KR101767682B1 - Wholly aromatic polyester amide copolymer resin, and polymer film, flexible metal clad laminate and printed circuit board comprising the same - Google Patents
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Abstract
전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판이 개시된다. 개시된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 방향족 히드록시 카르복실산에서 유도된 반복단위(A) 20~50몰부; 페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민에서 유도된 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유도된 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 20~40몰부; 방향족 디카르복실산에서 유도된 반복단위(C) 20~40몰부; 및 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D) 1~10몰부를 포함한다. Disclosed is a wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film comprising the wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate including the polymer film, and a flexible printed circuit board comprising the flexible metal foil laminate. The disclosed wholly aromatic polyester amide copolymer resin comprises 20 to 50 parts by mole of the repeating unit (A) derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid; At least one repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group (B) and a repeating unit derived from an aromatic diamine (B '); 20 to 40 molar parts of the repeating unit derived from an aromatic dicarboxylic acid (C); And 1 to 10 parts by mole of a repeating unit (D) derived from an aromatic phosphorus compound containing a hydroxyl group.
Description
전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판이 개시된다. 보다 상세하게는, 열팽창률이 개선된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름, 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판, 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판이 개시된다.Disclosed is a wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film comprising the wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate including the polymer film, and a flexible printed circuit board comprising the flexible metal foil laminate. More particularly, the present invention relates to a wholly aromatic polyester amide copolymer resin having improved thermal expansion coefficient, a polymer film containing the wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a flexible metal foil laminate including the polymer film, A flexible printed circuit board is disclosed.
최근 연성 인쇄 회로기판을 사용하는 기기가 점차 소형화 및 다기능화 됨에 따라, 연성 인쇄 회로기판용 연성 금속박 적층판의 사용이 점차 증가하고 있다. 상기 연성 금속박 적층판은 동박 또는 알루미늄박과 같은 금속층, 및 고분자 필름층의 두 개의 층으로 구성된다.2. Description of the Related Art Recently, as a device using a flexible printed circuit board gradually becomes smaller and more versatile, the use of a flexible metal film laminate for a flexible printed circuit board is increasing. The flexible metal foil-clad laminate is composed of two layers of a metal layer such as a copper foil or an aluminum foil, and a polymer film layer.
이러한 연성 인쇄 회로기판용 금속박 적층판에 적용되는 고분자 필름은 반도체의 성능 및 반도체 패키징 제조공정 조건에 적합하도록 하기의 주요 특성을 만족하여야 한다.The polymer film applied to the metal foil laminate for a flexible printed circuit board should satisfy the following main characteristics in order to meet the semiconductor performance and semiconductor packaging manufacturing process conditions.
(1) 금속 열팽창률에 대응 가능한 저열팽창률(1) a low thermal expansion coefficient capable of coping with the thermal expansion coefficient of metal
(2) 1GHz 이상의 고주파영역에서의 저유전상수 및 유전 안정성(2) Low dielectric constant and dielectric stability in a high frequency region of 1 GHz or more
(3) 260℃ 정도의 리플로우 공정에 대한 내열성(3) Heat resistance for reflow process of about 260 캜
(4) 신뢰성 향상을 위한 저흡습성
(4) Low hygroscopicity to improve reliability
종래의 수지 코팅된 금속 박막은 고내열성을 갖는 폴리이미드 수지를 캐스팅 방식으로 사용함에 의해 제조된다. 또한, 연성 금속박 적층판은 상기 금속 박막에 폴리아믹산 용액을 도포한 후 적정 조건 하에서 열처리를 하여 경화시킴에 의해 제조된다. 이렇게 제조된 연성 금속박 적층판은 금속 박막 위에 폴리이미드 수지층이 형성된 구조를 갖는다. 따라서, 연성 금속박 적층판은 폴리이미드 수지의 본연의 특성인 우수한 굴곡성 및 내열성을 갖지만, 폴리이미드 수지층과 금속 박막과의 열팽창률의 차이로 인한 휨 현상 및 폴리이미드 수지 자체의 높은 흡습성으로 인해 치수안정성이 낮은 문제점이 있다.The conventional resin-coated metal thin film is manufactured by using a polyimide resin having high heat resistance in a casting method. The flexible metal foil laminate is prepared by applying a polyamic acid solution to the metal thin film and then curing by heat treatment under appropriate conditions. The thus fabricated flexible metal foil laminate has a structure in which a polyimide resin layer is formed on a metal foil. Therefore, although the flexible metal foil laminate has excellent flexibility and heat resistance, which are inherent characteristics of the polyimide resin, the flexible metal foil laminate has dimensional stability due to warpage due to the difference in thermal expansion coefficient between the polyimide resin layer and the metal foil and high hygroscopicity of the polyimide resin itself This is a low problem.
최근 폴리이미드 수지의 대체 방안으로서 고내열성을 갖는 전방향족 액정 폴리에스테르 수지 또는 테프론을 연성 금속박 적층판의 제조에 사용하는 방안을 검토한 예도 있다. 그러나, 전방향족 액정 폴리에스테르 수지 용액(varnish)을 제조하기 위해서는, 염소 등의 할로겐 원소를 함유하는 용제를 사용하여야 하는데, 이 경우 연성 금속박 적층판 및 연성 인쇄 회로기판의 제조 공정 중 할로겐 원소로 인한 금속 박막의 부식과 같은 문제가 발생하기 때문에 비할로겐 용제의 사용으로의 개선이 요구되고 있다.Recently, as an alternative to the polyimide resin, there has been examined a method of using a wholly aromatic polyester resin having high heat resistance or Teflon in the production of a flexible metal clad laminate. However, in order to produce a wholly aromatic liquid-crystalline polyester resin varnish, a solvent containing a halogen element such as chlorine should be used. In this case, in the manufacturing process of the flexible metal laminate and the flexible printed circuit board, Problems such as corrosion of the thin film occur, and therefore, improvement in the use of a non-halogen solvent is required.
본 발명의 일 구현예는 방향족 히드록시 카르복실산에서 유도된 반복단위(A), 페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민에서 유도된 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유도된 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위, 방향족 디카르복실산에서 유도된 반복단위(C) 및 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D)를 소정 비율로 포함하는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제공한다.One embodiment of the present invention relates to a method for producing an aromatic diamine, which comprises reacting a repeating unit (A) derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid, a repeating unit (B) derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group, and a repeating unit (D) derived from an aromatic phosphorus compound containing a repeating unit (C) derived from an aromatic dicarboxylic acid and a hydroxyl group at a predetermined ratio, To provide a copolymer resin.
본 발명의 다른 구현예는 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a polymer film comprising the wholly aromatic polyester amide copolymer resin.
본 발명의 또 다른 구현예는 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a flexible metal-clad laminate including the polymer film and a flexible printed circuit board comprising the flexible metal-clad laminate.
본 발명의 일 측면은,According to an aspect of the present invention,
방향족 히드록시 카르복실산에서 유도된 반복단위(A) 20~50몰부;20 to 50 parts by mole of the repeating unit (A) derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid;
페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민에서 유도된 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유도된 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 20~40몰부; At least one repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group (B) and a repeating unit derived from an aromatic diamine (B ');
방향족 디카르복실산에서 유도된 반복단위(C) 20~40몰부; 및20 to 40 molar parts of the repeating unit derived from an aromatic dicarboxylic acid (C); And
히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D) 1~10몰부를 포함하는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 제공한다.And 1 to 10 parts by mole of a repeating unit (D) derived from an aromatic phosphorus compound containing a hydroxyl group.
상기 반복단위(A)는 파라 히드록시 벤조산, 메타 히드록시 벤조산, 6-히드록시-2-나프토산, 3-히드록시-2-나프토산, 1-히드록시-2-나프토산 및 2-히드록시-1-나프토산으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(B)는 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 5-아미노-1-나프톨, 8-아미노-2-나프톨 및 3-아미노-2-나프톨로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(B')는 1,4-페닐렌 디아민, 1,3-페닐렌 디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,3-디아미노나프탈렌 및 1,8-디아미노나프탈렌으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(C)는 이소프탈산, 나프탈렌 디카르복실산 및 테레프탈산으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(D)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 유도된 것일 수 있다:The repeating unit (A) may be selected from the group consisting of parahydroxybenzoic acid, metahydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy- Hydroxy-1-naphthoic acid; and at least one compound selected from the group consisting of hydroxy-1-naphthoic acid; The repeating unit (B) is at least one compound selected from the group consisting of 3-aminophenol, 4-aminophenol, 5-amino-1-naphthol, 8-amino- ≪ / RTI > The repeating unit (B ') may be at least one selected from the group consisting of 1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,3-diaminonaphthalene and 1,8-diaminonaphthalene Lt; RTI ID = 0.0 > of: < / RTI > The repeating unit (C) is derived from at least one compound selected from the group consisting of isophthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and terephthalic acid; The repeating unit (D) may be derived from a compound represented by the following formula (1): < EMI ID =
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 중량평균분자량이 1,000~20,000이고, 유리전이온도는 200~300℃일 수 있다.The wholly aromatic polyester amide copolymer resin may have a weight average molecular weight of 1,000 to 20,000 and a glass transition temperature of 200 to 300 ° C.
본 발명의 다른 측면은,According to another aspect of the present invention,
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름을 제공한다.And a polymer film comprising the wholly aromatic polyester amide copolymer resin.
상기 고분자 필름은 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100 중량부에 대하여 유기 필러 및 무기 필러로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 필러 5 내지 30중량부를 추가로 포함할 수 있다. The polymer film may further comprise 5 to 30 parts by weight of at least one filler selected from the group consisting of organic fillers and inorganic fillers per 100 parts by weight of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin.
상기 고분자 필름은 일방향의 열팽창률이 14ppm/K 이하일 수 있다.The polymer film may have a coefficient of thermal expansion in one direction of 14 ppm / K or less.
상기 고분자 필름은 유전상수가 3.5 이하이며, 유전손실이 0.01 이하일 수 있다.The polymer film may have a dielectric constant of 3.5 or less and a dielectric loss of 0.01 or less.
상기 고분자 필름은 흡습율이 0.5중량% 이하일 수 있다.The polymer film may have a moisture absorption rate of 0.5% by weight or less.
상기 고분자 필름은 유리전이온도가 250~350℃일 수 있다.The polymer film may have a glass transition temperature of 250 to 350 ° C.
본 발명의 또 다른 측면은,According to another aspect of the present invention,
상기 고분자 필름; 및The polymer film; And
상기 고분자 필름의 적어도 일면에 배치된 적어도 한장의 금속 박막을 포함하고, 상기 금속 박막은 동박 및 알루미늄박 중 적어도 하나를 포함하는 연성 금속박 적층판을 제공한다.And at least one metal thin film disposed on at least one surface of the polymer film, wherein the metal thin film includes at least one of a copper foil and an aluminum foil.
본 발명의 또 다른 측면은,According to another aspect of the present invention,
상기 연성 금속박 적층판의 금속 박막을 에칭하여 얻어지는 연성 인쇄 회로기판을 제공한다.And a flexible printed circuit board obtained by etching a metal thin film of the flexible metal foil laminate.
본 발명의 또 다른 측면은, According to another aspect of the present invention,
상기 고분자 필름의 적어도 일면에 금속 회로 패턴을 인쇄하여 형성된 연성 인쇄 회로기판을 제공한다.There is provided a flexible printed circuit board formed by printing a metal circuit pattern on at least one side of the polymer film.
본 발명의 일 구현예에 의하면 저열팽창률, 저흡습율, 저유전상수 및 저유전손실을 갖는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 제공될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a wholly aromatic polyester amide copolymer resin having low thermal expansion coefficient, low moisture absorption rate, low dielectric constant and low dielectric loss can be provided.
본 발명의 다른 구현예에 의하면, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함함으로써, 저열팽창률, 저흡습율, 높은 치수안정성, 저유전상수 및 저유전손실을 갖는 고분자 필름, 연성 금속박 적층판 및 연성 인쇄 회로기판이 제공될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, by including the wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a polymer film having a low thermal expansion coefficient, a low moisture absorption rate, a high dimensional stability, a low dielectric constant and a low dielectric loss, a flexible metal foil- A circuit board may be provided.
이하에서는 본 발명의 일 구현예에 따른 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 포함하는 고분자 필름 및 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판 및 상기 연성 금속박 적층판을 구비하는 연성 인쇄 회로기판(FPCB: flexible printed circuit board)을 상세히 설명한다.Hereinafter, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin according to one embodiment of the present invention, the polymer film including the wholly aromatic polyester amide copolymer resin, the flexible metal foil laminate including the polymer film, and the flexible metal foil laminate A flexible printed circuit board (FPCB) will be described in detail.
본 발명의 일 구현예에 따른 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 방향족 히드록시 카르복실산에서 유도된 반복단위(A) 20~50몰부, 페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민에서 유도된 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유도된 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 20~40몰부, 방향족 디카르복실산에서 유도된 반복단위(C) 20~40몰부, 및 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D) 1~10몰부를 포함한다.The wholly aromatic polyester amide copolymer resin according to an embodiment of the present invention comprises 20 to 50 parts by mole of the repeating unit (A) derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid, a repeating unit derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group (B And 20 to 40 parts by mole of a repeating unit derived from an aromatic dicarboxylic acid (C) and at least one repeating unit derived from an aromatic diamine (B '), (D) derived from an aromatic phosphorus compound.
상기 반복단위(A)의 함량이 상기 범위이내이면, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 적정 수준의 열적 특성을 갖게 되며; 상기 반복단위(B) 및 반복단위(B')의 합계 함량이 상기 범위이내이면, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 대한 적정 수준의 용해도 및 적정 수준의 흡습율을 갖게 되고; 상기 반복단위(C)의 함량이 상기 범위이내이면, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 대한 적정 수준의 용해도를 갖게 되며, 상기 반복단위(D)의 함량이 상기 범위이내이면, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 저열팽창률을 갖게 된다. When the content of the recurring unit (A) is within the above range, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin has an appropriate level of thermal properties; If the total content of the repeating unit (B) and the repeating unit (B ') is within the above range, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin has an appropriate level of solubility to the solvent and an appropriate moisture absorption rate; When the content of the recurring unit (C) is within the above range, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin has an appropriate level of solubility to the solvent. When the content of the recurring unit (D) The wholly aromatic polyester amide copolymer resin has a low thermal expansion coefficient.
상기 반복단위(A)는 파라 히드록시 벤조산, 메타 히드록시 벤조산, 6-히드록시-2-나프토산, 3-히드록시-2-나프토산, 1-히드록시-2-나프토산 및 2-히드록시-1-나프토산으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(B)는 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 5-아미노-1-나프톨, 8-아미노-2-나프톨 및 3-아미노-2-나프톨로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(B')는 1,4-페닐렌 디아민, 1,3-페닐렌 디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,3-디아미노나프탈렌 및 1,8-디아미노나프탈렌으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(C)는 이소프탈산, 나프탈렌 디카르복실산 및 테레프탈산으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(D)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 유도된 것일 수 있다.The repeating unit (A) may be selected from the group consisting of parahydroxybenzoic acid, metahydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy- Hydroxy-1-naphthoic acid; and at least one compound selected from the group consisting of hydroxy-1-naphthoic acid; The repeating unit (B) is at least one compound selected from the group consisting of 3-aminophenol, 4-aminophenol, 5-amino-1-naphthol, 8-amino- ≪ / RTI > The repeating unit (B ') may be at least one selected from the group consisting of 1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,3-diaminonaphthalene and 1,8-diaminonaphthalene Lt; RTI ID = 0.0 > of: < / RTI > The repeating unit (C) is derived from at least one compound selected from the group consisting of isophthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and terephthalic acid; The repeating unit (D) may be derived from a compound represented by the following formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에 포함되는 각각의 반복단위는, 예를 들어, 하기 화학식들 중 어느 하나로 표시될 수 있다:Each of the repeating units contained in the wholly aromatic polyester amide copolymer resin may be represented by, for example, any one of the following formulas:
(1) 방향족 히드록시 카르복실산에서 유도된 반복단위(A):(1) a repeating unit derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid (A):
[화학식 2](2)
[화학식 3](3)
[화학식 4][Chemical Formula 4]
[화학식 5][Chemical Formula 5]
(2) 페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민에서 유도된 반복단위(B):(2) a repeating unit derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group (B):
[화학식 6][Chemical Formula 6]
[화학식 7](7)
[화학식 8][Chemical Formula 8]
(3) 방향족 디아민에서 유도된 반복단위(B'):(3) repeating unit (B ') derived from an aromatic diamine:
[화학식 9][Chemical Formula 9]
[화학식 10][Chemical formula 10]
[화학식 11](11)
(4) 방향족 디카르복실산에서 유도된 반복단위(C):(4) repeating units derived from an aromatic dicarboxylic acid (C):
[화학식 12] [Chemical Formula 12]
[화학식 13][Chemical Formula 13]
[화학식 14][Chemical Formula 14]
[화학식 15][Chemical Formula 15]
[화학식 16] [Chemical Formula 16]
[화학식 17][Chemical Formula 17]
[화학식 18][Chemical Formula 18]
[화학식 19][Chemical Formula 19]
(5) 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D):(5) repeating units derived from an aromatic phosphorus compound containing a hydroxyl group (D):
[화학식 20] [Chemical Formula 20]
상기 식 중,Wherein,
R1 내지 R3는, 각각 서로 독립적으로, 할로겐 원자, 카르복시기, 아미노기, 니트로기, 시아노기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7-C30 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C5-C30 헤테로아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C3-C30 헤테로아릴알킬기일 수 있다. 본 명세서에서, 용어 ‘치환’이란 상기 각 화학식들 중의 수소가 할로겐기, 히드록시기, 알킬기, 알콕시기, 아민기 또는 이들 중 2 이상으로 치환된 것을 의미한다.
R 1 to R 3 each independently represent a halogen atom, a carboxyl group, an amino group, a nitro group, a cyano group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, A substituted or unsubstituted C 2 -C 20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C 2 -C 20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl A substituted or unsubstituted C 7 -C 30 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, or a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroarylalkyl group. As used herein, the term "substituted" means that the hydrogen in each of the above formulas is substituted with a halogen group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an amine group, or two or more of them.
이러한 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 (1) 방향족 히드록시 카르복실산 또는 그의 에스테르 형성용 유도체; (2) 페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민 또는 그의 아미드 형성용 유도체, 및 방향족 디아민 또는 그의 아미드 형성용 유도체로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종; (3) 방향족 디카르복실산 또는 그의 에스테르 형성용 유도체; 및 (4) 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물 또는 그의 에스테르 형성용 유도체를 중합함으로써 얻어질 수 있다. Such a wholly aromatic polyester amide copolymer resin includes (1) an aromatic hydroxycarboxylic acid or an ester-forming derivative thereof; (2) at least one member selected from the group consisting of an aromatic amine having a phenolic hydroxy group or an amide-forming derivative thereof, and an aromatic diamine or an amide-forming derivative thereof; (3) an aromatic dicarboxylic acid or an ester-forming derivative thereof; And (4) an aromatic phosphorus compound containing a hydroxy group or an ester-forming derivative thereof.
상기 방향족 히드록시 카르복실산, 방향족 디카르복실산, 및/또는 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물의 에스테르 형성용 유도체는 그의 산염화물 또는 산무수물과 같은 반응성이 높은 유도체이거나, 또는 알코올류나 에틸렌글리콜 등과 에스테르 결합을 형성하는 것일 수 있다.The ester-forming derivative of an aromatic phosphorus compound containing an aromatic hydroxycarboxylic acid, an aromatic dicarboxylic acid, and / or a hydroxyl group may be a highly reactive derivative such as an acid chloride or an acid anhydride thereof, or an ester with an alcohol, ethylene glycol, To form bonds.
또한, 상기 방향족 아민 및/또는 방향족 디아민의 아미드 형성용 유도체는 그의 아민기가 카르복실산류와 아미드 결합을 형성하는 것일 수 있다.In addition, the amide-forming derivative of the aromatic amine and / or aromatic diamine may be such that its amine group forms an amide bond with carboxylic acids.
상기와 같이 제조된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 용해될 수 있다. The wholly aromatic polyester amide copolymer resin prepared as described above can be dissolved in a solvent.
또한, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 중량평균분자량이 1,000~20,000이며, 유리전이온도가 200~300℃일 수 있다.The wholly aromatic polyester amide copolymer resin may have a weight average molecular weight of 1,000 to 20,000 and a glass transition temperature of 200 to 300 ° C.
또한, 상기와 같이 제조된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D)를 포함하기 때문에 이 반복단위(D)를 포함하지 않은 경우에 비해 더욱 낮은 열팽창률을 갖게 된다. In addition, since the wholly aromatic polyester amide copolymer resin prepared as described above contains the repeating unit (D) derived from an aromatic phosphorus compound containing a hydroxyl group, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin has a lower The thermal expansion coefficient is obtained.
상술한 바와 같은 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 하기 방법에 의해 제조될 수 있다. 즉, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는, 상기 반복단위(A)에 대응하는 방향족 히드록시 카르복실산, 상기 반복단위(B)에 대응하는 페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민, 상기 반복단위(B')에 대응하는 방향족 디아민, 및/또는 상기 반복단위(D)에 대응하는 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물의 히드록시기 및/또는 아민기를 산무수물(acid anhydride)에 의해 아실화하여 아실화물을 얻고, 이렇게 얻어진 아실화물과 방향족 디카르복실산 및/또는 방향족 히드록시 카르복실산을 반응(즉, 에스테르 교환 반응 및/또는 아미드 교환 반응)시킴으로써 용융 중합하는 방법에 의해 제조될 수 있다. The wholly aromatic polyester amide copolymer resin as described above can be produced by the following method. That is, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin comprises an aromatic hydroxycarboxylic acid corresponding to the recurring unit (A), an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group corresponding to the recurring unit (B) B ') and / or a hydroxy group and / or an amine group of an aromatic phosphorus compound containing a hydroxy group corresponding to the repeating unit (D) is acylated with an acid anhydride to obtain an acylate , And a method of performing melt polymerization by reacting the thus obtained acylate with an aromatic dicarboxylic acid and / or an aromatic hydroxycarboxylic acid (i.e., an ester exchange reaction and / or an amide exchange reaction).
상기 아실화 반응에 있어서 산무수물의 첨가량은 히드록시기 및 아민기의 합1.0~1.2배 당량, 예를 들어, 1.0~1.1배 당량일 수 있다. 상기 산무수물의 첨가량이 상기 범위이내이면, 생성되는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 착색이 줄어들고, 생성된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지에서 원료 모노머 등의 승화가 일어나지 않으며, 페놀 가스의 발생량도 적어지게 된다. 이와 같은 아실화 반응은 130~170℃에서 30분~8시간, 예를 들어, 140~160℃에서 1~3시간 동안 진행될 수 있다.The addition amount of the acid anhydride in the acylation reaction may be 1.0-1.2 times the equivalent of the hydroxyl group and the amine group, for example, 1.0-1.1 times the equivalent. If the addition amount of the acid anhydride is within the above range, coloration of the resulting wholly aromatic polyester amide copolymer resin is reduced, sublimation of raw material monomers and the like does not occur in the produced wholly aromatic polyester amide copolymer resin, . The acylation reaction may be carried out at 130-170 ° C for 30 minutes to 8 hours, for example, at 140-160 ° C for 1 hour to 3 hours.
상기 아실화 반응에 사용되는 산무수물은 아세트산 무수물, 무수 프로피온산, 무수 이소부티르산, 무수 길초산, 무수 피발산, 무수 부티르산 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The acid anhydrides used in the acylation reaction may include acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, anhydrous acetic anhydride, anhydrous pivalic acid, anhydrous butyric acid, or a combination thereof.
상기 에스테르 교환 및 아미드 교환반응은 130~400℃에서 0.1~2℃/분의 승온속도, 예를 들어, 140~350℃에서 0.3~1℃/분의 승온속도로 실행될 수 있다.The transesterification and amide exchange reaction may be carried out at a temperature raising rate of from 0.1 to 2 ° C / minute at 130 to 400 ° C, for example, at a temperature raising rate of from 0.3 to 1 ° C / minute at 140 to 350 ° C.
또한, 상기 에스테르 교환 반응 및/또는 아미드 교환 반응 중에, 화학평형을 이동시켜 반응속도를 증가시키기 위해, 부생되는 산과 미반응 무수물을 증발 또는 증류에 의해 반응계 밖으로 배출시킬 수 있다.In addition, during the ester exchange reaction and / or the amide exchange reaction, the by-produced acid and unreacted anhydride may be discharged out of the reaction system by evaporation or distillation in order to shift the chemical equilibrium and increase the reaction rate.
또한, 상기 아실화 반응, 에스테르 교환 반응 및 아미드 교환 반응은 촉매의 존재하에 진행될 수 있다. 상기 촉매는 초산마그네슘, 초산제1주석, 테트라부틸티타네이트, 초산납, 초산나트륨, 초산칼륨, 삼산화안티몬, N,N-디메틸아미노피리딘, N-메틸이미다졸 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 촉매는 단량체의 투입시 단량체와 동시에 투입될 수 있으며, 상기 촉매의 존재하에 아실화 반응 및 에스테르 교환 반응이 일어날 수 있다.In addition, the acylation reaction, transesterification reaction and amide exchange reaction can be carried out in the presence of a catalyst. The catalyst may include magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, acetic acid, sodium acetate, potassium acetate, antimony trioxide, N, N-dimethylaminopyridine, N-methylimidazole or combinations thereof . The catalyst may be added at the same time as the monomer when the monomer is added, and an acylation reaction and an ester exchange reaction may occur in the presence of the catalyst.
상기 에스테르 교환 및 아미드 교환반응에 의한 축중합은 용융 중합에 의해 실행될 수도 있고, 용융 중합과 고상 중합을 병용하여 실행될 수도 있다.The polycondensation by the transesterification and amide exchange reaction may be carried out by melt polymerization or may be carried out in combination with melt polymerization and solid phase polymerization.
상기 용융 중합에 사용되는 중합기는 특별히 한정되는 것이 아니며, 고점도 반응에 일반적으로 사용되는 교반 설비를 장착한 반응기일 수 있다. 이때, 아실화 공정의 반응기 및 용융 중합 공정의 중합기로서 동일한 반응기가 사용될 수도 있고 각 공정에 서로 다른 반응기가 사용될 수도 있다.The polymerization reactor used in the melt polymerization is not particularly limited, and may be a reactor equipped with a stirring apparatus generally used for high viscosity reaction. At this time, the same reactor may be used as the reactor of the acylation process and the polymerization reactor of the melt polymerization process, and different reactors may be used in each process.
상기 고상 중합은 용융 중합 공정에서 배출된 프리폴리머를 분쇄하여 플레이크상 또는 파우더 상으로 만든 후 중합을 진행시킴에 의해 실행될 수 있다. 이러한 고상 중합은, 예를 들어, 질소 등의 불활성 분위기에서 250~450℃에서 1~30시간 동안 고상 상태에서 열처리함에 의해 진행될 수 있다. 또한, 상기 고상 중합은 교반하에 진행될 수도 있고, 무교반 상태로 진행될 수도 있다. 또한 적당한 교반 설비를 장착한 반응기를 용융 중합조와 고상 중합조로 병용할 수도 있다. The solid-state polymerization may be carried out by pulverizing the prepolymer discharged from the melt polymerization step to form a flake or powder phase, and then conducting polymerization. Such solid phase polymerization can be carried out, for example, by heat treatment in a solid state at 250 to 450 ° C for 1 to 30 hours in an inert atmosphere such as nitrogen. In addition, the solid state polymerization may be carried out under agitation or in a non-crosslinked state. Further, a reactor equipped with an appropriate stirring equipment may be used in combination with a melt polymerization reactor and a solid phase polymerization reactor.
상기와 같이 제조된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 14ppm/K 이하의 열팽창률을 가질 수 있다.The wholly aromatic polyester amide copolymer resin thus prepared may have a thermal expansion coefficient of 14 ppm / K or less.
얻어진 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 공지의 방법에 의해 펠렛화된후 성형되거나, 또는 공지의 방법에 의해 섬유화될 수도 있다. The obtained wholly aromatic polyester amide copolymer resin may be pelletized by a known method and then molded or may be formed into a fiber by a known method.
이러한 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 용제에 용해될 수 있다.Such a wholly aromatic polyester amide copolymer resin can be dissolved in a solvent.
따라서, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는, 연성 금속박 적층판의 제조를 위해, 용제에 용해된 바니시(varnish) 형태로 금속 박막에 도포된 다음 건조 및 열처리되어 고분자 필름을 형성할 수 있다. 즉, 상기 건조 및 열처리에 의해 고분자 필름이 금속 박막에 부착된 형태로 형성된다.Accordingly, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin may be applied to a metal thin film in the form of a varnish dissolved in a solvent for the production of a flexible metal foil laminate, and then dried and heat treated to form a polymer film. That is, the polymer film is formed by attaching to the metal thin film by the above drying and heat treatment.
또한, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 연성 금속박 적층판 이외에도 다양한 용도에 사용될 수 있다. In addition, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin can be used in various applications other than the flexible metal foil laminate.
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용해시키는 용제는 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100중량부에 대하여 100~100,000중량부의 함량 비율로 사용될 수 있으며, 상기 용제의 함량 비율이 상기 범위이내이면 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 충분히 용해되면서도, 생산성이 좋다.The solvent for dissolving the wholly aromatic polyester amide copolymer resin may be used in an amount of 100 to 100,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin. When the content ratio of the solvent is within the above range The wholly aromatic polyester amide copolymer resin is sufficiently dissolved, and productivity is good.
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용해하는 용제로는 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 또는 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)과 같은 비할로겐 용제가 사용될 수있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 용제로 극성 비프로톤계 화합물, 할로겐화 페놀, o-디클로로벤젠, 클로로포름, 염화메틸렌, 테트라클로로에탄 또는 이들의 조합이 사용될 수 있다. As the solvent for dissolving the wholly aromatic polyester amide copolymer resin, a non-halogen solvent such as N, N-dimethylacetamide (DMAc) or N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) may be used. However, the present invention is not limited thereto. The polar aprotic compound, halogenated phenol, o-dichlorobenzene, chloroform, methylene chloride, tetrachloroethane or a combination thereof may be used as the solvent.
이와 같이, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지는 비할로겐 용제에도 잘 용해되어 할로겐 원소를 함유하는 용제를 사용하지 않고도, 연성 금속박 적층판 또는 연성 인쇄 회로기판의 제조에 사용될 수 있다. 할로겐 원소를 함유하는 용제를 사용하는 경우에는 제조 공정상 문제를 야기할 수 있으며, 특히, 할로겐 원소가 소각되거나 분해될 경우 인체에 해로운 환경호르몬이 발생할 수 있다. As described above, the wholly aromatic polyester amide copolymer resin is well soluble in a non-halogen solvent and can be used for producing a flexible metal foil laminate or a flexible printed circuit board without using a solvent containing a halogen element. The use of a solvent containing a halogen element may cause problems in the manufacturing process. In particular, when the halogen element is incinerated or decomposed, an environmental hormone harmful to the human body may be generated.
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용제에 용해시킨 조성물 용액에는, 유전상수 및 열팽창률을 조절하기 위하여, 활석, 운모, 클레이, 유리섬유, 실리카, 수산화 알루미늄 또는 탄산칼슘과 같은 무기 필러; 및/또는 경화 에폭시 또는 가교 아크릴과 같은 유기필러가 첨가될 수 있다. 예를 들어, 고유전상수의 무기 필러가 첨가될 수 있다. 이와 같은 무기 필러로는 티탄산바륨 또는 티탄산스트론튬과 같은 티탄산염; 또는 티탄산바륨의 티탄 또는 바륨의 일부가 다른 금속으로 대체된 것 등이 사용될 수 있다. 상기 조성물 용액 중 이러한 무기 필러 및/또는 유기 필러의 함량은 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100중량부에 대하여 5~30중량부일 수 있다. 상기 무기 필러 및/또는 유기 필러의 함량이 상기 범위이내이면, 상기 고분자 필름의 휨 특성이 좋아지고 열팽창률이 낮아질뿐만 아니라, 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지가 갖는 바인더로서의 효과가 충분히 유지될 수 있다. 따라서, 상기 고분자 필름에는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100중량부에 대하여 5~30중량부의 무기 필러 및/또는 유기 필러가 포함될 수 있다. An inorganic filler such as talc, mica, clay, glass fiber, silica, aluminum hydroxide or calcium carbonate may be added to the composition solution in which the wholly aromatic polyester amide copolymer resin is dissolved in a solvent. And / or an organic filler such as a cured epoxy or crosslinked acrylic can be added. For example, an inorganic filler of high dielectric constant can be added. Such inorganic fillers include titanate such as barium titanate or strontium titanate; Or titanium or barium titanate partially replaced by another metal, or the like may be used. The content of the inorganic filler and / or organic filler in the composition solution may be 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin. If the content of the inorganic filler and / or the organic filler is within the above range, not only the warpage property of the polymer film is improved, the coefficient of thermal expansion is lowered but also the effect as a binder of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin can be sufficiently maintained have. Accordingly, the polymer film may contain 5 to 30 parts by weight of inorganic filler and / or organic filler per 100 parts by weight of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin.
본 발명의 일 구현예에 따른 연성 금속박 적층판은 저열팽창률, 저유전 특성 및 저흡습율을 갖는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 필름과, 기계적 강도가 뛰어난 금속 박막을 포함한다. 따라서, 상기 연성 금속박 적층판은 치수안정성이 우수하고 유연한 기판소재로서 다양한 분야에 적용될 수 있다. The flexible metal foil laminate according to one embodiment of the present invention includes a film of a wholly aromatic polyester amide copolymer resin having a low thermal expansion coefficient, a low dielectric constant and a low moisture absorption rate, and a metal thin film having excellent mechanical strength. Therefore, the flexible metal foil laminate is excellent in dimensional stability and can be applied to various fields as a flexible substrate material.
또한, 상기 고분자 필름의 열팽창률은 14ppm/K 이하일 수 있다. 상기 고분자 필름의 열팽창률이 상기 범위이내이면 상기 고분자 필름을 포함하는 연성 금속박 적층판에서 휨이나 수축이 발생하지 않을 수 있다.In addition, the thermal expansion coefficient of the polymer film may be 14 ppm / K or less. If the coefficient of thermal expansion of the polymer film is within the above range, the flexible metal foil laminate including the polymer film may not warp or shrink.
또한, 상기 고분자 필름의 유전상수는 3.5 이하이며, 유전손실은 0.01 이하일 수 있다. 본 명세서에서, ‘유전손실’이란 유전체(즉, 고분자 필름)에 교류전기장을 인가하였을 경우에 상기 유전체 속에서 열로 없어지는 에너지 손실을 의미한다. 상기 유전상수 및 상기 유전손실이 각각 상기 범위이내이면, 상기 고분자 필름은 고주파 영역에서 절연기재로 사용될 수 있다.The dielectric constant of the polymer film may be 3.5 or less, and the dielectric loss may be 0.01 or less. Herein, the term 'dielectric loss' refers to a loss of energy in the dielectric when an alternating electric field is applied to the dielectric (ie, polymer film). If the dielectric constant and the dielectric loss are within the respective ranges, the polymer film can be used as an insulating substrate in a high frequency region.
또한, 상기 고분자 필름의 흡습율은 0.5% 이하일 수 있다. 상기 고분자 필름의 흡습율이 상기 범위이내이면, 수분에 대한 저항이 높아 연성 금속박 적층판의 신뢰성이 높아진다. The moisture absorption rate of the polymer film may be 0.5% or less. When the moisture absorption rate of the polymer film is within the above range, the resistance to moisture is high, so that the reliability of the flexible metal film laminate is enhanced.
또한, 상기 고분자 필름의 유리전이온도는 250~350℃일 수 있다. 상기 고분자 필름의 유리전이온도가 상기 범위이내이면, 연성 인쇄 회로기판의 제조시 리플로우 공정에서 고내열성을 가질 수 있다.The glass transition temperature of the polymer film may be 250 to 350 ° C. When the glass transition temperature of the polymer film is within the above range, it can have high heat resistance in a reflow process in the production of a flexible printed circuit board.
전술한 고분자 필름의 치수안정성, 열팽창률, 유전상수, 유전손실, 흡습율 및유리전이온도는 하기 과정을 거친 후 측정될 수 있다. 즉, 금속 박막에 조성물 용액(즉, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지를 용제에 용해시킨 용액)을 도포한 후 건조 및 열처리하여 연성 금속박 적층판을 제조한 다음, 상기 연성 금속박 적층판으로부터 금속 박막을 모두 제거한 후, 남은 고분자 필름을 분석하여 상기 물성들을 측정할 수 있다. The dimensional stability, thermal expansion coefficient, dielectric constant, dielectric loss, moisture absorption rate and glass transition temperature of the above polymer film can be measured after the following process. That is, after coating a composition solution (that is, a solution prepared by dissolving the wholly aromatic polyester amide copolymer resin in a solvent) in a metal thin film, drying and heat-treating the metal thin film to produce a flexible metal foil laminate, After removing all of them, the remaining polymer film can be analyzed to measure the physical properties.
상기 금속 박막은 동박 및 알루미늄박 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The metal thin film may include at least one selected from the group consisting of copper foil and aluminum foil.
상기 연성 금속박 적층판에 있어서, 고분자 필름의 두께는 1~100㎛일 수 있다. 상기 고분자 필름의 두께가 상기 범위이내이면, 권취 방식의 가공시 크랙이 잘 발생하지 않고, 한정된 두께의 다층 적층에 유리하다.In the flexible metal foil-clad laminate, the thickness of the polymer film may be 1 to 100 탆. When the thickness of the polymer film is within the above range, cracks do not occur during processing in the winding system, which is advantageous for multilayer lamination with a limited thickness.
상기 금속 박막의 두께는 1~70㎛일 수 있다. 상기 금속 박막의 두께가 상기 범위이내이면, 경박단소화에 적당하고 패턴 형성이 용이하다.The thickness of the metal thin film may be 1 to 70 mu m. When the thickness of the metal thin film is within the above range, it is suitable for light weight shortening and easy to form a pattern.
한편, 상기 연성 금속박 적층판의 금속 박막을 에칭하고, 회로를 형성함으로써 연성 인쇄 회로기판을 제조할 수 있다. 또한, 상기 고분자 필름의 적어도 일면에 금속 회로 패턴을 인쇄함으로써 연성 인쇄 회로기판을 제조할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 상기 연성 인쇄 회로기판에 스루홀 등을 형성할 수도 있다. On the other hand, a flexible printed circuit board can be manufactured by etching a metal thin film of the flexible metal foil laminate and forming a circuit. Further, a flexible printed circuit board may be manufactured by printing a metal circuit pattern on at least one side of the polymer film. Further, if necessary, a through hole or the like may be formed in the flexible printed circuit board.
상기 연성 인쇄 회로기판의 두께는 2~170㎛일 수 있다. 상기 연성 인쇄 회로기판의 두께가 상기 범위이내이면, 경박단소화에 적당하고 상기 인쇄 회로 기판이 유연성을 가질 수 있다.The thickness of the flexible printed circuit board may be 2 to 170 탆. When the thickness of the flexible printed circuit board is within the above range, the flexible printed circuit board is suitable for light weight shortening and the flexible printed circuit board can have flexibility.
이하에서 본 발명을 실시예를 들어 보다 상세히 설명하나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
실시예Example
<실시예 1~2 및 비교예 1~8>≪ Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 8 >
(1) 1 단계: (1) Step 1: 전방향족Wholly aromatic 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 제조 Production of polyester amide copolymer resin
교반 장치, 질소가스 도입관, 온도계 및 환류 냉각기를 구비한 반응기에 6-히드록시-2-나프토산(HNA), 4-아미노페놀(AP), 이소프탈산(IPA) 및 상기 화학식 1로 표시되는 히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물(DOPO-HQ)를 투입하고 질소가스를 주입하여 상기 반응기의 내부 공간을 불활성 상태로 만든 다음 상기 반응기에 아세트산 무수물(Ac2O)을 더 첨가하였다. 반응기에 투입된 단량체들의 함량(몰부)을 하기 표 1에 나타내었다. 이후, 반응기 온도를 1시간에 걸쳐 140℃까지 승온시키고 상기 온도에서 2시간 동안 환류시키면서 상기 단량체들의 히드록시기를 아세틸화하였다. 이어서, 상기 아세틸화 반응에서 생성된 초산을 제거하면서 반응기 온도를 4시간에 걸쳐 300℃까지 승온시켜 단량체의 축중합 반응에 의해 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 프리폴리머를 제조하였다. 또한, 상기 프리폴리머 제조시 부산물로 초산이 더 생성되는데, 이 초산도 상기 아세틸화 반응에서 생성된 초산과 함께 상기 프리폴리머 제조 동안 연속적으로 제거하였다. 다음에, 상기 프리폴리머를 반응기로부터 회수하여 냉각 고화시켰다. (HNA), 4-aminophenol (AP), isophthalic acid (IPA) and the compound represented by the above formula (1) in a reactor equipped with a stirrer, a nitrogen gas introducing tube, a thermometer and a reflux condenser, An aromatic phosphorus compound (DOPO-HQ) containing a hydroxyl group was introduced and nitrogen gas was injected to make the internal space of the reactor inactive. Acetic anhydride (Ac 2 O) was further added to the reactor. The contents (moles) of the monomers charged to the reactor are shown in Table 1 below. Thereafter, the reactor temperature was raised to 140 ° C over 1 hour and the hydroxyl groups of the monomers were acetylated while refluxing at that temperature for 2 hours . Next, the acetic acid generated in the acetylation reaction was removed, and the temperature of the reactor was elevated to 300 ° C over 4 hours to prepare a wholly aromatic polyester amide copolymer prepolymer by condensation polymerization of monomers. In addition, acetic acid was further produced as a by-product in the preparation of the prepolymer. The acetic acid was also continuously removed during the preparation of the prepolymer together with the acetic acid generated in the acetylation reaction. Next, the prepolymer was recovered from the reactor and cooled and solidified.
이후, 상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 프리폴리머를 평균 입경 1mm로 분쇄한 후, 상기 분쇄된 전방향족 액정 폴리에스테르 프리폴리머 20kg을 100리터 용량의 로터리킬른 반응기에 투입하고, 질소를 1N㎥/시간의 유속으로 계속 흘려주면서 무게 감량 시작 온도인 200℃까지 1시간에 걸쳐 승온시킨 후, 다시 320℃까지 10시간에 걸쳐 승온시켜 3시간 동안 유지함으로써 전방향족 액정 폴리에스테르 수지를 제조하였다. 이어서, 상기 반응기를 상온으로 1시간에 걸쳐 냉각시킨 후 상기 반응기로부터 전방향족 액정 폴리에스테르 수지를 회수하였다. Then, the above wholly aromatic polyester amide copolymer prepolymer was pulverized to an average particle size of 1 mm, 20 kg of the pulverized wholly aromatic liquid crystal polyester prepolymer was put into a 100-liter capacity rotary kiln reactor, nitrogen was supplied at a flow rate of 1 Nm 3 / The temperature was raised to 200 deg. C, which is the weight loss starting temperature, over 1 hour, and then the temperature was raised to 320 deg. C over 10 hours and maintained for 3 hours to produce a wholly aromatic liquid crystal polyester resin. Then, the reactor was cooled to room temperature over 1 hour, and the wholly aromatic liquid-crystalline polyester resin was recovered from the reactor.
(2) 2 단계: (2) Step 2: 전방향족Wholly aromatic 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액의 제조 Preparation of Composition Solution of Polyester Amide Copolymer Resin
N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 700g에 활석 60g을 넣어 교반한 후, 상기 1 단계에서 제조한 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 분말 300g을 첨가하고, 고온(180℃)에서 4시간 교반하여 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액을 얻었다.60 g of talc was added to 700 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and stirred. 300 g of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin powder prepared in the above step 1 was added and heated at a high temperature Followed by stirring to obtain a composition solution of a wholly aromatic polyester amide copolymer resin.
(3) 3 단계: 동박 (3) Step 3: Copper foil 적층판의Laminate 제조 Produce
두께 18㎛의 동박 표면에 상기 2단계에서 제조된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액을 코팅하였다. 이후, 상기 코팅된 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 조성물 용액을 160℃에서 건조시켰다. 다음에, 물성을 더 높이기 위해 300℃까지 승온시켜 반응을 더 진행시킴으로 동박 적층판을 제조하였다. 이렇게 제조된 동박 적층판은 동박에 부착된 형태의 고분자 필름을 포함한다.The solution of the composition of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin prepared in the above step 2 was coated on the surface of the copper foil having a thickness of 18 탆. Thereafter, the composition solution of the coated wholly aromatic polyester amide copolymer resin was dried at 160 캜. Next, in order to further increase the physical properties, the temperature was raised to 300 DEG C and the reaction was further continued to produce a copper clad laminate. The thus produced copper clad laminate includes a polymer film in the form attached to a copper foil.
(몰부)HBA
(Moles)
(몰부)HNA
(Moles)
(몰부)AP
(Moles)
(몰부)IPA
(Moles)
(몰부)DOPO-HQ
(Moles)
(몰부)Ac 2 O
(Moles)
<비교예 9>≪ Comparative Example 9 &
SD Flex社에서 제조된 것으로, 폴리이미드 수지의 필름을 포함하는 동박 적층판(Pyralux AC)을 입수하였다.
A copper-clad laminate (Pyralux AC) containing a polyimide resin film was obtained from SD Flex.
평가예Evaluation example
<평가예 1: 수지의 물성 평가>≪ Evaluation Example 1: Evaluation of physical properties of resin &
상기 실시예 1~2 및 비교예 1~8에서 제조된 각각의 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지의 중량평균분자량 및 유리전이온도를 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. 다만, 비교예 9의 동박 적층판에 포함된 수지의 물성 데이타는 입수하지 못하였다.The weight average molecular weight and glass transition temperature of each of the wholly aromatic polyester amide copolymer resins prepared in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 8 were measured and are shown in Table 2 below. However, the physical property data of the resin contained in the copper-clad laminate of Comparative Example 9 was not obtained.
상기 표 2에서, 중량평균분자량은 GPC를 사용하여 THF eluent, 30℃에서 측정하였고, 유리전이온도는 DSC를 사용하여 20℃/min으로 승온하면서 측정하였다.In Table 2, the weight average molecular weight was measured at 30 ° C in a THF eluent using GPC and the glass transition temperature was measured at 20 ° C / min using DSC.
상기 표 2를 참조하면, 중량평균분자량은 비교예 1의 경우에 매우 낮은 것으로 나타났다. 또한, 유리전이온도도 비교예 1의 경우에 매우 낮은 것으로 나타났다. 따라서, 비교예 1에서 제조된 공중합체 수지는 자체의 열적 특성이 낮아 추가 열처리공정을 해도 리플로우 공정을 통과하기가 어렵다.Referring to Table 2 above, the weight average molecular weight was very low in Comparative Example 1. In addition, the glass transition temperature was also found to be extremely low in the case of Comparative Example 1. Therefore, the copolymer resin produced in Comparative Example 1 has a low thermal property, so that it is difficult to pass through the reflow process even after the additional heat treatment process.
<평가예 2: 동박 적층판에 포함된 고분자 필름의 물성 평가>≪ Evaluation Example 2: Evaluation of Physical Properties of Polymer Film Contained in Copper Clad Laminate >
상기 실시예 1~2 및 비교예 1~9의 각 동박 적층판으로부터 에칭을 통해 동박을 모두 제거한 후, 남아 있는 고분자 필름을 분석하여, 상기 고분자 필름의 열팽창률, 유전특성, 휨 특성, 흡습율 및 유리전이온도를 각각 측정하여 하기 표 3에 나타내었다. 치수안정성의 경우, 수치가 작을수록 치수안정성이 높은 것을 의미한다.The copper foil laminates of Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 9 were all removed by etching to remove the copper foil and the remaining polymer films were analyzed to determine the thermal expansion coefficient, dielectric property, bending property, moisture absorption rate, The glass transition temperature was measured and shown in Table 3 below. In the case of dimensional stability, the smaller the number, the higher the dimensional stability.
(ppm/K)Thermal expansion rate
(ppm / K)
(@1GHz)Dielectric constant
(@ 1 GHz)
(@1GHz)Dielectric loss
(@ 1 GHz)
(mm)Bending characteristic
(mm)
(중량%)Moisture absorption rate
(weight%)
(℃)Glass transition temperature
(° C)
상기 표 3에서, 열팽창률은 TMA (TMA Q400)를 사용하여 50~150℃의 온도범위에서 측정하였고, 유전상수 및 유전손실은 임피던스 분석기(Agilent, E4991A)를 사용하여 측정하였으며, 흡습율은 IPC-TM-650 2.6.2.1 규격을 이용하여 측정하였고, 치수안정성은 IPC-TM-650 2.2.4 규격을 이용하여 측정하였으며, 유리전이온도는 IPC-TM-650 2.4.24.2 규격을 이용하여 측정하였다. In Table 3, the coefficient of thermal expansion was measured using TMA (TMA Q400) at a temperature range of 50 to 150 ° C. Dielectric constant and dielectric loss were measured using an impedance analyzer (Agilent, E4991A) -TM-650 was measured using 2.6.2.1 standard, and the dimensional stability was measured using IPC-TM-650 2.2.4 standard. Glass transition temperature was measured using IPC-TM-650 2.4.24.2 standard .
상기 표 3을 참조하면, 실시예 1-2에서 제조된 고분자 필름은 비교예 1~9에서 제조된 고분자 필름에 비하여 열팽창률, 유전상수, 유전손실 및 유리전이온도의 측면에서 우수하고, 휨 특성 및 흡습율 중 적어도 하나의 측면에서 우수한 것으로 나타났다. 비교예 6의 고분자 필름은 높은 열팽창률 및 낮은 휨 특성 때문에 연성 인쇄 회로기판 제작시 휨이나 수축현상이 발생할 수 있으며 신뢰성에도 문제가 있을 것으로 보인다. Referring to Table 3, the polymer film prepared in Example 1-2 is superior in terms of thermal expansion coefficient, dielectric constant, dielectric loss and glass transition temperature as compared with the polymer film prepared in Comparative Examples 1 to 9, And the moisture absorption rate. The polymer film of Comparative Example 6 may have warpage or shrinkage in the manufacture of flexible printed circuit boards due to its high coefficient of thermal expansion and low flexural properties, and reliability may also be a problem.
본 발명은 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
Claims (12)
페놀성 히드록시기를 갖는 방향족 아민에서 유도된 반복단위(B) 및 방향족 디아민에서 유도된 반복단위(B')로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 반복단위 20~40몰부;
방향족 디카르복실산에서 유도된 반복단위(C) 20~40몰부; 및
히드록시기를 포함하는 방향족 인계 화합물에서 유도된 반복단위(D) 1~10몰부를 포함하는 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지.20 to 50 parts by mole of the repeating unit (A) derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid;
At least one repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group (B) and a repeating unit derived from an aromatic diamine (B ');
20 to 40 molar parts of the repeating unit derived from an aromatic dicarboxylic acid (C); And
(D) derived from an aromatic phosphorus compound containing a hydroxyl group.
상기 반복단위(A)는 파라 히드록시 벤조산, 메타 히드록시 벤조산, 6-히드록시-2-나프토산, 3-히드록시-2-나프토산, 1-히드록시-2-나프토산 및 2-히드록시-1-나프토산으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(B)는 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 5-아미노-1-나프톨, 8-아미노-2-나프톨 및 3-아미노-2-나프톨로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(B')는 1,4-페닐렌 디아민, 1,3-페닐렌 디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,3-디아미노나프탈렌 및 1,8-디아미노나프탈렌으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(C)는 이소프탈산, 나프탈렌 디카르복실산 및 테레프탈산으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물에서 유도된 것이고; 상기 반복단위(D)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 유도된 것인 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지:
[화학식 1]
The method according to claim 1,
The repeating unit (A) may be selected from the group consisting of parahydroxybenzoic acid, metahydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy- Hydroxy-1-naphthoic acid; and at least one compound selected from the group consisting of hydroxy-1-naphthoic acid; The repeating unit (B) is at least one compound selected from the group consisting of 3-aminophenol, 4-aminophenol, 5-amino-1-naphthol, 8-amino- ≪ / RTI > The repeating unit (B ') may be at least one selected from the group consisting of 1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,3-diaminonaphthalene and 1,8-diaminonaphthalene Lt; RTI ID = 0.0 > of: < / RTI > The repeating unit (C) is derived from at least one compound selected from the group consisting of isophthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and terephthalic acid; Wherein the repeating unit (D) is derived from a compound represented by the following general formula (1): < EMI ID =
[Chemical Formula 1]
중량평균분자량이 1,000~20,000이고, 유리전이온도가 200~300℃인 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지.The method according to claim 1,
A weight average molecular weight of 1,000 to 20,000 and a glass transition temperature of 200 to 300 占 폚.
상기 전방향족 폴리에스테르 아미드 공중합체 수지 100 중량부에 대하여 유기 필러 및 무기 필러로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 필러 5 내지 30중량부를 추가로 포함하는 고분자 필름. 5. The method of claim 4,
Further comprising 5 to 30 parts by weight of at least one filler selected from the group consisting of organic fillers and inorganic fillers per 100 parts by weight of the wholly aromatic polyester amide copolymer resin.
일방향의 열팽창률이 14ppm/K 이하인 고분자 필름. 5. The method of claim 4,
A polymer film having one directional thermal expansion coefficient of 14 ppm / K or less.
유전상수가 3.5 이하이며, 유전손실이 0.01 이하인 고분자 필름. 5. The method of claim 4,
A polymer film having a dielectric constant of 3.5 or less and a dielectric loss of 0.01 or less.
흡습율이 0.5중량% 이하인 고분자 필름. 5. The method of claim 4,
A polymer film having a moisture absorption rate of 0.5% by weight or less.
유리전이온도가 250~350℃인 고분자 필름. 5. The method of claim 4,
A polymer film having a glass transition temperature of 250 to 350 占 폚.
상기 고분자 필름의 적어도 일면에 배치된 적어도 한장의 금속 박막을 포함하는 연성 금속박 적층판.A polymer film according to claim 4; And
And at least one metal thin film disposed on at least one surface of the polymer film.
A flexible printed circuit board formed by printing a metal circuit pattern on at least one surface of a polymer film according to claim 4.
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