KR101847281B1

KR101847281B1 - 고효율 플라즈마 박판 소스

Info

Publication number: KR101847281B1
Application number: KR1020160104031A
Authority: KR
Inventors: 광섭 조; 윤중 김
Original assignee: 광운대학교 산학협력단
Priority date: 2016-08-17
Filing date: 2016-08-17
Publication date: 2018-04-10
Also published as: KR20180019835A

Abstract

본 발명의 목적은 고효율의 플라즈마 발생을 통하여 피부미용 및 피부치료용 플라즈마 패드와 멸균장치에 사용하는 면-플라즈마 패널을 제공하고자 하는 것이다.
상기 목적에 따라 본 발명은, 종래의 유전체 층 장벽방전 방식에서 유전체 층 위에 스페이서를 설치하여 스페이서 공간에 대향 방전 방식으로 고효율의 단면-플라즈마 소스를 제공한다.
상기 스페이서와 덮개층을 피부치료 용재가 함유된 망사형 거즈를 사용하여 피부치료용 플라즈마 패드를 제공한다.
상기 목적의 고효율 플라즈마 소스는 유전체 층의 양면에 각각 플라즈마가 발생하는 양면-플라즈마 소스를 제공한다.

Description

고효율 플라즈마 박판 소스{High Efficient Plasma Thin-Plate Source}

본 발명은 피부미용 및 피부치료용 플라즈마 패드 및 멸균 장치용 플라즈마 박판에 적용하는 기술에 관한 것이다.

피부미용 및 피부치료용 플라즈마 패드는 대한민국 특허출원제 10-2015-0067004호에 제안되었고, 멸균 장치용 플라즈마 박판은 대한민국 특허출원제 10-2016-0078967호에 제시되었다.

상기 특허들은 본 발명자들에 의하여 출원된 것으로서 면-플라즈마 소스를 이용한 플라즈마 장치들이다.

종래의 대부분의 유연한 박형의 시트형 면-플라즈마 소스들은, 얇은 유전체 층의 상부와 하부에 전극을 형성한다.

도 1(a)는 종래의 DBD 방식의 면-플라즈마 시트를 나타낸다. 여기서, 전기장의 세기 분포도를 살펴보면, 두 전극 사이에 전기장 에너지가 집중된다. 필름 하부의 고전기장 부분은 바탕재에 절연층을 도포하고 있으며, 결과적으로 다음과 같은 약점들을 갖게 된다. 전기장의 집중으로 인해 해당부분에 형성된 고전기장으로 유전체 층의 절연파괴가 빈번하게 일어난다. 이를 방지하기 위하여 유전체 층 필름은 상당한 두께를 확보해야만 하며, 이로 인해 구동 전압을 상승하여야 한다.

또한, 하부 층의 고전기장 영역을 바탕 재로 덮기 때문에 패널의 고열 발생 원인이 되며, 이는 저효율로 이어진다. 도 1(a-ii)에 방전 부를 적색표시 하였다. 결과적으로 상기와 같은 구성의 플라즈마 패드는 절연파괴문제, 누설전류문제, 열 문제를 수반하는 저효율의 플라즈마 패널이라 할 수 있다.

본 발명은 상기 면-플라즈마 소스의 개선을 위한 것이다. 즉, 본 발명의 목적은 고효율의 면-플라즈마 소스를 제공하는 것이다.

상기 플라즈마 소스들은 전기장 에너지를 이용하여 플라즈마를 발생하는 장치 관련기술에 관한 것이다.

본 발명은 전기장 에너지를 효과적으로 이용하여 고효율의 면-플라즈마 소스를 제공하고자 한다.

본 발명은 상기의 과제들의 해결 수단으로서 두 전극 간에 대향방전의 방식으로 제시하여 고효율의 면-플라즈마 소스를 제공한다.

도 1(b)는 본 발명에서 제시하는 대향 방전 방식의 개념도 이다. DBD 방식의 방전에서 마주한 전극의 배치로 인해 형성된 전기장의 분포는 전기장 에너지를 효율적으로 이용하여 플라즈마 발생 에너지로 전환시킨다.

본 발명의 기본 개념은 유전체층 사이로 어느 하나의 전극을 유전체층으로부터 일정 거리 유지하여 방전에 의한 플라즈마 발생 공간을 확보하는 것이다. 이를 위하여 유전체층과 전극 사이에 스페이서(spacer)를 설치한다. 그에 따라 모든 전기장이 플라즈마 발생 에너지로 이용될 수 있다. 또한, 스페이서로 인해 전기장 집중에 의한 유전체 층의 절연파괴 현상을 예방할 수 있으며, 그에 따라 절연체 층의 두께를 더 얇게 할 수 있다. 집중된 전기장은 누설전류의 원인이 되기도 하므로, 본 발명의 스페이서 배치에 의해 누설전류를 방지할 수 있어 안전성이 강화된다.

또한, 상기 스페이서의 설치는 플라즈마 발생공간을 확보하고 방전을 유도하는 역할을 한다.

본 발명의 또 다른 고효율 플라즈마 패널은 도 5에서 제시된 양면-플라즈마 패널이다.

도 5(a)는 도 1(a)의 면-플라즈마를 양면-플라즈마 패널로 개조한 것을 보인다. 유전체 층 하부의 바탕재로 덮어지는 고전기장 에너지를 플라즈마 발생에 이용하며, 방전 효율이 2배로 증가하는 패널을 제공한다.

도 5(b)는 도 1(b)를 양면-플라즈마 패널로 개조한 것을 보인다.

본 발명에 따른 플라즈마 소스는 전원장치로부터 전압인가 전극에 고전압이 인가된다. 상기 고전압은 수십 Hz에서 수십 kHz 주파수의 교류형이다. 상기 고전압의 파형은 싸인파, 펄스파, 그리고 여러 형태의 변조파가 가능하다. 교류형 전원의 전압은 수 백 V에서 수 kV가 인가되며, 통상 DC-AC 인버터가 사용된다.

본 발명은,

바탕재;

상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;

상기 유전체 층의 하면에 배치되는 제1-전극;

상기 유전체 층 위에 배치되는 개구부 또는 홀(hole)을 구비한 스페이서;

상기 스페이서 위에 배치되는 제2 전극층; 및

상기 제2 전극층 위에 배치되는 망사형 덮개층;을 포함하며,

상기 제2 전극층은 유전체 층과 유전체 층 하면에 배치된 제2-전극을 포함하고,

상기 제1-전극과 제2-전극이 서로 대향하는 공간이자 스페이서가 있는 공간에 플라즈마가 발생하는 것을 특징으로 하는 면-플라즈마 소스를 제공한다.

상기에 있어서, 스페이서와 덮개층은 망사형 거즈로 구성되며;

상기 망사형 거즈는 피부 미용 또는 피부치료용 용재를 함유하고,

상기 용재의 성분들이 플라즈마 발생으로 여기 되어 환부를 처지하는 면-플라즈마 소스를 제공한다.

또한, 본 발명은,

바탕재;

상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;

상기 유전체 층의 하면에 배치되는 금속 메쉬로 된 제1-전극;

상기 유전체 층 위에 배치되는 절연성 메쉬로 된 스페이서;

상기 스페이서 위에 배치되는 금속 메쉬로 된 제2-전극; 및

상기 제2-전극 위에 배치되는 망사형 덮개층;을 포함하며,

또한, 본 발명은,

메쉬형 바탕재;

상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;

상기 유전체 층의 하면과 상면에 각각 배치되는 제1-전극과 제2-전극; 및

상기 제2-전극 위에 배치되는 메쉬형 덮개;를 구비하고,

상기 제1-전극과 제2-전극 사이의 방전에 의하여 상기 유전체 층의 상하면에 각각 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스를 제공한다.

상기에 있어서, 제1-전극과 제2-전극을 각각 금속 메쉬로 구성하여,

금속 메쉬 전극의 앙면에서 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스를 제공한다.

상기에 있어서, 제1-전극과 유전체 층 사이 및 제2-전극과 유전체 층 사이에 각각 삽입된 절연성 메쉬로 된 스페이서들;을 더 포함하여, 상기 스페이서에 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스를 제공한다.

본 발명에 따르면, 생성되는 모든 전기장이 플라즈마 발생 에너지로 이용될 수 있기 때문에 매우 효율적인 플라즈마 소스가 된다.

또한, 본 발명에 의한 전극 구조는 전기장 집중에 의한 절연파괴를 방지할 수 있어, 절연층의 두께를 더 얇게 할 수 있다.

또한, 쓸모없는 전기장에 의해 누설전류가 발생 되는 것도 방지할 수 있어 유익하다.

본 발명에 따르면, 고효율의 대향 전극에 의한 DBD 방식의 면-플라즈마 소스를 얻을 수 있으며, 스페이서를 설치하여 유전체 층과 전극 사이에 플라즈마 발생 공간을 확보할 수 있고, 이로 인해 더욱 안전한 플라즈마 소스를 얻을 수 있다.

스페이서가 적용된 플라즈마 패드에서 스페이서를 거즈로 만듦으로써 거즈에 특정한 치료제 약품을 도포하여 피부치료 효과를 향상시킬 수 있다.

또한, 본 발명의 양면-플라즈마 소스는 단면-플라즈마 소스보다 2배의 방전 효율을 갖게 된다.

본 발명의 고효율 면-플라즈마 소스는 피부 미용 및 피부 치료용 플라즈마 패드나 멸균장치에 사용되는 플라즈마 패널에 적용하여 관련 장치의 성능 향상의 효과를 기대할 수 있다.

도 1은 종래의 면-플라즈마 소스와 본 발명의 고효율 대향 전극을 채용한 면-플라즈마 소스의 전극구조의 특징을 비교를 위한 개념도 이다.
도 1(a-i)은 종래의 전극구조에 대한 전기장의 분포도이고, 도 1(a-ii)는 플라즈마 발생부를 나타내는 단면도이다.
도 1(b-i)은 본 발명의 고효율 대향 전극의 면-플라즈마 소스의 전극구조에 대한 전기장의 분포도이고, 도 1(b-ii)는 플라즈마 발생부를 나타내는 단면도이다.
도 2는 줄무늬(stripe)형 대향 전극을 갖는 고효율 면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다.
도 3은 원형 전극을 갖는 고효율 대향 방전의 면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다.
도 4는 망상(mesh) 전극을 갖는 고효율 대향 방전의 면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예로서 양면-플라즈마 소스의 개념도이다.
도 5(a)는 줄무늬 전극을 채용한 양면-플라즈마 소스의 분리된 사시도 이다.
도 5(b)는 금속 메쉬 전극을 채용한 양면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다.
도 5(c)는 금속 메쉬 전극 사이에 스페이서를 삽입한 양면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 좀 더 상세하게 설명하고자 한다.

도 1은 종래의 면-플라즈마 소스와 본 발명의 면-플라즈마 소스의 전극 구조를 비교한 단면도이다.

도 1(a)는 종래의 피부용 플라즈마 패드와 멸균장치용 플라즈마 패널의 면-플라즈마 소스의 일반적인 전극구조의 단면도이다. 면-플라즈마 소스의 기본 구성은 바탕재(101) 위에 유전체 층(102)이 설치된다. 유전장벽방전(Dielectric Barrier DIscharge: DBD)을 위하여 유전체 층(102)의 하단과 상단에 각각 제1-전극과 제2-전극이 설치된다. 제1-전극과 제2-전극은 단면상에서 상호 겹치지 않게 배치된다.

상기 전극구조에서 전기장의 분포는 도 1(a-i)이고, 플라즈마 발생부분은 도 1(a-ii)이다.

도 1(a-i)의 전기장을 파란색의 선으로 나타내었다. 제1-전극과 제2-전극의 가장자리를 각각 연결하는 유전체 층 내부의 전기장의 세기가 가장 강하며, 굵은 실선으로 나타내었다. 그리고 각 전극의 면의 상하부분을 연결하는 전기장의 세기가 그 다음으로 강하며, 가는 실선으로 나타내었다.

도 1(a-ii)는 플라즈마(150)의 발생부위는 유전체 층 상단의 제2-전극의 가장자리이며, 이를 붉은색의 점들로 나타내었다. 플라즈마의 발생부분이 전기장의 세기가 가장 큰 부분과 일치하지 않는다. 즉, 높은 전기장의 에너지가 플라즈마 발생에 기여하지 않는다. 상당한 전기장 에너지는 유전체 층(102)의 내부에서 소모된다. 또한, 하단의 제1-전극의 양쪽 끝의 전기장은 바탕재(101) 내부에 형성되어 전기장 에너지가 소모된다. 따라서 이러한 전극 구조는 유전체 층(102)의 절연파괴와 누설전류의 원인이 된다. 절연파괴를 방지하기 위하여 유전체 층(102)의 두께를 충분히 확보하여야 하며, 이로 인하여 구동 전압도 높아진다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 본 발명자들은 다음과 같이 플라즈마 소스를 설계하였다.

도 1(b)는 본 발명의 전극 구조의 개념도로서, 두 전극 사이에 대향 방전을 통해 고효율을 낼 수 있는 면-플라즈마 소스는 바탕재(101), 유전체 층(102), 스페이서(103), 그리고 제2-전극층(104)으로 구성된다. 유전체 층(102)의 하부에 제1-전극이 설치되고, 유전체 층(102)의 상부의 일정한 거리를 두고 제2-전극이 설치된다. 제2-전극층(104)과 유전체 층(101) 사이에 스페이서(103, spacer)를 설치하여 고전기장의 형성 부분과 플라즈마의 생성 공간이 일치하도록 한 것이 본 발명의 특징이다.

도 1(b-i)의 대향 전극 사이의 강한 전기장(파란색의 선)은 두 전극 사이에 형성된다.

도 1(b-ii)와 같이 플라즈마(110)의 발생부분(붉은 점들)도 고 전기장의 부분과 일치한다. 따라서 전기장 에너지의 손실이 없는 고효율의 면-플라즈마 소스를 제공할 수 있다.

도 1(a)와 (b)에서 도면 (b)의 유전체 층(102)의 두께는 도면 (a)의 유전체 층의 두께보다 더 얇게하여 방전 전압을 낮게 할 수 있다.

본 발명의 기본 구조인 도 1(b)의 구조 실현에 대한 실시 예들을 다음의 도 2 내지는 도 4에 예시한다. 도 2의 실시 예는 전극의 형태가 줄무늬(stripe) 형태이고, 도 3은 원형(circle)의 전극 형태의 실시 예이며, 그리고 도 4는 금속 메쉬(mesh)형의 전극 형태를 갖는 대향 방전의 면-플라즈마 소스의 예시이다.

도 2는 줄무늬(stripe) 형 대향 전극을 갖는 고효율 면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다. 면-플라즈마 소스는 바탕재(101), 제1-전극 유전체 층(102), 스페이서(103), 제2-전극층(104), 그리고 망사형 덮개층(105)으로 구성된다. 제2 전극층(104)은 유전체 층 아래에 전극이 배열되어 있는 구조이며, 유전체 층에는 홀이 형성되어 있다.

제1-전극은 유전체 층(102) 하부에 일정 간격으로 세로 방향으로 설치한다. 제2-전극층(104)의 하부에는 제2-전극이 일정한 간격으로 가로 방향(제1 전극과 직교 방향)으로 설치한다. 제1-전극과 제2-전극 사이에는 대향 방전을 위하여 스페이서(103)를 설치한다. 스페이서에는 다수 개의 구멍을 설치하여 방전 공간을 확보한다. 따라서, 제1-전극과 제2-전극이 대향되게 교차하는 스페이서 공간에 플라즈마가 발생한다. 제2-전극층의 유전체에는 다수의 홀을 설치하여, 홀을 통해 플라즈마가 확산 되게 하여 표면 쪽(덮개층 쪽)으로 나오도록 유도한다. 상기 홀은 스페이서에 형성된 개구부와 서로 중첩되어 소통되는 부분이 있게 설치된다.

여기서 대향 방전을 위하여 스페이서(103)를 설치하여 방전 공간을 확보하는 것이 본 발명의 특징이다.

상기 유전체 층(102)은 폴리이미드 필름 등의 폴리머 필름을 사용한다.

상기 스페이서(103)는 폴리머 필름을 사용하거나 망사형 거즈 등을 사용한다. 거즈에는 본래 기공이 다수 형성되어 있으므로 별도의 개구부를 형성할 필요가 없다.

면-플라즈마 소스를 피부 치료용 패드로 사용하는 경우, 상기 스페이서(103)와 망사형 덮개층(105)을 의료용 거즈(130)로 대체할 수 있다.

상기 거즈(130)들은 피부 미용 및 치료를 위한 용재를 함유하여 치료 효과를 극대화할 수 있다.

상기 용재는 피부미용을 위한 보습재나 질소 성분을 포함한 피부 활성화재로서 상기 거즈를 액상용재에 담그거나 크림형태의 용재를 거즈에 발라서 함유되도록 한다.

또한, 상기 용재는 피부 치료의 경우, 해당 질환치료 약품을 액상 및 크림형태로 하여 상기 거즈에 침투시킨다.

상기 피부활성화 및 피부치료용 의약품은 시중에 판매되는 검증된 제품으로서, 각종 피부염 치료제, 아토피 치료제, 무좀 치료제, 발모촉진 및 탈모 방지용 크림 등의 용재를 상기 거즈에 함유토록 한다.

상기 용재들은 플라즈마 발생으로 화학적으로 분해되고 활성화되어 치료 효과를 극대화한다.

도 3은 원형 전극을 갖는 고효율 대향 방전의 면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다. 플라즈마 소스의 구성은 바탕재(101), 제1-전극이 형성된 유전체 층(102), 스페이서(103), 제2-전극층(104), 그리고 덮개층(105)으로 구성된다. 제1-전극은 유전체 층(102)의 하부에 원형 전극이 세로 방향으로 연결되어 형성된다. 즉, 원형 전극들이 그 직경보다 폭이 좁고 동일한 전극재로 된 판으로 이어진 듯한 형상을 갖도록 구성된다.

제2-전극층은 유전체 층 하부에 고리형의 전극재가 그 직경보다 폭이 좁고 동일한 전극재로 된 판으로 이어진 듯한 형상을 갖도록 구성되며, 가로 방향(제1 전극과 직교 방향)으로 연결하여 형성된다.

스페이서(103)의 공간을 사이로 두 전극 간에 대향 방전으로 플라즈마가 생성한다. 제2-전극층의 고리형 전극의 중심은 구멍을 구비하여, 생성된 플라즈마가 중심 개구부로 방출된다. 스페이서(103)에도 개구부를 형성하며, 상기 고리형 전극의 중심 개구부와 스페이서의 개구부는 서로 중첩되어 소통된다.

상기 도 2와 마찬가지로 스페이서를 거즈(130)로 대체할 수도 있다. 거즈에는 본래 기공이 다수 형성되어 있으므로 별도의 개구부를 형성할 필요가 없다.

도 4는 망상(mesh) 전극을 갖는 고효율 대향 방전의 면-플라즈마 소스의 분리된 사시도로서, 바탕재(101), 제1-전극 금속 메쉬(120), 유전체 층(102), 스페이서(103), 그리고 제2-전극 금속 메쉬(140)로 구성된다. 스페이서(103)는 거즈와 같은 절연 메쉬(130)(비금속재)를 채용한다. 메쉬 구성 부재들은 적층시 그 개구부가 서로 일치되어 소통되게 배열하는 것이 바람직하다.

상기에서, 유전체 층(102)은 폴리머 필름이나 실리콘 고무 합성재를 사용한다. 또한, 제2-전극 금속 메쉬(140) 위에 거즈와 같은 덮개층을 구성할 수 있다.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시 예로서, 양면-플라즈마 소스에 대한 것이다. 주로 멸균장치에 사용될 플라즈마 패널이다.

도 5(a)는 줄무늬 전극구조에 대한 양면-플라즈마 소스의 개념도이다. 도 1(a)에서 바탕재(101)를 제거하여 고전기장이 형성되는 유전체 층(102)의 하부에도 플라즈마가 생성되도록 한다. 종래의 단면-플라즈마 소스는 바탕재에 형성된 고전기장의 에너지가 열로 변하여 패널의 열 발생 원인이 된다. 바탕재를 제거한 양면 플라즈마 소스는 이러한 소모적인 에너지를 모두 플라즈마 발생 에너지로 전환시킬 수 있다.

이와 같이 양면-플라즈마 소스는 산술적으로 플라즈마 발생 효율이 2배인 고효율을 실현한다.

양면-플라즈마 소스는 단면-플라즈마 소스의 바탕재(101) 대신에 메쉬 형태의 덮개(105)가 있고, 그 위에 유전체 층(102), 그리고 그 위에 다시 메쉬 형태의 덮개(105)가 씌워진다. 유전체 층(102)의 하부와 상부 각각에는 도 1(a)와 같이 줄무늬형의 제1-전극과 제2-전극이 모두 한쪽(예를 들면, 세로) 방향으로 형성된다. 제1-전극과 제2-전극은 소정의 폭과 일정한 간격으로 배치되며, 단면상에서 서로 완전히 겹치지 않게 배열된다.

도 5(b)는 유전체 층(102)의 하면과 상면에 각각 금속 메쉬-전극(120, 140)을 채용한 양면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다. 금속 메쉬-전극(120, 140)이 각각 제1-전극과 제2-전극의 역할을 한다.

도 5(c)는 금속 메쉬 전극 사이에 각각 스페이서를 삽입한 양면-플라즈마 소스의 분리된 사시도이다. 스페이서는 절연-메쉬(130)를 사용한다.

한편, 상기 실시 예와 실험 예들에서 제시한 구체적인 수치들은 예시적인 것으로 필요에 따라 변형 가능함은 물론이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

바탕(101)
유전체 층(102)
제1-전극 금속 메쉬(120)
스페이서(103)
절연 메쉬망(130)
제2-전극층(104)
제2-전극 금속 메쉬(140)
덮개층(105)
플라즈마(150)

Claims

바탕재;
상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;
상기 유전체 층의 하면에 배치되는 제1-전극;
상기 유전체 층 위에 배치되는 개구부 또는 홀(hole)을 구비한 스페이서;
상기 스페이서 위에 배치되는 제2 전극층; 및
상기 제2 전극층 위에 배치되는 망사형 덮개층;을 포함하며,
상기 제2 전극층은 유전체 층과 유전체 층 하면에 배치된 제2-전극을 포함하고,
상기 제1-전극과 제2-전극이 서로 대향하는 공간이자 스페이서가 있는 공간에 플라즈마가 발생하는 것을 특징으로 하는 면-플라즈마 소스.
제1항에 있어서, 스페이서와 덮개층은 망사형 거즈로 구성되며;
상기 망사형 거즈는 피부 미용 또는 피부치료용 용재를 함유하고,
상기 용재의 성분들이 플라즈마 발생으로 여기 되어 환부를 처지하는 면-플라즈마 소스.
바탕재;
상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;
상기 유전체 층의 하면에 배치되는 금속 메쉬로 된 제1-전극;
상기 유전체 층 위에 배치되는 절연성 메쉬로 된 스페이서;
상기 스페이서 위에 배치되는 금속 메쉬로 된 제2-전극; 및
상기 제2-전극 위에 배치되는 망사형 덮개층;을 포함하며,
상기 제1-전극과 제2-전극이 서로 대향하는 공간이자 스페이서가 있는 공간에 플라즈마가 발생하는 것을 특징으로 하는 면-플라즈마 소스.
메쉬형 바탕재;
상기 바탕재 위에 배치되는 유전체 층;
상기 유전체 층의 하면과 상면에 각각 배치되는 제1-전극과 제2-전극; 및
상기 제2-전극 위에 배치되는 메쉬형 덮개; 및
상기 제1-전극과 상기 유전체 층 사이 및 상기 제2-전극과 상기 유전체 층 사이에 각각 삽입된 절연성 메쉬로 된 스페이서들;을 포함하여,
상기 제1-전극과 제2-전극 사이의 방전에 의하여 상기 유전체 층의 상하면에 각각 플라즈마가 발생하되, 상기 스페이서에 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스.
제4항에 있어서, 제1-전극과 제2-전극을 각각 금속 메쉬로 구성하여,
금속 메쉬 전극의 앙면에서 플라즈마가 발생하는 양면형 면-플라즈마 소스.
삭제