referring to FIG. 1 (a diagram showing a schematic sectional configuration of a general liquid crystal display device), a liquid crystal display device includes first and second substrates (not shown), an alignment film (not shown), a color filter layer A liquid crystal panel 10 including a liquid crystal layer (not shown), a backlight unit 20 including a plurality of optical films 22, and upper and lower polarizers 31 and 32.

즉, 액정표시장치(1)는 그레이 레벨이 구현을 위해 액정층(미도시)을 포함하여 다수의 광학필름(22)과 편광판(31, 32)을 필요로 하고 있으며, 풀 컬러를 표현하기 위해 액정패널 내에 컬러필터층(미도시)을 필요로 하고 있다. That is, the liquid crystal display device 1 requires a plurality of optical films 22 and polarizing plates 31 and 32 including a liquid crystal layer (not shown) for gray level implementation, A color filter layer (not shown) is required in the liquid crystal panel.

따라서, 액정표시장치(1)는 상기 백라이트 유닛(20)의 광원(미도시)으로부터 나온 빛은 이들 다수의 광학필름(22)과 컬러필터층(미도시) 및 편광판(31, 32)을 투과하면서 대부분이 소실되어 투과율 저하를 일으키고 있다. Therefore, in the liquid crystal display device 1, light emitted from a light source (not shown) of the backlight unit 20 passes through the plurality of optical films 22, the color filter layer (not shown) and the polarizing plates 31 and 32 Most of it is lost and the transmittance is decreasing.

즉, 액정표시장치(1)는 백라이트 유닛(20)의 광원(미도시)으로부터 나온 빛량을 100이라 할 때 최종적으로 액정표시장치(1)를 투과하여 나온 빛량은 5 내지 10 정도가 되므로 투과효율이 매우 낮다. That is, when the amount of light emitted from the light source (not shown) of the backlight unit 20 is 100, the amount of light finally transmitted through the liquid crystal display device 1 is about 5 to 10, Is very low.

따라서 액정표시장치(1)는 표시소자로서 적절한 휘도 구현을 위해 백라이트 유닛(20)으로부터 나오는 빛의 휘도를 늘려야 하므로 소비전력이 증가되며, 더욱이 제조를 위해 요구되는 부품수가 많아 제조 비용을 저감시키는데 많은 어려움이 있다. Therefore, the luminance of the light emitted from the backlight unit 20 must be increased for realizing a proper luminance as a display device, and therefore the power consumption is increased. Furthermore, since the number of parts required for manufacturing is increased, There is a difficulty.

따라서 최근에는 이러한 액정표시장치(1)의 저투과율의 문제를 해결하여 소비전력을 저감시키고 상대적으로 구비되는 구성요소가 작아 제조 비용을 저감시킬 수 있는 새로운 평판표시장치가 요구되고 있다. Accordingly, there is a demand for a new flat panel display device which can solve the problem of low transmittance of the liquid crystal display device 1 so as to reduce the power consumption and reduce the manufacturing cost by using a relatively small number of constituent elements.

한편, 이러한 시대적 요구에 부응하여 별도의 편광판과 컬러필터층 및 광학필름을 필요로 하지 않는 것을 특징으로 하는 유기전계 발광소자가 제안되었다. Meanwhile, an organic electroluminescent device has been proposed, which does not require a separate polarizing plate, a color filter layer and an optical film in response to demands of the time.

이러한 유기전계 발광소자(organic electroluminescent device)는, 전자 주입 전극인 음극과 정공 주입 전극인 양극 사이에 형성된 유기 발광층에 전하를 주입하여 전자와 정공이 쌍을 이룬 후 소멸하면서 빛을 내는 소자이다.Such an organic electroluminescent device is a device that injects electric charge into an organic light emitting layer formed between a cathode, which is an electron injection electrode, and an anode, which is a hole injection electrode, and pairs electrons and holes and then extinguishes light.

이러한 유기전계 발광소자는 플라스틱과 같은 유연한 기판(flexible substrate) 위에도 형성할 수 있을 뿐 아니라, 자체 발광에 의해 색감이 뛰어나며, 액정표시장치에 비해 낮은 전압에서 (10V 이하) 구동이 가능하고, 전력 소모가 비교적 적다는 장점이 있다.Such an organic electroluminescent device can be formed not only on a flexible substrate such as a plastic but also has excellent color sensitivity due to self-luminescence and can be driven at a lower voltage (10 V or less) than a liquid crystal display device, Is relatively small.

하지만, 이러한 유기전계 발광소자는 유기 발광층을 이루는 유기 발광 물질의 라이프 타임이 발광하는 색별로 큰 차이가 있고 특히 청색 발광 물질의 경우 상대적으로 작은 라이프 타임을 가짐으로서 통상적인 표시장치의 수명보다 작은 문제가 발생되고 있다.However, such an organic electroluminescent device has a large difference in the lifetime of the organic luminescent material of the organic luminescent layer from one color to another. In particular, the blue luminescent material has a relatively small lifetime, .

따라서, 여전히 고투과율을 가지며 저소비전력 구동이 가능하고 동시에 액정표시장치 수준의 수명을 갖는 평판표시장치가 요구되고 있는 실정이다.
Therefore, there is a demand for a flat panel display device having a high transmittance, capable of driving a low power consumption and having a lifetime at the level of a liquid crystal display device.

본 발명은, 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 편광판을 필요로 하지 않아 큰 투과 효율을 가지며 액정표시장치 대비 간단한 구성을 가져 제조 비용을 저감시킬 수 있는 표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a display device which does not require a polarizing plate and has a large transmission efficiency and has a simple structure compared to a liquid crystal display device, do.

본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치는, 다수의 화소영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판의 상의 각 화소영역에 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극 상부에 형성되며 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층과; 상기 퀀텀 로드층 상부에 형성된 제 2 전극과; 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판과; 상기 제 1 기판의 외측면에 구비되는 백라이트 유닛을 포함한다. A quantum rod light emitting display according to an embodiment of the present invention includes a first substrate on which a plurality of pixel regions are defined; A first electrode formed on each pixel region of the first substrate; A quantum rod layer formed on the first electrode and having a plurality of quantum rods oriented in one direction; A second electrode formed on the quantum rod layer; A second substrate facing the first substrate; And a backlight unit provided on an outer surface of the first substrate.

상기 퀀텀 로드층은 각 화소영역별로 패터닝되어 형성되며, 상기 화소영역은 적, 녹, 청색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역으로 나뉘며, 상기 퀀텀 로드층은 상기 제 1, 2, 3 화소영역별로 서로 다른 크기를 갖는 퀀텀 로드를 구비한 것이 특징이며, 이때, 상기 제 2 기판에는 상기 제 1, 2, 3 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 구비될 수 있다. The quantum rod layer is patterned for each pixel region, and the pixel region is divided into first, second, and third pixel regions emitting red, green, and blue, and the quantum rod layer includes first, second, The second substrate may have red, green, and blue color filter patterns corresponding to the first, second, and third pixel regions, respectively.

또한, 상기 화소영역은 적, 녹, 청색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역으로 나뉘며, 상기 퀀텀 로드층은 화소영역 구분없이 상기 다수의 화소영역이 구비된 표시영역 전면에 동일한 크기의 퀀텀 로드를 구비하여 형성되며, 상기 제 2 기판에는 상기 제 1, 2, 3 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 구비된 것이 특징이다.In addition, the pixel region is divided into first, second, and third pixel regions that emit red, green, and blue light, and the quantum rod layer has quantum regions of the same size on the entire display region having the plurality of pixel regions, And a red, green and blue color filter pattern corresponding to the first, second and third pixel regions is formed on the second substrate.

그리고, 상기 제 1 기판에는 적, 녹, 청색을 나타내는 제 1, 2, 3 화소영역이 구비되며, 상기 퀀텀 로드층은 각 화소영역에 동일한 크기의 퀀텀 로드를 구비하며, 상기 제 2 기판에는 상기 제 1, 2, 3 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 구비된 것이 특징이다.The first substrate is provided with first, second and third pixel regions which are red, green and blue. The quantum rod layer has quantum rods of the same size in each pixel region. Green, and blue color filter patterns corresponding to the first, second, and third pixel regions, respectively.

또한, 상기 제 1 기판에는 상기 서로 교차하여 상기 각 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되는 박막트랜지스터가 구비되며, 상기 제 1 전극은 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 연결된 것이 특징이다.A gate line and a data line crossing the first substrate to define the pixel regions; And a thin film transistor connected to the gate wiring and the data wiring. The first electrode is connected to the drain electrode of the thin film transistor.

상기 다수의 퀀텀 로드가 일 방향으로 배향되었다고 하는 것은, 수평 방향의 편광비 PRh 와 수직 방향의 편광비 PRv를 각각 PRh = Ih/(Ih+Iv), PRv = Iv/(Ih+Iv) 이라 정의할 때, 상기 수평 방향의 편광비 PRh 또는 수직 방향의 편광비 PRv가 0.5보다는 크고 1보다는 작은 값을 갖는 즉, 0.5 < PRh(또는 PRv)< 1 을 만족시키는 것을 의미하는 것이 특징이다.The fact that the plurality of quantum rods are aligned in one direction means that the polarization ratio PR h in the horizontal direction and the polarization ratio PR v in the vertical direction are PR h = I h / (I h + I v ), PR v = I v / (I h + I v ), the polarization ratio PR h in the horizontal direction or the polarization ratio PR v in the vertical direction is larger than 0.5 and smaller than 1, that is, 0.5 <PR h (or PR v ) &Lt; 1 is satisfied.

상기 퀀텀 로드는, 코어만으로 이루어지거나, 또는 코어와 상기 코어를 둘러싸는 쉘로 이루어지며, 상기 쉘은 단축과 장축을 갖는 형태를 이루며 단축 대 장축의 비가 1:1.1 내지 1:30인 것이 특징이다.The quantum rod is made of only a core or consists of a core and a shell surrounding the core. The shell has a shape having a minor axis and a major axis, and a ratio of minor axis to major axis is 1: 1.1 to 1:30.

그리고, 상기 퀀텀 로드의 코어는 그 형상이 구, 타원구, 다면체, 막대 형태 중 어느 하나를 이루며, 상기 쉘은 상기 퀀텀 로드의 단축 방향으로 절단한 절단면이 원, 타원, 다각형 형태 중 어느 하나의 형태를 이루는 것이 특징이다. 이때, 상기 쉘은 단일층 또는 다중층 구조를 이룰 수 있으며, 상기 쉘은 합금(alloy), 옥사이드 계열 또는 불순물이 도핑된 물질로 이루어지는 것이 특징이다.The core of the quantum rod has one of a spherical shape, an elliptical shape, a polyhedral shape, and a rod shape, and the shell may have any one of circular, elliptical, and polygonal shapes . At this time, the shell may have a single layer or a multilayer structure, and the shell is made of an alloy, an oxide-based material, or an impurity-doped material.

상기 코어는 주기율표 상의 Ⅱ-Ⅵ, Ⅲ-V, Ⅲ-Ⅵ, Ⅵ-Ⅳ, Ⅳ 족의 반도체, 합금 또는 혼합된 물질로 이루어지는 것이 특징이다. 이때, 상기 퀀텀 로드의 코어는 Ⅱ-Ⅵ족으로 이루어지는 경우, CdSe, CdS, CdTe, ZnO, ZnSe, ZnS, ZnTe, HgSe, HgTe, CdZnSe 중 어느 하나로 이루어지거나 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어지며, Ⅲ-V 족으로 이루어지는 경우, InP, InN, GaN, InSb, InAsP, InGaAs, GaAs, GaP, GaSb, AlP, AlN, AlAs, AlSb, CdSeTe, ZnCdSe 중 어느 하나로 이루어지거나 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어지며, Ⅵ-Ⅳ족으로 이루어지는 경우, PbSe, PbTe, PbS, PbSnTe, Tl2SnTe5 중 어느 하나로 이루어지거나 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어지는 것이 특징이다.The core is characterized in that it is made of semiconductors, alloys or mixed materials of group II-VI, III-V, III-VI, VI-IV and IV on the periodic table. The core of the quantum rod may be made of any one of CdSe, CdS, CdTe, ZnO, ZnSe, ZnS, ZnTe, HgSe, HgTe and CdZnSe, In the case of a III-V group, the light emitting layer may be made of any one of InP, InN, GaN, InSb, InAsP, InGaAs, GaAs, GaP, GaSb, AlP, AlN, AlAs, AlSb, CdSeTe, ZnCdSe, PbSe, PbTe, PbS, PbSnTe, and Tl 2 SnTe 5 , or a material in which two or more materials are mixed when the material is a Group VI-IV.

그리고, 상기 제 1 전극과 상기 퀀텀 로드층 사이에는 배향 처리된 배향막 또는 자기조립단분자막이 형성된 것이 특징이다.An alignment layer or a self-assembled monolayer formed by alignment is formed between the first electrode and the quantum rod layer.

또한, 상기 제 1 전극과 상기 퀀텀 로드 내부에는 막대 형태를 갖는 메소겐 물질이 포함되며, 상기 메소겐 물질은 상기 퀀텀 로드 거동을 유도할 수 있는 능력을 가진 기(group)를 포함하며 UV광 조사에 의해 중합반응을 발생시켜 인접한 물질의 배향 방향을 따라 배열되는 특성을 갖는 물질인 것이 특징이다. In addition, the first electrode and the quantum rod include a mesogen material having a rod shape, the mesogen material includes a group capable of inducing the quantum rod behavior, and the UV light irradiation And is arranged to be aligned along the alignment direction of the adjacent material.

또한, 상기 백라이트 유닛은 430nm 이하의 단파장을 갖는 청색 또는 UV(ultra violet)광을 발생시키는 것이 특징이다. In addition, the backlight unit generates blue or ultraviolet light having a short wavelength of 430 nm or less.

또한, 상기 백라이트 유닛은, 반사판과, 상기 반사판 상부에 위치한 도광판과, 상기 도광판 측면에 위치하는 광원과 상기 도광한 상부에 위치하는 다수의 광학시트로 구성된 에지형 백라이트 유닛이거나, 또는 반사판과, 상기 반사판 상부에 위치하는 광원과, 상기 광원 상부에 위치하는 확산판과, 상기 확산판 상부에 위치하는 다수의 광학시트로 구성된 직하형 백라이트 유닛인 것이 특징이다.The backlight unit may include an edge type backlight unit including a reflection plate, a light guide plate disposed on the reflection plate, a light source positioned on a side of the light guide plate, and a plurality of optical sheets positioned on the light guide, A direct-type backlight unit including a light source positioned above the reflection plate, a diffusion plate positioned above the light source, and a plurality of optical sheets positioned on the diffusion plate.

본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법은, 다수의 화소영역이 정의된 제 1 기판 상의 각 화소영역에 제 1 전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 전극 상부에 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층을 형성하는 단계와; 상기 퀀텀 로드층 상부에 제 2 전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판과 마주하도록 제 2 기판을 위치시키는 합착하는 단계와; 상기 제 1 기판의 외측면에 백라이트 유닛을 실장하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a quantum rod light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention includes: forming a first electrode in each pixel region on a first substrate on which a plurality of pixel regions are defined; Forming a quantum rod layer having a plurality of quantum rods oriented in one direction on the first electrode; Forming a second electrode on the quantum rod layer; Positioning the second substrate to face the first substrate; And mounting a backlight unit on an outer surface of the first substrate.

이때, 상기 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층을 형성하는 단계는, 상기 제 1 전극 위로 주쇄와 측쇄로 이루어진 배향막을 형성하는 단계와; 상기 배향막을 표면처리하여 상기 측쇄가 일방향으로 배열되도록 하는 단계와; 상기 표면처리된 배향막 상부에 퀀텀 로드 액을 도포하여 상기 퀀텀 로드층을 형성하는 단계와; 상기 퀀텀 로드층을 경화시키는 단계를 포함한다. The forming the quantum rod layer having a plurality of quantum rods oriented in one direction may include forming an alignment layer including a main chain and a side chain over the first electrode; Subjecting the alignment layer to surface treatment so that the side chains are aligned in one direction; Forming a quantum rod layer on the surface of the alignment layer; And curing the quantum rod layer.

상기 배향막의 표면처리는 러빙, UV광 조사, 이온빔 조사 중 어느 하나인 것이 특징이다.The surface treatment of the alignment film is characterized by being any one of rubbing, UV light irradiation and ion beam irradiation.

그리고, 상기 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층을 형성하는 단계는, 상기 퀀텀 로드가 포함된 퀀텀 로드액에 메소겐 물질을 혼합한 후, 상기 메소겐 물질이 포함된 상기 퀀텀 로드액을 상기 제 1 전극 위로 도포하여 상기 퀀텀 로드층을 형성하고, 상기 퀀텀 로드층에 대해 UV광을 조사하여 상기 메소겐 물질이 중합반응을 일으켜 상기 퀀텀 로드가 일 방향으로 배열되도록 하는 단계를 포함하는 리액티브 메소겐 법을 이용하는 것이 특징이다.The step of forming the quantum rod layer having the plurality of quantum rods oriented in one direction may include mixing the mesogen material with the quantum rod solution containing the quantum rod, Forming a quantum rod layer by applying a quantum rod liquid onto the first electrode and irradiating the quantum rod layer with UV light to cause polymerization reaction of the mesogen material so that the quantum rod is aligned in one direction And a reactive mesogen method is used.

또한, 상기 제 1 기판에 상기 제 1 전극을 형성하기 전에 상기 제 1 기판상에 서로 교차하여 상기 각 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계와; 상기 각 화소영역 내에 상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되는 박막트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 박막트랜지스터 위로 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제 1 전극은 각 화소영역 내에 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하도록 형성하는 것이 특징이다. Forming a gate wiring and a data wiring which intersect each other on the first substrate to define the pixel region before forming the first electrode on the first substrate; Forming a thin film transistor in each pixel region to be connected to the gate wiring and the data wiring; And forming a protective layer having a drain contact hole exposing a drain electrode of the thin film transistor on the thin film transistor, wherein the first electrode is formed in each pixel region through a drain contact hole of the thin film transistor, So as to be in contact with each other.

그리고, 상기 퀀텀 로드층은, 퀀텀 로드액을 스핀 코팅 또는 슬릿 코팅을 실시하여 상기 화소영역의 구분없이 상기 제 1 기판의 다수의 화소영역을 포함하는 표시영역 전면에 형성하거나, 또는 퀀텀 로드액을 잉크젯 장치를 이용한 잉크젯법 또는 스크린 마스크를 이용한 스크린 프린팅법을 이용하여 각 화소영역별로 분리되도록 형성하는 것이 특징이다. The quantum rod layer may be formed by spin coating or slit coating to form a quantum rod liquid on the entire display region including a plurality of pixel regions of the first substrate without discrimination of the pixel regions, Jet method using an ink-jet apparatus or a screen printing method using a screen mask.

또한, 상기 퀀텀 로드층은 각 화소영역별로 분리 형성하는 경우, 적, 녹, 청색을 나타내는 화소영역별로 퀀텀 로드의 크기를 달리하도록 형성하는 것이 특징이다. In addition, when the quantum rod layer is separately formed for each pixel region, the quantum rod layer is formed to have a different quantum rod size for each pixel region representing red, green, and blue.

이때, 상기 제 2 기판의 내측면에 상기 각 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 순차 반복되는 형태를 갖는 컬러필터층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제 2 기판의 내측면에 상기 각 화소영역의 경계에 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 포함하는 것이 특징이다.
And forming a color filter layer on the inner surface of the second substrate so that red, green, and blue color filter patterns are sequentially repeated corresponding to the pixel regions, And forming a black matrix at a boundary between the pixel regions.

본 발명에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치는 편광판을 필요로 하지 않으므로, 편광판이 구비됨으로써 휘도 특성이 저하되며 이렇게 저하된 휘도 특성을 향상시키고자 더 밝은 광원을 구비함으로써 소비전력이 증가되는 액정표시장치 대비 고 휘도 특성 및 저 소비전력 특성을 갖는 장점이 있다. Since the quantum rod light emitting display device according to the present invention does not require a polarizing plate, the brightness characteristic is lowered by the polarizing plate and the consumption power is increased by providing a brighter light source to improve the lowered luminance characteristic. High luminance characteristics and low power consumption characteristics.

나아가 퀀텀 로드층 내부에 구비되는 퀀텀 로드가 일 방향으로 배향된 구성을 가짐으로써 백라이트 유닛으로부터 나온 빛을 더욱 잘 흡수하여 형광시키므로 더욱더 휘도 특성을 향상시키는 효과가 있다. In addition, since the quantum rod provided in the quantum rod layer is oriented in one direction, the light emitted from the backlight unit is more absorbed and fluoresced, thereby further improving the luminance characteristic.

또한, 본 발명에 따른 퀀텀 로드 표시장치는 편광판 등을 필요로 하지 않으므로 액정표시장치 대비 제조에 필요로 되는 부품수를 줄일 수 있으므로 제조비용을 저감시키는 효과가 있다.
In addition, since the quantum rod display device according to the present invention does not require a polarizer or the like, it is possible to reduce the number of components required for manufacturing the liquid crystal display device, thereby reducing manufacturing cost.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 개략적인 단면 구성을 나타낸 도면.
도 2는 퀀텀 로드의 형태를 나타낸 도면.
도 3은 퀀텀 로드에 전기장을 인가하기전과 후의 전자와 전공 상태를 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 단면도.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 실시예의 제 1 및 제 2 변형예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 단면도.
도 6a 내지 도 6h는 본 발명의 일 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치에 있어 퀀텀 로드층이 구비되는 제 1 기판에 구비된 하나의 화소영역에 대한 제조 단계별 공정 단면도.
도 7a 내지 7b는 각각 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 시 퀀텀 로드층 내의 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열하는데 이용되는 배향막을 이용한 배향법을 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 시 퀀텀 로드층 내의 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열하는데 이용되는 배향막을 이용한 또 다른 배향법을 도시한 도면.
도 9a 내지 9b는 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 시 퀀텀 로드층 내의 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열하는데 이용되는 자기조립단분자를 이용한 배향법을 도시한 도면.
도 10은 본 발명에 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시소자의 제조 단계 중 퀀텀 로드의 배향법을 진행한 후 퀀텀로드층을 형성한 후 상기 퀀텀로드층의 표면을 확대하여 찍은 사진.
도 11은 비교예로서 배향법을 적용하지 않고 형성된 퀀텀 로드층 표면을 확대하여 찍은 사진.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic sectional view of a general liquid crystal display device. Fig.
2 illustrates a form of a quantum rod;
FIG. 3 is a diagram showing the states of electrons and electrons before and after the application of an electric field to the quantum rod. FIG.
4 is a cross-sectional view of a quantum rod light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
5A and 5B are cross-sectional views of a quantum rod light emitting display according to first and second modified examples of the embodiment of the present invention.
FIGS. 6A to 6H are cross-sectional views illustrating a method of fabricating a pixel region of a quantum rod light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.
7A to 7B are diagrams showing an alignment method using an alignment film used for arranging quantum rods in one direction in a quantum rod layer in manufacturing a quantum rod light emitting display according to an embodiment of the present invention.
8 is a diagram showing another alignment method using an alignment film used for arranging quantum rods in one direction in a quantum rod layer in manufacturing a quantum rod light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
9A-9B illustrate an alignment method using self-assembled monomolecules used to arrange quantum rods in one direction in a quantum rod layer in the fabrication of a quantum rod light emitting display according to an embodiment of the present invention.
10 is a magnified photograph of the surface of the quantum rod layer after forming the quantum rod layer after the alignment method of the quantum rod is performed during the manufacturing step of the quantum rod light emitting display according to the embodiment of the present invention.
11 is a magnified photograph of a surface of a quantum rod layer formed without applying an alignment method as a comparative example.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a quantum rod light emitting display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

우선, 본 발명에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치에 구비되는 가장 특징적인 구성인 퀀텀 로드층을 이루는 퀀텀 로드에 대해 간단히 설명한다.First, the quantum rod constituting the quantum rod layer, which is the most characteristic structure provided in the quantum rod light emitting display according to the present invention, will be briefly described.

도 2는 퀀텀 로드의 일반적인 형태를 도시한 도면이다.2 is a diagram showing a general form of a quantum rod.

도시한 바와 같이, 퀀텀 로드(quantum rod)(156)는 중심을 이루는 코어(core)(157)와 상기 코어(157)를 감싸는 쉘(shell)(158)로 이루어지고 있다. 이때, 도면에서는 상기 퀀텀 로드(156)는 코어(157)와 이를 감싸는 쉘(158)로 이루어지는 것을 일례로 보이고 있지만, 상기 쉘(158)은 생략될 수 있으며, 이 경우, 상기 퀀텀 로드는 코어(157)만으로 이루어질 수도 있다. As shown, the quantum rod 156 comprises a core 157 and a shell 158 surrounding the core 157. The quantum rod 156 may include a core 157 and a shell 158 surrounding the core 157. The quantum rod 156 may be omitted from the core 158. In this case, 157).

상기 코어(157)는 그 형상이 구, 타원구, 다면체, 막대 형태 중 어느 하나로 이루어질 수 있으며, 도면에서는 일례로 구 형태를 이루는 것을 도시하였다. The core 157 may have a spherical shape, an elliptical shape, a polyhedron shape, or a rod shape, and the shape of the core 157 may be spherical.

한편, 코어(157)만으로 퀀텀 로드(156)를 이루는 경우, 상기 코어(157)는 타원구 또는 막대 형태를 이루는 것이 특징이다.On the other hand, when the quantum rod 156 is formed of only the core 157, the core 157 has an elliptical shape or a rod shape.

또한, 상기 퀀텀 로드(156)가 코어(157)를 감싸는 쉘(158)을 포함하는 경우, 상기 코어(157)는 구, 타원구, 다면체, 막대 형태 중 어느 형태를 이룰 수 있으며, 이를 감싸는 상기 쉘(158)은 장축과 단축을 가는 로드(rod) 형태를 가지며, 상기 퀀텀 로드(156)의 단축 방향으로 절단한 절단면이 원, 타원, 다각형 형태 중 어느 하나의 형태를 이룰 수 있다. In addition, when the quantum rod 156 includes a shell 158 that surrounds the core 157, the core 157 may have any of spherical, ellipsoidal, polyhedral, and rod-like shapes, The cutter 158 has a rod shape with a long axis and a short axis. The cut surface cut in the minor axis direction of the quantum rod 156 can take any one of a circle, an ellipse, and a polygonal shape.

또한, 상기 쉘(158)은 단일층 또는 다중층 구조로 가질 수 있으며, 합금(alloy), 옥사이드 계열의 물질 또는 불순물이 도핑된 물질 중 어느 하나 또는 둘 이상이 혼합된 물질로 이루어지는 것이 특징이다.In addition, the shell 158 may have a single layer or a multilayer structure, and is formed of a material in which any one or a mixture of two or more materials selected from an alloy, an oxide-based material, or an impurity-doped material is mixed.

이때, 상기 쉘(158)은 그 단축 대 장축의 비율이 1:1.1 내지 1:30의 범위를 가짐으로써 다양한 비율을 가질 수 있는 것이 특징이다. At this time, the shell 158 is characterized in that the ratio of the major axis to the minor axis has a range of 1: 1.1 to 1:30, so that the shell 158 can have various ratios.

또한, 이러한 구성을 갖는 퀀텀 로드(156)의 한 구성요소인 코어(157)는 주기율 표의 Ⅱ-Ⅵ, Ⅲ-V, Ⅲ-Ⅵ, Ⅵ-Ⅳ, Ⅳ 족의 반도체, 합금 혹은 그것의 혼합된 물질로 이루어질 수 있다. In addition, the core 157, which is a component of the quantum rod 156 having such a configuration, may be a semiconductor, an alloy or a mixture thereof of II-VI, III-V, III-VI, VI- &Lt; / RTI &gt;

상기 퀀텀 로드(156)의 코어(157)가 주기율표의 Ⅱ-Ⅵ족으로 이루어지는 경우, CdSe, CdS, CdTe, ZnO, ZnSe, ZnS, ZnTe, HgSe, HgTe, CdZnSe 중 어느 하나의 물질 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어질 수 있다. When the core 157 of the quantum rod 156 is made of Group II-VI of the periodic table, one of CdSe, CdS, CdTe, ZnO, ZnSe, ZnS, ZnTe, HgSe, HgTe, CdZnSe, Can be made of a mixed material.

그리고, 상기 퀀텀 로드(156)의 코어(157)가 주기율표의 Ⅲ-V 족으로 이루어지는 경우, InP, InN, GaN, InSb, InAsP, InGaAs, GaAs, GaP, GaSb, AlP, AlN, AlAs, AlSb, CdSeTe, ZnCdSe 중 어느 하나의 물질 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어질 수 있다. In the case where the core 157 of the quantum rod 156 is made of Group III-V of the periodic table, the InP, InN, GaN, InSb, InAsP, InGaAs, GaAs, GaP, GaSb, AlP, AlN, CdSeTe, ZnCdSe, or a mixture of two or more materials.

또한, 상기 퀀텀 로드(156)의 코어(157)가 주기율표의 Ⅵ-Ⅳ족으로 이루어지는 경우, PbSe, PbTe, PbS, PbSnTe, Tl2SnTe5 중 어느 하나의 물질 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어질 수 있다. When the core 157 of the quantum rod 156 is made of a group VI-IV of the periodic table, it may be formed of any one material selected from the group consisting of PbSe, PbTe, PbS, PbSnTe, and Tl 2 SnTe 5 , Lt; / RTI &gt;

이러한 물질과 장축 대 단축 비율을 갖는 퀀텀 로드(156)는 동일한 물질의 코어(157)로 구성되더라도 상기 코어(157)의 크기에 따라 형광 파장이 달라지는 특징을 갖는다. The material and the quantum rod 156 having a major axis to minor axis ratio are characterized in that the fluorescence wavelength is varied according to the size of the core 157 even though it is composed of the core 157 of the same material.

즉, 상기 코어(157)의 크기가 작아질수록 짧은 파장의 형광을 내며 크기가 커질수록 긴 파장의 형광을 발생시킨다. That is, as the size of the core 157 becomes smaller, it emits fluorescence of a shorter wavelength, and as the size becomes larger, fluorescence of a longer wavelength is generated.

따라서 퀀텀 로드는 코어(157) 크기를 조절함으로써 원하는 가시광선 영역대의 빛을 거의 다 형광 할 수 있는 것이 특징이다. Thus, the quantum rod is characterized in that it can nearly fluoresce the light of the desired visible region by adjusting the size of the core 157.

전술한 바와 같은 물질로 이루어지는 퀀텀 로드(156)는 도 3(퀀텀 로드에 전기장을 인가하기 전과 후의 전자와 전공 상태를 나타낸 도면)에 도시한 바와같이, 코어(157) 그 자체 또는 상기 코어(157)를 감싸는 쉘(158)은 장축과 단축을 갖는 형태를 이루고 있다. The quantum rod 156 made of a material as described above is formed by the core 157 itself or the core 157 as shown in FIG. 3 (the electron and the major state before and after the application of the electric field to the quantum rod) Is formed with a long axis and a short axis.

따라서, 상기 장축과 단축을 갖는 쉘(158) 또는 코어(157)의 장축 방향으로 전기장을 인가하기 전에는 상기 코어(157) 내에 전자와 정공이 결합된 상태를 이루고 있지만, 상기 쉘(158) 또는 코어(157)의 장축 방향으로 전기장이 가해지면 전자(e)와 정공(h)이 상기 코어(157) 내부 또는 상기 코어(157)와 쉘(158) 사이에서 공간적으로 분리됨으로써 밴드 갭의 분리를 유도할 수 있는 것이 특징이며, 이에 따라 퀀텀 로드(156)로부터 발광되는 형광량 또는 발광량 조절이 가능함으로써 이러한 퀀텀 로드로 이루어진 퀀텀 로드층으로부터 발광되는 빛은 그레이 레벨을 구현할 수 있는 것이다. Therefore, before the electric field is applied in the long axis direction of the shell 158 or the core 157 having the long axis and the short axis, electrons and holes are coupled into the core 157, Electrons e and holes h are spatially separated in the core 157 or between the core 157 and the shell 158 when an electric field is applied in the longitudinal direction of the core 157 to induce separation of the band gap. The amount of light emitted or the amount of light emitted from the quantum rod 156 can be adjusted, so that light emitted from the quantum rod layer made of such a quantum rod can realize a gray level.

이러한 퀀텀 로드(156)는 자체 양자효율(quantum yield)이 이론상으로 100%가 되므로 매우 센 형광을 발생시킬 수 있는 것이 또 다른 특징이다.
This quantum rod 156 has a quantum yield of 100% in theory, which is another feature that can generate very high fluorescence.

이후에는 전술한 특성을 갖는 퀀텀 로드를 구비함으로써 표시소자로서 역할을 하는 본 발명에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치에 대해 설명한다. Hereinafter, a quantum rod light emitting display device according to the present invention serving as a display device by providing a quantum rod having the above-described characteristics will be described.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 단면도로서 이웃한 3개의 화소영역을 도시하였으며, 이중 하나의 화소영역(P)에 대해서만 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 도시하였다. 이때, 설명의 편의를 위해 각 화소영역 내에 박막트랜지스터가 구비되는 영역을 스위칭 영역(TrA)이라 정의하였다.FIG. 4 is a cross-sectional view of a quantum rod light emitting display device according to an embodiment of the present invention, showing three neighboring pixel regions, and shows a thin film transistor Tr as a switching element for only one pixel region P . Here, for convenience of description, a region where the thin film transistor is provided in each pixel region is defined as a switching region TrA.

도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치(101)는 화소영역(P)별로 분리 형성된 제 1 전극(150)과, 화상을 표시하는 표시영역 전면에 형성된 제 2 전극(160) 그리고 상기 제 1, 2 전극(150, 160) 사이에 개재된 퀀텀 로드층(155)이 구비되는 제 1 기판(110)과, 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판(170)으로 이루어진 퀀텀로드 패널(102)과, 백라이트 유닛(180)을 포함하여 구성되고 있다.The quantum rod light emitting display 101 according to an embodiment of the present invention includes a first electrode 150 formed separately for each pixel region P and a second electrode 150 formed on the entire display region for displaying an image, A first substrate 110 having a first electrode 160 and a quantum rod layer 155 interposed between the first and second electrodes 150 and 160 and a second substrate 170 facing the first substrate A quantum rod panel 102 made up of a light source, and a backlight unit 180.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치(101)는 상기 백라이트 유닛(180)으로 나온 빛을 상기 퀀텀 로드층(155)이 흡수하여 내부적으로 전자와 정공의 재결합이 이루어져 빛을 형광시키게 된다. In the quantum rod light emitting display device 101 according to an embodiment of the present invention having such a configuration, the quantum rod layer 155 absorbs light emitted from the backlight unit 180, and electrons and holes are recombined internally Fluorescent light.

이때, 상기 퀀텀 로드 발광 표시장치(101)는 상기 퀀텀 로드층(155) 하부 및 상부에 위치하는 제 1 및 제 2 전극(150, 160)에 인가되는 전압을 달리하여 이들 두 전극(150, 160) 사이의 전계의 세기를 달리함으로써 상기 퀀텀 로드층(155)을 이루는 다수의 퀀텀 로드 각각의 내부에서 전자와 정공의 재결합율을 조절하여 그레이 레벨을 표시하게 되며, 상기 퀀텀 로드층(155)은 적, 녹, 청색을 발광하는 화소영역(P)별로 상기 퀀텀 로드의 크기가 달리 형성됨으로써 적, 녹, 청색을 발생시킬 수 있으므로 풀 컬러의 화상을 표시할 수 있다. At this time, the quantum rod light emitting display device 101 applies a voltage to the first and second electrodes 150 and 160 located below and above the quantum rod layer 155, And the quantum rod layer 155 is formed by adjusting the recombination rates of electrons and holes within each of the plurality of quantum rods constituting the quantum rod layer 155, Green, and blue can be generated by forming the quantum rods differently for each pixel region (P) emitting red, green, and blue, so that a full color image can be displayed.

우선, 이러한 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 액정표시장치(101)에 있어, 상기 제 1, 2 전극(150, 160) 및 퀀텀 로드층(155)이 구비되는 제 1 기판(110)의 구성에 대해 설명한다. In the quantum-rod-type liquid crystal display device 101 according to the embodiment of the present invention having such a configuration, the first substrate 110 (including the first and second electrodes 150 and 160 and the quantum rod layer 155) Will be described.

투명한 절연 기판 예를들면 투명한 유리재질의 기판 또는 플렉서블한 플라스틱 기판으로 이루어진 상기 제 1 기판(110) 상에는 저저항 특성을 갖는 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo), 몰리브덴 합금(MoTi) 중 선택되는 하나 또는 둘 이상의 물질로써 제 1 방향으로 연장하는 게이트 배선(미도시)이 형성되어 있다. For example, aluminum (Al), an aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), or the like is formed on the first substrate 110 made of a transparent insulating substrate such as a transparent glass substrate or a flexible plastic substrate. ), A copper alloy, molybdenum (Mo), and a molybdenum alloy (MoTi), are formed in the first direction.

또한, 상기 제 1 기판(110) 위로 각 화소영역(P) 내의 상기 스위칭 영역(TrA)에는 상기 게이트 배선(미도시)과 연결되며 게이트 전극(108)이 형성되어 있다. A gate electrode 108 is formed in the switching region TrA in each pixel region P above the first substrate 110 and connected to the gate wiring (not shown).

그리고, 상기 게이트 배선(미도시)과 게이트 전극(108) 위로 상기 제 1 기판(110) 전면에 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로서 게이트 절연막(115)이 형성되어 있다. An inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) is formed on the entire surface of the first substrate 110 over the gate wiring (not shown) and the gate electrode 108, Respectively.

또한, 상기 게이트 절연막(115) 위로 상기 스위칭 영역(TrA)에는 상기 게이트 전극(108)에 대응하여 순수 비정질 실리콘의 액티브층(120a)과 상기 액티브층 상부에서 이격하며 불순물 비정질 실리콘의 오믹콘택층(120b)으로 이루어진 반도체층(120)이 형성되어 있으며, 상기 반도체층(120) 상부에는 서로 이격하며 상기 오믹콘택층(120b)과 각각 접촉하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)이 형성되어 있다. 이때, 상기 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136) 사이로는 상기 액티브층(120a)이 노출되고 있다. In the switching region TrA above the gate insulating layer 115, an active layer 120a of pure amorphous silicon and an ohmic contact layer of impurity amorphous silicon And source and drain electrodes 133 and 136 are formed on the semiconductor layer 120. The source and drain electrodes 133 and 136 are spaced apart from each other and are in contact with the ohmic contact layer 120b. At this time, the active layer 120a is exposed between the source and drain electrodes 133 and 136 which are spaced apart from each other.

한편, 상기 각 화소영역(P) 내에 구비된 상기 스위칭 영역(TrA)에 순차 적층된 상기 게이트 전극(108)과 게이트 절연막(115)과 반도체층(120)과 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 박막트랜지스터(Tr)를 이룬다.The gate electrode 108, the gate insulating film 115, the semiconductor layer 120, the source and drain electrodes 133 and 136, which are sequentially stacked in the switching region TrA provided in each pixel region P, Film transistor Tr.

그리고, 상기 게이트 절연막(115) 상부에는 상기 게이트 배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터 배선(130)이 제 2 방향으로 연장하며 상기 박막트랜지스터(Tr)의 소스 전극(133)과 연결되며 형성되어 있다. A data line 130 intersecting the gate line (not shown) and defining the pixel region P extends in the second direction and is connected to the source electrode (not shown) of the thin film transistor Tr 133, respectively.

이때, 상기 데이터 배선(130) 하부에는 상기 액티브층(120a)과 오믹콘택층(120b)을 이루는 동일한 물질로 제 1 및 제 2 반도체 패턴(121a, 121b)으로 이루어진 더미패턴(121)이 형성됨을 보이고 있지만, 이는 제조 공정 상의 특징에 의해 일례를 보인 것이며, 상기 더미패턴(121)은 생략될 수도 있다. At this time, a dummy pattern 121 composed of the first and second semiconductor patterns 121a and 121b is formed under the data line 130 using the same material as the active layer 120a and the ohmic contact layer 120b However, this is an example of the manufacturing process, and the dummy pattern 121 may be omitted.

한편, 도면에 있어서는 상기 박막트랜지스터(Tr)는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(120a)과 오믹콘택층(120b)의 반도체층(120)을 포함하여 게이트 전극(108)이 가장 하부에 위치하는 보텀 게이트 타입(bottom gate type)을 이루는 것을 일례로 보이고 있지만, 폴리실리콘으로 이루어진 반도체층을 구비함으로써 폴리실리콘의 반도체층과, 게이트 절연막과, 게이트 전극과, 상기 반도체층을 노출시키는 반도체층 콘택홀을 구비한 층간절연막과, 상기 반도체층 콘택홀을 통해 각각 폴리실리콘의 반도체층과 접촉하며 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극이 순차 적층된 구조를 갖는 탑 게이트 타입(top gate type)으로 이루어 질 수도 있다.In the figure, the thin film transistor Tr includes an active layer 120a made of amorphous silicon and a semiconductor layer 120 of the ohmic contact layer 120b, and a bottom electrode (gate electrode) Type bottom gate type. However, it is also possible to provide a polysilicon semiconductor layer, a gate insulating film, a gate electrode, and a semiconductor layer contact hole for exposing the semiconductor layer by providing a semiconductor layer made of polysilicon A top gate type having a structure in which an interlayer insulating film and source and drain electrodes which are in contact with the semiconductor layer of polysilicon through the semiconductor layer contact holes and are spaced apart from each other are sequentially layered.

전술한 구조를 갖는 탑 게이트 타입의 박막트랜지스터가 구비되는 경우, 상기 게이트 배선(미도시)은 게이트 전극이 형성된 게이트 절연막 상부에 구비되며, 데이터 배선은 상기 층간절연막 상에 구비된다.When a top gate type thin film transistor having the above-described structure is provided, the gate wiring (not shown) is provided on the gate insulating film on which the gate electrode is formed, and the data wiring is provided on the interlayer insulating film.

다음, 상기 데이터 배선(130)과 소스 및 드레인 전극(133, 136) 상부에는 평탄한 표면을 갖는 보호층(140)이 구비되고 있다. 이때, 상기 보호층(140)에는 각 화소영역(P) 별로 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(136)을 노출시키는 드레인 콘택홀(143)이 구비되어 있다. Next, a protective layer 140 having a flat surface is formed on the data line 130 and the source and drain electrodes 133 and 136. A drain contact hole 143 is formed in the passivation layer 140 to expose the drain electrode 136 of each thin film transistor Tr for each pixel region P.

또한, 상기 보호층(140) 상부에는 각 화소영역(P) 내에 상기 드레인 콘택홀(143)을 통해 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(136)과 접촉하며 투명 도전성 물질로 이루어진 제 1 전극(150)이 형성되어 있다.A first electrode (not shown) is formed on the passivation layer 140 and is in contact with the drain electrode 136 of the thin film transistor Tr through the drain contact hole 143 in each pixel region P 150 are formed.

그리고, 상기 제 1 전극(150)과, 상기 제 1 전극(150) 사이로 노출된 상기 보호층(140) 상부에는 각 화소영역(P)의 경계 즉, 게이트 배선(미도시)과 데이터 배선(130)에 대응하여 상기 제 1 전극(150)의 가장자리와 중첩하며 버퍼패턴(152)이 형성되어 있다.A gate line (not shown) and a gate line (not shown) are formed on the first electrode 150 and the protective layer 140 exposed between the first electrode 150 and the data line 130 A buffer pattern 152 is formed to overlap the edge of the first electrode 150.

그리고, 상기 버퍼패턴(152)에 위해 둘러싸인 각 화소영역(P) 내에 상기 제 1 전극(150) 상부에는 다수의 퀀텀 로드(156)로 이루어진 퀀텀 로드층(155)이 구비되고 있다. 이때, 상기 퀀텀 로드층(155)은 각각 적, 녹, 청색을 발광하는 화소영역(P)별로 서로 다른 크기의 코어(도 2의 157)를 갖는 퀀텀 로드(156)가 구비될 수도 있으며, 또는 동일한 크기의 코어(도 2의 157)를 갖는 퀀텀 로드(156)가 구비될 수도 있다. A quantum rod layer 155 formed of a plurality of quantum rods 156 is formed on the first electrode 150 in each pixel region P surrounded by the buffer pattern 152. At this time, the quantum rod layer 155 may be provided with a quantum rod 156 having cores (157 of FIG. 2) of different sizes for each pixel region P emitting red, green, A quantum rod 156 having the same size core (157 in FIG. 2) may be provided.

상기 퀀텀 로드층(155)이 표시영역 전체에 있어 동일한 크기의 코어(도 2의 157)를 갖는 퀀텀 로드(156)로 구비되는 경우, 상기 제 2 기판(170)에는 각 화소영역(P)별로 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 순차 반복되는 형태를 갖는 컬러필터층(미도시)이 구비되는 것이 특징이다. When the quantum rod layer 155 is provided as the quantum rod 156 having the same size core (157 in FIG. 2) in the entire display region, the second substrate 170 is provided with the quantum rod layer 155 A color filter layer (not shown) having a shape in which red, green, and blue color filter patterns are sequentially repeated is provided.

한편, 본 발명에 있어 가장 특징적인 구성으로서, 상기 퀀텀 로드층(155)을 이루는 다수의 퀀텀 로드(156)는 상기 제 1 기판(110)의 표시영역 전면에 있어서 일 방향으로 배열된 상태를 갖는 것이 특징이다. As a most characteristic feature of the present invention, the plurality of quantum rods 156 constituting the quantum rod layer 155 are arranged in one direction on the entire surface of the display region of the first substrate 110 .

이때, 퀀텀 로드(156)의 장축이 일 방향으로 잘 배열된 정도 즉, 정열도 수준은 편광비(polarization ratio) 측정을 통해 알 수 있다. 즉, 수평 또는 수직 편광된 빛을 퀀텀 로드층(155)을 향해 조사한 후 검광판(미도시)을 통과한 상태의 빛량을 측정함으로써 퀀텀 로드층(155)의 편광 정도를 알 수 있다.At this time, the degree to which the long axis of the quantum rod 156 is well arranged in one direction, that is, the degree of orderliness, can be found by measuring the polarization ratio. That is, the degree of polarization of the quantum rod layer 155 can be determined by irradiating the horizontally or vertically polarized light toward the quantum rod layer 155 and measuring the amount of light passing through the photomask (not shown).

라이트 소스(미도시)로부터 나온 빛량의 세기를 I, 수평 성분만을 갖는 빛을 Ih, 수직 성분만을 갖는 빛을 Iv라 정의 할 때, 통상적으로 퀀텀 로드의 방향성을 부여하지 않았을 경우, 편광비(polarization ratio) PR은, When the light intensity from the light source (not shown) is I, the light with only the horizontal component is I h , and the light with only the vertical component is I v , if the directionality of the quantum rod is not normally given, The polarization ratio (PR)

PR = (Ih - Iv)/(Ih+Iv) 로 정의된다.PR = (I h - I v ) / (I h + I v ).

이때, 퀀텀 로드층(155)이 일방향 즉, 수평 또는 수직방향으로 배열되는 경우, 수평 및 수직 방향의 편광비 PRh 및 PRv는 각각 다음과 같이 정의된다.In this case, when the quantum rod layer 155 is arranged in one direction, that is, in the horizontal or vertical direction, the polarization ratios PR h and PR v in the horizontal and vertical directions are respectively defined as follows.

PRh = Ih/(Ih+Iv),PR h = I h / (I h + I v ),

PRv = Iv/(Ih+Iv)PR v = I v / (I h + I v )

따라서, 상기 퀀텀 로드층(155)에 있어서 다수의 퀀텀 로드가 일 방향으로 잘 정렬되었다 하는 것은 수평 방향의 편광비 PRh 또는 수직 방향의 편광비 PRv가 0.5보다는 크고 1보다는 작은 값을 갖는 것 즉, 0.5 < PRh 또는 PRv < 1 을 만족시키는 것을 의미한다.Therefore, in the quantum rod layer 155, the plurality of quantum rods are well aligned in one direction, meaning that the polarization ratio PR h in the horizontal direction or the polarization ratio PR v in the vertical direction is larger than 0.5 and smaller than 1 That is, 0.5 <PR h or PR v <1 is satisfied.

이렇게 퀀텀 로드층(155)을 퀀텀 로드(156)가 잘 배열된 상태를 이루도록 하는 것은 백라이트 유닛(180)으로부터 나온 빛을 보다 잘 흡수하여 보다 많은 량의 형광을 하도록 함으로서 휘도 특성을 향상시키고, 나아가 고휘도 특성을 가지면서도 저 소비전력을 구현하기 위함이다.In this way, the quantum rod layer 155 is arranged in a state in which the quantum rod 156 is well arranged, so that the light emitted from the backlight unit 180 can be absorbed more effectively to increase the luminance characteristic, This is to realize low power consumption while having high luminance characteristics.

이때, 상기 퀀텀 로드층(155)에서 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열시키는 것은 추후 제조 방법을 통해 상세히 설명한다.At this time, arranging the quantum rods in one direction in the quantum rod layer 155 will be described in detail through a later manufacturing method.

한편, 적, 녹, 청색을 나타내는 화소영역(P) 별로 서로 다른 크기의 코어(도 2의 157)를 갖는 퀀텀 로드(156)가 구비되는 경우, 퀀텀 로드(156)는 전술하였듯이 코어(도 2의 157)의 크기에 따라 형광 파장이 달라진다는 것이 특징이며, 상기 코어(도 2의 157)의 크기가 적어질수록 짧은 파장의 형광을 내며 크기가 커질수록 긴 파장의 형광을 발생시킨다. On the other hand, when the quantum rod 156 having the cores (157 in FIG. 2) having different sizes is provided for each pixel region P representing red, green and blue, the quantum rod 156, 157 of FIG. 2). The smaller the size of the core (157 in FIG. 2), the shorter the wavelength of fluorescence. The larger the size of the core, the longer wavelength fluorescence is generated.

따라서, 이 경우 적색을 나타내어야 하는 화소영역(P)에 대응해서는 가장 큰 코어(도 2의 157) 크기(직경)를 갖는 퀀텀 로드층(155a)을 형성하고, 그리고 녹색과 청색을 나타내어야 하는 화소영역(P)에 대해서는 순차적으로 상기 적색을 나타내는 화소영역(P)에 구비되는 퀀텀 로드(도 2의 156)의 코어(도 2의 157) 크기보다 작은 크기의 퀀텀 로드(도 2의 156)를 구비한 퀀텀 로드층(155b, 155c)이 형성된 것이 특징이다.Therefore, in this case, it is necessary to form the quantum rod layer 155a having the largest core (157 in FIG. 2) size (diameter) corresponding to the pixel region P that should exhibit red, and to display green and blue A quantum rod (156 in FIG. 2) having a size smaller than the size of the core (157 in FIG. 2) of the quantum rod (156 in FIG. 2) provided in the pixel region (P) The quantum rod layers 155b and 155c are formed.

한편, 도면에서는 상기 퀀텀 로드층(155)은 각 화소영역(P)별로 분리 형성된 것을 일례로 보이고 있지만, 변형예로서 도 5a(본 발명의 실시예의 제 1 변형예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 단면도)에 도시한 바와같이, 상기 퀀텀 로드층(155)은 다수의 화소영역(P)이 구비되는 표시영역 전면에 형성될 수도 있으며, 이 경우 상기 각 화소영역(P)의 경계에 구비되는 버퍼패턴(152)을 생략된다.Although the quantum rod layer 155 is formed separately for each pixel region P as an example, it is also possible to use a quantum rod light emitting display device according to a modification of the first modified example of the embodiment of the present invention The quantum rod layer 155 may be formed on the entire surface of the display region where a plurality of pixel regions P are provided. In this case, The pattern 152 is omitted.

이러한 구성을 포함하는 상기 제 1 기판(110)에 대응하여 제 2 기판(170)이 구비되고 있으며, 이때 상기 제 2 기판(170)은 상기 제 1 기판(110)과 같이 투명한 절연기판으로서 유리재질로 이루어지거나 또는 플렉서블한 특성을 갖는 플라스틱 재질로 이루어질 수 있으며, 나아가 또는 고분자 물질로 이루어진 시트 또는 필름이 될 수도 있다.The second substrate 170 may be a transparent insulating substrate such as the first substrate 110 and may be made of a glass material Or may be made of a plastic material having a flexible property, or may be a sheet or a film made of a polymer material.

이러한 제 2 기판(170)의 내측면에는 화소영역(P)의 경계 및 박막트랜지스터(Tr)가 형성된 부분에 대응하여 이를 가리며 블랙매트릭스(173)가 형성되어 있다.On the inner surface of the second substrate 170, a black matrix 173 is formed to correspond to the boundary of the pixel region P and the portion where the thin film transistor Tr is formed.

이러한 블랙매트릭스(173)는 상기 퀀텀 로드층(155)이 표시영역 전면에 형성되는 변형예(도 5a 참조) 경우 빛샘 방지를 위해 반드시 구비되어야 하며, 상기 퀀텀 로드층(155)이 각 화소영역(P)별로 분리 형성되는 경우 생략될 수도 있다.5A) in which the quantum rod layer 155 is formed on the entire surface of the display region, the black matrix 173 must be provided for preventing light leakage, and the quantum rod layer 155 is formed in each pixel region P) may be omitted.

한편, 본 발명의 실시예에 있어서는 상기 제 2 기판(170)의 내측면에 블랙매트릭스(173)만이 구비된 것을 보이고 있지만, 상기 퀀텀 로드층(155)이 각 화소영역(P)별로 모두 동일한 크기를 갖는 코어(도 2의 157)를 갖는 퀀텀 로드(도 2의 156)로 이루어진 경우, 도 5b(본 발명의 실시예의 제 2 변형예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 단면도)에 도시한 바와같이, 풀 컬러(full color) 구현을 위해 상기 블랙매트릭스(173)로 둘러싸인 영역에 대응하여 이웃하는 3개의 화소영역(P)에 순차 반복하는 형태로 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(175a, 175b, 175c)이 대응되는 컬러필터층(155)이 구비될 수도 있다.In the embodiment of the present invention, only the black matrix 173 is provided on the inner surface of the second substrate 170. However, since the quantum rod layer 155 has the same size (156 in Fig. 2) having a core (157 in Fig. 2) having a core (156 in Fig. 2) Green, and blue color filter patterns 175a, 175b, and 175c in the form of sequentially repeating the three pixel regions P adjacent to the region surrounded by the black matrix 173 for full color implementation. The color filter layer 155 may be provided.

그리고, 도면에 나타내지 않았지만, 이러한 블랙매트릭스(173)와 컬러필터층(155) 상부로 오버코트층(미도시)이 상기 제 2 기판(170) 전면에 구비될 수 있다.Although not shown, an overcoat layer (not shown) may be provided on the entire surface of the second substrate 170 above the black matrix 173 and the color filter layer 155.

한편, 도 4에 도시한 바와같이, 상기 제 1 기판(110)에 구비되는 퀀텀 로드층(155)이 적, 녹, 청색을 나타내어야 하는 화소영역(P)별로 서로 다른 크기의 코어(도 2의 157)를 갖는 퀀텀 로드(156)가 구비되는 경우, 상기 제 2 기판(170)에 구비되는 컬러필터층(미도시)은 고 휘도 특성 구현을 위해 생략될 수 있으며, 또는 도 5b에 도시한 제 2 변형예와 같이 더욱 우수한 색재현율 구현을 위해 구비될 수도 있다.4, the quantum rod layer 155 provided on the first substrate 110 may have a different size for each pixel region P which should exhibit red, green, and blue (see FIG. 2 The color filter layer (not shown) provided on the second substrate 170 may be omitted for the purpose of realizing a high luminance characteristic, or the quantum rod 156 may be omitted, It may be provided for realizing a better color reproduction rate as in the second modified example.

한편, 도 4를 참조하면, 이러한 구성을 갖는 퀀텀 로드 패널(102)의 하부 더욱 정확히는 상기 제 1 기판(110)의 외측면에는 상기 퀀텀 로드층(155)으로 빛을 공급하는 백라이트 유닛(180)이 구비되고 있다. 4, a backlight unit 180 for supplying light to the quantum rod layer 155 is formed on the lower surface of the quantum rod panel 102 having such a configuration, more precisely on the outer surface of the first substrate 110, .

이때, 상기 백라이트 유닛(180)은 광원(182)과, 반사판(185)과, 상기 반사판(185) 상에 안착되는 도광판(187) 그리고 이의 상부로 위치하는 다수의 광학시트(190)를 포함하여 구성된다. The backlight unit 180 includes a light source 182, a reflection plate 185, a light guide plate 187 placed on the reflection plate 185, and a plurality of optical sheets 190 disposed on the light guide plate 187, .

이때, 상기 광원(182)은 본 발명의 특징 상 450nm보다 작은 즉, 단 파장대의 빛 예를들면 청색 가시광선 또는 UV광을 발생시키는 것으로, CCFL(cold cathode fluorescent lamp)와 EEFL(external electrode fluorescent lamp)를 포함하는 형광 램프 또는 LED(light emit diode) 중에서 선택된 하나로 이루어질 수 있으며, 도면에서는 일례로 형광램프로 이루어진 것을 도시하였다.In this case, the light source 182 generates light of a short wavelength range, for example, blue visible light or UV light, which is smaller than 450 nm in the characteristics of the present invention. The CCFL (cold cathode fluorescent lamp) ) Or a light emit diode (LED), and in the drawing, the fluorescent lamp is shown as an example.

상기 광원(182)은 상기 도광판(187)의 입광부와 대면하도록 상기 도광판(187)의 일측에 위치하며, 상기 광원(182)이 형광램프인 경우, 램프가이드(183)에 의해 외측이 가이드 되고 있다. The light source 182 is disposed on one side of the light guide plate 187 so as to face the light incident portion of the light guide plate 187. When the light source 182 is a fluorescent lamp, have.

한편, 상기 도광판(187)은 상기 광원(182)으로부터 입사된 광을 여러 번의 전반사에 의해 그 내부를 진행하도록 하면서 상기 도광판(187) 면내로 고르게 퍼지도록 하여 상기 퀀텀 로드 패널(102)에 면광원을 제공한다. The light guide plate 187 spreads the light incident from the light source 182 evenly into the light guide plate 187 while advancing the light through the light guide 182 several times, .

이때, 이러한 도광판(187)은 상기 퀀텀 로드 패널(102)로의 균일한 면광원을 공급하기 위해 배면에 특정 모양의 패턴(미도시)을 포함할 수 있다. At this time, the light guide plate 187 may include a pattern (not shown) having a specific shape on the back surface to supply a uniform surface light source to the quantum rod panel 102.

여기서, 특정 모양의 패턴(미도시)은 상기 도광판(187) 내부로 입사된 빛을 가이드하기 위하여, 타원형의 패턴(elliptical pattern), 다각형의 패턴(polygon pattern), 홀로그램 패턴(hologram pattern) 등 다양하게 구성할 수 있으며, 이와 같은 패턴은 도광판(187)의 하부면에 인쇄방식 또는 사출방식으로 형성된다. In order to guide the light incident into the light guide plate 187, a pattern (not shown) of a specific shape may be formed of an elliptical pattern, a polygon pattern, a hologram pattern, And such a pattern is formed on the lower surface of the light guide plate 187 by a printing method or an injection method.

또한, 상기 반사판(185)은 상기 도광판(187)의 배면에 위치하여, 상기 도광판(187)의 배면을 통과한 광을 상기 퀀텀 로드 패널(102) 쪽으로 반사시킴으로써 광의 휘도를 향상시킨다. The reflection plate 185 is disposed on the back surface of the light guide plate 187 and reflects the light that has passed through the back surface of the light guide plate 187 toward the quantum rod panel 102 to improve the brightness of light.

그리고 상기 도광판(187) 상부에 구비된 상기 광학시트(190)는 확산시트(188)와 적어도 하나의 집광시트(189)를 포함한다. The optical sheet 190 provided on the light guide plate 187 includes a diffusion sheet 188 and at least one light condensing sheet 189.

한편, 이러한 구성을 갖는 백라이트 유닛(180)은 광원(182)이 도광판(187)의 측면에 구비되며 상기 도광판(187)에 의해 상기 퀀텀 로드 패널(102)에 면광원을 입사시키는 에지형 타입이 되고 있는 것을 일례로 보이고 있지만, 상기 백라이트 유닛(180)은 직하형 타입을 이룰 수도 있다. The backlight unit 180 having such a configuration is an edge type in which the light source 182 is provided on the side surface of the light guide plate 187 and the surface light source is incident on the quantum rod panel 102 by the light guide plate 187 However, the backlight unit 180 may be a direct-type type.

직하형 타입 백라이트 유닛(미도시)의 경우, 도면에 나타내지 않았지만, 반사판의 상부로 다수의 광원으로서 형광 램프가 일정 간격을 가지며 배치되거나, 또는 다수의 LED가 배치된 LED용 구동기판이 구비되며, 이의 상부로 상기 도광판을 대신하여 확산판이 구비되며, 상기 확산판의 상부로 다수의 광학시트가 구비된다. Although not shown in the drawing, a direct drive type backlight unit (not shown) is provided with a driving substrate for LEDs in which fluorescent lamps are arranged as a plurality of light sources at regular intervals or on which a plurality of LEDs are arranged, And a diffusion plate is provided on the top of the light guide plate in place of the light guide plate, and a plurality of optical sheets are provided on the diffusion plate.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 실시예 또는 그 변형예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치는 휘도 특성을 저하시키는 편광판을 필요로 하지 않으므로, 편광판이 구비됨으로써 휘도 특성이 저하되며 이렇게 저하된 휘도 특성을 향상시키고자 더 밝은 광원을 구비함으로써 소비전력이 증가되는 액정표시장치 대비 고 휘도 특성 및 저 소비전력 특성을 갖는 장점이 있다.Since the quantum rod light emitting display according to the embodiment of the present invention having such a configuration or a modification thereof does not require a polarizing plate for lowering the brightness characteristic, the brightness characteristic is lowered by the provision of the polarizing plate, There is an advantage that a high luminance characteristic and a low power consumption characteristic are provided as compared with a liquid crystal display device in which power consumption is increased by providing a light source that is brighter.

나아가 퀀텀 로드층 내부에 구비되는 퀀텀 로드가 일 방향으로 배향된 구성을 가짐으로써 백라이트 유닛으로부터 나온 빛을 더욱 잘 흡수하여 형광시키므로 더욱더 휘도 특성을 향상시키는 효과가 있다. In addition, since the quantum rod provided in the quantum rod layer is oriented in one direction, the light emitted from the backlight unit is more absorbed and fluoresced, thereby further improving the luminance characteristic.

또한, 본 발명에 따른 퀀텀 로드 표시장치는 편광판 등을 필요로 하지 않으므로 액정표시장치 대비 제조에 필요로 되는 부품수를 줄일 수 있으므로 제조비용을 저감시키는 효과가 있다.
In addition, since the quantum rod display device according to the present invention does not require a polarizer or the like, it is possible to reduce the number of components required for manufacturing the liquid crystal display device, thereby reducing manufacturing cost.

이후에는 전술한 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a quantum rod light emitting display device having the above-described configuration according to an embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광표시장치는 퀀텀 로드층이 구비되는 제 1 기판에 그 특징적인 구성을 가짐으로 이의 제조 방법 위주로 설명한다.A quantum rod light emitting display device according to an embodiment of the present invention has a characteristic configuration in a first substrate provided with a quantum rod layer.

도 6a 내지 도 6h는 본 발명의 일 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치에 있어 퀀텀 로드층이 구비되는 제 1 기판에 구비된 하나의 화소영역에 대한 제조 단계별 공정 단면도이다. 설명의 편의를 위해 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)가 형성되는 영역을 스위칭 영역(TrA)이라 정의한다.6A to 6H are cross-sectional views illustrating a process of fabricating a pixel region of a quantum rod light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention. For convenience of description, a region in which the thin film transistor Tr as a switching element is formed is defined as a switching region TrA.

우선, 도 6a에 도시한 바와같이, 투명한 절연기판(110) 상에 제 1 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금 및 크롬(Cr) 중 어느 하나 또는 둘 이상의 물질을 증착함으로서 제 1 금속층(미도시)을 형성한다. 6A, a first metal material such as aluminum (Al), an aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), a copper alloy, and chromium (Cr) is formed on a transparent insulating substrate 110, A first metal layer (not shown) is formed by depositing one or more materials.

이후, 상기 제 1 금속층(미도시)을 패터닝함으로써 일방향으로 연장하는 게이트 배선(미도시)을 형성하고, 동시에 각 화소영역(P) 내에 상기 게이트 배선(미도시)과 연결되는 게이트 전극(108)을 형성한다. Thereafter, a gate wiring (not shown) extending in one direction is formed by patterning the first metal layer (not shown), a gate electrode 108 connected to the gate wiring (not shown) in each pixel region P, .

다음, 도 6b에 도시한 바와같이, 상기 게이트 배선(미도시)과 게이트 전극(108) 위로 전면에 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)을 증착하여 게이트 절연막(119)을 전면에 형성한다.Next, as shown in Figure 6b, the gate wiring (not shown) and the gate electrode 108 up to such an inorganic insulating material, for example a blanket deposited silicon oxide (SiO 2) or silicon nitride (SiNx) gate insulating film ( 119 are formed on the entire surface.

다음, 상기 게이트 절연막(115) 위로 순수 비정질 실리콘층(미도시)과 불순물 비정질 실리콘층(미도시)과 제 2 금속물질층(미도시)을 형성하고, 이들을 회절노광 또는 하프톤 노광을 포함하는 1회의 마스크 공정을 통해 동시에 패터닝하거나, 또는 2회의 마스크 공정을 실시하여 상기 제 2 금속층(미도시)과, 불순물 및 순수 비정질 실리콘층(미도시)을 각각 패터닝함으로써 상기 화소영역(P) 내에 상기 게이트 전극(108)에 대응하여 순수 비정질 실리콘 액티브층(120a)과 상기 액티브층(120a) 위로 서로 소정간격 이격하는 불순물 비정질 실리콘의 오믹콘택층(120b)으로 이루어진 반도체층(120)과, 상기 오믹콘택층(120b) 위로 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)을 형성한다.Next, a pure amorphous silicon layer (not shown), an impurity amorphous silicon layer (not shown), and a second metal material layer (not shown) are formed on the gate insulating layer 115, and these are subjected to diffraction exposure or halftone exposure (Not shown) and the impurity and the pure amorphous silicon layer (not shown) are patterned by patterning the first metal layer (not shown) and the second amorphous silicon layer A semiconductor layer 120 composed of a pure amorphous silicon active layer 120a and an ohmic contact layer 120b of impurity amorphous silicon spaced apart from the active layer 120a by a predetermined distance corresponding to the gate electrode 108, Source and drain electrodes 133 and 136 are formed on the contact layer 120b.

이때, 이 단계에서 각 화소영역(P) 내의 스위칭 영역(TrA)에 순차 적층된 상기 게이트 전극(108)과 게이트 절연막(115)과 반도체층(120)과 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 이룬다. At this time, the gate electrode 108, the gate insulating film 115, and the semiconductor layer 120, which are sequentially stacked in the switching region TrA in each pixel region P, are separated from the source and drain electrodes 133, 136 constitute a thin film transistor Tr which is a switching element.

그리고, 동시에 상기 게이트 절연막(115) 위로 상기 게이트 배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터 배선(130)을 형성한다. At the same time, a data line 130 is formed on the gate insulating film 115 so as to intersect the gate line (not shown) and define the pixel region P.

한편, 본 발명의 실시예의 경우, 제 2 금속층(미도시)과, 불순물 및 순수 비정질 실리콘층(미도시)을 하프톤 노광 또는 회절노광을 포함하는 1회의 마스크 공정을 실시하여 형성한 것을 도시하였으며, 이러한 공정 특성 상 상기 데이터 배선(130) 하부에도 상기 액티브층(120a)과 오믹콘택층(120b)을 이루는 동일한 물질로 제 1 및 제 2 패턴(121a, 121b)으로 이루어진 더미패턴(121)이 형성되고 있음을 보이고 있다.  Meanwhile, in the embodiment of the present invention, a second metal layer (not shown) and an impurity and a pure amorphous silicon layer (not shown) are formed by performing a single mask process including halftone exposure or diffraction exposure A dummy pattern 121 composed of the first and second patterns 121a and 121b is formed under the data line 130 with the same material as the active layer 120a and the ohmic contact layer 120b Is formed.

하지만, 불순물 및 순수 비정질 실리콘층(미도시)에 대해 1회의 마스크 공정을 진행하여 우선적으로 패터닝하여 반도체층(120)을 형성하고, 이후 상기 반도체층(120) 상부에 제 2 금속층(미도시)을 형성한 후 2회의 마스크 공정을 진행하여 패터닝하는 경우 상기 데이터 배선(130) 하부에 형성된 상기 더미패턴(121)은 생략된다.However, the semiconductor layer 120 is formed by first patterning the impurity and the pure amorphous silicon layer (not shown) by a single mask process, and then a second metal layer (not shown) is formed on the semiconductor layer 120, The dummy pattern 121 formed under the data line 130 is omitted in the case of performing patterning through two masking processes.

다음, 도 6c에 도시한 바와같이, 상기 데이터 배선(130)과 박막트랜지스터(Tr) 및 스토리지 커패시터(StgC) 위로 전면에 감광성 유기절연물질 예를들면 포토아크릴(photo acryl) 또는 벤조사이클로부텐(BCB)을 2㎛ 내지 3㎛ 정도의 두께를 갖도록 도포하여 하부에 위치하는 구성요소의 단차를 극복하여 평탄한 표면을 갖는 보호층(140)을 형성하고 이를 마스크 공정을 진행하여 패터닝함으로써 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(136)을 노출시키는 드레인 콘택홀(143)을 형성한다. 6C, a photosensitive organic insulating material such as photo acryl or benzocyclobutene (BCB) is deposited on the entire surface of the data line 130, the thin film transistor Tr and the storage capacitor StgC. Is formed to have a thickness of about 2 탆 to about 3 탆 so as to overcome the step difference of the components located at the bottom to form a protective layer 140 having a flat surface, The drain contact hole 143 exposing the drain electrode 136 is formed.

다음, 도 6d에 도시한 바와같이, 상기 드레인 콘택홀(143)을 갖는 상기 보호층(140) 위로 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 증착함으로서 도전성 물질층(미도시)을 형성하고, 이를 마스크 공정을 진행하여 패터닝함으로써 각 화소영역(P) 별로 상기 드레인 콘택홀(143)을 통해 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(136)과 접촉하는 제 1 전극(150)을 형성한다.6D, a transparent conductive material such as indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) is deposited on the passivation layer 140 having the drain contact hole 143. Next, (Not shown) is formed by patterning a conductive material layer (not shown) by performing a masking process, thereby forming a drain electrode 136 of the thin film transistor Tr through the drain contact hole 143 for each pixel region P Thereby forming the first electrode 150 which is in contact therewith.

이후, 도 6e에 도시한 바와같이, 상기 제 1 전극(150) 위로 유기절연물질을 도포하거나 또는 무기절연물질을 증착함으로써 버퍼층(미도시)을 형성하고, 이를 패터닝함으로써 각 화소영역(P)의 경계에 상기 각 화소영역(P)을 둘러싸는 형태를 갖는 버퍼패턴(152)을 형성한다. 이러한 버퍼패턴(152)은 생략할 수도 있다.6E, a buffer layer (not shown) is formed by applying an organic insulating material onto the first electrode 150 or by depositing an inorganic insulating material, and patterning the buffer layer (not shown) A buffer pattern 152 having a shape surrounding each pixel region P is formed at a boundary. Such a buffer pattern 152 may be omitted.

다음, 도 6f에 도시한 바와같이, 상기 버퍼패턴(152)을 둘러싸인 각 화소영역(P)에 대응하여 퀀텀 로드액을 도포함으로써 퀀텀 로드층(155)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 6F, the quantum rod layer 155 is formed by applying a quantum rod solution corresponding to each pixel region P surrounded by the buffer pattern 152.

이때, 상기 퀀텀 로드층(155)은 다수의 퀀텀 로드를 구비한 액체 상태의 퀀텀 로드액을 잉크젯 장치(미도시)를 이용하여 각 화소영역(P) 별로 잉크 제팅을 실시하거나 또는 스크린 마스크(미도시)를 이용한 스크린 프린팅법을 진행함으로써 각 화소영역(P) 별로 패터닝된 형태를 갖는 퀀텀 로드층(155)을 형성할 수 있다. At this time, the quantum rod layer 155 performs ink jetting for each pixel region P by using an ink jet apparatus (not shown) in a liquid state quantum rod liquid having a plurality of quantum rods, The quantum rod layer 155 having a patterned pattern for each pixel region P can be formed.

이러한 스크린 프린팅법이나 또는 잉크젯 법을 이용하는 경우 각 화소영역(P) 별로 선택적으로 형성하는 것이 가능하므로 상기 퀀텀 로드층(155)은 적, 녹, 청색을 발광하는 화소영역(P)별로 상기 퀀텀 로드의 크기를 달리함으로써 각 화소영역(P)별로 서로 다른 크기를 갖는 퀀텀 로드에 의해 적, 녹, 청색을 형광할 수 있다. Since the quantum rod layer 155 can be formed selectively for each pixel region P by using the screen printing method or the inkjet method, the quantum rod layer 155 can be formed by the quantum rod Green and blue can be fluoresced by quantum rods having different sizes for each pixel region P by varying the sizes of the red, green and blue colors.

한편, 상기 퀀텀 로드층(155)은 도시한 바와같이 각 화소영역(P)별로 형성할 수도 있으며, 또는 표시영역 전면에 화소영역(P) 구별없이 형성할 수도 있다. 표시영역 전면에 형성하는 경우(도 5a 참조), 상기 버퍼패턴(152)은 형성할 필요가 없으며, 상기 퀀텀 로드를 포함하는 퀀텀 로드 액을 슬릿 코팅장치 또는 스핀 코팅장치를 통해 전면에 도포함으로써 형성할 수 있다. 이렇게 표시영역 전면에 퀀텀 로드층(155)을 형성하는 경우, 동일한 크기의 퀀텀 로드가 구비되며 이 경우, 이러한 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판에 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 포함하는 컬러필터층을 형성하는 것이 바람직하다.Meanwhile, the quantum rod layer 155 may be formed for each pixel region P, or may be formed on the entire surface of the display region without distinction of the pixel region P. FIG. 5A), it is not necessary to form the buffer pattern 152. The buffer pattern 152 is formed by applying the quantum rod solution including the quantum rod to the entire surface through a slit coating apparatus or a spin coating apparatus can do. In this case, when the quantum rod layer 155 is formed on the entire surface of the display area, a quantum rod of the same size is provided. In this case, the second substrate facing the first substrate has a color It is preferable to form a filter layer.

이때, 상기 퀀텀 로드층(155)을 형성함에 있어서, 본 발명의 특징 상 상기 퀀텀 로드층(155) 내의 퀀텀 로드가 일방향으로 배열된 상태를 이루도록 하기 상기 퀀텀 로드층(155)을 형성하기 전에 전처리 공정을 우선적으로 진행하는 것이 특징이다.In forming the quantum rod layer 155, the quantum rod layer 155 may be pre-processed before the quantum rod layer 155 is formed to form a state in which the quantum rods in the quantum rod layer 155 are arranged in one direction, The process is preferentially proceeded.

상기 전처리 공정이란 상기 퀀텀 로드층(155) 내에 다수의 퀀텀 로드가 일방향으로 배열되도록 하기 위한 공정으로 배향공정이 된다.The pre-processing step is an alignment step in which a plurality of quantum rods are arranged in one direction in the quantum rod layer 155.

이러한 배향공정은 배향막을 이용한 배향법, 자기조립 단분자(self aligned monomer)를 이용한 정렬법, 리액티브 메소겐 물질을 이용한 배향법 중 어느 하나가 될 수 있으며, 전술한 배향법에 한정되지 않고 그 외의 다양한 배향법이 이용될 수 있다. The alignment process may be any one of an alignment method using an alignment film, a alignment method using a self-aligned monomer, and a method using a reactive mesogen material. The alignment method is not limited to the alignment method described above, Various orientation methods can be used.

상기 배향막을 이용한 배향법은 도 7a 내지 7b(본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 시 퀀텀 로드층 내의 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열하는데 이용되는 배향막을 이용한 배향법을 도시한 도면)에 도시한 바와같이, 상기 버퍼패턴(미도시)이 형성된 상태에서 상기 퀀텀 로드층(155)을 형성하기 이전에 상기 버퍼패턴(미도시)과 상기 버퍼패턴(미도시) 사이로 노출된 상기 제 1 전극(미도시) 위로 표시영역 전면에 배향막(181)을 형성한다. 이때, 배향막(181)은 고분자 물질 예를들면 폴리이미드 또는 폴리아미드로 이루어진 것으로 주쇄와 측쇄를 가지며, 표면을 일방향으로 마찰시키거나 또는 상기 배향막(181)이 광배향 물질 예를들면 광분해 물질, 광이성화 물질, 광경화 물질, 광중합 물질 중 어느 하나가 혼합된 경우 UV광 또는 이온 빔 조사에 의해 상기 측쇄가 일방향으로 배열되는 특성을 갖는다.7A to 7B (an alignment method using an alignment film used for arranging the quantum rods in one direction in the quantum rod layer in manufacturing the quantum rod light emitting display according to the embodiment of the present invention (Not shown) before the quantum rod layer 155 is formed in a state where the buffer pattern (not shown) is formed, as shown in FIG. An alignment film 181 is formed on the entire surface of the display region over one electrode (not shown). The alignment layer 181 is made of a polymeric material such as polyimide or polyamide and has a main chain and side chains. The alignment layer 181 rubs the surface in one direction, or the alignment layer 181 is made of a photo-alignment material, When any one of the isomerization material, the photo-curable material and the photopolymerizable material is mixed, the side chains are arranged in one direction by UV light or ion beam irradiation.

이렇게 배향막(181)이 형성된 후에는 도 7a에 도시한 바와같이 러빙포(250)가 감긴 회전롤러(255)를 회전시켜 상기 배향막(181) 표면과 상기 러빙포(250)가 마찰되도록 한 상태에서 일방향으로 이동시킴으로써 상기 배향막(181) 표면의 측쇄가 일방향으로 방향성을 갖도록 하거나, 또는 도 8(본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 시 퀀텀 로드층 내의 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열하는데 이용되는 배향막을 이용한 또 다른 배향법을 도시한 도면)에 도시한 바와같이, 상기 배향막(181)에 대해 일 방향으로 입사하도록 UV광을 조사하거나 또는 이온빔을 조사함으로써 상기 배향막(181) 표면의 측쇄가 일방향으로 방향성을 갖도록 한다. After the alignment film 181 is formed, as shown in FIG. 7A, the rotating roller 255 wound with the rubbing cloth 250 is rotated so that the surface of the alignment layer 181 and the rubbing cloth 250 are rubbed The side chains of the surface of the alignment film 181 may be oriented in one direction by moving in one direction or the quantum rod in the quantum rod layer may be arranged in one direction in the production of the quantum rod light emitting display device according to the embodiment of the present invention The UV light is irradiated to the alignment film 181 in one direction or by irradiating an ion beam to the alignment film 181 in the same direction as the alignment film 181 So that the side chains are oriented in one direction.

이후, 상기 러빙 처리(도 7a 참조)되거나 UV광 또는 이온빔이 조사(도 8 참조)된 상태의 상기 배향막(181) 상부로 퀀텀 로드액을 도포하면, 상기 일방향으로 배열된 측쇄의 영향을 받아 자연적으로 퀀텀 로드가 일 방향으로 배열된다.Thereafter, when the quantum rod liquid is applied to the upper portion of the alignment film 181 in a state where the rubbing process (see FIG. 7A) or the irradiation of the UV light or the ion beam (see FIG. 8) The quantum rods are arranged in one direction.

이러한 배향막(181)을 이용한 방법은 전술한 방법 이외에 도면에 나타내지 않았지만, 사방증착법을 이용할 수도 있다. Although the method using this alignment film 181 is not shown in the drawings other than the above-described method, a four-sided vapor deposition method may also be used.

상기 사방증착법은 산화물 및 불화물 등의 무기물질 일례로 산화실리콘을 기판에 대해 경사로 증착하는 것으로, 무기물질의 증착각, 증착속도, 진공도, 기판온도, 막 두께 등의 증착 조건 특히 증착물질의 증착각(입사각)을 적절히 조절함으로서 이의 상부에 도포되는 퀀텀 로드는 상기 증착각에 평행하거나 수직하도록 배열되도록 배향 상태를 변경시킬 수 있다. In the above-mentioned four-sided deposition method, silicon oxide is deposited on the substrate at an angle with respect to an inorganic material such as oxide and fluoride, and the deposition conditions such as deposition angle, deposition rate, vacuum degree, substrate temperature, (Angle of incidence) of the quantum rod applied on the quantum rod can be changed so that the quantum rod is arranged to be parallel or perpendicular to the deposition angle.

한편, 상기 자기조립단분자를 이용한 정렬법은 도 9a 내지 9b(본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 시 퀀텀 로드층 내의 퀀텀 로드를 일 방향으로 배열하는데 이용되는 자기조립단분자를 이용한 정렬법을 도시한 도면으로서 디핑법에 의해 자기조립단분자막을 형성하는 것을 도시함)에 도시한 바와같이, 상기 제 1 전극(150)을 노출시키는 버퍼패턴(152)이 형성된 제 1 기판(110)을 상기 제 1 전극(150)을 이루는 투명 도전성 물질과 우선적으로 반응하는 화학물질 용액(315)에 디핑법 또는 분사법을 이용하여 노출시키는 SAMs(self-assembled monolayers) 처리를 실시함으로써 상기 제 1 전극(150)의 표면에 자기조립단분자막(310)을 형성한다. 이러한 자기조립단분자막(310)은 상기 배향막(도 7a의 181)의 측쇄와 같은 역할을 함으로써 일방향으로 배열된 상태를 이루며, 또한 특정 물질과 반응하여 결합하려는 성향을 가짐으로써 추후 상기 자기조립단분자막(310) 상에 퀀텀 로드액이 도포하여 퀀텀 로드층(155)을 형성하는 경우, 상기 퀀텀 로드층(155) 내의 퀀텀 로드가 일방향으로 배열되도록 하는 역할을 한다. On the other hand, the alignment method using the self-assembled monolayer is similar to that of the self-assembled monolayer used for arranging the quantum rods in one direction in the quantum rod layer in manufacturing the quantum rod light emitting display according to the embodiment of the present invention A first substrate 110 on which a buffer pattern 152 is formed to expose the first electrode 150 is formed, as shown in FIG. 1B, illustrating a self-assembled monolayer film formed by a dipping method, (Self-assembled monolayers) process in which the first electrode 150 is exposed to a chemical solution 315 which reacts preferentially with a transparent conductive material forming the first electrode 150 using a dipping or spraying method, The monolayer monolayer 310 is formed on the surface of the substrate 150. The self-assembled monolayer 310 is arranged in one direction by acting as a side chain of the alignment layer (181 in FIG. 7A). Further, the self-assembled monolayer 310 has a tendency to react with and bond with a specific material, And the quantum rod layer 155 is formed by applying the quantum rod liquid on the quantum rod layer 155. The quantum rod layer 155 has a function of arranging the quantum rods in one direction.

따라서 이렇게 자기조립단분자막(310)이 형성된 상기 제 1 기판(110)상에 퀀텀 로드액을 도포하는 경우, 배향막(도 7a의 181) 상에서 퀀텀 로드가 정렬하는 것과 같이 퀀텀 로드가 일방향으로 배향된다.Thus, when the quantum rod liquid is applied onto the first substrate 110 on which the self-assembled monolayer film 310 is formed, the quantum rods are oriented in one direction as the quantum rods align on the alignment film (181 in FIG. 7A).

한편, 리액티브 메소겐(reactive mesogen)을 이용한 배향법은 배향막 또는 자기조립단분자막 형성없이 퀀텀 로드액에 메소겐 물질 즉 막대 모양으로 메소겐성기, 즉 퀀텀 로드 거동을 유도할 수 있는 능력을 가진 기를 포함하는 물질을 혼합시켜 상기 제 1 전극 상부로 전술한 잉크젯 법, 스크린 프린팅 법, 스핀코팅법, 바 코팅 법 중 어느 하나를 통해 도포한 후, 상기 도포된 퀀텀 로드층(155)에 UV 광을 조사함으로써 중합반응을 발생시켜 인접한 물질 즉 퀀텀 로드의 배향 상태를 따라 동일한 방향으로 배열되는 특성을 이용한 배향방법이다. On the other hand, the reactive mesogen orientation method is a method in which a mesogen material, that is, a mesogenic material, that is, a material capable of inducing a quantum rod behavior, is added to a quantum rod liquid without forming an alignment film or a self-assembled monolayer Screen printing, spin coating, or bar coating on the first electrode, UV light is applied to the applied quantum rod layer 155, And the polymerization reaction is generated by irradiation, and the properties are arranged in the same direction along the orientation of the adjacent material, that is, the quantum rod.

이러한 리액티브 메소겐을 이용한 배향법을 이용하는 경우, 퀀텀 로드가 상기 메소겐기에 의해 일방향으로 위치하게 되며, 이에 영향으로 점진적으로 이의 주변에 위치하는 메소겐기 및 퀀텀 로드가 일방향으로 연속적으로 배열된다.When such an orientation method using a reactive mesogen is used, the quantum rod is positioned in one direction by the mesogen group, and the mesogens and the quantum rods, which are gradually located around the quantum rod and the quantum rod, are continuously arranged in one direction.

이와같은 배향법에 의해 도 10(본 발명에 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시소자의 제조 단계 중 퀀텀 로드의 배향법을 진행한 후 퀀텀로드층을 형성한 후 상기 퀀텀로드층의 표면을 확대하여 찍은 사진)을 참조하면, 퀀텀 로드층에 구비되는 다수의 퀀텀 로드가 일방향으로 잘 배열되고 있음을 알 수 있다.10 (the present invention is directed to the method of orienting the quantum rods in the manufacturing step of the quantum rod light emitting display device according to the embodiment, and after forming the quantum rod layer, the surface of the quantum rod layer is enlarged It can be seen that a plurality of quantum rods provided in the quantum rod layer are well arranged in one direction.

비교예로서 도 11(비교예로서 배향법을 적용하지 않고 형성된 퀀텀 로드층 표면을 확대하여 찍은 사진)을 참조하면, 배향공정을 진행하지 않고 형성된 퀀텀 로드층의 경우, 이를 구성하는 퀀텀 로드가 일 방향으로 배열되지 않고 방향성 없이 무질서한 상태를 가짐을 알 수 있다. As a comparative example, referring to Fig. 11 (a photograph of an enlarged image of the surface of a quantum rod layer formed without applying an alignment method as a comparative example), in the case of a quantum rod layer formed without performing the alignment process, Direction and is disorderless without directionality.

한편, 전술한 배향공정을 진행함으로써 도 6f를 참조하면 상기 퀀텀 로드층(155) 내부에 구비된 다수의 퀀텀 로드는 일방향으로 배열된 상태를 갖는다.On the other hand, referring to FIG. 6F, the plurality of quantum rods included in the quantum rod layer 155 are arranged in one direction.

다음, 일방향으로 퀀텀 로드가 배열된 상기 퀀텀 로드층(155)을 경화시킴으로서 상기 퀀텀 로드가 일방향으로 배열된 상태를 유지하도록 한다.Next, the quantum rod layer 155 in which the quantum rods are arranged in one direction is cured to keep the quantum rods arranged in one direction.

다음, 도 6g에 도시한 바와같이, 상기 경화된 퀀텀 로드층(155) 위로 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 표시영역 전면에 증착하여 제 2 전극(160)을 형성함으로써 제 1 기판(110)을 완성한다.Next, as shown in FIG. 6G, a transparent conductive material such as indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) is deposited on the cured quantum rod layer 155 on the entire display region The second electrode 160 is formed to complete the first substrate 110.

다음, 도 6h에 도시한 바와같이, 이렇게 완성된 제 1 기판(110)과 대향하는 제 2 기판(170)의 내측면에 상기 각 화소영역(P)의 경계에 대응하여 블랙매트릭스(173)를 형성하고 선택적으로 상기 블랙매트릭스(173)로 둘러싸인 영역에 순차 반복하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 구비한 컬러필터층(미도시)을 형성하거나, 또는 평탄한 표면을 갖는 오버코트층(미도시)을 형성한다.6H, a black matrix 173 is formed on the inner surface of the second substrate 170 facing the first substrate 110 so as to correspond to the boundaries of the pixel regions P, A color filter layer (not shown) having red, green, and blue color filter patterns sequentially formed in an area surrounded by the black matrix 173 is formed, or an overcoat layer (not shown) having a flat surface is formed .

이후, 상기 제 1 및 제 2 기판(110, 170)을 합착함으로서 퀀텀 로드 패널(102)을 이루도록 한 후, 이러한 퀀텀 로드 패널(102)의 일측면에 광원(182)과 도광판(187)과 반사판(185) 및 다수의 광학시트(190)를 포함하여 구성되는 백라이트 유닛(180)을 실장함으로서 본 발명의 실시예에 따른 퀀텀 로드 발광 표시장치(101)를 완성한다.
The quantum rod panel 102 is formed by joining together the first and second substrates 110 and 170. The quantum rod panel 102 has a light source 182, a light guide plate 187, The quantum rod light emitting display device 101 according to the embodiment of the present invention is completed by mounting a backlight unit 180 including a plurality of optical sheets 190 and a plurality of optical sheets 190.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 이상 다양한 변화와 변형이 가능하다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

101 : 퀀텀 로드 발광 표시장치 102 : 퀀텀 로드 패널
110 : 제 1 기판 108 : 게이트 전극
115 : 게이트 절연막 120 : 반도체층
120a : 액티브층 120b : 오믹콘택층
121 : 더미패턴 121a, 121b : 제 1, 2 더미패턴
130 : 데이터 배선 133 : 소스 전극
136 : 드레인 전극 140 : 보호층
143 : 드레인 콘택홀 150 : 제 1 전극
152 : 버퍼패턴 155 : 퀀텀 로드층
155a, 155b, 155c : 적, 녹, 청색을 각각 형광하는 퀀텀 로드층
160 : 제 2 전극 170 : 제 2 기판
173 : 블랙매트릭스 180 : 백라이트 유닛
182 : 광원 183 : 램프 가이드
185 : 반사판 187 : 도광판
188 : 확산시트 188 : 집광시트
190 : 광학시트 P : 화소영역
Tr : 박막트랜지스터 TrA : 스위칭 영역
101: Quantum rod light emission display device 102: Quantum rod panel
110: first substrate 108: gate electrode
115: gate insulating film 120: semiconductor layer
120a: active layer 120b: ohmic contact layer
121: dummy patterns 121a and 121b: first and second dummy patterns
130: data line 133: source electrode
136: drain electrode 140: protective layer
143: drain contact hole 150: first electrode
152: buffer pattern 155: quantum road layer
155a, 155b, and 155c: quantum rod layers that fluoresce red, green, and blue, respectively
160: second electrode 170: second substrate
173: Black matrix 180: Backlight unit
182: light source 183: lamp guide
185: reflector 187: light guide plate
188: diffusion sheet 188: condensing sheet
190: optical sheet P: pixel area
Tr: thin film transistor TrA: switching region

Claims (26)

다수의 화소영역이 정의된 제 1 기판과;
상기 제 1 기판의 상의 각 화소영역에 형성된 제 1 전극과;
상기 제 1 전극 상부에 형성되며 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층과;
상기 퀀텀 로드층 상부에 형성된 제 2 전극과;
상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판과;
상기 제 1 기판의 외측면에 구비되는 백라이트 유닛
을 포함하고,
상기 다수의 퀀텀 로드가 일 방향으로 배향되었다고 하는 것은,
수평 방향의 편광비 PRh 와 수직 방향의 편광비 PRv를 각각 PRh = Ih/(Ih+Iv), PRv = Iv/(Ih+Iv) 이라 정의할 때, 상기 수평 방향의 편광비 PRh 또는 수직 방향의 편광비 PRv가 0.5보다는 크고 1보다는 작은 값을 갖는 즉, 0.5 < PRh(또는 PRv)< 1 을 만족시키는 것을 의미하는 퀀텀 로드 발광 표시장치.
A first substrate on which a plurality of pixel regions are defined;
A first electrode formed on each pixel region of the first substrate;
A quantum rod layer formed on the first electrode and having a plurality of quantum rods oriented in one direction;
A second electrode formed on the quantum rod layer;
A second substrate facing the first substrate;
A backlight unit provided on an outer surface of the first substrate,
/ RTI &gt;
When the plurality of quantum rods are oriented in one direction,
When the polarization ratio PR h in the horizontal direction and the polarization ratio PR v in the vertical direction are defined as PR h = I h / (I h + I v ) and PR v = I v / (I h + I v ) Means that the polarization ratio PR h in the horizontal direction or the polarization ratio PR v in the vertical direction is larger than 0.5 and smaller than 1, that is, 0.5 <PR h (or PR v ) <1.
제 1 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드층은 각 화소영역별로 패터닝되어 형성되며, 상기 화소영역은 적, 녹, 청색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역으로 나뉘며, 상기 퀀텀 로드층은 상기 제 1, 2, 3 화소영역별로 서로 다른 크기를 갖는 퀀텀 로드를 구비한 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
The quantum rod layer is patterned for each pixel region, and the pixel region is divided into first, second, and third pixel regions emitting red, green, and blue, and the quantum rod layer includes first, second, And a quantum rod having a different size for each region.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 기판에는 상기 제 1, 2, 3 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 구비된 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second substrate is provided with red, green, and blue color filter patterns corresponding to the first, second, and third pixel regions.
제 1 항에 있어서,
상기 화소영역은 적, 녹, 청색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역으로 나뉘며, 상기 퀀텀 로드층은 화소영역 구분없이 상기 다수의 화소영역이 구비된 표시영역 전면에 동일한 크기의 퀀텀 로드를 구비하여 형성되며, 상기 제 2 기판에는 상기 제 1, 2, 3 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 구비된 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
The pixel region is divided into first, second, and third pixel regions emitting red, green, and blue, and the quantum rod layer has a uniform quantum load on the entire display region having the plurality of pixel regions, And a red, green, and blue color filter patterns corresponding to the first, second, and third pixel regions are formed on the second substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 기판에는 적, 녹, 청색을 나타내는 제 1, 2, 3 화소영역이 구비되며, 상기 퀀텀 로드층은 각 화소영역에 동일한 크기의 퀀텀 로드를 구비하며,
상기 제 2 기판에는 상기 제 1, 2, 3 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 구비된 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
The first substrate is provided with first, second and third pixel regions which exhibit red, green and blue. The quantum rod layer has quantum rods of the same size in each pixel region,
Wherein the second substrate is provided with red, green, and blue color filter patterns corresponding to the first, second, and third pixel regions.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 기판에는 서로 교차하여 상기 각 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과;
상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되는 박막트랜지스터가 구비되며, 상기 제 1 전극은 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 연결된 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.


The method according to claim 1,
A gate line and a data line crossing the first substrate to define the pixel regions;
Wherein the first electrode is connected to the drain electrode of the thin film transistor, and the first electrode is connected to the drain electrode of the thin film transistor.


삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드는,
코어만으로 이루어지거나,
또는 코어와 상기 코어를 둘러싸는 쉘로 이루어지며,
상기 쉘은 단축과 장축을 갖는 형태를 이루며 단축 대 장축의 비가 1:1.1 내지 1:30인 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
The quantum rod includes:
Core,
Or a core and a shell surrounding the core,
Wherein the shell has a shape having a minor axis and a major axis, and a ratio of the minor axis to the major axis is 1: 1.1 to 1:30.
제 8 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드의 코어는 그 형상이 구, 타원구, 다면체, 막대 형태 중 어느 하나를 이루며,
상기 쉘은 상기 퀀텀 로드의 단축 방향으로 절단한 절단면이 원, 타원, 다각형 형태 중 어느 하나의 형태를 이루는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
9. The method of claim 8,
Wherein the core of the quantum rod has one of a spherical shape, an elliptical shape, a polyhedral shape, and a rod shape,
Wherein the cut surface of the shell cut in the direction of the minor axis of the quantum rod is in the form of a circle, an ellipse, or a polygonal shape.
제 9 항에 있어서,
상기 쉘은 단일층 또는 다중층 구조를 이루는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the shell comprises a single layer or multilayer structure.
제 10 항에 있어서,
상기 쉘은 합금(alloy), 옥사이드 계열 또는 불순물이 도핑된 물질로 이루어지는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the shell is made of an alloy, an oxide-based material, or an impurity-doped material.
제 1 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드의 코어는 주기율표 상의 Ⅱ-Ⅵ, Ⅲ-V, Ⅲ-Ⅵ, Ⅵ-Ⅳ, Ⅳ 족의 반도체, 합금 또는 혼합된 물질로 이루어지는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the core of the quantum rod is made of a semiconductor, an alloy, or a mixed material of group II-VI, III-V, III-VI, VI-IV and IV on the periodic table.
제 12 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드의 코어는 Ⅱ-Ⅵ족으로 이루어지는 경우, CdSe, CdS, CdTe, ZnO, ZnSe, ZnS, ZnTe, HgSe, HgTe, CdZnSe 중 어느 하나로 이루어지거나 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어지며,
Ⅲ-V 족으로 이루어지는 경우, InP, InN, GaN, InSb, InAsP, InGaAs, GaAs, GaP, GaSb, AlP, AlN, AlAs, AlSb, CdSeTe, ZnCdSe 중 어느 하나로 이루어지거나 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어지며,
Ⅵ-Ⅳ족으로 이루어지는 경우, PbSe, PbTe, PbS, PbSnTe, Tl2SnTe5 중 어느 하나로 이루어지거나 또는 둘 이상의 물질이 혼합된 물질로 이루어지는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
13. The method of claim 12,
The core of the quantum rod may be made of any one material selected from the group consisting of CdSe, CdS, CdTe, ZnO, ZnSe, ZnS, ZnTe, HgSe, HgTe and CdZnSe,
A material composed of any one of InP, InN, GaN, InSb, InAsP, InGaAs, GaAs, GaP, GaSb, AlP, AlN, AlAs, AlSb, CdSeTe, ZnCdSe, or a mixture of two or more substances Lt; / RTI &gt;
If made of a Ⅵ-Ⅳ group, PbSe, PbTe, PbS, PbSnTe , Tl 2 SnTe 5 by any one of or made or is characterized by a quantum load emitting display device formed of more than one material is a composite material.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 전극과 상기 퀀텀 로드층 사이에는 배향 처리된 배향막 또는 자기조립단분자막이 형성된 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the alignment film or the self-assembled monolayer film is formed between the first electrode and the quantum rod layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 전극과 상기 퀀텀 로드 내부에는 막대 형태를 갖는 메소겐 물질이 포함되며, 상기 메소겐 물질은 상기 퀀텀 로드 거동을 유도할 수 있는 능력을 가진 기(group)를 포함하며 UV광 조사에 의해 중합반응을 발생시켜 인접한 물질의 배향 방향을 따라 배열되는 특성을 갖는 물질인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode and the quantum rod include a mesogen material having a rod shape and the mesogen material includes a group capable of inducing the quantum rod behavior, Wherein the quantum rod light emitting display device is a material that generates a polymerization reaction and is arranged along the alignment direction of the adjacent material.
제 1 항에 있어서,
상기 백라이트 유닛은 430nm 이하의 단파장을 갖는 청색 또는 UV(ultra violet)광을 발생시키는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the backlight unit generates blue or ultraviolet light having a short wavelength of 430 nm or less.
제 1 항에 있어서,
상기 백라이트 유닛은,
반사판과, 상기 반사판 상부에 위치한 도광판과, 상기 도광판 측면에 위치하는 광원과 상기 도광한 상부에 위치하는 다수의 광학시트로 구성된 에지형 백라이트 유닛이거나,
또는 반사판과, 상기 반사판 상부에 위치하는 광원과, 상기 광원 상부에 위치하는 확산판과, 상기 확산판 상부에 위치하는 다수의 광학시트로 구성된 직하형 백라이트 유닛인 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치.
The method according to claim 1,
The backlight unit includes:
An edge type backlight unit including a reflective plate, a light guide plate disposed on the reflective plate, a light source positioned on a side of the light guide plate, and a plurality of optical sheets positioned on the light guide,
And a direct backlight unit including a reflection plate, a light source positioned above the reflection plate, a diffusion plate positioned above the light source, and a plurality of optical sheets positioned on the diffusion plate.
다수의 화소영역이 정의된 제 1 기판 상의 각 화소영역에 제 1 전극을 형성하는 단계와;
상기 제 1 전극 상부에 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층을 형성하는 단계와;
상기 퀀텀 로드층 상부에 제 2 전극을 형성하는 단계와;
상기 제 1 기판과 마주하도록 제 2 기판을 위치시키는 합착하는 단계와;
상기 제 1 기판의 외측면에 백라이트 유닛을 실장하는 단계
를 포함하고,
상기 다수의 퀀텀 로드가 일 방향으로 배향되었다고 하는 것은,
수평 방향의 편광비 PRh 와 수직 방향의 편광비 PRv를 각각 PRh = Ih/(Ih+Iv), PRv = Iv/(Ih+Iv) 이라 정의할 때, 상기 수평 방향의 편광비 PRh 또는 수직 방향의 편광비 PRv가 0.5보다는 크고 1보다는 작은 값을 갖는 즉, 0.5 < PRh(또는 PRv)< 1 을 만족시키는 것을 의미하는 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
Forming a first electrode in each pixel region on a first substrate on which a plurality of pixel regions are defined;
Forming a quantum rod layer having a plurality of quantum rods oriented in one direction on the first electrode;
Forming a second electrode on the quantum rod layer;
Positioning the second substrate to face the first substrate;
Mounting a backlight unit on the outer surface of the first substrate
Lt; / RTI &gt;
When the plurality of quantum rods are oriented in one direction,
When the polarization ratio PR h in the horizontal direction and the polarization ratio PR v in the vertical direction are defined as PR h = I h / (I h + I v ) and PR v = I v / (I h + I v ) Means that the polarization ratio PR h in the horizontal direction or the polarization ratio PR v in the vertical direction is larger than 0.5 and smaller than 1, that is, 0.5 <PR h (or PR v ) <1. Gt;
제 18 항에 있어서,
상기 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층을 형성하는 단계는,
상기 제 1 전극 위로 주쇄와 측쇄로 이루어진 배향막을 형성하는 단계와;
상기 배향막을 표면처리하여 상기 측쇄가 일방향으로 배열되도록 하는 단계와;
상기 표면처리된 배향막 상부에 퀀텀 로드 액을 도포하여 상기 퀀텀 로드층을 형성하는 단계와;
상기 퀀텀 로드층을 경화시키는 단계
를 포함하는 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
19. The method of claim 18,
Wherein forming a quantum rod layer having a plurality of quantum rods oriented in one direction comprises:
Forming an alignment layer comprising a main chain and side chains over the first electrode;
Subjecting the alignment layer to surface treatment so that the side chains are aligned in one direction;
Forming a quantum rod layer on the surface of the alignment layer;
The step of curing the quantum rod layer
Emitting device according to claim 1.
제 19 항에 있어서,
상기 배향막의 표면처리는 러빙, UV광 조사, 이온빔 조사 중 어느 하나인 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
20. The method of claim 19,
Wherein the surface treatment of the alignment film is any one of rubbing, UV light irradiation and ion beam irradiation.
제 18 항에 있어서,
상기 일 방향으로 배향된 다수의 퀀텀 로드를 구비한 퀀텀 로드층을 형성하는 단계는,
상기 퀀텀 로드가 포함된 퀀텀 로드액에 메소겐 물질을 혼합한 후, 상기 메소겐 물질이 포함된 상기 퀀텀 로드액을 상기 제 1 전극 위로 도포하여 상기 퀀텀 로드층을 형성하고, 상기 퀀텀 로드층에 대해 UV광을 조사하여 상기 메소겐 물질이 중합반응을 일으켜 상기 퀀텀 로드가 일 방향으로 배열되도록 하는 단계를 포함하는 리액티브 메소겐 법을 이용하는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
19. The method of claim 18,
Wherein forming a quantum rod layer having a plurality of quantum rods oriented in one direction comprises:
The quantum rod including the mesogen material is applied onto the first electrode to form the quantum rod layer, and the quantum rod layer is formed on the quantum rod layer, Wherein the quantum rod is irradiated with UV light to cause polymerization reaction of the mesogen material so that the quantum rod is aligned in one direction.
제 18 항에 있어서,
상기 제 1 기판에 상기 제 1 전극을 형성하기 전에 상기 제 1 기판상에 서로 교차하여 상기 각 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계와;
상기 각 화소영역 내에 상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되는 박막트랜지스터를 형성하는 단계와;
상기 박막트랜지스터 위로 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호층을 형성하는 단계
를 포함하며, 상기 제 1 전극은 각 화소영역 내에 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하도록 형성하는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
19. The method of claim 18,
Forming gate wirings and data wirings crossing each other on the first substrate to define the pixel regions before forming the first electrodes on the first substrate;
Forming a thin film transistor in each pixel region to be connected to the gate wiring and the data wiring;
Forming a protective layer having a drain contact hole exposing a drain electrode of the thin film transistor over the thin film transistor
Wherein the first electrode is formed in each pixel region so as to contact the drain electrode of the thin film transistor through the drain contact hole.
제 18 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드층은,
퀀텀 로드액을 스핀 코팅 또는 슬릿 코팅을 실시하여 상기 화소영역의 구분없이 상기 제 1 기판의 다수의 화소영역을 포함하는 표시영역 전면에 형성하거나,
또는 퀀텀 로드액을 잉크젯 장치를 이용한 잉크젯법 또는 스크린 마스크를 이용한 스크린 프린팅법을 이용하여 각 화소영역별로 분리되도록 형성하는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
19. The method of claim 18,
The quantum-
The quantum rod liquid may be formed on the entire surface of the display region including the plurality of pixel regions of the first substrate by performing spin coating or slit coating,
Or the quantum rod liquid is formed so as to be separated for each pixel region using an inkjet method using an inkjet apparatus or a screen printing method using a screen mask.
제 18 항에 있어서,
상기 퀀텀 로드층은 각 화소영역별로 분리 형성하는 경우, 적, 녹, 청색을 나타내는 화소영역별로 퀀텀 로드의 크기를 달리하도록 형성하는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
19. The method of claim 18,
Wherein the quantum rod layer is formed so as to have different quantum rod sizes for pixel regions representing red, green, and blue colors when the quantum rod layers are separately formed for each pixel region.
제 23 항 또는 제 24 항에 있어서,
상기 제 2 기판의 내측면에 상기 각 화소영역에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 순차 반복되는 형태를 갖는 컬러필터층을 형성하는 단계
를 포함하는 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
25. The method according to claim 23 or 24,
Forming a color filter layer on the inner surface of the second substrate so that red, green, and blue color filter patterns are sequentially repeated corresponding to the pixel regions;
Emitting device according to claim 1.
제 25 항에 있어서,
상기 제 2 기판의 내측면에 상기 각 화소영역의 경계에 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 포함하는 것이 특징인 퀀텀 로드 발광 표시장치의 제조 방법.
26. The method of claim 25,
And forming a black matrix on the inner surface of the second substrate at the boundaries of the pixel regions.
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