KR101818643B1 - Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby - Google Patents

Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby Download PDF

Info

Publication number
KR101818643B1
KR101818643B1 KR1020170133515A KR20170133515A KR101818643B1 KR 101818643 B1 KR101818643 B1 KR 101818643B1 KR 1020170133515 A KR1020170133515 A KR 1020170133515A KR 20170133515 A KR20170133515 A KR 20170133515A KR 101818643 B1 KR101818643 B1 KR 101818643B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shell
plating solution
plating
rack pin
type rack
Prior art date
Application number
KR1020170133515A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박재영
이흥렬
임태홍
이민수
김호형
Original Assignee
한국생산기술연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국생산기술연구원 filed Critical 한국생산기술연구원
Priority to KR1020170133515A priority Critical patent/KR101818643B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101818643B1 publication Critical patent/KR101818643B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1655Process features
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1635Composition of the substrate
    • C23C18/1637Composition of the substrate metallic substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • C25D17/08Supporting racks, i.e. not for suspending
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/04Tubes; Rings; Hollow bodies

Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a rack pin in which an object to be plated of components of a rack used for plating the rack is caught and, more specifically, provides a method for manufacturing a clad-type rack pin using a precision plating process, which comprises the following steps of: preparing a shell made of a stainless steel material; and forming a metal core on the internal surface of the shell through an electroplating process.

Description

정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클래드형 랙 핀{Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby}[0001] The present invention relates to a method of manufacturing a clad-type rack pin using a precision plating process and a clad-type rack pin manufactured by the method,

본 발명은 랙 핀의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 랙 핀에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 랙 도금에 사용되는 랙의 구성요소 중 피도금체가 걸리는 랙 핀의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a rack pin and a rack pin manufactured by the method, and more particularly, to a method of manufacturing a rack pin in which a member to be plated is engaged among elements of a rack used for rack plating.

일반적으로 랙 도금(Rack Plating)은 전기 도금의 한 종류로서, 피도금체가 걸린 랙을 도금액에 집어넣고 상기 랙을 통해 상기 피도금체에 전원을 인가함으로써 상기 피도금체를 도금하는 방법이다. 상기 랙 도금은 상기 피도금체를 상기 랙에 거는 단계, 침적탈지 단계, 에칭 단계, 전해탈지 단계, 도금 단계, 후처리 단계, 상기 피도금체를 상기 랙에서 내리는 단계 등을 거쳐 진행된다.Generally, rack plating is a type of electroplating, in which a rack in which a substrate to be plated is placed is put into a plating solution, and power is applied to the substrate through the rack, thereby plating the substrate. The rack plating is carried out through a step of placing the plated body on the rack, an immersion degreasing step, an etching step, an electrolytic degreasing step, a plating step, a post-processing step, and a step of lowering the plated body from the rack.

상기 랙 도금의 진행 단계 중 대부분의 단계에서 상기 피도금체는 상기 랙에 걸려 있다. 상기 랙은 상기 랙 도금 중 상기 피도금체가 상기 랙에서 떨어지지 않도록 상기 피도금체를 지지할 뿐만 아니라 정류기가 공급하는 전류를 상기 피도금체에 유효하게 전달하는 역할을 한다. 상기 랙과 관련하여, 등록실용신안 제20-0408179호 (발명의 명칭 : 전기 도금용 랙 기구, 특허문헌 1)가 개시되어 있다.In most of the steps of the rack plating, the plated body is caught in the rack. The rack not only supports the object to be plated so that the object to be plated does not fall out of the rack during the rack plating, but also serves to effectively deliver the current supplied by the rectifier to the object to be plated. Regarding the above rack, a registered utility model No. 20-0408179 (titled invention: rack mechanism for electroplating, Patent Document 1) is disclosed.

도 1은 일반적인 도금용 랙(1)을 나타내는 모식도이다. 도 1을 참조하면, 상기 도금용 랙(1)은 랙 걸이(2), 랙 프레임(3), 및 랙 핀(4)으로 구성된다. 상기 랙 걸이(2)는 랙 걸이대(미도시)에 걸리는 부분이다. 상기 랙 핀(4)에는 피도금체(미도시)가 걸린다. 그리고 상기 랙 프레임(3)은 상기 랙 걸이(2) 및 상기 랙 핀(4)을 지지한다. 전원은 상기 랙 걸이(2)에서 상기 랙 프레임(3)으로 공급된다. 그리고 상기 전원은 상기 랙 프레임(3)에서 상기 랙 핀(4) 및 상기 피도금체로 공급된다.Fig. 1 is a schematic view showing a general plating rack 1. Fig. 1, the plating rack 1 is constituted by a rack hanger 2, a rack frame 3, and a rack pin 4. The rack hanger 2 is a portion of the rack hanger (not shown). A plating object (not shown) is attached to the rack pin 4. The rack frame (3) supports the rack (2) and the rack pins (4). A power source is supplied to the rack frame (3) from the rack hanger (2). Then, the power is supplied from the rack frame (3) to the rack pin (4) and the plated body.

상기 랙 걸이(2)는 전원 접속부(21), 걸이 몸체(22), 및 상기 걸이 몸체(22) 표면에 형성된 걸이 코팅층(23)으로 구성된다. 상기 랙 프레임(3)은 프레임 몸체(31) 및 상기 프레임 몸체(31) 표면에 형성된 프레임 코팅층(32)으로 구성된다. 그리고 상기 랙 핀(4)은 핀 몸체(41), 상기 핀 몸체(41) 표면에 형성된 핀 코팅층(42), 및 피도금체 접촉부(43)로 구성된다. 상기 전원 접속부(21), 상기 걸이 몸체(22), 및 상기 프레임 몸체(31)는 일체로 형성된다. 상기 걸이 코팅층(23), 상기 프레임 코팅층(32), 및 상기 핀 코팅층(42)은 일체로 형성된다. 그리고 상기 핀 몸체(41) 및 상기 피도금체 접촉부(43)는 일체로 형성된다.The rack hanger 2 is composed of a power supply connecting portion 21, a hanger body 22 and a hanger coating layer 23 formed on the surface of the hanger body 22. The rack frame 3 is composed of a frame body 31 and a frame coating layer 32 formed on the surface of the frame body 31. The rack pin 4 includes a pin body 41, a pin coating layer 42 formed on the surface of the pin body 41, and a plated body contact portion 43. The power connection portion 21, the hook body 22, and the frame body 31 are integrally formed. The hook coating layer 23, the frame coating layer 32, and the pin coating layer 42 are integrally formed. The pin body 41 and the to-be-plated body contact portion 43 are integrally formed.

상기 전원 접속부(21), 상기 걸이 몸체(22), 및 상기 프레임 몸체(31)은 상기 전원 전달을 위해 구리(Cu) 재질로 이루어진다. 상기 걸이 코팅층(23), 상기 프레임 코팅층(32), 및 상기 핀 코팅층(42)은 절연 물질로 이루어진다. 상기 전원 접속부(21)는 상기 전원이 직접 인가되는 부분이기 때문에 상기 절연 물질로 코팅되어 있지 않다. 또한 상기 피도금체 접촉부(43)도 상기 피도금체와 접촉하여 상기 피도금체에 상기 전원을 공급하므로 상기 절연 물질로 코팅되어 있지 않다. 그러나 상기 걸이 몸체(22), 상기 프레임 몸체(31), 및 핀 몸체(41)는 불필요하게 상기 전원이 외부로 퍼지는 것을 방지하기 위해 상기 절연 물질로 코팅되어, 그것들의 표면에 상기 코팅층들이 형성된다.The power connection unit 21, the hook body 22, and the frame body 31 are made of copper (Cu) for power transmission. The hook coating layer 23, the frame coating layer 32, and the pin coating layer 42 are made of an insulating material. The power connection part 21 is not coated with the insulating material because the power source is directly applied. In addition, the to-be-plated-body contact portion 43 is also not coated with the insulating material since the power source is supplied to the plated body in contact with the plated body. However, the hook body 22, the frame body 31, and the pin body 41 are coated with the insulating material to prevent the power source from spreading unnecessarily, and the coating layers are formed on the surface of the hook body 22, the frame body 31, .

한편 상기 핀 몸체(41) 및 상기 피도금체 접촉부(43)는 스테인리스 강 재질로 이루어진다. 이는 도금 공정에서 상기 핀 몸체(41) 및 상기 피도금체 접촉부(43)는 도금액에 접촉하여 쉽게 부식되기 때문이다.Meanwhile, the pin body 41 and the to-be-plated body contact portion 43 are made of stainless steel. This is because in the plating process, the pin body 41 and the to-be-plated body contact portion 43 are easily corroded by contacting the plating liquid.

다시 말해, 상기 랙 핀(4)은 내식성 확보를 위해 상기 스테인리스 강을 포함한다. 그러나 상기 스테인리스 강의 전기전도도는 상기 랙 걸이(2)나 상기 랙 프레임(3)에 포함된 상기 구리의 전기전도도의 약 3% 정도이다. 따라서 상기 랙 핀(4)은 우수한 내식성을 가지나 열등한 전기전도도를 가진다.In other words, the rack pin 4 includes the stainless steel for securing corrosion resistance. However, the electrical conductivity of the stainless steel is about 3% of the electrical conductivity of the copper contained in the rack hanger 2 and the rack frame 3. Therefore, the rack pin 4 has an excellent corrosion resistance but an inferior electrical conductivity.

등록실용신안 제20-0408179호(2006. 02. 01. 등록)Registration Utility Model No. 20-0408179 (registered on 02.02.2006)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 정밀 도금 공정을 이용하여 전기전도도 및 내구성이 우수한 랙 핀을 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명의 목적은 금속 재질의 코어를 포함하여 전기전도도가 우수하고 스테인리스 강 재질의 쉘을 포함하여 내식성이 우수한 클래드형 랙 핀을 무전해 또는 전해 도금 공정을 통해 제조하는 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a rack pin having excellent electrical conductivity and durability using a precision plating process. More specifically, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a clad-type rack pin having excellent electrical conductivity and including a stainless steel shell including a core made of metal and having excellent corrosion resistance through an electroless or electrolytic plating process .

그러나 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 위에서 기술된 과제로 제한되지 않으며, 기술되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problems to be solved by the present invention are not limited to the above-described problems, and other problems that are not described can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 다음과 같다.In order to achieve the above object, the present invention is constructed as follows.

스테인리스 강 재질의 쉘을 준비하는 단계 및 무전해 도금 공정을 통해 상기 쉘의 내표면에 금속 재질의 코어를 형성하는 단계를 포함하는 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법이 제공된다.There is provided a method of manufacturing a clad type rack pin using a precision plating process comprising the steps of preparing a stainless steel shell and forming a metal core on the inner surface of the shell through an electroless plating process.

상기 스테인리스 강은 오스테나이트계 스테인리스 강 또는 듀플렉스 스테인리스 강일 수 있다.The stainless steel may be an austenitic stainless steel or a duplex stainless steel.

상기 금속은 구리, 니켈, 알루미늄, 금, 은, 아연, 철, 몰리브데넘, 크로뮴, 주석, 코발트, 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다.The metal may include at least one selected from the group consisting of copper, nickel, aluminum, gold, silver, zinc, iron, molybdenum, chromium, tin, cobalt and alloys thereof.

상기 코어를 형성하는 단계는, 상기 쉘 내부에 금속 이온 및 환원제를 포함하는 도금용액을 통과시키는 단계를 포함하고, 상기 코어는 상기 환원제에 의해 상기 금속 이온이 환원되어 형성된 것일 수 있다.The forming of the core may include passing a plating solution containing a metal ion and a reducing agent into the shell, and the core may be formed by reducing the metal ion by the reducing agent.

상기 도금용액은 상기 도금용액을 수용하는 도금용액조, 상기 도금용액조에 수용된 상기 도금용액을 펌핑하는 정량 펌프, 상기 정량 펌프와 상기 쉘을 연결하는 유입 라인, 상기 쉘, 및 상기 쉘과 상기 도금용액조를 연결하는 배출 라인을 포함하는 경로를 따라 순환될 수 있다.Wherein the plating solution includes a plating solution tank for containing the plating solution, a metering pump for pumping the plating solution contained in the plating solution tank, an inflow line connecting the metering pump and the shell, the shell, May be circulated along a path including an exhaust line connecting the baths.

상기 무전해 도금 공정을 통해 제조된 클래드형 랙 핀이 제공된다.There is provided a clad type rack pin manufactured through the electroless plating process.

전해 도금 공정을 통한 클래드형 랙 핀의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클래드형 랙 핀이 제공된다.A method of manufacturing a clad type rack pin through an electrolytic plating process and a clad type rack pin manufactured by the method are provided.

상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따르면, 무전해 또는 전해 도금 공정을 통해 전기전도도 및 내식성이 우수한 클래드형 랙 핀이 제조될 수 있다.According to the present invention having the above-described structure, a clad type rack pin having excellent electrical conductivity and corrosion resistance can be manufactured through an electroless or electrolytic plating process.

또한 본 발명에 따르면, 도금용액이 사전 결정된 경로를 따라 순환되어 쉘의 내표면에 균일한 두께의 코어가 제조될 수 있다.Further, according to the present invention, the plating solution can be circulated along a predetermined path so that a core of uniform thickness can be manufactured on the inner surface of the shell.

또한 본 발명의 클래드형 랙 핀이 적용된 도금용 랙으로 도금할 경우, 종래기술에 따를 때보다 도금 품질이 향상될 수 있다.Further, when plating is performed with a plating rack to which the clad type rack pin of the present invention is applied, the plating quality can be improved as compared with the prior art.

또한 본 발명의 클래드형 랙 핀이 도금용 랙에 적용될 경우, 종래기술에 따를 때보다 도금용 랙의 수명이 길어져 도금 제품의 원가가 절감될 수 있다.In addition, when the clad type rack pin of the present invention is applied to a rack for plating, the lifetime of the plating rack becomes longer than that according to the prior art, and the cost of the plating product can be reduced.

도 1은 종래기술에 따른 도금용 랙을 나타내는 모식도이다.
도 2(a) 내지 도 2(c) 각각은 본 발명의 일 실시예에 따른 클래드형 랙 핀을 나타내는 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금용액 순환장치 및 쉘을 나타내는 모식도이다.
도 4는 도 3의 유입 라인 및 배출 라인과 분리된 쉘을 나타내는 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 도금용액 순환장치 및 쉘을 나타내는 모식도이다.
도 6은 도 5의 유입 라인 및 배출 라인과 분리된 쉘을 나타내는 사시도이다.
1 is a schematic view showing a plating rack according to the prior art.
2 (a) to 2 (c) are perspective views showing a clad type rack pin according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic view showing a plating solution circulating apparatus and a shell according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view showing a shell separated from the inflow and outflow lines of Fig. 3;
5 is a schematic view showing a plating solution circulating apparatus and a shell according to an embodiment of the present invention.
6 is a perspective view showing a shell separated from the inflow and outflow lines of Fig. 5;

이하에서는 첨부된 도면이 참조되어 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예가 상세히 설명될 것이다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있고 여기에서 설명되는 실시예에 한정되어 이해되어서는 안된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

본 발명의 실시예의 명확한 설명을 위해, 첨부된 도면에서 설명과 관계없는 부분은 생략된다. 그리고 본 명세서 전체에서 유사한 부분에는 유사한 도면 부호가 붙는다.For clarity of explanation of the embodiments of the present invention, parts that are not related to the description in the accompanying drawings are omitted. Like parts throughout the specification are labeled with like reference numerals.

본 명세서에서 사용되는 용어는 다양한 실시예를 설명하기 위한 것이지, 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니다. 제1구성요소가 제2구성요소에 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 표현될 때, 이는 상기 제1구성요소가 상기 제2구성요소에 "직접적으로 연결"되거나 또는 제3구성요소를 통해 "간접적으로 연결"될 수 있다는 것을 의미한다. 단수의 표현은, 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현들을 포함한다. 또한, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품, 또는 이들을 조합한 것이 존재한다는 것을 의미하지, 하나 또는 그 이상의 다른, 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품, 또는 이들을 조합한 것의 존재 또는 부가 가능성이 배제된다는 것을 의미하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing various embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. When the first component is said to be "connected (connected, contacted)" to a second component, this means that the first component is "directly connected" to the second component, Quot; indirectly "through < / RTI > The singular forms "a," "an," and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise. It is also to be understood that the terms " comprises "or" having ", when used in this specification, mean that there are features, numbers, steps, But does not exclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

도 2(a) 내지 도 2(c) 각각은 본 발명의 일 실시예에 따른 클래드형 랙 핀(5)을 나타내는 사시도이다. 도 2(a) 내지 도 2(c)를 참조하면, 상기 클래드형 랙 핀(5)은 쉘(52) 및 상기 쉘(52)의 내표면에 위치된 코어(51)를 포함한다. 상기 클래드형 랙 핀(5)은 도 1의 핀 몸체(41) 및 피도금체 접촉부(43)에 대응된다. 상기 클래드형 랙 핀(5)이 제조된 후, 상기 클래드형 랙 핀(5)의 표면 일부에 도 1의 핀 코팅층(42) 같은 코팅층이 형성될 수 있다.2 (a) to 2 (c) are perspective views showing a clad type rack pin 5 according to an embodiment of the present invention. Referring to Figs. 2 (a) to 2 (c), the clad type rack pin 5 includes a shell 52 and a core 51 positioned on the inner surface of the shell 52. The clad type rack pin 5 corresponds to the pin body 41 and the to-be-plated body contact portion 43 shown in Fig. After the clad type rack pin 5 is manufactured, a coating layer such as the pin coating layer 42 of FIG. 1 may be formed on a part of the surface of the clad type rack pin 5.

상기 클래드형 랙 핀(5)은 정밀 도금 공정을 통해 제조된다. 상기 쉘(52) 내부가 금속으로 도금되면, 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 상기 코어(51)가 형성된다.The clad type rack pin 5 is manufactured through a precision plating process. When the inside of the shell 52 is plated with metal, the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52.

상기 클래드형 랙 핀(5)은 무전해 도금 공정 또는 전해 도금 공정을 통해 제조된다. 상기 무전해 도금 공정을 통해 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 상기 코어(51)가 형성되면, 도 2(a) 또는 도 2(b)의 클래드형 랙 핀(5)이 제조된다. 한편 상기 전해 도금 공정을 통해 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 상기 코어(51)가 형성되면, 도 2(c)의 클래드형 랙 핀(5)이 제조된다.The clad type rack pins 5 are manufactured through an electroless plating process or an electroplating process. When the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52 through the electroless plating process, the clad type rack pin 5 of FIG. 2 (a) or FIG. 2 (b) is manufactured. On the other hand, when the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52 through the electrolytic plating process, the clad type rack pin 5 shown in Fig. 2 (c) is manufactured.

도 2(a) 및 도 2(b)를 참조하면, 상기 무전해 도금 공정을 통해 상기 클래드형 랙 핀(5)이 제조되는 경우, 상기 쉘(52)의 내부는 중앙의 홀(hole)을 제외하고 상기 코어(51)로 채워질 수도 있고(도 2(a)), 또는 상기 코어(51)로 완전히 채워질 수도 있다(도 2(b)). 무전해 도금 공정의 조건(예를 들면, 공정 시간, 도금용액의 조성 등)에 따라, 도 2(a) 또는 도 2(b)의 클래드형 랙 핀(5)이 제조된다.2 (a) and 2 (b), when the clad type rack pin 5 is manufactured through the electroless plating process, the inside of the shell 52 has a central hole (FIG. 2 (a)), or may be completely filled with the core 51 (FIG. 2 (b)). The clad type rack pin 5 shown in Fig. 2 (a) or Fig. 2 (b) is produced according to the conditions of the electroless plating process (for example, the processing time and the composition of the plating solution).

도 2(c)를 참조하면, 상기 전해 도금 공정을 통해 상기 클래드형 랙 핀(5)이 제조되는 경우, 상기 쉘(52)의 내부는 중앙의 홀을 제외하고 상기 코어(51)로 채워질 수 있다(도 2(c)). 이는 상기 전해 도금 공정에서 불용성 양극이 상기 쉘(52)의 상기 내부 중앙에 삽입되기 때문이다. 그러나 도 2(c)는 일 실시예를 나타내므로, 상기 전해 도금 공정을 통해 도 2(a)에 도시된 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수도 있다. 또한 상기 전해 도금 공정에서 상기 불용성 양극이 아닌 가용성 양극이 삽입되는 경우, 상기 전해 도금 공정을 통해 도 2(b)에 도시된 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수도 있다.2 (c), when the clad type rack pin 5 is manufactured through the electroplating process, the inside of the shell 52 may be filled with the core 51 (Fig. 2 (c)). This is because the insoluble anode is inserted into the inner center of the shell 52 in the electrolytic plating process. However, since FIG. 2 (c) shows an embodiment, the clad type rack pin 5 shown in FIG. 2 (a) may be manufactured through the electrolytic plating process. In addition, when the soluble anode that is not the insoluble anode is inserted in the electrolytic plating process, the clad type rack pin 5 shown in FIG. 2 (b) may be produced through the electrolytic plating process.

상기 쉘(52)의 재질은 스테인리스 강이다. 상기 코어(51)의 재질은 금속이다. 상기 클래드형 랙 핀(5)은 상기 스테인리스 강을 포함하므로 우수한 내식성을 가지고, 상기 금속을 포함하므로 우수한 전기전도도를 가진다.The material of the shell 52 is stainless steel. The material of the core 51 is metal. Since the clad type rack pin 5 includes the stainless steel, it has excellent corrosion resistance and has excellent electrical conductivity since it contains the metal.

상기 스테인리스 강은 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강 또는 듀플렉스 스테인리스 강인 것이 바람직하다. 구체적으로 상기 오스테나이트계 스테인리스 강은 SUS304, SUS310, SUS316, 또는 SUS321일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The stainless steel is preferably an austenitic stainless steel or duplex stainless steel having excellent corrosion resistance. Specifically, the austenitic stainless steel may be SUS304, SUS310, SUS316 or SUS321, but is not limited thereto.

상기 금속은 구리, 니켈, 알루미늄, 금, 은, 아연, 철, 몰리브데넘, 크로뮴, 주석, 코발트, 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 바람직하게는, 상기 금속은 전기전도도가 특히 우수한 구리이다.The metal may include at least one selected from the group consisting of copper, nickel, aluminum, gold, silver, zinc, iron, molybdenum, chromium, tin, cobalt and alloys thereof. It is not. Preferably, the metal is copper which is particularly excellent in electrical conductivity.

상기 무전해 도금 공정을 통해 클래드형 랙 핀(5)을 제조하는 방법은, 예를 들면, 다음과 같다. 먼저, 쉘(52)이 준비된다. 다음으로, 상기 무전해 도금 공정을 통해 상기 쉘(52)의 내표면에 코어(51)가 형성된다.A method of manufacturing the clad type rack pin 5 through the electroless plating process is as follows, for example. First, the shell 52 is prepared. Next, the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52 through the electroless plating process.

상기 코어(51)는 다음과 같이 형성된다. 금속 이온 및 환원제를 포함하는 도금용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과한다. 상기 도금용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과하는 동안, 상기 금속 이온이 상기 환원제에 의해 환원되어, 상기 쉘(52)의 내표면에 상기 코어(51)가 형성된다. 다시 말해, 금속이 상기 쉘(52)의 상기 내표면에서 석출되어, 상기 코어(51)가 형성된다.The core 51 is formed as follows. A plating solution containing a metal ion and a reducing agent passes through the inside of the shell 52. While the plating solution passes through the inside of the shell 52, the metal ions are reduced by the reducing agent, and the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52. In other words, metal is deposited on the inner surface of the shell 52 to form the core 51.

상기 쉘(52)이 준비된 후 상기 코어(51)가 형성되기 전에, 촉매핵 생성 단계가 존재할 수 있다. 상기 촉매핵 생성 단계는 다음과 같다. 촉매 이온을 포함하는 흡착용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과한다. 상기 흡착용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과하는 동안, 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 촉매핵이 생성된다. 상기 촉매핵이 생성된 후 상기 도금용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과하면, 상기 촉매핵이 상기 금속 이온이 상기 환원제에 의해 환원되는 것을 돕는다. 다시 말해, 상기 촉매핵은 상기 금속이온의 환원에 있어 촉매 역할을 한다.Before the core 51 is formed after the shell 52 is prepared, there may be a nucleation step. The catalyst nucleation step is as follows. An adsorption solution containing catalyst ions passes through the inside of the shell 52. Catalytic nuclei are created on the inner surface of the shell 52 while the adsorbent solution passes through the interior of the shell 52. When the plating solution passes through the shell 52 after the catalyst nuclei are formed, the catalyst nuclei help the metal ions to be reduced by the reducing agent. In other words, the catalyst nuclei serve as a catalyst in the reduction of the metal ion.

상기 금속 이온의 종류에 따라(즉, 상기 코어(51)를 이루는 금속의 종류에 따라) 상기 촉매 이온, 기타 상기 흡착용액에 포함된 물질, 상기 환원제, 기타 상기 도금용액에 포함된 물질 등이 달라진다. 도금 분야의 통상의 기술자는 도금에 대한 공지된 정보를 이용하여 상기 무전해 도금 공정에 필요한 물질들을 적절히 선택할 수 있다.The catalyst ion, the substance contained in the adsorption solution, the reducing agent, and the substance contained in the plating solution are changed depending on the kind of the metal ion (that is, depending on the kind of the metal forming the core 51) . A person skilled in the art of plating can appropriately select materials necessary for the electroless plating process using known information on plating.

상기 전해 도금 공정을 통해 클래드형 랙 핀(5)을 제조하는 방법은, 예를 들면, 다음과 같다. 먼저, 쉘(52)이 준비된다. 다음으로, 상기 전해 도금 공정을 통해 상기 쉘(52)의 내표면에 상기 코어(51)가 형성된다.A method of manufacturing the clad type rack pin 5 through the electrolytic plating process is as follows, for example. First, the shell 52 is prepared. Next, the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52 through the electrolytic plating process.

상기 코어(51)는 다음 공정을 통해 형성된다. 먼저, 상기 쉘(52)에 정류기(67)의 음극이 연결되고, 상기 쉘(52) 내부 중앙에 상기 정류기(67)의 양극이 삽입 및 고정된다.The core 51 is formed through the following process. The cathode of the rectifier 67 is connected to the shell 52 and the anode of the rectifier 67 is inserted and fixed to the center of the shell 52.

다음으로, 금속 이온을 포함하는 도금용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과한다. 상기 양극은 불용성 양극 또는 가용성 양극이다. 상기 불용성 양극은 상기 도금용액에 대해 불용성이 있고, 상기 가용성 양극은 상기 도금용액에 대해 가용성이 있다.Next, a plating solution containing metal ions is passed through the inside of the shell 52. The anode is an insoluble anode or a soluble anode. The insoluble anode is insoluble in the plating solution, and the soluble anode is soluble in the plating solution.

다음으로, 상기 정류기(67)가 상기 음극 및 상기 양극을 통해 상기 도금용액에 전류를 인가한다. 상기 도금용액이 상기 쉘(52) 내부를 통과하는 동안, 상기 정류기(67)에 의해 전자들이 상기 쉘(52)에 밀집된다. 이에 따라 상기 도금용액에 포함된 상기 금속 이온은 상기 전자들을 받아 환원되어, 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 상기 코어(51)가 형성된다. 다시 말해, 금속이 상기 쉘(52)의 상기 내표면에서 석출되어, 상기 코어(51)가 형성된다. 상기 양극이 상기 금속 재질로 된 가용성 양극인 경우, 상기 가용성 양극은 용해되면서 상기 금속 이온을 상기 도금용액 내에서 생성한다. 상기 가용성 양극의 용해에 의해 생성된 상기 금속 이온도 상기 쉘(52)의 상기 내표면에서 환원된다. 따라서 이 경우, 상기 가용성 양극은 상기 코어(51) 형성을 돕는다.Next, the rectifier (67) applies a current to the plating solution through the cathode and the anode. While the plating solution passes through the inside of the shell 52, electrons are concentrated in the shell 52 by the rectifier 67. Accordingly, the metal ions included in the plating solution are reduced by receiving the electrons, and the core 51 is formed on the inner surface of the shell 52. In other words, metal is deposited on the inner surface of the shell 52 to form the core 51. When the anode is a soluble anode made of the metal material, the soluble anode dissolves to generate the metal ions in the plating solution. The metal ions produced by dissolution of the soluble anode are also reduced on the inner surface of the shell 52. Thus, in this case, the soluble anode assists in forming the core 51.

도금 분야의 통상의 기술자는 도금에 대한 공지된 정보를 이용하여 상기 도금용액의 조성을 적절히 결정할 수 있다. 이하에서는 스테인리스 강 재질의 쉘(52) 내부를 구리로 도금하여 클래드형 랙 핀(5)을 제조하는 방법이 구체적으로 설명될 것이다.A person skilled in the art of plating can appropriately determine the composition of the plating solution by using known information about plating. Hereinafter, a method of manufacturing the clad type rack pin 5 by plating the interior of the stainless steel shell 52 with copper will be described in detail.

[실시예 1 - 구리로 무전해 도금][Example 1 - electroless plating with copper]

본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법은 도금용액 순환장치 준비 단계, 쉘 준비 단계, 촉매핵 생성 단계, 및 코어 형성 단계를 포함한다.A method of manufacturing a clad type rack pin using a precision plating process according to an embodiment of the present invention includes a plating solution circulating device preparing step, a shell preparing step, a catalyst nucleating step, and a core forming step.

상기 도금용액 순환장치 준비 단계에서는 상기 도금용액 순환장치(6)가 준비된다. 도 3은 상기 도금용액 순환장치(6)를 도시한다. 도 3을 참조하면, 상기 도금용액 순환장치(6)는 도금용액조(66), 정량 펌프(61), 유입 라인(62), 유입 밸브(63), 배출 밸브(64), 및 배출 라인(65)을 포함한다. 상기 유입 라인(62)은 상기 정량 펌프(61)와 상기 쉘(52)을 연결하고 상기 배출 라인(65)은 상기 쉘(52)과 상기 도금용액조(66)를 연결한다.In the plating solution circulating apparatus preparing step, the plating solution circulating apparatus 6 is prepared. Fig. 3 shows the plating solution circulating apparatus 6. Fig. 3, the plating solution circulating apparatus 6 includes a plating solution tank 66, a metering pump 61, an inflow line 62, an inflow valve 63, a discharge valve 64, 65). The inflow line 62 connects the metering pump 61 and the shell 52 and the discharge line 65 connects the shell 52 and the plating solution tank 66.

상기 쉘 준비 단계에서는 적절한 크기의 쉘(52)이 선택된 다음 상기 쉘(52)이 상기 도금용액 순환장치(6)의 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65) 사이에 삽입된다(도 3 참조). 상기 쉘(52)의 외주면 및 내주면의 직경비가 너무 크면, 우수한 내식성 및 열등한 전기전도도를 가지는 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수 있다. 반대로 상기 쉘(52)의 상기 외주면 및 상기 내주면의 상기 직경비가 너무 작으면, 우수한 전기전도도 및 열등한 내식성을 가지는 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수 있다. 따라서 상기 쉘(52)의 상기 외주면 및 상기 내주면의 상기 직경비가 적절히 선택되면, 우수한 전기전도도 및 내식성을 모두 가지는 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수 있다.In the shell preparation step, an appropriately sized shell 52 is selected and then the shell 52 is inserted between the inflow line 62 and the discharge line 65 of the plating solution circulating device 6 Reference). If the diameter ratio between the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the shell 52 is too large, the clad type rack pin 5 having excellent corrosion resistance and inferior electrical conductivity can be manufactured. Conversely, if the diameter ratio of the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the shell 52 is too small, the clad type rack pin 5 having excellent electrical conductivity and inferior corrosion resistance can be manufactured. Therefore, when the diameter ratio of the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the shell 52 is appropriately selected, the clad type rack pin 5 having excellent electrical conductivity and corrosion resistance can be manufactured.

한편 상기 쉘(52)이 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65) 사이에 삽입될 때, 상기 쉘(52)의 크기가 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65)의 크기와 같을 수도 있고 다를 수도 있다. 어떠한 경우든, 상기 유입 밸브(63)는 상기 유입 라인(62) 및 상기 쉘(52)을 연결할 수 있고, 상기 배출 밸브(64)는 상기 쉘(52) 및 상기 배출 라인(65)을 연결할 수 있다. 이는 상기 유입 밸브(63) 및 상기 배출 밸브(64)가 신축성 있는 실리콘 재질로 이루어져, 크기가 다른 두 물체에 밀착하여 상기 두 물체를 연결할 수 있기 때문이다.On the other hand, when the shell 52 is inserted between the inflow line 62 and the discharge line 65, the size of the shell 52 is smaller than the size of the inflow line 62 and the discharge line 65 May be the same or different. In any case the inlet valve 63 can connect the inlet line 62 and the shell 52 and the outlet valve 64 can connect the shell 52 and the outlet line 65 have. This is because the inflow valve 63 and the discharge valve 64 are made of a stretchable silicone material so that the two objects can be closely contacted to two different sized objects.

상기 촉매핵 생성 단계에서는 흡착용액이 순환되어 상기 쉘(52)의 내표면에 상기 촉매핵이 생성된다. 상기 흡착용액은 PdCl2 또는 PdSO4를 포함하는 용액이고 상기 촉매핵은 팔라듐 촉매핵이다. 상기 흡착용액이 상기 도금용액조(66)에 수용되면, 상기 정량 펌프(61)는 상기 흡착용액을 펌핑한다. 상기 펌핑된 흡착용액은 상기 유입 라인(62)을 거쳐 상기 쉘(52) 내부로 유입된다. 상기 유입된 흡착용액은 상기 쉘(52) 내부에서 상기 배출 라인(65)으로 배출되고, 상기 도금용액조(66)로 되돌아간다. 다시 말해, 상기 흡착용액은 상기 도금용액조(66), 상기 정량 펌프(61), 상기 유입 라인(62), 상기 쉘(52), 및 상기 배출 라인(65)을 포함하는 경로를 따라 순환된다. 도 3은 이러한 순환 과정을 화살표로 도시한다. 이 과정에서, 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 상기 촉매핵이 생성된다.In the catalyst nucleation step, the adsorption solution is circulated to form the catalyst nuclei on the inner surface of the shell 52. The adsorption solution is a solution comprising PdCl 2 or PdSO 4 and the catalyst nuclei are palladium catalyst nuclei. When the adsorption solution is received in the plating solution tank 66, the dosing pump 61 pumps the adsorption solution. The pumped adsorption solution flows into the shell 52 through the inflow line 62. The introduced adsorption solution is discharged from the shell 52 into the discharge line 65 and returned to the plating solution tank 66. In other words, the adsorption solution is circulated along a path including the plating solution tank 66, the metering pump 61, the inflow line 62, the shell 52, and the discharge line 65 . FIG. 3 shows this circulation process as an arrow. In this process, the catalyst nuclei are generated on the inner surface of the shell 52.

상기 촉매핵이 생성되면, 상기 촉매핵이 형성된 상기 쉘(52)은 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65)으로부터 분리된다. 도 4는 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출라인으로부터 분리된 쉘(52)을 도시한다. 상기 분리된 쉘(52)이 세척되어 상기 쉘(52) 내부의 잔여 흡착용액이 제거된다.When the catalyst nuclei are generated, the shell 52 with the catalyst nuclei formed is separated from the inflow line 62 and the discharge line 65. Figure 4 shows the inflow line 62 and the shell 52 separated from the discharge line. The separated shell 52 is washed and the residual adsorption solution in the shell 52 is removed.

상기 코어 형성 단계에서는 도금용액이 순환되어 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 상기 코어(51)가 형성된다. 상기 도금용액은 금속 이온인 구리 이온, 환원제인 포름알데히드, 및 알칼리원인 수산화나트륨을 포함한다. 상기 코어(51)는 구리로 이루어진다. 상기 도금용액이 상기 도금용액조(66)에 수용되면, 상기 정량 펌프(61)는 상기 도금용액을 펌핑한다. 상기 펌핑된 도금용액은 상기 유입 라인(62)을 거쳐 상기 쉘(52) 내부로 유입된다. 상기 유입된 도금용액은 상기 쉘(52) 내부에서 상기 배출 라인(65)으로 배출되고, 상기 도금용액조(66)로 되돌아간다. 다시 말해, 상기 도금용액은 상기 도금용액조(66), 상기 정량 펌프(61), 상기 유입 라인(62), 상기 쉘(52), 및 상기 배출 라인(65)을 포함하는 경로를 따라 순환된다. 도 3은 이러한 순환 과정을 화살표로 도시한다. 이 과정에서, 상기 포름알데히드 및 상기 수산화나트륨에 의해 상기 구리 이온이 환원된다. 상기 구리 이온이 환원되는 반응은 다음 반응식 1과 같다.In the core forming step, the plating solution is circulated to form the core 51 on the inner surface of the shell 52. The plating solution includes copper ion as a metal ion, formaldehyde as a reducing agent, and sodium hydroxide as an alkali. The core 51 is made of copper. When the plating solution is received in the plating solution tank 66, the metering pump 61 pumps the plating solution. The pumped plating solution flows into the shell 52 through the inflow line 62. The introduced plating solution is discharged from the shell 52 into the discharge line 65 and returned to the plating solution tank 66. In other words, the plating solution is circulated along a path including the plating solution tank 66, the metering pump 61, the inflow line 62, the shell 52, and the discharge line 65 . FIG. 3 shows this circulation process as an arrow. In this process, the copper ion is reduced by the formaldehyde and the sodium hydroxide. The reaction in which the copper ion is reduced is shown in the following reaction formula (1).

[반응식 1][Reaction Scheme 1]

Cu2+ + 2HCHO + 4OH- → Cu + 2HCOO- + 2H2O + H2 Cu 2+ + 2HCHO + 4OH - ? Cu + 2HCOO - + 2H 2 O + H 2

상기 구리 이온이 환원되는 상기 반응은 상기 팔라듐 촉매핵에 의해 촉진된다. 상기 도금용액이 순환되는 동안, 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 구리가 석출되어 상기 코어(51)가 형성된다.The reaction in which the copper ions are reduced is catalyzed by the palladium catalyst nuclei. During the circulation of the plating solution, copper is precipitated on the inner surface of the shell 52 to form the core 51.

상기 코어(51)가 형성된 상기 쉘(52)은 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65)으로부터 분리된다. 도 4는 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출라인으로부터 분리된 쉘(52)을 도시한다. 상기 쉘(52)에 연결된 상기 유입 밸브(63) 및 상기 배출 밸브(64)도 상기 쉘(52)로부터 분리된다. 이후, 상기 코어(51)가 형성된 상기 쉘(52) 내부의 잔여 도금용액은 세척을 통해 제거된다.The shell 52 in which the core 51 is formed is separated from the inflow line 62 and the discharge line 65. Figure 4 shows the inflow line 62 and the shell 52 separated from the discharge line. The inlet valve 63 and the discharge valve 64 connected to the shell 52 are also separated from the shell 52. Thereafter, the remaining plating solution in the shell 52 in which the core 51 is formed is removed by washing.

위 공정들을 거쳐 제조된 클래드형 랙 핀(5)은 도 2(a)에 도시된 형태일 수도 있고, 도 2(b)에 도시된 형태일 수도 있다. 어떠한 형태이든, 상기 코어(51)가 순환 공정을 통해 균일한 두께로 형성된다는 사실은 도금 분야의 통상의 기술자에게 자명하다.The clad-type rack pin 5 manufactured through the above processes may be the one shown in Fig. 2 (a) or the one shown in Fig. 2 (b). The fact that the core 51 is formed in a uniform thickness through the circulation process in any form is apparent to those of ordinary skill in the plating arts.

[실시예 2 - 구리로 전해 도금][Example 2 - Electroplating with copper]

본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법은 도금용액 순환장치 준비 단계, 쉘 준비 단계, 및 코어 형성 단계를 포함한다.A method of manufacturing a clad type rack pin using a precision plating process according to an embodiment of the present invention includes a plating solution circulating device preparing step, a shell preparing step, and a core forming step.

상기 도금용액 순환장치 준비 단계에서는 상기 도금용액 순환장치(6)가 준비된다. 도 5는 상기 도금용액 순환장치(6)를 도시한다. 도 5를 참조하면, 상기 도금용액 순환장치(6)는 도금용액조(66), 정량 펌프(61), 유입 라인(62), 유입 밸브(63), 배출 밸브(64), 배출 라인(65), 및 정류기(67)를 포함한다. 상기 유입 라인(62)은 상기 정량 펌프(61)와 상기 쉘(52)을 연결하고 상기 배출 라인(65)은 상기 쉘(52)과 상기 도금용액조(66)를 연결한다.In the plating solution circulating apparatus preparing step, the plating solution circulating apparatus 6 is prepared. Fig. 5 shows the plating solution circulating apparatus 6. Fig. 5, the plating solution circulating apparatus 6 includes a plating solution tank 66, a metering pump 61, an inflow line 62, an inflow valve 63, a discharge valve 64, a discharge line 65 ), And a rectifier (67). The inflow line 62 connects the metering pump 61 and the shell 52 and the discharge line 65 connects the shell 52 and the plating solution tank 66.

상기 쉘 준비 단계에서는 적절한 크기의 쉘(52)이 선택된 다음 상기 쉘(52)이 상기 도금용액 순환장치(6)의 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65) 사이에 삽입된다(도 5 참조). 상기 쉘(52)의 외주면 및 내주면의 직경비가 너무 크면, 우수한 내식성 및 열등한 전기전도도를 가지는 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수 있다. 반대로 상기 쉘(52)의 상기 외주면 및 상기 내주면의 상기 직경비가 너무 작으면, 우수한 전기전도도 및 열등한 내식성을 가지는 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수 있다. 따라서 상기 쉘(52)의 상기 외주면 및 상기 내주면의 상기 직경비가 적절히 선택되면, 우수한 전기전도도 및 내식성을 모두 가지는 클래드형 랙 핀(5)이 제조될 수 있다.In the shell preparation step, a shell 52 of an appropriate size is selected and then the shell 52 is inserted between the inflow line 62 and the discharge line 65 of the plating solution circulation apparatus 6 Reference). If the diameter ratio between the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the shell 52 is too large, the clad type rack pin 5 having excellent corrosion resistance and inferior electrical conductivity can be manufactured. Conversely, if the diameter ratio of the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the shell 52 is too small, the clad type rack pin 5 having excellent electrical conductivity and inferior corrosion resistance can be manufactured. Therefore, when the diameter ratio of the outer circumferential surface and the inner circumferential surface of the shell 52 is appropriately selected, the clad type rack pin 5 having excellent electrical conductivity and corrosion resistance can be manufactured.

한편 상기 쉘(52)이 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65) 사이에 삽입될 때, 상기 쉘(52)의 크기가 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65)의 크기와 같을 수도 있고 다를 수도 있다. 어떠한 경우든, 상기 유입 밸브(63)는 상기 유입 라인(62) 및 상기 쉘(52)을 연결할 수 있고, 상기 배출 밸브(64)는 상기 쉘(52) 및 상기 배출 라인(65)을 연결할 수 있다. 이는 상기 유입 밸브(63) 및 상기 배출 밸브(64)가 신축성 있는 실리콘 재질로 이루어져, 크기가 다른 두 물체에 밀착하여 상기 두 물체를 연결할 수 있기 때문이다.On the other hand, when the shell 52 is inserted between the inflow line 62 and the discharge line 65, the size of the shell 52 is smaller than the size of the inflow line 62 and the discharge line 65 May be the same or different. In any case the inlet valve 63 can connect the inlet line 62 and the shell 52 and the outlet valve 64 can connect the shell 52 and the outlet line 65 have. This is because the inflow valve 63 and the discharge valve 64 are made of a stretchable silicone material so that the two objects can be closely contacted to two different sized objects.

상기 코어 형성 단계에서는 도금용액이 순환되어 상기 쉘(52)의 내표면에 상기 코어(51)가 형성된다. 상기 도금용액은 금속 이온인 구리 이온을 포함하고 상기 코어(51)는 구리로 이루어진다.In the core forming step, the plating solution is circulated to form the core 51 on the inner surface of the shell 52. The plating solution contains copper ions, which are metal ions, and the core 51 is made of copper.

상기 도금용액이 순환되기 전에, 상기 쉘(52)에 상기 정류기(67)의 음극이 연결되고, 상기 쉘(52) 내부 중앙에 상기 정류기(67)의 불용성 양극이 삽입 및 고정된다.The anode of the rectifier 67 is connected to the shell 52 and the insoluble anode of the rectifier 67 is inserted and fixed to the center of the shell 52 before the plating solution is circulated.

다음으로, 상기 도금용액이 순환된다. 상기 도금용액이 상기 도금용액조(66)에 수용되면, 상기 정량 펌프(61)는 상기 도금용액을 펌핑한다. 상기 펌핑된 도금용액은 상기 유입 라인(62)을 거쳐 상기 쉘(52) 내부로 유입된다. 상기 유입된 도금용액은 상기 쉘(52) 내부에서 상기 배출 라인(65)으로 배출되고, 상기 도금용액조(66)로 되돌아간다. 다시 말해, 상기 도금용액은 상기 도금용액조(66), 상기 정량 펌프(61), 상기 유입 라인(62), 상기 쉘(52), 및 상기 배출 라인(65)을 포함하는 경로를 따라 순환된다. 도 5는 이러한 순환 과정을 화살표로 도시한다.Next, the plating solution is circulated. When the plating solution is received in the plating solution tank 66, the metering pump 61 pumps the plating solution. The pumped plating solution flows into the shell 52 through the inflow line 62. The introduced plating solution is discharged from the shell 52 into the discharge line 65 and returned to the plating solution tank 66. In other words, the plating solution is circulated along a path including the plating solution tank 66, the metering pump 61, the inflow line 62, the shell 52, and the discharge line 65 . FIG. 5 shows this circulation process as an arrow.

상기 도금용액이 순환되는 동안, 상기 정류기(67)가 상기 음극 및 상기 불용성 양극을 통해 상기 도금용액에 전류를 인가한다. 이에 따라 상기 구리 이온이 상기 쉘(52)에 밀집된 전자들을 받아 환원된다. 다시 말해, 상기 쉘(52)의 상기 내표면에 구리가 석출되어 상기 코어(51)가 형성된다. 상기 코어(51)가 순환 공정을 통해 균일한 두께로 형성된다는 사실은 도금 분야의 통상의 기술자에게 자명하다.While the plating solution is circulating, the rectifier 67 applies current to the plating solution through the negative electrode and the insoluble positive electrode. Accordingly, the copper ions receive the electrons concentrated in the shell 52 and are reduced. In other words, copper is precipitated on the inner surface of the shell 52 to form the core 51. The fact that the core 51 is formed in a uniform thickness through the circulation process is obvious to a person skilled in the art of plating.

상기 코어(51)가 형성된 상기 쉘(52)은 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출 라인(65)으로부터 분리된다. 도 6은 상기 유입 라인(62) 및 상기 배출라인으로부터 분리된 쉘(52)을 도시한다. 상기 쉘(52)에 연결된 상기 유입 밸브(63) 및 상기 배출 밸브(64)도 상기 쉘(52)로부터 분리된다. 또한 상기 삽입된 불용성 양극(도 6이 이를 도시함)도 상기 쉘(52)로부터 분리된다. 이후, 상기 코어(51)가 형성된 상기 쉘(52) 내부의 잔여 도금용액은 세척을 통해 제거된다.The shell 52 in which the core 51 is formed is separated from the inflow line 62 and the discharge line 65. Figure 6 shows the inflow line 62 and the shell 52 separated from the discharge line. The inlet valve 63 and the discharge valve 64 connected to the shell 52 are also separated from the shell 52. The inserted insoluble anode (also shown in FIG. 6) is also separated from the shell 52. Thereafter, the remaining plating solution in the shell 52 in which the core 51 is formed is removed by washing.

위 공정들을 거쳐 제조된 클래드형 랙 핀(5)은 도 2(c)에 도시된 형태를 가진다. 도 2(c)에서 클래드형 랙 핀(5) 중앙의 홀은 상기 불용성 양극이 위치됐었던 공간이다.The clad type rack pin 5 manufactured through the above processes has the form shown in Fig. 2 (c). In FIG. 2 (c), a hole in the center of the clad-type rack pin 5 is a space in which the insoluble anode is located.

비록 본 실시예에서는 상기 불용성 양극이 사용되지만, 작업자가 상기 코어(51)를 전해 도금 초기에 크게 성장시키길 원한다면, 상기 불용성 양극 대신에 구리 재질의 가용성 양극을 사용하는 것이 바람직하다.Although the insoluble anode is used in this embodiment, it is preferable to use a soluble anode made of copper instead of the insoluble anode if the operator desires to greatly grow the core 51 at the initial stage of electrolytic plating.

본 발명은 도면에 도시된 실시예가 참조되어 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. will be. Therefore, the true scope of the present invention should be defined by the appended claims.

1 : 도금용 랙
2 : 랙 걸이 3 : 랙 프레임
21 : 전원 접속부 31 : 프레임 몸체
22 : 걸이 몸체 32 : 프레임 코팅층
23 : 걸이 코팅층
4 : 랙 핀 5 : 클래드형 랙 핀
41 : 핀 몸체 51 : 코어
42 : 핀 코팅층 52 : 쉘
43 : 피도금체 접촉부
6 : 도금용액 순환장치
61 : 정량 펌프
62 : 유입 라인
63 : 유입 밸브
64 : 배출 밸브
65 : 배출 라인
66 : 도금용액조
67 : 정류기
1: Plating rack
2: Rack Hanger 3: Rack Frame
21: power connection part 31: frame body
22: Hook body 32: Frame coating layer
23: Hook coating layer
4: Rack pin 5: Clad type rack pin
41: pin body 51: core
42: pin coating layer 52: shell
43: Plated member contact portion
6: Plating solution circulator
61: metering pump
62: inflow line
63: Inflow valve
64: discharge valve
65: discharge line
66: plating solution tank
67: rectifier

Claims (6)

스테인리스 강 재질의 쉘을 준비하는 단계 및
전해 도금 공정을 통해 상기 쉘의 내표면에 금속 재질의 코어를 형성하는 단계를 포함하는 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법.
Preparing a stainless steel shell; and
And forming a metal core on the inner surface of the shell through an electrolytic plating process.
제1항에 있어서,
상기 스테인리스 강은 오스테나이트계 스테인리스 강 또는 듀플렉스 스테인리스 강인 것인 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the stainless steel is an austenitic stainless steel or a duplex stainless steel.
제1항에 있어서,
상기 금속은 구리, 니켈, 알루미늄, 금, 은, 아연, 철, 몰리브데넘, 크로뮴, 주석, 코발트, 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the metal comprises at least one selected from the group consisting of copper, nickel, aluminum, gold, silver, zinc, iron, molybdenum, chromium, tin, cobalt and alloys thereof. Type rack pin.
제1항에 있어서,
상기 코어를 형성하는 단계는,
상기 쉘에 음극을 연결하고, 상기 쉘 내부 중앙에 양극을 삽입하는 단계;
상기 쉘 내부에 금속 이온을 포함하는 도금용액을 통과시키는 단계; 및
상기 음극 및 상기 양극을 통해 상기 도금용액에 전류를 인가하여, 상기 금속 이온이 상기 쉘의 상기 내표면에서 환원되는 단계를 포함하는 것인 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein forming the core comprises:
Connecting a negative electrode to the shell and inserting a positive electrode in the center of the shell;
Passing a plating solution containing metal ions into the shell; And
And applying a current to the plating solution through the cathode and the anode to reduce the metal ions at the inner surface of the shell.
제4항에 있어서,
상기 도금용액은 상기 도금용액을 수용하는 도금용액조, 상기 도금용액조에 수용된 상기 도금용액을 펌핑하는 정량 펌프, 상기 정량 펌프와 상기 쉘을 연결하는 유입 라인, 상기 쉘, 및 상기 쉘과 상기 도금용액조를 연결하는 배출 라인을 포함하는 경로를 따라 순환되는 것인 정밀 도금 공정을 이용한 클래드형 랙 핀의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the plating solution includes a plating solution tank for containing the plating solution, a metering pump for pumping the plating solution contained in the plating solution tank, an inflow line connecting the metering pump and the shell, the shell, And a discharge line connecting the first and second tanks to the second tundish.
전해 도금 공정을 통해 스테인리스 강 재질의 쉘 내표면에 금속 재질의 코어를 형성하여 제조된 클래드형 랙 핀.A clad type rack pin manufactured by forming a metallic core on the inner surface of a stainless steel shell through an electrolytic plating process.
KR1020170133515A 2017-10-13 2017-10-13 Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby KR101818643B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170133515A KR101818643B1 (en) 2017-10-13 2017-10-13 Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170133515A KR101818643B1 (en) 2017-10-13 2017-10-13 Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160162128A Division KR101818638B1 (en) 2016-11-30 2016-11-30 Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101818643B1 true KR101818643B1 (en) 2018-01-16

Family

ID=61066624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170133515A KR101818643B1 (en) 2017-10-13 2017-10-13 Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101818643B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102134170B1 (en) 2020-03-04 2020-07-16 브이앤씨테크 주식회사 A Rack For Plating A Ring-shaped Structure

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102134170B1 (en) 2020-03-04 2020-07-16 브이앤씨테크 주식회사 A Rack For Plating A Ring-shaped Structure

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2149621A1 (en) Electroplating Method For Magnesium And Magnesium Alloy
JP3678195B2 (en) Electronic component manufacturing method and electronic component
US20160102413A1 (en) Tin or tin alloy plating liquid
CN105308218B (en) Tin or tin alloy electroplate liquid and application thereof
CN104561943A (en) Chemical nickel-palladium alloy plating process for circuit boards
KR101818643B1 (en) Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby
CN105088289B (en) The plating of aluminum base edge coppersmith part and strip method
JP2011225929A (en) Catalyst solution used in electroless plating method, method for preparing the catalyst solution, electroless plating method using the catalyst solution, and plated product with metal layer including metallic film formed by using the electroless plating method
CN102549196B (en) Process for applying a metal coating to a non-conductive substrate
JPH10508341A (en) Copper alloy water pipe fittings for transporting drinking water
KR101818638B1 (en) Method of manufacturing clad-type rack pin using precision plating process and clad-type rack pin manufactured thereby
CN104928733B (en) A kind of electroplate liquid formulation and electro-plating method that rhenium iridium alloy is plated on Copper substrate
CN106868479B (en) Environmentally friendly rugged catalyst for the electrodeless metal of printed circuit board and through-hole
JP6746185B2 (en) Jig for semiconductor wafer plating
CN106535513B (en) Electronic product casing and its manufacturing method
KR101843859B1 (en) Method of manufacturing clad-type rack pin having excellent electric conductivity and durability and clad-type rack pin manufactured thereby
CN100480423C (en) Electroless plating method and electrically nonconductive plating object with plating film formed thereon
WO2016147709A1 (en) Electrolytic stripping agent for jig
US10287688B2 (en) Plating method
JP2015048491A (en) Method and apparatus of producing composite material
CN112996284A (en) BGA (ball grid array) position electroplating blind hole filling process, HDI (high Density interconnection) board obtained by adopting process and electronic product applying HDI board
JP2023507479A (en) Method and system for depositing zinc-nickel alloys on substrates
JP2010280416A (en) Method for manufacturing conductive fastening band
EP2157212A2 (en) Surface Treatment Method For Housing
CN219280080U (en) Silver plating device for waveguide inner cavity

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant