KR101775577B1 - 매체 마스터 상에 서보 패턴을 형성하기 위한 시스템 및 방법 - Google Patents

매체 마스터 상에 서보 패턴을 형성하기 위한 시스템 및 방법 Download PDF

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KR101775577B1
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Abstract

매체 상에 서보 패턴을 생성하는 것은 마스터를 회전하는 것, 및 마스터의 제 1 회전 동안, 마스터 상의 제 1 방사상 위치에 제 1 변이부를 형성하는 것 그리고 제 2 방사상 위치에 제 1 변이부를 형성하는 것을 수반한다. 마스터의 제 2 회전 동안, 제 1 방사상 위치에서 제 2 변이부가 형성되고, 제 2 방사상 위치에서 제 2 변이부가 형성된다. 개별 디스크 회전들에서, 제 1 및 제 2 방사상 위치들에 위치왼 개별 서보 버스트 변이부들을 노출함으로써, 자기 변이부들 중 단지 하나의 자기 변이부만이 공칭 방사상 위치로부터의 특정 편향을 승계할 것이다. 임의의 기계적 장애들이 있는 경우, 각각의 자기 변이부는 그의 공칭 위치로부터 랜덤하게 변위되어, 기록-입력 런-아웃을
Figure 112011067599080-pat00002
n 만큼 감소시킬 것이며, 여기서 n은 특정 서보 버스트에서 자기 변이부들의 수이다.

Description

매체 마스터 상에 서보 패턴을 형성하기 위한 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD FOR FORMING A SERVO PATTERN ON A MEDIA MASTER}
본 발명은 마스터 디스크 상에 서보 패턴을 형성하기 위한 장치들 및 방법들에 관한 것으로, 본원 발명의 배경이 되는 기술은 US 6,643,082 B1 (2003.11.04. 공고)에 개시되어 있다.
본 개시물의 실시예들은 전반적으로 마스터 디스크 상에 서보 패턴을 형성하기 위한 장치들 및 방법들에 관한 것이다. 다양한 실시예들은 마스터를 회전하는 단계, 및 마스터의 제 1 회전 동안, 마스터 상의 제 1 공칭 방사상 위치에 제 1 변이부(transition)를 그리고 마스터 상의 제 2 공칭 방사상 위치에서 제 1 변이부를 형성하는 단계를 수반한다. 마스터의 제 2 회전 동안, 마스터 상의 제 1 공칭 방사상 위치에서 제 2 변이부가 형성되며, 마스터 상의 제 2 공칭 방사상 위치에서 형성될 경우 제 2 변이부가 형성된다. 통상적으로, 변이부들은 마스터를 레코딩 빔(recording beam)에 노출함으로써 마스터 상에 형성된다. 다양한 실시예들은 노출된 마스터로부터 스탬퍼(stamper)를 형성하는 단계 및 스탬퍼를 이용하여 매체 상에 서보 패턴들을 형성하는 단계를 수반한다.
다른 실시예들은 마스터를 회전하는 단계 및 마스터의 회전 동안 마스터 상에 서보 패턴을 노출하는 단계를 수반하며, 서보 패턴은 마스터 상의 상이한 방사상 위치들에서 다수의 서보 버스트(servo burst)들을 포함한다. 각각의 서보 버스트는 다수의 변이부들을 포함하며, 각각의 서보 버스트에서 다수의 변이부들은 마스터의 개별 회전시 개별적으로 노출된다. 일부 실시예들에서, 공칭 방사상 위치로부터 서보 버스트의 다수의 변이부들 중 각각의 하나에 대한 변위(displacement)들은 랜덤화된다. 예를 들어, 각각의 변이부는 변이부 내의 상이한 각각의 방사상 위치들에서 다수의 스폿(spot)들을 포함할 수 있으며, 버스트 내에서 인접한 변이부들의 스폿들은 마스터의 동일한 회전 동안 변이부 내의 상이한 각각의 방사상 위치들에 노출될 수 있다. 각각의 변이부는 변이부 내의 상이한 각각의 방사상 위치들에서 다수의 스폿들을 포함할 수 있고, 버스트 내의 동일한 공칭 방사상 위치에서 인접한 변이부들의 스폿들은 마스터의 개별 회전들에 노출될 수 있다.
일부 실시예들에서, 서버 패턴을 노출하는 단계는 제 1 회전으로 마스터를 회전하는 단계 및 제 1 회전 동안 제 1 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 1 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성하는 단계 및 제 1 회전 동안 제 2 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 2 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성하는 단계를 수반할 수 있다. 서보 패턴을 노출하는 단계는 제 2 회전으로 마스터를 회전하는 단계 및 제 2 회전 동안 제 1 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 1 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성하는 단계 및 제 2 회전 동안 제 2 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 2 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성하는 단계를 수반할 수 있다.
다양한 실시예들에 따라, 매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 어레인지먼트(arrangement)는 마스터 디스크 기록기(writer) 및 마스터 디스크 기록기에 연결된 제어기를 포함한다. 제어기는 마스터 디스크의 회전 동안 마스터 디스크 상에서 서보 패턴이 노출되도록 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성된다. 서보 패턴은 바람직하게 마스터 디스크 상의 상이한 방사상 위치들에서 다수의 서보 버스트들을 포함하며, 각각의 서보 버스트는 다수의 변이부들을 포함하며, 각각의 서보 버스트에 있는 다수의 변이부들은 마스터 디스크의 개별 회전들에서 개별적으로 노출된다.
제어기는 제 1 회전으로 마스터 디스크를 회전시키고 제 1 회전 동안 제 1 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 1 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성하고 제 1 회전 동안 제 2 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 2 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성함으로써, 서보 패턴이 노출되도록 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 제어기는 제 2 회전으로 마스터 디스크를 회전시키고 제 2 회전 동안 제 1 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 1 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성하고 제 2 회전 동안 제 2 방사상 위치에서 서보 버스트들 중 제 2 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성함으로써, 서보 패턴이 노출되도록 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성될 수 있다.
각각의 변이부는 변이부 내의 상이한 각각의 방사상 위치들에서 다수의 스폿들을 포함할 수 있으며, 제어기는 마스터의 동일한 회전 동안 변이부 내의 상이한 각각의 방사상 위치들에서 버스트 내의 인접한 변이부들의 스폿들을 노출하도록 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성될 수 있다. 각각의 변이부는 변이부 내의 상이한 각각의 방사상 위치들에서 다수의 스폿들을 포함하며, 제어기는 마스터의 개별 회전들에서 버스트 내의 동일한 공칭 방사상 위치에서 인접한 변이부들의 스폿들을 노출하도록 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성될 수 있다. 제어기는 마스터 디스크 상의 상이한 방사상 위치들에서 서보 버스트들이 노출될 때 일반적으로 대각선 방향으로 노출 빔이 이동하게 끔 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성될 수 있다.
본 개시물의 다양한 실시예들을 특징으로 하는 이러한 및 다른 특징들 및 양상들은 하기 상세한 설명 및 첨부되는 도면들을 참조로 이해될 것이다.
도 1은 다양한 실시예들에 따른 널 패턴(null pattern)을 기록하기 위한 전시(exposition) 방식을 도시한다.
도 2는 다양한 실시예들에 따라 다수의 트랙들을 이용하는 전시 방식을 도시한다.
도 3은 스폿 전시 영역을 갖는 마스터링 장비에 대한 다양한 실시예에 따른 전시 방식을 도시한다.
도 4는 다양한 실시예들에 따른 마스터 어레인지먼트의 블록 다이어그램이다.
다양한 실시예들은 매체 상에 서보 패턴을 형성하는 것에 관한 것으로, 이는 기록-입력 런-아웃(written-in run-out)의 감소를 위해 제공되는 실시예들을 포함한다. 하드 디스크 드라이브들에서, 헤드 위치설정 서보 시스템은 디스크 표면과 관련하여 레코딩 헤드의 위치의 정확한 측정을 요구한다. 이는 통상적으로, 제조 동안 디스크들의 표면상에 특정한 서보 마크들을 기록함으로써 달성된다. 통상적으로, 이러한 서보 마크들은 매우 정확한 서보 트랙 기록 머신을 이용하여 기록된다. 하드 디스크 드라이브들의 트랙 밀도가 증가함에 따라, 서보 트랙 기록 머신이 정확성 요구조건이 수행된다.
일 방안에 따라, 노출되지 않은 마스터 디스크는 회전 테이블 상에 위치된다. 레이저 빔 또는 전자 빔은 디스크 표면과 관련하여 방사상 방향으로 편향될 수 있고/편향될 수 있거나 회전 테이블은 빔과 관련하여 방사상 이동될 수 있다. 이러한 방사상 위치설정 구성들 중 하나 또는 둘다의 사용으로, 마스터 디스크 표면은 빔에 의해 순환적으로 스캔되며, 원하는 서보 패턴이 적절한 위치들에서의 빔 턴온 및 턴 오프에 의해 노출된다. 마스터링 장비의 정확도는 중요하며, 이는 마스터 생성 프로세스에서의 임의의 에러들은 복제된(replicated) 디스크들에 의해 승계될 수 있기 때문이다. 예를 들어, 임의의 기계적 불안정성, 공명 및 다른 장애들은 부정확성들을 산출할 수 있다.
서보 섹터들은 트랙 중심부와 관련하여 헤드의 위치를 결정하는데 이용된다. 방사상 방향에서, 서보 섹터들은 서보 웨지(wedge)들을 형성하도록 정렬될 수 있다. 예를 들어, 수백개의 서보 웨지들이 각각의 디스크 표면상에 형성될 수 있다. 각각의 서보 섹터는 대략적(coarse) 위치 정보(트랙 수)를 제공하기 위해 그레이 코드 필드를 포함하고, 미세한(fine) 위치 정보를 제공하기 위해 서보 버스트 필드를 포함할 수 있다. 각각의 서보 버스트는 드라이브의 판독 트랜스듀서(헤드)에서 신호들을 생성하는 하나 이상의 변이부들을 포함할 수 있고, 구적(quadrature) 또는 널(null) 서보 패턴을 형성하도록 배열될 수 있다.
통상적으로, 디스크 드라이브의 트랙 중심부는 2개의 인접한 서보 버스트들의 변이부에 의해 한정된다. 이상적으로, 버스트들 간의 변이부 포인트들은 완벽한 원(perfect circle) 상에 놓인다. 그러나, 노출 빔의 위치설정시 임의의 부정확성이 있다면, 버스트 변이부들은 이들의 공칭 위치들로부터 편향되며, 변이부들은 더 이상 완벽한 원을 형성하지 않는다. 대체로 비-순환성(non-circularity)이 기록-입력 런-아웃으로 간주된다. 디스크들이 디스크 드라이브에 장착될 때, 이러한 기록-입력 런-아웃은 원치않은 반복적 런-아웃(RRO)을 야기시킨다. 마스터링 프로세스 동안 기록-입력 런-아웃은 통상적으로 다양한 기계적 장애들 및 공명에 이해 야기된다. 이러한 장애의 주파수 범위는 통상 수백 헤르츠 이하이다. 이러한 주파수 범위는 마스터 디스크 회전들의 주파수보다 상당히 높지만, 이는 서보 섹터들이 서로 이어지는 주파수 보다 상당히 낮다.
몇 개의 실시예들이 널 서보 패턴과 관련하여 개시될 것이다. 그러나 당업자들은 개시되는 장치들 및 방법들이 구적 패턴, 위상 패턴, 등과 같은 다른 형태의 서보 패턴들에도 적용될 수 있다는 것을 인식해야 한다. 또한, 본 명세서에 개시되는 실시예들은 다양한 형태들의 마스터링 장비, 이를 테면, 레이저 빔 장치, 전자 빔 장치 등에 이용될 수 있다.
도 1은 다양한 실시예들에 따른 전시 방식을 도시한다. 중요하게, A 버스트(42) 및 B 버스트(44) 내의 변이부들(40) 각각은 동일한 회전으로 기록되지 않는다. 도 1에서 변이부들(40)를 표시하는 직사각형들은 레이저 또는 전자 빔에 의해 마스터 디스크에 감광성층을 노출함으로써 생성된다. 직사각형들의 수는 마스터 디스크 회전들, 즉 마스터 생성 프로세스 동안 레이저 빔의 통과들을 나타낸다. 노출된 그리고 노출되지 않은 영역들은 궁극적으로 복제 프로세스 동안 자기 디스크들의 표면상에서 자기 변이부들이 된다.
도 1에 따른 실시예들은 제 1 회전 동안 제 1 버스트(42)에서의 변이부 및 동일한 제 1 회전 동안 제 2 버스트(44)에서의 변이부의 노출을 야기시키기 위해 제공된다. 다른 말로, 제 1 회전 동안, 제 1 변이부(40)는 제 1 공칭 방사상 위치(버스트 (42))에 형성되며 제 1 변이부(40)는 제 2 공칭 방사상 위치(버스트(44))에 형성된다. 노출 및 마스터 디스크의 회전들은 인식되는 바와 같이 연속되며, 제 1 및 제 2 공칭 방사상 위치들에서의 노출들은 각각의 회전 동안 이루어진다.
개별 디스크 회전들에서, 제 1 및 제 2 공칭 방사상 위치들에 위치된 개개의 서보 버스트 변이부들을 노출함으로써, 자기 변이부들(40) 중 단지 하나의 변이부만이 공칭 방사상 위치로부터의 특정 편향을 승계할 것이다. 기계적 장애들이 디스크 회전들과 상관되지 않는다고 가정하면, 각각의 섹터에서의 편향은 랜덤 변수(random variable)인 것으로 고려될 수 있다. 따라서, 각각의 자기 변이부(40)는 그의 공칭 위치로부터 랜덤하게 변위될 것이다. 특정한 서보 섹터에서 트랙 중심부가 자기 변이부들(40)의 평균에 의해 결정되기 때문에, 기록-입력 런-아웃은
Figure 112011067599080-pat00001
n 만큼 감소되며, 여기서 n은 특정 서보 버스트에서 자기 변이부들(40)의 수이다.
도 1의 실시예에서, 기계적 장애들에 의해 야기되는 임의 에러들은 버스트의 변이부들을 통해 유지되기 보다는 평균화될 것이다. 따라서, 공칭 트랙 중심부 및 실제 트랙 중심부는 본 개시물의 실시예들에 따라 생성된 도 2의 널 패턴에서 동일하다.
앞서 본 명세서에서 개시된 것처럼 매체 상에 서보 패턴을 형성하는 것에 관한 실시예들은 도 2에 기술된 것처럼 확장될 수 있다. 도 2는 더 많은 수의 트랙들(50-58)에 적용되는 전시(exposition) 방식을 도시한다. 이러한 실시예에서, 변이부들(40)은 마스터 디스크의 각각의 회전 동안 큰 수의 트랙들 상에 노출된다. 이는 패턴들이 기록되기 요구하는 여분의 회전들의 수를 감소시키는 장점을 갖는다.
도 3은 사용되는 스폿들을 노출하는 마스터링 장비를 이용한 사용을 위해 다양한 실시예들에 따른 전시 방식을 도시한다. 노출 스폿(72)을 표현하는 원들 내에서의 숫자들로부터 알 수 있듯이, 인접한 변이부들(70)(예를 들어, 버스트(74) 내의 변이부들(70a, 70b))의 스폿들은 마스터 디스크의 동일한 회전 동안 상이한 각각의 방사상 위치들에 형성된다. 예를 들어, 마스터 디스크의 제 1 회전 동안, 스폿은 변이부(70a)의 최상부 공칭 방사상 위치에 노출된다. 이러한 동일한 회전 동안, 스폿은 변이부(70b)의 제 2-최상부 공칭 방사상 위치에 노출된다. 이런 방식으로 스폿들을 노출하는 것은 제시된 버스트 또는 방사상 이격된 일련의 버스트들에 대한 버스트 변이부의 가장안쪽 또는 가장바깥쪽 스폿에서 시작하는, 전반적으로 경사진 또는 대각선 방향으로 레이저 또는 전자 빔을 이동함으로써 달성된다. 이는 마스터 디스크의 제 1 회전 동안 버스트(76)에서 변이부(70c)의 최상부 공칭 방사상 위치에 스폿이 노출되는 식으로 지속된다. 따라서, 다양한 실시예들은 동일한 회전 보다는, 마스터의 개별 회전들에서 버스트 내의 동일한 공칭 방사상 위치에서 인접한 변이부들의 스폿들을 노출하는 것을 수반한다.
도 4는 다양한 실시예들에 따른 마스터 디스크를 형성하도록 구성된 마스터링 장비의 블록 다이어그램을 도시한다. 제어기(80)는 앞서 도시되고 개시된 예시적 전시 방식들에 따라, 마스터 디스크(84)를 기록하기 위해 마스터 디스크 기록기(82)를 제어하도록 구성된다. 제어기(80)는 메모리(85)에 저장된 실행가능한 제어 소프트웨어(83)에 따라, 프로그램 명령들을 실행하도록 구성될 수 있는 프로세서(81)에 통합 또는 연결된다. 제어기(80)는 앞서 개시된 실시예들에 따른 노출들을 형성하기 위해, 전자 빔, 또는 레이저 빔 기록기들과 같은 임의의 다수의 다른 형태들일 수 있는 마스터링 장비를 제어한다.
다양한 실시예들은 회전들 동안 변이부들의 전시 또는 변이부들의 스폿들의 순서정렬(ordering)의 예들에 따라 앞서 개시되었다. 도면들에 도시된 특정한 순서정렬은 단지 예시적인 것으로, 다른 노출 순서정렬들, 회전 수들 등이 이용될 수 있다는 것을 인식해야 한다.
다양한 실시예들의 구조 및 기능에 대한 상세한 설명과 함께 다양한 실시예들의 다수의 특징들 및 양상들이 상기 설명에서 개시되었지만, 이러한 상세한 설명은 단지 예시적인 것이며, 특히 첨부되는 청구항들에 표현되는 용어들의 범용성 의미에 의해 표시되는 전체 범위에 따라 부품들의 정렬들 및 구조들과 관련하여 변경들이 구체적으로 구성될 수 있다는 것이 이해될 것이다.

Claims (8)

  1. 매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 장치로서,
    마스터 디스크 기록기; 및
    상기 마스터 디스크 기록기에 연결된 제어기
    를 포함하며, 상기 제어기는 마스터 디스크의 회전 동안 상기 마스터 디스크 상에 서보 패턴(servo pattern)을 노출하기 위해 상기 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성되며, 상기 서보 패턴은 상기 마스터 디스크 상의 상이한 방사상 위치들에서 복수의 서보 버스트들(servo bursts)을 포함하며, 각각의 서보 버스트는 복수의 변이부들(transitions)을 포함하며, 상기 제어기는 제 1 방사상 위치에서 적어도 하나의 서보 버스트의 적어도 하나의 변이부로 하여금 제 2 방사상 위치에서 적어도 하나의 서보 버스트의 적어도 하나의 변이부가 노출되는 상기 마스터 디스크의 동일한 회전에서 노출되게 하도록 구성되는,
    매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 장치.
  2. 매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 장치로서,
    마스터 디스크 기록기; 및
    상기 마스터 디스크 기록기에 연결되는 제어기
    를 포함하며, 상기 제어기는,
    제 1 회전으로 마스터 디스크를 회전시키고 상기 제 1 회전 동안 제 1 방사상 위치에서 복수의 서보 버스트들 중 제 1 서보 버스트의 제 1 변이부(transition)를 형성하고 상기 제 1 회전 동안 제 2 방사상 위치에서 상기 복수의 서보 버스트들 중 제 2 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성함으로써, 상기 마스터 디스크 상에 서보 패턴을 노출하기 위해 상기 마스터 디스크 기록기를 제어하고; 그리고
    제 2 회전으로 상기 마스터 디스크를 회전시키고 상기 제 2 회전 동안 상기 제 1 방사상 위치에서 상기 복수의 서보 버스트들 중 상기 제 1 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성하고 상기 제 2 회전 동안 상기 제 2 방사상 위치에서 상기 복수의 서보 버스트들 중 제 2 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성함으로써, 상기 마스터 디스크 상에 서보 패턴을 노출하기 위해 상기 마스터 디스크 기록기를 제어하도록,
    구성되는,
    매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    각각의 변이부는, 상기 각각의 변이부 내 상이한 각각의 방사상 위치들에 복수의 스폿(spot)들을 포함하며, 상기 제어기는,
    상기 마스터 디스크의 동일한 회전 동안 상기 각각의 변이부 내 상기 상이한 각각의 방사상 위치들에서 버스트 내의 인접한 변이부들의 스폿들을 노출하기 위해 상기 마스터 디스크 기록기를 제어하거나; 또는
    상기 마스터 디스크의 개별 회전들에서 버스트 내의 동일한 공칭 방사상 위치에서 인접한 변이부들의 스폿들을 노출하기 위해 상기 마스터 디스크 기록기를 제어하도록,
    구성되는,
    매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 마스터 디스크 상의 상이한 방사상 위치들에서 서보 버스트들이 노출될 때, 노출 빔이 전반적으로 대각선 방향으로 이동하게 하기 위해 상기 마스터 디스크 기록기를 제어하도록 구성되는,
    매체 상에 서보 패턴을 생성하기 위한 장치.
  5. 서보 패터닝된 마스터를 형성하는 방법으로서,
    마스터를 회전하는 단계; 및
    상기 마스터의 회전 동안 상기 마스터 상에 서보 패턴을 노출하는 단계
    를 포함하며, 상기 서보 패턴은 상기 마스터 상의 상이한 방사상 위치들에 복수의 서보 버스트들을 가지며, 각각의 서보 버스트는 복수의 변이부들을 포함하며,
    제 1 방사상 위치에서 적어도 하나의 서보 버스트의 적어도 하나의 변이부는 제 2 방사상 위치에서 적어도 하나의 서보 버스트의 적어도 하나의 변이부가 노출되는 상기 마스터의 동일한 회전에서 노출되는,
    서보 패터닝된 마스터를 형성하는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    공칭 방사상 위치로부터 서보 버스트의 상기 복수의 변이부들 중 각각의 변이부들의 변위(displacement)들은 랜덤화되는,
    서보 패터닝된 마스터를 형성하는 방법.
  7. 서보 패터닝된 매체를 형성하는 방법으로서,
    마스터를 회전하는 단계;
    상기 마스터의 회전 동안 상기 마스터 상에 서보 패턴을 노출시키는 단계 ― 상기 서보 패턴은 상기 마스터 상의 상이한 방사상 위치들에서 복수의 서보 버스트들을 포함하며, 각각의 서보 버스트는 복수의 변이부들을 포함함―;
    상기 마스터의 제 1 회전 동안, 상기 마스터 상의 제 1 방사상 위치에는 적어도 하나의 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성하고, 그리고 제 2 방사상 위치에는 적어도 하나의 서보 버스트의 제 1 변이부를 형성하는 단계; 및
    상기 마스터의 제 2 회전 동안, 상기 제 1 방사상 위치에는 상기 적어도 하나의 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성하고, 그리고 상기 제 2 방사상 위치에는 상기 적어도 하나의 서보 버스트의 제 2 변이부를 형성하는 단계
    를 포함하는,
    서보 패터닝된 매체를 형성하는 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 마스터의 n번째 회전 동안, 상기 제 1 방사상 위치에는 n번째 변이부를 그리고 상기 제 2 방사상 위치에는 n번째 변이부를 형성하는 단계를 더 포함하며, 상기 n은 2보다는 큰 정수인,
    서보 패터닝된 매체를 형성하는 방법.
KR1020110087146A 2010-08-31 2011-08-30 매체 마스터 상에 서보 패턴을 형성하기 위한 시스템 및 방법 KR101775577B1 (ko)

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