KR101849567B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 공정오차에 의한 화소 간 균일도 저하를 방지할 수 있는 액정표시장치에 관한 것으로, 서로 대향하는 제1 기판과 제2 기판; 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 충진되는 액정층; 상기 액정층을 마주하는 상기 제1 기판의 일면 상에 형성되는 게이트라인; 상기 게이트라인을 포함한 상기 제1 기판의 일면 상의 전면에 형성되는 게이트절연막; 상기 게이트절연막 상에, 복수의 화소영역이 정의되도록, 상기 게이트라인과 교차되도록 형성되는 데이터라인; 상기 제1 기판의 일면 상에 상기 게이트라인과 평행하게 형성되는 공통라인; 상기 제1 기판의 일면 상의, 상기 데이터라인의 양측에, 상기 데이터라인과 평행하도록 상기 공통라인에서 연장되어 형성되는 쉴드라인; 상기 데이터라인을 포함한 상기 게이트절연막 상의 전면에 형성되는 보호막; 상기 보호막 상의 상기 복수의 화소영역 각각에 서로 교번하여 형성되는 화소전극과 공통전극; 및 상기 보호막 상에, 상기 공통전극과 연결되고 상기 데이터라인과 평행하게 형성되고, 상기 쉴드라인과 중첩되는 일부와 상기 화소영역 내에 배치되는 다른 일부를 포함하는 더미전극을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.The present invention relates to a liquid crystal display device capable of preventing a reduction in uniformity between pixels due to a process error, comprising: a first substrate and a second substrate facing each other; A liquid crystal layer filled between the first substrate and the second substrate; A gate line formed on one surface of the first substrate facing the liquid crystal layer; A gate insulating film formed on the entire surface of the first substrate including the gate line; A data line formed on the gate insulating film so as to intersect the gate line so that a plurality of pixel regions are defined; A common line formed on one surface of the first substrate in parallel with the gate line; Shield lines formed on both sides of the data lines on one surface of the first substrate, the shield lines extending in the common line so as to be in parallel with the data lines; A protective film formed on the entire surface of the gate insulating film including the data lines; A pixel electrode and a common electrode alternately formed in each of the plurality of pixel regions on the protective film; And a dummy electrode formed on the protective film, the dummy electrode being connected to the common electrode and formed in parallel with the data line, the dummy electrode including a portion overlapping the shield line and another portion disposed within the pixel region do.

Description

액정표시장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}[0001] LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE [0002]

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 화질을 향상시킬 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device capable of improving image quality.

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이(display)분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 평판 표시장치(Flat Display Device)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube: CRT)을 빠르게 대체하고 있다.In recent years, as the information age has come to a full-fledged information age, a display field for visually expressing electrical information signals has been rapidly developed. In response to this, various flat panel display devices having excellent performance of thinning, light weight, Flat Display Device) has been developed to replace CRT (Cathode Ray Tube).

이 같은 평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 유기전계발광 표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED), 전기영동표시장치(Electrophoretic Display: EPD, Electric Paper Display), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광표시장치(Electro luminescence Display Device: ELD) 및 전기습윤표시장치(Electro-Wetting Display: EWD) 등을 들 수 있다. 이들은 공통적으로 영상을 구현하는 평판 표시패널을 필수적인 구성요소로 하는 바, 평판 표시패널은 고유의 발광물질 또는 편광물질층을 사이에 두고 한 쌍의 기판을 대면 합착시킨 구성을 갖는다. 그 중, 액정표시장치는 평판표시장치의 대표적인 예로써, 전계를 이용하여 각 화소 별로 액정의 광 투과율을 조절함으로써 영상을 표시한다.Specific examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting display (OLED), an electrophoretic display (EPD) A plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), an electroluminescence display (ELD), and an electro-wetting display (EWD) And the like. In general, a flat panel display panel, which realizes images, is an essential component. The flat panel display panel has a structure in which a pair of substrates are bonded together with a unique light emitting material or a layer of polarizing material therebetween. Among them, a liquid crystal display is a typical example of a flat panel display, and displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal for each pixel by using an electric field.

일반적인 액정표시장치는 서로 대향하는 하부기판과 상부기판, 하부기판과 상부기판 사이에 충진되는 액정층, 복수의 화소에 대응하는 복수의 화소영역 각각에 대응하여 액정층의 액정 셀의 방향을 변화시키는 전계를 형성하는 화소전극과 공통전극, 및 복수의 화소영역을 각각 정의하고 화소전극에 각 화소에 대응하는 화소전압을 인가하는 트랜지스터 어레이를 포함한다. A general liquid crystal display device includes a liquid crystal layer filled between a lower substrate and an upper substrate facing each other, a liquid crystal layer filled between a lower substrate and an upper substrate, and a plurality of pixel regions corresponding to a plurality of pixels, And a transistor array for defining a pixel electrode and a common electrode that form an electric field, and a plurality of pixel regions, respectively, and applying a pixel voltage corresponding to each pixel to the pixel electrode.

이때, 복수의 화소영역 외곽에 대응하는 액정층의 액정 셀들은 화소전극과 공통전극 사이의 전계에 의해 영향을 받지 않기 때문에, 적절하게 제어된 방향을 갖지 않으므로, 복수의 화소영역 외곽에서 발생되는 빛샘은 화질 저하의 원인으로 지목된다. At this time, since the liquid crystal cells of the liquid crystal layer corresponding to the outside of the plurality of pixel regions are not influenced by the electric field between the pixel electrode and the common electrode, the liquid crystal cells do not have a properly controlled direction, Is a cause of degradation in image quality.

이에 따라, 액정표시장치는 복수의 화소영역 외곽에 형성되는 블랙매트릭스를 더 포함함으로써, 각 화소영역 내에서 공통전극과 화소전극 사이의 전계에 의해 제어된 방향을 갖는 액정 셀에 의한 광만이 외부로 방출되도록 하는 것이 일반적이다. 그런데, 블랙매트릭스 형성과정에서 마스크를 설계와 다르게 정렬한 공정오차가 발생하면, 블랙매트릭스가 화소영역 내부에 형성될 수 있다. 이 경우, 블랙매트릭스의 도전성으로 인하여, 화소전극과 공통전극 사이에 발생된 전계가 영향을 받게 되는 문제점이 있다.Accordingly, the liquid crystal display device further includes a black matrix formed outside the plurality of pixel regions, so that only light due to the liquid crystal cell having a direction controlled by the electric field between the common electrode and the pixel electrode in each pixel region is emitted to the outside To be released. However, if a process error occurs in which the mask is aligned differently from the design in the black matrix formation process, a black matrix may be formed inside the pixel region. In this case, there is a problem that the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode is affected by the conductivity of the black matrix.

한편, 사용자의 요구에 맞추어, 액정표시장치는 대형화되는 추세이다. 이에 따라, 트랜지스터 어레이, 화소전극과 공통전극 및 블랙매트릭스를 형성하는 각 패턴공정에 필요한 마스크도, 커진 기판에 맞추어 큰 사이즈(size, 크기)로 마련되어져야 한다. On the other hand, in accordance with the demand of the user, the liquid crystal display device is becoming larger. Accordingly, the masks necessary for the patterning process for forming the transistor array, the pixel electrode, the common electrode, and the black matrix should also be prepared in a large size (size) in accordance with a large substrate.

그런데, 마스크를 무작정 큰 사이즈로 마련하면, 패턴공정 시에 마스크가 자중에 의해 아래로 처지는 현상(이하, "처짐 현상"으로 지칭함)이 발생되고, 이러한 처짐 현상을 방지하기 위해 마스크에 과도한 인장력을 가하면 마스크의 패턴이 변형되는 문제점이 있다. 이 같은 문제점으로 인해, 대형 액정표시장치를 제조하기 위한 패턴공정에서, 다수 개의 마스크를 나란하게 배열하여 대형 마스크로 이용하는 방식(이하, "분할마스크 방식"으로 지칭함)을 이용하는 것이 일반적이다. However, if the mask is prepared in a large size, a phenomenon (hereinafter referred to as "sagging phenomenon ") occurs in which the mask is sagged down by its own weight at the time of patterning, and excessive tension is applied to the mask There is a problem that the pattern of the mask is deformed. Due to such a problem, it is common to use a method of arranging a plurality of masks in parallel and using the masks as a large mask (hereinafter referred to as a "division mask method") in a patterning process for manufacturing a large-sized liquid crystal display device.

그러나, 분할 마스크를 이용하는 경우, 다수 개의 분할 마스크를 정렬하는 데에서 공정오차가 발생하므로, 화소 간 균일도가 낮아지는 문제점이 있다. However, when a divided mask is used, a process error occurs in aligning a plurality of divided masks, which results in a problem that the uniformity between pixels is lowered.

예를 들어, 분할 마스크가 정렬 방향을 따라 밀려지면서, 화소영역 외곽에 배치되어야 하는 블랙매트릭스가 화소영역 내에 형성될 수 있다. 특히, 공정오차의 범위가 각 분할마스크 별로 다르기 때문에, 각 화소영역에서 블랙매트릭스가 침범한 면적이 다르게 되고, 그로 인해 각 화소의 휘도특성이 다르게 될 수 있다.For example, a black matrix, which should be disposed outside the pixel region, can be formed in the pixel region while the division mask is pushed along the alignment direction. In particular, since the range of the process error differs for each divided mask, the area in which the black matrix is involved in each pixel region is different, and the luminance characteristic of each pixel can be different thereby.

즉, 분할마스크의 정렬 시에 발생되는 공정오차에 의해 화소 간 균일도가 저하되면서, 일부 화소가 다른 화소보다 어둡게 보일 수 있고, 이러한 일부 화소가 얼룩으로 인지됨에 따라 화질이 저하되는 문제점이 있다. That is, due to a process error occurring when the divided masks are aligned, the uniformity between pixels is reduced, and some pixels may appear darker than other pixels, and image quality is deteriorated as some pixels are recognized as spots.

특히, 사용자의 편의를 위해 액정패널에 합착된 터치패널 또는 액정 패널에 외부로부터 터치가 가해지는 경우, 액정패널의 상, 하부 기판 사이의 간격이 변동되면서, 블랙매트릭스의 위치가 미묘하게 변동할 수 있다. 이때, 화소 간 균일도는 더욱 저하되어, 화질 저하가 심화되는 문제점이 있다.Particularly, when a touch is applied to a touch panel or a liquid crystal panel attached to a liquid crystal panel for the sake of convenience of the user, the distance between the upper and lower substrates of the liquid crystal panel is changed and the position of the black matrix may slightly fluctuate have. At this time, the uniformity between pixels is further lowered, and the image quality deteriorates.

본 발명은 분할마스크 및 외부 터치에 의한 블랙 매트릭스의 위치 변동을 보상할 수 있어, 화소 간 균일도를 높일 수 있고, 화질을 향상시킬 수 있는 액정표시장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of compensating a positional variation of a black matrix by a division mask and an external touch, thereby improving pixel uniformity and improving image quality.

이와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은, 서로 대향하는 제1 기판과 제2 기판; 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 충진되는 액정층; 상기 액정층을 마주하는 상기 제1 기판의 일면 상에 형성되는 게이트라인; 상기 게이트라인을 포함한 상기 제1 기판의 일면 상의 전면에 형성되는 게이트절연막; 상기 게이트절연막 상에, 복수의 화소영역이 정의되도록, 상기 게이트라인과 교차되도록 형성되는 데이터라인; 상기 제1 기판의 일면 상에 상기 게이트라인과 평행하게 형성되는 공통라인; 상기 제1 기판의 일면 상의, 상기 데이터라인의 양측에, 상기 데이터라인과 평행하도록 상기 공통라인에서 연장되어 형성되는 쉴드라인; 상기 데이터라인을 포함한 상기 게이트절연막 상의 전면에 형성되는 보호막; 상기 보호막 상의 상기 복수의 화소영역 각각에 서로 교번하여 형성되는 화소전극과 공통전극; 및 상기 보호막 상에, 상기 공통전극과 연결되고 상기 데이터라인과 평행하게 형성되고, 상기 쉴드라인과 중첩되는 일부와 상기 화소영역 내에 배치되는 다른 일부를 포함하는 더미전극을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel comprising: a first substrate and a second substrate facing each other; A liquid crystal layer filled between the first substrate and the second substrate; A gate line formed on one surface of the first substrate facing the liquid crystal layer; A gate insulating film formed on the entire surface of the first substrate including the gate line; A data line formed on the gate insulating film so as to intersect the gate line so that a plurality of pixel regions are defined; A common line formed on one surface of the first substrate in parallel with the gate line; Shield lines formed on both sides of the data lines on one surface of the first substrate, the shield lines extending in the common line so as to be in parallel with the data lines; A protective film formed on the entire surface of the gate insulating film including the data lines; A pixel electrode and a common electrode alternately formed in each of the plurality of pixel regions on the protective film; And a dummy electrode formed on the protective film, the dummy electrode being connected to the common electrode and formed in parallel with the data line, the dummy electrode including a portion overlapping the shield line and another portion disposed within the pixel region do.

이상과 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 데이터라인과 평행하게 형성되고 화소영역 내에 일부 배치되는 더미전극을 포함한다. 이에 따라, 데이터라인의 신호에 의해 화소전극과 공통전극 사이의 전계에 간섭이 가해지는 것과, 공정오차 또는 외부 터치로 인해 화소영역 내에 일부 배치될 수 있는 블랙매트릭스에 의해 화소전극과 공통전극 사이의 전계에 간섭이 가해지는 것을 차단할 수 있으므로, 화소 간의 휘도특성이 균일해질 수 있다.As described above, the liquid crystal display according to the present invention includes dummy electrodes formed in parallel with the data lines and partially disposed in the pixel regions. Accordingly, interference between the pixel electrode and the common electrode due to the signal of the data line and interference between the pixel electrode and the common electrode due to a process error or an external touch, It is possible to prevent the interference with the electric field, so that the luminance characteristics between the pixels can be made uniform.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 일부 화소를 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 I-I'를 나타낸 단면도이다.
도 3a 및 도 3b는 도 2에 있어서 좌측 및 우측으로부터 외부 터치가 가해진 경우를 나타낸 것이다.
도 4는 일반적인 액정표시장치에 대한 비교 예를 나타낸 것이다.
도 5a 및 도 5b는 도 4에 있어서 좌측 및 우측으로부터 외부 터치가 가해진 경우를 나타낸 것이다.
도 6은 표 1에 있어서, 4개의 분할 마스크 영역과, 4개의 분할 마스크 영역에서 제1 내지 제6 화소의 위치를 나타낸 것이다.
도 7a 내지 도 7c는 도 4에 도시된 일반적인 액정표시장치에 있어서, 도 6에 도시된 제1 내지 제6 화소에 좌측 및 우측으로부터 터치가 가해진 경우를 나타낸 이미지이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 화소의 휘도 특성을 나타낸 이미지이다.
1 is a plan view showing some pixels in a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG.
Figs. 3A and 3B show cases where an external touch is applied from the left and right sides in Fig.
4 shows a comparative example of a general liquid crystal display device.
5A and 5B show a case where an external touch is applied from the left and right sides in FIG.
6 shows the positions of the first to sixth pixels in the four divided mask areas and the four divided mask areas in Table 1.
FIGS. 7A to 7C are images showing a case where a touch is applied to the first to sixth pixels shown in FIG. 6 from the left and right sides in the general liquid crystal display device shown in FIG.
8A and 8B are images showing luminance characteristics of a pixel in a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 대하여, 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 일부 화소를 나타낸 평면도이고, 도 2는 도 1의 I-I'를 나타낸 단면도이며, 도 3a 및 도 3b는 도 2에 있어서 좌측 및 우측으로부터 외부 터치가 가해진 경우를 나타낸 것이다.1 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG. 1, and FIGS. 3 (a) and 3 (b) And an external touch is applied from the right side.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는, 복수의 화소에 각각 대응하는 복수의 화소영역이 정의되도록 서로 교차 배치되는 게이트라인(GL)과 데이터라인(DL), 게이트라인(GL)과 데이터라인(DL)의 교차영역에 형성되는 박막트랜지스터(미도시), 게이트라인(GL)에 평행하게 배치되는 공통라인(CL), 공통라인(CL)과 연결되고 데이터라인(DL)의 양측에 평행하게 배치되는 쉴드라인(SL), 화소영역 내에 서로 교번하여 배치되는 화소전극(PE)과 공통전극(CE), 및 공통전극(CE)과 연결되고 데이터라인(DL)과 평행하게 배치되며, 쉴드라인(SL)에 중첩하는 일부와 화소영역 내에 형성되는 다른 일부를 포함하는 더미전극(DE)을 포함한다.1, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a gate line GL and a data line DL, which are cross-disposed to define a plurality of pixel regions respectively corresponding to a plurality of pixels, A thin film transistor (not shown) formed in a crossing region of the gate line GL and the data line DL, a common line CL arranged in parallel to the gate line GL, A shield line SL disposed parallel to both sides of the data line DL, a pixel electrode PE and a common electrode CE arranged alternately in the pixel region, and a data line DL connected to the common electrode CE, And a dummy electrode DE including a portion overlapping the shield line SL and another portion formed in the pixel region.

여기서, 박막트랜지스터(미도시)는 게이트라인과 연결되는 게이트전극, 데이터라인과 연결되는 소스전극 및 제1 콘택홀(CH1)을 통해 화소전극(PE)과 연결되는 드레인전극을 포함한다. 이러한 박막트랜지스터(미도시)는 턴온하면, 화소전극(PE)에 각 화소에 대응하는 화소전압을 인가한다.A thin film transistor (not shown) includes a gate electrode connected to the gate line, a source electrode connected to the data line, and a drain electrode connected to the pixel electrode PE through the first contact hole CH1. When the thin film transistor (not shown) turns on, a pixel voltage corresponding to each pixel is applied to the pixel electrode PE.

공통라인(CL)은 제2 콘택홀(CH2)을 통해 공통전극(CE) 및 더미전극(DE)과 연결되어, 전체 화소에 공통적으로 대응하는 공통전압을 인가한다.The common line CL is connected to the common electrode CE and the dummy electrode DE through the second contact hole CH2 to apply a common voltage corresponding to all the pixels in common.

이러한 액정표시장치는 복수의 화소영역 각각에서 화소전극(PE)과 공통전극(CE) 사이의 전계를 이용하여 복수의 화소 각각의 휘도를 조절함으로써, 영상을 표시한다.Such a liquid crystal display device displays an image by adjusting the luminance of each of a plurality of pixels by using an electric field between the pixel electrode PE and the common electrode CE in each of a plurality of pixel regions.

구체적으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 서로 대향하는 제1 기판(Sb: bottom substrate)과 제2 기판(Su: upper substrate), 제1 기판(Sb)과 제2 기판(Su) 사이에 충진되는 액정층(LC: Liquid Crystal layer), 액정층(LC)에 마주하는 제1 기판(Sb)의 일면 상에 서로 평행하게 형성되는 게이트라인(GL)과 공통라인(CL), 제1 기판(Sb)의 일면 상의 데이터라인(DL)의 양측에, 데이터라인(DL)과 평행하도록 공통라인(CL)에서 연장되어 형성되는 쉴드라인(SL), 게이트라인(GL)과 공통라인(CL)과 쉴드라인(SL)을 포함한 제1 기판(Sb)의 일면 상의 전면에 형성되는 게이트절연막(GI), 게이트절연막(GI) 상에 게이트라인(GL)에 교차하고, 두 개의 쉴드라인(SL)의 사이에 형성되는 데이터라인(DL), 데이터라인(DL)을 포함한 게이트절연막(GI) 상의 전면에 형성되는 보호막(Passi), 보호막(Passi) 상의 복수의 화소영역(PA) 각각에 서로 교번하여 형성되는 화소전극(PE)과 공통전극(CE), 보호막(Passi) 상에 공통전극(CE)과 연결되고 데이터라인(DL)과 평행하게 형성되고, 쉴드라인(SL)에 중첩되는 일부(①)와, 화소영역(PA) 내에 배치되는 다른 일부(②)를 포함하는 더미전극(DE)을 포함한다.2, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate Sb and a second substrate Su, a first substrate Sb A liquid crystal layer (LC) filled between the second substrate (Su) and the second substrate (Su), a gate line GL formed parallel to one side of the first substrate Sb facing the liquid crystal layer LC, A shield line SL formed so as to extend from the common line CL so as to be in parallel with the data line DL on both sides of the common line CL and the data line DL on one surface of the first substrate Sb, A gate insulating film GI formed on the entire surface of one side of the first substrate Sb including the line GL, the common line CL and the shield line SL, the gate insulating film G1 formed on the gate line GL on the gate insulating film GI, A passivation layer Passi formed on the entire surface of the gate insulating layer GI including the data lines DL and the data lines DL formed between the two shield lines SL, A pixel electrode PE and a common electrode CE alternately formed in each of a plurality of pixel regions PA on a passivation layer Passi and a common electrode CE on the passivation layer Passi, And a dummy electrode DE including a part (1) overlapping the shield line SL and another part (2) disposed in the pixel area PA.

그리고, 액정표시장치는 액정층(LC)에 마주하는 제2 기판(Su)의 일면 상의 복수의 화소영역(PA) 외곽에 형성되어, 빛샘을 차단하는 블랙매트릭스(BM) 및 제2 기판(Su)의 일면 상의 복수의 화소영역에 각각 형성되어, 소정 색상을 나타내는 파장영역의 광을 투과하는 컬러필터(CF)를 더 포함한다.The liquid crystal display device is formed outside a plurality of pixel regions PA on one surface of a second substrate Su facing the liquid crystal layer LC and includes a black matrix BM for blocking light leakage and a second substrate Su And a color filter (CF) formed in each of the plurality of pixel regions on one side of the pixel region and transmitting light in a wavelength region representing a predetermined color.

쉴드라인(SL)은 공통라인(CL)으로부터 연장되어, 게이트절연막(GI)을 사이에 두고 데이터라인(DL)의 양측에 데이터라인(DL)과 평행하게 형성된다. 이러한 쉴드라인(SL)은 공통라인(CL)과 동일한 전압레벨를 띄면서, 데이터라인(DL)과 화소영역 사이를 가로막도록 배치되어, 데이터라인(DL)에 인가되는 신호가 공통전극(CE)과 화소전극(PE) 사이의 전계에 영향을 미치는 것을 차단한다.The shield lines SL extend from the common line CL and are formed in parallel with the data lines DL on both sides of the data line DL with the gate insulating film GI therebetween. These shield lines SL are disposed so as to interpose between the data line DL and the pixel region at the same voltage level as the common line CL so that a signal applied to the data line DL is applied to the common electrode CE And blocks the influence on the electric field between the pixel electrodes PE.

더미전극(DE)은 공통전극(CE)과 연결되어, 보호막(Passi)을 사이에 두고 데이터라인(DL)의 양측에 데이터라인(DL)과 평행하며, 쉴드라인(SL)과 중첩하는 일부(①)와 화소영역(PA) 내에 배치되는 다른 일부(②)를 포함한다. 그리고, 더미전극(DE)은 제2 콘택홀(CH2)을 통해 공통라인(CL) 또는 쉴드라인(SL)과 연결된다. 이러한 더미전극(DE)은 쉴드라인(SL)과 마찬가지로, 공통라인(CL)과 동일한 전압레벨을 띄면서, 데이터라인(DL)과 화소영역(PA) 사이를 가로막도록 배치되어, 데이터라인(DL)에 인가되는 신호가 공통전극(CE)과 화소전극(PE) 사이의 전계에 영향을 미치는 것을 차단한다.The dummy electrode DE is connected to the common electrode CE and is connected to the data line DL on both sides of the data line DL with a protective film Passi therebetween, (1)) and another portion (2) arranged in the pixel area PA. The dummy electrode DE is connected to the common line CL or the shield line SL through the second contact hole CH2. The dummy electrode DE is disposed so as to interpose between the data line DL and the pixel area PA while having the same voltage level as the common line CL, Is prevented from affecting the electric field between the common electrode CE and the pixel electrode PE.

보호막(Passi) 상에 형성되는 더미전극(DE), 화소전극(PE) 및 공통전극(CE) 중 이웃한 두 전극은 소정 간격(EI: Electrode Interval)으로 서로 이격되어 배치된다. 그리고, 화소전극(PE)과 공통전극(CE)은 동일한 너비(EW: Electrode Width)로 형성된다.The two adjacent electrodes of the dummy electrode DE, the pixel electrode PE and the common electrode CE formed on the passivation layer are spaced apart from each other at a predetermined interval (EI: Electrode Interval). The pixel electrode PE and the common electrode CE are formed in the same width (EW: Electrode Width).

액정층(LC)는 소정의 초기 배향방향을 갖는 액정 셀로 이루어지고, 액정 셀은 화소전극(PE)과 공통전극(CE) 사이의 전계에 따른 방향으로 회전하여, 광을 선택적으로 투과한다.The liquid crystal layer LC is composed of a liquid crystal cell having a predetermined initial alignment direction and the liquid crystal cell rotates in a direction corresponding to the electric field between the pixel electrode PE and the common electrode CE to selectively transmit light.

컬러필터(CF)는 제2 기판(Su)의 일면 상의 복수의 화소영역에 각각 형성되어, 복수의 화소에 각각 대응하는 소정 색상에 해당하는 파장영역의 광을 투과한다. 예를 들어, 컬러필터(CF)는 각 화소영역에 대응하여 적색, 녹색 및 청색(RGB) 중 어느 하나의 색상에 해당하는 광을 투과하는 염료 또는 형광물질로 형성될 수 있다.The color filters CF are respectively formed in a plurality of pixel regions on one surface of the second substrate Su and transmit light in a wavelength region corresponding to a predetermined color corresponding to each of the plurality of pixels. For example, the color filter CF may be formed of a dye or a fluorescent material that transmits light corresponding to one of red, green, and blue (RGB) colors corresponding to each pixel region.

한편, 더미전극(DE)의 일부(①)는 블랙매트릭스(BM)에 의해 커버되는 부분이나, 더미전극(DE)의 다른 일부(②)는 블랙매트릭스(BM)에 의해 커버되지 않는 부분이다. 즉, 더미전극(DE)의 다른 일부(②)는 소정의 추가너비(AW: additional width)만큼 화소영역(PA) 내로 연장된 부분이다.On the other hand, a portion (1) of the dummy electrode DE is a portion covered by the black matrix BM, and another portion (2) of the dummy electrode DE is a portion not covered by the black matrix BM. That is, another portion (2) of the dummy electrode DE is a portion extending into the pixel region PA by a predetermined additional width (AW).

이에 따라, 각 화소에 있어서, 화소영역(PA) 전면에서 광이 방출되는 것이 아니라, 더미전극(DE)의 다른 일부(②)에 의해 가려지는 너비(AW)를 제외한 나머지 영역(EA: Efficient Area, 이하, "유효영역(EA)"으로 지칭함)에서만 실질적으로 광이 방출된다. 즉, 유효영역(EA)은 화소영역(PA)의 양측에 위치한 더미전극(DE)의 추가너비만큼, 화소영역(PA)보다 작은 너비를 갖는다. Thus, in each pixel, light is not emitted from the entire surface of the pixel area PA but the remaining area (EA: Efficient Area (EA)) excluding the width AW covered by another portion , Hereinafter referred to as "effective area (EA)"). That is, the effective area EA has a smaller width than the pixel area PA by an additional width of the dummy electrode DE located on both sides of the pixel area PA.

그런데, 외부로부터 인가된 터치 또는 제조 공정 중 마스크의 정렬 오차로 인하여, 블랙매트릭스(BM)의 위치가 다소 변경되고, 그로 인해 블랙매트릭스(BM)의 일부가 화소영역(PA) 내에 배치될 수 있다. 이때에도, 블랙매트릭스(BM)은 유효영역(EA) 외곽에만 배치된다.However, the position of the black matrix BM is slightly changed due to an external touch or an alignment error of the mask during the manufacturing process, so that a part of the black matrix BM can be disposed in the pixel area PA . At this time, the black matrix BM is arranged only outside the effective area EA.

즉, 도 3a에 도시된 바와 같이, 좌측의 힘에 의해 블랙매트릭스(BM)가 설계보다 좌측으로 치우쳐서 화소영역(PA)내에 일부 배치되는 경우에도, 블랙매트릭스(BM)는 유효영역(EA)의 외곽에 배치된다. 이와 마찬가지로, 도 3b에 도시된 바와 같이, 우측의 힘에 의해 블랙매트릭스(BM)가 설계보다 우측으로 치우쳐서 화소영역(PA)내에 일부 배치되는 경우에도, 블랙매트릭스(BM)는 유효영역(EA)의 외곽에 배치된다.3A, even when the black matrix BM is shifted to the left side of the design and partially disposed within the pixel area PA by the force of the left side, the black matrix BM is not formed in the effective area EA . Similarly, as shown in FIG. 3B, even when the black matrix BM is disposed slightly within the pixel area PA by biasing to the right of the design due to the right side force, the black matrix BM is formed in the effective area EA, As shown in Fig.

이와 같이, 블랙매트릭스(BM)의 위치 변동에 관계없이, 유효영역(EA) 내에 블랙매트릭스(BM)가 배치되지 않으므로, 각 화소에서 광이 방출되는 유효영역(EA)이 모두 동일해져서, 화소 간 휘도 특성이 균일해질 수 있다.As described above, since the black matrix BM is not disposed in the effective area EA regardless of the positional variation of the black matrix BM, the effective areas EA in which light is emitted from all the pixels become the same, The luminance characteristic can be made uniform.

그에 반해, 도 4에 도시된 바와 같이, 일반적인 액정표시장치의 더미전극(DE)은 블랙매트릭스(BM)에 의해 모두 커버되도록 화소영역(EA) 외곽에만 형성된다. 이때, 도 5a에 도시된 바와 같이, 좌측의 힘에 의해 블랙매트릭스(BM)가 설계보다 좌측으로 치우쳐서 화소영역(PA)내에 일부 배치되는 경우, 블랙매트릭스(BM)가 화소영역(PA)에 침범하는 너비(ER)만큼, 도전성의 블랙매트릭스(BM)가 화소전극(PE)과 공통전극(CE) 사이의 전계에 영향을 미치게 된다. 이와 마찬가지로, 도 5b에 도시된 바와 같이, 우측의 힘에 의해 블랙매트릭스(BM)가 설계보다 좌측으로 치우쳐서 화소영역(PA)내에 일부 배치되는 경우, 블랙매트릭스(BM)가 화소영역(PA)에 침범하는 너비(ER)만큼, 도전성의 블랙매트릭스(BM)가 화소전극(PE)과 공통전극(CE) 사이의 전계에 영향을 미치게 된다.On the other hand, as shown in Fig. 4, the dummy electrode DE of a general liquid crystal display device is formed only outside the pixel region EA so as to be covered by the black matrix BM. 5A, when the black matrix BM is shifted to the left side of the design and partially disposed within the pixel area PA by the force of the left side, the black matrix BM is formed in the pixel area PA, The conductive black matrix BM affects the electric field between the pixel electrode PE and the common electrode CE by the width ER of the pixel electrode PE. 5B, when the black matrix BM is shifted to the left side of the design by a force of the right side and is partially disposed within the pixel area PA, the black matrix BM is shifted to the pixel area PA The conductive black matrix BM affects the electric field between the pixel electrode PE and the common electrode CE as much as the width ER to be involved.

이에 따라, 블랙매트릭스(BM)에 의한 영향으로 인해, 화소전극(PE)과 공통전극(CE) 사이의 전계가 흔들리면서, 블랙매트릭스(BM)에 인접한 부분에서 투과율이 저하되고, 이는 곧 얼룩으로 인지되어, 화질이 저하된다.As a result, the electric field between the pixel electrode PE and the common electrode CE is shaken due to the influence of the black matrix BM, and the transmittance of the portion adjacent to the black matrix BM is lowered, And the image quality is deteriorated.

이상과 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 화소영역(PA) 내에 배치되는 다른 일부(②)를 포함하는 더미전극(DE)을 포함함으로써, 각 화소에서 블랙매트릭스(BM)의 위치변동에 관계없이 일정한 너비를 유지하는 유효영역(EA)에서만 광을 방출함에 따라, 화소 간 휘도 특성의 균일도가 향상될 수 있다. As described above, the liquid crystal display according to the embodiment of the present invention includes the dummy electrode DE including another portion (2) disposed in the pixel region PA, so that the position of the black matrix BM in each pixel Uniformity of the inter-pixel luminance characteristic can be improved by emitting light only in the effective area EA that maintains a constant width regardless of the variation.

특히, 분할마스크 방식을 이용하는 경우, 다수 개의 분할 마스크를 정렬하는 데서 필연적으로 공정오차가 발생되고, 이러한 공정오차를 감안하여 더미전극(DE)의 다른 일부(②)의 너비, 즉, 추가너비(AW)를 조절할 필요가 있다.Particularly, in the case of using the split mask method, a process error necessarily occurs in aligning a plurality of divided masks, and the width of another part (2) of the dummy electrode DE, that is, the additional width AW) need to be adjusted.

아래의 표 1은 도 4에 도시된 비교 예를 분할마스크 방식으로 제조하는 경우의 공정오차를 나타낸 것이다. 여기서, 표 1은 더미전극(DM)이 화소영역(PA)로부터 4.3um만큼 이격되고, 이웃한 전극 간의 간격(EI)이 9.3um이며, 전극의 너비(EW)가 3.2um 내지 3.5um인 조건 하에서 실험한 결과이다. 그리고, 표 2는 공정오차의 평균값과 최대값을 정리한 것이다. Table 1 below shows the process errors in the case of manufacturing the comparative example shown in FIG. 4 by the split mask method. Table 1 shows the conditions in which the dummy electrode DM is spaced apart from the pixel area PA by 4.3 μm and the gap EI between neighboring electrodes is 9.3 μm and the width EW of the electrode is 3.2 μm to 3.5 μm The results are shown in Fig. Table 2 summarizes the average and maximum values of the process errors.

Figure 112011023130544-pat00016
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Figure 112011023130544-pat00017
Figure 112011023130544-pat00017

표 1은, 도 6에서 제1 계면(S1), 제2 계면(S2) 및 제3 계면(S3)을 사이에 두고 이웃한 제1 분할영역(M1)와 제2 분할영역(M2), 제2 분할영역(M2)과 제3 분할영역(M3), 제3 분할영역(M3)과 제4 분할영역(M4) 각각에 있어서, 제1 내지 제3 계면(S1-S3)에 인접하고 상단(Ya 행)과 하단(Yb 행)에 배치된 화소에 대하여, 제1 기판(Sb)과 제2 기판(Su)의 합착 후 설계값에 대한 블랙매트릭스(BM)의 위치 오차 및 좌측과 우측의 터치에 의한 블랙매트릭스(BM)의 위치 오차를 나타낸 것이다. 한편, 도 6에서 X 방향은 마스크의 정렬방향(XL, XR)이다.Table 1 shows the first divided area M1 and the second divided area M2 adjacent to each other with the first interface S1, the second interface S2 and the third interface S3 therebetween, Adjacent to the first to third interfaces S1 to S3 in the two-divided region M2, the third divided region M3, the third divided region M3, and the fourth divided region M4, The positional error of the black matrix BM with respect to the design value after the first substrate Sb and the second substrate Su are attached together and the positional error of the black matrix BM on the left side and the right side Of the black matrix BM. 6, the X direction is the alignment direction (XL, XR) of the mask.

도 7a 내지 도 7c를 참고해보면, 좌측 또는 우측의 터치로 인하여, 블랙매트릭스(BM)가 화소영역 내로 침범함에 따라, 화소영역의 가장자리에서 전계가 흔들려서 다른 부분보다 어둡게 보이는 부분이 발생함을 확인할 수 있다.Referring to FIGS. 7A to 7C, it can be seen that as the black matrix BM touches the pixel region due to the left or right touch, the electric field is shaken at the edge of the pixel region, resulting in a portion darker than the other portion have.

그리고, 표 2는 표 1의 결과에 대한 평균값과 최대값, 및 블랙매트릭스(BM)와 이웃한 전극(화소전극(PE)) 사이의 간격 변화를 나타낸 것이다. Table 2 shows the average value and the maximum value of the results of Table 1 and the change in the distance between the black matrix BM and the neighboring electrode (pixel electrode PE).

표 2에 나타낸 바와 같이, 좌측 또는 우측에서의 터치에 의하여, X 방향의 위치오차는 평균 6.4um, 최대 11um이고, Y 방향의 위치오차는 평균 2.8um, 최대 6.9um이다. X 방향과 Y 방향으로 이동하였을 때, 최대의 위치오차는 X 방향으로 10.5um, Y 방향으로 6um이다. 그리고, 블랙매트릭스(BM)의 위치 변동에 의하여, 블랙매트릭스(BM)와 이웃한 전극(화소전극(PE)) 사이의 간격 변화는 평균 7.15um, 최대 13um인 것을 확인할 수 있다.As shown in Table 2, the positional errors in the X direction are 6.4 um and the maximum error is 11 um, and the position errors in the Y direction are 2.8 um and 6.9 um on average, respectively, by the touches on the left or right side. When moved in the X and Y directions, the maximum positional error is 10.5 μm in the X direction and 6 μm in the Y direction. It can be confirmed that the change in distance between the black matrix BM and the neighboring electrode (pixel electrode PE) is 7.15 μm on the average and 13 μm on the maximum due to the positional change of the black matrix BM.

이에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 더미전극(DE)의 다른 일부(②)의 너비, 즉, 추가너비(AW)는 분할마스크 공정 시의 마스크 정렬 오차 및 마스크 정렬 방향으로 가해지는 외부의 터치에 의한 블랙매트릭스(BM)의 위치 변동 범위를 감안하여, 마스크 정렬 방향(X 방향)을 기준으로 7.15um 내지 13um로 결정된다. 또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 각 화소영역에 대응한 데이터라인 및 화소전극과 공통전극의 형태가 둔각 이상의 절곡부를 갖는 경우, 절곡부의 각도에 따라 추가너비(AW)가 변동될 수 있음은 당연하다.Accordingly, the width (i.e., the additional width AW) of the other part (2) of the dummy electrode DE according to the embodiment of the present invention is smaller than the mask alignment error in the split mask process and the external touch Is determined to be 7.15 to 13 um based on the mask alignment direction (X direction) in consideration of the position variation range of the black matrix (BM) by the exposure apparatus. 1, when the shape of the data line, the pixel electrode, and the common electrode corresponding to each pixel region has a bent portion having an obtuse angle or more, the additional width AW may vary depending on the angle of the bent portion. Do.

즉, 7.15um 내지 13um의 추가너비(AW)로 더미전극(DE)을 화소영역으로 연장하면, 분할 마스크의 정렬 오차 및 외부 터치에 의해 블랙매트릭스(BM)의 위치가 변동되더라도, 블랙매트릭스(BM)가 유효영역(EA) 외곽에만 배치될 수 있다. 그러므로, 블랙매트릭스(BM)의 위치 변동에 의해 각 화소의 유효영역(EA)이 변동되는 것이 방지될 수 있어, 모든 화소에서 동일한 면적으로 광이 방출될 수 있다. 그로 인해, 화소 간 휘도 특성이 균일해질 수 있으므로, 분할 마스크 공정의 마스크 정렬 오차에 관계없이 화질이 개선될 수 있다.That is, if the dummy electrode DE is extended to the pixel region with an additional width AW of 7.15 to 13 um, even if the alignment error of the divided mask and the position of the black matrix BM are changed by external touch, May be disposed only outside the valid area EA. Therefore, fluctuation of the position of the black matrix BM can prevent the effective area EA of each pixel from fluctuating, and light can be emitted in the same area in all the pixels. As a result, since the inter-pixel luminance characteristics can be made uniform, the image quality can be improved regardless of the mask alignment error of the division mask process.

즉, 도 8a에 나타낸 바와 같이, 마스크의 정렬오차가 발생한 경우에도 각 화소의 휘도 특성은 균일한 것을 확인할 수 있고, 도 8b에 나타낸 바와 같이, 도 8a의 조건에서 마스크의 정렬방향으로 터치를 가한 경우에도 이웃한 화소 간에 동일한 휘도 특성을 나타내는 것을 확인할 수 있다.8A, even if an alignment error of the mask occurs, it can be confirmed that the brightness characteristic of each pixel is uniform. As shown in Fig. 8B, when the touch is applied in the mask alignment direction under the condition of Fig. It can be confirmed that the same luminance characteristics are exhibited between the neighboring pixels.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes may be made without departing from the technical spirit of the present invention.

GL: 게이트라인 CL: 공통라인
DL: 데이터라인 SL: 쉴드라인
PE: 화소전극 CE: 공통전극
DE: 더미전극 Sb: 제1 기판 (하부기판)
GI: 게이트절연막 Passi: 보호막
LC: 액정층 Su: 제2 기판 (상부기판)
BM: 블랙매트릭스 CF: 컬러필터
GL: gate line CL: common line
DL: Data line SL: Shield line
PE: pixel electrode CE: common electrode
DE: dummy electrode Sb: first substrate (lower substrate)
GI: gate insulating film Passi: protective film
LC: liquid crystal layer Su: second substrate (upper substrate)
BM: Black matrix CF: Color filter

Claims (7)

서로 대향하는 제1 기판과 제2 기판;
상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 충진되는 액정층;
상기 액정층을 마주하는 상기 제1 기판의 일면 상에 배치되는 게이트라인;
상기 게이트라인을 포함한 상기 제1 기판의 일면 상의 전면에 배치되는 게이트절연막;
상기 게이트절연막 상에, 복수의 화소영역이 정의되도록, 상기 게이트라인과 교차되도록 배치되는 데이터라인;
상기 제1 기판의 일면 상에 상기 게이트라인과 평행하게 배치되는 공통라인;
상기 제1 기판의 일면 상의, 상기 데이터라인의 양측에, 상기 데이터라인과 평행하도록 상기 공통라인에서 연장되어 배치되는 쉴드라인;
상기 데이터라인을 포함한 상기 게이트절연막 상의 전면에 배치되는 보호막;
상기 보호막 상의 상기 복수의 화소영역 각각에 서로 교번하여 배치되는 화소전극과 공통전극;
상기 보호막 상에, 상기 공통전극과 연결되고 상기 데이터라인과 평행하게 배치되고, 상기 쉴드라인과 중첩되는 일부와 상기 화소영역 내에 배치되는 다른 일부를 포함하는 더미전극; 및
상기 액정층에 마주하는 상기 제2 기판의 일면 상의, 상기 복수의 화소영역 외곽에 배치되어, 빛샘을 차단하는 블랙매트릭스를 구비하며,
상기 블랙매트릭스의 측면은 상기 더미 전극과 중첩되는 상기 쉴드 라인의 측면보다 상기 화소 영역에 가깝게 배치되며,
상기 더미전극의 일부는 상기 블랙매트릭스에 의해 커버되며,
상기 블랙매트릭스가 복수의 마스크를 이용하여 형성되는 경우, 상기 더미전극의 다른 일부는 상기 복수의 마스크의 배열 방향을 기준으로 7.15um - 13um의 너비를 갖는 액정표시장치.
A first substrate and a second substrate facing each other;
A liquid crystal layer filled between the first substrate and the second substrate;
A gate line disposed on one surface of the first substrate facing the liquid crystal layer;
A gate insulating film disposed on the entire surface of the first substrate including the gate line;
A data line arranged on the gate insulating film so as to intersect the gate line so that a plurality of pixel regions are defined;
A common line disposed on one surface of the first substrate in parallel with the gate line;
Shield lines disposed on both sides of the data line on one surface of the first substrate, the shield lines being extended from the common line so as to be in parallel with the data lines;
A protective film disposed on the entire surface of the gate insulating film including the data line;
A pixel electrode and a common electrode arranged alternately in each of the plurality of pixel regions on the protective film;
A dummy electrode connected to the common electrode and arranged in parallel with the data line, the dummy electrode including a portion overlapped with the shield line and another portion disposed in the pixel region; And
And a black matrix disposed on the one surface of the second substrate facing the liquid crystal layer and outside the plurality of pixel regions to block light leakage,
Wherein a side surface of the black matrix is disposed closer to the pixel region than a side surface of the shield line overlapped with the dummy electrode,
Wherein a portion of the dummy electrode is covered by the black matrix,
Wherein when the black matrix is formed using a plurality of masks, another portion of the dummy electrodes has a width of 7.15 to 13 um with respect to an arrangement direction of the plurality of masks.
제1항에 있어서,
상기 제2 기판의 일면 상에 상기 복수의 화소영역에 각각 대응하여 소정 색상을 나타내는 파장영역의 광을 투과하는 컬러필터를 더 포함하는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
And a color filter transmitting light in a wavelength range corresponding to each of the plurality of pixel regions and representing a predetermined color on one surface of the second substrate.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 게이트라인과 데이터라인의 교차영역에 배치되는 박막트랜지스터를 더 포함하고,
상기 보호막을 관통하는 제1 콘택홀을 통해, 상기 화소전극은 상기 박막트랜지스터의 드레인전극에 연결되는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a thin film transistor disposed in a crossing region of the gate line and the data line,
And the pixel electrode is connected to a drain electrode of the thin film transistor through a first contact hole passing through the protective film.
제6항에 있어서,
상기 보호막 및 상기 게이트절연막을 관통하는 제2 콘택홀을 통해, 상기 더미전극과 상기 공통전극은 상기 쉴드라인에 연결되는 액정표시장치.
The method according to claim 6,
And the dummy electrode and the common electrode are connected to the shield line through a second contact hole passing through the protective film and the gate insulating film.
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