KR101827725B1 - 탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취 조성물 - Google Patents

탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취 조성물을 제공한다.

Description

탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취 조성물{AN DEODOREANT COMPOSITION COMPRISING CARBON GROUP NON-OXIDE NANOPARTICLES}
본 발명은 탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취 조성물에 관한 것이다.
악취를 제거하는 방법으로는 전통적으로 화학적 제거방법, 물리 화학적 제거 방법, 생물 화학적 제거방법, 감각적 탈취방법과 같은 방법들이 있다.
화학적 제거방법은 중화, 부가, 중합, 산화, 환원, 가수분해 등의 화학반응을 이용하여 악취성분에 강한 반응성의 물질을 작용시켜 악취 물질을 분해 또는 무취성 화합물로 변화시키는 방법으로서 냄새물질을 근원적으로 제거하는 방법이다.
물리 화학적 제거방법은 활성탄이나 실리카, 사이클로 덱스트린 등의 흡착 및 포집능이 강한 화합물로서 악취성분을 표면에 흡착 또는 포집시키거나, 고비점의 용제, 계면활성제 등에 의한 흡수, 유동 파라핀, 고급 알코올, 합성수지 등을 이용하여 피복시킴으로서 냄새물질을 제거하는 방법이다.
생물 화학적 제거방법은 양이온 계면 활성제, 살균제 등에 의한 살균작용으로 세균에 의한 악취성분의 발생을 차단하거나, 소화 효소, 세균, 효모 등을 이용하여 악취 성분인 유기산을 분해하여 악취를 제거하는 방법이다.
감각적 탈취방법은 대상 악취성분에 대해 방향성의 향료를 사용하여 감각적인 중화나 냄새를 상쇄시켜주는 냄새로 마스킹(masking)에 의한 제거방법이다.
살균/항균의 목적으로 다양한 물질들이 이용되고 있으며, 무기계 착화합물은 인체에 무해하면서 세균을 비롯한 균류 및 바이러스를 살균하는 탁월한 살균능력이 있는 것으로 알려져 있다. 다만, 무기계 착화합물의 우수한 효과에도 불구하고 이는 자외선이나 태양광이 있어야 작용함으로써 자외선이나 태양광이 없는 곳에서는 작용하지 못하는 단점이 있다.
효과적으로 악취를 제거하기 위해서는 상기의 악취 발생원인 제거, 악취 마스킹 및 악취 유발물질 제거가 효율적으로 동시에 이루어지는 것이 요구되고 있으며, 이를 위해서는 상기 효과를 달성할 수 있는 성분을 제공하면서 그 성분이 안정적으로 존재하면서 그 기능을 발휘할 수 있는 방법이 요구되고 있다.
본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 소취 성능이 우수하고 제조공정이 간소하여 경제적으로 유리한 소취 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면은, 하기 화학식 1로 표시되는 탄소족 비산화물 나노입자, 하기 화학식 2로 표시되는 탄소족 비산화물 나노입자, 실리콘 나노입자 및 게르마늄 나노입자로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 나노입자를 포함하고, 상기 나노입자의 평균 입도가 5~400nm인 소취 조성물을 제공한다.
<화학식 1>
AxBy
상기 화학식 1에서, A, B는 각각 붕소, 탄소, 규소 및 게르마늄 중 하나이고, A, B는 상이하고, x, y는 각각 A, B의 몰 분율이고, x+y=1이다.
<화학식 2>
AxByCz
상기 화학식 2에서, A, B, C는 각각 붕소, 탄소, 규소 및 게르마늄 중 하나이고, A, B, C는 상이하고, x, y, z는 각각 A, B, C의 몰 분율이고, x+y+z=1이다.
본 명세서에 사용된 용어, "탄소족 비산화물 나노입자"는 C, Si, Ge 중 적어도 하나의 탄소족(14족) 원소를 포함하는 입자를 의미이며, 이종의 탄소족 원소가합금되거나 적어도 하나의 탄소족 원소에 붕소(B)가 합금된 입자를 포함하는 개념으로 이해될 수 있다.
본 명세서에 사용된 용어, "비산화물 나노입자"는 실질적으로 산소 원소(O)를 포함하지 않는 입자를 의미하며, 자연적으로 발생한 산화반응에 의해 비산화물나노입자의 표면에 생성된 산화물 층(oxide layer)을 포함하는 개념으로 이해될 수있다.
상기 소취 조성물에서 상기 나노입자는 1~1,000ppm의 농도로 희석된 용액의형태로 포함될 수 있다.
예를 들어, 상기 탄소족 비산화물 나노입자 중 실리콘나노입자, 실리콘-탄소 합금 나노입자, 실리콘-붕소 합금 나노입자, 실리콘-게르마늄 합금 나노입자, 실리콘-게르마늄-붕소 합금 나노입자, 실리콘-게르마늄-탄소 합금 나노입자, 게르마늄 나노입자, 게르마늄-붕소 합금 나노입자, 게르마늄-탄소 합금 나노입자, 탄소-붕소 합금 나노입자는 우수한 소취 성능을 가진다. 이 외에도항균/살균기능, 공기정화기능을 발휘할 수 있으며, 인체에 무해하여 다양한 분야에응용되고 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 소취 조성물 중 상기 나노입자의 함량은 1~50,000ppm 일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 소취 조성물은 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 바인더 수지는 저밀도폴리에틸렌, 고밀도폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리아마이드, 폴리에스테르, 폴리비닐알콜, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 폴리우레탄, 폴리우레아, 실리콘 수지, 에폭시 수지 및 이들 중 1 이상의 물질로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다.
상기 폴리우레탄은 폴리올 및 (폴리)이소시아네이트를 전구물질로 하여 합성될 수 있으며, 이 때, 폴리올은 폴리카보네이트계, 폴리에스테르계, 폴리아크릴레이트계, 폴리알킬렌계 및 이들 중 1 이상의 물질로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다. 상기 폴리올의 중량평균분자량(Mw)은 50~5,000일 수 있다. 또한, 상기 폴리올은 중량평균분자량(Mw) 20~500인 저분자 가교제를 45중량% 이하로 포함할수 있다.
상기 폴리에스테르는, 방향족 디카르복실산과 지방족 글리콜을 중축합시켜얻은 폴리에스테르를 가리킨다. 대표적인 폴리에스테르로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌-2,6-나트탈렌디카르복실레이트(PEN) 등이 있다. 상기 폴리에스테르는 제 3성분을 함유한 공중합체도 가능하다. 상기 공중합 폴리에스테르의 디카르복실산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 아디프산, 세바스산, 옥시카르복실산(예를 들어, P-옥시벤조산 등)을들 수 있고, 글리콜 성분으로서 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜,부탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등을 들 수 있다. 상기 디카르복실산 성분 및 글리콜 성분은 2종 이상을 병용해도 무방하다.
일 실시예에 있어서, 상기 나노입자는 알콕시기, 하이드록실기, 아미노기 및이들 중 1 이상으로 이루어진 군에서 선택된 하나에 의해 표면 개질된 것일수 있다.
C, Si, Ge, B 중 1이상으로 이루어진 나노입자의 제조 시 육불화황(SF6)과 같은 불소계 가스의 추가 사용에 의해 구현될 수 있다. 상기 불소계 가스는 상기 나노입자의 제조 시 원료가스 및 촉매가스로 작용하여 불소 원소 및 이외의 원소로 분해될 수 있고, 이 때, 상기 불소 원소가 상기 나노입자의 표면에 결합하여 상기 나노입자의표면에서 자연적으로 발생하는 산화반응 및 그에 따른 산화막의 과도한 생성을 억제할 수 있다.
상기 나노입자는 물, 유기용매와 같은 용매 중에 분산되어 용액형 소취 조성물로 제조될 수 있고, 글리세린, 고급알콜, 방향족폴리올, 카르복실산염, 계면활성제, 하이드로겔 등에 분산되어 겔형 소취 조성물로 제조될 수 있으며, 또한 다양한 바인더 수지 중에 분산되어 수지형 소취 조성물로 제조될 수도 있다.
상기 용액형 소취 조성물은 코팅제, 디퓨져와 같은 액상방향제와 같은 제품으로 가공될 수 있다. 상기 겔형 소취조성물은 비누, 손세정제, 샴푸, 바디로션, 헤어젤, 헤어겔, 헤어스프레이 등의 제품으로 가공될 수 있다. 상기 수지형 소취 조성물은 섬유, 직물, 부직포, 필름, 시트와 같은 형태의 제품으로 가공될 수 있다. 또한, 상기 수지형 소취 조성물로부터 제조된 섬유, 부직포, 필름, 시트와 같은 기재의 표면에 상기 용액형 소취 조성물이 코팅된 형태의 제품으로 가공될 수도 있다.
본 발명의 일 측면에 따른 소취 조성물은, 탄소족 비산화물 나노입자의 입도및 함량을 일정 범위로 조절함으로써 소취 성능이 우수하고, 제조공정이 간소하여생산성, 경제성 측면에서 유리하다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는"직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를"포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
이하, 본 발명의 실시예에 관하여 상세히 설명하기로 한다.
제조예 1
실리콘 나노입자는 하기 반응식 1 중 (1) 또는 (2)에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 1>
(1) SiH4+SF6+N2→ Si (-S, -F) + H2+N2
(2) SiH4+N2→ Si + 2H2+N2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 모노실란(SiH4)100부피부, 제어가스인 질소(N2)400부피부, 및 육불화황(SF6)촉매가스 40 부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 500torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 레이저 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 산화층이 형성된 실리콘 나노입자(Si-NPs)를 제조하였다.
산화층이 형성된 실리콘 나노입자의 평균 입도는 5~400nm이고, 산화층의 두께는 0.32nm이며, 생성수율은 97.1%이다.
제조예 2
실리콘-붕소 합금 나노입자 또는 붕화규소 나노입자는 하기 반응식 2에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 2>
2SiH4+2B2H6+N2→ SiB4+8H2+N2
모노실란(SiH4),디보레인(B2H6),질소를 혼합하여 반응챔버 내부로 주입하여 CO2레이저빔을 조사시킨다. 이 때, 디보레인은 촉매가스 및 원료가스로 작용하며, 10.6㎛ 파장에서 흡수한 에너지가 효율적으로 모노실란으로 전달되고, 모노실란의 Si-H 결합이 잘 끊어지도록 하여 실리콘-붕소 합금 나노입자(SiBx-NPs)를 생성시킨다.
또한, 디보레인은 붕소와 수소 원자로 분해되어 붕소는 실리콘 나노입자와 합금을 이루며, 실리콘의 산화를 방지한다. 원료가스인 모노실란은 전체 부피(원료가스 및 촉매가스를 합친 부피)의 90%이상 이고, 촉매가스는 전체 부피의 10% 이하의 범위로 조절한다. 또한, 캐리어가스인 질소는 원료가스인 모노실란 대비 400 부피부를 넘지 않도록 한다. 가스의 유량은 sccm 단위를 사용한다. 반응챔버 내부의 공정압력은 100~400torr 범위로 설정하여 제조한다. 이 범위에서 평균 입도가 5~400nm이고, 산화층의 두께가 0.57nm인 실리콘-붕소 합금 나노입자(SiBx-NPs)가 제조된다.
제조예 3
실리콘-탄소 합금 나노입자 또는 탄화규소 나노입자는 하기 반응식 3 중 (1) 또는 (2)에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 3>
(1) 2SiH4+C2H2+SF6→ S + 2SiC + 6HF + 2H2
(2) 2SiH4+C2H2→ 2SiC + 5H2
모노실란(SiH4),아세틸렌(C2H2),질소를 혼합하여 반응챔버 내부로 주입하여 CO2레이저빔을 조사시킨다. 아세틸렌은 탄소와 수소 원자로 분해되어 탄소는 실리콘 나노입자와 합금을 이루며, 실리콘의 산화를 방지한다. 원료가스인 모노실란 및 아세틸렌은 각각 2 : 1의 부피비로 주입된다.~또한, 캐리어가스인 질소는 원료가스인 모노실란 대비 400 부피부를 넘지 않도록 한다. 가스의 유량은 sccm 단위를 사용한다.~반응챔버 내부의 공정압력은 100~500torr 범위로 설정하여 제조한다. 이 범위에서 평균 입도가 5~400nm이고, 산화층의 두께가 0.53nm인 실리콘-탄소 합금 나노입자(SiC-NPs)가 제조된다.
제조예 4
실리콘-게르마늄 합금 나노입자는 하기 반응식 4 중 (1) 또는 (2)에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 4>
(1) SiH4+GeH4+SF6→ S + SiGe + 6HF + H2
(2) SiH4+GeH4→ SiGe + 4H2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 저메인(GeH4)100부피부(원료가스 1), 모노실란(SiH4)100부피부(원료가스 2), 및 캐리어가스인 질소(N2)400부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 100~500torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 실리콘-게르마늄 합금 나노입자(SiGe-NPs)를 제조하였다. SiGe-NPs의 평균 입도는 5~400nm이고, 그 표면에 형성된 산화층의 두께는 0.47nm이다.
제조예 5
실리콘-게르마늄-붕소 합금 나노입자는 하기 반응식 5에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 5>
2SiH4+2GeH4+B2H6→ 2SiGeB + 11H2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 모노실란(SiH4)100부피부, 저메인(GeH4)100부피부, 및 디보레인(B2H6)40~80부피부와 캐리어가스인 질소(N2)400부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 80~400torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 실리콘-게르마늄-붕소 합금 나노입자(SiGeB-NPs)를 제조하였다. SiGeB-NPs의 평균 입도는 5~400nm이고, 그 표면에 형성된 산화층의 두께는 0.75nm이다.
제조예 6
실리콘-게르마늄-탄소 합금 나노입자는 하기 반응식 6에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 6>
2SiH4+2GeH4+C2H2→ 2SiGeC + 9H2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 모노실란(SiH4)100부피부, 저메인(GeH4)100부피부, 및 아세틸렌(C2H2)40~80부피부와 캐리어가스인 질소(N2)400부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 80~400torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 실리콘-게르마늄-탄소 합금 나노입자(SiGeC-NPs)를 제조하였다. SiGeC-NPs의 평균 입도는 5~400nm이고, 그 표면에 형성된 산화층의 두께는 0.68nm이다.
제조예 7
게르마늄 나노입자는 하기 반응식 7 중 (1) 또는 (2)에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 7>
(1) 2GeH4+SF6→ S + 2GeF4+2HF+3H2
(2) GeH4+N2→ 2Ge + 2H2+N2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 저메인(GeH4)100부피부, 제어가스인 수소(H2)400부피부, 및 육불화황(SF6)촉매가스 40 부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 500torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 레이저 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 산화층이 형성된 게르마늄 나노입자(Ge-NPs)를 제조하였다.
제조된 산화층이 형성된 게르마늄 나노입자의 평균 입도는 5~400nm이고, 산화층의 두께는 0.47nm이며, 생성수율은 98.7%이다.
제조예 8
게르마늄-붕소 합금 나노입자 또는 붕화게르마늄 나노입자는 하기 반응식 8에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 8>
2GeH4+2B2H6+N2→ GeB4+8H2+N2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 저메인(GeH4)100부피부, 디보레인(B2H6)40~80부피부, 및 캐리어가스인 질소(N2)400부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 100~400torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 게르마늄-붕소 합금 나노입자(GeBx-NPs)를 제조하였다. GeBx-NPs의 입도는 5~400nm이고, 그 표면에 형성된 산화층의 두께는 0.52nm이다.
제조예 9
게르마늄-탄소 합금 나노입자 또는 탄화게르마늄 나노입자는 하기 반응식 9 중 (1) 또는 (2)에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 9>
(1) 2GeH4+C2H2+SF6→ S + 2GeC + 6HF + 2H2
(2) 2GeH4+C2H2→ 2GeC + 5H2
저메인(GeH4),아세틸렌(C2H2),질소를 혼합하여 반응챔버 내부로 주입하여 CO2레이저빔을 조사시킨다. 아세틸렌은 탄소와 수소 원자로 분해되어 탄소는 실리콘 나노입자와 합금을 이루며, 실리콘의 산화를 방지한다. 원료가스인 저메인 및 아세틸렌은 각각 2 : 1의 부피비로 주입된다. 또한, 캐리어가스인 질소는 원료가스인 실란가스 대비 400 부피부를 넘지 않도록 한다. 가스의 유량은 sccm 단위를 사용한다. 반응챔버 내부의 공정압력은 100~500torr 범위로 설정하여 제조한다. 이 범위에서 평균 입도가 5~400nm이고, 산화층의 두께가 0.58nm인 게르마늄-탄소 합금 나노입자(GeC-NPs)가 제조된다.
제조예 10
탄소-붕소 합금 나노입자 또는 탄화붕소 나노입자는 하기 반응식 10에 따라 제조될 수 있다.
<반응식 10>
C2H2+4B2H6+N2→ 2B4C+13H2+N2
원료가스 공급노즐을 통해 원료가스인 아세틸렌(C2H2)100부피부, 디보레인(B2H6)400부피부, 및 캐리어가스인 질소(N2)400부피부를 혼합한 혼합가스를 내부 압력이 100~400torr인 반응챔버 내부로 공급하고, 반응챔버 내부로 공급된 혼합가스에 CO2레이저 발생기에서 발생시킨 레이저를 조사부를 통해 파장이 10.6㎛인 연속파의 라인 빔(Line Beam) 형태로 3시간 동안 조사하여 탄소-붕소 합금 나노입자(CBx-NPs)를 제조하였다. CBx-NPs의 입도는 5~400nm이고, 그 표면에 형성된 산화층의 두께는 0.46nm이다.
제조예 11
제조예 1~10에서 제조한 탄소족 나노입자 0.5g을 에탄올 9.5g에 분산시키고, 초음파를 10분 동안 조사하여 에톡시기로 표면 개질된 탄소족 나노입자를 제조하였다.
제조예 12
제조예 1~10에서 제조한 탄소족 나노입자 0.5g을 이소프로필알콜 9.5g에 분산시키고, 초음파를 10분 동안 조사하여 이소프록시기로 표면 개질된 탄소족 나노입자를 제조하였다.
제조예 13
제조예 1~10에서 제조한 탄소족 나노입자 0.5g을 글리세린 9.5g에 분산시키고,초음파를 10분 동안 조사하여 글리세린으로 표면 개질된 탄소족 나노입자를 제조하였다.
제조예 14
제조예 1~10에서 제조한 탄소족 나노입자 0.5g을 1,6-헥산디올 9.5g에 분산시키고, 초음파를 10분 동안 조사하여 1,6-헥산디올로 표면 개질된 탄소족 나노입자를 제조하였다.
실시예 1
제조예 1~10으로 제조된 탄소족 나노입자를 에탄올, 이소프로판올, 글리세린, 1,6-헥산디옥로 표면개질하는 제조예11~14에서 제조된 탄소족 비산화물 나노입자를 각각 1ppm, 5ppm, 50ppm, 100ppm, 1,000ppm, 10,000ppm, 30,000ppm, 50,000ppm의 농도로 증류수에 용해시킨 수용액 소취 조성물을 제조하여 소취 성능을 분석하였다.
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
1_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
1_3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
1_4 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
2_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
2_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
2_3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
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4_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
4_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
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5_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
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5_3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
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6_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
6_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
6_3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
6_4 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
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7_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
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8_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
8_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
8_3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
8_4 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
9_1 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
9_2 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
9_3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
9_4 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
10_1 3 20 99 99 99 99 99 99 <1
10_2 3 20 99 99 99 99 99 99 <1
10_3 3 20 99 99 99 99 99 99 <1
10_4 3 20 99 99 99 99 99 99 <1
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1_1 5 65 99 99 99 99 99 99 <1
1_2 5 65 99 99 99 99 99 99 <1
1_3 5 65 99 99 99 99 99 99 <1
1_4 5 65 99 99 99 99 99 99 <1
2_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
2_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
2_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
2_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
3_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
3_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
3_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
3_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
4_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
4_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
4_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
4_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
5_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
5_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
5_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
5_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
6_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
6_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
6_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
6_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
7_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
7_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
7_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
7_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
8_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
8_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
8_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
8_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
9_1 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
9_2 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
9_3 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
9_4 5 55 99 99 99 99 99 99 <1
10_1 5 50 99 99 99 99 99 99 <1
10_2 5 50 99 99 99 99 99 99 <1
10_3 5 50 99 99 99 99 99 99 <1
10_4 5 50 99 99 99 99 99 99 <1
상기 표 1 및 표 2은 각각 암모니아 및 아세트산에 대한 소취율 분석 결과이다.
표 1 및 표 2에서 “구분”에 기재된 “x_y”는 제조예 x에 따라 제조된 나노입자를 제조예 y에 따라 표면개질한 나노입자를 특정한다.
실시예 2
제조예 1~10에서 제조된 탄소족 비산화물 나노입자를 각각 1ppm, 5ppm, 50ppm, 100ppm, 1,000ppm, 10,000ppm, 30,000ppm, 50,000ppm의 농도로 글리세린에 초음파를 5~10분동안 조사하여 용해시킨 수용액 소취 조성물을 제조하여 소취 성능을 분석하였다.
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
2 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
3 <1 7 99 99 99 99 99 99 <1
4 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
5 <1 6 99 99 99 99 99 99 <1
6 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
7 <1 7 99 99 99 99 99 99 <1
8 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
9 <1 6 99 99 99 99 99 99 <1
10 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 15 70 99 99 99 99 99 99 <1
2 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
3 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
4 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
5 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
6 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
7 10 70 99 99 99 99 99 99 <1
8 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
9 10 70 99 99 99 99 99 99 <1
10 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
상기 표 3 및 표 4는 각각 암모니아 및 아세트산에 대한 소취율 분석 결과이다.
표 1 및 표 2에서 “구분”에 기재된 “x”는 제조예 x에 따라 제조된 나노입자를 특정한다.
실시예 3
제조예 1~10에서 제조된 탄소족 비산화물 나노입자를 각각 1ppm, 5ppm, 50ppm, 100ppm, 1,000ppm, 10,000ppm, 30,000ppm, 50,000ppm의 농도로 분산시킨 바세린 소취 조성물을 제조하여 소취 성능을 분석하였다.
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
2 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
3 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
4 <1 6 99 99 99 99 99 99 <1
5 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
6 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
7 <1 7 99 99 99 99 99 99 <1
8 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
9 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
10 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
2 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
3 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
4 15 70 99 99 99 99 99 99 <1
5 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
6 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
7 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
8 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
9 10 70 99 99 99 99 99 99 <1
10 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
상기 표 5 및 표 6은 각각 암모니아 및 아세트산에 대한 소취율 분석 결과이다.
표 5 및 표 6에서 “구분”에 기재된 “x”는 제조예 x에 따라 제조된 나노입자를 특정한다.
실시예 4
제조예 1~10에서 제조된 탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취용 조성물(디메틸실록산 87~90 중량%,나노입자 0.0001~5중량% , 및 실리콘수지경화제 10중량%)을 일정하게1mm의 두께로 기판에 도포한 후 반건조시키고, 이를 건조부의 벨트에 놓고 120~180℃ 에서 약 3~5분 간 가열하여 완전히 건조시켰다. 완전히 건조된 기판에 송풍기를 이용하여 차가운 공기를 불어주어 완전히 경화되도록 한 후 기판에서 떼어 내어 1ppm, 5ppm, 50ppm, 100ppm, 1,000ppm, 10,000ppm, 30,000ppm 및 50,000ppm 필름 타입의 소취조성물을 제조하여 소취 성능을 분석하였다.
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
2 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
3 <1 6 99 99 99 99 99 99 <1
4 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
5 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
6 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
7 <1 7 99 99 99 99 99 99 <1
8 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
9 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
10 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 5 20 99 99 99 99 99 99 <1
2 5 20 99 99 99 99 99 99 <1
3 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
4 5 20 99 99 99 99 99 99 <1
5 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
6 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
7 5 20 99 99 99 99 99 99 <1
8 5 20 99 99 99 99 99 99 <1
9 5 20 99 99 99 99 99 99 <1
10 5 25 99 99 99 99 99 99 <1
상기 표 7 및 표 8은 각각 암모니아 및 아세트산에 대한 소취율 분석 결과이다.
표 7 및 표 8에서 “구분”에 기재된 “x”는 제조예 x에 따라 제조된 나노입자를 특정한다.
실시예 5
제조예 1~10에서 제조된 탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취용 조성물 (나노입자를 HDPE와 170oC에서 2축 압출기에서 컴파운딩하여 1ppm, 5ppm, 50ppm, 100ppm, 1,000ppm, 10,000ppm, 30,000ppm 및 50,000ppm농도로 제조한 칩)을 핫프레스를 통하여 1mm 두께 250mm x 250mm 시트를 제작하여 소취조성물을 제조하여 소취 성능을 분석하였다.
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
2 <1 7 99 99 99 99 99 99 <1
3 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
4 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
5 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
6 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
7 <1 6 99 99 99 99 99 99 <1
8 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
9 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
10 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 15 70 99 99 99 99 99 99 <1
2 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
3 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
4 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
5 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
6 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
7 10 70 99 99 99 99 99 99 <1
8 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
9 10 70 99 99 99 99 99 99 <1
10 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
상기 표 9 및 표 10은 각각 암모니아 및 아세트산에 대한 소취율 분석 결과이다.
표 9 및 표 10에서 “구분”에 기재된 “x”는 제조예 x에 따라 제조된 나노입자를 특정한다.
실시예 6
제조예 1~10에서 제조된 탄소족 비산화물 나노입자를 포함하는 소취용 조성물 (나노입자를 PET와 280oC에서 2축 압출기에서 컴파운딩하여 1ppm, 5ppm, 50ppm, 100ppm, 1,000ppm, 10,000ppm, 30,000ppm 및 50,000ppm농도로 제조한 칩)을 핫프레스를 통하여 1mm 두께 250mm x 250mm 시트를 제작하여 소취조성물을 제조하여 소취 성능을 분석하였다.
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
2 <1 8 99 99 99 99 99 99 <1
3 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
4 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
5 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
6 <1 6 99 99 99 99 99 99 <1
7 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
8 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
9 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
10 <1 5 99 99 99 99 99 99 <1
구분
농도 단위 ppm(mg/kg)
비교예
1 5 50 100 1,000 10,000 30,000 50,000
1 15 70 99 99 99 99 99 99 <1
2 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
3 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
4 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
5 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
6 15 65 99 99 99 99 99 99 <1
7 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
8 10 65 99 99 99 99 99 99 <1
9 15 70 99 99 99 99 99 99 <1
10 10 60 99 99 99 99 99 99 <1
상기 표 11 및 표 12는 각각 암모니아 및 아세트산에 대한 소취율 분석 결과이다.
표 11 및 표 12에서 “구분”에 기재된 “x”는 제조예 x에 따라 제조된 나노입자를 특정한다.
실험예
암모니아, 황화수소, 아세트산 등의 악취 가스를 주입한 유리증발관을 데시케이터 아래에 놓고, 연결되어 있는 통로의 판 위에 실시예 1~5의 소취 조성물이 각각 도포된시험편(2g)과 도포되지 않은 시험편(비교제조예 2g)을 위치시킨 다음, 데시케이터를 밀봉하여 25℃에서 2시간 동안 방치하고, 유리증발관의 악취 농도를 측정하여 다음 식1에 따라 악취 농도 감소율(%)을 산출하였다.
<식 1>
악취농도 감소율(%)= {1-잔존 악취농도(ppm)/감소 전 악취농도(ppm)}*100
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 탄소족 비산화물 나노입자, 하기 화학식 2로 표시되는 탄소족 비산화물 나노입자, 실리콘 비산화물 나노입자 및 게르마늄 비산화물 나노입자로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 비산화물 나노입자를 포함하는 소취 조성물.
    <화학식 1>
    AxBy
    상기 화학식 1에서,
    A, B는 각각 붕소, 탄소, 규소 및 게르마늄 중 하나이고, A, B는 상이하고,x, y는 각각 A, B의 몰 분율이고, x+y=1이다.
    <화학식 2>
    AxByCz
    상기 화학식 2에서,
    A, B, C는 각각 붕소, 탄소, 규소 및 게르마늄 중 하나이고, A, B, C는 상이
    하고,x, y, z는 각각 A, B, C의 몰 분율이고, x+y+z=1이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 나노입자의 입도는 5~400nm인 소취 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 소취 조성물 중 상기 나노입자의 함량이 5~50,000ppm인 소취 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 소취 조성물은 바인더 수지를 더 포함하는 소취 조성물.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 저밀도폴리에틸렌, 고밀도폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리아마이드, 폴리에스테르, 폴리비닐알콜, 에틸렌-프로필렌 공중합체,폴리우레탄, 폴리우레아, 실리콘 수지, 에폭시 수지 및 이들 중 1 이상의 고분자로 이루어진 군에서 선택된 소취 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 나노입자는 알콕시기, 하이드록실기, 아미노기 및 이들 중 1 이상의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나에 의해 표면 개질된 것인 소취 조성물.
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