KR101845767B1 - Electrode for plasma apparatus and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR101845767B1
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손두열
김태균
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주식회사 에이아이코리아
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Abstract

According to an embodiment of the present invention, provided are an electrode for a plasma apparatus and a manufacturing method thereof wherein the plasma apparatus can be miniaturized and plasma processing performance can be obtained with even a low input voltage. The electrode for a plasma apparatus comprises a sheet electrode, a cover unit, and a terminal. The cover unit is arranged to come in close contact with the whole sheet electrode, covers the whole sheet electrode, and has an open hole on one side to expose a portion of the sheet electrode. The terminal is electrically connected to the sheet electrode, is arranged to be extended to the outside through the open hole, and applies power to the sheet electrode. The cover unit comprises a first cover sheet, formed to make the sheet electrode printed on an upper side, and a second cover sheet which is formed in the shape corresponding to the first cover sheet, has an open through-hole, has a lower side attached to be integrated to the upper side of the first cover sheet, comes in close contact with the sheet electrode, and covers the sheet electrode. The sheet electrode is formed on the upper side of the first cover sheet by a screen printing method.

Description

플라즈마 장치용 전극 및 이의 제조방법{ELECTRODE FOR PLASMA APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrode for a plasma apparatus and a method of manufacturing the electrode.

본 발명은 플라즈마 장치용 전극 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마 장치의 소형화가 가능하고, 낮은 입력 전압으로도 플라즈마 처리 성능이 확보될 수 있는 플라즈마 장치용 전극 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode for a plasma apparatus and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an electrode for a plasma apparatus capable of downsizing a plasma apparatus and ensuring plasma processing performance even at a low input voltage, will be.

일반적으로, 피처리물인 기판의 표면 처리로는, 기판의 표면으로부터 유기 물질과 같은 오염물의 제거, 레지스트(resist)의 제거, 유기 필름의 접착, 표면 변형, 필름 형성의 향상, 금속 산화물의 환원, 또는 액정용 유리 기판의 세정 등이 있다. 그리고, 이러한 표면 처리를 위해서는 크게 화학 약품을 이용한 방법과 플라즈마를 이용하는 방법이 있는데, 이 중에서 화학 약품을 이용하는 방법은 화학 약품이 환경에 악영향을 미친다는 단점이 있다.Generally, the surface treatment of a substrate, which is an object to be treated, includes a step of removing contaminants such as organic substances from a surface of a substrate, removing a resist, adhesion of an organic film, surface deformation, improvement of film formation, Or cleaning of a liquid crystal glass substrate. For the surface treatment, there are a method using a chemical agent and a method using a plasma. Among them, a method using a chemical agent has a disadvantage that a chemical agent adversely affects the environment.

플라즈마 처리장치에는 스퍼터 에칭, RIE(Reactive Ion Etching), 및 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등이 포함된다. 플라즈마 처리장치는 반도체 웨이퍼, 평판디스플레이, 또는 스마트 폰 등의 사용자 단말기의 커버 글라스 등의 처리에 있어서 유용하게 사용되고 있다. The plasma processing apparatus includes sputter etching, reactive ion etching (RIE), and plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). Plasma processing apparatuses are usefully used in the processing of cover glasses of user terminals such as semiconductor wafers, flat panel displays, or smart phones.

도 1은 종래의 플라즈마 장치를 나타낸 예시도이고, 도 2은 종래의 플라즈마 장치의 전극을 나타낸 예시도이다.FIG. 1 illustrates an example of a conventional plasma apparatus, and FIG. 2 illustrates an electrode of a conventional plasma apparatus.

도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 종래의 플라즈마 장치는 서로 이격되어 마주보도록 설치된 제1전극(10) 및 제2전극(20)의 사이에서 전기장을 인가하고 가스 공급관(30)으로 공정 가스를 제공함으로써 챔버(40) 내부에 플라즈마(50)를 발생시킨다. 그리고, 발생되는 플라즈마(50)가 제2전극(20)에 형성되는 관통공(21)을 통해 기판(60)에 제공됨으로써 기판(60)의 표면 처리가 수행된다. 1 and 2, a conventional plasma apparatus applies an electric field between a first electrode 10 and a second electrode 20 which are spaced apart from each other and face each other, and supplies a process gas to the gas supply pipe 30 Thereby generating the plasma 50 inside the chamber 40. The generated plasma 50 is supplied to the substrate 60 through the through holes 21 formed in the second electrode 20, thereby performing the surface treatment of the substrate 60. [

그리고, 제1전극(10)은 전극용 관(70), 절연부(80) 및 고정부(90)를 포함한다. 전극용 관(70)은 절연부(80)의 상면에 밀착되도록 구비되며, 보통 알루미늄 재질로 형성된다. 절연부(80)는 플라즈마 발생 시, 제1전극(10) 및 제2전극(20)에 아크 방전(Arc Discharge)이 발생하는 것을 방지한다. 절연부(80)는 보통 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어진다. 고정부(90)는 절연부(80)에 결합되어 전극용 관(70)이 절연부(80)에 밀착되도록 가압한다. 또한, 고정부(90)는 전원과 연결되어 전극용 관(70)에 전압이 인가되도록 한다. The first electrode 10 includes an electrode tube 70, an insulating portion 80, and a fixing portion 90. The electrode tube 70 is formed to be in close contact with the upper surface of the insulating portion 80 and is usually made of aluminum. The insulating portion 80 prevents arc discharge from occurring in the first electrode 10 and the second electrode 20 when plasma is generated. The insulating portion 80 is usually made of aluminum oxide (Al2O3). The fixing portion 90 is coupled to the insulating portion 80 so as to press the electrode tube 70 to be in close contact with the insulating portion 80. Also, the fixing unit 90 is connected to a power source so that a voltage is applied to the electrode tube 70.

전극용 관(70)은 전원이 인가되면 전기장을 발생시키는 전도체 재질로 형성되며, 전극용 관(70)은 내측에 냉각수가 순환되는 공간부(71)를 가지며, 냉각수 유입관(72)으로 유입되는 냉각수는 공간부(71)를 거치면서 전극용 관(70)을 냉각시키고 냉각수 배출관(73)으로 배출된다.The electrode tube 70 is formed of a conductive material that generates an electric field when power is applied thereto. The electrode tube 70 has a space 71 in which cooling water is circulated inside, and flows into the cooling water inlet tube 72 The cooling water is cooled through the space portion 71 while cooling the electrode tube 70 and discharged to the cooling water discharge pipe 73.

한편, 종래의 플라즈마 장치에서는 전극용 관(70)이 밀착되는 절연부(80)의 지지부(81)가 고정부(90)에서 제공하는 가압력에 의한 휩, 변형 또는 파손이 발생하지 않도록 일정 두께 이상으로 형성되어야 한다. 일반적으로, 지지부(81)는 3mm 이상의 두께(T1)를 가진다. 그리고, 지지부(81)의 상면 및 전극용 관(70)의 하면의 면접촉이 완벽하게 이루어지도록 하기 위해서 지지부(81)의 상면 및 전극용 관(70)의 하면의 편평도를 높이기 위한 가공정밀도가 확보되어야 하는 부담이 있다. 그러나 실제로는, 지지부(81)의 상면 및 전극용 관(70)의 하면의 편평도 수준을 높게 하더라도, 100%의 면접촉이 확보되기는 것은 용이하지가 않다. 따라서, 전극용 관(70)의 하면과 지지부(81)의 상면과의 사이의 틈새 공간(S)에 기인하는 플라즈마 손실이 발생할 수 있다. 이에 따라, 기판(60)의 표면 처리를 위한 충분한 플라즈마 발생을 위해, 인가되는 전압이 높아지게 되는데, 통상적으로 10KV의 전압이 인가되고 있으며, 이로 인해, 플라즈마 장치의 운용에 있어 전기료 등의 부담이 발생하는 문제점이 있다.In the conventional plasma apparatus, in order to prevent occurrence of whip, deformation or breakage due to the pressing force provided by the fixing portion 90 of the supporting portion 81 of the insulating portion 80 to which the electrode tube 70 is closely attached, Lt; / RTI > Generally, the support portion 81 has a thickness T1 of 3 mm or more. In order to ensure that the upper surface of the support portion 81 and the lower surface of the electrode tube 70 are perfectly in contact with each other, the processing accuracy for raising the flatness of the upper surface of the support portion 81 and the lower surface of the electrode tube 70 There is a burden to be secured. However, in reality, it is not easy to ensure 100% surface contact even if the flatness level of the upper surface of the support portion 81 and the lower surface of the electrode tube 70 is increased. Therefore, a plasma loss due to the clearance S between the lower surface of the electrode tube 70 and the upper surface of the support portion 81 may occur. Accordingly, in order to generate sufficient plasma for the surface treatment of the substrate 60, a voltage to be applied is increased. Normally, a voltage of 10 KV is applied. As a result, a burden of electric charges or the like occurs in the operation of the plasma apparatus .

또한, 제1전극(10)이 전극용 관(70), 절연부(80) 및 고정부(90)와 같은 구성을 가짐으로써 크기를 줄이는 데에 한계가 있기 때문에, 소형화가 어려운 문제점이 있다.In addition, since the first electrode 10 has the same structure as the electrode tube 70, the insulating portion 80, and the fixing portion 90, there is a limitation in reducing the size thereof, which makes it difficult to downsize.

공개특허공보 제2005-0062117호(2005.06.23. 공개)Open Patent Publication No. 2005-0062117 (published on June 23, 2005) 공개특허공보 제2005-0011771호(2005.01.31. 공개)Open Patent Publication No. 2005-0011771 (published on January 31, 2005)

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 플라즈마 장치의 소형화가 가능하고, 낮은 입력전압으로도 플라즈마 처리 성능이 확보될 수 있는 플라즈마 장치용 전극 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an electrode for a plasma device and a method of manufacturing the same, which can miniaturize a plasma device and can secure a plasma processing performance even at a low input voltage.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 시트 전극; 상기 시트 전극을 전체적으로 밀착하여 감싸도록 마련되고, 상기 시트 전극의 일부가 노출되도록 일면에 개방홀이 형성되는 커버부; 그리고 상기 시트 전극과 전기적으로 연결되고, 상기 개방홀을 통해 외부로 연장되도록 구비되며, 상기 시트 전극에 전원을 인가하는 터미널을 포함하며, 상기 커버부는 상면에 상기 시트 전극이 인쇄되도록 형성되는 제1커버시트와, 상기 제1커버시트에 대응되는 형상으로 형성되되, 상기 개방홀이 관통 형성되고, 그 하면이 상기 제1커버시트의 상면과 일체가 되도록 접합되어 상기 시트 전극을 밀착하여 덮는 제2커버시트를 가지고, 상기 시트 전극은 상기 제1커버시트의 상면에 스크린 인쇄의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치용 전극을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a sheet electrode comprising: a sheet electrode; A cover part which is provided to closely adhere the sheet electrode as a whole and in which an opening hole is formed on one surface so that a part of the sheet electrode is exposed; And a terminal electrically connected to the sheet electrode and extending outward through the opening hole and adapted to apply power to the sheet electrode, wherein the cover unit includes a first electrode And a second cover sheet which is formed in a shape corresponding to the first cover sheet and through which the opening hole is formed so that the lower surface thereof is integrated with the upper surface of the first cover sheet, And the sheet electrode is formed on the upper surface of the first cover sheet by a method of screen printing.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 개방홀에는 상기 시트 전극 및 상기 터미널을 결합하고 전기적으로 연결하기 위한 중간부재가 구비되고, 상기 중간부재는 용융되면서 상기 시트 전극 및 상기 터미널이 전기적으로 연결되도록 결합할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the opening hole is provided with an intermediate member for joining and electrically connecting the sheet electrode and the terminal, and the intermediate member is melted so that the sheet electrode and the terminal are electrically connected can do.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 a) 시트 전극을 전체적으로 밀착하여 감싸도록 커버부를 마련하는 단계; 그리고 b) 상기 시트 전극의 일부가 노출되도록 상기 커버부의 일면에 형성되는 개방홀에 상기 시트 전극에 전원을 인가하도록 상기 시트 전극과 전기적으로 연결되는 터미널이 외부로 연장되도록 마련되는 단계를 포함하고, 상기 a) 단계는 제1커버시트를 마련하는 단계와, 상기 제1커버시트의 상면에 전극 물질을 이용하여 상기 시트 전극을 형성하는 단계와, 상기 제1커버시트에 대응되는 형상으로 형성되고 개방홀이 관통 형성되는 제2커버시트를 마련하는 단계와, 상기 제1커버시트 및 제2커버시트가 상기 시트 전극을 밀착하여 덮도록 상기 제2커버시트의 하면 및 상기 제1커버시트의 상면이 일체가 되도록 접합되는 단계를 가지며, 상기 시트 전극은 상기 전극 물질이 상기 제1커버시트의 상면에 스크린 인쇄 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치용 전극의 제조방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display panel, And b) a terminal electrically connected to the sheet electrode so as to apply power to the sheet electrode in an opening formed in one surface of the cover unit so that a part of the sheet electrode is exposed, The method of claim 1, wherein the step a) includes the steps of: providing a first cover sheet; forming the sheet electrode using an electrode material on an upper surface of the first cover sheet; A step of providing a second cover sheet having a hole formed therethrough; and a step of forming a lower surface of the second cover sheet and an upper surface of the first cover sheet so that the first cover sheet and the second cover sheet closely cover the sheet electrode Wherein the electrode material is formed on the upper surface of the first cover sheet by a screen printing method It provides a method for producing town Raj for device electrodes.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1커버시트 및 상기 제2커버시트는 중합체(polymer) 및 세라믹 파우더를 포함하는 슬러리가 캐리어 필름 상에 테이프 캐스팅 방법으로 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first cover sheet and the second cover sheet may be formed by a tape casting method on a carrier film with a slurry including a polymer and a ceramic powder.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 b) 단계는 상기 개방홀로 은 재질의 중간부재를 삽입하여 상기 중간부재가 상기 시트 전극의 상면에 위치되도록 하는 단계와, 상기 개방홀로 상기 터미널을 삽입하는 단계와, 상기 중간부재를 용융시켜 용융된 후 경화된 상기 중간부재에 의해 상기 터미널 및 상기 시트 전극이 전기적으로 연결되도록 결합하는 단계를 가질 수 있다.In the embodiment of the present invention, the step b) includes the steps of: inserting an intermediate member made of the open-hole material into the intermediate member to be positioned on the upper surface of the sheet electrode; inserting the terminal into the opening hole; And melting the intermediate member to melt and then bonding the terminal and the sheet electrode by the intermediate member to be electrically connected.

본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마 장치용 전극은 얇은 판상형으로 형성될 수 있기 때문에, 높이를 낮추고 크기를 줄일 수 있으므로, 소형화가 가능하다. According to the embodiment of the present invention, since the electrode for a plasma apparatus can be formed in a thin plate-like shape, the height can be reduced and the size can be reduced, so that miniaturization is possible.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마 장치용 전극은 커버부 및 시트 전극이 밀착되어 형성될 수 있기 때문에, 틈새 공간에 기인하는 플라즈마 손실이 방지될 수 있다. Further, according to the embodiment of the present invention, since the electrode for the plasma apparatus can be formed by closely adhering the cover portion and the sheet electrode, the plasma loss due to the space can be prevented.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마 장치용 전극은 제1커버시트의 두께가 얇기 때문에, 상대적으로 낮은 입력 전압으로도 종래의 플라즈마 장치에서와 동등한 수준의 플라즈마를 발생할 수 있다. Further, according to the embodiment of the present invention, since the thickness of the first cover sheet is thin, the electrode for the plasma apparatus can generate a level of plasma equivalent to that of a conventional plasma apparatus even at a relatively low input voltage.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above effects and include all effects that can be deduced from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도 1은 종래의 플라즈마 장치를 나타낸 예시도이다.
도 2은 종래의 플라즈마 장치의 전극을 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극을 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극을 나타낸 분해사시도이다.
도 5는 도 3의 A-A선 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법 중 시트 전극을 감싸도록 커버부를 마련하는 공정을 나타낸 흐름도이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법 중 제1커버시트를 마련하는 공정을 나타낸 흐름도이다.
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법 중 시트 전극과 터미널을 연결하는 공정을 나타낸 흐름도이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조공정을 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing a conventional plasma apparatus.
2 is an exemplary view showing an electrode of a conventional plasma apparatus.
3 is a perspective view illustrating an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is an exploded perspective view showing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a sectional view taken along the line AA in Fig.
6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a flowchart illustrating a process of providing a cover portion for covering a sheet electrode in a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
8 is a flowchart showing a process of providing a first cover sheet in a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
9 is a flowchart showing a process of connecting a sheet electrode and a terminal in a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
10 is an exemplary view showing a manufacturing process of an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" (connected, connected, coupled) with another part, it is not only the case where it is "directly connected" "Is included. Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like refer to the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극을 나타낸 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극을 나타낸 분해사시도이고, 도 5는 도 3의 A-A선 단면도이다.FIG. 3 is an exploded perspective view showing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is an exploded perspective view showing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention, to be.

도 3 내지 도 5에서 보는 바와 같이, 플라즈마 장치용 전극(100)은 시트 전극(110), 커버부(120) 그리고 터미널(130)을 포함할 수 있다.3 through 5, the electrode 100 for a plasma apparatus may include a sheet electrode 110, a cover 120, and a terminal 130.

커버부(120)는 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125)를 가질 수 있다. 이하에서는 설명의 편의상, 제1커버시트(121)의 상면과 제2커버시트(125)의 하면으로 이루어지는 경계선(L)을 기준으로 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125)를 분리하여 설명한다. 그러나, 커버부(120)는 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125)가 일체로 형성되는 것일 수 있으며, 따라서, 도시된 바와 같은 경계선(L)은 실제로는 형성되지 않는다.The cover portion 120 may have a first cover sheet 121 and a second cover sheet 125. [ Hereinafter, the first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 are described with reference to a boundary line L consisting of the upper surface of the first cover sheet 121 and the lower surface of the second cover sheet 125, Separately. However, the cover portion 120 may be one in which the first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 are integrally formed, and therefore, the boundary line L as shown is not actually formed.

제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125)는 중합체(polymer) 및 세라믹 파우더를 포함하여 형성될 수 있다. 상기 중합체는 폴리비닐브탈랄(PVB: Polyvinyl butyral)을 포함할 수 있다. 그리고, 제1커버시트(121)는 0.8~1.2mm의 두께(T2)를 가질 수 있다. The first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 may be formed to include a polymer and a ceramic powder. The polymer may comprise polyvinyl butyral (PVB). The first cover sheet 121 may have a thickness T2 of 0.8 to 1.2 mm.

시트 전극(110)은 제1커버시트(121)의 상면에 형성될 수 있다. 시트 전극(110)은 텅스텐 재질로 형성될 수 있다. 시트 전극(110)은 스크린 인쇄 방법으로 형성될 수 있으며, 10~20㎛의 두께(T3)를 가질 수 있다.The sheet electrode 110 may be formed on the upper surface of the first cover sheet 121. The sheet electrode 110 may be formed of tungsten. The sheet electrode 110 may be formed by a screen printing method and may have a thickness (T3) of 10 to 20 mu m.

제2커버시트(125)에는 개방홀(126)이 형성될 수 있으며, 이에 따라, 커버부(120)가 시트 전극(110)을 완전히 감싼 상태에서 시트 전극(110)의 일부는 개방홀(126)을 통해 외부로 노출될 수 있다. An opening 126 may be formed in the second cover sheet 125 so that the cover portion 120 completely covers the sheet electrode 110 and a part of the sheet electrode 110 is covered with the opening hole 126 ). ≪ / RTI >

터미널(130)은 개방홀(126)에 결합될 수 있으며, 이때, 터미널(130)의 하단부(131) 및 개방홀(126)로 노출되는 시트 전극(110)의 사이에는 중간부재(140)가 구비될 수 있다. 중간부재(140)는 개방홀(126)에 대응되는 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 중간부재(140)는 은(Ag) 재질로 이루어질 수 있다. 중간부재(140)는 용융 후 경화되어 시트 전극(110) 및 터미널(130)을 전기적으로 연결시키고, 시트 전극(110) 및 터미널(130)이 견고하게 결합되도록 결합력을 제공할 수 있다. 터미널(130)은 하단부(131)를 제외한 대부분이 개방홀(126)의 외부로 연장되도록 마련될 수 있다. 터미널(130)에는 연결홀(132)이 형성될 수 있으며, 연결홀(132)에는 전원(미도시)으로부터 인가되는 전압을 터미널(130)로 전달하는 연결부재(미도시)가 결합될 수 있다. The terminal 130 may be coupled to the open hole 126. An intermediate member 140 is disposed between the sheet electrode 110 exposed to the lower end 131 and the open hole 126 of the terminal 130 . The intermediate member 140 may be formed in a shape corresponding to the opening hole 126. In addition, the intermediate member 140 may be made of silver (Ag). The intermediate member 140 may be cured after melting to electrically connect the sheet electrode 110 and the terminal 130 and to provide a bonding force so that the sheet electrode 110 and the terminal 130 are firmly coupled. The terminal 130 may be provided such that the majority of the terminal 130 except for the lower end 131 extends outside the opening 126. A connection hole 132 may be formed in the terminal 130 and a connection member (not shown) may be coupled to the connection hole 132 to transmit a voltage from a power source (not shown) to the terminal 130 .

본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극(100)은 얇은 판상형으로 형성될 수 있기 때문에, 종래의 플라즈마 장치의 제1전극(10, 도 1 참조)과 비교하였을 때, 높이를 낮추고 크기를 줄일 수 있으므로, 소형화가 가능하다. 그리고, 본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극(100)은 커버부(120) 및 시트 전극(110)이 밀착되어 형성될 수 있기 때문에, 도 2에서 보는 바와 같이 전극용 관(70) 및 지지부(81)의 사이의 틈새 공간(S)에 기인하는 플라즈마 손실이 방지될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극(100)은 제1커버시트(121)의 두께(T2)가 종래의 플라즈마 장치의 절연부(80, 도 2 참조)의 지지부(81, 도 2 참조)의 두께(T1, 도 2 참조)와 비교하였을 때, 약 1/3 수준으로 얇아질 수 있기 때문에, 상대적으로 낮은 입력 전압으로도 종래의 플라즈마 장치에서와 동등한 수준의 플라즈마를 발생할 수 있다. 본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극(100)의 경우 6KV의 입력전압으로도 종래의 플라즈마 창치에서와 동등한 수준의 플라즈마를 발생할 수 있다.Since the electrode 100 for a plasma apparatus according to the present invention can be formed in a thin plate shape, the height and the size can be reduced when compared with the first electrode 10 (see FIG. 1) of the conventional plasma apparatus, It is possible to miniaturize. 2, the electrode 100 for a plasma apparatus according to the present invention can be formed by closely contacting the cover 120 and the sheet electrode 110, The plasma loss due to the interstitial space S can be prevented. The electrode 100 for a plasma apparatus according to the present invention is characterized in that the thickness T2 of the first cover sheet 121 is smaller than the thickness T2 of the supporting portion 81 of the insulating portion 80 of the conventional plasma apparatus Can be thinned to about 1/3 level as compared with the thickness (T1, see FIG. 2) of the plasma display panel, so that a comparatively low input voltage can generate a level of plasma equivalent to that of a conventional plasma device. In the case of the electrode 100 for a plasma apparatus according to the present invention, even at an input voltage of 6 KV, a level of plasma equivalent to that in a conventional plasma generator can be generated.

본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극(100)은 특정한 플라즈마 장치용으로 한정되지는 않는다. 예를 들어, 본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극(100)은 글라스 기판을 표면 처리하는 플라즈마 장치용일 수 있다. 그리고, 상기 글라스 기판은 휴대폰, 스마트폰, 휴대정보단말기(PDA; Personal Digital Assistant), 휴대용 멀티미디어 플레이어(PMP; Portable Multimedia Player), 노트북 등과 같은 휴대 단말기에서 디스플레이 모듈을 보호하고 베젤(Bezel)이 마련되는 커버글라스(Cover Glass)일 수 있다. The electrode 100 for a plasma apparatus according to the present invention is not limited to a specific plasma apparatus. For example, the electrode 100 for a plasma apparatus according to the present invention may be used for a plasma apparatus for surface-treating a glass substrate. The glass substrate protects the display module from a portable terminal such as a mobile phone, a smart phone, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), a notebook computer, etc., and a bezel The cover glass may be a cover glass.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법을 나타낸 흐름도이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법 중 시트 전극을 감싸도록 커버부를 마련하는 공정을 나타낸 흐름도이고, 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법 중 제1커버시트를 마련하는 공정을 나타낸 흐름도이고, 도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법 중 시트 전극과 터미널을 연결하는 공정을 나타낸 흐름도이고, 도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조공정을 나타낸 예시도이다.FIG. 6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 7 illustrates a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 8 is a flowchart illustrating a process of providing a first cover sheet in a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a flowchart illustrating a process of forming a first cover sheet according to an embodiment of the present invention FIG. 10 is a view illustrating a process for connecting a sheet electrode and a terminal in a method of manufacturing an electrode for a plasma device, and FIG. 10 is an exemplary view illustrating a process of manufacturing an electrode for a plasma device according to an embodiment of the present invention.

도 6 내지 도 10에서 보는 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법은 시트 전극을 전체적으로 밀착하여 감싸도록 커버부를 마련하는 단계(S210)를 포함할 수 있다. 6 to 10, a method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention may include a step S210 of providing a cover portion to cover the sheet electrode as a whole.

그리고, S210 단계는 제1커버시트를 마련하는 단계(S211)를 가질 수 있다. The step S210 may include the step S211 of providing the first cover sheet.

여기서, S211단계는 중합체(polymer)(301) 및 세라믹 파우더(302)를 포함하는 슬러리(Slurry)(303)를 마련하는 단계(S211a)를 가질 수 있다(도 10의 (a) 참조). 그리고, S211 단계는 슬러리(303)를 캐리어 필름(Carrier Film)(305) 상에 도포하여 제1커버시트(121)를 얻는 단계(S211b)를 가질 수 있다(도 10의 (b) 참조). S211b 단계에서 제1커버시트(121)는 치밀하고 유연한 상태일 수 있다. S211b 단계에서 상기 도포는 테이프 캐스팅(Tape Casting) 방법으로 진행될 수 있으며, 이를 통해, 제1커버시트(121)는 일정한 두께를 가지도록 형성될 수 있다. 또한, S211 단계는 제1커버시트(121)를 원하는 형상으로 얻기 위하여 제1커버시트(121)를 커팅 하는 단계(S211c)를 가질 수 있다. S211c 단계에서, 상기 커팅은 주로 제1커버시트(121)의 테두리 부분에 대해 이루어질 수 있다.Here, the step S211 may have a step S211a of providing a slurry 303 including a polymer 301 and a ceramic powder 302 (see FIG. 10 (a)). Step S211 may have a step S211b of obtaining the first cover sheet 121 by coating the slurry 303 on the carrier film 305 (see Fig. 10 (b)). In step S211b, the first cover sheet 121 may be in a dense and flexible state. In step S211b, the application may be performed by a tape casting method, whereby the first cover sheet 121 may be formed to have a constant thickness. In addition, step S211 may have a step S211c of cutting the first cover sheet 121 to obtain the first cover sheet 121 in a desired shape. In step S211c, the cutting may be performed mainly on the rim portion of the first cover sheet 121. [

그리고, S210 단계는 제1커버시트의 상면에 전극 물질을 이용하여 시트 전극을 형성하는 단계(S212)를 포함할 수 있다. S212 단계에서 시트 전극(110)은 텅스턴 재질로 형성되는 금속 용액이 제1커버시트(121)의 상면(122)에 도포된 후 경화됨으로써 형성될 수 있다. S212 단계에서 상기 도포는 스크린 인쇄 방법으로 진행될 수 있다(도 10의 (c) 참조). In operation S210, the sheet electrode may be formed on the upper surface of the first cover sheet using an electrode material (S212). In step S212, the sheet electrode 110 may be formed by applying a metal solution formed of a tungsten material to the upper surface 122 of the first cover sheet 121 and then curing the metal solution. In step S212, the application may proceed by a screen printing method (see FIG. 10 (c)).

또한, 도 10의 (d)를 포함하여 보는 바와 같이, S210 단계는 제1커버시트에 대응되는 형상으로 형성되고 개방홀이 관통 형성되는 제2커버시트를 마련하는 단계(S213)를 가질 수 있다. S213 단계에서 제2커버시트(125)를 마련하는 공정은 제1커버시트(121)를 마련하는 단계(S211)와 동일할 수 있다. 즉, S213 단계는 중합체 및 세라믹 파우더를 포함하는 슬러리를 마련하는 단계와, 상기 슬러리를 캐리어 필름(306) 상에 도포하여 제2커버시트(125)를 얻는 단계를 가지 수 있다. 이때, 제2커버시트(125)는 치밀하고 유연한 상태일 수 있고, 상기 도포는 테이프 캐스팅 방법으로 진행될 수 있으며, 이를 통해, 제2커버시트(125)는 일정한 두께를 가지도록 형성될 수 있다. 또한, S213 단계는 제2커버시트(125)를 원하는 형상으로 얻기 위하여 제2커버시트(125)를 커팅 하는 단계를 가질 수 있다. 또한, S213 단계는 개방홀(126)이 관통 형성되도록 하는 단계를 가질 수 있다. 10 (d), step S210 may have a step S213 of forming a second cover sheet having a shape corresponding to the first cover sheet and having an opening hole formed therethrough . The step of providing the second cover sheet 125 in step S213 may be the same as the step S211 of providing the first cover sheet 121. [ That is, step S213 may include a step of providing a slurry containing a polymer and a ceramic powder, and a step of applying the slurry on the carrier film 306 to obtain a second cover sheet 125. [ At this time, the second cover sheet 125 may be in a dense and flexible state, and the application may proceed by a tape casting method, through which the second cover sheet 125 may be formed to have a constant thickness. In addition, step S213 may have a step of cutting the second cover sheet 125 to obtain a desired shape. In addition, step S213 may include a step of allowing the opening hole 126 to pass through.

그리고, S210 단계는 상기 제1커버시트 및 제2커버시트가 상기 시트 전극을 밀착하여 덮도록 상기 제2커버시트의 하면이 상기 제1커버시트의 상면과 일체가 되도록 접합되는 단계(S214)를 포함할 수 있다. S214 단계는 열간 프레싱 공정에 의해 진행될 수 있다. 도 10의 (e)를 포함하여 보는 바와 같이, S214 단계에서, 제1커버시트(121)는 열간 프레스의 하부 프레스(311)에 안착될 수 있다. 이때, 제1커버시트(121)는 캐리어 필름(305)상에 마련된 상태로 하부 프레스(311)에 안착될 수 있으며, 제1커버시트(121)의 상면에는 시트 전극(110)이 마련된 상태일 수 있다. 또한, S214 단계에서 제1커버시트(121)의 상부에는 시트 전극(110)을 덮도록 제2커버시트(125)가 포개질 수 있다. 이때, 제2커버시트(125)를 제조할 때 사용된 캐리어 필름(306, 도 10의 (d) 참조)은 제거된 상태일 수 있다. 그리고, 열간 프레스의 상부 프레스(312) 및 하부 프레스(311)를 열간 압축할 수 있다. S214 단계에서의 열간 프레싱 공정은 70~90℃로 이루어질 수 있다. 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125)가 포함하는 중합체는 폴리비닐브탈랄일 수 있다. 그리고, 70~90℃는 폴리비닐브탈랄의 거동 온도에 해당할 수 있다. 따라서, 열간 프레싱 공정이 70~90℃에서 진행됨에 따라, 중합체의 거동이 발생하면서 중합체 간에 결합이 이루어질 수 있다. S214 단계에서의 열간 프레싱 공정을 통해, 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125)는 가접착될 수 있다(도 10의 (f) 참조).In step S210, the first cover sheet and the second cover sheet are bonded to each other so that the lower surface of the second cover sheet is integrated with the upper surface of the first cover sheet so that the first cover sheet and the second cover sheet closely contact the sheet electrode. . Step S214 may be performed by a hot pressing process. 10 (e), in step S214, the first cover sheet 121 may be seated on the lower press 311 of the hot press. At this time, the first cover sheet 121 can be seated on the lower press 311 while being provided on the carrier film 305, and the sheet electrode 110 is provided on the upper surface of the first cover sheet 121 . The second cover sheet 125 may be formed on the first cover sheet 121 to cover the sheet electrode 110 in step S214. At this time, the carrier film 306 (see FIG. 10 (d)) used in manufacturing the second cover sheet 125 may be in a removed state. Then, the upper press 312 and the lower press 311 of the hot press can be hot-pressed. The hot pressing step in step S214 may be performed at 70 to 90 ° C. The polymer comprising the first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 may be polyvinyl butal. And, 70 to 90 占 폚 may correspond to the behavior temperature of polyvinyl butalate. Thus, as the hot pressing process proceeds at 70-90 占 폚, bonding between polymers may occur while the behavior of the polymer occurs. Through the hot pressing process in step S214, the first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 can be adhered (see Fig. 10 (f)).

또한, S214 단계는 온 등방압 프레스(WIP: Worm Isostatic Press) 공정을 가질 수 있다. 도 10의 (g)를 참조하면, 상기 온 등방압 프레스 공정은 시트 전극(110)을 감싸도록 가접착된 커버부(120)를 챔버(320) 내에 위치시키고, 온수를 등방적으로 가압하는 과정으로 진행된다. 이때, 챔버(320) 내에 위치되는 시트 전극(110)을 감싸도록 가접착된 커버부(120)는 가압되는 온수의 유입이 방지되도록 포장된 상태일 수 있다. 예를 들면, 시트 전극(110)을 감싸도록 가접착된 커버부(120)는 진공 포장된 상태일 수 있다. 그리고, 등방적으로 가압되는 상기 온수는 40~80℃일 수 있다. 상기 온수가 등방적으로 커버부(120)를 가압함에 따라 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125), 그리고, 시트 전극(110)과 커버부(120)는 완전 접착될 수 있다(도 10의 (h) 참조). Also, the step S214 may have a Worm Isostatic Press (WIP) process. 10 (g), in the isostatic pressing process, the cover portion 120, which is wrapped around the sheet electrode 110, is placed in the chamber 320 and the hot water is isotropically pressed Lt; / RTI > At this time, the cover 120, which is attached to cover the sheet electrode 110 positioned in the chamber 320, may be packaged to prevent the inflow of hot water to be pressurized. For example, the cover part 120, which is adhered to cover the sheet electrode 110, may be in a vacuum packed state. The hot water to be isotropically pressurized may be 40 to 80 캜. The first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 and the sheet electrode 110 and the cover part 120 can be completely bonded together as the hot water pressurizes the cover part 120 isotropically (See FIG. 10 (h)).

상기 온 등방압 프레스 공정을 거침에 따라, 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125), 그리고, 시트 전극(110)과 커버부(120)는 완전 접착되어 일체화될 수 있다. 따라서, 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125) 사이에는 경계선(L, 도 5 참조)이 사라질 수 있다. 일반적으로 슬러리를 이용하여 성형되는 시트는 기포를 함유할 수 있는데, 이러한 기포가 상기 경계선에 형성되는 경우, 전압이 인가 시에 절연 파괴가 발생할 수 있다. 그리고 이러한 절연 파괴는 불량을 의미할 수 있다. 그러나, 본 발명에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법에 따르면, 제1커버시트(121) 및 제2커버시트(125) 사이에 경계선이 생기기 않기 때문에, 전술한 절연 파괴의 발생이 방지될 수 있다. The first cover sheet 121 and the second cover sheet 125 as well as the sheet electrode 110 and the cover part 120 can be completely bonded and integrated by the above isostatic pressing process. Therefore, the boundary line L (see Fig. 5) may disappear between the first cover sheet 121 and the second cover sheet 125. [ In general, a sheet to be formed using a slurry may contain bubbles. When such bubbles are formed on the boundary, dielectric breakdown may occur upon application of a voltage. And such insulation breakdown can mean defective. However, according to the method for manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to the present invention, since no boundary line is formed between the first cover sheet 121 and the second cover sheet 125, the occurrence of the above-described dielectric breakdown can be prevented .

그리고, S214 단계는 온 등방압 프레스 공정을 거친 시트 전극(110)을 감싼 커버부(120)를 환원조건에서 소성하는 소성공정을 포함할 수 있다. 상기 소성공정은 수소(H2), 질소(N2) 분위기에서 진행될 수 있다. 상기 소성공정은 1550~1650℃의 온도에서 미리 정해진 시간 동안 진행될 수 있다. 상기 소성공정에서 히팅율(Heating Rate)은 단계적으로 조절될 수 있다.The step S214 may include a sintering step of sintering the cover 120 wrapped around the sheet electrode 110 subjected to the isostatic pressing process under reducing conditions. The firing process may be performed in a hydrogen (H2) or nitrogen (N2) atmosphere. The firing process may be performed at a temperature of 1550 to 1650 DEG C for a predetermined time. In the firing step, the heating rate can be adjusted stepwise.

본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 장치용 전극의 제조방법은 시트 전극의 일부가 노출되도록 상기 커버부의 일면에 형성되는 개방홀에 상기 시트 전극에 전원을 인가하도록 상기 시트 전극과 전기적으로 연결되는 터미널이 외부로 연장되도록 마련되는 단계(S220)를 포함할 수 있다. A method of manufacturing an electrode for a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes the steps of: forming a through hole in a surface of the cover unit so that a part of the sheet electrode is exposed; (S220) to extend outwardly.

그리고, S220 단계는 개방홀(126)로 은(Ag) 재질의 중간부재(140)를 삽입하여 중간부재(140)가 시트 전극(110)의 상면에 위치되도록 하는 단계(S221)를 가질 수 있다(도 10의 (i) 참조). The step S220 may include a step S221 of inserting an intermediate member 140 made of silver into the opening 126 so that the intermediate member 140 is positioned on the upper surface of the sheet electrode 110 (See Fig. 10 (i)).

또한, S220 단계는 개방홀(126)로 터미널(130)을 삽입하는 단계(S222)와, 중간부재(140)를 용융시켜 용융된 후 경화된 중간부재(140)에 의해 터미널(130) 및 시트 전극(110)이 전기적으로 연결되도록 결합하는 단계(S223)를 가질 수 있다(도 10의 (j) 참조). S223 단계는 환원로에 플라즈마 장치용 전극(100)이 위치된 상태에서 이루어질 수 있으며, 950~1050℃의 온도로 진행될 수 있다. 950~1050℃는 은의 용융 온도에 해당할 수 있다. 따라서, S223 단계가 950~1050℃에서 진행됨에 따라, 중간부재(140)가 용융될 수 있으며, 이후 경화되면서 시트 전극(110) 및 터미널(130)이 전기적으로 연결되도록 결합될 수 있다. 실제로, S220 단계를 위 조건으로 진행한 결과, 터미널(130)과 시트 전극(110)의 접합강도는 1.9~2.1kg/㎠로 양호하였다. In operation S220, the terminal 130 is inserted into the opening hole 126 and the intermediate member 140 is melted and melted. Thereafter, the intermediate member 140 is melted, It may have a step S223 (refer to FIG. 10 (j)) in which the electrodes 110 are electrically connected. Step S223 may be performed in a state where the electrode 100 for a plasma apparatus is positioned in the reducing furnace, and may be performed at a temperature of 950 to 1050 占 폚. 950 ~ 1050 ℃ may correspond to the melting temperature of silver. Accordingly, as the step S223 proceeds at 950 to 1050 占 폚, the intermediate member 140 may be melted and then the sheet electrode 110 and the terminal 130 may be electrically connected while being cured. Actually, as a result of proceeding to step S220, the bonding strength between the terminal 130 and the sheet electrode 110 was as good as 1.9 to 2.1 kg / cm2.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

100: 플라즈마 장치용 전극
110: 시트 전극
120: 커버부
121: 제1커버시트
125: 제2커버시트
126: 개방홀
130: 터미널
140: 중간부재100: Electrode for plasma apparatus
110: sheet electrode
120: Cover part
121: first cover sheet
125: second cover sheet
126: opening hole
130: Terminal
140: intermediate member

Claims (5)

시트 전극;
상기 시트 전극을 전체적으로 밀착하여 감싸도록 마련되고, 상기 시트 전극의 일부가 노출되도록 일면에 개방홀이 형성되는 커버부; 그리고
상기 시트 전극과 전기적으로 연결되고, 상기 개방홀을 통해 외부로 연장되도록 구비되며, 상기 시트 전극에 전원을 인가하는 터미널을 포함하며,
상기 커버부는 상면에 상기 시트 전극이 인쇄되도록 형성되는 제1커버시트와, 상기 제1커버시트에 대응되는 형상으로 형성되되, 상기 개방홀이 관통 형성되고, 그 하면이 상기 제1커버시트의 상면과 일체가 되도록 접합되어 상기 시트 전극을 밀착하여 덮는 제2커버시트를 가지고,
상기 개방홀과 대응되는 형상의 중간부재를 더 포함하며, 상기 중간부재는 상기 개방홀에 삽입된 상태에서 용융되면서 상기 시트 전극 및 상기 터미널을 전기적으로 연결시키고, 시트 전극과 터미널이 견고하게 결합되도록 하며,
상기 시트 전극은 상기 제1커버시트의 상면에 스크린 인쇄의 방법으로 형성되고,
상기 커버부는, 열간 프레싱 공정에 의해 열간 압축되어 상기 제1 커버시트와 상기 제2 커버시트는 가접착되도록 마련되고, 가접착된 상기 제1 커버시트와 상기 제2 커버시트는 진공 포장된 상태에서 온 등방압 프레스 공정에 의해 완전 접착되어 일체화되도록 마련됨으로써, 상기 제1 커버시트와 제2 커버시트 사이의 경계면에 기포가 형성되는 것을 방지하고, 상기 시트 전극의 하면이 상기 제2 커버시트의 상면에 밀착되어 플라즈마 손실이 발생하는 것을 방지하도록 마련된 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치용 전극.A sheet electrode;
A cover part which is provided to closely adhere the sheet electrode as a whole and in which an opening hole is formed on one surface so that a part of the sheet electrode is exposed; And
A terminal electrically connected to the sheet electrode and extending to the outside through the opening hole, the terminal applying power to the sheet electrode,
Wherein the cover portion is formed in a shape corresponding to the first cover sheet, the first cover sheet being formed in such a manner that the sheet electrode is printed on the upper surface thereof, the opening hole being formed in a shape corresponding to the first cover sheet, And a second cover sheet which is joined so as to be integral with the sheet electrode,
And the intermediate member is melted while being inserted into the opening hole to electrically connect the sheet electrode and the terminal, and the sheet electrode and the terminal are firmly coupled to each other. In addition,
The sheet electrode is formed on the upper surface of the first cover sheet by a screen printing method,
The cover part is hot-pressed by a hot pressing process so that the first cover sheet and the second cover sheet are adhered to each other. The first cover sheet and the second cover sheet, to which the cover part is adhered, are vacuum- The first cover sheet and the second cover sheet are prevented from being formed with air bubbles, and the lower surface of the sheet electrode is formed on the upper surface of the second cover sheet So as to prevent a plasma loss from occurring. 삭제delete a) 시트 전극을 전체적으로 밀착하여 감싸도록 커버부를 마련하는 단계; 그리고
b) 상기 시트 전극의 일부가 노출되도록 상기 커버부의 일면에 형성되는 개방홀에 상기 시트 전극에 전원을 인가하도록 상기 시트 전극과 전기적으로 연결되는 터미널이 외부로 연장되도록 마련되는 단계를 포함하고,
상기 a) 단계는 제1커버시트를 마련하는 단계와, 상기 제1커버시트의 상면에 전극 물질을 이용하여 상기 시트 전극을 형성하는 단계와, 상기 제1커버시트에 대응되는 형상으로 형성되고 개방홀이 관통 형성되는 제2커버시트를 마련하는 단계와, 상기 제1커버시트 및 제2커버시트가 상기 시트 전극을 밀착하여 덮도록 상기 제2커버시트의 하면 및 상기 제1커버시트의 상면이 일체가 되도록 접합되는 단계를 가지며,
상기 시트 전극은 상기 전극 물질이 상기 제1커버시트의 상면에 스크린 인쇄 방법으로 형성되고,
상기 제1커버시트 및 제2커버시트가 상기 시트 전극을 밀착하여 덮도록 상기 제2커버시트의 하면 및 상기 제1커버시트의 상면이 일체가 되도록 접합되는 단계에서, 상기 커버부는, 열간 프레싱 공정에 의해 열간 압축되어 상기 제1 커버시트와 상기 제2 커버시트는 가접착되도록 마련되고, 가접착된 상기 제1 커버시트와 상기 제2 커버시트는 진공 포장된 상태에서 온 등방압 프레스 공정에 의해 완전 접착되어 일체화되도록 마련됨으로써, 상기 제1 커버시트와 제2 커버시트 사이의 경계면에 기포가 형성되는 것을 방지하고, 상기 시트 전극의 하면이 상기 제2 커버시트의 상면에 밀착되어 플라즈마 손실이 발생하는 것을 방지하도록 마련되며,
상기 b) 단계는 상기 개방홀로 은 재질의 중간부재를 삽입하여 상기 중간부재가 상기 시트 전극의 상면에 위치되도록 하는 단계와, 상기 개방홀로 상기 터미널을 삽입하는 단계와, 상기 중간부재를 용융시켜 용융된 후 경화된 상기 중간부재에 의해 상기 터미널 및 상기 시트 전극이 전기적으로 연결되도록 결합하는 단계를 포함하며,
상기 b) 단계에서, 상기 시트 전극과 상기 터미널이 견고하게 결합되도록 하기 위해, 상기 중간부재는 상기 개방홀과 대응되는 형상으로 형성되고, 상기 터미널은 상기 개방홀에 삽입된 상태로 상기 시트 전극과 결합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치용 전극의 제조방법.a) providing a cover portion to cover and seal the sheet electrode as a whole; And
and b) a terminal electrically connected to the sheet electrode so as to apply power to the sheet electrode in an opening formed in one surface of the cover unit so that a part of the sheet electrode is exposed,
The method of claim 1, wherein the step a) includes the steps of: providing a first cover sheet; forming the sheet electrode using an electrode material on an upper surface of the first cover sheet; A step of providing a second cover sheet having a hole formed therethrough; and a step of forming a lower surface of the second cover sheet and an upper surface of the first cover sheet so that the first cover sheet and the second cover sheet closely cover the sheet electrode And a step of joining them together,
Wherein the electrode material is formed on the upper surface of the first cover sheet by a screen printing method,
In the step of bonding the lower surface of the second cover sheet and the upper surface of the first cover sheet so that the first cover sheet and the second cover sheet closely contact and cover the sheet electrode, And the first cover sheet and the second cover sheet are adhered to each other, and the first cover sheet and the second cover sheet, to which the first cover sheet and the second cover sheet are adhered, are subjected to an isostatic pressing process Bubbles are prevented from being formed on the interface between the first cover sheet and the second cover sheet and the lower surface of the sheet electrode is brought into close contact with the upper surface of the second cover sheet to generate a plasma loss And,
The step b) includes the steps of: inserting an intermediate member made of a material into the open hole so that the intermediate member is positioned on the upper surface of the sheet electrode; inserting the terminal into the open hole; And bonding the terminal and the sheet electrode to be electrically connected by the intermediate member after curing,
In the step b), in order to firmly couple the sheet electrode and the terminal, the intermediate member is formed in a shape corresponding to the opening hole, and the terminal is inserted into the opening hole, Wherein the first electrode and the second electrode are bonded to each other. 제3항에 있어서,
상기 제1커버시트 및 상기 제2커버시트는 중합체(polymer) 및 세라믹 파우더를 포함하는 슬러리가 캐리어 필름 상에 테이프 캐스팅 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치용 전극의 제조방법.The method of claim 3,
Wherein the first cover sheet and the second cover sheet are formed by a tape casting method on a carrier film, the slurry including a polymer and a ceramic powder. 삭제delete
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