KR101847411B1 - Quantitative analysis system and method - Google Patents

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KR101847411B1
KR101847411B1 KR1020170030111A KR20170030111A KR101847411B1 KR 101847411 B1 KR101847411 B1 KR 101847411B1 KR 1020170030111 A KR1020170030111 A KR 1020170030111A KR 20170030111 A KR20170030111 A KR 20170030111A KR 101847411 B1 KR101847411 B1 KR 101847411B1
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김형민
박원철
송시원
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서울대학교산학협력단
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Abstract

The present invention relates to a quantitative analysis system and a quantitative analysis method for quantitatively analyzing a sample by irradiating a sample attached to the surface of a flexible substrate with light. According to one embodiment of the present invention, the quantitative analysis system comprises: a substrate support member having a support portion in which the substrate is attached to at least a portion of the outer surface thereof and which is provided for supporting the substrate and being rotatable in one direction and a driving portion connected to the support portion to rotate the support portion; a light member for irradiating light to the sample attached to the surface of the substrate; and an analysis member for receiving light reflected after light irradiated from the light member hits the sample and performing quantitative analysis of the sample.

Description

정량 분석 시스템 및 정량 분석 방법{Quantitative analysis system and method}[0001] The present invention relates to a quantitative analysis system and a quantitative analysis method,

본 발명은 기판에 놓인 시료를 정량 분석할 수 있는 정량 분석 시스템 및 정량 분석 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 기판의 놓인 시료에 양을 표면 증강 라만 분석법을 이용하여 정량 분석 할 수 있는 정량 분석 시스템 및 정량 분석 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a quantitative analysis system and a quantitative analysis method capable of quantitatively analyzing a sample placed on a substrate, and more particularly, to a quantitative analysis system capable of quantitatively analyzing an amount of a sample on a substrate using surface enhancement Raman analysis, And a quantitative analysis method.

도체인 금속의 내부에는 수많은 자유 전자들이 존재한다. 이러한 자유 전자는 금속 원자에 속박되어 있지 않으므로 외부의 특정 자극에 쉽게 감응할 수 있다. 이와 같은 물질 내의 전자들이 동시에 진동하는 현상을 플라즈몬(plasmon)이라고 한다. 특히 금속이 나노 크기가 되면 이러한 자유 전자의 거동에 의해 표면 플라즈몬 공명 (surface plasmon resonance) 특성이 나타나 독특한 광학적 성질을 가진다. There are a number of free electrons inside the conductor metal. These free electrons are not bound to metal atoms, so they can easily respond to specific external stimuli. A phenomenon in which electrons in such a material oscillate at the same time is called a plasmon. Especially, when the metal is nano-sized, surface plasmon resonance characteristics are exhibited by the behavior of these free electrons, and thus they have unique optical properties.

표면 플라즈몬 공명이란 도체인 금속 나노 입자 표면과 공기, 물 등의 유전체 사이에 빛이 입사되면 빛이 가지는 특정 에너지의 전자기장과의 공명으로 인하여 금속 표면의 자유 전자들이 집단적으로 진동하는 현상을 말한다. Surface plasmon resonance is the phenomenon that free electrons on a metal surface are collectively vibrated due to resonance with the electromagnetic field of a specific energy of light when light is incident between the surface of metal nanoparticles as a conductor and the dielectric such as air or water.

국부 표면 플라즈몬 공명 현상은 입사광의 파장보다 작은 크기의 전도성 나노 입자 혹은 금속 나노 구조에 의하여 유도되며, 표면 플라즈몬 공명의 주파수는 금속 나노 입자의 크기나 형태, 분산되어 있는 용매 등에 의해서 달라진다. 이러한 공명 현상은 나노 구조의 주위 영역의 전자기장을 증폭하는 효과가 있다.Local surface plasmon resonance is induced by conductive nanoparticles or metal nanostructures of a size smaller than the wavelength of incident light. The frequency of surface plasmon resonance depends on the size, shape and dispersed solvent of the metal nanoparticles. This resonance phenomenon has the effect of amplifying the electromagnetic field of the surrounding region of the nanostructure.

표면 증강 라만 분광 측정(Surface-Enhanced Raman Spectroscopy, SERS)은 국부 표면 플라즈몬 공명 현상을 이용한 측정 기술이다. 즉 표면 증강 라만 분광 측정이란, 빛이 물질을 통과할 때 나타나는 고유한 스펙트럼인 라만 산란 신호가 나노 구조물이 형성된 표면에서 국부 표면 플라즈몬 공명에 의해 수십억 배 증폭되는 현상을 이용하여 측정을 수행하는 것이다. Surface-Enhanced Raman Spectroscopy (SERS) is a measurement technique using local surface plasmon resonance. That is, the surface enhanced Raman spectroscopic measurement is performed by using a phenomenon in which a Raman scattering signal, which is a unique spectrum generated when light passes through a material, is amplified by several tens of billion times by local surface plasmon resonance on a surface on which a nanostructure is formed.

즉, 나노 구조물이 형성된 기판에 검출하고자 하는 물질을 묻히고 광을 입사시키면, 검출하고자 하는 물질에 의해 라만 산란 신호가 발생 및 증폭되며, 이를 검출함으로써 해당 물질이 무엇인지를 판별할 수 있게 된다. 이와 같은 표면 증강 라만 분광 측정 기술은 제약, 재료과학, 약물 검출, 생체분자 검출 등 다양한 분야에서 널리 적용되고 있다.That is, when a substance to be detected is embedded in a substrate on which a nanostructure is formed and light is incident, a Raman scattering signal is generated and amplified by a substance to be detected, and by detecting the Raman scattering signal, it is possible to determine what the substance is. Such surface enhanced Raman spectroscopy techniques are widely applied in a variety of fields such as pharmaceuticals, materials science, drug detection, and biomolecule detection.

표면 증강 라만 분광 측정 기술을 이용하여 미량의 시료의 양을 측정 할 수 있다. 예를 들면, 도 1와 같이 표면에 미량의 시료(S)들이 기판(W)의 표면에 놓여진 상태에서 하나의 시료(S)에 광을 조사하여 미량의 시료(S)의 양을 측정할 수 있다. 이 후, 순차적으로 일방향으로 놓인 시료(S)에 각각 광을 조사하여 미량의 시료(S)의 양을 표면 증강 라만 분광 측정 기술을 이용하여 측정할 수 있다. The surface enhancement Raman spectroscopy technique can be used to measure the amount of trace samples. For example, as shown in FIG. 1, the amount of a small amount of the sample S can be measured by irradiating one sample S with light while a small amount of the samples S are placed on the surface of the substrate W have. Thereafter, the amount of the small amount of the sample S can be measured using the surface enhancement Raman spectrometry technique by sequentially irradiating the sample S placed in one direction in one direction.

다만, 이러한 종래의 시료(S)의 양 측정 방법은 아래와 같은 문제점이 있다. However, such a conventional method of measuring the amount of the sample S has the following problems.

미량의 시료(S)를 측정 시 하나의 시료가 기판(W)에 고루 분포하지 않고 극소적으로 존재하기 때문에 정량화하기가 매우 어려운 문제가 있다. There is a problem that it is very difficult to quantify one sample S because the sample S exists in a very small size rather than being uniformly distributed on the substrate W when a small amount of the sample S is measured.

또한, 기판(W)의 놓은 미량의 여러 시료(S)를 한번에 측정 할 수 없어, 개별적으로 놓인 시료(S)에 일일이 광을 조사하여 분석하여야 하기 때문에 많은 시간이 걸리는 문제가 있다.In addition, since a small number of samples S placed on the substrate W can not be measured at one time, there is a problem that it takes a lot of time because the sample S individually placed on the sample W must be irradiated with light.

또한, 시료(S)들이 기판(W)에 불규칙적으로 분포하여, 하나의 레이저 광의 범위(L)에 들어가는 시료(S)의 양과 범위가 달라 이에 따른 신호의 세기가 각각 달라져 미량의 시료(S)를 정량 분석하는 것이 매우 어려운 문제가 있다. In addition, since the samples S are irregularly distributed on the substrate W, the amount and the range of the sample S entering the range L of one laser light are different from each other, Is very difficult to quantitatively analyze.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하고자, 기판에 놓은 시료의 양을 정확하게 측정할 수 있는 정량 분석 시스템 및 정량 분석 방법을 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to a quantitative analysis system and a quantitative analysis method capable of accurately measuring the amount of a sample placed on a substrate in order to solve the above problems.

또한, 본 발명은 최소한의 측정 시간으로 시료의 양을 검출 할 수 있는 정량 분석 시스템 및 정량 분석 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a quantitative analysis system and a quantitative analysis method capable of detecting the amount of a sample with a minimum measurement time.

본 발명은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The present invention is not limited thereto, and other objects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 플렉서블한 기판의 표면에 부착된 시료에 광을 조사하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 정량 분석 시스템을 제공한다.The present invention provides a quantitative analysis system for irradiating light onto a sample attached to the surface of a flexible substrate to perform quantitative analysis of the sample.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 정량 분석 시스템은 외측면의 적어도 일부분에 상기 기판이 부착되며, 상기 기판을 지지하고 일방향으로 회전가능하도록 제공되는 지지부 및 상기 지지부와 연결되어 상기 지지부를 회전시키는 구동부를 가지는 기판 지지 부재와 회전하는 상기 기판의 표면에 부착된 상기 시료에 광을 조사하는 광부재와 그리고 상기 광부재에서 조사된 상기 광이 상기 시료에 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 수신하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 분석 부재를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a quantitative analysis system includes a support having the substrate attached to at least a part of an outer surface thereof, the support being provided to support the substrate and rotatable in one direction, and a driving part connected to the support part, A light source for irradiating light to the sample attached to the surface of the substrate rotating and a light receiving unit for receiving light reflected after the light emitted from the light source strikes the sample, And the analysis member performing the quantitative analysis.

일 실시 예에 따르면, 상기 지지부는 원통형상으로 형성되며 외측면에 상기 기판이 부착되는 지지대와 상기 지지대와 결합되며, 상기 구동부에 탈착 가능하도록 제공되는 지지체를 포함할 수 있다. According to one embodiment, the support portion may include a support formed in a cylindrical shape and having the substrate attached to the outer side thereof, and a support coupled to the support portion and detachably attached to the drive portion.

일 실시 예에 따르면, 상기 지지대는 복수개가 제공되며, 복수개의 상기 지지대는 그 크기가 각각 상이하게 형성되며 상기 시료의 정량 분석 시 상기 시료의 양 또는 상기 기판의 크기에 따라서 그에 대응되는 상기 지지대가 사용될 수 있다.According to one embodiment, a plurality of supports are provided, a plurality of the supports are formed to be different in size, and the support, corresponding to the amount of the sample or the size of the substrate during quantitative analysis of the sample, Can be used.

일 실시 예에 따르면, 상기 광부재는 상기 지지부의 상부에 위치하며, 상기 기판의 상부를 이동하면서 광을 조사할 수 있는 광조사부와 상기 광조사부에 광을 공급하는 광원부를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the light member may include a light irradiating unit located above the supporting unit and capable of irradiating light while moving the upper part of the substrate, and a light source unit supplying light to the light irradiating unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 분석 부재는 상기 광조사부와 연결되며, 상기 기판의 표면에서 반사되어 상기 광조사부를 통과한 광 중 상기 시료의 신호를 가지는 신호광을 추출하는 광추출부와 상기 광추출부로부터 공급받은 상기 신호광을 토대로 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 분석부를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the analyzing member includes a light extracting unit connected to the light irradiating unit and extracting signal light having a signal of the sample among the light reflected from the surface of the substrate and passing through the light irradiating unit, And analyzing the quantitative analysis of the sample based on the signal light received from the analyzer.

일 실시 예에 따르면, 상기 광부재는 상기 광조사부에서 조사되는 광을 제어하는 광제어부를 더 포함하며 상기 광제어부는 상기 기판에 광을 조사 시 상기 지지대에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로 이동하면서 광을 조사하도록 상기 광 조사부를 제어할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the light member further includes a light control unit for controlling light emitted from the light irradiation unit, and the light control unit controls the light emission from one end of the substrate attached to the support to the other end The light irradiation unit can be controlled to irradiate light while moving.

일 실시 예에 따르면, 상기 광제어부는 상기 기판에 광을 조사 시 상기 지지대에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단 사이를 왕복하여 광을 조사하도록 상기 광 조사부를 제어할 수 있다. According to one embodiment, when the substrate is irradiated with light, the light control unit may control the light irradiating unit to irradiate light from one end to the other end of the substrate attached to the support to irradiate light.

일 실시 예에 따르면, 상기 광제어부는 상기 구동부의 회전 속도를 더 제어하며, 상기 광제어부는 상기 기판 지지대의 길이 및 상기 기판 지지대의 직경에 따라 상기 기판 지지대의 회전 속도 또는 상기 광조사부의 이동 속도를 제어할 수 있다. According to one embodiment, the light control unit further controls the rotation speed of the driving unit, and the light control unit adjusts the rotation speed of the substrate support or the movement speed of the light irradiation unit according to the length of the substrate support and the diameter of the substrate support, Can be controlled.

일 실시 예에 따르면, 상기 광은 레이저 광을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the light may comprise laser light.

본 발명은 플렉서블한 기판의 표면에 부착된 시료에 광을 조사하여 시료의 정량을 분석하는 방법을 제공한다.  The present invention provides a method of analyzing the quantitation of a sample by irradiating a sample attached to the surface of a flexible substrate with light.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 정량 분석 방법은 상기 기판을 원통 형상의 지지대의 외측면에 부착하여 상기 회전되는 기판에 놓인 상기 시료에 광을 조사하며, 상기 시료를 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 분석하여 상기 시료의 정량을 분석할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the quantitative analysis method comprises the steps of attaching the substrate to the outer surface of a cylindrical support, irradiating the sample placed on the rotating substrate with light, Can be analyzed to analyze the amount of the sample.

일 실시 예에 따르면, 상기 광을 상기 기판의 표면에 조사 시 상기 지지대에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로 이동하면서 광을 할 수 있다.According to one embodiment, when the light is irradiated to the surface of the substrate, light can be emitted while moving from one end to the other end of the substrate attached to the support.

일 실시 예에 따르면, 상기 광을 상기 기판의 표면에 조사 시 상기 지지대에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단 사이를 왕복 이동하면서 광을 조사할 수 있다. According to one embodiment, when irradiating the surface of the substrate with the light, light can be irradiated while reciprocally moving from one end to the other end of the substrate attached to the support.

일 실시 예에 따르면, 상기 지지대는 복수개가 제공되며, 복수개의 상기 지지대는 그 크기가 각각 상이하게 형성되며 상기 시료의 정략 분석 시 상기 시료 또는 상기 기판의 크기에 따라서 그에 대응되는 상기 지지대가 사용될 수 있다.According to one embodiment, a plurality of supports are provided, a plurality of the supports are formed to be different in size, and the support corresponding to the size of the sample or the substrate may be used have.

일 실시 예에 따르면, 상기 광은 레이저 광을 포함할 수 있다. According to one embodiment, the light may comprise laser light.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 미량의 시료에 대해 정량 분석을 수행하는 경우, 플렉서블한 기판에 시료을 놓은 뒤 회전되는 기판의 레이저광을 조사하여 이에 반사되는 광을 토대로 정량 분석을 수행할 수 있어 정량 분석 시간을 최소화할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, when a quantitative analysis is performed on a trace amount of sample, a sample is placed on a flexible substrate, and laser light of a substrate to be rotated is irradiated to perform quantitative analysis based on light reflected from the substrate The quantitative analysis time can be minimized.

또한, 본 발명의 일 실시 예의 경우 2차원 면적에 놓인 시료에 단시간에 레이저광을 조사하여 이에 반사되는 광을 토대로 정량 분석을 수행할 있어 정량 분석 시간을 최소화할 수 있다. In addition, in one embodiment of the present invention, quantitative analysis is performed based on light reflected from a sample irradiated with laser light in a short time to a sample placed in a two-dimensional area, thereby minimizing the time required for quantitative analysis.

또한, 본 발명의 일 실시 예의 경우 다양한 사이즈를 가지는 시료를 각각 정량 분석하는 경우 다양한 크기의 지지부를 통해서 정량 분석을 수행할 수 있어 정량 분석 효율을 향상시킬 수 있다. In addition, in the case of quantitative analysis of samples having various sizes in the embodiment of the present invention, the quantitative analysis can be performed through the supports of various sizes, thereby improving the quantitative analysis efficiency.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and the effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the present specification and attached drawings.

도 1은 종래의 시료의 정량 분석에 대한 방법을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 정량 분석 시스템을 보여주는 도면이다.
도 3은 도 2의 정량 분석 시스템을 이용하여 기판에 광을 조사하는 보습을 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 1의 지지부를 보여주는 사시도이다.
도 5는 도 2의 광조사부가 이동하면서 광을 조사하는 모습을 보여주는 도면이다.
도 6은 도 2의 기판 지지대에 기판이 부착되는 모습을 보여주는 사시도이다.
도 7은 광이 스캔되는 기판의 영역을 개략적으로 보여주는 도면이다. 1 is a view showing a method for quantitative analysis of a conventional sample.
2 is a view showing a quantitative analysis system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a perspective view showing moisturization for irradiating a substrate with light using the quantitative analysis system of FIG. 2. FIG.
Figure 4 is a perspective view showing the support of Figure 1;
FIG. 5 is a view showing a state in which the light irradiation unit of FIG. 2 is irradiated with light while moving.
FIG. 6 is a perspective view showing a state where a substrate is attached to the substrate support of FIG. 2. FIG.
7 is a schematic view showing an area of a substrate on which light is scanned.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되게 도시된 부분도 있다. 또한, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 안 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape of the elements in the figures may be exaggerated in order to emphasize a clearer description. In addition, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary meanings, and the inventor should appropriately define the concept of the term to describe its invention in the best way possible. It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명은 기판(W)에 놓인 시료를 정량 분석할 수 있는 정량 분석 시스템(1) 및 정량 분석 방법을 제공한다. 일 예로 본 발명은 플렉서블한 기판(W)에 놓인 시료의 양을 분석할 수 있다. 구체적으로, 기판(W)은 구부러지거나 휠 수 있는 기판(W)이 사용될 수 있다. 기판(W)에 놓인 시료는 미량의 시료 일 수 있다. The present invention provides a quantitative analysis system (1) capable of quantitatively analyzing a sample placed on a substrate (W) and a quantitative analysis method. For example, the present invention can analyze the amount of a sample placed on a flexible substrate (W). Specifically, the substrate W can be used as a substrate W which can be bent or rolled. The sample placed on the substrate W may be a trace amount of sample.

본 발명은 시료에 광을 조사한 뒤 반사되는 광을 분석하여 시료를 정량 분석하는 시스템 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a system and method for quantitatively analyzing a sample by irradiating the sample with light and analyzing the reflected light.

일 예로, 광의 분석 방법은 표면 증강 라만 분석법을 이용할 수 있다. 이와는 달리, 형광을 이용하여 분석하는 분석하는 방법일 수 있다. 선택적으로, 본 발명은 시료에 광을 조사하고 반사되는 광을 분석하여 시료의 정량 분석을 수행할 수 있는 장치에 모두 적용가능하다. For example, the surface enhancement Raman analysis method can be used as the light analysis method. Alternatively, it may be a method of analyzing using fluorescence. Alternatively, the present invention can be applied to an apparatus capable of performing quantitative analysis of a sample by irradiating the sample with light and analyzing the reflected light.

도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 정량 분석 시스템(1)을 보여주는 도면이고, 도 3은 도 2의 정량 분석 시스템을 이용하여 기판에 광을 조사하는 보습을 보여주는 사시도이고, 도 4는 도 1의 지지부를 보여주는 사시도이다. FIG. 2 is a view showing a quantitative analysis system 1 according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a perspective view showing a moisture level for irradiating a substrate with light using the quantitative analysis system of FIG. 2, 1 of the present invention.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 정량 분석 시스템(1)은 기판 지지 부재(10), 광부재(20) 그리고 분석 부재(30)를 포함한다. 2 to 4, the quantitative analysis system 1 includes a substrate support member 10, a light member 20, and an analysis member 30.

기판 지지 부재(10)는 기판(W)을 지지하며, 회전시킬 수 있다. 기판 지지 부재(10)는 지지부(11)와 구동부(15)를 포함한다. The substrate supporting member 10 supports the substrate W and can rotate the substrate W. The substrate supporting member 10 includes a supporting portion 11 and a driving portion 15.

지지부(11)는 외측면에 기판(W)이 부착될 수 있다. 여기서, 기판(W)은 구부러지나 휠 수 있는 플렉서블한 기판(W)일 수 있다. 지지부(11)는 지지대(12)와 지지체(14)를 포함한다.The supporting portion 11 may have a substrate W attached to its outer surface. Here, the substrate W may be a flexible substrate W that can be bent. The support portion (11) includes a support base (12) and a support body (14).

지지대(12)는 외측면에 기판(W)이 부착될 수 있다. 지지대(12)는 외측면이 곡면 형상으로 제공될 수 있다. 일 예로 지지대(12)는 원통 형상으로 제공될 수 있다. 이와는 달리, 지지대(12)는 타원 단면의 기둥 형상으로 제공될 수 있다. The substrate W can be attached to the outer surface of the support table 12. [ The support base 12 may be provided with a curved outer surface. For example, the support 12 may be provided in a cylindrical shape. Alternatively, the support 12 may be provided in the shape of a column with an elliptical cross section.

지지대(12)에는 표면에 시료가 놓인 기판(W)의 부착될 수 있다. 일 예로 도 6과 같이 기판(W)은 지지대(12)의 표면에 감겨진 형태로 부착될 수 있다. 지지대(12)는 복수개가 제공될 수 있다. 복수개의 지지대(12)는 각각 그 크기가 상이하게 제공될 수 있다. The substrate (W) on which the sample is placed can be attached to the support (12). For example, as shown in FIG. 6, the substrate W may be attached to the surface of the support 12 in a rolled form. A plurality of support rods 12 may be provided. The plurality of support rods 12 may be provided in different sizes.

일 예로, 도 4에서 도시한 바와 같이 지지대(12)는 직경이 상이한 형태로 제공될 수 있다. 이와는 달리, 지지대(12)는 길이가 상이한 형태로 제공될 수 있다. 이와는 달리, 지지대(12)는 단면이 상이한 형태로 제공될 수 있다. 선택적으로, 도면에서 도시한 예와는 달리, 지지대(12)는 길이 및 직경이 상이한 형태로 복수개가 제공될 수 있다. For example, as shown in Fig. 4, the support 12 may be provided in a different diameter. Alternatively, the support rods 12 may be provided in different lengths. Alternatively, the support 12 may be provided in a different cross-sectional shape. Alternatively, unlike the example shown in the drawings, the supports 12 may be provided in a plurality of different lengths and diameters.

지지대(12)가 다양한 형상 및 크기로 제공되어, 측정하고자 하는 기판(W) 및 시료의 크기, 면적 또는 길이에 따라서 그에 대응되는 지지대(12)가 선택적으로 사용될 수 있다. The support table 12 is provided in various shapes and sizes so that the support table 12 corresponding to the size, area or length of the substrate W to be measured and the sample can be selectively used.

본 발명의 경우, 지지대(12)의 크기 및 형상이 다양하게 제공되어, 다양한 시료 및 시료의 사이즈 등 측정 대상물의 용도 및 크기에 따라서 달리 제공될 수 있어, 시료의 정량 분석 효율을 향상시킬 수 있다. In the case of the present invention, the size and shape of the support base 12 are variously provided and can be provided differently depending on the use and size of the measurement object, such as the sizes of various samples and samples, .

지지체(14)는 지지대(12)와 결합될 수 있다. 지지체(14)는 후술하는 구동부(15)에 탈착 가능하도록 제공될 수 있다. 지지체(14)의 일단은 지지대(12)와 결합하며, 타단은 구동부(15)와 결합될 수 있다. 지지체(14)는 지지대(12)보다 큰 직경을 가지는 형태로 제공될 수 있다. The support 14 can be engaged with the support 12. The support 14 may be provided detachably to a driving unit 15 described later. One end of the supporter 14 may be coupled to the supporter 12 and the other end may be engaged with the driver 15. The support 14 may be provided in a form having a larger diameter than the support 12.

지지체(14)는 구동부(15)와 결합 시 일단에 형성된 결합 돌기(미도시)가 구동부(15)의 결합홈(미도시)에 삽입되어 끼움 결합될 수 있다. 이와는 달리, 지지체(14)는 구동부(15)의 형성된 결합홈(미도시)에 나사결합의 방법을 결합될 수 있다. 선택적으로, 지지체(14)와 구동부(15)는 상술한 예와는 다른 기계적 결합 방식에 의해서 결합될 수 있다. The supporting body 14 can be inserted and engaged with a coupling protrusion (not shown) formed at one end thereof when the supporting body 14 is coupled with the driving unit 15, by inserting it into the coupling groove (not shown) of the driving unit 15. Alternatively, the support 14 may be combined with a method of screwing into an engaging groove (not shown) formed in the driving portion 15. Alternatively, the support 14 and the driving unit 15 may be combined by a mechanical coupling method different from the above-described example.

구동부(15)는 지지부(11)와 결합되어, 지지부(11)를 회전시킬 수 있다. 구동부(15)는 후술하는 광부재(20)에서 기판(W)의 표면에 광을 조사 시 지지부(11)를 회전시킬 수 있다. 일 예로 구동부(15)는 모터를 가지는 장치로 제공될 수 있다. The driving portion 15 is engaged with the supporting portion 11 to rotate the supporting portion 11. The driving unit 15 can rotate the supporting unit 11 when the surface of the substrate W is irradiated with light by the light member 20 to be described later. For example, the driving unit 15 may be provided as an apparatus having a motor.

광부재(20)는 회전하는 기판(W)의 표면에 부착된 시료 또는 기판(W)에 광을 조사할 수 있다. 여기서 광은 레이저광으로 제공될 수 있다. The optical member 20 can irradiate the sample or the substrate W attached to the surface of the rotating substrate W with light. Here, the light may be provided as laser light.

광부재(20)는 광원부(21), 광조사부(23) 그리고 광제어부(25)를 포함한다. The light member 20 includes a light source unit 21, a light irradiation unit 23, and a light control unit 25.

광원부(21)는 광조사부(23)에 광을 공급한다. 광원부(21)에서 공급되는 광은 레이저 광일 수 있다. 광원부(21)는 광조사부(23)와 인접하게 위치할 수 있다. The light source unit 21 supplies light to the light irradiation unit 23. The light supplied from the light source unit 21 may be laser light. The light source unit 21 may be positioned adjacent to the light irradiation unit 23. [

광조사부(23)는 시료의 표면에 광을 조사할 수 있다. 광조사부(23)는 회전되는 기판(W)의 상부를 이동하면서 기판(W)의 표면에 광을 조사할 수 있다. 일 예로 도 5와 같이 광조사부(23)는 지지대(12)의 외면에 부착된 기판(W)의 일측 끝단에서 타측 끝단으로 이동하면서 광을 조사할 수 있다. 일 예로 도 5와 같이 광조사부(23)는 지지대(12)의 외면에 부착된 기판(W)의 일측 끝단에서 타측 끝단 사이를 왕복하여 광을 조사할 수 있다. The light irradiation unit 23 can irradiate the surface of the sample with light. The light irradiation unit 23 can irradiate the surface of the substrate W with light while moving the upper portion of the substrate W to be rotated. For example, as shown in FIG. 5, the light irradiating unit 23 may irradiate light while moving from one end to the other end of the substrate W attached to the outer surface of the supporter 12. For example, as shown in FIG. 5, the light irradiating unit 23 can irradiate light from one end to the other end of a substrate W attached to the outer surface of the supporter 12 by reciprocating.

광조사부(23)는 시료의 길이 및 지지대(12)의 회전 속도에 맞추어 직선 운동 또는 직선 왕복 운동을 할 수 있다.The light irradiating unit 23 can perform a linear movement or a linear reciprocating movement according to the length of the sample and the rotation speed of the support 12.

광조사부(23)는 지지대(12)의 상부에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, '상부'라 함은 도 2 및 도 3을 참고하여 볼 때, 상기 지지부(11)의 회전축을 기준으로 상기 회전축의 반경 방향으로 소정 간격 이격되어 위치함을 말한다. 광조사부(23)는 광원부(21)에서 공급받은 레이저 광을 기판(W)의 표면에 공급할 수 있다. 광조사부(23)는 별도의 구동부(15)에 의해서 지지대(12)의 상부를 이동할 수 있다.The light irradiating part 23 can be located on the upper part of the support base 12. More specifically, referring to FIG. 2 and FIG. 3, the term 'upper portion' refers to a position spaced apart from the rotation axis of the support portion 11 by a predetermined distance in the radial direction of the rotation axis. The light irradiation unit 23 can supply the laser light supplied from the light source unit 21 to the surface of the substrate W. [ The light irradiating unit 23 can be moved on the upper part of the supporting table 12 by a separate driving unit 15.

광제어부(25)는 광조사부(23)에서 조사되는 광을 제어할 수 있다. 일 예로 광제어부(25)는 기판(W)에 광을 조사 시 지지대(12)에 부착된 기판(W)의 일측 끝단에 타측 끝단으로 이동하면서 조사하도록 광조사부(23)를 제어할 수 있다. The light control unit 25 can control the light irradiated by the light irradiation unit 23. [ The light control unit 25 can control the light irradiation unit 23 to irradiate the substrate W while moving to one end of the substrate W attached to the support table 12 while the substrate W is irradiated with light.

이와는 달리, 광제어부(25)는 기판(W)에 광을 조사 시 지지대(12)에 부착된 기판(W)의 일측 끝단에서 타측 끝단 사이를 왕복하여 광을 조사하도록 광조사부(23)를 제어할 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 광제어부(25)는 상기 지지부(11)가 회전하는 동안 상기 지지부(11)에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로, 상기 지지부(11)의 상기 회전축의 연장 방향과 나란한 방향으로 이동 또는 왕복하면서 광을 조사하도록 상기 광조사부(23)를 제어할 수 있다.The light control unit 25 controls the light irradiation unit 23 so as to irradiate light from one end to the other end of the substrate W attached to the support 12 when the substrate W is irradiated with light, can do. That is, according to one embodiment of the present invention, the light control unit 25 controls the rotation of the support unit 11 from one end to the other end of the substrate attached to the support unit 11 while the support unit 11 rotates, It is possible to control the light irradiation unit 23 to irradiate light while moving or reciprocating in a direction parallel to the direction of extension of the rotation axis of the light source.

분석 부재(30)는 광부재(20)에서 조사된 광이 기판(W)의 표면 또는 시료에 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 수신하여 시료의 정량 분석을 수행할 수 있다. The analysis member 30 can perform the quantitative analysis of the sample by receiving the light reflected after the light irradiated from the light source 20 hits the surface of the substrate W or the sample.

여기서, 시료의 정량 분석은 표면 증강 라만 분석법을 이용하여 분석할 수 있다. 이와는 달리, 정량 분석은 광을 조사한 뒤, 반사되는 광을 분석하여 시료의 정량 분석을 수행할 수 있는 방법을 사용할 수 있다. Here, the quantitative analysis of the sample can be analyzed using the surface enhancement Raman analysis method. Alternatively, quantitative analysis can be performed by irradiating light and then analyzing the reflected light to perform quantitative analysis of the sample.

분석 부재(30)는 광추출부(31) 및 분석부(33)를 포함한다.The analysis member 30 includes a light extracting unit 31 and an analyzing unit 33.

광추출부(31)는 광조사부(23)에서 조사된 광이 기판(W)의 표면 또는 시료에 부딪혀 반사 된 후 광조사부(23)를 통과하여 광추출부(31)로 전달될 수 있다. The light extracting unit 31 may reflect the light irradiated from the light irradiating unit 23 to the surface or the sample of the substrate W and then be transmitted to the light extracting unit 31 through the light irradiating unit 23.

광추출부(31)는 반사된 광 중 레이저 광을 제외하고 신호광을 추출할 수 있다. The light extracting unit 31 may extract the signal light except the laser light among the reflected light.

여기서 신호광이란, 시료의 표면에 부딪혀 반사되는 광에는 레이저 광과 시료에 부딪혀 변형된 신호광이 있다. 이 중에서 신호광은 분석에 필요한 광을 의미한다. Here, the term "signal light" refers to light reflected from the surface of the sample, and laser light and signal light that is deformed by being struck by the sample. Among them, the signal light means the light necessary for the analysis.

일 예로 광추출부(31)는 다이크로익 미러 또는 롱패스 필터로 제공될 수 있다. 이와는 달리, 광추출부(31)는 신호광을 분리할 수 있는 공지의 장치로 제공될 수 있다. For example, the light extracting section 31 may be provided as a dichroic mirror or a long-pass filter. Alternatively, the light extracting section 31 may be provided as a known device capable of separating the signal light.

분석부(33)는 광추출부(31)에서 전달된 신호광을 분석하여 정량 분석을 수행할 수 있다. 일 예로 정량 분석은 표면 증강 라만 분석법을 이용하여 정량 분석을 수행할 수 있다. The analysis unit 33 may analyze the signal light transmitted from the light extraction unit 31 and perform quantitative analysis. As an example, quantitative analysis can be performed using surface enhancement Raman analysis.

이하, 본 발명의 정량 분석 시스템(1)을 이용하여 정량 분석하는 방법을 설명한다. Hereinafter, a method of quantitative analysis using the quantitative analysis system 1 of the present invention will be described.

먼저, 기판(W)의 시료의 크기에 맞는 지지대(12)를 선택한다. 이 후 지지대(12)에 시료가 부착된 기판(W)을 부착한다. 일 예로 기판(W)은 플렉서블한 재질로 제공되어, 도 6과 같이 곡면이 있는 지지대(12)의 외면에 부착 할 수 있다.First, the support table 12 corresponding to the size of the sample of the substrate W is selected. Then, the substrate W to which the sample is attached is attached to the support base 12. For example, the substrate W may be provided in a flexible material so that it can be attached to the outer surface of the support base 12 having a curved surface as shown in Fig.

지지대(12)에 기판(W)을 부착 후, 지지대(12)를 구동부(15)에 결합한다. 도 3 및 도 5에 도시한 바와 같이, 구동부(15)에 의해서 지지대(12)를 회전시키면서 광조사부(23)로 광을 조사한다. 광조사부(23)는 지지대(12)의 길이 방향을 따라서 광을 조사할 수 있다. After the substrate W is attached to the support base 12, the support base 12 is coupled to the drive unit 15. [ As shown in Figs. 3 and 5, the light is irradiated to the light irradiating unit 23 while the support base 12 is rotated by the driving unit 15. Fig. The light irradiation unit 23 can irradiate light along the longitudinal direction of the support base 12.

광조사부(23)에서 조사된 광은 시료 또는 기판(W)의 표면에 부딪힌 후 다시 광조사부(23)로 이동하여, 이 후 광추출부(31)로 전달된다. The light irradiated from the light irradiating unit 23 hits the surface of the sample or the substrate W and then travels to the light irradiating unit 23 and then to the light extracting unit 31.

광추출부(31)에서는 신호광을 추출하여 분석부(33)로 보내고, 이 후 시료의 정량 분석을 수행한다. The light extracting unit 31 extracts the signal light and sends it to the analyzing unit 33, and then performs quantitative analysis of the sample.

본 발명의 경우, 회전하는 시료에 레이저광을 공급하며, 한번에 선단위로 분석이 가능하다. 또한, 광조절부에서 기판(W)에 부착된 시료를 길이방향을 따라 광을 조사하여 기판(W)에 부착된 시료의 면적에 해당하는 시료의 정량 분석을 한번에 수행할 수 있다. In the case of the present invention, laser light is supplied to a rotating sample, and analysis can be performed on the tip at a time. In addition, the light control unit irradiates the sample attached to the substrate W along the longitudinal direction to quantitatively analyze the sample corresponding to the area of the sample attached to the substrate W at one time.

도 7은 광이 스캔되는 기판의 영역을 개략적으로 보여주는 도면이다. 7 is a schematic view showing an area of a substrate on which light is scanned.

도 7을 참고하면, 시료의 전개도를 고려해보면 레이저의 경로는 사선 방향으로 형성될 수 있다. 광조사부(23)에서 지지대(12)의 길이 방향을 따라 직선 운동 또는 왕복 운동하여 레이저광을 조사하면서 한번에 시료의 전체 면적에 광을 조사할 수 있다. 또한, 빠른 시간 내에 시료의 전체 면적에 광을 조사할 수 있다. Referring to FIG. 7, considering the developed view of the sample, the path of the laser may be formed in an oblique direction. It is possible to irradiate the entire area of the sample at one time while irradiating laser light in a linear motion or reciprocating motion along the longitudinal direction of the support base 12 in the light irradiation unit 23. [ In addition, light can be irradiated onto the entire area of the sample within a short period of time.

따라서, 전체 면적의 분포하는 시료의 반사되는 광을 분석하여 정량 분석의 효율을 향상시킬 수 있다.Therefore, the efficiency of the quantitative analysis can be improved by analyzing the reflected light of the sample having the entire area.

특히, 미량의 시료의 정량 분석의 경우도, 일일이 광을 조사하여 분석하는 것과 비교하여 한번에 광을 조사하여 이를 토대로 분석 할 수 있어 시료의 정량 분석 효율을 향상시킬 수 있다.Especially, in the case of quantitative analysis of a small amount of sample, it is possible to analyze the sample on the basis of irradiation with light at one time as compared with the case where one sample is irradiated with light, thereby improving the quantitative analysis efficiency of the sample.

상술한 바와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 미량의 시료에 대해 정량 분석을 수행하는 경우, 플렉서블한 기판에 시료를 놓은 뒤 회전되는 기판의 레이저광을 조사하여 이에 반사되는 광을 토대로 정량 분석을 수행할 수 있어 정량 분석 시간을 최소화할 수 있다. As described above, according to one embodiment of the present invention, when a quantitative analysis is performed on a trace amount of sample, a sample is placed on a flexible substrate, and laser light of a rotating substrate is irradiated. And the quantitative analysis time can be minimized.

또한, 본 발명의 일 실시 예의 경우 2차원 면적에 놓인 시료에 단시간에 레이저광을 조사하여 이에 반사되는 광을 토대로 정량 분석을 수행할 있어 정량 분석 시간을 최소화할 수 있다. In addition, in one embodiment of the present invention, quantitative analysis is performed based on light reflected from a sample irradiated with laser light in a short time to a sample placed in a two-dimensional area, thereby minimizing the time required for quantitative analysis.

또한, 본 발명의 일 실시 예의 경우 다양한 사이즈를 가지는 시료를 각각 정량 분석하는 경우 다양한 크기의 지지부(11)를 통해서 정량 분석을 수행할 수 있어 정량 분석 효율을 향상시킬 수 있다. In the case of quantitative analysis of samples having various sizes in the embodiment of the present invention, the quantitative analysis can be performed through the supports 11 of various sizes, thereby improving the quantitative analysis efficiency.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and explain the preferred embodiments of the present invention, and the present invention may be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The above-described embodiments illustrate the best mode for carrying out the technical idea of the present invention, and various modifications required for specific application fields and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.

1: 정량 분석 시스템 10: 기판 지지 부재
11: 지지부 12: 지지대
14: 지지체 15: 구동부
20: 광부재 21: 광원부
23: 광조사부 25: 광제어부
30: 분석 부재 31: 광추출부
33: 분석부1: Quantitative analysis system 10: Substrate support member
11: Support part 12: Support part
14: Support body 15:
20: optical member 21:
23: Light irradiation part 25: Light control part
30: analysis member 31: light extracting unit
33: Analysis Department

Claims (14)

플렉서블한 기판의 표면에 부착된 시료에 광을 조사하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 정량 분석 시스템에 있어서,
외측면의 적어도 일부분에 상기 기판이 부착되며, 상기 기판을 지지하고 회전축을 중심으로 회전가능하도록 제공되는 지지부 및 상기 지지부와 연결되어 상기 지지부를 회전시키는 구동부를 가지는 기판 지지 부재와;
회전하는 상기 기판의 표면에 부착된 상기 시료에 광을 조사하는 광 부재와; 그리고
상기 광 부재에서 조사된 상기 광이 상기 시료에 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 수신하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 분석 부재를 포함하되,
상기 광 부재는,
상기 지지부의 회전축의 반경 방향으로 소정 간격 이격 위치하며, 상기 기판 방향으로 광을 조사할 수 있는 광조사부;
상기 광조사부에 광을 공급하는 광원부;
상기 광조사부에서 조사되는 광을 제어하는 광제어부를 더 포함하며,
상기 광제어부는 상기 지지부가 회전하는 동안 상기 지지부에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로, 상기 지지부의 상기 회전축의 연장 방향과 나란한 방향으로 이동 또는 왕복하면서 광을 조사하도록 상기 광조사부를 제어하는 정량 분석 시스템. A quantitative analysis system for irradiating light onto a sample attached to a surface of a flexible substrate to perform quantitative analysis of the sample,
A substrate support member having a support attached to at least a part of an outer surface of the substrate and supporting the substrate and rotatable about a rotation axis, and a driving unit connected to the support unit to rotate the support unit;
A light source for irradiating light onto the sample attached to the surface of the rotating substrate; And
And an analyzing member which receives light reflected after the light irradiated from the light source strikes the sample and performs quantitative analysis of the sample,
Wherein:
A light irradiation unit positioned at a predetermined distance in the radial direction of the rotation axis of the support unit and capable of irradiating light toward the substrate;
A light source unit for supplying light to the light irradiation unit;
And a light control unit for controlling light emitted from the light irradiation unit,
The light control unit controls the light irradiation unit to irradiate light while moving or reciprocating in a direction parallel to the extending direction of the rotation axis of the supporting unit from one end to the other end of the substrate attached to the supporting unit while the supporting unit rotates Quantitative analysis system. 제1항에 있어서,
상기 지지부는,
원통형상으로 형성되며 외측면에 상기 기판이 부착되는 지지대와;
상기 지지대와 결합되며, 상기 구동부에 탈착 가능하도록 제공되는 지지체를 포함하는 정량 분석 시스템. The method according to claim 1,
The support portion
A support member formed in a cylindrical shape and having an outer surface to which the substrate is attached;
And a support coupled to the support and detachably attached to the drive. 제2항에 있어서,
상기 지지대는 복수개가 제공되며, 복수개의 상기 지지대는 그 크기가 각각 상이하게 형성되며,
상기 시료의 정략 분석 시 상기 시료의 양 또는 상기 기판의 크기에 따라서 그에 대응되는 상기 지지대가 사용되는 정량 분석 시스템. 3. The method of claim 2,
A plurality of supporting members are provided, a plurality of supporting members are formed to have different sizes,
Wherein a support corresponding to the amount of the sample or the size of the substrate is used when analyzing the sample. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 분석 부재는,
상기 광조사부와 연결되며, 상기 기판의 표면에서 반사되어 상기 광조사부를 통과한 광 중 상기 시료의 신호를 가지는 신호광을 추출하는 광추출부와;
상기 광추출부로부터 공급받은 상기 신호광을 토대로 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 분석부를 포함하는 정량 분석 시스템.The method according to claim 1,
Wherein the analysis member comprises:
A light extracting unit connected to the light irradiating unit and extracting signal light having a signal of the sample among the light reflected from the surface of the substrate and passing through the light irradiating unit;
And an analyzer for performing quantitative analysis of the sample based on the signal light supplied from the light extractor. 삭제delete 삭제delete 제2항에 있어서,
상기 광제어부는 상기 구동부의 회전 속도를 더 제어하며,
상기 광제어부는 상기 지지대의 길이 및 상기 지지대의 직경에 따라 상기 지지대의 회전 속도 또는 상기 광조사부의 이동 속도를 제어하는 정량 분석 시스템. 3. The method of claim 2,
The light control unit further controls the rotation speed of the driving unit,
Wherein the light control unit controls the rotation speed of the support base or the movement speed of the light irradiation unit according to the length of the support base and the diameter of the support base. 제1항 내지 제3항, 제5항 또는 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광은 레이저 광을 포함하는 정량 분석 시스템. The method according to any one of claims 1 to 3, 5 or 8,
Wherein the light comprises laser light. a) 회전축을 중심으로 회전가능하도록 제공되며 지지대를 포함하는 지지부 및 상기 지지부와 연결되어 상기 지지부를 회전시키는 구동부를 가지는 기판 지지 부재를 제공하는 단계;
b) 상기 지지부의 외측면의 적어도 일부분에, 시료가 표면에 부착된 플랙서블한 기판을 부착하는 단계;
c) 상기 지지부의 회전축의 반경 방향으로 소정 간격 이격 위치하며, 상기 기판 방향으로 광을 조사시킬 수 있는 광 조사부를 제공하는 단계;
d) 상기 지지부를 회전시키는 단계;
e) 상기 지지부가 회전하는 동안 상기 지지부에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로, 상기 지지부의 상기 회전축의 연장 방향과 나란한 방향으로 이동 또는 왕복하면서 광을 조사시키는 단계; 및
상기 시료에 조사된 상기 광이 상기 시료에 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 수신하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 단계를 포함하는 정량 분석 방법.a) providing a substrate support member provided to be rotatable about a rotation axis and having a support including a support and a driving part connected to the support to rotate the support;
b) attaching a flexible substrate on which a sample is attached to a surface, to at least a portion of an outer surface of the support;
c) providing a light irradiating part located at a predetermined distance in the radial direction of the rotation axis of the support part and capable of irradiating light toward the substrate;
d) rotating said support;
e) irradiating light while moving or reciprocating in a direction parallel to the direction of extension of the rotation axis of the support from one end to the other end of the substrate attached to the support while the support is rotating; And
And performing quantitative analysis of the sample by receiving light reflected from the sample after the light hits the sample. 제 10항에 있어서,
상기 광을 조사시키는 단계에서는 상기 지지대의 길이 및 상기 지지대의 직경에 따라 상기 지지부의 회전 속도 또는 상기 광 조사부의 이동 속도를 제어하는 정량 분석 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the rotating speed of the supporting unit or the moving speed of the light irradiating unit is controlled according to the length of the supporting member and the diameter of the supporting member. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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