KR101829779B1 - 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법 - Google Patents

컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101829779B1
KR101829779B1 KR1020110091020A KR20110091020A KR101829779B1 KR 101829779 B1 KR101829779 B1 KR 101829779B1 KR 1020110091020 A KR1020110091020 A KR 1020110091020A KR 20110091020 A KR20110091020 A KR 20110091020A KR 101829779 B1 KR101829779 B1 KR 101829779B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
binder resin
photoresist
siloxane
colorant
based material
Prior art date
Application number
KR1020110091020A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130027677A (ko
Inventor
곽창훈
허철
이명진
강민정
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110091020A priority Critical patent/KR101829779B1/ko
Priority to US13/430,542 priority patent/US8871426B2/en
Publication of KR20130027677A publication Critical patent/KR20130027677A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101829779B1 publication Critical patent/KR101829779B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • G03F7/0758—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds with silicon- containing groups in the side chains
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)

Abstract

포토 레지스트 조성물을 제공한다. 본 발명의 한 실시예에 따른 포토 레지스트 조성물은 a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머 및 e) 용매를 포함하고, 상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있다.

Description

컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법{PHOTORESIST COMPOSITION FOR COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER}
본 발명은 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법에 관한 것이다.
컬러 필터를 형성하는 방법은 여러 가지가 있고, 그 중에서 컬러 필터용 포토 레지스트를 기판 위에 도포한 후에 경화시키는 방법이 있다.
일반적으로 포토 레지스트를 경화하는 방법은 포토 레지스트에 포함된 물질 가운데 일부인 바인더 수지 및 다관능성 모노머를 광경화한 이후에 230도 이상의 고온에서 열경화를 진행한다. 하지만, 염료를 포함한 착색제는 안료 대비하여 내열성이 취약하고, 최근 개발되고 있는 플렉서블 디스플레이(Flexible Display)에 사용되는 기판은 열에 의해 그 모양이 변형되기 때문에 고온으로 열경화하는 것은 문제가 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 저온 경화 가능한 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 한 실시예에 다른 포토 레지스트 조성물은 a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머 및 e) 용매를 포함하고, 상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있다.
상기 실록산계 물질은 하기 화학식 1로 표현될 수 있다.
Figure 112011070186918-pat00001
[화학식 1]
R1, R2, R3는 각각 독립적으로 수소(H), NO2, OH, 알킬기이다.
상기 착색제는 염료 기반의 물질을 포함할 수 있다.
상기 염료 기반의 착색제는 상기 바인더 수지에 결합될 수 있다.
상기 광중합성 모노머에 실록산계 물질이 결합될 수 있다.
상기 염료 기반의 착색제는 하기 화학식 A 내지 화학식 K로 표현되는 화합물 중 하나일 수 있다.
Figure 112011070186918-pat00002
[화학식 A]
Figure 112011070186918-pat00003
[화학식 B]
Figure 112011070186918-pat00004
[화학식 C]
Figure 112011070186918-pat00005
[화학식 D]
Figure 112011070186918-pat00006
[화학식 E]
Figure 112011070186918-pat00007
[화학식 F]
Figure 112011070186918-pat00008
[화학식 G]
Figure 112011070186918-pat00009
[화학식 H]
Figure 112011070186918-pat00010
[화학식 I]
Figure 112011070186918-pat00011
[화학식 J]
Figure 112011070186918-pat00012
[화학식 K]
여기서, R', R'', R''', R''''는 각각 독립적으로 알킬기(alkyl group), 나이트로기(nitro group), 카보닐기(carbonyl group), 아조기(azo group), -C=C-, -C=N-, -C=S-, -N=O-, -OH, -NH2 및 -COOH 중 적어도 하나를 포함한다.
상기 실록산계 물질이 결합되어 있는 상기 바인더 수지는 200도 이하의 온도에서 경화될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러 필터 형성 방법은 컬러 필터용 포토 레지스트를 형성하는 단계, 상기 포토 레지스트를 기판 위에 도포하는 단계, 상기 포토 레지스트를 노광하는 단계 그리고 상기 포토 레지스트를 열경화하는 단계를 포함하고, 상기 포토 레지스트는 a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머 및 e) 용매를 포함하고, 상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있다.
상기 포토 레지스트를 열경화하는 단계는 200도 이하의 온도에서 수행할 수 있다.
상기 착색제는 염료 기반의 물질을 포함할 수 있다.
상기 포토 레지스트를 형성하는 단계는 상기 염료 기반의 착색제와 상기 바인더 수지의 단량체를 화학 결합하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 포토 레지스트를 형성하는 단계는 상기 광중합성 모노머에 실록산계 물질을 화학 결합하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 포토 레지스트를 형성하는 단계는 상기 바인더 수지의 단량체에 상기 실록산계 물질을 화학 결합하는 단계를 포함할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 한 실시예에 따르면, 경화 시스템에 관여하는 바인더 수지와 광중합성 모노머에 반응성이 강한 작용기를 포함하는 실록산계 물질을 결합함으로써 컬러 필터용 포토 레지스트를 저온에서 경화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 바인더 수지를 나타내는 구조식이다.
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 바인더 수지의 형성 단계를 나타내는 구조식이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광중합성 모노머를 나타내는 구조식이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광중합성 모노머의 형성 단계를 나타내는 구조식이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 컬러 필터 형성방법을 나타내는 순서도이다.
첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한, 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 층이 개재될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미한다.
본 실시예에 따른 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물은 a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머, 및 e) 용매를 포함하고, 상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 포함된다. 실록산계 물질이 갖는 반응성이 큰 -OH, -OR 그룹에 의해 상기 바인더 수지가 저온에서 경화가 잘 이루어지도록 함으로써 염료를 기반으로 한 포토 레지스트를 저온 경화하여 착색제의 고유 특성을 유지할 수 있도록 한다.
염료를 포함하는 착색제는 안료 대비하여 내열성이 약하여 고온에서 쉽게 물성이 파괴되기 때문에 염료 자체의 고유 특성이 저하될 수 있다. 또한, 최근 개발되고 있는 플렉서블 디스플레이(Flexible Display)에 사용되는 기판은 열에 의해 그 모양이 변형되는 문제가 있다. 하지만, 본 실시예에 따른 포토 레지스트 조성물을 사용하여 컬러 필터를 형성하는 경우는 저온에서 경화가 일어나기 때문에 상기와 같은 문제가 해결된다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 바인더 수지를 나타내는 구조식이다. 도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 바인더 수지의 형성 단계를 나타내는 구조식이다.
본 실시예에서 실록산계 물질은 하기 화학식 1과 같이 표현된다.
Figure 112011070186918-pat00013
[화학식 1]
상기 화학식 1에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 수소(H), NO2, OH, 알킬기 등 일 수 있다.
본 실시예에 따른 바인더 수지를 설명하면, 포토 레지스트 조성물에 포함된 바인더 수지는 도 1에 표기한 A와 같은 염료 물질과 B와 같은 실록산계 물질이 결합될 수 있다. 도 2를 참고하면, 포토 레지스트를 경화하기 이전에 바인더 수지를 준비하는 과정에서는 바인더 수지의 기본 단위인 단량체와 염료 물질 또는 바인더 수지의 기본 단위인 단량체와 실록산계 물질를 각각 화학 반응을 통해 결합하여 염료 물질 또는 실록산계 물질을 포함하는 단량체를 형성할 수 있다. 그리고, 바인더 수지의 기본 단위인 단량체들과 상기 염료 물질이 결합된 단량체 및 실록산계 물질이 화학 결합된 단량체를 공중합시켜 염료 또는 실록산계 물질이 결합된 바인더 수지를 형성할 수 있다.
본 실시예에서 바인더 수지에 직접 염료가 결합되어 있는 이유는 염료 자체가 독립된 상태에 있게 되면 열에 의해 그 결합 상태가 쉽게 파괴되기 때문에 색특성이 나타나지 않을 수 있기 때문이다.
도 1에 나타낸 바인더 수지에서 A 위치에 결합될 수 있는 염료는 하기 화학식 A 내지 화학식 K로 표현되는 화합물 중 하나일 수 있다. 하기 화학식 A 내지 화학식 K에서 R', R'', R''', R''''는 각각 독립적으로 알킬기(alkyl group), 나이트로기(nitro group), 카보닐기(carbonyl group), 아조기(azo group), -C=C-, -C=N-, -C=S-, -N=O-, -OH, -NH2 및 -COOH 중 적어도 하나를 포함한다.
Figure 112011070186918-pat00014
[화학식 A]
Figure 112011070186918-pat00015
[화학식 B]
Figure 112011070186918-pat00016
[화학식 C]
Figure 112011070186918-pat00017
[화학식 D]
Figure 112011070186918-pat00018
[화학식 E]
Figure 112011070186918-pat00019
[화학식 F]
Figure 112011070186918-pat00020
[화학식 G]
Figure 112011070186918-pat00021
[화학식 H]
Figure 112011070186918-pat00022
[화학식 I]
Figure 112011070186918-pat00023
[화학식 J]
Figure 112011070186918-pat00024
[화학식 K]
여기서, R', R'', R''', R''''는 각각 독립적으로 알킬기(alkyl group), 나이트로기(nitro group), 카보닐기(carbonyl group), 아조기(azo group), -C=C-, -C=N-, -C=S-, -N=O-, -OH, -NH2 및 -COOH 중 적어도 하나를 포함한다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광중합성 모노머를 나타내는 구조식이다. 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광중합성 모노머의 형성 단계를 나타내는 구조식이다.
본 발명의 다른 실시예에서 광중합성 모노머는 도 3에서 나타낸 바와 같이 실록산계 물질이 결합될 수 있다. 여기서, 광중합성 모노머는 다관능성 모노머이고, 광경화 또는 열경화가 진행되어 포토 레지스트의 잔막을 형성하는 역할을 한다.
도 4를 참고하면, 포토 레지스트를 경화하기 이전에 포토 레지스트를 준비하는 과정에서 광중합성 모노머와 실록산계 물질을 화학 결합시킨다.
앞에서와 같이 바인더 수지와 광중합성 모노머에 실록산계 물질이 결합되어 있으면 반응성이 높은 - OH 및 - OR 그룹 간에 저온 열경화가 쉽게 일어날 수 있다.
본 실시예에 따른 착색제는 안료 기반의 착색제, 염료 기반의 착색제 또는 안료와 염료가 혼합된 하이브리드 기반의 착색제에 적용되나, 특히 내열성이 약한 염료 기반의 착색제에 적용될 때 그 효과가 크다.
포토 레지스트 조성물을 노광한 후에 열경화를 진행하는데 노광에 의해 바인더 수지와 광중합성 모노머에 포함된 이중 결합들이 크로스 링크된다. 바인더 수지와 광중합성 모노머 모두가 노광에 따른 빛에 반응하지만, 완전히 경화되지 않고 남은 상태에 있기 때문에 열경화가 진행되어 최종적인 포토 레지스트의 경화가 이루어진다. 이 때, 비인더 수지는 현상성에 영향을 미치고, 잔막 형성에도 어느 정도 영향을 미친다.
실험예 1
바인더 수지에 실록산계 물질을 결합하고, 염료형 착색제, 개시제, 광중합성 모노머, 용매를 포함하는 포토 레지스트 조성물을 기판 위에 도포한 후에 일정 시간 간격으로 온도에 따라 경도를 측정해 보았다. 그 결과, 하기 표 1과 같은 결과가 나타났다.
구분 190℃ 210℃ 230℃
1분 5분 10분 5분 10분 5분 10분
경도 3H 5H 6H 6H 6H 6H 6H
상기 표 1을 살펴 보면, 열경화 조건이 190℃ 이상, 5분 이상이면 5H 이상의 경도가 나타나는 것으로 확인되었다. 즉, 본 실시예에 따른 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물을 사용하면 대략 200℃ 이하의 온도에서도 경화가 가능한 것을 알 수 있다.
실험예 2
실록산계 물질이 결합된 바인더 수지, 실록산계 물질이 결합된 다관능성 모노머, 개시제, 용매를 포함하는 포토 레지스트 조성물을 사용하여 녹색 색필터를 형성한 후에 랩 스케일(Lab-scale)로 색좌표 값을 측정하였다.
하기 표 2에서 비교예는 기존대로 실록산계 물질이 결합되지 않은 바인더 수지, 모노머, 착색제 등을 포함한 포토 레지스트 조성물을 230℃에서 경화한 것이고, 실시예는 앞에서 설명한 바와 같이 실록산계 물질이 결합된 바인더 수지 또는 실록산계 물질이 결합된 착색제를 포함하는 포토 레지스트 조성물을 200℃에서 경화한 것을 나타낸다.
GY값 Gx값 Gy값
비교예 61.19 0.2882 0.5758
63.06 0.2912 0.5659
64.39 0.2935 0.5586
평균값 62.65 0.2906 0.5680
실시예 63.89 0.2860 0.5726
65.84 0.2898 0.5627
67.62 0.2936 0.5520
평균값 65.14 0.2885 0.5660
RGB 색필터의 경우에는 녹색 색필터가 전체 휘도의 60%이상을 차지하기 때문에 녹색 색필터를 기준으로 측정하였다. 분광기를 통해 측정한 Gx값과 Gy값은 색의 채도를 나타내는 것으로 얼마나 진한지를 나타내는 수치이고, GY값은 휘도를 나타내는 수치이다.
표 2를 살펴본 때, 비교예와 실시예의 채도에는 큰 차이가 없으나, 실시예의 휘도를 나타내는 GY값이 62.65에서 65.14로 대략 3.97% 향상되었다.
이하에서는 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물을 사용하여 컬러 필터를 형성하는 방법에 대해 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 컬러 필터 형성방법을 나타내는 순서도이다.
도 5를 참고하면, 우선 컬러 필터용 포토 레지스트를 형성한다(S1).
본 실시예에 따른 포토 레지스트는 a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머 및 e) 용매를 포함하고, 상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있다.
상기 착색제는 염료 기반의 물질을 포함하고, 상기 염료 기반의 착색제는 상기 바인더 수지에 결합될 수 있다.
본 실시예에서 실록산계 물질은 하기 화학식 1과 같이 표현될 수 있다.
Figure 112011070186918-pat00025
[화학식 1]
상기 화학식 1에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 수소(H), NO2, OH, 알킬기 등 일 수 있다.
포토 레지스트를 형성하는 단계는 염료 기반의 착색제와 실록산계 물질을 각각 바인더 수지의 기본 단위인 단량체와 화학 결합하는 단계를 포함한다. 이후, 또 다른 바인더 수지의 기본 단위인 단량체들과 염료 물질이 결합된 단량체 및 실록산계 물질이 화학 결합된 단량체를 공중합시켜 염료 또는 실록산계 물질이 결합된 바인더 수지를 형성하는 단계를 포함한다.
추가로, 포토 레지스트를 형성하는 단계는 광중합성 모노머와 실록산계 물질을 화학 결합하는 단계를 포함한다.
그 다음, 포토 레지스트를 기판 위에 도포한다(S2).
그 다음, 포토 레지스트를 노광한다(S3).
포토 레지스트를 노광하면, 바인더 수지와 광중합성 모노머에 포함된 이중 결합들이 크로스 링크된다. 바인더 수지와 광중합성 모노머 모두가 노광에 따른 빛에 반응하지만, 완전히 경화되지 않고 남은 상태에 있기 때문에 추후 열경화가 진행되어 최종적인 포토 레지스트의 경화가 이루어진다.
그 다음, 포토 레지스트를 열경화한다(S4).
포토 레지스트를 열경화하는 단계는 대략 200도 이하의 온도에서 수행할 수 있다. 착색제로 염료 기반의 물질을 사용하기 위해서는 염료의 내열성을 고려할 때, 220도 이하 또는 200도 이하의 온도로 수행할 필요가 있다.
앞에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있는 형태 또는 염료가 달려있는 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합된 형태의 특정한 형태의 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물이다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

Claims (14)

  1. a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머 및 e) 용매를 포함하고,
    상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있으며,
    상기 착색제는 하기 화학식 C, E, F, G, H, 및 I 로 표현되는 화합물 중 하나인 포토 레지스트 조성물:
    Figure 112017066210861-pat00054
    [화학식 C]
    Figure 112017066210861-pat00055
    [화학식 E]
    Figure 112017066210861-pat00056
    [화학식 F]
    Figure 112017066210861-pat00057
    [화학식 G]
    Figure 112017066210861-pat00058
    [화학식 H]
    Figure 112017066210861-pat00059
    [화학식 I]
    (R', R'', R''', R''''는 각각 독립적으로 알킬기(alkyl group), 나이트로기(nitro group), 카보닐기(carbonyl group), 아조기(azo group), -C=C-, -C=N-, -C=S-, -N=O-, -OH, -NH2 및 -COOH 중 적어도 하나를 포함한다).
  2. 제1항에서,
    상기 실록산계 물질은 하기 화학식 1로 표현되는 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물:
    Figure 112011070186918-pat00026
    [화학식 1]
    (R1, R2, R3는 각각 독립적으로 수소(H), NO2, OH, 알킬기이다).
  3. 제2항에서,
    상기 착색제는 염료 기반의 물질인 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물.
  4. 제3항에서,
    상기 염료 기반의 착색제는 상기 바인더 수지에 결합되어 있는 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물.
  5. 제4항에서,
    상기 광중합성 모노머에 실록산계 물질이 결합되어 있는 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 컬러 필터용 포토 레지스트를 형성하는 단계,
    상기 포토 레지스트를 기판 위에 도포하는 단계,
    상기 포토 레지스트를 노광하는 단계 그리고
    상기 포토 레지스트를 열경화하는 단계를 포함하고,
    상기 포토 레지스트는 a) 착색제, b) 바인더 수지, c) 광중합 개시제, d) 광중합성 모노머 및 e) 용매를 포함하고, 상기 바인더 수지에 실록산계 물질이 결합되어 있고,
    상기 착색제는 하기 화학식 C, E, F, G, H, 및 I 로 표현되는 화합물 중 하나인 컬러 필터 형성 방법:
    Figure 112017066210861-pat00060
    [화학식 C]
    Figure 112017066210861-pat00061
    [화학식 E]
    Figure 112017066210861-pat00062
    [화학식 F]
    Figure 112017066210861-pat00063
    [화학식 G]
    Figure 112017066210861-pat00064
    [화학식 H]
    Figure 112017066210861-pat00065
    [화학식 I]
    (R', R'', R''', R''''는 각각 독립적으로 알킬기(alkyl group), 나이트로기(nitro group), 카보닐기(carbonyl group), 아조기(azo group), -C=C-, -C=N-, -C=S-, -N=O-, -OH, -NH2 및 -COOH 중 적어도 하나를 포함한다).
  9. 삭제
  10. 제8항에서,
    상기 착색제는 염료 기반의 물질인 컬러 필터 형성 방법.
  11. 제10항에서,
    상기 포토 레지스트를 형성하는 단계는 상기 염료 기반의 착색제와 상기 바인더 수지의 단량체를 화학 결합하는 단계를 포함하는 컬러 필터 형성 방법.
  12. 삭제
  13. 제8항에서,
    상기 포토 레지스트를 형성하는 단계는 상기 광중합성 모노머에 실록산계 물질을 화학 결합하는 단계를 포함하는 컬러 필터 형성 방법.
  14. 제8항에서,
    상기 포토 레지스트를 형성하는 단계는 상기 바인더 수지의 단량체에 상기 실록산계 물질을 화학 결합하는 단계를 포함하는 컬러 필터 형성 방법.
KR1020110091020A 2011-09-08 2011-09-08 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법 KR101829779B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110091020A KR101829779B1 (ko) 2011-09-08 2011-09-08 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법
US13/430,542 US8871426B2 (en) 2011-09-08 2012-03-26 Photoresist composition for color filter and method for forming color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110091020A KR101829779B1 (ko) 2011-09-08 2011-09-08 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130027677A KR20130027677A (ko) 2013-03-18
KR101829779B1 true KR101829779B1 (ko) 2018-02-20

Family

ID=47830127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110091020A KR101829779B1 (ko) 2011-09-08 2011-09-08 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8871426B2 (ko)
KR (1) KR101829779B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6292388B2 (ja) * 2014-03-24 2018-03-14 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JPWO2016175262A1 (ja) * 2015-04-28 2018-02-15 国立大学法人九州大学 光学フィルタ部材を生産する方法、光学フィルタ部材及び光測定装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047016A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルター及びその製造方法
JP2011022237A (ja) * 2009-07-14 2011-02-03 Toppan Printing Co Ltd 青色感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ並びにカラー表示装置
JP2011213925A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujifilm Corp 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03215943A (ja) 1990-01-19 1991-09-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
DE69841945D1 (de) * 1997-08-08 2010-11-25 Dainippon Printing Co Ltd Struktur zur Musterbildung, Verfahren zur Musterbildung und deren Anwendung
US5948849A (en) 1997-08-18 1999-09-07 Therma-Tru Corporation Weatherable coating for stained composite thermoset or thermoplastic surface plastic building products
JPH11106661A (ja) 1997-10-02 1999-04-20 Toshiba Silicone Co Ltd 接着性ポリオルガノシロキサン組成物
JPH11228825A (ja) 1998-02-19 1999-08-24 Nippon Steel Chem Co Ltd シロキサン変性ポリイミド系樹脂溶液組成物及びその硬化物
US7445848B2 (en) 2000-06-23 2008-11-04 Akzo Nobel Coatings Internationals B.V. Ambient temperature curing coating composition
JP4117873B2 (ja) * 2002-02-05 2008-07-16 東京応化工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物
KR20050074471A (ko) 2002-10-04 2005-07-18 헨켈 코포레이션 복합 물질을 위한 실온 경화성 수계 이형제
JP4915400B2 (ja) 2002-12-16 2012-04-11 宇部興産株式会社 電子部品の実装方法
FR2852491B1 (fr) 2003-03-19 2005-12-30 Buyer De Moule souple a circulation d'air
US7611998B2 (en) 2004-06-16 2009-11-03 Bluestar Silicones France Sas Enhanced elastomer coated, protective barrier fabric and process for producing same
US7459515B2 (en) 2004-09-15 2008-12-02 Ppg Industries Ohio, Inc. Fast-curing modified siloxane compositions
JP2007132892A (ja) 2005-11-14 2007-05-31 Advantest Corp 半導体試験装置及びパフォーマンスボード
KR100955570B1 (ko) 2006-09-18 2010-04-30 주식회사 엘지화학 저온 경화형 보호막 형성용 조성물, 이로부터 제조되는보호막, 및 이를 포함하는 기재
KR101285060B1 (ko) 2007-01-18 2013-07-10 주식회사 엘지화학 저온 경화형 고굴절막 형성용 조성물, 이로부터 제조되는고굴절막, 및 이를 포함하는 기재
JP2008208342A (ja) 2007-01-31 2008-09-11 Toray Ind Inc 樹脂組成物、硬化膜、および硬化膜を有するカラーフィルタ
JP2008197545A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Kaneka Corp 絶縁被膜を有するフレキシブルプリント配線板
KR101445878B1 (ko) 2008-04-04 2014-09-29 삼성전자주식회사 보호 필름 및 이를 포함하는 봉지 재료
JP5179972B2 (ja) 2008-06-27 2013-04-10 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性ポリオルガノシロキサン組成物、ポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法
JP5861101B2 (ja) 2009-02-24 2016-02-16 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 塗装品
JP5619383B2 (ja) 2009-07-10 2014-11-05 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 有機発光素子封止用組成物および有機発光装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047016A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルター及びその製造方法
JP2011022237A (ja) * 2009-07-14 2011-02-03 Toppan Printing Co Ltd 青色感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ並びにカラー表示装置
JP2011213925A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujifilm Corp 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20130065167A1 (en) 2013-03-14
US8871426B2 (en) 2014-10-28
KR20130027677A (ko) 2013-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106461831B (zh) 近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、固体摄像元件、照相机模块
CN105143354B (zh) 色材、色材分散液、彩色滤光片用着色树脂组合物、彩色滤光片、液晶显示装置及有机发光显示装置
KR102202279B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물
US9291894B2 (en) Colored photosensitive resin composition and colored filter and display device containing such composition
JP6925807B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これから製造された膜、及び、該膜を含む有機発光表示装置
KR20180036218A (ko) 착색제, 이를 포함하는 착색 수지 조성물 및 컬러필터
KR101829779B1 (ko) 컬러 필터용 포토 레지스트 조성물 및 컬러 필터 형성 방법
TW201522477A (zh) 非水系分散劑、彩色濾光片用色料分散液、彩色濾光片、液晶顯示裝置及有機發光顯示裝置
KR101895911B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러 필터
JP2010243960A (ja) 高い耐熱性と透過性とコントラストをもつカラーフィルタを製造するための着色材組成物
CN111417875A (zh) 色彩校正构件及使用色彩校正构件的光学膜
CN108073040A (zh) 着色感光性树脂组合物、利用其制造的滤色器和图像显示装置
KR102498590B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 표시장치
TWI381245B (zh) 紫外線固化液態預聚合物、利用紫外線固化液態預聚合物之液晶顯示裝置及其製作方法
CN105229497A (zh) 近红外线吸收性组合物、使用其的近红外线截止滤波器及其制造方法以及照相机模块
JP2003005362A (ja) 高透過青染料を用いた青色レジスト組成物及びカラ−フィルター
KR102157142B1 (ko) 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스 및/또는 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
KR101385175B1 (ko) 컬러필터 제조용 알릴 화합물 및 이를 포함하는 잉크 조성물
TWI733193B (zh) 具有濾光快速變色及還原之鏡片組成物及其製造方法
KR102028483B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치
KR20150076652A (ko) 감광성 녹색 수지 조성물, 이를 포함하는 감광재, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시소자
CN108178805A (zh) Uv固化聚合物及其制备方法、低温固化光阻
JPS59218770A (ja) 色分解フイルタ−の貼り合わせ方法
JP2003005361A (ja) 高透過赤染料を用いた赤色レジスト組成物及びカラ−フィルター
KR101759234B1 (ko) 색필터 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant