KR101802480B1 - 내부이형제를 포함하는 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물 - Google Patents

내부이형제를 포함하는 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물에 첨가되는 내부이형제에 관한 것으로, 특히, 에폭시 아크릴레이트계 수지 조성물에 내부이형제로 인산에스테르 화합물을 첨가함으로 백탁의 발생이 없고 탈형성이 우수하여 렌즈 수율을 높였고, 경량성, 염색성, 성형성, 투명성 등이 뛰어나고, 열안정성이 우수한 고굴절 광학렌즈 제조에 관한 것이다.
[색인어]
광학렌즈용 수지 조성물, 내부이형제, 인산 에스테르, 탈형성, 고굴절, 에폭시 아크릴레이트, 광학렌즈

Description

내부이형제를 포함하는 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물 {Epoxy Acryl Optical Resin Composition Comprising Internal Mold Release Agent}
본 발명은 내부이형제를 포함하는 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물에 관한 것으로, 특히, 광학렌즈용 수지 조성물에 내부이형제로 인산 에스테르를 사용함으로써 백탁이 없고 탈형성과 열안정성이 우수한 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물에 관한 것이다.
플라스틱 안경렌즈는 유리렌즈의 문제점인 높은 비중과 낮은 내충격성을 보완한 대체품으로 소개 되었다. 그 대표적인 것으로 폴리에틸글리콜 비스 알릴카르보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸 글리콜비스 알릴카르보네이트와 디알릴프탈레이트가 있다. 하지만, 이들 중합체로 제조된 광학렌즈는 주형성, 염색성, 하드코트피막 밀착성, 내충격성 등의 물성은 우수하나 굴절률이 1.50(nD)과 1.55(nD) 정도로 낮아서 렌즈의 가장자리가 두꺼운 문제점이 있었다. 렌즈의 가장자리두께를 줄이기 위하여 굴절률이 높은 광학재료를 개발하기 위하여 여러 가지 시도가 있었다. 또한, 중합 후 몰드와의 분리성이 나쁜 이형성은 렌즈 수율을 크게 저하시키므로 이에 대한 해결책이 필요하다.
우레탄을 재료로 한 광학 수지 조성물로, 한국 특허 출원 10-1987-0001768, 10-1987-014268, 10-1989-001686, 10-1989-001865, 10-1989-001913, 10-1993-015515 등에서는 폴리이소시아네이트와 폴리티올 조성물을 열경화하는 플라스틱 광학렌즈의 제조방법을 제시하고 있다. 이 광학렌즈는 염색성, 하드코트피막 및 접착성, 내충격성, 아베수 및 투명성 등의 광학특성이 우수하나 내열성이 떨어져 렌즈의 하드코팅 처리시 렌즈의 중심이 심하게 변형되는 문제점이 있으며, 또 렌즈의 표면 강도가 약하여 생산과정에서 표면 흠집불량이 많이 발생하는 문제점이 있었다. 그리고 수지조성물을 배합하여 유리몰드에 주입하기 까지 공기에 있는 수분에 노출되는 경우 렌즈에 백탁 현상이 발생하는 문제점이 있었다.
내열성이 우수한 광학재료로 에폭시 아크릴 광학 렌즈용 수지 조성물, 즉 일본특허 출원 평4-207607과 평6-1052에서는 테트라브로모비스페놀A 디아크릴레이트에 디비닐벤젠, 스틸렌 혹은 스틸렌, 벤질메타아크릴레이트, 이소시아네이트 등을 사용하여 광학렌즈를 제조하는 방법을 제시하고 있으나, 이들 광학렌즈는 열안정성이 낮아 렌즈 하드 코팅시 색상변화가 일어나는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 한국 특허출원 10-2003-0018653에서는 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 고굴절 광학렌즈용 수지 조성물에 관해 제안하고 있다. 이는 열안정제를 사용하여 열에 대한 색상 변화가 적고, 투명성이나 내열성 등이 우수하다. 하지만 중합 후 몰드와의 분리성이 나빠 탈형성이 좋지 않고, 촉매량을 늘이면 중합불균형이 발생하여 렌즈와 몰드 사이가 미리 분리되는 문제점이 있다.
본 발명에서는 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하는 것을 목적으로 한다. 즉, 본 발명에서는 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 고굴절 광학렌즈용 수지 조성물에서 중합 후 몰드와의 분리성이 나빠 탈형성이 좋지 않고, 촉매량을 늘이면 중합불균형이 발생하여 렌즈와 몰드 사이가 미리 분리되는 문제점이 있으며, 또한 실리콘계 이형제를 이용하면 백탁현상이 발생하여 투명성이 떨어지고 렌즈의 수율이 크게 저하되는 문제점을 해결하고자 한다.
이를 위해 본 발명에서는 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 고굴절 광학렌즈용 수지에 인산 에스테르 화합물의 내부이형제를 첨가함으로써 실리콘계 이형제의 백탁현상, 탈형성, 중합불균형으로 발생하는 렌즈와 몰드 사이에 미리 분리되는 현상, 낮은 렌즈 수율 및 열안정성 등의 문제점을 해결하고자 한다.
본 발명에서는 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 고굴절 광학렌즈용 수지 조성물에 인산 에스테르 화합물의 내부이형제를 첨가함으로써 기존의 실리콘계 이형제에 발생하는 백탁현상이나 탈형성의 문제를 해결하고, 또한, 중합 후, 렌즈와 몰드 사이에 미리 분리되는 현상인 중합불균형 및 내열성의 문제점을 해결하하였다.
본 발명에서는,
주성분으로 아래 화학식(I)로 표시되는 에폭시 아크릴레이트 30~80 중량%, 반응성 희석제 1종 또는 2종 이상 10~60 중량%, 그리고 내부이형제로 인산 에스테르 화합물 0.001~10 중량%를 포함하는 광학렌즈용 수지 조성물을 제공한다.
[화학식(I)]
삭제
Figure 112010082075445-pat00001
(여기서 n = 0~15 이고, R1은 H 또는 CH3이며 R2는 H 혹은 Br 이다)
상기 인산 에스테르 화합물은 바람직하게는 아래 화학식(Ⅱ)로 표시된다.
[화학식(Ⅱ)]
Figure 112010082075445-pat00002
(X, Y, Z는 수소, 할로겐, 직쇄 및 분기형 지방족, 방향족, 지방족기로 치환된 방향족, 방향족기로 치환된 지방족, 지환족, 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드가 부가된 알코올기로 치환된 지방족의 탄화수소기 및 할로겐원자로 치환된 지방족의 탄화수소기로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나로, 서로 같거나 다르다)
상기 광학렌즈용 수지 조성물은 바람직하게는 인계 열안정제를 더 포함할 수 있다.
바람직한 실시예에서, 상기 광학렌즈용 수지 조성물은 에폭시 아크릴레이트 30~80 중량%에, 열안정제 중 1종 또는 2종 이상을 0.01~5 중량% 혼합하고, 점도조절을 위하여 반응성 희석제 1종 혹은 2종 이상을 10~60 중량% 혼합하고, 그리고 분자량 조절제 0.01~10 중량% 혼합한 수지 조성물에 화학식(2)로 표시되는 내부이형제인 인산 에스테르를 혼합하여 얻은 광학학렌즈용 수지조성물로서, 주형중합하기 알맞은 액상점도가 25℃에서 20~1,000cps이고 수지 조성물의 액상굴절률(nE, 20℃)이 1.50~1.58, 고상굴절률(nE, 20℃)이 1.57~1.63 이며, 백탁이 없이 투명하고, 탈형성 및 열안정성이 우수한 에폭시 아크릴계 고굴절 광학 렌즈용 수지 조성물이다.
본 발명의 광학렌즈용 수지 조성물은 할로겐 비스페놀 A 디글리시딜 디아크릴레이트 화합물을 주 소재로 하는 광학 재료에 내부이형제인 인산 에스테르 화합물을 첨가하여 제조한 것으로서, 경량성, 성형성, 염색성, 내열성, 투명성 등의 광학특성이 우수하면서도 탈형성이 우수하여 중합불균형이 크게 줄어들어 렌즈 수율이 크게 높아졌다. 따라서, 본 발명의 렌즈는 기존의 문제점을 개선한 광학렌즈로서, 안경렌즈나 카메라 렌즈에 널리 사용될 수 있으며, 플라스틱 안경렌즈 및 안경렌즈에 편광필름을 장착한 3D 편광렌즈 외에 프리즘, 광섬유, 광디스크 등에 사용되는 기록 매체기판이나 착색필터와 자외선 흡수 필터의 다양한 광학제품에도 사용될 수 있다.
본 발명의 광학 렌즈용 수지조성물은 화학식(1)로 표시되는 수지 30~80 중량%에 반응성 희석제 1종 혹은 2종 이상을 10.0~60 중량%, 내부이형제로 인산 에스테르 화합물을 0.001~10 중량% 포함시켜 얻을 수 있다.
보다 바람직하게는 광학 렌즈용 수지조성물은, 화학식(1)로 표시되는 수지 39.5~80 중량%에 열안정제 중 1종 또는 2종 이상을 0.01~5 중량% 혼합하고, 점도조절을 위하여 반응성 희석제 1종 혹은 2종 이상을 10.0~60 중량%, 그리고 분자량 조절제 0.01~10 중량%를 혼합하여 얻은 수지 조성물에 화학식(2)로 표시되는 내부이형제인 인산 에스테르를 0.001~10 중량% 혼합하여 얻으며, 주형중합하기 알맞은 액상점도가 25℃에서 20~1,000cps이고 수지 조성물의 액상굴절률(nE, 20℃)이 1.50~1.58, 고상굴절률(nE, 20℃)이 1.57~1.63이다.
[화학식(1)]
Figure 112010082075445-pat00003
(여기서 n = 0~15 이고, R1은 H 또는 CH3이며 R2는 H 혹은 Br 이다)
본 발명에서 내부이형제로 사용되는 인산에스테르 화합물은 바람직하게는 화학식(Ⅱ)로 표시할 수 있다.
[화학식(Ⅱ)]
Figure 112010082075445-pat00004
(X, Y, Z는 수소, 할로겐, 직쇄 및 분기형 지방족, 방향족, 지방족기로 치환된 방향족, 방향족기로 치환된 지방족, 지환족, 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드가 부가된 알코올기로 치환된 지방족의 탄화수소기 및 할로겐원자로 치환된 지방족의 탄화수소기로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나로, 서로 같거나 다르다)
삭제
상기의 화학식(Ⅱ)로 표시되는 인산에스테르 화합물은, 예를 들어, (모노, 디)메틸 인산; (모노, 디)에틸인산; (모노, 디)(n-프로필)인산; (모노, 디)이소프로필인산; (모노, 디)(n-부틸)인산; (모노, 디)(n-펜틸)인산; (모노, 디)(n-헥실)인산; (모노,디)(n-헵틸)인산; (모노, 디)(n-옥틸)인산; (모노, 디)(2-에틸헥실)인산; (모노, 디)(n-노닐)인산; (모노, 디)(n-데실)인산; (모노, 디)(이소데실)인산; (모노, 디)(n-운데실)인산; (모노, 디)(n-도데실)인산; (모노, 디)(트리데실)인산; (모노, 디)(n-테트라데실)인산; (모노, 디)(n-펜타데실)인산; (모노, 디)(n-헥사데실)인산; (모노, 디)(n-옥타데실)인산; (모노, 디)(o-메틸데실)인산; (모노, 디)(p-메틸페닐)인산; (모노, 디)(p-에틸페닐)인산; (모노, 디)(p-프로필페닐)인산; (모노, 디)(p-부틸페닐)인산; (모노, 디)(p-노닐페닐)인산; (모노, 디)(p-메틸메틸)인산; (모노, 디)(2-페닐에틸)인산; (모노, 디)(4-페닐부틸)인산; (모노, 디)(3-옥사부틸)인산; (모노,디)(3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(3-옥사헥실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3-옥사옥틸실)인산; (모노, 디)(3-옥사노닐)인산; (모노, 디)(3-옥사운데실)인산; (모노, 디)(3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3-옥사펜타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사노나데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1,2-디메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(1-메틸-2-(o-메틸페녹시)에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸2-(p-노닐페녹시에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-4-페닐-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥타데실)인산; (3,6-디옥사이코실)인산; (3,6-디옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4-디메틸-3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사운데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타코실)인산; (모노, 디)(1,4,7-트리메틸-3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사헵사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사옥틸데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사이코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4,7,10-테트라메틸-3,6,9,12-테트라옥사헥사데실)인산; 트리이소프로필산 포스페이트; 트리부틸산 포스페이트; 트리옥틸산 포스페이트; 트리이소데실산 포스페이트; 트리데칸올산 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 트리메틸산 포스페이트; 트리에틸산 포스페이트; 트리프로필산 포스페이트; 벤질산 포스페이트; 디벤질산 포스페이트; 트리벤질산 포스페이트; 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 트리 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리에틸렌글리콜 모노 에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 디포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 포스페이트; 이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트 등의 화합물로 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 인산 에스테르 화합물은 상기의 화합물에 한정된 것이 아니고, 또한 단일 조성을 가진 화합물로 한정되지 않으며, 구체적으로 예시된 화합물의 혼합물이나 예시되지 않은 화합물과의 혼합물 모두 가능하다.
에폭시 아크릴레이트계 광학렌즈의 백탁이나 탈형성 문제를 해결하기 위해서 인산 에스테르 화합물의 내부이형제는 0.001~10.00 중량% 첨가하여 주는 것이 이상적이며, 0.001 중량% 이하일 때는 이형제를 역할을 못하며, 10.00 중량% 이상을 사용할 경우 렌즈의 백탁이 생기고 렌즈와 몰드 사이가 미리 분리될 수 있다. 바람직하게는 0.01~1.00 중량%에서 백탁이 없이 투명한 광학렌즈를 얻을 수 있었다.
본 발명에서, 광학렌즈용 수지 조성물의 광학특성을 향상시키기 위해 바람직하게는 인계 열안정제를 더 포함할 수 있는데, 이때 열안정제는 조성물 중에 0.01~5 중량%로 포함되는 것이 이상적임을 확인할 수 있었다. 열안정제를 0.01 중량% 이하로 사용할 때에는 열안정성 효과가 약하며, 5 중량% 이상을 사용할 때에는 경화시 중합불량률이 높고 경화물의 열안정성이 도리어 낮아지는 문제점이 있다. 예를 들면, 금속 지방산염계인 칼슘 스테아레이트; 바륨 스테아레이트; 아연 스테아레이트; 카드뮴 스테아레이트; 납 스테아레이트; 마그네슘 스테아레이트; 알루미늄 스테아레이트; 칼륨스테아레이트; 아연 옥토에이트 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용가능하며, 인계인 트리스(페닐)포스파이트; 디페닐데실포스파이트; 페닐디데실포스파이트; 디페닐도데실포스파이트; 트리노닐페닐포스파이트; 디페닐이소옥틸포스파이트; 트리부틸포스파이트; 트리프로필포스파이트; 트리에틸포스파이트; 트리메틸포스파이트; 트리스(데실)포스파이트; 트리스(페닐)포스파이트 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용가능하며, 납계인 3PbO.PbSO4.4H2O; 2PbO.Pb(C8H4O4); 3PbO.Ph(C4H2O4).H2O 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용가능하며, 유기주석계인 디부틸틴 디아우레이트; 디부틸틴말리에이트; 디부틸틴 비스(이소옥틸말리에이트); 디옥틸말리에이트; 디부틸틴 비스(모노메틸말리에이트); 디부틸틴 비스(라우릴메르캅티드); 디부틸 비스(이소옥실메르캅토아세테이트); 모노부틸틴 트리스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 디메틸틴비스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 트리스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 비옥틸틴비스(이소옥틸메르캅토아세테이트); 디부틸틴 비스(2-메르캅토에틸로레이트); 모노부틸틴트리스(2-메르캅토에티로레이트); 디메틸틴 비스(2-메르캅토에틸로이트); 모노메틸틴 트리스(2-메르캅토에틸로레이트) 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상 사용 가능하며, 또 예시한 열안정제를 2종 이상 혼합하여 사용하는 것도 가능하다. 더욱 바람직한 것은 인계의 열안정제를 사용함으로써 성형된 렌즈는 초기 색상뿐만 아니라 투명성, 충격강도, 내열성 등의 광학 특성 및 중합수율의 저하 없이 광학렌즈의 열안정성을 크게 향상시켜 주었다.
본 발명의 광학렌즈용 수지 조성물에서 점도조절을 위한 반응성 희석제는 조성성물 중에 10~60.0 중량%로 포함되면, 테이프나 합성수지 가스켓으로 조립된 유리몰드에 주입하기 좋은 액상의 점도가 25℃에서 20~1,000cps인 에폭시 아크릴계 고굴절 공학렌즈용 수지 조성물을 얻을 수 있다. 만약 액상의 점도가 20cps 이하이면 합성수지 가스켓으로 조립된 유리몰드에 액상 수지 조성물을 주입하여 성형할 때 조성물이 몰드 밖으로 흘러나오는 문제점이 있고, 액상의 점도가 1,000cps 이상이면 조성물을 몰드에 주입하기가 어려운 문제점이 있다. 더욱 바람직한 점도는 30~500cps이다. 광학렌즈용 수지 조성물의 점도조절을 위한 반응성 희석제는, 예를 들면, 스틸렌; 디비닐벤젠; 알파메틸스틸렌; 알파메틸스틸렌다이머; 벤질메타아크릴레이트; 클로로스틸렌; 브로모스틸렌; 메톡시스틸렌; 모노벤질말레이트; 디벤질말리에이트; 모노벤질푸말레이트; 디벤질푸말레이트; 메틸벤질말레이트; 디메틸말레이트; 디에틸말레이트; 디부틸말레이트; 디부틸푸말레이트; 모노부틸말레이트; 모노펜틸말레이트; 디펜틸말레이트; 모노펜틸푸말레이트; 디펜틸푸말레이트; 디에틸렌글리콜 비스아릴카르보네이트 등의 화합물 중 1종 혹은 2종 이상이 사용될 수 있으며, 위의 예시한 것에 한정되지 않고 사용될 수 있다. 모든 반응성 희석제는 정제하여 고순도로 얻은 후, 광학렌즈용 수지 조성물에 사용하였다.
에폭시 아크릴레이트계 광학렌즈용 수지 조성물의 중합불균형을 해결하기 위하여 분자량 조절제로 0.01~10 중량%를 사용하면 렌즈와 유리몰드 사이의 분리가 좋고, 중합불균형으로 인해 렌즈와 몰드 사이가 미리 분리되는 현상을 막을 수 있다. 하지만 0.01 중량% 미만을 사용하면 중합불균형을 해결하는 효과가 없으며, 10% 중량 이상을 사용하면 중합불균형이 일어날 수 있다. 특히, 2-메르캅토에탄올을 조합하여 경화시키 얻은 광학수지는 고굴절률, 고아베수, 고내열성, 저비중으로 충분한 수지강도를 균형적으로 만족시키고, 또한 염색성이 뛰어난 성능을 가져 바람직한 결과를 가져온다. 광학렌즈용 수지 조성물의 분자량 조절제는 분자의 말단기에 적어도 1개 또는/그리고 2개 이상의 티올기를 가지는 화합물이다. 예를 들면, 2-메르캅토에탄올; 1,2-에탄디티올; 1,1-프로판디티올; 1,2-프로판디티올; 1,3-프로판디티올; 2,2-프로판디티올; 1,6-헥산디티올; 1,2,3-프로판트리티올; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올; 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올; 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올; 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판; 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)-에탄; 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드; 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올; 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르; 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오에틸티오)프로판-1-티올; 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토프로피오네이트); 글리세롤 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올클로로 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토아세테이트); 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토아세테이트); 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토프로피오네이트) (PETMP); 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)(PETMA); 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(메르캅토프로피오네이트) (BPEHMP); 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스 (2-메르캅토아세테이트) (BPEHMA); 비스펜타에리트리톨헥사(2-메르캅토아세테이트)(BPEMA); 비스트리메틸올프로판테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) (BTMPMP); 비스트리메틸올프로판테트라키스(2-메르캅토아세테이트)(BTMPMA) 등으로 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 분자의 말단기에 적어도 1개 또는 2개 이상의 티올기를 가지는 화합물은 위의 예시한 것에 한정되는 것은 아니다.
본 발명은 화학식(1)로 표시되는 수지, 반응성 희석제 등에 화학식(2)로 표시되는 내부이형제를 혼합하여 얻은 광학렌즈용 수지 조성물은, 주형중합하기 알맞은 액상의 점도가 25℃에서 20~1,000cps이고, 수지 조성물의 액상굴절률(nE, 20℃)이 1.50~1.58 이고, 고상굴절률(nE, 20℃)이 1.57~1.63인 백탁이 없이 투명하며 탈형성이 좋고, 열안정성이 우수한 에폭시 아크릴계 고굴절 광학렌즈용 수지 조성물을 얻을 수 있다.
특히, 본 발명에서, 광학렌즈용 수지 조성물에 사용되는 에폭시 아크릴 수지 화합물과 반응성 희석제 화합물은 제조하기에 앞서 모든 원재료는 정제하였고, 90중량% 이상의 고순도 원재료를 사용하여 얻은 에폭시 아크릴 수지 화합물은 재정제하여 얻은 95중량% 이상의 고순도 에폭시 아크릴 수지 화합물을 광학렌즈용 수지 조성물에 이용하였고, 또한 95중량% 이상의 원재료를 정제하여 얻은 99중량% 이상의 고순도 반응성 희석제를 광학렌즈용 수지 조성물에 이용하였다.
또한 본 발명의 광학렌즈용 수지 조성물에는 광학 특성을 향상시키기 위하여 공지의 자외선 흡수제, 유기염료, 착색방지제, 산화방지제, 광안정제, 촉매 등을 통상의 방법에 따라 포함시킬 수 있다. 또, 유리몰드에서 성형된 광학렌즈를 쉽게 분리하기 위하여, 실리콘계 계면활성제 및 불소계 계면활성제 등을 첨가할 수 있다.
[ 실시예 ]
이하 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
에폭시 아크릴계 수지 화합물
(1) 성분(I) 화합물
성분(I) 화합물은 화학식(Ⅲ)에 나타내었고, 당량이 259이며, 평균 분자량이 518인 혼합물이다.
화학식(Ⅲ)
Figure 112010082075445-pat00005
(n = 0 ~ 15)
(2) 성분(Ⅱ) 화합물
성분(Ⅱ) 화합물은 화학식(Ⅳ)에 나타내었고, 당량이 273이며, 평균 분자량이 546인 혼합물이다.
화학식(Ⅳ)
Figure 112010082075445-pat00006
(n = 0 ~ 15)
(3) 성분(Ⅲ) 화합물
성분(Ⅲ) 화합물은 화학식(Ⅴ)에 나타내었고, 당량이 472이며, 평균 분자량이 944인 혼합물이다.
화학식(Ⅴ)
Figure 112010082075445-pat00007
(n = 0 ~ 15)
(4) 성분(Ⅳ) 화합물
성분(Ⅳ) 화합물은 화학식(Ⅵ)에 나타내었고, 당량이 486이며, 평균 분자량이 972인 혼합물이다.
화학식(Ⅵ)
Figure 112010082075445-pat00008
(n = 0 ~ 15)
실시예 1
광학 렌즈용 수지 조성물
앞서 얻은 에폭시 아크릴 광학수지 성분(I) 40g 및 에폭시 아크릴 광학수지 성분(Ⅱ) 25 g에 스틸렌 35g, TPP 2g, V65 0.1g, 2-Me 0.25g의 혼합물에 Zelec UN 0.01g을 첨가하여 광학 렌즈용 수지 조성물을 얻었다.
렌즈 제조
(1) 위와 같이 제조된 광학렌즈용 수지 조성물을 1 시간 교반 후, 10분간 감압탈포하고 폴리에스테르 점착테이프로 조립된 유리몰드에 주입하였다.
(2) 안경 렌즈용 수지조성물이 주입된 유리 몰드를 강제 순환식 오븐에서 35℃에서 100℃까지 서서히 가열경화시킨 후, 70℃로 냉각하여 유리몰드를 탈착하여 렌즈를 얻었다. 얻어진 렌즈는 아래와 같은 방법으로 물성을 측정하여 그 결과를 표 1에 나타내었다.
(3) (2)에서 얻은 광학렌즈를 지름 72㎜로 가공한 후 알카리 수성 세척액에 초음파 세척한 다음, 120℃에서 2시간 어닐링 처리하였다.
(4) (3)에서 얻은 렌즈를 KOH 5% 용액에 표면 에칭 후, (주)화인코터 하드액에 함침한 후 열경화시키고, 양면에 산화규소, 산화 지르코늄, 산화규소, ITO, 산화지르코늄, 산화규소, 산화 지르코늄, 수막(불소수지)을 진공 증착하여 하드코팅 및 멀티 코팅된 광학렌즈를 얻었다.
물성 실험방법
이하의 물성 실험방법으로 각 광학렌즈의 물성을 측정하여 그 결과를 아래 표 1에 기록하였다.
(1) 굴절률: Atago 사의 DR-M4 모델인 아베 굴절계를 사용하여 측정하였다.
(2) 이형성: 에폭시 아크릴계 수지 조성물을 열경화시키고 70℃에서 탈형시 플라스틱렌즈와 몰드사이의 분리할 때 분리시 쉽게 분리되면 ‘O', 쉽게 분리되지 않아 100의 유리몰드 중 3개 이상 깨어지면 'X' 로 표기하였다.
(3) 중합불균형: 공정에서 얻어진 렌즈 100개를 육안 및 석영 램프로 관찰하여 광학 왜곡이 3개 이상이 나타나면 ‘X' 이고, 광학왜곡이 나타나지 않으면 ’X'로 표기하였다.
실시예 2~6
실시예 1과 같은 방법으로 표 1에 기재된 조성에 따라 각각 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 물성을 실험하였으며, 그 결과를 표 1에 기재하였다.
비교예 1
에폭시 아크릴 광학수지 성분(I) 40g 및 에폭시 아크릴 광학수지 성분(Ⅱ) 25 g에 스틸렌 35g, TPP 2g, V65 0.1g, 2-Me 0.25g 및 KF96 0.01g을 혼합하여 광학 렌즈용 수지 조성물을 제조한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 그 특성을 표 1에 나타내었다.
비교예 2~4
비교예 1과 같은 방법으로 표 1에 기재된 조성에 따라 각각 광학렌즈용 수지 조성물 및 광학렌즈를 제조하고 물성을 실험하였으며, 그 결과를 표 1에 기재하였다.

 실 시 예 비 교 예
1 2 3 4 5 6 1 2 3 4

기본수지
(g)		 성분 I 40 40 40 40 40 40 40 40
성분 Ⅱ 40 40
성분 III 25 25 25 25 25 25 25
성분 IV 25 25 25
희석제 (g) 스틸렌 35 35 35 35 35 35 35
알파-메틸스틸렌 35 35 35
열안정제(g) TPP 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2
중합개시제(g) V65 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1

내부이형제
(g)		 Zelec UN 0.01 0.01 0.005 0.005
OP 0.01 0.005
DOP 0.01
KF96 0.01
FZ-2108 0.01
분자량
조절제(g)		 2-Me 0.25 0.25 0.25
GST 025 0.25 0.25
PETMP 0.25 0.25 0.25
렌즈
물성		 굴절율(nE, 20℃) 1.597 1.597 1.597 1.596 1.596 1.595 1.597 1.595 1.597 1.596
이형성 O O O O O O X X X X
중합불균형 O O O O O O O O O X

표 1에 나타난 결과를 보면 내부이형제인 실리콘계는 백탁발생으로 이형제로 사용하기에는 좋지 않았으며, 인산 에스테르가 들어간 것과 들어가지 않은 것과의 차이가 뚜렷하게 나타났다. 즉, 실시예에서 내부이형제가 들어간 것은 이형성이 좋았고, 중합불균형도 거의 보지 않았다. 하지만 비교예에서 분자량 조절제 및 안정제를 사용하면 중합불균형이 좋으나 탈형성의 문제가 여전히 남는 것으로 나타났다. 따라서, 에폭시 아크릴계 광학수지 조성물에 인산 에스테르계인 내부이형제를 사용함으로써 몰드와의 분리가 뛰어나 탈형성이 개선되었고, 열안정성, 내후성, 염색성, 가공성, 투명성, 렌즈의 초기 색상, 내열성 등이 우수하였으며, 렌즈를 수율을 크게 향상시켰다.
[약어]
내부이형제
Zelec UN: Stapan 사에서 제조되는 산성 인산에스테르로 상품명 Zelec UN
OP: 옥틸산 포스페이트(octyl acid phosphate)
DOP: 디옥틸산 포스페이트(dioctyl acid phosphate)
PENPP: 폴리옥시에틸렌옥틸페놀에테르 포스페이트(polyoxyethylene octyl phenol ether phosphate)
KF96: Shin-Etsu 사에서 제조되는 실리콘계 이형제로 상품명인 KF96
FZ-2018: Nippon Unicar 사에서 제조되는 실리콘계 이형제로 상품명인 FZ-2018
열안정제
TPP: 트리페닐포스파이트(triphenylphosphite)
중합개시제
V65: 2,2'-아조비스(2,4-디메틸바레노니트릴) (2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile)
분자량 조절제
2-Me: 2-메르갑토에탄올(2-mercaptoethanol)
GST: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올
(1,2-bis(2-mercaptoethylthio)propane-1-thiol)
PETMP: 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토프로피오네이트)
(pentaerytritol-tetrakis(mercaptopropionate))
본 발명에 따르면, 기존의 문제점인 중합 후 몰드와의 분리성이 나쁜 중합불균형 문제로 인해 렌즈 수율이 크게 저하되는 문제점이나 실리콘계 이형제를 사용하여 백탁이 발생하는 불투명의 문제를 해결할 수 있다. 본 발명에서는 내부이형제인 인산 에스테르의 사용으로 탈형성 및 중합불균형을 해결함으로써 경량성, 성형성, 염색성, 내열성, 투명성 등의 광학적인 특성이 우수하며, 또한 우수한 열안정성을 갖는 렌즈를 제공한다. 본 발명에 따른 광학렌즈는 특히 안경렌즈 및 카메라렌즈에 적용될 수 있으며, 안경렌즈에 편광필름을 장착한 3D 편광렌즈 등에 사용되고, 안경렌즈 외에도 프리즘, 광섬유, 광디스크, 자기디스크 등에 사용되는 기록매체 기판, 착색 필터, 자외선 흡수 필터 등의 다양한 광학제품으로 사용이 가능하다.

Claims (9)

  1. 주성분으로 아래 화학식(I)로 표시되는 에폭시 아크릴레이트 30~80 중량%, 반응성 희석제 1종 또는 2종 이상 10~60 중량%, 분자의 말단기에 적어도 1개 이상의 티올기를 가지는 화합물인 분자량 조절제 0.01~10 중량%, 그리고 내부이형제로 아래 화학식(Ⅱ)로 표시되는 인산 에스테르 화합물 0.001~10 중량%를 포함하는 광학렌즈용 수지 조성물.
    화학식(I)
    Figure 112017061687493-pat00009

    (여기서 n = 0~15 이고, R1은 H 또는 CH3이며 R2는 H 혹은 Br 이다)
    화학식(Ⅱ)
    Figure 112017061687493-pat00010

    (X, Y, Z는 수소, 할로겐, 직쇄 및 분기형 지방족, 방향족, 지방족기로 치환된 방향족, 방향족기로 치환된 지방족, 지환족, 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드가 부가된 알코올기로 치환된 지방족의 탄화수소기 및 할로겐원자로 치환된 지방족의 탄화수소기로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나로, 서로 같거나 다르다)
  2. 제1항에 있어서, 상기 분자량 조절제는 2-메르캅토에탄올; 1,2-에탄디티올; 1,1-프로판디티올; 1,2-프로판디티올; 1,3-프로판디티올; 2,2-프로판디티올; 1,6-헥산디티올; 1,2,3-프로판트리티올; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올; 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올; 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올; 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판; 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)-에탄; 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드; 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올; 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르; 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오에틸티오)프로판-1-티올; 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토프로피오네이트); 글리세롤 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올클로로 트리스(메르캅토프로피오네이트); 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토아세테이트); 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토아세테이트); 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토프로피오네이트) (PETMP); 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)(PETMA); 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(메르캅토프로피오네이트) (BPEHMP); 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스 (2-메르캅토아세테이트) (BPEHMA); 비스펜타에리트리톨헥사(2-메르캅토아세테이트)(BPEMA); 비스트리메틸올프로판테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) (BTMPMP); 비스트리메틸올프로판테트라키스(2-메르캅토아세테이트)(BTMPMA) 중에서 선택된 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 반응성 희석제는 스틸렌; 디비닐벤젠; 알파메틸스틸렌; 알파메틸스틸렌다이머; 벤질메타아크릴레이트; 클로로스틸렌; 브로모스틸렌; 메톡시스틸렌; 모노벤질말레이트; 디벤질말리에이트; 모노벤질푸말레이트; 디벤질푸말레이트; 메틸벤질말레이트; 디메틸말레이트; 디에틸말레이트; 디부틸말레이트; 디부틸푸말레이트; 모노부틸말레이트; 모노펜틸말레이트; 디펜틸말레이트; 모노펜틸푸말레이트; 디펜틸푸말레이트; 디에틸렌글리콜 비스아릴카르보네이트 화합물 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 인계 열안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 인산 에스테르 화합물은 (모노, 디)메틸 인산; (모노, 디)에틸인산; (모노, 디)(n-프로필)인산; (모노, 디)이소프로필인산; (모노, 디)(n-부틸)인산; (모노, 디)(n-펜틸)인산; (모노, 디)(n-헥실)인산; (모노,디)(n-헵틸)인산; (모노, 디)(n-옥틸)인산; (모노, 디)(2-에틸헥실)인산; (모노, 디)(n-노닐)인산; (모노, 디)(n-데실)인산; (모노, 디)(이소데실)인산; (모노, 디)(n-운데실)인산; (모노, 디)(n-도데실)인산; (모노, 디)(트리데실)인산; (모노, 디)(n-테트라데실)인산; (모노, 디)(n-펜타데실)인산; (모노, 디)(n-헥사데실)인산; (모노, 디)(n-옥타데실)인산; (모노, 디)(o-메틸데실)인산; (모노, 디)(p-메틸페닐)인산; (모노, 디)(p-에틸페닐)인산; (모노, 디)(p-프로필페닐)인산; (모노, 디)(p-부틸페닐)인산; (모노, 디)(p-노닐페닐)인산; (모노, 디)(p-메틸메틸)인산; (모노, 디)(2-페닐에틸)인산; (모노, 디)(4-페닐부틸)인산; (모노, 디)(3-옥사부틸)인산; (모노,디)(3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(3-옥사헥실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3-옥사옥틸실)인산; (모노, 디)(3-옥사노닐)인산; (모노, 디)(3-옥사운데실)인산; (모노, 디)(3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3-옥사펜타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3-옥사노나데실)인산; (모노, 디)(3-옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사펜틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1,2-디메틸-3-옥사헵틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-3-옥사트리데실)인산; (모노, 디)(1-메틸-2-(o-메틸페녹시)에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸2-(p-노닐페녹시에틸)인산; (모노, 디)(1-메틸-4-페닐-3-옥사부틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헵틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥틸)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사헥사데실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사옥타데실)인산; (3,6-디옥사이코실)인산; (3,6-디옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6-디옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4-디메틸-3,6-디옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사운데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타데실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헤니코실)인산; (모노, 디)(3,6,9-트리옥사헵타코실)인산; (모노, 디)(1,4,7-트리메틸-3,6,9-트리옥사트리데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사헵사데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사옥틸데실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사이코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사도코실)인산; (모노, 디)(3,6,9,12-테트라옥사테트라코실)인산; (모노, 디)(1,4,7,10-테트라메틸-3,6,9,12-테트라옥사헥사데실)인산; 트리이소프로필산 포스페이트; 트리부틸산 포스페이트; 트리옥틸산 포스페이트; 트리이소데실산 포스페이트; 트리데칸올산 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 트리메틸산 포스페이트; 트리에틸산 포스페이트; 트리프로필산 포스페이트; 벤질산 포스페이트; 디벤질산 포스페이트; 트리벤질산 포스페이트; 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 트리 폴리옥시에틸렌 노닐 페놀에테르 포스페이트; 비스(트리데칸올산) 포스페이트; 에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 트리에틸렌글리콜 모노 에틸 포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 디포스페이트; 디에틸렌글리콜 모노부틸 포스페이트; 이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 디이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트; 및 트리이소프로필렌글리콜 모노에틸 포스페이트로 구성된 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 에폭시 아크릴레이트는 90중량% 이상의 고순도 원재료를 사용하여 에폭시 아크릴 화합물을 얻은 후 이를 재정제하여 얻은 95중량% 이상의 고순도 에폭시 아크릴레이트 화합물인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물.
  7. 제1항 또는 제6항에 있어서, 상기 반응성 희석제는 95중량% 이상의 원재료를 정제하여 얻은 98중량% 이상의 고순도 반응성 희석제인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 수지 조성물.
  8. 제2항의 광학렌즈용 수지 조성물을 열경화시켜 얻은 플라스틱 안경렌즈.
  9. 제2항의 광학렌즈용 수지 조성물을 열경화시켜 얻은 플라스틱 렌즈에 편광필름을 장착한 편광렌즈.








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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101910131B1 (ko) * 2018-02-23 2018-10-19 에스케이씨 주식회사 인계 이형제, 이를 포함하는 광학용 중합성 조성물 및 이의 제조방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101227436B1 (ko) * 2011-03-22 2013-01-29 주식회사 케이오씨솔루션 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지의 주형 중합 방법 및 내부 이형제를 포함한 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물
WO2013187539A1 (ko) * 2012-06-13 2013-12-19 주식회사 케이오씨솔루션 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지의 주형 중합 방법 및 내부 이형제를 포함한 에폭시 아크릴계 광학렌즈용 수지 조성물
CN104520376B (zh) * 2012-08-14 2016-10-05 可奥熙搜路司有限公司 环氧丙烯酸类光学材料用聚合性组合物及环氧丙烯酸类光学材料的制备方法
WO2014035120A1 (ko) * 2012-08-27 2014-03-06 주식회사 케이오씨솔루션 저장 안정성이 향상된 에폭시 아크릴계 광학재료용 중합성 조성물 및 에폭시 아크릴계 광학재료의 제조방법
KR102190014B1 (ko) * 2012-08-27 2020-12-11 주식회사 케이오씨솔루션 에폭시 아크릴계 광학재료용 중합성 조성물 및 에폭시 아크릴계 광학재료의 제조방법
CN104583252B (zh) * 2012-08-28 2017-03-29 可奥熙搜路司有限公司 环氧丙烯酸类光学材料用聚合性组合物及环氧丙烯酸类光学材料的制备方法
KR102117129B1 (ko) * 2013-12-18 2020-06-02 주식회사 케이오씨솔루션 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100498896B1 (ko) * 2003-03-25 2005-07-04 장동규 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 고굴절 광학 렌즈용 수지 조성물
KR100685067B1 (ko) 2002-02-20 2007-02-22 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 수지 조성물 및 광학소자
KR100912274B1 (ko) 2007-08-01 2009-08-17 주식회사 신대특수재료 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지 및 이를 이용한 광학렌즈

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100685067B1 (ko) 2002-02-20 2007-02-22 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 수지 조성물 및 광학소자
KR100498896B1 (ko) * 2003-03-25 2005-07-04 장동규 에폭시 아크릴레이트를 주성분으로 하는 고굴절 광학 렌즈용 수지 조성물
KR100912274B1 (ko) 2007-08-01 2009-08-17 주식회사 신대특수재료 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지 및 이를 이용한 광학렌즈

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101910131B1 (ko) * 2018-02-23 2018-10-19 에스케이씨 주식회사 인계 이형제, 이를 포함하는 광학용 중합성 조성물 및 이의 제조방법
US11248011B2 (en) 2018-02-23 2022-02-15 Skc Co., Ltd. Phosphorus-based releasing agent, optical polymerizable composition comprising same and preparation thereof

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