KR101774067B1 - Process for production of silica-alumina sol, silica-alumina sol, coating agent for formation of transparent coating film which comprises the sol, and substrate having transparent coating film attached thereto - Google Patents

Process for production of silica-alumina sol, silica-alumina sol, coating agent for formation of transparent coating film which comprises the sol, and substrate having transparent coating film attached thereto Download PDF

Info

Publication number
KR101774067B1
KR101774067B1 KR1020127015623A KR20127015623A KR101774067B1 KR 101774067 B1 KR101774067 B1 KR 101774067B1 KR 1020127015623 A KR1020127015623 A KR 1020127015623A KR 20127015623 A KR20127015623 A KR 20127015623A KR 101774067 B1 KR101774067 B1 KR 101774067B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
silica
concentration
alumina
alumina fine
fine particles
Prior art date
Application number
KR1020127015623A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20120095984A (en
Inventor
와타루 후타가미
유코 하코시마
마사유키 마쓰다
료 무라구치
Original Assignee
닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 filed Critical 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤
Publication of KR20120095984A publication Critical patent/KR20120095984A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101774067B1 publication Critical patent/KR101774067B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/146After-treatment of sols
    • C01B33/149Coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/16Preparation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/168After-treatment
    • C01B32/174Derivatisation; Solubilisation; Dispersion in solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/0081Composite particulate pigments or fillers, i.e. containing at least two solid phases, except those consisting of coated particles of one compound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3081Treatment with organo-silicon compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • C09D7/62Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/67Particle size smaller than 100 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50Solid solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica

Abstract

고농도에서도 안정되고, 매트릭스 성분으로의 분산성이 좋은 실리카·알루미나졸 및 그 제조방법을 제공한다. 실리카·알루미나졸 중에 제조 원료에 유래하여 존재하는 양이온(알칼리 금속 이온)을 제거하는 동시에, 협잡 이온을 저감시켜서, 표면 음전하량을 소정 범위로 조정한 실리카·알루미나 입자를 이용하고, 이것에 유기 규소 화합물을 미리 입자 표면에 흡착시킨 후, 가수분해하여 표면 처리한다.A silica-alumina sol which is stable even at a high concentration and has good dispersibility into a matrix component, and a process for producing the same. Silica-alumina particles obtained by removing cations (alkali metal ions) present in the silica-alumina sol derived from the raw material for production and reducing the amount of boron ions and adjusting the surface negative charge amount to a predetermined range are used, The compound is preliminarily adsorbed on the surface of the particle, and the surface is hydrolyzed.

Description

실리카·알루미나졸의 제조방법, 실리카·알루미나졸, 상기 졸을 포함하는 투명 피막형성용 도료 및 투명 피막 부착 기재{PROCESS FOR PRODUCTION OF SILICA-ALUMINA SOL, SILICA-ALUMINA SOL, COATING AGENT FOR FORMATION OF TRANSPARENT COATING FILM WHICH COMPRISES THE SOL, AND SUBSTRATE HAVING TRANSPARENT COATING FILM ATTACHED THERETO}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a silica-alumina sol, a silica-alumina sol, a coating for forming a transparent coating film containing the sol, and a transparent film- FILM WHICH COMPRISES THE SOL, AND SUBSTRATE HAVING TRANSPARENT COATING FILM ATTACHED THERETO}

본 발명은, 고농도에서 안정된 실리카·알루미나졸의 제조방법, 실리카·알루미나졸, 상기 졸을 포함하는 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막 부착 기재에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a silica-alumina sol which is stable at a high concentration, a silica-alumina sol, a coating for forming a transparent film containing the sol, and a substrate with a transparent coating film.

더 자세하게는, 고농도에서도 안정되고, 매트릭스 성분으로의 분산성이 좋고, 이 때문에 투명 피막 형성용 도료를 고농도화할 수 있고, 또한 고농도에서도 도공성이 우수하고, 후막화(厚膜化)가 가능한 동시에, 기재(基材)와의 밀착성, 내(耐)찰상성, 막경도, 막강도, 투명성, 헤이즈(haze) 등이 우수한 투명 피막 부착 기재의 제조에 적합하게 이용할 수 있는 실리카·알루미나졸의 제조방법, 실리카·알루미나졸, 상기 졸을 포함하는 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막 부착 기재에 관한 것이다.More specifically, it is stable at a high concentration and has good dispersibility into a matrix component. Therefore, it is possible to increase the concentration of the coating film for forming a transparent film, and to coat the film at a high concentration, A process for producing silica-alumina sol which can be suitably used for the production of a substrate with a transparent coating film excellent in adhesion to base material, scratch resistance, film hardness, film strength, transparency, haze and the like , Silica-alumina sol, a coating for forming a transparent film containing the sol, and a substrate with a transparent coating film.

유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 렌즈 등의 기재 표면, 표시장치 등의 내찰상성을 향상시키기 위해, 기재 표면에 하드 코트 기능을 가지는 투명 피막을 형성하는 것이 알려져 있다. 구체적으로는 투명성을 가지는 유기 수지막 혹은 무기막을 유리나 플라스틱, 표시장치기재 등의 표면에 형성하는 것이 행해지고 있다. 이때, 유기 수지막 혹은 무기막 중에 수지 입자 혹은 실리카 등의 무기 미립자를 배합하여 더 기재와의 밀착성, 내찰상성 등을 향상시키는 것이 행해지고 있다.BACKGROUND ART It is known to form a transparent coating film having a hard coat function on the surface of a substrate in order to improve scratch resistance of a substrate surface such as glass, a plastic sheet, a plastic lens, and a display device. Specifically, an organic resin film or an inorganic film having transparency is formed on the surface of a glass, a plastic, a display device substrate, or the like. At this time, resin particles or inorganic fine particles such as silica are mixed in the organic resin film or the inorganic film to further improve the adhesion to the base material, scratch resistance, and the like.

또, 간섭 무늬를 억제하기 위해서 산화티타늄, 산화지르코늄 등의 고굴절률 입자 혹은 고굴절률의 복합 산화물 입자를 배합하는 등 기재와의 굴절률 차이를 축소하는 것이 행해지고 있다.Further, in order to suppress interference fringes, it has been attempted to reduce the refractive index difference from the base material by blending composite oxide particles of high refractive index such as titanium oxide or zirconium oxide or high refractive index.

또, 대전(帶電) 방지 성능을 부여하기 위해서 5 산화 안티몬, 주석 도프 산화 인듐, 안티몬 도프 산화 주석 등의 도전성 무기산 화물 입자를 배합하는 것이 행해지고 있다.In order to impart antistatic performance, conductive inorganic oxide particles such as antimony pentoxide, tin-doped indium oxide, and antimony doped tin oxide are mixed.

이와 같은 무기산 화물 입자를 이용하는 경우, 매트릭스 성분으로의 분산성을 향상하기 위해서 실란커플링제로 표면 처리하는 것이 행해지고 있다.When such inorganic oxide particles are used, surface treatment with a silane coupling agent is carried out in order to improve dispersibility into a matrix component.

게다가, 실리카졸의 안정성을 향상시키기 위해서, 실리카 입자의 표면을 알루미늄으로 개질하는 방법이 알려져 있으며, 예를 들면 특허문헌 1에는, 탈(脫) 이온 처리한 산성의 실리카졸과, 산성의 알루미늄염 수용액을 혼합한 후, 가열해서 얻어지는 pH4∼5의 실리카졸에 대해서 기재되어 있다.Further, in order to improve the stability of the silica sol, there has been known a method of modifying the surface of the silica particles with aluminum. For example, Patent Document 1 discloses a method in which an acidic silica sol prepared by a post- Silica sol having a pH of 4 to 5 obtained by heating after mixing an aqueous solution is described.

또 특허문헌 2에는 pH6 이상의 실리카졸 수용액을 암모니아형 또는 아민형으로 한 양이온 교환 수지로 처리하고, 알루민산의 금속염을 첨가한 후 70℃ 이상에서 열처리하고, 산성 또는 중성 영역에서 안정된 실리카졸을 제조하는 방법이 기재되어 있다.In Patent Document 2, a silica sol aqueous solution having a pH of 6 or more is treated with a cation exchange resin having an ammonia type or an amine type, a metal salt of aluminic acid is added and heat treatment is performed at 70 ° C or higher to prepare a stable silica sol in an acidic or neutral region Is described.

특허문헌 1 및 특허문헌 2에 기재된 실리카졸은 실리카 입자의 표면이 수산화 알루미늄 또는 알루미나로 피복되는 것에 의해서 안정성이 향상되지만, 이러한 실리카 입자는 입자 표면이 양의 전하를 가지고 있기 때문에, 음전하를 가지는 유기기를 포함하는 유기 화합물과 배합했을 때에는 응집이 일어나기 쉽고, 도료 조성물로 했을 때의 투명성이 저하된다고 하는 문제가 있었다.In the silica sol described in Patent Documents 1 and 2, the stability is improved by covering the surface of the silica particles with aluminum hydroxide or alumina. However, since such silica particles have a positive charge on the particle surface, Group, there is a problem that coagulation is likely to occur and transparency in the coating composition is lowered.

또, 종래의 입자를 배합한 도료에서는 고농도화에 한계가 있어, 후막의 형성에 부적합하다는 문제가 있었다.In addition, conventional paints containing the particles have a problem in that they are not suitable for formation of a thick film because there is a limit to a high concentration.

고농도화할 수 있었다고 해도 안정성이 불충분하고, 얻어지는 투명 피막의 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성 등이 저하되는 경우가 있었다. 또, 고농도화하면 점도가 높아지기 때문에 도공성이 저하되고, 이 때문에 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성 등이 저하되는 경우가 있었다.The stability is inadequate even if the concentration can be increased, and the adhesion of the obtained transparent coating film to the base material, the film strength, the scratch resistance and the like are sometimes lowered. In addition, when the concentration is increased, the viscosity increases and the coating properties are lowered. As a result, the adhesion to the base material, the film strength, the scratch resistance and the like may be lowered.

미국 특허공보 제 4451388호U.S. Patent No. 4451388 일본 공개특허공보 쇼와 58-110415호Japanese Patent Laid-Open Publication No. 58-110415

본 발명자들은, 이러한 문제점에 감안하여 검토한 결과, 실리카·알루미나졸 중에 제조 원료에 유래하여 존재하는 양이온(알칼리 금속 이온)을 제거하는 동시에, 협잡(夾雜) 이온을 저감시키고, 표면 음전하량을 소정 범위로 조정한 실리카·알루미나 입자를 이용하고, 이것에 유기 규소 화합물을 미리 입자 표면에 흡착시킨 후, 가수분해하여 표면 처리한 입자는, 종래의 입자보다 분산액이 안정되고 고농도화할 수 있고, 점도도 낮고, 이것을 이용한 도포액도 고농도화할 수 있는 안정성이 우수한 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors of the present invention have made intensive investigations in view of the above problems, and as a result, they have found that it is possible to remove cations (alkali metal ions) present in the silica-alumina sol derived from the raw materials for production, reduce contamination ions, The particles obtained by adsorbing the organosilicon compound to the surface of the particles in advance and hydrolyzing the particles after the surface treatment can stabilize the dispersion liquid at a higher concentration than that of the conventional particles, And that the coating liquid using the coating liquid can be highly concentrated, and thus the present invention has been accomplished.

본 발명은, 고농도에서도 안정되고, 매트릭스 성분으로의 분산성이 좋고, 이 때문에 투명 피막 형성용 도료를 고농도화할 수 있으며, 이와 같은 도료는 도공성이 우수하고, 또한 후막화가 가능한 동시에, 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막경도, 막강도, 투명성, 헤이즈 등이 우수한 투명 피막 부착 기재의 제조에 적합하게 이용할 수 있는 실리카·알루미나졸의 제조방법, 실리카·알루미나졸, 상기 졸을 포함하는 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막 부착 기재를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.The present invention provides a transparent film-forming coating material which is stable even at a high concentration and has good dispersibility into a matrix component. Therefore, the transparent film-forming coating material can be highly concentrated, and such a coating material is excellent in coatability and can be formed into a thick film, A method of producing a silica-alumina sol which can be suitably used for producing a transparent-film-adhered base material excellent in adhesion, scratch resistance, film hardness, film strength, transparency and haze, And an object of the present invention is to provide a coating material and a substrate with a transparent coating film.

본 발명에 관한, 실리카·알루미나졸의 제조방법은, 하기의 공정(a)∼(f)로 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다.The method for producing silica-alumina sol according to the present invention is characterized by comprising the following steps (a) to (f).

(a) 평균 입자 지름이 5∼100㎚의 범위에 있고, 입자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5중량%의 범위에 있는 실리카·알루미나 미립자가, 고형분(固形分) 농도가 1∼30중량%의 범위에서 분산한 수분산액을, 이온(H+, OH-를 제외한다) 농도가, 실리카·알루미나 미립자중에 50ppm 이하로 되도록 이온 교환 수지로 처리하는 공정(a) silica-alumina fine particles having an average particle diameter in the range of 5 to 100 nm and an alumina content in the particles in the range of 0.01 to 5% by weight in terms of Al 2 O 3 have a solid content concentration of 1 (Excluding H + , OH - ) in an amount of not more than 50 ppm in the silica-alumina fine particles with an ion-exchange resin

(b) 실리카·알루미나 미립자 수분산액을 알코올로 용매 치환하는 공정(b) a step of subjecting the silica-alumina fine particle water dispersion to solvent substitution with alcohol

(c) 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액에 하기 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물을 Rn-SiO(4-n)/2로서 실리카·알루미나 미립자의 1∼50중량%의 범위로 되도록 첨가하는 공정(c) adding to the silica-alumina fine particle alcohol dispersion an organosilicon compound represented by the following formula (1) in an amount of 1 to 50% by weight of silica-alumina fine particles as R n -SiO (4-n) fair

Rn-SiX4 -n        (1)R n -SiX 4 -n (1)

(단, 식중, R은 탄소수 1∼10의 비(非) 치환 또는 치환 탄화수소기로서, 서로 동일해도 달라도 좋다. X : 탄소수 1∼4의 알콕시기, 수산기, 할로겐, 수소, n : 1∼3의 정수)X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen atom, a hydrogen atom, and n is an integer of 1 to 3 (preferably 1 to 3), wherein R is a non-substituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Lt;

(d) 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액을 교반하면서, 상기 유기 규소 화합물을 실리카·알루미나 미립자에 흡착시키는 공정(d) a step of adsorbing the organosilicon compound on silica-alumina fine particles while stirring the dispersion of silica-alumina fine particle alcohol

(e) 물 및 가수분해용 촉매를 첨가하여 유기 규소 화합물을 가수분해하는 공정(e) a step of hydrolyzing an organosilicon compound by adding water and a catalyst for hydrolysis;

(f) 40∼120℃에서 0.5∼24시간 숙성하는 공정(f) a step of aging at 40 to 120 DEG C for 0.5 to 24 hours

상기 공정(a)가, 하기의 공정(a1) 및 (a2)로 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the step (a) comprises the following steps (a1) and (a2).

(a1) pH가 1.0∼6.0의 범위로 되도록 양이온 교환 수지로 처리하는 공정(a1) a step of treating with a cation exchange resin so that the pH is in the range of 1.0 to 6.0

(a2) : 분산액의 pH가, 상기 공정(a1)에 있어서의 분산액의 pH보다 높고, 2.0∼7.0의 범위로 되도록 음이온 교환 수지로 처리하는 공정(a2): a step of treating the dispersion with an anion exchange resin so that the pH of the dispersion is higher than the pH of the dispersion in the step (a1) and in the range of 2.0 to 7.0

상기 공정(f)에 이어서, 하기 공정(g) 및/또는 (h)를 행하는 것이 바람직하다.Following the step (f), it is preferable to carry out the following step (g) and / or (h).

(g) 유기용매로 치환하는 공정(g) Substitution with an organic solvent

(h) 농축하는 공정(h) Concentration process

상기 공정(a)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자 수분산액의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이, pH2.0∼7.0에 있어서 0.1∼1.5μeq/㎡의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the negative charge amount per unit surface area of the silica-alumina fine particles of the silica-alumina fine particle water dispersion obtained in the step (a) is in the range of 0.1 to 1.5 占 q ec / m2 at pH 2.0 to 7.0.

상기 공정(e)에 있어서의 물의 몰수(MH2O)와 유기 규소 화합물의 몰수(MOC)와의 몰비(MH2O)/(MOC)가 1∼300의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) of the number of moles of water (M H2O ) and the number of moles of the organosilicon compound (M OC ) in the step (e) is in the range of 1 to 300.

상기 공정(e)에 있어서의 가수분해용 촉매가 암모니아이며, 암모니아의 몰수(MNH3)와 유기 규소 화합물의 몰수(MOC)와의 몰비(MNH3)/(MOC)가 0.1∼12의 범위에 있는 것이 바람직하다.The catalyst for hydrolysis of ammonia in the above step (e), the number of moles of ammonia (NH3 M) and the number of moles of the organic silicon compound with a molar ratio (M OC) (M NH3) / (M OC) in the range of 0.1 to 12 .

상기 공정(f)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자 수분산액의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이, 고형분 농도가 0.5중량%, pH7.5±1.5의 분산액으로 측정한 경우에 0.5∼2.0Micro-coulombs/㎠의 범위에 있는 것이 바람직하다.When the negative charge amount per unit surface area of the silica-alumina fine particles of the silica-alumina fine particle water dispersion obtained in the step (f) is 0.5 to 2.0 Micro-coulombs when measured with a dispersion having a solid concentration of 0.5% by weight and a pH of 7.5 ± 1.5 / Cm < 2 >.

상기 공정(g)에 있어서의 유기용매가, 에테르류, 에스테르류, 케톤류, 알코올류로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that the organic solvent in the step (g) is one or more kinds selected from ethers, esters, ketones and alcohols.

고형분 농도가 20∼70중량%의 범위에 있고, 점도가 1∼10,000cp의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the solid concentration is in the range of 20 to 70% by weight and the viscosity is in the range of 1 to 10,000 cp.

본 발명에 관한 실리카·알루미나졸은, 평균 입자 지름이 5∼100㎚의 범위에 있고, 입자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5중량%의 범위에 있고, 하기 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물로 표면 처리된 실리카·알루미나 미립자의 분산액으로서, 상기 표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)과 유기 규소 화합물로 표면 처리되기 전의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q2)과의 비(比)(Q1)/(Q2)가 0.2∼0.8의 범위에 있는 것을 특징으로 하고 있다.The silica-alumina sol according to the present invention has an average particle diameter in the range of 5 to 100 nm, an alumina content in the particles in the range of 0.01 to 5% by weight in terms of Al 2 O 3 , (Q 1 ) per unit surface area of the surface-treated silica-alumina fine particles and a unit surface area of the silica-alumina fine particles before being surface-treated with the organosilicon compound (Ratio) (Q 1 ) / (Q 2 ) of the negative charge amount to the appropriate negative charge amount (Q 2 ) is in the range of 0.2 to 0.8.

Rn-SiX4 -n        (1)R n -SiX 4 -n (1)

(단, 식중, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기로서, 서로 동일해도 달라도 좋다. X : 탄소수 1∼4의 알콕시기, 수산기, 할로겐, 수소, n : 1∼3의 정수)X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, a hydrogen, and n is an integer of 1 to 3), R < 1 > is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,

상기 음전하량(Q1)이, 고형분 농도가 0.5중량%, pH7.5±1.5의 분산액으로 측정한 경우에 0.5∼2.0Micro-coulombs/㎠의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 청구항 9에 기재된 실리카·알루미나졸.Wherein the negative charge (Q 1 ) is in the range of 0.5 to 2.0 Micro-coulombs / cm 2 when measured by a dispersion having a solid concentration of 0.5 wt% and a pH of 7.5 ± 1.5. Alumina sol.

본 발명에 관한 투명 피막 형성용 도료는, 상기 중 어느 하나에 기재된 실리카·알루미나졸과 매트릭스 형성 성분과 분산매로 이루어지고, 전(全) 고형분 농도가 30∼70중량%의 범위에 있고, 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 6∼63중량%의 범위에 있고, 실리카·알루미나 미립자의 농도가 고형분으로서 3∼56중량%의 범위에 있는 것을 특징으로 하고 있다.The coating film for forming a transparent film according to the present invention comprises the silica-alumina sol described in any one of the above, a matrix-forming component and a dispersion medium, wherein the total solid concentration is in the range of 30 to 70 wt% The concentration of the component is in the range of 6 to 63 wt% as solid content and the concentration of the silica-alumina fine particle is in the range of 3 to 56 wt% as solid content.

상기 매트릭스 형성 성분이 실리콘계 매트릭스 형성 성분 또는 유기 수지 매트릭스 형성 성분이고, 다관능 아크릴레이트 수지 또는 다관능 실리콘 수지를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the matrix-forming component is a silicon-based matrix-forming component or an organic resin matrix-forming component, and it includes a polyfunctional acrylate resin or a polyfunctional silicone resin.

게다가, 고형분으로서 0.003∼0.7중량%의 실리콘계 방오제(防汚劑)를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to contain 0.003 to 0.7% by weight of a silicone antifouling agent as a solid content.

게다가, 고형분으로서 0.003∼0.56중량%의 레벨링제(leveling agent)를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to include a leveling agent in an amount of 0.003 to 0.56% by weight as a solid content.

상기 분산매가, 에테르류, 에스테르류, 케톤류, 알코올류로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that the dispersion medium is one or more kinds selected from ethers, esters, ketones and alcohols.

본 발명에 관한 투명 피막 부착 기재는, 기재와 기재상에 형성된 투명 피막으로 이루어지고, 상기 투명 피막이 상기 중 어느 하나에 기재된 투명 피막 형성용 도료를 이용하여 형성된 것을 특징으로 하고 있다.The transparent film-coated base material according to the present invention is characterized in that it is formed of a base material and a transparent film formed on the base material, and the transparent film is formed using the transparent film-forming paint described in any one of the above.

상기 투명 피막중의 실리카·알루미나 미립자의 함유량이 고형분으로서 10∼80중량%의 범위에 있고, 매트릭스 성분의 함유량이 고형분으로서 20∼90중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the content of the silica-alumina fine particles in the transparent coating film is in the range of 10 to 80 wt% as solid content and the content of the matrix component is in the range of 20 to 90 wt% as solid content.

상기 투명 피막의 막두께가 0.5∼20㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of the transparent coating film is in the range of 0.5 to 20 占 퐉.

본 발명에 의하면, 고농도에서도 안정되고, 매트릭스 성분으로의 분산성이 우수한 실리카·알루미나졸 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide silica-alumina sol which is stable even at a high concentration and excellent in dispersibility into a matrix component, and a process for producing the same.

또, 상기 실리카·알루미나졸을 포함하고 고농도에서도 점도가 낮게 안정되고 도공성이 우수하고, 후막화가 가능한 투명 피막 형성용 도료를 얻을 수 있다.In addition, a coating film for forming a transparent film, which contains silica-alumina sol and has a low viscosity at a high concentration and is excellent in coatability and can be formed into a thick film, can be obtained.

게다가, 기재와의 밀착성, 내찰상성, 막경도, 막강도, 투명성, 헤이즈 등이 우수하고, 장기간에 걸쳐서 우수한 내약품성, 내수성, 발수성, 발유성, 내지문(耐指紋) 부착성을 유지할 수 있는 투명 피막 부착 기재를 얻을 수 있다.In addition, it is an object of the present invention to provide a film forming method capable of maintaining excellent chemical resistance, water resistance, water repellency, oil repellency, and adhesion resistance to fingerprint for a long period of time with excellent adhesion to a substrate, scratch resistance, film hardness, film strength, transparency, haze, Whereby a substrate with a transparent coating film can be obtained.

[실리카·알루미나졸의 제조방법][Production method of silica-alumina sol]

본 발명에 관한, 실리카·알루미나졸의 제조방법은, 하기의 공정(a)∼(f)로 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다.The method for producing silica-alumina sol according to the present invention is characterized by comprising the following steps (a) to (f).

공정(a)Step (a)

(a) 평균 입자 지름이 5∼100㎚의 범위에 있고, 입자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5중량%의 범위에 있는 실리카·알루미나 미립자가, 고형분 농도가 1∼30중량%의 범위에서 분산한 수분산액을, 이온(H+, OH-를 제외한다) 농도가, 실리카·알루미나 미립자중에 50ppm 이하로 되도록 이온 교환 수지로 처리하는 공정(a) the silica-alumina fine particles having an average particle diameter in the range of 5 to 100 nm and an alumina content in the particles in the range of 0.01 to 5% by weight in terms of Al 2 O 3 have a solid concentration of 1 to 30% (Excluding H + , OH - ) in an amount of not more than 50 ppm in the silica-alumina fine particles with an ion exchange resin

본 발명에 이용하는 실리카·알루미나 미립자 분산액은, 실리카·알루미나 미립자의 평균 입자 지름 및 알루미나의 함유량이 상기 범위에 있으면 특별히 제한은 없고 종래 공지의 실리카·알루미나 미립자 수분산액(이하, 실리카·알루미나수(水)졸이라고 하는 경우가 있다.)을 이용할 수 있다.The silica-alumina fine particle dispersion used in the present invention is not particularly limited as long as the average particle diameter of the silica-alumina fine particles and the alumina content are in the above-mentioned range, and a conventionally known silica-alumina fine particle water dispersion (hereinafter referred to as silica- ) Sol may be used.

본 발명에 적합하게 이용할 수 있는 실리카·알루미나 미립자 수분산액의 pH는, 통상 8∼12의 알칼리성 영역에 있다.The pH of the silica-alumina fine particle water dispersion which can be suitably used in the present invention is usually in the range of 8 to 12 alkali.

실리카·알루미나 미립자의 평균 입자 지름이 5∼100㎚, 나아가서는 10∼80㎚의 범위에 있는 것이 바람직하다.The average particle diameter of the silica-alumina fine particles is preferably in the range of 5 to 100 nm, more preferably 10 to 80 nm.

평균 입자 지름이 5㎚ 미만인 경우는, 얻어지는 실리카·알루미나졸의 안정성이 불충분하고, 고농도의 실리카·알루미나졸을 얻는 것이 곤란하고, 이 때문에, 고농도에서 안정된 투명 피막 형성용 도포액을 얻는 것도 곤란하다.When the average particle diameter is less than 5 nm, the stability of the resulting silica-alumina sol is insufficient, and it is difficult to obtain silica / alumina sol having a high concentration, and therefore it is difficult to obtain a stable coating liquid for forming a transparent film at a high concentration .

실리카·알루미나 미립자의 평균 입자 지름이 100㎚를 넘으면, 입자 지름이 크기 때문에 후술하는 공정(b)에서 얻어지는 실리카·알루미나 미립자의 표면 음전하량이 낮고, 이 때문에 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 불충분하게 되고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 우수한 실리카·알루미나 미립자 분산액을 얻는 것이 곤란하고, 마찬가지로 고농도에서 안정된 투명 피막 형성용 도포액을 얻는 것도 곤란하다.If the average particle diameter of the silica-alumina fine particles exceeds 100 nm, the surface-negative charge amount of the silica-alumina fine particles obtained in the step (b) described later is low because of the large particle diameter, It is difficult to obtain a silica-alumina fine particle dispersion having excellent dispersibility and stability in an organic solvent, and it is also difficult to obtain a stable coating liquid for forming a transparent coating at a high concentration.

또, 실리카·알루미나 미립자중의 알루미나 함유량은 Al2O3로서 0.01∼5중량%, 나아가서는 0.05∼3중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The alumina content of the silica-alumina fine particles is preferably in the range of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 3% by weight, in terms of Al 2 O 3 .

실리카·알루미나 미립자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01중량% 미만인 경우는, 공정(a)에서 얻어지는 실리카·알루미나 미립자의 표면 음전하량이 낮고, 후술하는 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 불충분하게 되고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 우수한 실리카·알루미나 미립자 분산액을 얻는 것이 곤란하다.When the alumina content in the silica-alumina fine particles is less than 0.01 wt% as Al 2 O 3 , the surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles obtained in the step (a) is low and the adsorption of the organosilicon compound It is difficult to obtain a dispersion of silica-alumina fine particles which is excellent in dispersibility and stability in an organic solvent.

실리카·알루미나 미립자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 5중량%를 넘어도, 공정(a)에서 얻어지는 실리카·알루미나 미립자의 표면 음전하량이 더 높아지는 경우도 없고, 실리카·알루미나 미립자중의 알칼리(Na)의 저감 및 알루미나의 제거에 양이온 교환 수지가 사용되는 것만으로, 이온 교환 수지 처리 효율이 저하된다.Even when the alumina content in the silica-alumina fine particles exceeds 5 wt% as Al 2 O 3 , the surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles obtained in the step (a) does not become higher, and the alkali ) And the removal of alumina, the ion exchange resin treatment efficiency is lowered.

또, 실리카·알루미나수졸은, 제조 후, 한외(限外) 여과막법 혹은 이온 교환 수지법에 따라 세정되고 있지만, 원료에 유래하는 알칼리가 입자중 및 분산매중에 잔존하고 있다.The silica-alumina succinate is washed after production according to an ultrafiltration membrane method or an ion exchange resin method, but the alkali derived from the raw material remains in the particles and in the dispersion medium.

알칼리의 잔존량은, 실리카·알루미나 미립자중에 존재한다고 해서 대체로 1000∼10,000ppm의 범위에 있다. 또, 이와 같은 알칼리에 더하여, 원료, 장치 등에 유래하는 다른 양이온, 음이온이 존재하고, 이들 합계의 이온 농도는 1,200∼12,000ppm이다.The residual amount of alkali is generally in the range of 1000 to 10,000 ppm even when it is present in the silica-alumina fine particles. In addition to such alkali, other cations and anions derived from raw materials, devices, etc. exist, and the total ion concentration is 1,200 to 12,000 ppm.

실리카·알루미나 미립자 수분산액의 농도는, 후술하는 이온 교환 수지에 의한 탈(脫) 알칼리 양이온 처리, 협잡 이온의 제거를 할 수 있으면 특별히 제한은 없지만, SiO2·Al2O3로서 대체로 1∼30중량%, 나아가서는 2∼25중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The concentration of the silica-alumina particulate water dispersion is not particularly limited as long as it is capable of removing a de-alkaline cation treatment by an ion exchange resin to be described later and removing the clinker ions. However, as SiO 2 · Al 2 O 3 , By weight, more preferably from 2 to 25% by weight.

이온 교환 수지로서는, 양(陽)이온 교환 수지 또는 양이온 교환 수지와 음(陰)이온 교환 수지 혹은 양(兩) 이온 교환 수지가 이용된다.As the ion exchange resin, a positive ion exchange resin or a cation exchange resin and a negative ion exchange resin or both ion exchange resins are used.

이온 교환 수지 처리하는 방법은, 실리카·알루미나 미립자 수분산액에 상기 수지를 혼합하는 방법, 혹은 실리카·알루미나 미립자 수분산액을 상기 이온 교환 수지를 충전한 컬럼에 통액하는 방법이 일반적이다.A method of treating the ion exchange resin is generally a method of mixing the resin with the silica-alumina particulate water dispersion or a method of passing the silica-alumina particulate water dispersion through a column packed with the ion exchange resin.

이온 교환 수지 처리한 실리카·알루미나 미립자 분산액 중의 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자중에 존재한다고 해서 500ppm 이하, 나아가서는 250ppm 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the ion concentration in the silica-alumina fine particle dispersion subjected to the ion exchange resin treatment is 500 ppm or less, more preferably 250 ppm or less, even if it exists in the silica-alumina fine particles.

여기서, 이온 농도의 이온으로서, 양이온에서는, 실리카·알루미나졸의 제조에 이용하는 Na+, K+ 등의 알칼리 금속 이온, 이들 알칼리 금속 이온중에 불순물로서 존재하는 것이 있는 알칼리 토류 금속 이온, 그 외, 실리카·알루미나졸의 제조장치로부터 용출하여 혼입하는 것이 있는 금속 이온 등을 들 수 있다.Here, as the ion of the ion concentration, in the cation, an alkali metal ion such as Na + , K + or the like used for the production of silica-alumina sol, an alkaline earth metal ion which exists as an impurity in the alkali metal ion, And metal ions which are eluted from the alumina sol production apparatus and incorporated therein.

음이온에서는, 주로, 실리카·알루미나졸의 제조에 이용하는 것이 있는 염산에 유래하는 염소 이온, 원료중에 포함되는 것이 있는 황산 이온 등을 들 수 있다.Examples of the anion include chloride ions derived from hydrochloric acid and sulfuric acid ions contained in the raw materials which are mainly used for producing silica-alumina sol.

한편, 상기 이온 농도의 이온에는 H+ 및 OH-는 포함하지 않는다.On the other hand, ions of the above ion concentration do not contain H + and OH - .

이온 교환 수지 처리한 실리카·알루미나 미립자 분산액 중의 상기 이온 농도가 500ppm을 넘으면, 이유는 반드시 분명하지 않지만, 후술하는 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 감소되거나, 동시에 실리카·알루미나 미립자 표면으로의 흡착력이 약하게 되기 때문인지, 최종적으로 얻어지는 실리카·알루미나졸의 고농도화가 불충분하고, 고농도화 할 수 있었다고 해도 안정성이 불충분하게 되는 경향이 있다.If the ion concentration exceeds 500 ppm in the dispersion of silica-alumina fine particles treated with the ion-exchange resin, the reason is not necessarily clear, but the adsorption amount of the organosilicon compound in the step (d) Or the ultimate concentration of silica-alumina sol to be obtained is insufficient, and even if the concentration of the silica-alumina sol can be increased, the stability tends to become insufficient.

본 발명에서는, 상기 이온 농도는 ICP 발광 분광 분석법에 따라 측정하였다.In the present invention, the ion concentration was measured by ICP emission spectroscopy.

상기 공정(a)는, 하기의 공정(a1) 및 (a2)로 이루어지는 것이 바람직하다.The step (a) is preferably composed of the following steps (a1) and (a2).

공정(fair( a1a1 ))

우선, 실리카·알루미나 미립자 분산액의 pH가 1.0∼6.0, 바람직하게는 1.5∼4.0의 범위로 되도록 양이온 교환 수지로 처리한다.First, the dispersion is treated with a cation exchange resin such that the pH of the silica-alumina fine particle dispersion is in the range of 1.0 to 6.0, preferably 1.5 to 4.0.

양이온 교환 수지 처리후의 실리카·알루미나 미립자 분산액의 pH가 1.0 미만인 경우는, 실리카·알루미나 미립자중의 알루미나가 너무 감소하고, 후술하는 공정(a)에서 얻어지는 입자의 단위 표면적당 음전하량이 낮아지고, 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 불충분하게 되기 때문에, 고농도에서 안정된 실리카·알루미나졸을 얻을 수 없는 경우가 있다.When the pH of the silica-alumina fine particle dispersion after the cation exchange resin treatment is less than 1.0, alumina in the silica-alumina fine particles becomes too small, and the negative charge per unit surface area of the particles obtained in the step (a) the adsorption amount of the organosilicon compound in the step (d) becomes insufficient, so that a stable silica-alumina sol can not be obtained at a high concentration.

양이온 교환 수지 처리후의 실리카·알루미나 미립자 분산액의 pH가 6.0을 넘으면, 실리카·알루미나 미립자중의 양이온(Na이온) 혹은 협잡 양이온의 농도가 상기한 범위로 저하하지 않는 경우가 있고, 이 경우도, 후술하는 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 감소되거나, 동시에 실리카·알루미나 미립자 표면으로의 흡착력이 약하게 되기 때문인지, 최종적으로 얻어지는 실리카·알루미나졸의 고농도화가 불충분하고, 고농도화할 수 있었다고 해도 안정성이 불충분하게 되는 경향이 있다.When the pH of the silica-alumina fine particle dispersion after the cation exchange resin treatment exceeds 6.0, the concentration of the cations (Na ions) or the clinking cations in the silica-alumina fine particles may not decrease to the above-mentioned range. Alumina sol in the step (d) of reducing the adsorption amount of the organosilicon compound to the surface of the silica-alumina fine particles is weak, the adsorption of the organosilicon compound to the surface of the silica-alumina fine particles is weak at the same time, or the silica / alumina sol finally obtained is insufficiently high- Is likely to become insufficient.

공정(fair( a2a2 ))

이어서, 분산액의 pH가, 상기 공정(a1)에 있어서의 분산액의 pH보다 높고, 2.0∼7.0, 바람직하게는 2.5∼6.0의 범위로 되도록 음이온 교환 수지로 처리한다.Then, the pH of the dispersion is treated with an anion exchange resin such that the pH is higher than the pH of the dispersion in the step (a1) and is in the range of 2.0 to 7.0, preferably 2.5 to 6.0.

음이온 교환 수지 처리후의 실리카·알루미나 미립자 분산액의 pH가 2.0 미만인 경우는, 음이온의 제거가 불충분하거나, 그 때문에 후술하는 표면 음전하량이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the pH of the silica-alumina fine particle dispersion after the anion exchange resin treatment is less than 2.0, the removal of the anion is insufficient or the surface negative charge amount described later becomes insufficient in some cases.

음이온 교환 수지 처리후의 실리카·알루미나 미립자 분산액은, 상기 공정(a1)에서 소정의 처리가 되어 있으면, pH가 7.0을 넘는 경우는 없고, 음이온 농도가 더 저하되는 경우도 없다.When the silica-alumina fine particle dispersion after the anion exchange resin treatment is subjected to the predetermined treatment in the step (a1), the pH does not exceed 7.0 and the anion concentration does not decrease further.

상기 공정(a)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자 수분산액의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이, pH2.0∼7.0에 있어서 0.1∼1.5μeq/㎡, 나아가서는 0.2∼1.5μeq/㎡의 범위에 있는 것이 바람직하다.The negative charge amount per unit surface area of the silica-alumina fine particles of the silica-alumina fine particle water dispersion obtained in the step (a) ranges from 0.1 to 1.5 μeq / m 2, more preferably from 0.2 to 1.5 μeq / m 2 at pH 2.0 to 7.0 .

실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이 0.1μeq/㎡ 미만인 적은 경우는, 후술하는 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 적고, 흡착력도 약하기 때문인지 유기용매로의 분산성, 안정성이 우수한 실리카·알루미나 미립자 분산액을 얻는 것이 곤란하다.When the negative charge amount per unit surface area of the silica-alumina fine particles is less than 0.1 μeq / m 2, the adsorption amount of the organosilicon compound in the step (d) to be described later is small and the adsorption force is low. It is difficult to obtain a silica-alumina fine particle dispersion.

실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이 1.5μeq/㎡를 넘어 많은 것은 얻는 것이 곤란하고, 얻어졌다고 해도 더 유기 규소 화합물의 흡착량이 증가하는 경우도 없고, 게다가 유기용매로의 분산성, 안정성이 우수한 동시에 고농도의 실리카·알루미나 미립자 분산액을 얻는 것이 곤란하다.It is difficult to obtain a silica / alumina fine particle having a negative charge amount exceeding 1.5 mu eq / m < 2 > per unit surface area, and there is no case where the adsorption amount of the organosilicon compound increases even if it is obtained. Further, It is difficult to obtain a dispersion of fine silica-alumina fine particles at the same time.

본 발명에서, 입자의 비(比)표면적(㎡/g)은, BET법에 따라 측정하고, 음전하량(μeq/g)은 입자 전하계(스펙트리스(주) 제품 : PCD-03)를 이용하고, 고형분 농도 10중량%의 실리카·알루미나 미립자 수분산액을 이용하여 측정한다.In the present invention, the specific surface area (m 2 / g) of the particles is measured according to the BET method and the negative charge amount (μeq / g) is measured using a particle electric charge system (PCT-03 manufactured by Parent Company) By weight and a silica-alumina fine particle water dispersion having a solid content concentration of 10% by weight.

단위 표면적당 음전하량(μeq/㎡)은, 상기 음전하량(μeq/g)을 표면적에서 제거하여 구한다.The negative charge (μeq / m 2) per unit surface area is obtained by removing the negative charge (μeq / g) from the surface area.

공정(b)Step (b)

실리카·알루미나 미립자 수분산액을 알코올로 용매 치환한다.The silica-alumina particulate water dispersion is solvent-substituted with alcohol.

여기서 용매 치환하는 목적은 공정(c)에서 유기 규소 화합물을 가수분해하는 일 없이 용해하고, 공정(d)에서 실리카·알루미나 미립자에 유기 규소 화합물을 흡착시키는 것이다.Here, the purpose of solvent substitution is to dissolve the organosilicon compound in the step (c) without hydrolysis, and adsorb the organosilicon compound to the silica-alumina fine particles in the step (d).

용매 치환하는 방법은, 알코올의 종류에 따라서 바꿀 수 있지만, 한외 여과막법이 바람직하다.The method of solvent substitution can be changed depending on the kind of alcohol, but the ultrafiltration membrane method is preferable.

용매 치환후의 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액의 농도는 1∼30중량%, 나아가서는 2∼20중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The concentration of the silica-alumina fine particle alcohol dispersion after the solvent substitution is preferably in the range of 1 to 30% by weight, more preferably 2 to 20% by weight.

한편, 실리카·알루미나 미립자의 알코올 분산액 중에 있어서의 수분의 잔존량은, 유기 규소 화합물의 종류, 가수분해성 등에 따라서 다르지만 분산액 중에 5중량% 이하, 나아가서는 1중량% 이하인 것이 바람직하다.On the other hand, the residual amount of water in the alcohol-silica-alumina fine particle dispersion is preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less in the dispersion although it depends on the type and hydrolysis property of the organosilicon compound.

실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액 중의 수분의 잔존량이 5중량%를 넘으면, 공정(c)에서 액중 가수분해하거나, 공정(d)에서 흡착 저해를 일으키거나, 공정(e)에서 겔형상물이 생성되거나, 공정(f)에서 입자가 응집하는 경우가 있다.If the residual amount of water in the silica-alumina fine particle alcohol dispersion exceeds 5% by weight, hydrolysis in the liquid in step (c), adsorption inhibition in step (d), gelation in step (e) (f).

이때의 수분량의 측정은 칼피셔(Karl Fischer) 수분계로 측정된다.The measurement of the water content at this time is measured by a Karl Fischer moisture meter.

공정(c)Step (c)

이어서, 실리카·알루미나 미립자의 알코올 분산액에 하기 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물을, 실리카·알루미나 미립자의 입자 지름에 따라서도 다르지만, Rn-SiO(4-n)/2로서 실리카·알루미나 미립자의 1∼50중량%, 더 바람직하게는 5∼40중량%의 범위로 되도록 첨가한다.Subsequently, the organosilicon compound represented by the following formula (1) is added to an alcohol dispersion of silica-alumina fine particles in the presence of silica-alumina (4-n) / 2 as R n -SiO Is added so as to be in the range of 1 to 50 wt%, more preferably 5 to 40 wt%, of the fine particles.

Rn-SiX4 -n        (1)R n -SiX 4 -n (1)

(단, 식중, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기로서, 서로 동일해도 달라도 좋다. X : 탄소수 1∼4의 알콕시기, 수산기, 할로겐, 수소, n : 1∼3의 정수)X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, a hydrogen, and n is an integer of 1 to 3), R < 1 > is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,

이와 같은 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물로서는 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β메톡시에톡시)실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리에톡시실란, γ-글리시독시에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(β-글리시독시에톡시)프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시시라옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 3-우레이드이소프로필프로필트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리메톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, 트리메틸실라놀, 메틸트리클로로실란, 등을 들 수 있다.Examples of the organosilicon compound represented by the formula (1) include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, Vinyltriethoxysilane, vinyltris (? Methoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane,? -Glycidoxymethyltrimethoxysilane,? - Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Gamma -glycidoxypropyltriethoxysilane, gamma -glycidoxypropyltriethoxy < RTI ID = 0.0 > (Meth) acryloxymethyltrimethoxysilane,? - (? - (? - glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane,? - (Meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, gamma- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, gamma- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, gamma- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (Meth) acryloxypropyltriethoxysilane,? - (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltrimethoxysilane, Hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureide isopropylpropyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, Silane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxy (Aminoethyl) gamma -aminopropylmethyldimethoxysilane, N-beta (aminoethyl) gamma -aminopropyltriazine, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, N- Methoxysilane, N-phenyl- gamma -aminopropyltrimethoxysilane, gamma-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltrichlorosilane, and the like.

그 중에서도, 상기 식(1)의 X가 탄소수 1∼4의 알콕시기인 유기 규소 화합물은, 상기 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액 중의 수분의 잔존량이 상기 범위에서 많은 경우라도 용이하게 가수분해하는 일 없이 흡착하는 경향이 있고, 분산성을 높이는 표면 처리를 효율적으로 할 수 있기 때문에 바람직하다.Among them, the organosilicon compound in which X in the formula (1) is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is adsorbed without easily hydrolyzing even if the amount of water remaining in the silica-alumina fine particle alcohol dispersion is in the above range And the surface treatment for enhancing the dispersibility can be efficiently performed, which is preferable.

유기 규소 화합물의 첨가량이, Rn-SiO(4-n)/2로서 실리카·알루미나 미립자의 1중량% 미만인 경우는, 얻어지는 표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 고농도 안정성, 매트릭스 성분으로의 분산성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the addition amount of the organosilicon compound is less than 1% by weight of the silica-alumina fine particles as R n -SiO (4-n) / 2 , the resulting surface treated silica-alumina fine particles have insufficient stability at high concentration and dispersibility into the matrix component .

유기 규소 화합물의 첨가량이, Rn-SiO(4-n)/2로서 실리카·알루미나 미립자의 50중량%를 넘어서는, 평균 입자 지름에 따라서 다르지만, 흡착이 곤란하고, 과잉의 유기 규소 화합물이 공정(e)에서 겔형상물이 생성되거나, 공정(f)에서 입자의 응집의 원인으로 되는 경우가 있고, 흡착했다고 해도, 실리카·알루미나 미립자 표면의 가수분해 유기 규소 화합물이 적층하여 양이 증가할 뿐인지, 더 분산성이 향상되는 경우도, 고농도화할 수 있는 경우도 없다.The amount of the organosilicon compound to be added is R n -SiO (4-n) / 2 which is more than 50% by weight of the silica-alumina fine particles and varies depending on the average particle diameter. However, e) may cause gelation or cause aggregation of particles in step (f). Even if adsorbed, the amount of the hydrolyzed organosilicon compound on the surface of the silica-alumina fine particles is increased and the amount thereof is increased. There are cases where the dispersibility is further improved or the concentration can not be increased.

공정(d)Step (d)

이어서, 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액을 교반하면서, 유기 규소 화합물을 실리카·알루미나 미립자에 흡착시킨다.Then, while stirring the silica-alumina microparticle alcohol dispersion, the organosilicon compound is adsorbed onto the silica-alumina microparticles.

이때의 분산액의 온도는 특별히 제한은 없지만, 상온(대체로 20℃)∼알코올 용매의 비점 이하이다.The temperature of the dispersion liquid at this time is not particularly limited, but it is usually room temperature (generally 20 ° C) to below the boiling point of the alcohol solvent.

공정(e)Step (e)

이어서, 물 및 가수분해용 촉매를 첨가하여 유기 규소 화합물을 가수분해한다.Water and a catalyst for hydrolysis are then added to hydrolyze the organosilicon compound.

이때, 첨가하는 물의 몰수(MH2O)와 유기 규소 화합물의 몰수(MOC)와의 몰비 (MH2O)/(MOC)가 1∼300, 나아가서는 5∼200의 범위에 있는 것이 바람직하다.At this time, the number of moles of water to be added (M H2O) and the number of moles of the organic silicon compound (M OC) with a molar ratio (M H2O) / (M OC ) is 1 to 300, and further preferably in the range of 5 to 200.

몰비(MH2O)/(MOC)가 1 미만인 경우는, 가수분해가 불충분하게 되고, 미가수분해 유기 규소 화합물을 제거할 필요가 있고, 제거했다고 해도 고농도 안정성이 우수한 실리카·알루미나졸을 얻는 것이 곤란하다.When the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) is less than 1, the hydrolysis becomes insufficient, the unmodified water-dispersible organosilicon compound needs to be removed, and silica-alumina sol excellent in high- It is difficult.

몰비(MH2O)/(MOC)가 300을 넘으면, 후에, 제거할 필요가 있지만 그 제거가 곤란하고, 후술하는 유기용매를 이용하는 투명 피막 형성용 도포액에 이용했을 경우, 안정성이 불충분하게 되고, 안정되고 고농도인 도포액을 얻을 수 없는 경우가 있다.When the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) is more than 300, it is necessary to remove it later, but it is difficult to remove it, and when it is used in a coating liquid for forming a transparent film using an organic solvent described later, stability becomes insufficient , A stable and highly concentrated coating liquid may not be obtained.

또, 가수분해용 촉매로서는 암모니아가 바람직하다. 암모니아를 이용하면, 도포액에 잔존해도 제거하는 것이 용이하고, 잔존량이 소량이면 도포액의 안정성을 크게 손상시킬 일은 없고, 이 도포액을 이용하여 형성한 투명 피막의 성능을 손상시키는 일도 없다.Ammonia is preferable as the catalyst for hydrolysis. If ammonia is used, it is easy to remove even if remaining in the coating liquid. If the amount of ammonia remaining is small, the stability of the coating liquid is not greatly impaired and the performance of the transparent coating formed using this coating liquid is not impaired.

첨가하는 암모니아의 몰수(MNH3)와 유기 규소 화합물의 몰수(MOC)와의 몰비 (MNH3)/(MOC)는 0.1∼12, 나아가서는 0.2∼10의 범위에 있는 것이 바람직하다.The number of moles of ammonia to be added (M NH3) and the number of moles of the organic silicon compound with a molar ratio (M OC) (M NH3) / (M OC) is 0.1 to 12, and further preferably in the range of 0.2 to 10.

몰비(MNH3)/(MOC)가 0.1 미만인 경우는, 가수분해가 불충분하게 되고, 미가수분해 유기 규소 화합물을 제거할 필요가 있고, 제거했다고 해도 고농도 안정성이 우수한 실리카·알루미나졸을 얻는 것이 곤란하다.When the molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) is less than 0.1, the hydrolysis becomes insufficient, the unmodified water-dispersible organosilicon compound needs to be removed, and silica-alumina sol excellent in high- It is difficult.

몰비(MNH3)/(MOC)가 12를 넘으면, 미가수분해물이 잔류하는 일은 없어지지만, 암모니아가 많이 잔류하게 되고, 도포액의 안정성, 투명 피막의 성능(내찰상성, 투명성, 외관 등)이 불충분하게 되고, 이 때문에, 잔존하는 암모니아를 제거할 필요가 생긴다.If the molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) exceeds 12, the remaining unreacted water disappeared, but a large amount of ammonia remains, and the stability of the coating liquid, the performance of the transparent coating (scratch resistance, transparency, Is insufficient, and therefore, it is necessary to remove the remaining ammonia.

물 및 암모니아의 첨가 방법은, 각각 개별적으로 첨가할 수도 있지만, 암모니아수로서 첨가하는 것이 바람직하다.The method of adding water and ammonia may be separately added, but it is preferably added as ammonia water.

공정(f)Step (f)

이어서, 40℃∼120℃, 특히 용매의 비점 이하로 대체로 0.5∼24시간 숙성한다.Subsequently, it is generally aged for 0.5 to 24 hours at 40 ° C to 120 ° C, particularly below the boiling point of the solvent.

상기 조건으로 숙성하는 것에 의해서, 실리카·알루미나 미립자 표면에 흡착한 유기 규소 화합물의 가수분해가 완결되고, 입자 표면과 가수분해물과의 결합 반응이 촉진되어, 고농도에서 안정된, 분산성이 우수한 실리카·알루미나졸을 얻을 수 있다.By the aging under the above conditions, the hydrolysis of the organosilicon compound adsorbed on the surface of the silica-alumina fine particles is completed, the bonding reaction between the particle surface and the hydrolyzate is promoted, and silica-alumina You can get a sol.

상기 공정(f)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자 수분산액의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이, 고형분 농도가 0.5중량%, pH7.5±1.5의 분산액으로 측정한 경우에 0.5∼2.0Micro-coulombs/㎠의 범위에 있는 것이 바람직하다.When the negative charge amount per unit surface area of the silica-alumina fine particles of the silica-alumina fine particle water dispersion obtained in the step (f) is 0.5 to 2.0 Micro-coulombs when measured with a dispersion having a solid concentration of 0.5% by weight and a pH of 7.5 ± 1.5 / Cm < 2 >.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)이 0.5Micro-coulombs/㎠ 미만으로 적은 것은 얻는 것이 곤란하고, 2.0Micro-coulombs/㎠를 넘어 많은 것은, 상기한 본 발명의 방법에 따르지 않고서도 종래 공지의 방법으로 실란커플링제 처리하는 것에 의해서 얻을 수 있고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 불충분하게 되는 경우가 있다. 단위 표면적당 음전하량의 측정법에 대해서는 후술한다.It is difficult to obtain the negative charge (Q 1 ) per unit surface area of the surface-treated silica-alumina fine particles less than 0.5 micro-coulombs / cm 2, and much more than 2.0 Micro-coulombs / It may be obtained by treating the silane coupling agent with a conventionally known method without following it, and the dispersibility and stability of the organic solvent may become insufficient. A method of measuring the negative charge per unit surface area will be described later.

본 발명에서는, 상기 공정(f)에 이어서, 하기 공정(g) 및/또는 (h)를 행하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable to perform the following step (g) and / or (h) following the step (f).

공정(g)Process (g)

유기용매로 치환한다.Substitute with an organic solvent.

유기용매로서는, 후술하는 도료에 이용하는 유기용매가 바람직하다.As the organic solvent, an organic solvent used for the coating material described later is preferable.

구체적으로는, 에테르류, 에스테르류, 케톤류, 알코올류로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.Specifically, it is preferably one or more selected from ethers, esters, ketones and alcohols.

이러한 유기용매이면, 고농도에서 안정된 실리카·알루미나졸을 얻을 수 있고, 게다가, 이러한 실리카·알루미나졸을 이용하여 고농도에서 안정된 도료를 얻을 수 있다.With such an organic solvent, stable silica-alumina sol can be obtained at a high concentration, and furthermore, a stable coating material can be obtained at such a high concentration by using such silica-alumina sol.

유기용매로 치환하는 방법으로서는, 치환할 수 있으면 특별히 제한은 없지만, 한외 여과막법, 증류법이 일반적이고 바람직하다. 한편, 이때, 농축할 수도 있다.The substitution with an organic solvent is not particularly limited as long as substitution is possible, but an ultrafiltration membrane method and a distillation method are generally preferred. On the other hand, at this time, it may be concentrated.

유기용매로 치환하는 것에 의해서, 잔존하는 수분 혹은 암모니아 등의 가수분해 촉매 등의 불순물, 미반응물 등을 제거할 수 있는 동시에, 본 발명의 도료에 사용할 수 있는 고농도화할 수 있는 동시에 안정된 실리카·알루미나졸을 얻을 수 있다.It is possible to remove residual impurities such as hydrolysis catalysts such as hydrolysis catalysts and unreacted materials and the like which can be used in the coating material of the present invention, Can be obtained.

공정(h)Step (h)

이어서, 필요에 따라서 농축한다.Then, it is concentrated as necessary.

농축 방법으로서는, 공정(g)과 동일하게, 한외 여과막법, 증류법을 채용할 수 있다.As the concentration method, an ultrafiltration membrane method or a distillation method may be employed in the same manner as the step (g).

한편, 본 발명에서는, 공정(g) 및 공정(h)은 한쪽만을 실시할 수도 있고, 쌍방을 실시할 수도 있으며, 게다가, 순서는 교대해도 좋다.On the other hand, in the present invention, either one of the steps (g) and (h) may be carried out, or both of them may be carried out.

이와 같이 하여 얻어지는 실리카·알루미나졸은, 고형분 농도가 20∼70중량%, 나아가서는 30∼70중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The silica-alumina sol thus obtained preferably has a solid concentration of 20 to 70% by weight, more preferably 30 to 70% by weight.

실리카·알루미나졸의 고형분 농도가 20중량% 미만인 경우는, 본 발명에 의하지 않고서도 안정된 졸을 얻을 수 있고, 또, 투명 피막 형성용 도포액에 배합해도 고농도의 도포액을 얻을 수 없다.When the solid content concentration of the silica-alumina sol is less than 20% by weight, a stable sol can be obtained without using the present invention, and a coating liquid having a high concentration can not be obtained even if it is blended with the coating liquid for forming a transparent coating film.

실리카·알루미나졸의 고형분 농도가 70중량%를 넘는 것은 얻는 것이 곤란하고, 얻어졌다고 해도 안정성이 불충분하고, 투명 피막의 형성에는 부적합하다.When the solid content concentration of the silica-alumina sol exceeds 70% by weight, it is difficult to obtain and even if it is obtained, the stability is insufficient and it is not suitable for forming a transparent coating film.

또, 실리카·알루미나졸의 점도는, 농도에 따라서 다르지만 1∼10,000cp, 나아가서는 2∼5,000cp의 범위에 있는 것이 바람직하다. The viscosity of the silica-alumina sol is preferably from 1 to 10,000 cp, more preferably from 2 to 5,000 cp, though it varies depending on the concentration.

실리카·알루미나졸의 점도가 1cp 미만인 경우는, 상기 농도 범위의 실리카·알루미나졸로서는 얻는 것이 곤란하고, 10,000cp를 넘으면 장기(長期) 안정성이 저하되는 동시에 도공성이 저하되고, 균일한 막두께로 내찰상성, 투명성, 외관 등이 우수한 투명 피막의 형성이 곤란하게 되는 경우가 있다.When the viscosity of the silica-alumina sol is less than 1 cp, it is difficult to obtain silica-alumina sol having the above concentration range. When the viscosity is more than 10,000 cp, the long-term stability is lowered and the coating property is lowered. It may be difficult to form a transparent coating excellent in scratch resistance, transparency, appearance and the like.

한편, 본 발명에서 점도의 측정은, 점도계(토키산교(주) 제품 : BL형 점도계)에 의해서 측정할 수 있다.On the other hand, in the present invention, the viscosity can be measured by a viscometer (TOKYAN SANGYO CORPORATION: BL type viscometer).

[실리카·알루미나졸][Silica-alumina sol]

본 발명에 관한 실리카·알루미나졸은, 평균 입자 지름이 5∼100㎚의 범위에 있고, 입자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5중량%의 범위에 있고, 하기 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물로 표면 처리된 실리카·알루미나 미립자의 분산액으로서, 상기 표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)과 유기 규소 화합물로 표면 처리되기 전의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q2)과의 비(Q1)/(Q2)가 0.2∼0.8의 범위에 있는 것을 특징으로 하고 있다.The silica-alumina sol according to the present invention has an average particle diameter in the range of 5 to 100 nm, an alumina content in the particles in the range of 0.01 to 5% by weight in terms of Al 2 O 3 , (Q 1 ) per unit surface area of the surface-treated silica-alumina fine particles and a unit surface area of the silica-alumina fine particles before being surface-treated with the organosilicon compound And the ratio (Q 1 ) / (Q 2 ) of the negative charge amount to the appropriate negative charge amount (Q 2 ) is in the range of 0.2 to 0.8.

Rn-SiX4 -n        (1)R n -SiX 4 -n (1)

(단, 식중, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기로서, 서로 동일해도 달라도 좋다. X : 탄소수 1∼4의 알콕시기, 수산기, 할로겐, 수소, n : 1∼3의 정수)X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen, a hydrogen, and n is an integer of 1 to 3), R < 1 > is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,

표면 처리 실리카·알루미나 미립자Surface-treated silica-alumina fine particles

본 발명에 있어서 표면 처리 실리카·알루미나 미립자는, 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5중량%, 나아가서는 0.05∼3중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.In the present invention, the surface-treated silica-alumina fine particles preferably have an alumina content in the range of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 3% by weight, in terms of Al 2 O 3 .

표면 처리 실리카·알루미나 미립자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01중량% 미만인 경우는, 종래의 실리카졸중의 실리카 미립자, 혹은 종래의 실란커플링제로 표면 처리한 실리카 미립자와 후술하는 단위 표면적당 음전하량(Q1)이 동일한 정도로 많고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 우수한 실리카·알루미나 미립자 분산액을 얻는 것이 곤란하다.When the alumina content in the surface-treated silica-alumina fine particles is less than 0.01% by weight in terms of Al 2 O 3 , the fine silica particles in the conventional silica sol, or the fine silica particles surface-treated with the conventional silane coupling agent, It is difficult to obtain a silica-alumina fine particle dispersion having a charge amount (Q 1 ) of the same order of magnitude and excellent dispersibility and stability in an organic solvent.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 5중량%를 넘어도, 단위 표면적당 음전하량(Q1)이 더 적게 되는 일도 없고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 더 크게 향상되는 일도 없다.Even when the alumina content in the surface-treated silica-alumina fine particles exceeds 5 wt% as Al 2 O 3 , the negative charge (Q 1 ) per unit surface area is not reduced, and the dispersibility and stability to the organic solvent are larger There is no improvement.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 평균 입자 지름은 5∼100㎚, 나아가서는 10∼80㎚의 범위에 있는 것이 바람직하다.The average particle diameter of the surface-treated silica-alumina fine particles is preferably in the range of 5 to 100 nm, more preferably 10 to 80 nm.

평균 입자 지름이 5㎚ 미만인 경우는, 표면 처리 실리카·알루미나 미립자 분산액의 안정성이 불충분하고, 고농도의 실리카·알루미나졸을 얻는 것이 곤란하고, 이 때문에, 고농도에서 안정된 투명 피막 형성용 도포액을 얻는 것도 곤란하다.When the average particle diameter is less than 5 nm, the stability of the surface-treated silica-alumina fine particle dispersion is insufficient and it is difficult to obtain a silica / alumina sol having a high concentration. Therefore, obtaining a stable coating liquid for forming a transparent coating film at a high concentration It is difficult.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 평균 입자 지름이 100㎚를 넘으면, 입자 지름이 크기 때문에 상기 공정(b)에서 얻어지는 실리카·알루미나 미립자의 표면 음전하량이 적고, 이 때문에 공정(d)에서의 유기 규소 화합물의 흡착량이 불충분하게 되고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 우수한 표면 처리 실리카·알루미나 미립자 분산액을 얻는 것이 곤란하고, 마찬가지로 고농도에서 안정된 투명 피막 형성용 도포액을 얻는 것도 곤란하다.If the average particle diameter of the surface-treated silica-alumina fine particles exceeds 100 nm, the surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles obtained in the step (b) is small because of the large particle diameter, It is difficult to obtain a dispersion of the surface-treated silica-alumina fine particles excellent in dispersibility and stability into an organic solvent and it is also difficult to obtain a stable coating liquid for forming a transparent coating film at a high concentration.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)과 유기 규소 화합물로 표면 처리되기 전의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q2)과의 비(Q1)/(Q2)는 0.2∼0.8, 나아가서는 0.2∼0.6의 범위에 있는 것이 바람직하다.Suitable negative charge amount (Q 1) and the ratio (Q 1) / (Q 2 of the unit of the silica-alumina particles prior to surface treatment with an organosilicon compound surface suitable negative charge amount (Q 2) per unit surface of the surface-treated silica-alumina particles ) Is preferably in the range of 0.2 to 0.8, more preferably 0.2 to 0.6.

상기 비(Q1)/(Q2)가 0.2 미만인 것은 얻는 것이 곤란하고, 상기 비(Q1)/(Q2)가 0.8을 넘으면, 상기한 본 발명의 방법에 따르지 않고서도 종래 공지의 방법으로 실란커플링제 처리하는 것에 의해서 얻을 수 있고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the ratio Q 1 / Q 2 is less than 0.2, it is difficult to obtain. When the ratio Q 1 / Q 2 is more than 0.8, , And the dispersibility and stability of the organic solvent may become insufficient.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)은, 고형분 농도가 0.5중량%, pH7.5±1.5의 분산액으로 측정한 경우에 0.5∼2.0Micro-coulombs/㎠, 나아가서는 0.5∼1.6Micro-coulombs/㎠의 범위에 있는 것이 바람직하다.The negative charge (Q 1 ) per unit surface area of the surface-treated silica-alumina fine particles is 0.5 to 2.0 Micro-coulombs / cm 2 when measured with a dispersion having a solid content concentration of 0.5% by weight and a pH of 7.5 ± 1.5, It is preferable that the thickness is in the range of 1.6 micro-coulombs / cm2.

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)이 0.5Micro-coulombs/㎠ 미만인 적은 것은 얻는 것이 곤란하고, 2.0Micro-coulombs/㎠를 넘어 많은 것은, 상기한 본 발명의 방법에 따르지 않고서도 종래 공지의 방법으로 실란커플링제 처리하는 것에 의해서 얻을 수 있고, 유기용매로의 분산성, 안정성이 불충분하게 되는 경우가 있다.It is difficult to obtain a surface-treated silica-alumina fine particle having a negative charge (Q 1 ) of less than 0.5 micro-coulombs / cm 2, and much more than 2.0 Micro-coulombs / The silane coupling agent can be obtained by treating with a silane coupling agent by a conventionally known method, and the dispersibility and stability of the organic solvent may be insufficient.

본 발명의 표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1), 유기 규소 화합물로 표면 처리되기 전의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q2)의 측정 방법은, 표면 처리 실리카·알루미나 미립자 분산액, 혹은 유기 규소 화합물로 표면 처리되기 전의 실리카·알루미나 미립자 분산액에 물을 더하여 고형분 농도를 0.5중량%, pH를 pH7.5±1.5로 조정하고, 입자 전하계(스펙트리스(주) 제품 : PCD-03)를 이용하고, 적정제(滴定劑)로서 0.001N의 폴리디알릴디메틸암모늄클로라이드를 이용하여 표면 음전하량(μeq/g)을 측정하고, 이것을 비표면적에서 제거하는 동시에 Micro-coulombs/㎠로 환산하여 구하였다. 한편, 환산에는 이하의 관계를 사용하였다.The negative charge amount (Q 1 ) per unit surface area of the surface-treated silica-alumina fine particles of the present invention and the negative charge amount (Q 2 ) per unit surface area of the silica-alumina fine particles before the surface treatment with the organosilicon compound are measured, Water was added to the alumina fine particle dispersion or the silica-alumina fine particle dispersion before surface treatment with the organosilicon compound to adjust the solid content concentration to 0.5 wt% and the pH to pH 7.5 +/- 1.5, (Μeq / g) was measured using Polydialyldimethylammonium chloride of 0.001 N as a titration agent, and this was removed from the specific surface area, and at the same time, Micro- coulombs / cm < 2 >. On the other hand, the following relation was used for conversion.

1Micro-coulombs/㎠=0.0628charges/n㎡(RALPH K.ILER, THE CHEMISTRY OF SILICA : John & Sons. Inc : 1979)1 Micro-coulombs / cm2 = 0.0628 charges / n㎡ (RALPH K.ILER, THE CHEMISTRY OF SILICA: John & Sons.

[투명 피막 형성용 도료][Transparent film-forming paint]

본 발명에 관한 투명 피막 형성용 도료는, 상기 실리카·알루미나졸과 매트릭스 형성 성분과 분산매로 이루어지고, 전(全) 고형분 농도가 30∼70중량%의 범위에 있고, 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 6∼63중량%의 범위에 있고, 실리카·알루미나 미립자의 농도가 3∼56중량%의 범위에 있는 것을 특징으로 하고 있다.The coating film for forming a transparent film according to the present invention comprises the silica-alumina sol, the matrix-forming component and the dispersion medium, wherein the concentration of the total solid content is in the range of 30 to 70% by weight and the concentration of the matrix- In the range of 6 to 63% by weight, and the concentration of the silica-alumina fine particles is in the range of 3 to 56% by weight.

실리카·Silica · 알루미나졸Alumina sol

실리카·알루미나졸로서는 상기 실리카·알루미나졸, 상기 실리카·알루미나졸의 제조방법으로 얻어진 실리카·알루미나졸이 이용된다.As the silica-alumina sol, silica-alumina sol and silica-alumina sol obtained by the above-mentioned production method of silica-alumina sol are used.

매트릭스 형성 성분The matrix forming component

본 발명에 이용하는 매트릭스 형성 성분으로서는, 유기 수지계 매트릭스 형성 성분 또는 실리콘계(졸겔계) 매트릭스 형성 성분을 이용할 수 있다.As the matrix forming component used in the present invention, an organic resin matrix forming component or a silicon (sol-gel) matrix forming component can be used.

유기 수지계 매트릭스 형성 성분으로서는, 종래 공지의 유기 수지를 이용할 수 있다.As the organic resin matrix forming component, conventionally known organic resins can be used.

구체적으로는 도료용 수지로서 공지의 열경화성 수지, 열가소성 수지 등 모두 채용할 수 있다. 예를 들면, 종래부터 이용되고 있는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리페닐렌옥사이드 수지, 열가소성 아크릴 수지, 염화비닐 수지, 불소 수지, 아세트산비닐 수지, 실리콘 고무 등의 열가소성 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 부티랄 수지, 반응성 실리콘 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 열경화성 아크릴 수지 등의 열경화성 수지 등을 들 수 있다.Specifically, known thermosetting resins, thermoplastic resins, and the like can be employed as the resin for paints. For example, a thermoplastic resin such as a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyphenylene oxide resin, a thermoplastic acrylic resin, a vinyl chloride resin, a fluororesin, a vinyl acetate resin, A thermosetting resin such as a resin, a melamine resin, a silicon resin, a butyral resin, a reactive silicone resin, a phenol resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin and a thermosetting acrylic resin.

나아가서는 이들 수지의 2종 이상의 공중합체나 변성체이어도 좋다.Further, it may be a copolymer or a modified product of two or more kinds of these resins.

이들 수지는, 에멀젼 수지, 수용성 수지, 친수성 수지여도 좋다. 게다가, 열경화형 수지의 것이어도, 자외선 경화형의 것이어도, 전자선 경화형의 것이어도 좋고, 열경화성 수지의 경우, 경화 촉매가 포함되어 있어도 좋다.These resins may be emulsion resins, water-soluble resins, and hydrophilic resins. In addition, the thermosetting resin, the ultraviolet curing type, the electron beam curing type, and the thermosetting resin may include a curing catalyst.

본 발명에서는, 그 중에서도 다관능 아크릴레이트 수지, 다관능 실리콘 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이때의 관능기로서는, (메타)아크릴기나 에폭시기를 들 수 있다.Among them, polyfunctional acrylate resin and polyfunctional silicone resin are preferably used in the present invention. Examples of the functional group at this time include a (meth) acrylic group and an epoxy group.

다관능 아크릴레이트 수지로서는, (1) 3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지, (2) 2관능 아크릴레이트 수지 및/또는 2관능 실리콘 수지를 들 수 있다.Examples of the polyfunctional acrylate resin include (1) an acrylate resin having a functional group with three or more functional groups, (2) a bifunctional acrylate resin and / or a bifunctional silicone resin.

3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지로서, 구체적으로는, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리메타크릴레이트 등의 3관능 아크릴레이트 수지, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 등의 4관능 아크릴레이트 수지, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등의 6관능 아크릴레이트 수지, 펜타에리스리톨헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄프레폴리머 등의 3관능 우레탄아크릴레이트 수지, 펜타에리스리톨폴리글리시딜에테르아크릴레이트 등의 에폭시기 함유 4관능 아크릴레이트 수지, 크레졸노볼락형 에폭시아크릴레이트, 비스페놀A디글리시딜에테르아크릴산 부가물 등의 에폭시기 함유 다관능 아크릴레이트 수지 등을 들 수 있고, 이들 혼합물도 적합하게 이용할 수 있다.Specific examples of the acrylate resin having three or more functional groups include trifunctional acrylate resins such as pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate Trifunctional urethane acrylate resins such as tetrafunctional acrylate resins such as tetrafunctional acrylate resins and dipentaerythritol hexaacrylate, and pentaerythritol hexamethylene diisocyanate urethane prepolymers, epoxy resins such as pentaerythritol polyglycidyl ether acrylate and the like Containing epoxy functional group-containing tetrafunctional acrylate resin, cresol novolak type epoxy acrylate, bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct, and the like, and mixtures thereof can also be suitably used.

3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지는, 모노머를 이용할 수도 있지만, 2량체 이상의 올리고머, 폴리머를 이용할 수도 있다.The acrylate resin having three or more functional groups may be a monomer, but oligomers or polymers having a dimer or more may also be used.

다음에, (2) 2관능 아크릴레이트 수지로서는, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트 등의 글리콜계 아크릴레이트를 들 수 있다.Next, (2) bifunctional acrylate resins include polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol Glycol acrylates such as dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, and polypropylene glycol dimethacrylate, .

게다가, 1.4-부탄디올디메타크릴레이트, 1.6-헥산디올디메타크릴레이트, 1.9-노난디올디메타크릴레이트, 1.10-데칸디올디메타크릴레이트, 글리세린디메타크릴레이트, 2히드록시-3-아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 1.6-헥산디올디아크릴레이트, 1.9-노난디올디아크릴레이트, 디메틸롤-트리시클로데칸디아크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트 등의 비(非) 글리콜계 아크릴레이트를 들 수 있고, 이들 혼합물도 적합하게 이용할 수 있다.In addition, it is also possible to use 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol dimethacrylate, 1,10-decanediol dimethacrylate, glycerin dimethacrylate, 2hydroxy- Hexyldiol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, and the like By weight of non-glycolic acrylate, and these mixtures can also be suitably used.

다음에, 2관능 실리콘 수지로서는, 하기 화학식(1)로 표시되는 것이 이용된다. 화학식(1)에 있어서, R1, R3∼R5는 치환, 비치환의 탄소수 1∼6의 알킬기, X1, X2는 아크릴기, 메타크릴기, 글리시딜기,를 나타내고, 동일해도 좋고, 달라도 좋다. n은 1∼10의 정수이다.Next, as the bifunctional silicone resin, those represented by the following formula (1) are used. In the formula (1), R 1 and R 3 to R 5 represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 and X 2 each represent an acrylic group, a methacrylic group and a glycidyl group, , May be different. n is an integer of 1 to 10;

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112012047838254-pct00001
Figure 112012047838254-pct00001

구체적으로는, 디아크릴레이트 변성 폴리실록산, 디메타크릴 변성 폴리실록산, 디글리시딜 변성 폴리실록산, 디폴리에스테르 변성 폴리실록산, 디폴리에테르 변성 폴리실록산 등 및 이들 혼합물을 들 수 있다.Specific examples include diacrylate-modified polysiloxane, dimethacryl-modified polysiloxane, diglycidyl-modified polysiloxane, dipolyester-modified polysiloxane, dipolyether-modified polysiloxane, and the like, and mixtures thereof.

이때, 2관능 아크릴레이트 수지, 2관능 실리콘 수지는 모노머를 이용하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to use monomers for the bifunctional acrylate resin and the bifunctional silicone resin.

모노머를 이용하면, 병용하는 상기 3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지 및 후술하는 1관능 실리콘 수지(실리콘계 방오제)와의 결합이 촉진되기 때문인지, 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 우수하고, 1관능 실리콘 수지의 탈리(이하, 브리드 아웃이라고 하는 경우가 있다)를 억제할 수 있고, 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성을 장기간으로 유지할 수 있다.When the monomer is used, the combination of the acrylate resin having the above-mentioned trifunctional or higher functional group and the monofunctional silicone resin (silicone antifouling agent) described later is promoted, or the water repellency, oil repellency, (Hereinafter may be referred to as "bleed-out"), and water repellency, oil repellency, adhesion to fingerprint and chemical resistance can be maintained for a long period of time.

게다가, 투명 피막 형성용 도료에는 하기 화학식(2)로 표시되는, (3) 1관능 실리콘 수지를 실리콘계 방오제로서 이용하는 것이 바람직하다. 화학식(2)에 있어서, R1∼R5는 치환, 비치환의 탄소수 1∼3의 알킬기, X는 아크릴기, 메타크릴기, 글리시딜기,를 나타낸다. n은 1∼20의 정수이다.In addition, it is preferable to use (3) a monofunctional silicone resin represented by the following formula (2) as a silicone antifouling agent for the transparent film-forming coating material. In the formula (2), R 1 to R 5 represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X represents an acryl group, a methacryl group, or a glycidyl group. n is an integer of 1 to 20;

[화학식 2](2)

Figure 112012047838254-pct00002
Figure 112012047838254-pct00002

구체적으로는, 아크릴 변성 폴리실록산, 메타크릴 변성 폴리실록산, 글리시딜 변성 폴리실록산, 폴리에스테르 변성 폴리실록산, 폴리에테르 변성 폴리실록산 등 및 이들 혼합물을 들 수 있다. 예를 들면, 편말단(片末端)(메타)아크릴실리콘 오일, 편말단 글리시딜실리콘 오일 등을 들 수 있다. 또, 아크릴계 실리콘 수지 모노머 또는 그 폴리머(실리콘 오일), 에폭시계 실리콘 수지 모노머 또는 그 폴리머(실리콘 오일), 폴리에스테르계 실리콘 수지 모노머 또는 폴리머(실리콘 오일)도 적합하다.Specific examples include acrylic-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, glycidyl-modified polysiloxane, polyester-modified polysiloxane, polyether-modified polysiloxane, and the like, and mixtures thereof. Examples thereof include (one) terminal (meth) acrylic silicone oil and one-end glycidyl silicone oil. Also suitable are acrylic-based silicone resin monomers or polymers thereof (silicone oils), epoxy-based silicone resin monomers or polymers thereof (silicone oils), polyester-based silicone resin monomers or polymers (silicone oils).

게다가, 투명 피막 형성용 도료에는 레벨링제를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to include a leveling agent in the transparent film-forming coating material.

레벨링제로서는, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시알킬렌라우릴에테르, 폴리에틸렌이소데실에테르, 폴리에틸렌폴리옥시프로필렌블록폴리머, 폴리옥시에틸렌올레인산 에스테르, 폴리옥시에틸렌디스테아린산 에스테르, 폴리옥시에틸렌피마자유 그 외, 특수 실리콘계나 특수 아크릴계 등의 레벨링제나 소포제로서 공지의 물질을 들 수 있다. 이러한 레벨링제를 포함하고 있으면 외관이 우수한 투명 피막을 얻을 수 있다.As the leveling agent, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, polyethylene isodecyl ether, polyethylene polyoxypropylene block polymer, polyoxyethylene oleate ester, polyoxyethylene distearate ester, Polyoxyethylene castor oil, and other known leveling agents and defoaming agents such as special silicones and special acrylic resins. When such a leveling agent is included, a transparent film having excellent appearance can be obtained.

분산매Distribution dealer

본 발명에 이용하는 분산매는, 에테르류, 에스테르류, 케톤류, 알코올류로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.The dispersion medium used in the present invention is preferably one or more kinds selected from ethers, esters, ketones and alcohols.

구체적으로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-프로판올(IPA), 부탄올, 디아세톤알코올, 푸르푸릴알코올, 테트라히드로푸르푸릴알코올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 다가(多價) 알코올류;아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산이소프로필, 아세트산프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산부틸, 아세트산이소펜틸, 아세트산펜틸, 아세트산3-메톡시부틸, 아세트산2-에틸부틸, 아세트산시클로헥실, 에틸렌글리콜모노아세테이트 등의 에스테르류,;디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 에테르류;아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸메틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 디프로필케톤, 메틸펜틸케톤, 디이소부틸케톤 등의 케톤류를 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종 이상 혼합해서 사용해도 좋다.Specific examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol and tetrahydrofurfuryl alcohol; polyhydric alcohols such as ethylene glycol and hexylene glycol; Alcohols such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol mono Diethyleneglycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, Glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether; ethers such as acetone , It may be mentioned ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, diisobutyl ketone. These may be used alone or in combination of two or more.

중합 polymerization 개시제Initiator

본 발명에서는, 매트릭스 형성 성분, 실리카·알루미나 미립자와 함께 중합 개시제가 포함되어 있어도 좋다. 중합 개시제로서는, 공지의 것을 특별히 제한없이 사용하는 것이 가능하고, 예를 들면, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드, 2-히드록시-메틸-2-메틸-페닐-프로판-1-케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴리노프로판1-온 등을 들 수 있다.In the present invention, a polymerization initiator may be contained together with the matrix-forming component and silica-alumina fine particles. As the polymerization initiator, known ones can be used without particular limitation, and examples thereof include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) Methyl-2-methyl-phenyl-propane-1-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1- Phenyl-ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one.

도료 조성Paint composition

투명 피막 형성용 도료의 전 고형분 농도는 30∼70중량%, 나아가서는 40∼65중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the total solid content concentration of the transparent coating film-forming coating material is in the range of 30 to 70% by weight, and more preferably 40 to 65% by weight.

투명 피막 형성용 도료의 전 고형분 농도가 30중량% 미만인 경우는, 본 발명에 의하지 않고서도 안정된 도포액을 용이하게 얻을 수 있고, 할 수 있었다고 해도 1회의 도포로 막두께가 0.5㎛ 이상의 투명 피막을 얻는 것이 곤란한 경우가 있고, 반복 도포, 건조를 반복하면, 얻어지는 투명 피막의 경도나 내찰상성이 불충분하게 되거나, 헤이즈 혹은 외관이 나빠지거나, 생산성, 제조 신뢰성 등이 저하된다.When the total solid content concentration of the coating film for forming a transparent coating film is less than 30% by weight, a stable coating liquid can be easily obtained even without using the present invention. Even if the coating film can be formed, If repeated application and drying are repeated, hardness and scratch resistance of the obtained transparent coating film become insufficient, haze or appearance deteriorates, and productivity and manufacturing reliability become poor.

투명 피막 형성용 도료의 전 고형분 농도가 70중량%를 넘으면, 사용할 때까지의 시간에 따라서는 도료의 점도가 높아지게 되고, 도공성이 저하되거나, 얻어지는 투명 피막의 헤이즈가 높아지게 되거나, 표면거칠기가 커지게 되어 내찰상성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the total solid content of the coating composition for forming a transparent coating film is more than 70% by weight, the viscosity of the coating composition increases depending on the time until use, and the haze of the obtained transparent coating film becomes high or the surface roughness And the scratch resistance may become insufficient.

투명 피막 형성용 도료중의 실리카·알루미나 미립자의 농도는 고형분으로서 3∼56중량%, 나아가서는 6∼39중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The concentration of the silica-alumina fine particles in the coating film for forming a transparent film is preferably in the range of 3 to 56% by weight, more preferably 6 to 39% by weight, as solid content.

투명 피막 형성용 도료중의 실리카·알루미나 미립자의 농도가 고형분으로서 3중량% 미만인 경우는, 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성의 향상 등 실리카계 미립자를 배합하는 효과를 얻을 수 없는 경우가 있다.When the concentration of the silica-alumina fine particles in the coating liquid for forming a transparent coating film is less than 3% by weight as solid content, the effect of blending the silica-based fine particles such as adhesion with the substrate, film strength and scratch resistance may not be obtained .

투명 피막 형성용 도료중의 실리카·알루미나 미립자의 농도가 고형분으로서 56중량%를 넘으면 매트릭스 성분이 적기 때문에 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the concentration of the silica-alumina fine particles in the coating film for forming a transparent coating film is more than 56% by weight as a solid content, the matrix component is small and the adhesion with the substrate, the film strength and the scratch resistance may become insufficient.

다음에, 투명 피막 형성용 도료중의 매트릭스 형성 성분의 농도는 고형분으로서 6∼63중량%, 나아가서는 16∼55중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.Next, it is preferable that the concentration of the matrix forming component in the coating film for forming a transparent coating film is in the range of 6 to 63% by weight, more preferably 16 to 55% by weight, as solid content.

여기서, 매트릭스 형성 성분은, 상기 다관능 아크릴레이트 수지, 다관능 실리콘 수지 및 후술하는 실리콘계 방오제, 레벨링제를 포함해서 의미하고 있다.Here, the matrix forming component is meant to include the polyfunctional acrylate resin, polyfunctional silicone resin, silicone-based antifouling agent and leveling agent described below.

투명 피막 형성용 도료중의 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 6중량% 미만인 경우는, 매트릭스 성분이 적기 때문에 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the concentration of the matrix forming component in the coating film for forming a transparent film is less than 6% by weight as the solid content, the adhesion to the base material, the film strength and the scratch resistance may be insufficient because the matrix component is small.

투명 피막 형성용 도료중의 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 63중량%를 넘으면, 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the concentration of the matrix-forming component in the coating film for forming a transparent film is more than 63% by weight as solid content, the adhesion to the base material, the film strength and the scratch resistance may become insufficient.

투명 피막 형성용 도료중의 상기 (1) 3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지의 고형분으로서의 농도는 6∼63중량%, 나아가서는 16∼55중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the concentration of the above-mentioned (1) acrylate resin having a functional group having three or more functional groups in the coating film for forming a transparent film is in the range of 6 to 63% by weight, and more preferably 16 to 55% by weight.

투명 피막 형성용 도료중의 3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지의 고형분으로서의 농도가 6중량% 미만인 경우는, 투명 피막의 기재와의 밀착성, 강도, 내찰상성 등이 불충분하게 되는 일이 있다.If the concentration of the acrylate resin having three or more functional groups in the coating film for forming a transparent coating film is less than 6% by weight, the adhesion of the transparent coating film to the substrate, strength and scratch resistance may become insufficient.

투명 피막 형성용 도료중의 3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지의 고형분으로서의 농도가 63중량%를 넘으면, 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성 등이 불충분하게 되거나, (2) 및/또는 (3)의 매트릭스 성분이 적기 때문에 투명 피막에 크랙을 일으키거나 충분한 발수성, 발유성, 내지문 부착성 등을 얻을 수 없는 경우가 있다.When the concentration of the acrylic resin having three or more functional groups in the coating film for forming a transparent film is more than 63% by weight, 3) is small, cracks may occur in the transparent coating film, or sufficient water repellency, oil repellency, adhesion to fingerprint, etc. may not be obtained.

투명 피막 형성용 도료중의 상기 (2) 2관능 아크릴레이트 수지 및/또는 2관능 실리콘 수지의 고형분으로서의 농도는 0.6∼6.3중량%, 나아가서는 1.6∼5.5중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The concentration of the bifunctional acrylate resin and / or the bifunctional silicone resin as the solid content in the coating film for forming a transparent film is preferably in the range of 0.6 to 6.3% by weight, more preferably 1.6 to 5.5% by weight.

투명 피막 형성용 도료중의 2관능 아크릴레이트 수지 및/또는 2관능 실리콘의 고형분으로서의 농도가 0.6중량% 미만인 경우는, 투명 피막에 크랙을 일으키거나, 후술하는 1관능 실리콘 수지와의 결합이 불충분하게 되고, 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 불충분하게 되는 경우가 있고, 또, 1관능 실리콘 수지의 탈리(브리드 아웃이라고 하는 경우가 있다)가 일어나서 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 경시적으로 저하되는 경우가 있다.When the concentration of the bifunctional acrylate resin and / or the bifunctional silicone as the solid content in the coating film for forming a transparent coating film is less than 0.6% by weight, cracks may be generated in the transparent coating film or insufficient bonding with a monofunctional silicone resin The water repellency, oil repellency, adhesion of fingerprint and chemical resistance may become insufficient. In addition, the separation of the monofunctional silicone resin (sometimes referred to as "bleeding out") may occur, The chemical resistance, and the like may deteriorate over time.

투명 피막 형성용 도료중의 2관능 아크릴레이트 수지 및/또는 2관능 실리콘의 고형분으로서의 농도가 6.3 중량을 넘어도, 1관능 실리콘 수지와의 결합이 늘어나는 경우도 없고, 이 때문에 더 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 향상되는 경우도 없고, 1관능 실리콘 수지의 탈리(브리드 아웃)가 억제되는 경우도 없다. 게다가, 기재와의 밀착성, 막강도 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.Even when the concentration of the bifunctional acrylate resin and / or the bifunctional silicone as the solid content in the coating film for forming the transparent coating film exceeds 6.3 wt.%, The bonding with the monofunctional silicone resin does not increase, There is no case where the fingerprint adhesion and the chemical resistance are improved, and the elimination (bleeding-out) of the monofunctional silicone resin is not suppressed. Furthermore, the adhesion to the base material, the film strength and the like may be insufficient.

투명 피막 형성용 도료중의 실리콘계 방오제의 농도는 고형분으로서 0.003∼0.7중량%, 나아가서는 0.008∼0.52중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The concentration of the silicone antifouling agent in the coating film for forming a transparent film is preferably in the range of 0.003 to 0.7% by weight, more preferably 0.008 to 0.52% by weight, based on the solids content.

투명 피막 형성용 도료중의 실리콘계 방오제의 농도가 고형분으로서 0.003중량% 미만인 경우는, 얻어지는 투명 피막의 막두께에 따라서도 다르지만, 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the concentration of the silicone-based antifouling agent in the coating film for forming a transparent film is less than 0.003% by weight as solid content, the water repellency, oil repellency, adhesion of fingerprints and chemical resistance are insufficient depending on the film thickness of the obtained transparent coating film There is a case.

투명 피막 형성용 도료중의 실리콘계 방오제의 농도가 고형분으로서 0.7중량%를 넘어도 더 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 향상되는 경우도 없고, 기재와의 밀착성, 막강도 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the concentration of the silicone-based antifouling agent in the coating film for forming a transparent film exceeds 0.7% by weight as a solid content, the water repellency, oil repellency, adhesion to fingerprint and chemical resistance are not improved and adhesion to the substrate, May be insufficient.

게다가, 투명 피막 형성용 도료에는 고형분으로서 0.003∼0.56중량%, 나아가서는 0.008∼0.33중량%의 레벨링제를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the coating material for forming a transparent film preferably contains 0.003-0.56% by weight, more preferably 0.008-0.33% by weight, of a leveling agent as a solid content.

투명 피막 형성용 도료중의 레벨링제의 농도가 고형분으로서 0.003중량% 미만인 경우는 결점 등이 발생하고, 얻어지는 투명 피막의 외관이 악화되는 것 외에, 충분한 내찰상성을 얻을 수 없는 경우가 있다.When the concentration of the leveling agent in the coating film for forming a transparent coating film is less than 0.003% by weight as solid content, defects or the like may occur, resulting in deterioration of the appearance of the obtained transparent coating film, and insufficient scratch resistance may not be obtained.

투명 피막 형성용 도료중의 레벨링제의 농도가 고형분으로서 0.56중량%를 넘어도 더 외관이 향상되는 경우도 없고, 막강도가 불충분하게 되는 경우가 있다.If the concentration of the leveling agent in the coating film for forming a transparent coating film exceeds 0.56% by weight as solid content, the appearance is not improved and the film strength may be insufficient.

이러한 투명 피막 형성 도료를 이용한 투명 피막의 형성 방법은, 딥법, 스프레이법, 스피너법, 롤코트법, 바코트법, 그라비어 인쇄법, 마이크로 그라비어 인쇄법 등의 주지의 방법으로 기재에 도포하고, 건조하여, 자외선 조사, 가열 처리 등 통상의 방법에 따라 경화시키는 것에 의해서 투명 피막을 형성할 수 있다.The method for forming a transparent coating film using such a transparent film forming paint is applied to a substrate by a known method such as a dipping method, a spraying method, a spinner method, a roll coating method, a bar coating method, a gravure printing method, a microgravure printing method, Then, a transparent coating film can be formed by curing by a conventional method such as ultraviolet ray irradiation or heat treatment.

얻어진 투명 피막 부착 기재의 투명 피막의 막두께는, 0.5∼20㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the film thickness of the obtained transparent coating film of the base material with a transparent coating film is in the range of 0.5 to 20 占 퐉.

[투명 피막 부착 기재][Apparatus with transparent coating film]

본 발명에 관한 투명 피막 부착 기재는, 기재와, 기재상에 형성된 투명 피막으로 이루어지고, 상기 투명 피막이 상기 투명 피막 형성용 도포액을 이용하여 형성된 것을 특징으로 하고 있다.The transparent film-coated base material according to the present invention is characterized by comprising a base material and a transparent film formed on the base material, wherein the transparent film is formed using the coating liquid for forming a transparent film.

기재materials

본 발명에 이용하는 기재로서는, 공지의 것을 특별히 제한없이 사용하는 것이 가능하고, 유리, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, PET, TAC 등의 플라스틱 시트, 플라스틱 필름 등, 플라스틱 패널 등을 들 수 있다. 그 중에서도 수지계 기재는 적합하게 이용할 수 있다.As the substrate to be used in the present invention, known ones can be used without particular limitation, and plastic sheets such as glass, polycarbonate, acrylic resin, PET, and TAC, plastic films, and the like can be given. Among them, the resin base material can be suitably used.

투명 피막Transparent coating

투명 피막은 실리카·알루미나 미립자와 매트릭스 성분으로 이루어져 있다.The transparent coating is composed of silica-alumina fine particles and a matrix component.

실리카·알루미나 미립자Silica-alumina fine particles

투명 피막중의 실리카·알루미나 미립자의 함유량은, 고형분으로서 10∼80중량%, 나아가서는 15∼60중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The content of the silica-alumina fine particles in the transparent coating film is preferably in the range of 10 to 80% by weight, more preferably 15 to 60% by weight, as solid content.

투명 피막중의 실리카·알루미나 미립자의 함유량이 고형분으로서 10중량% 미만인 경우는, 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the content of the silica-alumina fine particles in the transparent coating film is less than 10% by weight as solid content, the adhesion with the base material, the film strength and the scratch resistance may become insufficient.

투명 피막중의 실리카·알루미나 미립자의 함유량이 고형분으로서 80중량%를 넘어도 매트릭스 성분이 적기 때문에 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the content of the silica-alumina fine particles in the transparent coating film exceeds 80% by weight as solid content, the matrix component is small and the adhesion with the substrate, the film strength and the scratch resistance may become insufficient.

매트릭스 성분Matrix component

매트릭스 성분으로서는 상기한 실리콘계 매트릭스 성분, 유기 수지 매트릭스 성분이 이용된다. 한편, 투명 피막중에서는 유기 수지 매트릭스 형성 성분이 경화되어 있다.As the matrix component, the above-described silicon-based matrix component and organic resin matrix component are used. On the other hand, in the transparent coating film, the organic resin matrix forming component is cured.

유기 수지 매트릭스 성분은, 상기 다관능 아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하다.The organic resin matrix component preferably contains the polyfunctional acrylate.

다관능 아크릴레이트로서는 상기한 다관능 아크릴레이트가 적합하게 이용된다.As the polyfunctional acrylate, the above-mentioned polyfunctional acrylate is suitably used.

다관능 아크릴레이트 수지로서는, 상기한 (1) 3관능 이상의 관능기를 가지는 아크릴레이트 수지, (2) 2관능 아크릴레이트 수지 및/또는 2관능 실리콘 수지를 들 수 있다.Examples of the polyfunctional acrylate resin include (1) an acrylate resin having three or more functional groups, (2) a bifunctional acrylate resin and / or a bifunctional silicone resin.

투명 피막중의 매트릭스 성분의 함유량은, 고형분으로서 20∼90중량%, 나아가서는 40∼85중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The content of the matrix component in the transparent coating film is preferably in the range of 20 to 90% by weight, more preferably 40 to 85% by weight, as solid content.

투명 피막중의 매트릭스 성분의 함유량이 고형분으로서 상기 범위에 없는 경우는, 기재와의 밀착성, 막강도, 내찰상성이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the content of the matrix component in the transparent coating film is not within the above range as the solid content, the adhesion with the substrate, the film strength and the scratch resistance may become insufficient.

투명 피막중의 (1) 3관능 이상의 관능기를 가지는 유기 수지의 함유량이 고형분으로서 20∼90중량%, 나아가서는 40∼80중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the content of (1) the organic resin having three or more functional groups in the transparent coating film is in the range of 20 to 90% by weight, more preferably 40 to 80% by weight, as solid content.

투명 피막중의 (1) 3관능 이상의 관능기를 가지는 유기 수지의 함유량이 고형분으로서 20중량% 미만인 경우는, 투명 피막의 기재와의 밀착성, 강도, 내찰상성 등이 불충분하게 되는 일이 있다.When the content of the organic resin having three or more functional groups in the transparent coating film is less than 20% by weight as solid content, the adhesion of the transparent coating film to the substrate, strength, scratch resistance, and the like may be insufficient.

투명 피막중의 (1) 3관능 이상의 관능기를 가지는 유기 수지의 함유량이 고형분으로서 90중량%를 넘으면, 후술하는 (2) 및/또는 (3)의 매트릭스 성분이 적기 때문에 충분한 발수성, 발유성, 내지문 부착성 등을 얻을 수 없는 경우가 있다.If the content of the organic resin having three or more functional groups in the transparent coating film exceeds 90% by weight as solids, the matrix components of (2) and / or (3) described below are small, Fingerprint adhesion and the like can not be obtained.

다음에, 투명 피막중의 (2) 2관능 유기 수지 및/또는 2관능 실리콘 수지의 함유량이 고형분으로서 2∼9중량%, 나아가서는 4∼8.5중량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.Next, it is preferable that the content of the (2) bifunctional organic resin and / or the bifunctional silicone resin in the transparent coating film is in the range of 2 to 9% by weight, more preferably 4 to 8.5% by weight, as solid content.

투명 피막중의 (2) 2관능 유기 수지 및/또는 2관능 실리콘 수지의 함유량이 고형분으로서 2중량% 미만인 경우는, 후술하는 (3) 1관능 실리콘 수지와의 결합이 불충분하게 되고, 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 불충분하게 되는 경우가 있고, 또, 1관능 실리콘 수지를 포함하는 경우, 1관능 실리콘 수지의 탈리(브리드 아웃이라고 하는 경우가 있다)가 일어나서 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 경시적으로 저하되는 경우가 있다.When the content of the (2) bifunctional organic resin and / or the bifunctional silicone resin in the transparent coating film is less than 2% by weight in terms of solid content, the bonding with the unifunctional silicone resin (3) described later is insufficient, Oil repellency, fingerprint adhesion, chemical resistance, and the like may be insufficient. In the case where a monofunctional silicone resin is contained, the monofunctional silicone resin is desorbed (sometimes referred to as "bleed out"), , Adhesion of fingerprints on the inside, chemical resistance, and the like may deteriorate over time.

투명 피막중의 (2) 2관능 유기 수지 및/또는 2관능 실리콘 수지의 함유량이 고형분으로서 9중량%를 넘어도, (3) 1관능 실리콘 수지와의 결합이 늘어나는 경우도 없고, 이 때문에 더 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 향상되는 경우도 없고, 1관능 실리콘 수지의 탈리(브리드 아웃)가 억제되는 경우도 없다. 게다가, 기재와의 밀착성, 막강도 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.Even when the content of (2) bifunctional organic resin and / or bifunctional silicone resin in the transparent coating film exceeds 9 wt% as solid content, (3) the bonding with the monofunctional silicone resin does not increase, , Oil repellency, fingerprint adhesion, chemical resistance, and the like are not improved, and the elimination (bleeding-out) of the monofunctional silicone resin is not inhibited. Furthermore, the adhesion to the base material, the film strength and the like may be insufficient.

투명 피막에는 상기한 (3) 1관능 실리콘 수지를 실리콘계 방오제로서 이용하는 것이 바람직하다.The above-mentioned (3) monofunctional silicone resin is preferably used as the silicone antifouling agent in the transparent coating.

투명 피막중의 (3) 1관능 실리콘 수지(실리콘계 방오제)의 함유량은 고형분으로서 0.01∼1중량%, 나아가서는 0.02∼0.8중량%의 범위로 되도록 하는 것이 바람직하다.The content of the (3) monofunctional silicone resin (silicone antifouling agent) in the transparent coating film is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.02 to 0.8% by weight, in terms of solid content.

투명 피막중의 1관능 실리콘 수지의 함유량이 고형분으로서 0.01중량% 미만인 경우는, 투명 피막의 막두께에 따라서도 다르지만, 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the content of the monofunctional silicone resin in the transparent coating film is less than 0.01 wt% as solid content, the water repellency, oil repellency, adhesion of fingerprint and chemical resistance may be insufficient depending on the film thickness of the transparent coating film .

투명 피막중의 1관능 실리콘 수지의 함유량이 고형분으로서 1중량%를 넘으면, 더 발수성, 발유성, 내지문 부착성, 내약품성 등이 향상되는 경우도 없고, 기재와의 밀착성, 막강도 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.When the content of the monofunctional silicone resin in the transparent coating film is more than 1% by weight as the solid content, the water repellency, oil repellency, fingerprint adhesion, chemical resistance and the like are not improved and the adhesiveness with the base film and the film strength are insufficient .

게다가, 투명 피막에는 상기한 레벨링제를 이용할 수 있다.In addition, the above leveling agent can be used for the transparent coating film.

투명 피막중의 레벨링제의 함유량은 고형분으로서 0.01∼0.8중량%, 나아가서는 0.02∼0.5중량%의 범위로 되도록 하는 것이 바람직하다.The content of the leveling agent in the transparent coating film is preferably 0.01 to 0.8% by weight, more preferably 0.02 to 0.5% by weight, in terms of solid content.

투명 피막중의 레벨링제의 함유량이 고형분으로서 0.01중량% 미만인 경우는, 투명 피막의 막두께에 따라서도 다르지만, 결점 등이 발생하고, 투명 피막의 외관이 악화되는 것 외에, 충분한 내찰상성을 얻을 수 없는 경우가 있다.When the content of the leveling agent in the transparent coating film is less than 0.01 wt% as the solid content, defects or the like are generated depending on the film thickness of the transparent film, and the appearance of the transparent film is deteriorated. There is no case.

투명 피막중의 레벨링제의 함유량이 고형분으로서 0.8중량%를 넘으면, 더 외관이 향상되는 경우도 없고, 막강도가 불충분하게 되는 경우가 있다.When the content of the leveling agent in the transparent coating film exceeds 0.8 wt% as solid content, there is no case where the appearance is further improved, and the film strength is sometimes insufficient.

투명 피막의 막두께는 0.5∼20㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다.The thickness of the transparent coating film is preferably in the range of 0.5 to 20 占 퐉.

투명 피막의 막두께가 0.5㎛ 미만인 경우는, 충분한 내찰상성을 얻을 수 없는 경우가 있다.When the thickness of the transparent coating film is less than 0.5 탆, sufficient scratch resistance may not be obtained.

투명 피막의 막두께가 20㎛를 넘으면, 막의 수축에 의해 컬링을 일으키거나, 기재와의 밀착성이 불충분하게 되는 경우가 있다.If the thickness of the transparent coating exceeds 20 탆, shrinkage of the film may cause curling or adhesion to the substrate may be insufficient.

[[ 실시예Example ]]

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명한다. 그러나, 본 발명은, 이들 실시예에 기재된 범위로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples. However, the present invention is not limited to the scope described in these embodiments.

[실시예 1][Example 1]

실리카·Silica · 알루미나졸(1)의The alumina sol (1) 조제 pharmacy

SiO2로서의 농도 24중량%의 규산나트륨 수용액(SiO2/Na2O 몰비 3.1)에 순수를 더하고 SiO2로서의 농도 1.2중량%의 희석(稀釋) 규산나트륨 수용액을 조제하였다.Adding purified water to the SiO 2 concentration of 24% by weight aqueous solution of sodium silicate as (SiO 2 / Na 2 O molar ratio of 3.1) to prepare a dilution (稀釋) aqueous solution of sodium silicate having a concentration of 1.2 wt% as SiO 2.

별도, SiO2로서의 농도 5중량%의 규산나트륨 수용액(SiO2/Na2O 몰비 3.1)을 양이온 교환 수지로 탈 알칼리한 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8)을 조제하였다.Was prepared separately, the concentration of 5% aqueous solution of sodium silicate having a weight as SiO 2 (SiO 2 / Na 2 O molar ratio 3.1) to de-alkali silicate solution with an acidic cation exchange resin (4.8% by weight concentration as SiO 2, pH2.8) .

이어서, 농도 1.2중량%의 희석 규산나트륨 수용액 601㎏에, 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8) 166㎏을 혼합하고, 79℃에서 30분간 숙성하여 종입자(種粒子) 분산액을 조제하였다.Subsequently, 166 kg of an acidic silicic acid solution (concentration of 4.8% by weight as SiO 2 , pH 2.8) was mixed with 601 kg of a dilute sodium silicate aqueous solution having a concentration of 1.2% by weight and aged at 79 캜 for 30 minutes, To prepare a dispersion.

이어서, 종입자 분산액을 교반하면서, 이것에 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8) 5135㎏과 Al2O3로서의 농도 0.6중량%의 알루민산 나트륨 수용액 185㎏을 동시에 15시간 연속적으로 첨가하였다.Subsequently, 5135 kg of an acidic silicic acid solution (concentration of 4.8% by weight as SiO 2 , pH 2.8) and 185 kg of an aqueous sodium aluminate solution having a concentration of 0.6% by weight as Al 2 O 3 were simultaneously stirred for 15 hours Lt; / RTI >

이어서, 한외 여과막으로 세정하고, 농축하여, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액을 조제하였다.Subsequently, it was washed with an ultrafiltration membrane and concentrated to prepare an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 .

실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액의 pH는 9.1이었다. 또, 실리카·알루미나 미립자(1) 중의 평균 입자 지름은 12㎚, Al2O3 함유량은 0.10중량%, Na2O 함유량은 0.5중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(1) 중에 존재한다고 해서 1,500ppm, 표면 음전하량은 2.2μeq/㎡였다.The pH of the aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1) was 9.1. The average particle diameter of the silica-alumina fine particles (1) was 12 nm, the Al 2 O 3 content was 0.10 wt%, and the Na 2 O content was 0.5 wt%. The ion concentration was 1,500 ppm and the surface negative charge amount was 2.2 μeq / m 2 when it was present in the silica-alumina fine particles (1).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액 600㎏에 양이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SK-1BH)를 분산액의 pH가 2.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하였다. (공정(a1))Subsequently, a cation exchange resin (SK-1BH manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to 600 kg of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 , , And then the ion exchange resin was separated. (Step (a1))

이어서, 음이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SA-20A)를 분산액의 pH가 5.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하여, SiO2·Al2O3로서 농도 27중량%의 실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액을 조제하였다. (공정(a2))Subsequently, an anion exchange resin (product of Mitsubishi Chemical Corporation: SA-20A) was added until the pH of the dispersion became 5.0, and then the ion exchange resin was separated to obtain a solution of SiO 2 · Al 2 O 3 % Aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1). (Step (a2))

여기서 얻어진 실리카·알루미나 미립자(1)의 비표면적은 260㎡/g, 표면 음전하량은 0.3μeq/㎡, Al2O3 함유량은 0.07중량%, Na2O 함유량은 0.02중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(1) 중에 존재한다고 해서 100ppm였다.The obtained silica-alumina fine particles (1) had a specific surface area of 260 m 2 / g, a surface negative charge amount of 0.3 μeq / m 2, an Al 2 O 3 content of 0.07 wt% and an Na 2 O content of 0.02 wt%. The ion concentration was 100 ppm even if it was present in the silica-alumina fine particles (1).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%의 실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b))Subsequently, SiO 2 · Al 2 O 3 was diluted to a concentration of 20% by weight, and then 2000 g of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1) was subjected to solvent replacement with methanol according to an ultrafiltration membrane method to obtain SiO 2 · Al 2 O 3 To prepare a silica-alumina fine particle (1) alcohol dispersion having a concentration of 20% by weight. (Step (b))

실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The content of water in the silica-alumina fine particle (1) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실리카·알루미나 미립자의 Of silica-alumina fine particles 음전하량의Negative charge 측정 Measure

농도 20중량%의 실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액을 고형분 농도 0.5중량%로 희석하고(이때 pH6.5였다), 실리카·알루미나 미립자(1)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.(1) alcohol dispersion with a concentration of 20% by weight was diluted to a solid concentration of 0.5% by weight (at this time, the pH was 6.5), and the surface negative charges of the silica-alumina fine particles (1) were measured. Respectively.

다음에, 실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c))Next, 2000 g of the silica-alumina fine particle (1) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shinetsu Kagaku Co., Ltd.: KBM- 503) (3 % by weight as (M OC ) = 0.24 mol: R 1 -SiO (3) / 2 ). (Step (c))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하여 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d))Subsequently, the silica-alumina fine particle (1) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hour to adsorb the organosilicon compound. (Step (d))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)를 첨가하였다. (공정(e))Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 O ) / (M OC ) = 1.96): 0.42 g of ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f))The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Step (f))

표면 처리 실리카·알루미나 미립자의 Of surface-treated silica-alumina fine particles 음전하량의Negative charge 측정 Measure

숙성해서 얻어진 실리카·알루미나 미립자(1) 알코올 분산액에 물을 더해서 고형분 농도 0.5중량%로 희석하였다. 이때의 분산액의 pH는 7.0이었다. 이 분산액을 이용하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(1)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The silica-alumina fine particles (1) obtained by aging The alcohol dispersion was diluted with water to a solid concentration of 0.5% by weight. The pH of the dispersion was 7.0. The surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (1) were measured using this dispersion, and the results are shown in the table.

이어서, 숙성해서 얻은 분산액을 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(1)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))Subsequently, the aged dispersion was subjected to solvent substitution with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration to obtain a silica-alumina sol (1) having a solid content concentration of 40% by weight. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(1)의 점도는 5cp, 안정성은 5일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (1) was 5 cp and the stability was 5 days.

한편, 졸의 안정성은 이하의 가속 시험법에 따랐다.On the other hand, the stability of the sol was determined according to the following accelerated test method.

실리카·알루미나졸을 90℃에서 정치하면서, 점도계(토키산교(주) 제품 : BL형)에 의해 점도가 10,000cp를 넘을 때까지의 시간을 측정하였다.While the silica-alumina sol was kept at 90 占 폚, the time until the viscosity exceeded 10,000 cp was measured with a viscometer (TOKYAN SANGYO Co., product: BL type).

투명 피막 형성용 도료(1)의 조제Preparation of transparent coating film-forming coating material (1)

3관능 이상의 유기 수지로서 6관능 아크릴레이트 수지 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(교에이샤가가쿠(주) 제품 : 라이트 아크릴레이트 DPE-6A) 53g과, 2관능 유기 수지로서, 1,6-헥산디올디아크릴레이트(니폰카야쿠(주) 제품 : KAYARAD KS-HDDA) 5.9g과, 1관능 실리콘 수지로서 편단말 메타크릴실리콘 오일(신에츠가가쿠고교(주) 제품 : X-22-174DX) 0.4g과, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 75.5g과, 광중합 개시제 2.4.6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(비에이에스재팬(주) 제품 : Lucirin TPO) 3.5g을 혼합하여 고형분 농도 44중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(1)을 조제하였다.53 g of hexafunctional acrylate resin dipentaerythritol hexaacrylate (Light Acrylate DPE-6A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as an organic resin having three or more functional groups and 53 g of 1,6-hexanediol 5.9 g of diacrylate (KAYARAD KS-HDDA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 0.4 g of a one-terminal methacrylic silicone oil (X-22-174DX available from Shin-Etsu Chemical Co., , 75.5 g of propylene glycol monomethyl ether and 3.5 g of a photopolymerization initiator 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (Lucirin TPO, manufactured by BAYS Japan K.K.) to obtain a matrix-forming component having a solid content concentration of 44% by weight Solution (1) was prepared.

이어서, 고형분 농도 44중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(1) 30.0g과 고형분 농도 40중량%의 유기 규소 화합물로 표면 처리한 실리카·알루미나졸(1) 30.0g을 혼합하고 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(1)을 조제하였다.Subsequently, 30.0 g of the matrix-forming component solution (1) having a solid content concentration of 44% by weight and 30.0 g of the silica-alumina sol (1) surface-treated with an organic silicon compound having a solid content concentration of 40% To prepare a film-forming coating liquid (1).

투명 피막 형성용 도포액(1)의 점도는 3cp였다. 또, 투명 피막 형성용 도포액(1)의 안정성은 5일이었다. 한편, 도포액의 안정성은 이하의 가속 시험법에 따랐다.The viscosity of the coating liquid for forming a transparent coating film (1) was 3 cp. The stability of the coating liquid for forming a transparent coating film (1) was 5 days. On the other hand, the stability of the coating liquid was determined according to the following accelerated test method.

도포액을 90℃에서 정치하면서, 점도계(토키산교(주) 제품 : BL형)에 의해 점도가 5,000cp를 넘을 때까지의 시간을 측정하였다.The time until the viscosity exceeded 5,000 cp was measured with a viscometer (product of Toriyama Sangyo Co., Ltd.: BL type) while the coating liquid was kept at 90 占 폚.

투명 피막 부착 기재(1)의 제조Production of transparent film-coated substrate (1)

투명 피막 형성용 도포액(1)을 이접착 PET 필름(도요보 제품 : 코스모샤인A-4300, 두께 188㎛, 전 광선 투과율 92.0%, 헤이즈 0.7%)에 바코터법(바#12)으로 도포하고, 80℃에서 1분간 건조한 후, 고압 수은등(120W/㎝)을 탑재한 자외선 조사 장치(니폰덴치 제품 : UV조사 장치 CS30L21-3)로 600mJ/㎠ 조사하여 경화시키고, 투명 피막 부착 기재(1)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.The coating liquid 1 for forming a transparent film was coated on this adhesive PET film (Koso Shine A-4300, thickness 188 m, total light transmittance 92.0%, haze 0.7%) with a bar coater method (bar # 12) , Dried at 80 ° C for 1 minute and then irradiated with 600 mJ / cm 2 by an ultraviolet irradiation device (Nihon Denchi product: UV irradiation device CS30L21-3) equipped with a high pressure mercury lamp (120 W / ) Was prepared. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율 및 헤이즈를 헤이즈미터(니폰덴쇼쿠(주) 제 : NDH-2000)에 의해 측정하고, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance and haze of the obtained transparent coating film were measured by a haze meter (NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.), and the results are shown in the table.

게다가, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 이하의 방법 및 평가 기준으로 평가하여, 결과를 표에 표시한다.In addition, the pencil hardness, scratch resistance and adhesion were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in the table.

연필 경도의 측정Measurement of pencil hardness

JIS-K-5400에 준해서 연필 경도 시험기에 의해 측정하였다.And measured by a pencil hardness tester in accordance with JIS-K-5400.

한편, 본 발명의 투명 피막 형성용 도료는 고농도에서도 안정된 도포액이기 때문에, 형성된 도막은, 건조 공정에서 고온에 노출된 경우도 불안정화가 억제되고, 치밀한 투명 피막을 형성할 수 있고, 이 때문에 연필 경도가 높은 투명 피막을 얻을 수 있다. 즉, 연필 경도는 도료의 안정성의 지표로 할 수 있다.On the other hand, since the coating film for forming a transparent film of the present invention is a stable coating solution even at a high concentration, destabilization of the formed film can be suppressed even when exposed to a high temperature in the drying step and a dense transparent film can be formed, Can be obtained. That is, the pencil hardness can be an index of the stability of the paint.

내찰상성의Abrasive 측정 Measure

#0000 스틸울을 이용하여, 하중 500g/㎠로 50회 미끄럼 이동하고, 막의 표면을 육안으로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하여, 결과를 표에 표시한다.# 0000 steel wool at a load of 500 g / cm < 2 > for 50 times, and the surface of the film was visually observed and evaluated according to the following criteria, and the results are shown in the table.

근조(筋條)의 상처가 인정되지 않는다   : ◎I can not recognize the wound of 筋 条: ◎

근조에 상처가 조금 인정된다 : ○A few scratches are recognized in the fingers: ○

근조에 상처가 다수 인정된다  : △A lot of wounds are recognized at the end of the day: △

면이 전체적으로 깎여져 있다  : ×The face is entirely trimmed: x

밀착성Adhesiveness

투명 피막 부착 기재(1)의 표면에 나이프로 종횡 1㎜의 간격으로 11개의 평행한 상처를 입혀서 100개의 모눈을 만들고, 이것에 셀로판 테이프(등록상표)를 접착하고, 이어서, 셀로판 테이프(등록상표)를 박리했을 때에 피막이 박리하지 않고 잔존하고 있는 모눈의 수를, 이하의 4단계로 분류하는 것에 의해서 밀착성을 평가하였다. 결과를 표에 표시한다.The surface of the transparent film-adhered substrate 1 was coated with 11 parallel wounds at intervals of 1 mm in the longitudinal and transverse directions with a knife to make 100 squares, a cellophane tape (registered trademark) was adhered thereto, and then a cellophane tape ) Was peeled off, the adhesion was evaluated by classifying the number of grits remaining without peeling the coating into the following four levels. The results are displayed in the table.

잔존모눈의 수 95개 이상  : ◎95 or more remaining grids: ◎

잔존모눈의 수 90∼94개 : ○Number of remaining grids 90-94: ○

잔존모눈의 수 85∼89개 : △Number of remaining grids 85-89: △

잔존모눈의 수 84개 이하 : ×Number of remaining grids 84 or less: x

외관Exterior

투명 피막 부착 기재(1)에 대해서, 튕김 및 막 얼룩을 육안으로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하였다.With respect to the transparent film-coated substrate (1), skip and film unevenness were visually observed and evaluated according to the following criteria.

튕김 및 막 얼룩이 인정되지 않는다  : ◎No skipping or film smudges are recognized: ◎

약간 튕김 및 막 얼룩이 인정된다 : ○Slight skip and film smudges are recognized: ○

튕김 및 막 얼룩이 명료하게 인정된다  : △Bounces and film stains are clearly recognized: △

튕김 및 막 얼룩이 다수 인정된다   : ×Many skipping and film spots are recognized: x

[실시예 2][Example 2]

실리카·Silica · 알루미나졸(2)의The alumina sol (2) 조제 pharmacy

실시예 1과 동일하게 하여 종입자 분산액을 조제하였다.A seed dispersion was prepared in the same manner as in Example 1.

이어서, 종입자 분산액을 교반하면서, 이것에 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8) 5042.5㎏과 Al2O3로서의 농도 0.6중량%의 알루민산 나트륨 수용액 924.3㎏을 동시에 15시간 연속적으로 첨가하였다.Then, 5042.5 kg of an acidic silicic acid solution (concentration of 4.8 wt% as SiO 2 , pH 2.8) and 924.3 kg of an aqueous sodium aluminate solution having a concentration of 0.6 wt% as Al 2 O 3 were simultaneously stirred for 15 hours Lt; / RTI >

이어서, 한외 여과막으로 세정하고, 농축하고, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(2) 수분산액을 조제하였다.Subsequently, it was washed with an ultrafiltration membrane and concentrated to prepare an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (2) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 .

실리카·알루미나 미립자(2) 수분산액의 pH는 9.1이었다. 또, 실리카·알루미나 미립자(2) 중의 평균 입자 지름은 12㎚, Al2O3 함유량은 0.50중량%, Na2O 함유량은 0.5중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(2) 중에 존재한다고 해서 1,550ppm, 표면 음전하량은 2.8μeq/㎡였다.The pH of the aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (2) was 9.1. The average particle diameter of the silica-alumina fine particles (2) was 12 nm, the Al 2 O 3 content was 0.50 wt%, and the Na 2 O content was 0.5 wt%. The ion concentration was 1,550 ppm and the surface negative charge amount was 2.8 mu eq / m < 2 > when it was present in the silica-alumina fine particles (2).

이어서, SiO2 ·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(2) 수분산액 600㎏에 양이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SK-1BH)를 분산액의 pH가 2.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하였다. (공정(a1))Then, SiO 2, Al 2 O 3 concentration of 30% by weight in terms of silica of the alumina fine particles, (2) an aqueous dispersion 600㎏ a cation exchange resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product: SK-1BH) is a dispersion of a pH of 2.0 , And then the ion exchange resin was separated. (Step (a1))

이어서, 음이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SA-20A)를 분산액의 pH가 5.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하고, SiO2·Al2O3로서 농도 27중량%의 실리카·알루미나 미립자(2) 수분산액을 조제하였다. (공정(a2))Subsequently, an anion exchange resin (product of Mitsubishi Chemical Corporation: SA-20A) was added until the pH of the dispersion became 5.0, and then the ion exchange resin was separated, and a SiO 2 · Al 2 O 3 concentration of 27 wt% % Aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (2). (Step (a2))

여기서 얻어진 실리카·알루미나 미립자(1)의 비표면적은 269㎡/g, 표면 음전하량은 0.6μeq/㎡, Al2O3 함유량은 0.41중량%, Na2O 함유량은 0.04중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(1) 중에 120ppm였다.The obtained silica-alumina fine particles (1) had a specific surface area of 269 m 2 / g, a surface negative charge amount of 0.6 μeq / m 2, an Al 2 O 3 content of 0.41 wt% and an Na 2 O content of 0.04 wt%. The ion concentration was 120 ppm in the silica-alumina fine particles (1).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카·알루미나 미립자(2) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2 ·Al2O3로서 농도 20중량%의 실리카·알루미나 미립자(2) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b))Subsequently, SiO 2 · Al 2 O 3 was diluted to a concentration of 20% by weight, and then 2000 g of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (2) was subjected to solvent substitution by methanol in accordance with an ultrafiltration membrane method to obtain SiO 2 · Al 2 O 3 To prepare a silica-alumina fine particle (2) alcohol dispersion having a concentration of 20% by weight. (Step (b))

실리카·알루미나 미립자(2) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The content of water in the silica-alumina fine particle (2) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카·알루미나 미립자(2)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles (2) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카·알루미나 미립자(2) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c))Next, 2000 g of the silica-alumina fine particle (2) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shinetsu Kagaku Co., Ltd.: KBM- 503) (3 % by weight as (M OC ) = 0.24 mol: R 1 -SiO (3) / 2 ). (Step (c))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(2) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d))Subsequently, the silica-alumina fine particle (2) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hour to adsorb the organosilicon compound. (Step (d))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(2) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC=0.1)를 첨가하였다. (공정(e))Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 H 2 O ) / (M OC ) were added to the silica / alumina fine particle (2) (Molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f))The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Step (f))

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(2)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (2) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(2)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was carried out to prepare a silica-alumina sol (2) having a solid content concentration of 40% by weight. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(2)의 점도는 5cp, 안정성은 6일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (2) was 5 cp and the stability was 6 days.

투명 피막 형성용 도료(2)의 조제Preparation of transparent coating film-forming coating material (2)

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(2)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(2)을 조제하였다.A coating liquid (2) for forming a transparent coating film having a solid content concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (2) having a solid content concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(2)의 점도는 5cp, 안정성은 5일이었다.The viscosity of the coating liquid 2 for forming a transparent coating film was 5 cp and the stability was 5 days.

투명 피막 부착 기재(2)의 제조Production of transparent film-coated substrate (2)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(2)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(2)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (2) for forming a transparent film was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[실시예 3][Example 3]

실리카·Silica · 알루미나졸(3)의The alumina sol (3) 조제 pharmacy

실시예 1과 동일하게 하여 종입자 분산액을 조제하였다.A seed dispersion was prepared in the same manner as in Example 1.

이어서, 종입자 분산액을 교반하면서, 이것에 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8) 4580㎏과 Al2O3로서의 농도 0.6중량%의 알루민산 나트륨 수용액 4621.7㎏을 동시에 15시간 연속적으로 첨가하였다.Subsequently, 4580 kg of an acidic silicic acid solution (concentration of 4.8 wt% as SiO 2 , pH 2.8) and 4621.7 kg of an aqueous sodium aluminate solution having a concentration of 0.6 wt% as Al 2 O 3 were simultaneously stirred for 15 hours Lt; / RTI >

이어서, 한외 여과막으로 세정하고, 농축하고, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(3) 수분산액을 조제하였다.Subsequently, it was washed with an ultrafiltration membrane and concentrated to prepare an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (3) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 .

실리카·알루미나 미립자(3) 수분산액의 pH는 9.1이었다. 또, 실리카·알루미나 미립자(3) 중의 평균 입자 지름은 13㎚, Al2O3 함유량은 2.50중량%, Na2O 함유량은 0.6중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(3) 중에 존재한다고 하여 1700ppm, 표면 음전하량은 3.1μeq/㎡였다.The pH of the aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (3) was 9.1. The average particle diameter of the silica-alumina fine particles (3) was 13 nm, the Al 2 O 3 content was 2.50 wt%, and the Na 2 O content was 0.6 wt%. The ion concentration was 1700 ppm and the surface negative charge amount was 3.1 mu eq / m < 2 > when it was present in the silica-alumina fine particles (3).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(3) 수분산액 600㎏에 양이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SK-1BH)를 분산액의 pH가 2.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하였다. (공정(a1))Subsequently, a cation exchange resin (SK-1BH manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to 600 kg of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (3) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 · Al 2 O 3 , , And then the ion exchange resin was separated. (Step (a1))

이어서, 음이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SA-20A)를 분산액의 pH가 5.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하여, SiO2·Al2O3로서 농도 27중량%의 실리카·알루미나 미립자(3) 수분산액을 조제하였다. (공정(a2))Subsequently, an anion exchange resin (product of Mitsubishi Chemical Corporation: SA-20A) was added until the pH of the dispersion became 5.0, and then the ion exchange resin was separated to obtain a solution of SiO 2 · Al 2 O 3 % Aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (3). (Step (a2))

여기서 얻어진 실리카·알루미나 미립자(3)의 비표면적은 282㎡/g, 표면 음전하량은 0.8μeq/㎡, Al2O3 함유량은 1.9중량%, Na2O 함유량은 0.05중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(3) 중에 115ppm였다.The obtained silica-alumina fine particles (3) had a specific surface area of 282 m 2 / g, a surface negative charge amount of 0.8 μeq / m 2, an Al 2 O 3 content of 1.9 wt% and an Na 2 O content of 0.05 wt%. The ion concentration was 115 ppm in the silica-alumina fine particles (3).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카·알루미나 미립자(3) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%의 실리카·알루미나 미립자(3) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b))Subsequently, SiO 2 .Al 2 O 3 was diluted to a concentration of 20 wt%, and then 2000 g of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (3) was subjected to solvent substitution by methanol in accordance with an ultrafiltration membrane method to obtain SiO 2 · Al 2 O 3 A silica-alumina fine particle (3) alcohol dispersion having a concentration of 20% by weight was prepared. (Step (b))

실리카·알루미나 미립자(3) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The content of water in the silica-alumina fine particle (3) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카·알루미나 미립자(3)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles (3) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카·알루미나 미립자(3) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c))Next, 2000 g of the silica-alumina fine particle (3) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM- 503) (3 % by weight as (M OC ) = 0.24 mol: R 1 -SiO (3) / 2 ). (Step (c))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(3) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d))Subsequently, the silica-alumina fine particle (3) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hours to adsorb the organosilicon compound. (Step (d))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(3) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)을 첨가하였다. (공정(e))Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 H 2 O ) / (M OC ) were added to the silica / alumina fine particle (3) (Step (e)): 0.42 g of ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f))The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Step (f))

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(3)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (3) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(3)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was carried out to prepare a silica-alumina sol (3) having a solid content concentration of 40% by weight. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(3)의 점도는 7cp, 안정성은 6.5일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (3) was 7 cp and the stability was 6.5 days.

투명 피막 형성용 도료(3)의 조제The preparation of the transparent film-forming paint (3)

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(3)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(3)을 조제하였다.A coating liquid (3) for forming a transparent coating film having a solid content concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (3) having a solid concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(3)의 점도는 8cp, 안정성은 6일이었다.The viscosity of the coating liquid 3 for forming a transparent coating film was 8 cp and the stability was 6 days.

투명 피막 부착 기재(3)의 제조Production of transparent film-coated substrate (3)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(3)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(3)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (3) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[실시예 4][Example 4]

실리카·Silica · 알루미나졸(4)의The alumina sol (4) 조제 pharmacy

실시예 1과 동일하게 하여 종입자 분산액을 조제하였다.A seed dispersion was prepared in the same manner as in Example 1.

이어서, 종입자 분산액을 교반하면서, 이것에 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8) 25,650㎏과 Al2O3로서의 농도 0.6중량%의 알루민산 나트륨 수용액 919㎏을 동시에 15시간 연속적으로 첨가하였다.Subsequently, 25,650 kg of an acidic silicic acid solution (concentration of 4.8 wt% as SiO 2 , pH 2.8) and 919 kg of an aqueous sodium aluminate solution having a concentration of 0.6 wt% as Al 2 O 3 were simultaneously stirred for 15 hours Lt; / RTI >

이어서, 한외 여과막으로 세정하고, 농축하고, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(4) 수분산액을 조제하였다.Subsequently, it was washed with an ultrafiltration membrane and concentrated to prepare an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (4) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 .

실리카·알루미나 미립자(4) 수분산액의 pH는 9.1이었다. 또, 실리카·알루미나 미립자(4) 중의 평균 입자 지름은 25㎚, Al2O3 함유량은 0.10중량%, Na2O 함유량은 0.9중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(4) 중에 존재한다고 하여 2400ppm, 표면 음전하량은 3.3μeq/㎡였다.The pH of the aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (4) was 9.1. The average particle diameter of the silica-alumina fine particles (4) was 25 nm, the Al 2 O 3 content was 0.10 wt%, and the Na 2 O content was 0.9 wt%. The ion concentration was 2400 ppm and the surface negative charge amount was 3.3 μeq / m 2 when it was present in the silica-alumina fine particles (4).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(4) 수분산액 600㎏에 양이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SK-1BH)를 분산액의 pH가 2.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하였다. (공정(a1))Subsequently, a cation exchange resin (SK-1BH manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to 600 kg of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (4) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 , , And then the ion exchange resin was separated. (Step (a1))

이어서, 음이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SA-20A)를 분산액의 pH가 5.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하여, SiO2·Al2O3로서 농도 27중량%의 실리카·알루미나 미립자(4) 수분산액을 조제하였다. (공정(a2))Subsequently, an anion exchange resin (product of Mitsubishi Chemical Corporation: SA-20A) was added until the pH of the dispersion became 5.0, and then the ion exchange resin was separated to obtain a solution of SiO 2 · Al 2 O 3 % Aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (4). (Step (a2))

여기서 얻어진 실리카·알루미나 미립자(4)의 비표면적은 120㎡/g, 표면 음전하량은 0.2μeq/㎡, Al2O3 함유량은 0.07중량%, Na2O 함유량은 0.02중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(4) 중에 230ppm였다.The obtained silica-alumina fine particles (4) had a specific surface area of 120 m 2 / g, a surface negative charge amount of 0.2 μeq / m 2, an Al 2 O 3 content of 0.07 wt% and an Na 2 O content of 0.02 wt%. The ion concentration was 230 ppm in the silica-alumina fine particles (4).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카·알루미나 미립자(4) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%의 실리카·알루미나 미립자(4) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b))Subsequently, SiO 2 · Al 2 O 3 was diluted to a concentration of 20 wt%, and then 2000 g of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (4) was subjected to solvent substitution by methanol in accordance with an ultrafiltration membrane method to obtain SiO 2 · Al 2 O 3 To prepare a silica-alumina fine particle (4) alcohol dispersion having a concentration of 20% by weight. (Step (b))

실리카·알루미나 미립자(4) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The content of water in the silica-alumina fine particle (4) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카·알루미나 미립자(4)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles (4) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카·알루미나 미립자(4) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c))Next, 2000 g of the silica-alumina fine particle (4) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KBM- 503) (3 % by weight as (M OC ) = 0.24 mol: R 1 -SiO (3) / 2 ). (Step (c))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(4) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d))Subsequently, the silica-alumina fine particle (4) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hours to adsorb the organosilicon compound. (Step (d))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(4) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)를 첨가하였다. (공정(e))Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28 wt% as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 H 2 O ) / (M OC ) were added to the silica / alumina fine particle (4) alcohol dispersion, = 1.96): 0.42 g of ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f))The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Step (f))

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(4)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (4) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(4)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was carried out to prepare a silica-alumina sol (4) having a solid content concentration of 40% by weight. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(4)의 점도는 17cp, 안정성은 4일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (4) was 17 cp and the stability was 4 days.

투명 피막 형성용 도료(4)의 조제Preparation of the transparent film-forming coating material (4)

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(4)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(4)을 조제하였다.A coating liquid (4) for forming a transparent coating film having a solid concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (4) having a solid content concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(4)의 점도는 20cp, 안정성은 5일이었다.The viscosity of the coating liquid 4 for forming a transparent coating film was 20 cp and the stability was 5 days.

투명 피막 부착 기재(4)의 제조Production of transparent film-coated substrate (4)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(4)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(4)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for transparent film formation (4) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[실시예 5][Example 5]

실리카·Silica · 알루미나졸(5)의Alumina sol (5) 조제 pharmacy

실시예 1과 동일하게 하여 종입자 분산액을 조제하였다.A seed dispersion was prepared in the same manner as in Example 1.

이어서, 종입자 분산액을 교반하면서, 이것에 산성 규산액(SiO2로서의 농도 4.8중량%, pH2.8) 205,200㎏과 Al2O3로서의 농도 0.6중량%의 알루민산 나트륨 수용액 7,354㎏을 동시에 15시간 연속적으로 첨가하였다.Subsequently, 205,200 kg of an acidic silicic acid solution (concentration of 4.8% by weight as SiO 2 , pH 2.8) and 7,354 kg of an aqueous sodium aluminate solution having a concentration of 0.6% by weight as Al 2 O 3 were simultaneously added thereto for 15 hours Lt; / RTI >

이어서, 한외 여과막으로 세정하고, 농축하고, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(5) 수분산액을 조제하였다.Subsequently, it was washed with an ultrafiltration membrane and concentrated to prepare an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (5) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 .

실리카·알루미나 미립자(5) 수분산액의 pH는 9.1이었다. 또, 실리카·알루미나 미립자(5) 중의 평균 입자 지름은 45㎚, Al2O3 함유량은 0.10중량%, Na2O 함유량은 1.2중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(5) 중에 존재한다고 하여 3,600ppm, 표면 음전하량은 3.4μeq/㎡였다.The pH of the aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (5) was 9.1. The average particle diameter of the silica-alumina fine particles (5) was 45 nm, the Al 2 O 3 content was 0.10 wt%, and the Na 2 O content was 1.2 wt%. The ion concentration was 3,600 ppm and the surface negative charge amount was 3.4 占 q / m2, assuming that it was present in the silica-alumina fine particles (5).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(5) 수분산액 600㎏에 양이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SK-1BH)를 분산액의 pH가 2.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하였다. (공정(a1))Subsequently, a cation exchange resin (SK-1BH manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to 600 kg of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (5) having a concentration of 30% by weight as SiO 2 .Al 2 O 3 , , And then the ion exchange resin was separated. (Step (a1))

이어서, 음이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SA-20A)를 분산액의 pH가 5.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하여, SiO2·Al2O3로서 농도 27중량%의 실리카·알루미나 미립자(5) 수분산액을 조제하였다. (공정(a2))Subsequently, an anion exchange resin (product of Mitsubishi Chemical Corporation: SA-20A) was added until the pH of the dispersion became 5.0, and then the ion exchange resin was separated to obtain a solution of SiO 2 · Al 2 O 3 % Aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (5). (Step (a2))

여기서 얻어진 실리카·알루미나 미립자(5)의 비표면적은 68㎡/g, 표면 음전하량은 0.1μeq/㎡, Al2O3 함유량은 0.09중량%, Na2O 함유량은 0.23중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카·알루미나 미립자(5) 중에 380ppm였다.The obtained silica-alumina fine particles (5) had a specific surface area of 68 m 2 / g, a surface negative charge amount of 0.1 μeq / m 2, an Al 2 O 3 content of 0.09 wt% and an Na 2 O content of 0.23 wt%. The ion concentration was 380 ppm in the silica-alumina fine particles (5).

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카·알루미나 미립자(5) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%의 실리카·알루미나 미립자(5) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b))Subsequently, after diluting with SiO 2 .Al 2 O 3 to a concentration of 20% by weight, 2000 g of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (5) was subjected to solvent substitution with methanol in accordance with an ultrafiltration membrane method to obtain SiO 2 · Al 2 O 3 A silica-alumina fine particle (5) alcohol dispersion having a concentration of 20% by weight was prepared. (Step (b))

실리카·알루미나 미립자(5) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The content of water in the silica-alumina fine particle (5) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카·알루미나 미립자(5)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles (5) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카·알루미나 미립자(5) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c))Next, 2000 g of the silica-alumina fine particle (5) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shinetsu Kagaku Co., Ltd.: KBM- 503) (3 % by weight as (M OC ) = 0.24 mol: R 1 -SiO (3) / 2 ). (Step (c))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(5) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d))Subsequently, the silica-alumina fine particle (5) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hour to adsorb the organosilicon compound. (Step (d))

이어서, 실리카·알루미나 미립자(5) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)을 첨가하였다. (공정(e))Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28 wt% as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M H2O ) / (M OC ) were added to the silica / alumina fine particle (5) (Step (e)): 0.42 g of ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f))The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Step (f))

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(5)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (5) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(5)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was carried out to prepare a silica-alumina sol (5) having a solid content concentration of 40% by weight. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(5)의 점도는 25cp, 안정성은 3일이었다.The silica-alumina sol (5) had a viscosity of 25 cp and a stability of 3 days.

투명 피막 형성용 도료(5)의 조제Preparation of the transparent film-forming paint (5)

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(5)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(5)을 조제하였다.A coating liquid 5 for forming a transparent coating film having a solid concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (5) having a solid content concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(5)의 점도는 32cp, 안정성은 5일이었다.The viscosity of the coating liquid 5 for forming a transparent coating film was 32 cp and the stability was 5 days.

투명 피막 부착 기재(5)의 제조Production of transparent film-coated substrate (5)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(5)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(5)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (5) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[실시예 6][Example 6]

실리카·Silica · 알루미나졸(6)의Alumina sol (6) 조제 pharmacy

실시예 1에 있어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 60중량%의 실리카·알루미나졸(6)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))In Example 1, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was conducted to prepare a silica-alumina sol (6) having a solid concentration of 60% by weight. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(6)의 점도는 120cp, 안정성은 3일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (6) was 120 cp and the stability was 3 days.

투명 피막 형성용 도료(6)의 조제Preparation of the transparent coating film-forming coating material (6)

3관능 이상의 유기 수지로서 4관능 아크릴레이트 수지 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(교에이샤가가쿠(주) 제품 : 라이트 아크릴레이트 PE-4A) 53g과, 2관능 유기 수지로서, 1,6-헥산디올디아크릴레이트(니폰카야쿠(주) 제품 : KAYARAD KS-HDDA) 5.9g과, 1관능 실리콘 수지로서 편단말 메타크릴실리콘 오일(신에츠가가쿠고교(주) 제품 : X-22-174DX) 0.4g과, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 33.4g과, 광중합 개시제 2.4.6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(비에이에스재팬(주) 제품 : Lucirin TPO) 3.5g을 혼합하여 고형분 농도 64중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(2)을 조제하였다.53 g of tetrafunctional acrylate resin pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light acrylate PE-4A) as an organic resin having three or more functional groups and 1,6-hexanediol di (KAYARAD KS-HDDA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 0.4 g of a one-terminal methacrylic silicone oil (X-22-174DX available from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a monofunctional silicone resin , 33.4 g of propylene glycol monomethyl ether and 3.5 g of a photopolymerization initiator 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (Lucirin TPO, manufactured by BAYES Japan K.K.) to obtain a matrix forming component solution having a solid content concentration of 64% by weight (2) was prepared.

이어서, 고형분 농도 64중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(2) 30.0g과 고형분 농도 60중량%의 유기 규소 화합물로 표면 처리한 실리카·알루미나졸(6) 30.0g을 혼합하여 고형분 농도 62중량%의 투명 피막 형성용 도포액(6)을 조제하였다.Subsequently, 30.0 g of the matrix-forming component solution (2) having a solid content concentration of 64% by weight and 30.0 g of the silica-alumina sol (6) surface-treated with an organosilicon compound having a solid content concentration of 60% To thereby prepare a film-forming coating liquid (6).

투명 피막 형성용 도포액(6)의 점도는 110cp, 안정성은 3일이었다.The coating liquid 6 for forming a transparent coating film had a viscosity of 110 cp and a stability of 3 days.

투명 피막 부착 기재(6)의 제조Production of transparent film-coated substrate (6)

투명 피막 형성용 도포액(6)을 이접착 PET 필름(도요보 제품 : 코스모샤인A-4300, 두께 188㎛, 전 광선 투과율 92.0%, 헤이즈 0.7%)에 바코터법(바#10)으로 도포하고, 80℃에서 1분간 건조한 후, 고압 수은등(120W/㎝)을 탑재한 자외선 조사 장치(니폰덴치 제품 : UV조사 장치 CS30L21-3)로 600mJ/㎠ 조사하고 경화시켜서, 투명 피막 부착 기재(6)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.Coating liquid 6 for forming a transparent coating film was coated on this adhesive PET film (Cosmo Shine A-4300, thickness 188 m, total light transmittance 92.0%, haze 0.7%) with a bar coater method (bar # 10) , Dried at 80 ° C for 1 minute and then irradiated with 600 mJ / cm 2 by an ultraviolet irradiation device (Nihon Denchi product: UV irradiation device CS30L21-3) equipped with a high pressure mercury lamp (120 W / cm) ) Was prepared. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

[실시예 7][Example 7]

실리카·Silica · 알루미나졸(7)의Alumina sol (7) 조제 pharmacy

실시예 1에 있어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 70중량%의 실리카·알루미나졸(7)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h))In Example 1, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was conducted to prepare silica-alumina sol (7) having a solid concentration of 70 wt%. (Process (g)) (Process (h))

실리카·알루미나졸(7)의 점도는 780cp, 안정성은 2일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (7) was 780 cp and the stability was 2 days.

투명 피막 형성용 도료(7)의 조제Preparation of the transparent film-forming paint (7)

3관능 이상의 유기 수지로서 6관능 아크릴레이트 수지 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(교에이샤가가쿠(주) 제품 : 라이트 아크릴레이트 DPE-6A) 53g과, 2관능 유기 수지로서 1,6-헥산디올디아크릴레이트(니폰카야쿠(주) 제품 : KAYARAD KS-HDDA) 5.9g과, 1관능 실리콘 수지로서 편단말 메타크릴실리콘 오일(신에츠가가쿠고교(주) 제품 : X-22-174DX) 0.4g과, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 25.4과, 광중합 개시제 2.4.6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(비에이에스재팬(주) 제품 : Lucirin TPO) 3.5g을 혼합하여 고형분 농도 74중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(3)을 조제하였다.53 g of hexafunctional acrylate resin dipentaerythritol hexaacrylate (Light Acrylate DPE-6A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as an organic resin having three or more functional groups and 1,6-hexanediol di (KAYARAD KS-HDDA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 0.4 g of a one-terminal methacrylic silicone oil (X-22-174DX available from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a monofunctional silicone resin , 25.4 of propylene glycol monomethyl ether and 3.5 g of a photopolymerization initiator 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (Lucirin TPO, manufactured by BAYES Japan K.K.) to obtain a matrix-forming component solution (solid content concentration: 3) was prepared.

이어서, 고형분 농도 74중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(3) 30.0g과 고형분 농도 70중량%의 유기 규소 화합물로 표면 처리한 실리카·알루미나졸(7) 30.0g을 혼합하여 고형분 농도 72중량%의 투명 피막 형성용 도포액(7)을 조제하였다.Subsequently, 30.0 g of the matrix-forming component solution (3) having a solid content concentration of 74 wt% and 30.0 g of the silica-alumina sol (7) surface-treated with an organic silicon compound having a solid concentration of 70 wt% were mixed to prepare a transparent To prepare a film-forming coating liquid (7).

투명 피막 형성용 도포액(7)의 점도는 960cp, 안정성은 1일이었다.The viscosity of the coating liquid 7 for forming a transparent coating film was 960 cp and the stability was 1 day.

투명 피막 부착 기재(7)의 제조Production of transparent film-coated substrate (7)

투명 피막 형성용 도포액(7)을 이접착 PET 필름(도요보 제품 : 코스모샤인A-4300, 두께 188㎛, 전 광선 투과율 92.0%, 헤이즈 0.7%)에 바코터법(바#9)으로 도포하고, 80℃에서 1분간 건조한 후, 고압 수은등(120W/㎝)을 탑재한 자외선 조사 장치(니폰덴치 제품 : UV조사 장치 CS30L21-3)로 600mJ/㎠ 조사하고 경화시켜서, 투명 피막 부착 기재(9)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.The coating liquid 7 for forming a transparent film was coated on this adhesive PET film (Cosmo Shine A-4300, thickness 188 m, total light transmittance 92.0%, haze 0.7%) using a bar coater method (Bar # 9) , Dried at 80 ° C for 1 minute and irradiated with 600 mJ / cm 2 by an ultraviolet irradiation device (Nihon Denchi product: UV irradiation device CS30L21-3) equipped with a high pressure mercury lamp (120 W / cm) ) Was prepared. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

[실시예 8][Example 8]

투명 피막 형성용 도료(8)의 조제Preparation of the transparent film-forming paint (8)

실시예 1에 있어서, 게다가 레벨링제로서 특수 실리콘계 레벨링제(쿠스모토카세이(주) 제품 : Disparlon #1711) 0.2g을 혼합한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 44중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(4)을 조제하였다.In the same manner as in Example 1 except that 0.2 g of a special silicone leveling agent (Disparlon # 1711 manufactured by Cusmotocase Co., Ltd.) was used as a leveling agent, the matrix forming component solution 4 having a solid concentration of 44 wt% Was prepared.

이어서, 고형분 농도 44중량%의 매트릭스 형성 성분 용액(4) 30.0g와, 실시예 1과 동일하게 하여 조제한 고형분 농도 40중량%의 유기 규소 화합물로 표면 처리한 실리카·알루미나졸(1) 30.0g을 혼합하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(8)을 조제하였다.Subsequently, 30.0 g of the matrix-forming component solution (4) having a solid content concentration of 44% by weight and 30.0 g of the silica-alumina sol (1) surface-treated with the organosilicon compound having a solid concentration of 40% by weight prepared in the same manner as in Example 1 To prepare a coating liquid (8) for forming a transparent coating film having a solid content concentration of 42% by weight.

투명 피막 형성용 도포액(8)의 점도는 3cp였다. 또, 투명 피막 형성용 도포액(8)의 안정성은 5일이었다.The viscosity of the coating liquid for forming a transparent coating film 8 was 3 cp. The stability of the coating liquid for forming a transparent coating film (8) was 5 days.

투명 피막 부착 기재(8)의 제조Production of transparent film-coated substrate (8)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(8)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(8)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (8) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (8) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실리카·Silica · 알루미나졸(R1)의Alumina sol (R1) 조제 pharmacy

실시예 1과 동일하게 하여, 한외 여과막으로 세정하고, 농축한 원료로서 이용하는 SiO2·Al2O3로서 농도 30중량%의 실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액을 조제하였다.In the same manner as in Example 1, an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1) having a concentration of 30% by weight was prepared as SiO 2 · Al 2 O 3 used as a raw material after being washed with an ultrafiltration membrane.

이어서, SiO2·Al2O3로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카·알루미나 미립자(1) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2·Al2O3로서 농도 10중량%의 실리카·알루미나 미립자(R1) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b) 상당)Subsequently, SiO 2 · Al 2 O 3 was diluted to a concentration of 20% by weight, and then 2000 g of an aqueous dispersion of silica-alumina fine particles (1) was subjected to solvent replacement with methanol according to an ultrafiltration membrane method to obtain SiO 2 · Al 2 O 3 A silica-alumina fine particle (R1) alcohol dispersion having a concentration of 10% by weight was prepared. (Equivalent to process (b)).

실리카·알루미나 미립자(R1) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.8중량%였다.The content of water in the silica-alumina fine particle (R1) alcohol dispersion was 0.8% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카·알루미나 미립자(R1)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the silica-alumina fine particles (R1) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카·알루미나 미립자(R1) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c) 상당)Next, 2000 g of the silica-alumina fine particle (R1) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shinetsu Kagaku Co., Ltd.: KBM- 503) (3 % by weight as (M OC ) = 0.24 mol: R 1 -SiO (3) / 2 ). (Equivalent to step (c)).

이어서, 실리카·알루미나 미립자(R1) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d) 상당)Subsequently, the silica-alumina fine particle (R1) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hour to adsorb the organosilicon compound. (Equivalent to step (d)).

이어서, 실리카·알루미나 미립자(R1) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)을 첨가하였다. (공정(e) 상당)Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M H2O ) / (M OC ) were added to an alumina dispersion of silica- = 1.96): 0.42 g of ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f) 상당)The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Equivalent to process (f)).

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(R1)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (R1) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R1)을 조제하였다. (공정(g) 상당)(공정(h) 상당)Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was conducted to prepare a silica-alumina sol (R1) having a solid content concentration of 40% by weight. (Equivalent to step (g)) (equivalent to step (h)

실리카·알루미나졸(R1)의 점도는 240cp, 안정성은 0.5일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (R1) was 240 cp and the stability was 0.5 day.

투명 피막 형성용 도료(Coating for forming a transparent film ( R1R1 )의 조제) Preparation

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 20중량%의 실리카·알루미나졸(R1)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R1)을 조제하였다.A coating liquid R1 for forming a transparent coating film having a solid concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (R1) having a solid concentration of 20% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(R1)의 점도는 360cp, 안정성은 0.5일이었다.The viscosity of the coating liquid R1 for forming a transparent coating film was 360 cp, and the stability was 0.5 day.

투명 피막 부착 기재(A transparent film-adhered substrate ( R1R1 )의 제조)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R1)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(R1)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated substrate (R1) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent coating (R1) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[비교예 2][Comparative Example 2]

실리카·Silica · 알루미나졸(R2)의The alumina sol (R2) 조제 pharmacy

비교예 1에 있어서, 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 120g((MOC)=0.48몰 : R1-SiO(3)/2로서 6중량%))를 더하였다. (공정(c) 상당)In Comparative Example 1, as an organic silicon compound as γ- (meth) acryloxy propyl trimethoxy silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product: KBM-503) 120g (( M OC) = 0.48 mole: R 1 -SiO (3) / 2 , 6% by weight)) was added. (Equivalent to step (c)).

이어서, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.00) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3 ))/(MOC)=0.05)를 첨가한(공정(e)) 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R2)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h) 상당)Subsequently, 1.5 g of ammonia water at a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 O ) / (M OC ) = 1.00) NH3) = 0.025, yielding a molar ratio (M NH3)) / (M OC) was added to = 0.05) (step (e)) other than the same, and a solid content of 40% by weight of silica-alumina sol (R2). (Step (g)) (equivalent to step (h))

실리카·알루미나졸(R2)의 점도는 120cp, 안정성은 1일이었다.The viscosity of the silica-alumina sol (R2) was 120 cp and the stability was 1 day.

한편, 상기에서, 공정(f) 후, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(R2)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.On the other hand, after the step (f), the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (R2) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

투명 피막 형성용 도료(Coating for forming a transparent film ( R2R2 )의 조제) Preparation

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R2)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R2)을 조제하였다.A coating liquid (R2) for forming a transparent coating film having a solid content concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (R2) having a solid concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(R2)의 점도는 230cp, 안정성은 1일이었다.The viscosity of the coating liquid for forming a transparent coating film R2 was 230 cp and the stability was 1 day.

투명 피막 부착 기재(A transparent film-adhered substrate ( R2R2 )의 제조)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R2)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(R2)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (R2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (R2) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[비교예 3][Comparative Example 3]

실리카·Silica · 알루미나졸(R3)의The alumina sol (R3) 조제 pharmacy

실시예 1에 있어서, 공정(c)에 이어서, 즉시(공정(e)) 이하를 실시한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R3)을 조제하였다.The silica-alumina sol (R3) having a solid concentration of 40% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the step (c) was followed immediately (step (e)).

실리카·알루미나졸(R3)의 점도는 8cp, 안정성은 4일이었다.The silica-alumina sol (R3) had a viscosity of 8 cp and a stability of 4 days.

한편, 상기에서, 공정(f) 후, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카·알루미나 미립자(R3)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.On the other hand, after the step (f), the surface negative charges of the surface-treated silica-alumina fine particles (R3) were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

투명 피막 형성용 도료(Coating for forming a transparent film ( R3R3 )의 조제) Preparation

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R3)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R3)을 조제하였다.A coating liquid (R3) for forming a transparent coating film having a solid concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (R3) having a solid concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(R3)의 점도는 5cp, 안정성은 3일이었다.The viscosity of the coating liquid for forming a transparent coating film (R3) was 5 cp and the stability was 3 days.

투명 피막 부착 기재(A transparent film-adhered substrate ( R3R3 )의 제조)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R3)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(R3)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated base material (R3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (R3) for forming a transparent coating film was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[비교예 4][Comparative Example 4]

실리카오르가노졸(R4)의Of the silica organosols (R4) 조제 pharmacy

실리카졸(닛키쇼쿠바이카세이(주) 제품 : CATALOID SI-30, 평균 입자 지름 : 12㎚, SiO2 농도 30중량%, 입자중 Al2O3 함유량 0중량%, Na2O 함유량은 0.4중량%, pH9.3, 이온 농도 : 실리카 미립자중에 존재한다고 하여 1300ppm, 표면 음전하량은 1.9μeq/㎡)를 SiO2로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카 미립자 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2로서 농도 20중량%의 실리카 미립자(R4) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b) 상당)The silica sol (CATALOID SI-30, average particle diameter: 12 nm, SiO 2 concentration: 30 wt%, Al 2 O 3 content: 0 wt%, Na 2 O content: 0.4 wt% %, PH: 9.3, ion concentration: 1300 ppm in the presence of silica fine particles and surface negative charge: 1.9 μeq / m 2) was diluted as SiO 2 to a concentration of 20% by weight and then 2000 g of a silica fine particle water dispersion was subjected to ultrafiltration , And the solvent was replaced with methanol to prepare a silica fine particle (R4) alcohol dispersion having a concentration of 20% by weight as SiO 2 . (Equivalent to process (b)).

실리카 미립자(R4) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The content of water in the silica fine particle (R4) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카 미립자(R4)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the fine silica particles (R4) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카 미립자(R4) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c) 상당)Next, 2000 g of the silica fine particle (R4) alcohol dispersion was adjusted to 25 캜 and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and further a): 60g (R 1 -SiO ( 3) 3 % by weight in terms of / 2 (M OC) = 0.24 mole). (Equivalent to step (c)).

이어서, 실리카 미립자(R4) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d) 상당)Subsequently, the silica fine particle (R4) alcohol dispersion was stirred at 25 占 폚 for 0.5 hour to adsorb the organosilicon compound. (Equivalent to step (d)).

이어서, 실리카 미립자(R4) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)을 첨가하였다. (공정(e) 상당)Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 H 2 O ) / (M OC ) = 1.96 ): Ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f) 상당)The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Equivalent to process (f)).

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카 미립자(R4)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charge amount of the surface-treated silica fine particles (R4) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카졸(R4)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h) 상당)Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was conducted to prepare a silica sol (R4) having a solid content concentration of 40% by weight. (Step (g)) (equivalent to step (h))

실리카졸(R4)의 점도는 360cp, 안정성은 0.5일이었다.The viscosity of the silica sol (R4) was 360 cp and the stability was 0.5 days.

투명 피막 형성용 도료(Coating for forming a transparent film ( R4R4 )의 조제) Preparation

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R4)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R4)을 조제하였다.A coating liquid (R4) for forming a transparent coating film having a solid concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (R4) having a solid content concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(R4)의 점도는 450cp, 안정성은 0.5일이었다.The viscosity of the coating liquid R4 for forming a transparent coating film was 450 cp and the stability was 0.5 day.

투명 피막 부착 기재(A transparent film-adhered substrate ( R4R4 )의 제조)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R4)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(R4)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent film-coated substrate (R4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent film (R4) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

[비교예 5][Comparative Example 5]

실리카오르가노졸(R5)의Of the silica organosol (R5) 조제 pharmacy

실리카졸(닛키쇼쿠바이카세이(주) 제품 : CATALOID SI-30, 평균 입자 지름 : 12㎚, SiO2 농도 30중량%, 입자중 Al2O3 함유량 0중량%, Na2O 함유량은 0.4중량%, pH9.3, 이온 농도 : 실리카 미립자중에 존재한다고 하여 1300ppm, 표면 음전하량은 1.9μeq/㎡)를 SiO2로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카 미립자(R5) 수분산액 600㎏에 양이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SK-1BH)를 분산액의 pH가 2.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하였다. (공정(a1) 상당)The silica sol (CATALOID SI-30, average particle diameter: 12 nm, SiO 2 concentration: 30 wt%, Al 2 O 3 content: 0 wt%, Na 2 O content: 0.4 wt% And the surface negative charge amount was 1.9 占 q ec / m2) was diluted with SiO 2 to a concentration of 20% by weight, and then 600 kg of a silica fine particle (R5) water dispersion was added with a cation Exchange resin (product of Mitsubishi Chemical Corporation: SK-1BH) was added until the pH of the dispersion became 2.0, and then the ion-exchange resin was separated. (Equivalent to the step (al)

이어서, 음이온 교환 수지(미쯔비시가가쿠(주) 제품 : SA-20A)를 분산액의 pH가 5.0이 될 때까지 첨가하고, 이어서 이온 교환 수지를 분리하고, SiO2로서 농도 27중량%의 실리카 미립자(R5) 수분산액을 조제하였다. (공정(a2) 상당)Then, the anion exchange resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product: SA-20A) and the addition until the pH of the dispersion is 5.0, then the ion separating exchange resin, silica fine particles having a concentration of 27% by weight in terms of SiO 2 ( R5) water dispersion was prepared. (Equivalent to the step (a2)

여기서 얻어진 실리카 미립자(R5)의 비표면적은 251㎡/g, 표면 음전하량은 0.1μeq/㎡, Al2O3 함유량은 0중량%, Na2O 함유량은 0.02중량%였다. 또, 이온 농도는 실리카 미립자(R5) 중으로 환산하여 110ppm였다.The obtained fine silica particles (R5) had a specific surface area of 251 m 2 / g, a surface negative charge amount of 0.1 μeq / m 2, an Al 2 O 3 content of 0 wt% and an Na 2 O content of 0.02 wt%. The ion concentration was 110 ppm in terms of the amount of the silica fine particles (R5).

이어서, SiO2로서 농도 20중량%로 희석한 후, 실리카 미립자(R5) 수분산액 2000g을 한외 여과막법에 따라, 메탄올로 용매 치환하고, SiO2로서 농도 20중량%의 실리카 미립자(R5) 알코올 분산액을 조제하였다. (공정(b) 상당)Then, after the silica fine particles (R5) dispersion 2000g an ultrafiltration membrane method, a displacement, the silica fine particles (R5) the alcohol dispersion of a concentration of 20% by weight in terms of SiO 2 the solvent with methanol in accordance with the dilution as SiO 2 at a concentration of 20% by weight Was prepared. (Equivalent to process (b)).

실리카 미립자(R5) 알코올 분산액 중의 물의 함유량은 0.5중량%였다.The water content in the silica fine particle (R5) alcohol dispersion was 0.5% by weight.

실시예 1과 동일하게 하여 실리카 미립자(R5)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.The surface negative charge amount of the fine silica particles (R5) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

다음에, 실리카 미립자(R5) 알코올 분산액 2000g을 25℃로 조절하고, 이것에 유기 규소 화합물로서 γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠(주) 제품 : KBM-503) 60g((MOC)=0.24몰 : R1-SiO(3)/2로서 3중량%))를 더하였다. (공정(c) 상당)Next, 2000 g of the silica fine particle (R5) alcohol dispersion was adjusted to 25 占 폚, and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., and further a): 60g (R 1 -SiO ( 3) 3 % by weight in terms of / 2 (M OC) = 0.24 mole). (Equivalent to step (c)).

이어서, 실리카 미립자(R5) 알코올 분산액을 25℃에서 0.5시간 교반하고 유기 규소 화합물을 흡착시켰다. (공정(d) 상당)Subsequently, the silica fine particle (R5) alcohol dispersion was stirred at 25 DEG C for 0.5 hour to adsorb the organosilicon compound. (Equivalent to step (d)).

이어서, 실리카 미립자(R5) 알코올 분산액에, 암모니아로서 농도 28중량%의 암모니아수 1.5g과 순수 7.8g(물 8.78g(몰수(MH2O)=0.49, 몰비(MH2O)/(MOC)=1.96) : 암모니아 0.42g(몰수(MNH3)=0.025, 몰비(MNH3)/(MOC)=0.1)을 첨가하였다. (공정(e) 상당)Subsequently, 1.5 g of ammonia water having a concentration of 28% by weight as ammonia and 7.8 g of pure water (8.78 g of water (M H2O ) = 0.49, molar ratio (M 2 H 2 O ) / (M OC ) = 1.96 ): Ammonia (molar ratio (M NH 3 ) = 0.025, molar ratio (M NH 3 ) / (M OC ) = 0.1)

이어서, 분산액을 50℃로 조정하고, 19시간 숙성하였다. (공정(f) 상당)The dispersion was then adjusted to 50 DEG C and aged for 19 hours. (Equivalent to process (f)).

이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 표면 처리 실리카 미립자(R5)의 표면 음전하량을 측정하고, 결과를 표에 표시하였다.Subsequently, the surface negative charge amount of the surface-treated silica fine particles (R5) was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the table.

이어서, 증류법으로 메틸이소부틸케톤으로 용매 치환하는 동시에 농축하고, 고형분 농도 40중량%의 실리카졸(R5)을 조제하였다. (공정(g))(공정(h) 상당)Subsequently, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone by distillation and concentration was carried out to prepare a silica sol (R5) having a solid content concentration of 40% by weight. (Step (g)) (equivalent to step (h))

실리카졸(R5)의 점도는 8cp, 안정성은 4일이었다.The viscosity of the silica sol (R5) was 8 cp and the stability was 4 days.

투명 피막 형성용 도료(Coating for forming a transparent film ( R5R5 )의 조제) Preparation

실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40중량%의 실리카·알루미나졸(R5)을 이용한 이외는 동일하게 하여 고형분 농도 42중량%의 투명 피막 형성용 도포액(R5)을 조제하였다.A coating liquid for forming a transparent coating film (R5) having a solid concentration of 42% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica-alumina sol (R5) having a solid concentration of 40% by weight was used.

투명 피막 형성용 도포액(R5)의 점도는 12cp, 안정성은 4일이었다.The viscosity of the coating liquid for forming a transparent coating film (R5) was 12 cp and the stability was 4 days.

투명 피막 부착 기재(A transparent film-adhered substrate ( R5R5 )의 제조)

실시예 1에 있어서, 투명 피막 형성용 도포액(R5)을 이용한 이외는 동일하게 하여 투명 피막 부착 기재(R5)를 조제하였다. 이때의 투명 피막의 두께는 5㎛였다.A transparent-film-adhered base material (R5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a transparent coating (R5) was used. The thickness of the transparent coating at this time was 5 占 퐉.

얻어진 투명 피막의 전 광선 투과율, 헤이즈, 연필 경도, 내찰상성, 밀착성을 측정하여, 결과를 표에 표시한다.
The total light transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the obtained transparent coating film were measured, and the results are shown in the table.

Figure 112012047838254-pct00003
Figure 112012047838254-pct00003

Figure 112012047838254-pct00004
Figure 112012047838254-pct00004

Figure 112012047838254-pct00005
Figure 112012047838254-pct00005

Claims (19)

알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5 중량%의 실리카·알루미나 미립자를 포함한 실리카·알루미나졸의 제조방법으로서,
(a) 평균 입자 지름이 5∼100㎚, 입자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5 중량%의 실리카·알루미나 미립자가, 고형분 농도 1∼30 중량%로 분산된 수분산액을 조정하고, 상기 수분산액 중의 이온(H+, OH-를 제외한다) 농도가, 실리카·알루미나 미립자의 수분산액 중에 500ppm 이하로 되도록, 상기 수분산액을 이온 교환 수지로 처리하는 공정과,
(b) 실리카·알루미나 미립자 수분산액을 알코올로 용매 치환하는 공정과,
(c) 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액에 하기 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물을 Rn-SiO(4-n)/2로서 실리카·알루미나 미립자의 1∼50 중량%의 범위로 되도록 첨가하는 공정과,
Rn-SiX4-n        (1)
(단, 식중, R는 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기로서, 서로 동일해도 달라도 좋다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 수산기, 할로겐 또는 수소, n은 1∼3의 정수)
(d) 실리카·알루미나 미립자 알코올 분산액을 교반하면서, 상기 유기 규소 화합물을 실리카·알루미나 미립자에 흡착시키는 공정과,
(e) 물 및 가수분해용 촉매를 첨가하여 유기 규소 화합물을 가수분해하는 공정과,
(f) 40∼120℃에서 0.5∼24시간 숙성하는 공정을 순차로 구비하고,
상기 공정(a)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자 수분산액에 포함된 실리카·알루미나 미립자는 단위 표면적당 음전하량이, pH2.0∼7.0에 있어서 0.1∼1.5μeq/㎡인 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
A process for producing silica-alumina sol containing silica-alumina fine particles having an alumina content of 0.01 to 5% by weight as Al 2 O 3 ,
(a) an aqueous dispersion in which silica-alumina fine particles having an average particle diameter of 5 to 100 nm and an alumina content in particles of 0.01 to 5 wt% as Al 2 O 3 are dispersed in a solid concentration of 1 to 30 wt% , Treating the aqueous dispersion with an ion-exchange resin so that the concentration of the ion (excluding H + , OH - ) in the aqueous dispersion becomes 500 ppm or less in the aqueous dispersion of silica-alumina fine particles,
(b) a step of subjecting the silica-alumina fine particle water dispersion to solvent substitution with alcohol,
(c) adding to the silica-alumina fine particle alcohol dispersion an organosilicon compound represented by the following formula (1) in an amount of 1 to 50% by weight of silica-alumina fine particles as R n -SiO (4-n) The process,
R n -SiX 4-n (1)
(Wherein X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen or hydrogen, and n is an integer of 1 to 3), wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,
(d) a step of adsorbing the organosilicon compound on silica-alumina fine particles while stirring the silica-alumina fine particle alcohol dispersion,
(e) hydrolyzing the organosilicon compound by adding water and a catalyst for hydrolysis;
(f) a step of aging at 40 to 120 DEG C for 0.5 to 24 hours,
The silica-alumina fine particles contained in the silica-alumina fine particle water dispersion obtained in the step (a) have a negative charge per unit surface area of 0.1 to 1.5 占 q ec / m2 at a pH of 2.0 to 7.0, Gt;
제 1 항에 있어서,
상기 공정(a)에 있어서 이온 교환 수지에 의한 처리가,
(a1) pH가 1.0∼6.0의 범위로 되도록 양이온 교환 수지로 처리한 후,
(a2) 분산액의 pH가, 상기 (a1)에 있어서의 분산액의 pH보다 높고, 2.0∼7.0의 범위로 되도록 음이온 교환 수지로 처리하는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the treatment with the ion exchange resin in the step (a)
(a1) treatment with a cation exchange resin such that the pH is in the range of 1.0 to 6.0,
(a2) The process for producing silica-alumina sol, wherein the pH of the dispersion is higher than the pH of the dispersion in (a1) and is in the range of 2.0 to 7.0.
제 1 항에 있어서,
상기 공정(f)에 이어서, 하기 공정(g) 및 공정(h)로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 공정을 추가로 행하는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
(g) 유기용매로 치환하는 공정
(h) 농축하는 공정
The method according to claim 1,
Wherein at least one step selected from the group consisting of the following steps (g) and (h) is further carried out subsequent to the step (f).
(g) Substitution with an organic solvent
(h) Concentration process
제 1 항에 있어서,
상기 공정(f)에서 얻어진 실리카·알루미나졸의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)과 상기 공정(a)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q2)과의 비(Q1)/(Q2)가 0.2∼0.8의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
The method according to claim 1,
The negative charge (Q 1 ) per unit surface area of the silica-alumina fine particles of the silica-alumina sol obtained in the step (f) and the negative charge amount per unit surface area (Q 2 ) of the silica- Wherein the ratio (Q 1 ) / (Q 2 ) is in the range of 0.2 to 0.8.
제 1 항에 있어서,
상기 공정(e)에 있어서의 물의 몰수(MH2O)와 유기 규소 화합물의 몰수(MOC)와의 몰비(MH2O)/(MOC)가 1∼300의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) of the molar number of water (M H2O ) of the step (e) to the molar number (M OC ) of the organic silicon compound is in the range of 1 to 300, ≪ / RTI >
제 1 항에 있어서,
상기 공정(e)에 있어서의 가수분해용 촉매가 암모니아이고, 암모니아의 몰수(MNH3)와 유기 규소 화합물의 몰수(MOC)와의 몰비(MNH3)/(MOC)가 0.1∼12의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the molar ratio (M NH3 ) / (M OC ) of ammonia and the number of moles of ammonia (M NH 3 ) and the number of moles of organosilicon compound (M OC ) in the step (e) In the presence of a catalyst.
제 1 항에 있어서,
상기 공정(f)에서 얻어진 실리카·알루미나 미립자 수분산액의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량이, 고형분 농도가 0.5 중량%, pH7.5±1.5의 분산액으로 측정한 경우에 0.5∼2.0Micro-coulombs/㎠의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나졸의 제조방법.
The method according to claim 1,
When the negative charge amount per unit surface area of the silica-alumina fine particles of the silica-alumina fine particle water dispersion obtained in the step (f) is 0.5 to 2.0 Micro-coulombs when measured with a dispersion having a solid concentration of 0.5% by weight and a pH of 7.5 ± 1.5 / Cm < 2 >.
평균 입자 지름이 5∼100㎚의 범위에 있고, 입자중의 알루미나 함유량이 Al2O3로서 0.01∼5 중량%의 범위에 있으며, 하기 식(1)로 표시되는 유기 규소 화합물의 가수분해물로 표면 처리된 실리카·알루미나 미립자의 분산액으로서, 상기 표면 처리 후의 실리카·알루미나 미립자의 단위 표면적당 음전하량(Q1)이, 고형분 농도가 0.5 중량%, pH7.5±1.5의 분산액으로 측정한 경우에 0.5∼2.0 Micro-coulombs/㎠의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 실리카·알루미나 미립자의 분산액.
Rn-SiX4-n        (1)
(단, 식중, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기로서, 서로 동일해도 달라도 좋다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 수산기, 할로겐 또는 수소, n은 1∼3의 정수)
The average particle diameter is in the range of 5 to 100 nm, the alumina content in the particles is in the range of 0.01 to 5 wt% as Al 2 O 3 , and the hydrolyzate of the organosilicon compound represented by the following formula (1) Wherein the negative charge (Q 1 ) per unit surface area of the silica-alumina fine particles after the surface treatment is 0.5 (mass%) when measured with a dispersion having a solid concentration of 0.5% by weight and a pH of 7.5 ± 1.5, To 2.0 microcoulombs / cm < 2 >.
R n -SiX 4-n (1)
X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen or a hydrogen atom, and n is an integer of 1 to 3), wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms,
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제작된 실리카·알루미나졸과, 매트릭스 형성 성분과, 분산매로 이루어지고, 전(全) 고형분 농도가 30∼70 중량%의 범위에 있고, 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 6∼63 중량%의 범위에 있고, 실리카·알루미나 미립자의 농도가 고형분으로서 3∼56 중량%의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료.A process for producing a silica-alumina sol comprising the steps of: preparing a silica-alumina sol produced by the method of any one of claims 1 to 7, a matrix forming component and a dispersion medium, wherein the total solid concentration is in the range of 30 to 70% Wherein the concentration of the forming component is in the range of 6 to 63 wt% as solid content and the concentration of the silica-alumina fine particles is in the range of 3 to 56 wt% as solid content. 제 8 항에 기재된 실리카·알루미나 분산액과, 매트릭스 형성 성분과, 분산매로 이루어지고, 전(全) 고형분 농도가 30∼70 중량%의 범위에 있고, 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 6∼63 중량%의 범위에 있고, 실리카·알루미나 미립자의 농도가 고형분으로서 3∼56 중량%의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료.And a dispersion medium, wherein the total solid content concentration is in the range of 30 to 70 wt%, the concentration of the matrix forming component is in the range of 6 to 63 wt% %, And the concentration of the silica-alumina fine particles is in the range of 3 to 56% by weight as a solid content. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 실리카·알루미나졸을 제작하는 공정과,
상기 실리카·알루미나졸에, 전(全) 고형분 농도가 30~70 중량%의 범위가 되도록 매트릭스 형성 성분과 분산매를 가하는 공정을 포함한 투명 피막 형성용 도료의 제조방법에 있어서,
상기 매트릭스 형성 성분의 농도가 고형분으로서 6∼63 중량%, 실리카·알루미나 미립자의 농도가 고형분으로서 3∼56 중량%의 범위에 있는 투명 피막 형성용 도료의 제조방법.
A process for producing a silica-alumina sol according to any one of claims 1 to 7,
And a step of adding a matrix-forming component and a dispersion medium to the silica-alumina sol such that the total solid content is in the range of 30 to 70 wt%, the method comprising:
Wherein the concentration of the matrix forming component is in the range of 6 to 63 wt% as solid content and the concentration of silica-alumina fine particles is in the range of 3 to 56 wt% as solid content.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020127015623A 2009-11-16 2010-11-15 Process for production of silica-alumina sol, silica-alumina sol, coating agent for formation of transparent coating film which comprises the sol, and substrate having transparent coating film attached thereto KR101774067B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2009-261391 2009-11-16
JP2009261391 2009-11-16
PCT/JP2010/070262 WO2011059081A1 (en) 2009-11-16 2010-11-15 Process for production of silica-alumina sol, silica-alumina sol, coating agent for formation of transparent coating film which comprises the sol, and substrate having transparent coating film attached thereto

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120095984A KR20120095984A (en) 2012-08-29
KR101774067B1 true KR101774067B1 (en) 2017-09-01

Family

ID=43991734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127015623A KR101774067B1 (en) 2009-11-16 2010-11-15 Process for production of silica-alumina sol, silica-alumina sol, coating agent for formation of transparent coating film which comprises the sol, and substrate having transparent coating film attached thereto

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5839993B2 (en)
KR (1) KR101774067B1 (en)
CN (1) CN102666383B (en)
TW (1) TWI492899B (en)
WO (1) WO2011059081A1 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103890104B (en) * 2011-10-28 2016-11-23 纳幕尔杜邦公司 There is the inorganic pigment processed and the purposes in the coating composition thereof of the dispersibility of improvement
CN103360796A (en) * 2013-06-25 2013-10-23 安徽敬业纳米科技有限公司 Method for in situ modification of amphoteric nano silica
CN104785276B (en) * 2015-03-16 2017-05-17 中科合成油技术有限公司 Fischer-Tropsch synthesis catalyst prepared by using composite sol as silicon source, and preparation method and application thereof
JP6988623B2 (en) * 2018-03-22 2022-01-05 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 Silica composite particles and method for producing silica composite particles
CN108588649B (en) * 2018-04-24 2020-11-10 佛山市东鹏陶瓷有限公司 Vacuum coating decoration process for faucet
CN108583125B (en) * 2018-04-24 2020-05-12 佛山市东鹏陶瓷有限公司 Faucet coating decoration process
JP7344174B2 (en) * 2020-05-26 2023-09-13 信越化学工業株式会社 Thermally conductive addition-curing silicone composition and method for producing the same
JP7093064B1 (en) * 2020-11-04 2022-06-29 日産化学株式会社 Aluminum-containing silica sol and resin composition dispersed in a nitrogen-containing solvent
CN112919826B (en) * 2021-03-04 2022-03-04 常州大学 Preparation method of high-light-transmittance amphiphobic antireflection film

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000037359A1 (en) * 1998-12-21 2000-06-29 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Fine particle, sol having fine particles dispersed, method for preparing said sol and substrate having coating thereon
JP2003012320A (en) * 2001-06-28 2003-01-15 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Organosol of silica base inorganic compound
JP4471564B2 (en) * 2002-10-31 2010-06-02 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming low dielectric constant amorphous silica film and method for preparing the coating liquid
JP4493320B2 (en) * 2002-12-12 2010-06-30 日揮触媒化成株式会社 Method for producing silica sol and silica sol
CN100519414C (en) * 2003-05-12 2009-07-29 日挥触媒化成株式会社 Applying fluid for forming transparent coating film and base material with transparent coating film, and display device
JP4592274B2 (en) * 2003-10-17 2010-12-01 日揮触媒化成株式会社 Antimony oxide-coated silica fine particles, method for producing the fine particles, and coated substrate containing the fine particles
KR101102115B1 (en) * 2004-07-08 2012-01-02 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 Process for producing fine silica-based particle, coating composition for coating film formation, and base with coating film
CN1989070B (en) * 2004-07-21 2010-08-18 触媒化成工业株式会社 Silica-based fine particles, method for production thereof, coating for forming coating film and base material having coating film formed thereon
CN101312909B (en) * 2005-11-25 2011-11-16 日挥触媒化成株式会社 Hollow silica microparticle, composition for transparent coating formation containing the same, and substrate with transparent coating
JP4731384B2 (en) * 2006-04-04 2011-07-20 多摩化学工業株式会社 Method for producing acidic and stable colloidal silica
JP5141908B2 (en) * 2006-11-08 2013-02-13 日産化学工業株式会社 Silica alumina composite sol and method for producing the same
JP5221517B2 (en) * 2007-03-13 2013-06-26 扶桑化学工業株式会社 Aluminum modified colloidal silica and method for producing the same
JP2009066965A (en) * 2007-09-14 2009-04-02 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd Transparent coat applied base material, and transparent coat forming paint

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011059081A1 (en) 2011-05-19
JPWO2011059081A1 (en) 2013-04-04
TW201139276A (en) 2011-11-16
KR20120095984A (en) 2012-08-29
TWI492899B (en) 2015-07-21
CN102666383B (en) 2014-07-09
JP5839993B2 (en) 2016-01-06
CN102666383A (en) 2012-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101774067B1 (en) Process for production of silica-alumina sol, silica-alumina sol, coating agent for formation of transparent coating film which comprises the sol, and substrate having transparent coating film attached thereto
JP5078620B2 (en) Hollow silica fine particles, composition for forming transparent film containing the same, and substrate with transparent film
KR101416610B1 (en) Paint for transparent film and transparent film coated substrate
JP5378771B2 (en) Base material with antireflection film and coating liquid for forming antireflection film
JP5525152B2 (en) UV-curable coating composition, method for producing the same, and resin-coated article coated therewith
JP5700903B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
JP5142617B2 (en) Surface treatment method for metal oxide particles, dispersion containing the surface treated metal oxide particles, coating liquid for forming a transparent film, and substrate with transparent film
KR102379944B1 (en) Coating liquid for forming transparent coating and method for producing said coating liquid, organic resin-dispersed sol, and substrate with transparent coating and method for producing said substrate
JP6016548B2 (en) Coating liquid for forming transparent film and substrate with transparent film
JP5546239B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
KR20070117520A (en) Paint for transparent film and transparent film coated substrate
JP2008291174A (en) Coating material for forming transparent coating film and substrate with transparent film
JP5148846B2 (en) Paint for forming transparent film and substrate with transparent film
JP5754884B2 (en) Phosphoric acid (excluding phosphoric acid salt) -treated metal oxide fine particles and production method thereof, coating solution for forming a transparent film containing the phosphoric acid (excluding phosphoric acid salt) -treated metal oxide fine particles, and transparent Substrate with coating
JP5877708B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
JP2009275135A (en) Resin-coated metal oxide particle, method for producing it, application liquid for forming transparent coating film, and base material with transparent coating film
JP5554904B2 (en) Paint for forming transparent film and substrate with transparent film
JP6470498B2 (en) Coating liquid for forming transparent film and method for producing substrate with transparent film
JP5503241B2 (en) Base material with hard coat film and coating liquid for forming hard coat film
JP5501117B2 (en) Substrate with transparent film and coating liquid for forming transparent film
JP6450531B2 (en) Manufacturing method of substrate with antireflection film
JP2013133444A (en) Coating material for transparent film formation and substrate with transparent film

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant