KR101539770B1 - Composition for forming Board and Printed Circuit Board using the same - Google Patents

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Abstract

각종 인쇄회로기판의 제조에 사용될 수 있는 기판 형성용 조성물 및 이를 이용한 인쇄회로기판이 개시되었다. A composition for forming a substrate which can be used in the production of various printed circuit boards and a printed circuit board using the same are disclosed.

       열경화성 방향족 올리고머, 가용성 구조단위, 열경화성 그룹, 용매, 인쇄회로기판 Thermosetting aromatic oligomers, soluble structural units, thermosetting groups, solvents, printed circuit boards

Description

기판 형성용 조성물 및 그를 이용하는 인쇄회로기판{Composition for forming Board and Printed Circuit Board using the same}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a composition for forming a substrate and a printed circuit board using the composition.

본 발명의 구현예들은 기판 형성용 조성물 및 그를 이용한 인쇄회로기판에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 주쇄에 하나 이상의 가용성 구조단위를 갖고, 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 열경화성 그룹을 갖는 열경화성 방향족 올리고머를 포함하는 기판 형성용 조성물 및 그를 이용한 인쇄회로기판에 관한 것이다. Embodiments of the present invention relate to a composition for forming a substrate and a printed circuit board using the composition, and more particularly to a thermosetting aromatic oligomer having at least one soluble structural unit in its main chain and thermosetting groups at one or both ends of the main chain. And a printed circuit board using the same.

 

정보 통신 기술의 발달로 컴퓨터와 통신기기가 일체화된 고도의 통신 정보화 사회가 되고 있다. 또한 휴대전화, 개인용 컴퓨터 등의 전자기기는 소형화, 고성능화 됨에 따라 이들에 기본적으로 사용되는 인쇄회로기판은 다층화, 기판 두께의 감소, 통과홀(through-hole) 직경의 소형화 및 홀 간격의 감소 등에 의한 고밀도화가 진행되면서 더욱 높은 성능의 기판 소재가 요구되고 있다. With the development of information and communication technology, computer and communication device have become integrated and become highly sophisticated communication and information society. Electronic devices such as mobile phones and personal computers have become smaller in size and higher in performance, and therefore, the printed circuit boards basically used for these devices have become more complicated due to multilayered structure, reduction of substrate thickness, downsizing of through-hole diameter, As the densification progresses, a substrate material of higher performance is required.

한편, 근래 컴퓨터 등의 전자 정보기기에서는 대량의 정보를 단시간에 처리하기 때문에 동작 주파수가 높아짐에 따라 전송손실이 높아지고, 신호지연이 길 어지는 문제가 있으며, 이를 해결하기 위해 저유전 특성과 저유전 탄젠트 성질을 지닌 동박 적층판이 필요하게 되었다. 일반적으로 인쇄회로기판에서의 신호지연은 배선주위의 절연물의 비유전율의 제곱근에 비례하여 증가하기 때문에 높은 전송 속도를 요구하는 기판에서는 유전율이 낮은 수지 조성물이 요구된다. On the other hand, in electronic information apparatuses such as computers, a large amount of information is processed in a short time, so that a transmission loss is increased and a signal delay is increased as an operating frequency is increased. To solve this problem, A copper clad laminate having properties is required. In general, the signal delay in the printed circuit board increases in proportion to the square root of the relative dielectric constant of the insulator around the wiring, so that a resin composition having a low dielectric constant is required in a substrate requiring a high transmission rate.

그러나, 현재 통상적으로 사용되고 있는 FR-4급 동박 적층판의 경우에는 4.5-5.5 정도의 비교적 큰 유전율을 보이고 있어 전송 손실 및 신호지연이 커지는 문제가 있다. 또한 이러한 기판 소재는 향후 패키징 기술에서 요구되는 우수한 기계적 물성, 고내열성, 저열팽창, 저흡습 특성을 만족시키기 어려우므로, 차세대 기판에 대해서 요구되는 특성을 구비하는 새로운 기판 소재의 개발이 요구되고 있다.  However, in the case of the FR-4 class copper-clad laminate usually used at present, a relatively large dielectric constant of about 4.5-5.5 is exhibited, which causes a problem of increased transmission loss and signal delay. In addition, since such a substrate material is difficult to satisfy excellent mechanical properties, high heat resistance, low thermal expansion and low moisture absorption characteristics required in future packaging technologies, it is required to develop a new substrate material having characteristics required for a next generation substrate.

 

하나의 구현예는 용매에 대한 용해도가 높아 기판으로 제조가 용이한 기판 형성용 조성물을 제공하는 것이다. One embodiment is to provide a composition for forming a substrate that is easy to manufacture into a substrate because of its high solubility in a solvent.

다른 구현예는 열경화성 방향족 올리고머를 포함하여 내열성, 내흡수성 및 열팽창계수 등의 열특성이 우수하면서도 제조가 용이하여 제조비용이 저렴한 인쇄회로기판을 제공하는 것이다. Another embodiment is to provide a printed circuit board including a thermosetting aromatic oligomer, which is excellent in thermal characteristics such as heat resistance, resistance to water absorption and thermal expansion coefficient, and is easy to manufacture and low in manufacturing cost.

하나의 양상은 용매와 열경화성 방향족 올리고머를 포함하는 기판 형성용 조성물로서, 상기 열경화성 방향족 올리고머는 주쇄에 하나 이상의 가용성 구조단위를 갖고, 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 열경화성 그룹을 갖는 기판 형성용 조성물에 관한 것이다. One aspect is a composition for forming a substrate comprising a solvent and a thermosetting aromatic oligomer, wherein the thermosetting aromatic oligomer has at least one soluble structural unit in the main chain and a thermosetting group at one or both ends of the main chain .

상기 가용성 구조단위는 C4-C30 아릴-아민기 또는 C4-C30 아릴-아마이드기이고, 상기 열경화성 그룹은 열가교성 반응기로서 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체를 포함할 수 있다. Wherein said soluble structural unit is a C 4 -C 30 aryl-amine group or a C 4 -C 30 aryl-amide group, said thermosetting group being selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalimide phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene, cyanate, and substituents or derivatives thereof.

다른 구현예는 상기 열경화성 방향족 올리고머 및 용매 이외에 강인화제를 추가로 포함하는 기판 형성용 조성물에 관한 것이다.Another embodiment relates to a composition for forming a substrate further comprising a toughening agent in addition to the thermosetting aromatic oligomer and the solvent.

또 다른 구현예는 상기 기판 형성용 조성물들에 의해서 제조되는 프리프레그 또는 인쇄회로기판에 관한 것이다. Another embodiment relates to prepregs or printed circuit boards made by the compositions for forming a substrate.

본 발명의 구현예들의 기판 형성용 조성물들은 열특성이 우수하면서도 용해성이 향상되어 각종 인쇄회로기판의 제조에 사용될 경우 제조비용을 저감시킬 수 있다. The compositions for forming a substrate of the embodiments of the present invention have excellent thermal characteristics and improved solubility, thereby reducing manufacturing costs when used in the manufacture of various printed circuit boards.

이하에서 본 발명의 다양한 구현예들에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Various embodiments of the present invention will now be described in more detail.

본 발명의 다양한 구현예들의 기판 형성용 조성물은 용매와 열경화성 방향족 올리고머를 포함하고, 상기 열경화성 방향족 올리고머는 주쇄에 하나 이상의 가용성 구조단위를 포함하고, 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 열경화성 그룹을 갖는다. 본원에서 "가용성"이란 조성물에 사용된 용매에 대한 용해도가 우수한 특성을 의미한다The composition for forming a substrate of various embodiments of the present invention comprises a solvent and a thermosetting aromatic oligomer, wherein the thermosetting aromatic oligomer comprises at least one soluble structural unit in the main chain, and at least one of the two ends of the main chain has a thermosetting group. As used herein, "solubility" means a solubility characteristic for the solvent used in the composition

일반적으로 고분자 수지는 용융시켜 사용하거나, 용매에 용해시켜 사용하더라도 점도가 매우 높아 고형분 함량을 증가시키기 어렵다. 특히 유리섬유(glass fiber)에 함침시키는 경우 고분자 조성물의 점도가 높아 함침이 어렵고, 고형분 함량이 낮을 경우 함침량이 부족하여 재가공 등의 문제로 가공비가 증가하는 문제점이 있다. 이에 반해서, 상기 열경화성 방향족 올리고머는 낮은 점도를 가지면서도 유전상수, 열팽창계수, 내흡수성 등의 특성이 우수하고 용매에 대한 용해성이 매우 우수하여 각종 기판의 소재로 응용시 제조비용을 낮출 수 있다.Generally, even when the polymer resin is used by being melted or dissolved in a solvent, it is difficult to increase the solid content because the viscosity is very high. Particularly, when impregnated into glass fiber, impregnation is difficult due to high viscosity of the polymer composition, and when the solid content is low, the amount of impregnation is insufficient and the processing cost is increased due to problems such as reprocessing. On the other hand, the thermosetting aromatic oligomer has low viscosity, excellent properties such as dielectric constant, thermal expansion coefficient, and absorption resistance, and has excellent solubility in solvents, which can lower the manufacturing cost when applied to various substrate materials.

상기 열경화성 방향족 올리고머의 주쇄에 삽입되는 가용성 구조단위는 C4-C30 아릴-아민기 또는 C4-C30 아릴-아마이드기일 수 있다. 상기 가용성 구조단위는 하기 화학식 1의 구조단위를 포함할 수 있다. The soluble structural unit inserted into the main chain of the thermosetting aromatic oligomer may be a C 4 -C 30 aryl-amine group or a C 4 -C 30 aryl-amide group. The soluble structural unit may include a structural unit represented by the following general formula (1).

Figure 112008071668235-pat00001
Figure 112008071668235-pat00001

상기 식에서 Ar은 C4-C30의 아릴기이며; X1 및 Y1은 각각 독립적으로 COO, O, CONR'', NR''' 및 CO로 이루어진 군에서 선택되는 것이며, 여기서 상기 R'' 및 R'''는 각각 독립적으로 수소 원자, C1 내지 C20의 알킬기, 및 C6 내지 C30의 아릴기로 이루어진 군에서 선택되는 것이며, X1 및 Y1 중 적어도 하나 이상은 CONR'' 또는 NR'''이다.Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group; X 1 and Y 1 are each independently selected from the group consisting of COO, O, CONR ", NR '" and CO, wherein R "and R'" each independently represent a hydrogen atom, It will be selected from the alkyl group, and the group consisting of an aryl group of C6 to C30 in the C20, the at least one of X 1 and Y 1 is CONR '', or NR '''.

이러한 가용성 구조단위는 하기 화학식 2에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위를 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. Such a soluble structural unit includes one or two or more structural units selected from the following general formula (2), but is not limited thereto.

Figure 112008071668235-pat00002
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상기 식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기이다. Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group.

상기 열경화성 방향족 올리고머를 구성하는 각각의 구조단위에서 Ar은 서로 상이하거나 동일하며, Ar의 방향족 고리는 아마이드기, 에스테르기, 카르복실기, 알콕시기, 아릴기 또는 플루오로메틸기로 치환될 수 있다. In the structural units constituting the thermosetting aromatic oligomer, Ar may be the same or different from each other, and the aromatic ring of Ar may be substituted with an amide group, an ester group, a carboxyl group, an alkoxy group, an aryl group or a fluoromethyl group.

상기 Ar의 비제한적인 예들은 하기 화학식 3의 것들을 포함할 수 있다.Non-limiting examples of Ar may include those of formula (3).

Figure 112008071668235-pat00003
Figure 112008071668235-pat00003

를 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다.But are not necessarily limited to these.

상기 열경화성 방향족 올리고머는 가용성 구조단위를 전체 구조단위의 합계에 대하여 5몰% 초과 60 몰% 이하의 함량으로 포함할 수 있다. 가용성 구조단위 의 함량이 5몰% 이하인 경우에는 용매 중에서의 용해도 향상 효과가 미미할 수 있고, 이와 대조적으로, 가용성 구조단위의 함량이 60몰%를 초과하는 경우에는 친수성이 증가하여 내흡습성이 저하되는 문제점이 발생할 수 있다. 열경화성 방향족 올리고머 중의 상기 가용성 구조단위의 함량은 반응시에 첨가하는 단량체 함량을 조절함으로써 원하는 수준의 가용성 구조를 열경화성 방향족 올리고머에 포함시킬 수 있다. 상기 가용성 구조단위의 함량은 가용성 구조단위의 크기, 질량, 특성 및 화학적 조성을 변화시킴으로써 조절될 수 있다.The thermosetting aromatic oligomer may contain a soluble structural unit in an amount of more than 5 mol% to 60 mol% or less based on the total amount of all structural units. When the content of the soluble structural unit is less than 5 mol%, the effect of improving the solubility in the solvent may be insignificant. In contrast, when the content of the soluble structural unit exceeds 60 mol%, the hydrophilicity is increased and the moisture absorption resistance is lowered Problems may arise. The content of the soluble structural unit in the thermosetting aromatic oligomer can be incorporated into the thermosetting aromatic oligomer at a desired level by adjusting the monomer content to be added during the reaction. The content of the soluble structural unit can be controlled by varying the size, mass, characteristic and chemical composition of the soluble structural unit.

상기 열경화성 방향족 올리고머는 주쇄에 가용성 구조단위와 함께 하기 화학식 4 의 구조단위를 더 포함할 수 있다. The thermosetting aromatic oligomer may further include a structural unit represented by the following formula (4) together with a soluble structural unit in its main chain.

Figure 112008071668235-pat00004
Figure 112008071668235-pat00004

상기 식에서 Ar은 C4-C30의 아릴기이며; X2 및 Y2은 각각 독립적으로 COO, O, CONR'', NR''' 및 CO로 이루어진 군에서 선택되는 것이며, 여기서 상기 R'' 및 R'''는 각각 독립적으로 수소 원자, C1 내지 C20의 알킬기, 및 C6 내지 C30의 아릴기로 이루어진 군에서 선택되는 것이다.Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group; X 2 and Y 2 are each independently selected from the group consisting of COO, O, CONR ", NR '" and CO, wherein R "and R'" each independently represent a hydrogen atom, C20 alkyl group, and C6 to C30 aryl group.

상기 화학식 4의 구조 단위의 예들은 하기 화학식 5 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위를 포함할 수 있다.Examples of the structural unit of the formula (4) may include one or two or more structural units selected from the following formula (5).

Figure 112008071668235-pat00005
Figure 112008071668235-pat00005

상기 식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기이다. Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group.

상기 화학식 3 중에서 선택되는 구조단위가 두 개 이상 포함되는 경우에 각각의 구조단위의 Ar은 서로 같거나 상이하며, Ar의 방향족 고리는 아마이드기, 에스테르기, 카르복실기, 알콕시기, 아릴기 또는 플루오로메틸기로 치환될 수 있다. 구체적으로, 상기 Ar은 하기 화학식 3서 선택되는 것일 수 있다.When two or more structural units selected from the above-mentioned general formula (3) are contained, Ar of each structural unit is the same or different from each other, and the aromatic ring of Ar is an aromatic group, an ester group, a carboxyl group, an alkoxy group, And may be substituted with a methyl group. Specifically, Ar may be selected from the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112008071668235-pat00006
Figure 112008071668235-pat00006

상기 열경화성 방향족 올리고머는 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 서로 동일하거나 상이한 열경화성 그룹이 도입될 수 있다. 이러한 열경화성 그룹은 기판 형성용 조성물을 인쇄회로기판 등의 제조에 이용시 고온경화를 거치면 이들 가교 관능기가 서로 가교되어 견고한 그물망 형태의 안정된 구조를 형성하므로, 인쇄 회로 기판의 기계적 물성을 향상시킬 수 있다.The thermosetting aromatic oligomer may have the same or different thermosetting groups introduced into at least one of both ends of the main chain. When the composition for forming a substrate is used in the production of a printed circuit board or the like, the crosslinked functional groups are crosslinked with each other to form a stable network structure, thereby improving the mechanical properties of the printed circuit board.

상기 열경화성 그룹은 열가교성 반응기일 수 있다. 이러한 열경화성 그룹 의 예들은 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. 본원에서"치환체"라 함은 열가교성 반응기의 말단 일부가 알킬기, 할로겐 원자, 아릴기 등의 치환기로 치환된 구조를 의미하며, 예를 들어 말레이미드 반응기의 경우 이중 결합에 있는 수소의 하나 이상이 메틸기와 같은 알킬기 등에 의해 치환된 것을 포함한다. 또한, 본원에서 "유도체"라 함은 방향족, 헤테로 방향족기 등에 열가교성 반응기가 결합된 구조를 의미하며, 예를 들어 말레이미드 반응기의 경우, 벤젠 고리 또는 나프탈렌에 말레이미드 반응기가 결합된 것을 포함한다.The thermosetting group may be a heat-crosslinkable reactor. Examples of such thermosetting groups include, but are not limited to, maleimide, nadimide, phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene, cyanate, And substituents or derivatives thereof, but are not necessarily limited thereto. The term "substituent" as used herein means a structure in which a terminal portion of the thermocomposable reactor is substituted with a substituent such as an alkyl group, a halogen atom or an aryl group. For example, in the case of a maleimide reactor, And an alkyl group such as a methyl group. The term "derivative" as used herein means a structure in which an aromatic, heteroaromatic group or the like is bonded to a thermally curable reactor, for example, in the case of a maleimide reactor, a maleimide reactor is bonded to a benzene ring or naphthalene .

상기 열경화성 방향족 올리고머는 하기 화학식 6의 구조를 가질 수 있다. The thermosetting aromatic oligomer may have a structure represented by the following formula (6).

Figure 112008071668235-pat00007
Figure 112008071668235-pat00007

상기 식에서, R1은 하기 하기 화학식 2 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위이며; R2는 하기 화학식 5 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위이며; Wherein R < 1 > is one or two or more structural units selected from the following formula (2); R 2 is one or two or more structural units selected from the following general formula (5);

Z1 및 Z2 는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소, 할로겐, 히드록시기, 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸 렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며, Z1 및 Z2 중 하나 이상은 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며; Z 1 and Z 2 are the same as or different from each other and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a maleimide group, a nadimide group, a phthalimide group, an acetylene group, a propagyl ether group ), Benzocyclobutene, cyanate and substituents or derivatives thereof, and at least one of Z 1 and Z 2 is selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalate, Selected from the group consisting of phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene, cyanate and substituents or derivatives thereof;

n과 m은 각각 독립적으로 양의 정수이며, 바람직하게는 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이다.n and m are each independently a positive integer, preferably independently from 1 to 50.

[화학식 2](2)

Figure 112008071668235-pat00008
Figure 112008071668235-pat00008

상기 화학식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. In the above formula, Ar is a C 4 -C 30 aryl group.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112008071668235-pat00009
Figure 112008071668235-pat00009

상기 화학식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. In the above formula, Ar is a C 4 -C 30 aryl group.

예컨대, 상기 열경화성 방향족 올리고머는 하기 화학식 7 또는 화학식 8의 구조를 가질 수 있다. For example, the thermosetting aromatic oligomer may have the following structure (7) or (8).

Figure 112008071668235-pat00010
Figure 112008071668235-pat00010

Figure 112008071668235-pat00011
Figure 112008071668235-pat00011

상기 식에서, Z1 및 Z2는 서로 동일하거나 상이하며 각각 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며; n과 m은 각각 독립적으로 양의 정수이며, 바람직하게는 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이다.Wherein Z 1 and Z 2 are the same or different and are each independently selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene benzocyclobutene, cyanate, and substituents or derivatives thereof; n and m are each independently a positive integer, preferably independently from 1 to 50.

또한, 상기 화학식 6 내지 8의 구조에서 n/(n+m+2)는 5% 초과 60% 이하 범위내일 수 있다. In the structures of Formulas 6 to 8, n / (n + m + 2) may range from more than 5% to less than 60%.

열경화성 방향족 올리고머의 분자량은 500 ~ 15,000일 수 있다. 상기 열경화성 방향족 올리고머의 분자량이 500 미만일 경우에는 가교밀도가 높아져 물성이 브리틀(brittle)해질 수 있고, 상기 분자량이 15,000을 초과하는 경우에는 용액의 점도가 높아져서 유리섬유에 함침시 불리해질 수 있다. The molecular weight of the thermosetting aromatic oligomer may be from 500 to 15,000. If the molecular weight of the thermosetting aromatic oligomer is less than 500, crosslinking density may be increased and the physical properties may be brittle. If the molecular weight exceeds 15,000, the viscosity of the solution may be increased and the glass fiber may be deteriorated.

상기 열경화성 방향족 올리고머의 제조방법은 특별히 제한되지 않으며, 중합을 통해 가용성 구조단위를 포함하는 방향족 올리고머를 제조할 수 있는 화합물들 및 열경화성 그룹을 도입할 수 있는 화합물을 반응시켜 제조될 수 있다. The method of preparing the thermosetting aromatic oligomer is not particularly limited and may be prepared by reacting compounds capable of producing aromatic oligomers containing soluble structural units through polymerization and compounds capable of introducing thermosetting groups.

상기에서 가용성 구조단위를 포함하는 방향족 올리고머를 제조할 수 있는 화합물들은 특별히 제한되지 않는다. 예컨대, 하나 이상의 방향족, 방향족 헤테로고리 또는 지방족 디카르복실산; 방향족, 방향족 헤테로고리 또는 지방족 디올; 방향족, 방향족 헤테로고리 또는 지방족 디아민; 아미노 페놀; 히드록시벤조산; 및 아미노벤조산으로 이루어진 군에서 선택될 수 있으며, 방향족, 방향족 헤테로고리 또는 지방족 디올; 아미노 페놀; 아미노벤조산 중 하나 이상을 사용하는 것이 바람직하다. The compounds capable of producing the aromatic oligomer containing the soluble structural unit are not particularly limited. At least one aromatic, aromatic heterocycle or aliphatic dicarboxylic acid; Aromatic, aromatic heterocycle or aliphatic diol; An aromatic, aromatic heterocyclic or aliphatic diamine; Aminophenol; Hydroxybenzoic acid; And aminobenzoic acid, and may be selected from the group consisting of aromatic, aromatic heterocyclic or aliphatic diols; Aminophenol; It is preferable to use at least one of aminobenzoic acid.

일례로, 열경화성 방향족 올리고머는 용액 중합 또는 벌크중합에 의해서 제조될 수 있다. 용융 중합 및 벌크 중합은 적합한 교반수단이 설치된 하나의 반응 탱크 내에서 행해질 수 있다As an example, thermosetting aromatic oligomers can be prepared by solution polymerization or bulk polymerization. The melt polymerization and the bulk polymerization can be carried out in one reaction tank equipped with suitable stirring means

용액중합 방법에 대해서 예를 들어 설명하면, 먼저 이소프탈로일 클로라이드(isophthaloyl chloride), 아미노페놀, 2,6-디히드록시나프탈렌(2,6-dihydroxynaphthalene), 트리에틸아민(triethylamine)을 반응기에 넣은 후 상온에서 교반하면서 반응을 진행시킨다. 일정 시간 경과 후 열경화성 그룹을 부가할 수 있는 화합물 (예컨대, 말레이미도-벤조일 클로라이드 등과 같이 말레이미드, 네드이미드 또는 아세틸렌 등을 부가할 수 있는 화합물)을 추가로 첨가하여 반응시켜 열경화성 방향족 올리고머를 수득한 후, 이를 분리정제함으로써 상기 열경화성 방향족 올리고머를 합성할 수 있다. For example, isophthaloyl chloride, aminophenol, 2,6-dihydroxynaphthalene, and triethylamine are added to a reactor, The reaction was allowed to proceed at room temperature with stirring. After addition of a compound capable of adding a thermosetting group (for example, a compound capable of adding maleimide, nediimide, or acetylene or the like such as maleimido-benzoyl chloride) to a thermosetting aromatic oligomer Then, the thermosetting aromatic oligomer can be synthesized by separating and purifying it.

한편, 벌크 중합에 의해서 열경화성 방향족 올리고머를 제조하는 경우에는, 이소프탈산, 아미노페놀, 2-히드록시-6-나프토익 애시드, 아세트산 무수물을 반응기에 첨가한 후에 교반시키면서 온드를 서서히 150도까지 올린 후 환류시키면서 일정 시간 동안 반응시킨다. 이어서 유출하는 부생 초산 및 무수 초산을 제거한 후 4-히드록시벤조산을 추가로 첨가하고 320도까지 승온하여 반응시킨다. 이렇게 하여 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 알코올기를 가진 방향족 올리고머를 합성한다. 양 말단에 알콜기를 가진 방향족 올리고머가 수득되면, 방향족 올리고머를 용매(예컨대, DMF)에 용해시킨 후, 후 열경화성 그룹을 부가할 수 있는 화합물을 첨가하여 반응시키면 주쇄의 양 말단 중 어느 하나 이상에 열경화성 그룹이 부가된 열경화성 방향족 올리고머를 수득할 수 있다. On the other hand, in the case of producing a thermosetting aromatic oligomer by bulk polymerization, it is preferable to add the isophthalic acid, aminophenol, 2-hydroxy-6-naphthoic acid and acetic anhydride to the reactor, The reaction is carried out for a predetermined time while refluxing. After removing the by-produced acetic acid and the anhydrous acetic acid flowing out, 4-hydroxybenzoic acid is further added, and the temperature is raised to 320 ° C to react. Thus, an aromatic oligomer having an alcohol group at one or both ends of the main chain is synthesized. When an aromatic oligomer having an alcohol group at both ends is obtained, the aromatic oligomer is dissolved in a solvent (for example, DMF) and then a compound capable of adding a thermosetting group is added and reacted. Group-added thermosetting aromatic oligomer can be obtained.

또 다른 벌크 중합에 의해서 열경화성 방향족 올리고머를 제조하는 경우에는, 이소프탈산, 아미노페놀, 2-히드록시-6-나프토익 애시드, 아세트산 무수물을 반응기에 첨가한 후에 교반시키면서 온도를 서서히 150도까지 올린 후 환류시키면서 일정 시간 동안 반응시킨다. 이어서 230도까지 서서히 승온하면서, 부생 초산 및 무수 초산을 제거하여 올리고머를 합성한다. 네드이미드 벤조익 애시드를 추가로 첨가하고 250도까지 승온하여 열경화성 방향족 올리고머를 수득할 수 있다. In the case of preparing a thermosetting aromatic oligomer by another bulk polymerization, the isophthalic acid, the aminophenol, the 2-hydroxy-6-naphthoic acid and the acetic anhydride are added to the reactor and the temperature is gradually increased to 150 ° C The reaction is carried out for a predetermined time while refluxing. Subsequently, the temperature was gradually raised to 230 deg. C, and the by-produced acetic acid and anhydrous acetic acid were removed to synthesize an oligomer. Ndimide benzoic acid was further added and the temperature was raised to 250 ° C to obtain a thermosetting aromatic oligomer.

본 발명의 구현예에 따른 기판 형성용 조성물은 용매 캐스팅(solvent casting) 공정에 적용 가능하여, 유리 섬유 등의 함침이 용이할 수 있다. 상기 기판 형성용 조성물에서의 용매는 특별히 제한되지 않은나, 극성 비프로톤성 용매를 사용할 수 있다. 예를 들어, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈(NMP), N-메틸카프로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, N,N-디에틸아세트아미드, N-메틸프로피온아미드, 디메틸술폭시드, γ-부틸 락톤, 디메틸이미다졸리디논, 테트라메틸포스포릭 아미드 및 에틸셀로솔브 아세테이트로 구성되는 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있으며, 선택적으로 이들 중 2 종류 이상의 혼합 용매를 사용할 수도 있다. 상기 기판 형성용 조성물은 용매 100 중량부에 대하여 열경화성 방향족 올리고머 0.1 ~ 300 중량부를 포함할 수 있다.The composition for forming a substrate according to an embodiment of the present invention can be applied to a solvent casting process, so that impregnation with glass fiber can be facilitated. The solvent in the composition for forming a substrate is not particularly limited, and a polar aprotic solvent may be used. Examples of the solvent include N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone (NMP), N-methylcaprolactam, N, N-dimethylformamide, There may be used those selected from the group consisting of ethyl acetamide, N-methyl propionamide, dimethyl sulfoxide,? -Butyl lactone, dimethyl imidazolidinone, tetramethyl phosphoric amide and ethyl cellosolve acetate, Two or more types of mixed solvents may be used. The composition for forming a substrate may include 0.1 to 300 parts by weight of a thermosetting aromatic oligomer relative to 100 parts by weight of a solvent.

다른 구현에에서 기판 형성용 조성물은 강인화제(toughening agent)를 더 포함할 수 있다. 열경화성 방향족 올리고머에 강인화제를 혼용하면 조성물의 유연성이 향상될 수 있다. 상기 강인화제는 방향족 고분자로서, 상기 방향족 고분자의 수평균 분자량은 약 2,000 내지 약 500,000일 수 있다. 이러한 방향족 고분자의 예들은 주쇄에 에스테르, 에스테르-아미드, 에스테르-이미드, 에스테르-에테르, 및 에스테르-카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 메소겐 그룹을 포함하는 방향족 고분자를 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. 상기 열경화성 방향족 올리고머 및 강인화제의 혼합비는 중량비로 99.5:0.5 ~ 35: 65일 수 있다.In another embodiment, the composition for forming a substrate may further comprise a toughening agent. When the thermosetting aromatic oligomer is mixed with a toughening agent, the flexibility of the composition can be improved. The toughening agent may be an aromatic polymer, and the number average molecular weight of the aromatic polymer may be about 2,000 to about 500,000. Examples of such aromatic polymers include aromatic polymers including one or two or more mesogen groups selected from the group consisting of ester, ester-amide, ester-imide, ester-ether and ester-carbonate in the main chain, . The mixing ratio of the thermosetting aromatic oligomer and the toughening agent may be 99.5: 0.5 to 35: 65 by weight.

상기 조성물에서 고형분 함량은 전체 조성물 100 중량부에 대해 5 중량부 이상 100 중량부 미만, 바람직하게는 5 중량부 이상 95 중량부 이하일 수 있다. 더욱 바람직하게는 30 중량부 이상, 나아가 50 중량부 이상일 수 있다. 상기 조성물은 열경화성 방향족 올리고머의 가용성이 우수하므로, 고형분 함량이 높을 수 있다. The solid content in the composition may be 5 parts by weight or more and less than 100 parts by weight, preferably 5 parts by weight or more and 95 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total composition. More preferably 30 parts by weight or more, and further, 50 parts by weight or more. Since the composition is excellent in the solubility of the thermosetting aromatic oligomer, the solid content may be high.

본 발명의 구현예들의 기판 형성용 조성물은 필요에 따라서 충전제, 연화제, 가소제, 윤활제, 정전기방지제, 착색제, 산화방지제, 열안정제, 광안정제 및 UV 흡수제와 같은 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 충진제의 예는 에폭시 수지 분말, 멜라민 수지 분말, 요소 수지 분말, 벤조구아나민 수지 분말 및 스티렌 수지와 같은 유기 충진제; 및 실리카, 알루미나, 산화티타늄, 지르코니아, 카올린, 탄산칼슘 및 인산칼슘과 같은 무기 충진제를 포함한다.The composition for forming a substrate of embodiments of the present invention may further comprise one or more additives such as fillers, softeners, plasticizers, lubricants, antistatic agents, colorants, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers and UV absorbers . Examples of the filler include organic fillers such as epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, benzoguanamine resin powder and styrene resin; And inorganic fillers such as silica, alumina, titanium oxide, zirconia, kaolin, calcium carbonate, and calcium phosphate.

상기 기판 형성용 조성물은 동박과의 접착 강도가 높으며, 내열성, 저팽창성, 기계적 특성이 우수하므로, 우수한 패키징 재료로 사용될 수 있다. 기판 형성용 조성물은 기판으로 성형되거나 함침 또는 코팅용 바니시를 형성할 수 있다. 상기 조성물은 인쇄 보드, 다중층 기판의 각층, 구리를 씌운 적층물(예컨대, RCC, CCL), TAB 용 필름에 적용 가능하지만, 상기 기판 형성용 조성물의 용도는 여기에 한정되지 않는다. The composition for forming a substrate has high adhesion strength to a copper foil and has excellent heat resistance, low expansion, and mechanical properties, and thus can be used as an excellent packaging material. The composition for forming a substrate may be formed into a substrate or may form a varnish for impregnation or coating. The composition is applicable to a printed board, each layer of a multilayer substrate, a copper-clad laminate (e.g., RCC, CCL), a film for TAB, but the use of the composition for forming a substrate is not limited thereto.

상기 조성물을 기판 등의 재료로 사용하기 위해서는 열경화성 방향족 올리고머와 용매를 포함하는 조성물 또는 강인화제 및 열경화성 방향족 올리고머와 용매를 포함하는 조성물을 기판 위에 캐스팅하여 박막을 형성한 후 고온경화시켜 제조할 수 있다. 열경화성 방향족 올리고머에 고분자량의 강인화제를 첨가하여 유연성을 향상시킨 조성물은 동박 적층 과정에서 취급이 편리한 이점을 제공할 수 있다. In order to use the composition as a substrate or the like, a composition comprising a thermosetting aromatic oligomer and a solvent or a composition comprising a toughening agent and a thermosetting aromatic oligomer and a solvent may be cast on a substrate to form a thin film, followed by curing at a high temperature . A composition in which flexibility is improved by adding a high molecular weight toughening agent to a thermosetting aromatic oligomer can provide a convenient advantage of handling in a copper foil laminating process.

상기 기판 형성용 조성물을 이용하여 프리프레그를 제조할 수 있다. 프리프레그는 조성물을 보강재에 함침하여 제조되는데, 구체적으로 기판 형성용 조성물을 보강재에 함침시킨 후 경화시켜 시이트 상으로 제조하여 사용할 수 있다. 상기 보강재는 특별히 제한되지 않으나, 일례로 직조유리섬유 (glass cloth), 직조 알루미나 유리섬유, 유리섬유 부직포, 셀룰로오즈 부직포, 직조카본섬유, 및 고분자 직물 등을 예로 들 수 있다. 보강재에 기판 형성용 조성물을 함침시키는 방법으로서는 딥 코팅, 롤 코팅법 등이 있으며, 그 밖의 통상적인 함침방법을 사용할 수 있다.A prepreg can be prepared using the composition for forming a substrate. The prepreg is prepared by impregnating the composition with a reinforcing material. Specifically, the composition for forming a substrate may be impregnated into a reinforcing material and cured to prepare a sheet. The reinforcing material is not particularly limited, and examples thereof include a woven glass cloth, a woven alumina glass fiber, a glass fiber nonwoven fabric, a cellulose nonwoven fabric, a woven carbon fiber, and a polymeric woven fabric. As a method for impregnating the reinforcing material with the composition for forming a substrate, dip coating, roll coating and the like can be used, and other conventional impregnation methods can be used.

상기 기판 형성용 조성물을 이용하여 기판을 제조할 수 있다. 상기 기판은 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 다중층 기판의 각층, 금속박과 결합된 적층물 형태, 인쇄 보드 등일 수 있다. 또한, 상기 프리프레그가 금속박 등과 결합되는 형태를 포함할 수 있다.A substrate can be produced using the composition for forming a substrate. The substrate is not particularly limited, and may be, for example, each layer of a multilayer substrate, a laminate in combination with a metal foil, a printing board, or the like. Also, the prepreg may be combined with a metal foil or the like.

상기 기판은 여러 형태일 수 있으며, 필름 형태일 수 있다. 필름은 상기 기판 형성용 조성물을 박막화하여 제조될 수 있다. 이러한 방법의 예로는 압출기에서 압출된 기판 형성용 조성물을 다이를 통해서 필름으로 형성시키는 압출 성형방법; 기판 형성용 조성물을 필름이 되도록 캐스트 성형하는 캐스트 성형 방법; 및 유리와 같은 무기 기판 또는 직물 형태의 기판을 상기 기판 형성용 조성물의 바니시에 담근 후, 기판을 필름이 되도록 성형시키는 딥 성형 방법이 포함되지만, 여기에 한정되지는 않는다. The substrate may be in various forms and may be in the form of a film. The film can be produced by thinning the composition for forming a substrate. Examples of such a method include an extrusion molding method in which a composition for forming a substrate extruded from an extruder is formed into a film through a die; A cast molding method for casting a composition for forming a substrate into a film; And a dip molding method in which an inorganic substrate such as glass or a substrate in the form of a cloth is immersed in a varnish of the composition for forming a substrate, and then the substrate is molded into a film.

필름 형태 이외에 상기 기판은 금속박과 결합되는 적층물 형태일 수도 있다. 상기 금속박으로서는 동박, 알루미늄박 등이 사용된다. 금속박의 두께는 용도에 따라서 다르지만 5 내지 100 ㎛의 것이 적합하게 사용된다. 금속박 피복 적층판의 금속박에 대하여 회로 가공을 실시함으로써 인쇄 회로기판으로 제작할 수 있다. 인쇄 적층판의 표면에, 또한 상기한 금속박 피복 적층판을 동일하게 적층하고 가공하여 다층 인쇄 회로기판으로 제작할 수 있다. In addition to the film form, the substrate may be in the form of a laminate that is bonded to the metal foil. As the metal foil, a copper foil, an aluminum foil or the like is used. The thickness of the metal foil varies depending on the use, but it is suitably 5 to 100 mu m. The metal foil of the metal foil clad laminate can be fabricated as a printed circuit board by performing circuit processing. The metal foil clad laminate may also be laminated and processed on the surface of the print laminate to form a multilayer printed circuit board.

금속박과 결합되는 적층물은 상기 기판 형성용 조성물이 금속박(예컨대, 구리 포일) 상에 도포되거나 금속박(예컨대, 구리 포일) 상에 주조되고, 용매가 제거되고 나서 열처리가 행해지는 방법에 의해 제조될 수 있다. 용매 제거는 바람직 하게는, 용매를 증발시킴으로써 행해진다. 용매를 증발시키는 방법의 예는 감압 하 가열, 환기 등을 포함한다. The laminate combined with the metal foil is manufactured by a method in which the composition for forming a substrate is applied on a metal foil (e.g., copper foil), cast on a metal foil (e.g., copper foil), removed from the solvent, and then subjected to heat treatment . The solvent removal is preferably carried out by evaporating the solvent. Examples of the method of evaporating the solvent include heating under reduced pressure, ventilation and the like.

기판 형성용 조성물을 도포하는 방법의 예는 롤러 코팅법, 딥코팅법, 스프레이 코팅법, 스피너 코팅법, 커튼 코팅법, 슬롯 코팅법 및 스크린 프린팅법을 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. 기판 형성용 조성물은 필터 등을 이용하여 여과를 행하여, 구리 포일 상에 도포되거나 주조되기 전에, 용액 중에 함유된 미세한 외부 물질들을 제거하는 것이 바람직하다.Examples of the method of applying the composition for forming a substrate include, but are not necessarily limited to, a roller coating method, a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a curtain coating method, a slot coating method and a screen printing method. The composition for forming a substrate is preferably filtered using a filter or the like to remove fine foreign substances contained in the solution before being coated or cast on the copper foil.

상기 금속박과 결합되는 적층물은 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 수지 코팅 동박(resin coated copper: RCC), 구리 클래드 적층판(copper clad laminate: CCL) 등이 있다. The laminate to be bonded to the metal foil is not particularly limited, and examples thereof include resin coated copper (RCC) and copper clad laminate (CCL).

또 다른 양상은 하기 화학식 6으로 표시되는 열경화성 방향족 올리고머에 관한 것이다. Another aspect relates to a thermosetting aromatic oligomer represented by the following formula (6).

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112008071668235-pat00012
Figure 112008071668235-pat00012

상기 식에서, R1은 하기 하기 화학식 2 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위이며; R2는 하기 화학식 5 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위이며; Z1 및 Z2 는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소, 할로겐, 히드록시기, 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸 렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며, Z1 및 Z2 중 하나 이상은 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며; n과 m은 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이며; n/(n+m+2)은 5% 초과 60% 이하임. Wherein R < 1 > is one or two or more structural units selected from the following formula (2); R 2 is one or two or more structural units selected from the following general formula (5); Z 1 and Z 2 are the same as or different from each other and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a maleimide group, a nadimide group, a phthalimide group, an acetylene group, a propagyl ether group ), Benzocyclobutene, cyanate and substituents or derivatives thereof, and at least one of Z 1 and Z 2 is selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalate, Selected from the group consisting of phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene, cyanate and substituents or derivatives thereof; n and m are each independently an integer of 1 to 50; n / (n + m + 2) is more than 5% and not more than 60%.

[화학식 2] (2)

Figure 112008071668235-pat00013
Figure 112008071668235-pat00013

상기 화학식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. In the above formula, Ar is a C 4 -C 30 aryl group.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112008071668235-pat00014
Figure 112008071668235-pat00014

상기 화학식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. In the above formula, Ar is a C 4 -C 30 aryl group.

상기 화학식 2 및 5에서 Ar은 하기 화학식 2로 구성되는 군에서 선택될 수 있다. In the formulas (2) and (5), Ar may be selected from the group consisting of the following formula (2).

[화학식 3](3)

Figure 112008071668235-pat00015
Figure 112008071668235-pat00015

또한, 상기 화학식에서 R1 및 R2는 블록 형태로 반복되거나, 랜덤(random)으로 반복될 수 있다. 예컨대, Z1R1R1R1…R2R2R2Z2이거나 Z1R1R1R2…R1R2R2Z2 이거나 Z1R1R2R2R2…R1R2Z2 이거나 Z1R1R2R1R2…R1R2Z2 의 형태일 수 있다. In the above formula, R 1 and R 2 may be repeated in a block form or may be randomly repeated. For example, Z 1 R 1 R 1 R 1 ... R 2 R 2 R 2 Z 2 or Z 1 R 1 R 1 R 2 ... R 1 R 2 R 2 Z 2 or Z 1 R 1 R 2 R 2 R 2 ... R 1 R 2 Z 2 or Z 1 R 1 R 2 R 1 R 2 ... R 1 may be in the form of R 2 Z 2.

이하에서 본 발명의 구현예에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail.

 

실시예 Example

제조예 1Production Example 1

1-1: 4-말레이미도-벤조일 클로라이드 합성1-1: Synthesis of 4-maleimido-benzoyl chloride

250ml 플라스크에 p-아미노벤조산 41.1g (0.3 mol) 및 아세트산 300 ㎖을 넣어 용해시킨 후, 말레산 무수물 29.4g(0.3mol)을 10도에서 서서히 첨가하여 노란색의 침전물을 얻었다. 이 침전물을 DMF/에탄올 (50:50 w/w) 용액으로 재결정하였다. 재결정된 중간체를 초산 나트륨과 초산 무수물을 사용하여, 85도에서 15분간 처리한 다음 상온으로 냉각시킨 후 얼음중탕기에 침전시켜 침전물을 얻었다. 수득된 침전물을 에틸 아세테이트/n-헥산(50:50, w/w) 용액으로 재결정하여 N-(p- 카르복시페닐) 말레이미드를 수득하였다. 41.1 g (0.3 mol) of p-aminobenzoic acid and 300 ml of acetic acid were dissolved in a 250 ml flask, and 29.4 g (0.3 mol) of maleic anhydride was gradually added at 10 degrees to obtain a yellow precipitate. The precipitate was recrystallized from a DMF / ethanol (50:50 w / w) solution. The recrystallized intermediate was treated with sodium acetate and acetic anhydride at 85 DEG C for 15 minutes, then cooled to room temperature and precipitated in an ice bath to obtain a precipitate. The resulting precipitate was recrystallized from a solution of ethyl acetate / n-hexane (50:50, w / w) to give N- (p-carboxyphenyl) maleimide.

N-(p-카르복시페닐) 말레이미드 15g (0.07mol)을 80ml의 벤젠에 첨가하였다. 여기에 옥살릴 클로라이드 21.83g (0.172 mol)을 서서히 첨가하고, 온도를 높여 2시간 동안 환류시켰다. 미반응 옥살릴 클로라이드를 제거하고 상온으로 냉각시킨 후 필터링하고, 헥산으로 세정하여 4-말레이미도-벤조일 클로라이드를 수득하였다. 15 g (0.07 mol) of N- (p-carboxyphenyl) maleimide were added to 80 ml of benzene. To this was slowly added 21.83 g (0.172 mol) of oxalyl chloride and the temperature was raised to reflux for 2 hours. The unreacted oxalyl chloride was removed, cooled to room temperature, filtered, and washed with hexane to give 4-maleimido-benzoyl chloride.

1-2. 열경화성 방향족 올리고머의 합성 1-2. Synthesis of thermosetting aromatic oligomer

       250ml 플라스크에 100ml의 디메틸포름아미드를 넣은 후, 4-아미노페놀 3.274g(0.03mol), 4,4-디히드록시비페닐 4.655g(0.025mol), 트리에틸아민 18ml를 첨가하여, 용해시킨 후, 얼음물에 담가 냉각시킨 상태에서 이소프탈로일 클로라이드 10.151g(0.05mol)를 첨가하였다. 상온에서 60시간 반응시킨 후 물과 에탄올을 사용하여 정제한 후 건조하였다. After adding 100 ml of dimethylformamide to a 250 ml flask, 3.274 g (0.03 mol) of 4-aminophenol, 4.655 g (0.025 mol) of 4,4-dihydroxybiphenyl and 18 ml of triethylamine were added and dissolved , 10.151 g (0.05 mol) of isophthaloyl chloride was added while cooling in ice water. After reacting at room temperature for 60 hours, it was purified by using water and ethanol and dried.

건조된 시료 1g을 9g의 NMP에 용해시킨 후 상기 제조예 1에서 수득한 4-말레이미도-벤조일 클로라이드 0.1g, 트리에틸아민 10ml를 첨가하여 상온에서 12시간 반응시켜 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 말레이미드 반응기를 도입하여 하기 화학식 9 구조의 열경화성 방향족 올리고머를 수득하였다. After 1 g of the dried sample was dissolved in 9 g of NMP, 0.1 g of 4-maleimido-benzoyl chloride obtained in Preparation Example 1 and 10 ml of triethylamine were added, and the mixture was allowed to react at room temperature for 12 hours, A maleimide reactor was introduced to obtain a thermosetting aromatic oligomer having a structure represented by the following formula (9).

Figure 112008071668235-pat00016
Figure 112008071668235-pat00016

상기 식에서, m은 1 내지 50이고, n은 1 내지 50이다.Wherein m is from 1 to 50 and n is from 1 to 50,

 

제조예 2. 열경화성 방향족 올리고머의 합성Production Example 2. Synthesis of thermosetting aromatic oligomer

4-아미노페놀과 4,4-디히드록시비페닐의 첨가량을 각각 3.820g(0.035mol) 및 3.724g(0.02mol)로 변경한 것 이외에는, 제조예 1과 동일하게 실시하여 열경화성 방향족 올리고머를 합성하였다.Except that the addition amounts of 4-aminophenol and 4,4-dihydroxybiphenyl were changed to 3.820 g (0.035 mol) and 3.724 g (0.02 mol), respectively, to prepare a thermosetting aromatic oligomer Respectively.

 

제조예 3.  열경화성 방향족 올리고머의 합성Production Example 3. Synthesis of thermosetting aromatic oligomer

4-아미노페놀과 4,4-디히드록시비페닐의 첨가량을 각각 4.365g(0.04mol) 및 2.793g(0.015mol)로 변경한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 실시하여 열경화 성 방향족 올리고머를 합성하였다.Except that the addition amounts of 4-aminophenol and 4,4-dihydroxybiphenyl were changed to 4.365 g (0.04 mol) and 2.793 g (0.015 mol), respectively, to obtain a thermosetting aromatic oligomer Were synthesized.

제조예 4Production Example 4

4-1. 4-네드이미드 벤조익 애시드4-1. 4-nedimide benzoic acid

1000ml 플라스크에 5-노르보넨-2,3 디카르복실산 무수물 32.83g(0.2 mol)을 빙초산 400ml에 넣고 110℃로 가열하여 용해시킨 후, 과량의 4-아미노벤조산 41.1g (0.3 mol)을 투입하였다. 투입후 2시간 동안 교반하면서 반응시킨 다음 상온에서 침전시켰다. 침전물은 빙초산과 물로 각각 세척 후 60℃의 진공오븐에서 건조시켜 4-네드이미드벤조익 애시드를 제조하였다. 이때 수율은 95%이었다. In a 1000 ml flask, 32.83 g (0.2 mol) of 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride was dissolved in 400 ml of glacial acetic acid and heated to 110 ° C., followed by the addition of an excess amount of 4-aminobenzoic acid Respectively. After the addition, the reaction was carried out with stirring for 2 hours, followed by precipitation at room temperature. The precipitate was washed with glacial acetic acid and water, respectively, and then dried in a vacuum oven at 60 DEG C to prepare 4-nedimide benzoic acid. The yield was 95%.

4-2. 열경화성 방향족 올리고머의 합성4-2. Synthesis of thermosetting aromatic oligomer

응축기(condenser)와 교반기(mechanical stirrer)를 장착한 500ml 플라스크에 이소프탈산 10.798g (0.065 mol), 6-히드록시-2-나프토산 47.948g (0.254 mol), 4-아미노페놀 14.187g (0.130 mol), 아세트산 무수물 58.396g (9.5 mol)을 넣고, 질소 분위기 하에서 140℃까지 서서히 온도를 증가시킨 후, 온도를 유지하며 3시간 동안 반응시켜 아세틸화 반응을 완결하였다. 이어서 상기 제조예 4-1에서 수득한 4-네드이미드벤조익 애시드 36.79g (0.130 mol)를 첨가한 후 반응 부산물인 아세트산과 미반응 아세트산 무수물을 제거하면서, 분당 1~2℃ 속도로 215℃까지 승온시킨 후, 그 온도에서 4시간 동안 반응시켜 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 네드이미드기가 도입된 하기 화학식 10의 열경화성 방향족 올리고머를 수득하였다. To a 500 ml flask equipped with a condenser and a mechanical stirrer were added 10.798 g (0.065 mol) of isophthalic acid, 47.948 g (0.254 mol) of 6-hydroxy-2-naphthoic acid and 14.187 g ) And acetic anhydride (58.396 g, 9.5 mol) were added. The temperature was gradually increased to 140 ° C under a nitrogen atmosphere, and the reaction was continued for 3 hours while maintaining the temperature. Then, 36.79 g (0.130 mol) of 4-nedimide benzoic acid obtained in Production Example 4-1 was added, and the reaction by-products, acetic acid and unreacted acetic anhydride were removed, After the temperature was elevated, the reaction was carried out at that temperature for 4 hours to obtain a thermosetting aromatic oligomer of the following formula (10) wherein a nodimide group was introduced into at least one of both ends of the main chain.

Figure 112008071668235-pat00017
Figure 112008071668235-pat00017

제조예 4-2에서 합성된 열경화성 방향족 올리고머의 말단에 반응성 관능기 도입여부를 조사하기 위해, NMR(Bruker NMR, DPX300)을 사용하여 분석하였다. 사용한 용매는 DMSO d6였다. 도 1에서와 같이, 네드이미드에 의한 peak가 6.2~6.4 범위에 나타나고 있어, 말단에 네드이미드기가 도입되었음을 확인할 수 있었다. In order to investigate the introduction of a reactive functional group to the terminal of the thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 4-2, it was analyzed using NMR (Bruker NMR, DPX300). The solvent used was DMSO d6. As shown in FIG. 1, the peaks due to the nemedimide appeared in the range of 6.2 to 6.4, and it was confirmed that the nemedimide group was introduced at the terminal.

제조예 4-2에서 합성된 열경화성 방향족 올리고머의 반응온도를 DSC(TA Instrument DSC 2010)를 사용하여 측정하여 도 2에 나타내었다. 승온 속도는 320도까지 20도/min이였다. 도 2에서 확인되는 바와 같이, 반응성 관능기에 의한 반응피크가 280도에서 320도에 걸쳐 나타나고 있어 말단에 반응성 관능기가 성공적으로 도입되었음을 알 수 있다. The reaction temperature of the thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 4-2 was measured using DSC (TA Instrument DSC 2010) and is shown in Fig. The rate of temperature rise was 20 degrees / min to 320 degrees. As can be seen in FIG. 2, the reaction peak due to the reactive functional group appears from 280 ° C. to 320 ° C., indicating that the reactive functional group has been successfully introduced to the terminal.

제조예 5Production Example 5

응축기(condenser)와 교반기(mechanical stirrer)를 장착한 500ml 플라스크에 이소프탈산 16.613g (0.1 mol), 6-히드록시-2-나프토산 51.75 (0.276 mol), 4-아미노페놀 16.370g (0.150 mol), 아세트산 무수물 64.572g (0.633 mol)을 넣고, 질소 분위기 하에서 140℃까지 서서히 온도를 증가시킨 후, 온도를 유지하며 3시간 동안 반응시켜 아세틸화 반응을 완결하였다. 이어서 상기 제조예 4-1에서 수득한 4-네드이미드벤조익 애시드 28.3g (0.1 mol)를 첨가한 후 반응 부산물인 아세트산과 미반응 아세트산 무수물을 제거하면서, 분당 1~2℃ 속도로 215℃까지 승온시킨 후, 그 온도에서 4시간 동안 반응시켜 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 네드이미드기가 도입된 열경화성 방향족 올리고머를 수득하였다. In a 500 ml flask equipped with a condenser and a mechanical stirrer, 16.613 g (0.1 mol) of isophthalic acid, 51.75 And 64.572 g (0.633 mol) of acetic anhydride were added to the reaction mixture, and the temperature was gradually increased to 140 ° C under a nitrogen atmosphere. The mixture was reacted for 3 hours while maintaining the temperature, and the acetylation reaction was completed. Then, 28.3 g (0.1 mol) of 4-nedimide benzoic acid obtained in Production Example 4-1 was added, and acetic acid and unreacted acetic anhydride as reaction products were removed. After the temperature was raised, the reaction was carried out at that temperature for 4 hours to obtain a thermosetting aromatic oligomer having a nodimide group introduced into at least one of both ends of the main chain.

제조예 6Production Example 6

응축기(condenser)와 교반기(mechanical stirrer)를 장착한 500ml 플라스크에 이소프탈산 19.936g (0.12 mol), 6-히드록시-2-나프토산 53.142g (0.282 mol), 4-아미노페놀 17.461g (0.160 mol), 아세트산 무수물 67.649g (0.663 mol)을 넣고, 질소 분위기 하에서 140℃까지 서서히 온도를 증가시킨 후, 온도를 유지하며 3시간 동안 반응시켜 아세틸화 반응을 완결하였다. 이어서 상기 제조예 4-1에서 수득한 4-네드이미드벤조익 애시드 22.640g (0.08 mol)를 첨가한 후 반응 부산물인 아세트산과 미반응 아세트산 무수물을 제거하면서, 분당 1~2℃ 속도로 215℃까지 승온시킨 후, 그 온도에서 4시간 동안 반응시켜 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 네드이미드기가 도입된 열경화성 방향족 올리고머를 수득하였다. To a 500 ml flask equipped with a condenser and a mechanical stirrer were added 19.936 g (0.12 mol) of isophthalic acid, 53.142 g (0.282 mol) of 6-hydroxy-2-naphthoic acid and 17.461 g ) And acetic anhydride (67.649 g, 0.663 mol) were slowly added to the mixture at 140 ° C under a nitrogen atmosphere, and the mixture was allowed to react at the temperature for 3 hours to complete the acetylation reaction. Then, 22.640 g (0.08 mol) of 4-nedimide benzoic acid obtained in Production Example 4-1 was added, and the reaction by-products, acetic acid and unreacted acetic anhydride were removed, After the temperature was raised, the reaction was carried out at that temperature for 4 hours to obtain a thermosetting aromatic oligomer having a nodimide group introduced into at least one of both ends of the main chain.

제조예 7. 방향족 고분자의 합성Production Example 7. Synthesis of aromatic polymer

컨덴서 및 스터러(mechanical stirrer)를 장착한 500ml 플라스크에 이소프탈산 8.3g(0.05mol), 6-히드록시-2-나프토익 애시드 18.8g (0.1mol), 4-아미노페놀 5.5g(0.05mol), 초산 무수물 32.7 (0.32mol)을 넣고, 질소 분위기 하에서150도까지 서서히 온도를 증가시킨 후, 온도를 유지하며 4시간 동안 반응시켜 아세틸화 반응을 완결하였다. 이어서 초산과 미반응 초산 무수물을 제거하면서, 300도까지 온도를 높인 후 1시간 동안 반응시켜 방향족 고분자(폴리아미드에스터)를 합성하였다. (0.05 mol) of isophthalic acid, 18.8 g (0.1 mol) of 6-hydroxy-2-naphthoic acid and 5.5 g (0.05 mol) of 4-aminophenol were placed in a 500 ml flask equipped with a stirrer and a mechanical stirrer. , 32.7 (0.32 mol) of acetic anhydride were added, and the temperature was gradually increased to 150 ° C. under a nitrogen atmosphere. The reaction was continued for 4 hours while maintaining the temperature, and the acetylation reaction was completed. Then, while removing the acetic acid and the unreacted acetic anhydride, the temperature was raised to 300 ° C., and the reaction was carried out for 1 hour to synthesize an aromatic polymer (polyamide ester).

실시예 1 Example 1

NMP(N-methyl-2-pyrrolidone )에 제조예 1-3 에서 합성한 열경화성 방향족 올리고머를 각각 넣고 160도에서 NMP에 용해되는지 여부를 육안으로 확인하여 평가하여, 하기 표 1에 나타내었다. 이때, 용해도는 NMP 10g에 1g의 열경화성 방향족 올리고머를 용해시켰을 때, 전혀 용해되지 않는 경우 ×로 평가하였고, 부분적으로 용해되는 경우에는 △로 평가하였으며, 완전히 용해되는 경우에는 ○로 평가하였다. The thermosetting aromatic oligomer prepared in Preparation Example 1-3 was added to NMP (N-methyl-2-pyrrolidone), and whether or not the thermosetting aromatic oligomer was dissolved in NMP at 160 ° C was visually observed and evaluated. In this case, the solubility was evaluated as 1 when the thermosetting aromatic oligomer was dissolved in 10 g of NMP, and when the solution was not dissolved at all, the evaluation was evaluated as X. When the solution was partially dissolved, the evaluation was evaluated as DELTA.

제조예 1Production Example 1 제조예 2Production Example 2 제조예 3Production Example 3 용해도Solubility

 

실시예 2 Example 2

GPC(GPCmax, VISCOTEK)를 사용하여 폴리스티렌을 기준으로 하여, 상기 제조예 4 ~ 6에서 합성된 열경화성 방향족 올리고머 각각의 분자량을 측정하였다. 이때 사용한 용매는 DMF였으며, 그 결과를 하기 표 2에 기재하였다. Using GPC (GPCmax, VISCOTEK), the molecular weights of the thermosetting aromatic oligomers synthesized in Production Examples 4 to 6 were measured on the basis of polystyrene. The solvent used here was DMF, and the results are shown in Table 2 below.

또한, 제조예 4 에서 합성한 열경화성 방향족 올리고머를 NMP에 넣고 60℃로 가열하면서 고형분 함량이 40wt%가 되도록 용해시켜 갈색의 용액을 얻었다. 상기에서 열경화성 방향족 올리고머가 40wt%까지 충분히 용해가 가능하여, 용해도가 매우 우수함을 알 수 있었다.The thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 4 was placed in NMP and dissolved at a solid content of 40 wt% while being heated to 60 캜 to obtain a brown solution. It was found that the thermosetting aromatic oligomer was sufficiently soluble up to 40 wt%, and the solubility was extremely excellent.

또한 상기의 열경화성 방향족 올리고머 용액에 대해 상온에서 점도를 측정한 결과 1500 Cp 로 나타났다. The viscosity of the thermosetting aromatic oligomer solution was measured at room temperature and found to be 1500 Cp.

M n M n M w M w PDI (M w /M n )PDI (M w / M n ) 제조예 4Production Example 4 33293329 39023902 1.171.17 제조예 5Production Example 5 36713671 44064406 1.201.20 제조예 6Production Example 6 41914191 52325232 1.251.25

실시예 3-5 Example 3-5

NMP에 제조예 1-3 에서 합성한 열경화성 방향족 올리고머를 각각 넣고 100℃ 이상에서 용해시켜 기판 형성용 조성물을 제조하였다. 유리판 위에 고정시킨 전해동박 위에 유리섬유를 올려놓고 제조된 조성물을 이용하여 유리섬유 조직에 골고루 함침시켰다. 상온에서 300℃의 온도까지 승온시켜 함침된 시편을 경화시킨 후, 전해동박을 50 중량부의 질산용액에 넣어 제거하고 깨끗한 함침된 유리섬유 시편을 수득하였다. The thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 1-3 was added to NMP and dissolved at 100 ° C or higher to prepare a composition for forming a substrate. Glass fiber was placed on an electrolytic copper foil fixed on a glass plate, and impregnated into the glass fiber structure uniformly using the prepared composition. After elevating the temperature from room temperature to 300 DEG C to cure the impregnated specimen, the electrolytic copper foil was removed by adding 50 parts by weight of nitric acid solution to obtain a clean impregnated glass fiber specimen.

상기에서 수득한 유리섬유 시편에 대하여 각각 유리전이온도(Tg), 열팽창계수(CTE)를 측정하여 하기 표 3에 나타내었다. 시편의 열팽창계수(CTE)는 TA사(Thermomechanical Analyzer, TA Instruments TMA 2940) 제품인 TMA 2940를 사용하여 질소 하에서 측정하였으며, 이때 온도는 5℃/min의 비율로 증가시키면서 측정하였다.The glass transition temperature (Tg) and thermal expansion coefficient (CTE) of the glass fiber specimens obtained above were measured and shown in Table 3 below. The coefficient of thermal expansion (CTE) of the specimen was measured under nitrogen using TMA 2940 manufactured by TA Instruments (Thermomechanical Analyzer, TA Instruments TMA 2940), while increasing the temperature at a rate of 5 ° C / min.

실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 열경화성 발향족 올리고머Thermosetting odorant oligomer 제조예 1
Production Example 1
제조예 2Production Example 2 제조예 3Production Example 3
유리전이온도(℃)Glass transition temperature (캜) -- -- -- 열팽창계수(ppm/℃)Thermal Expansion Coefficient ( ppm / ° C) 3.6353.635 2.8612.861 5.2055.205

 

상기 표 3의 결과를 통해 확인할 수 있는 바와 같이, 가용성 구조단위를 포함하는 기판 형성용 조성물을 이용하여 제조한 기판의 경우 열팽창계수(CTE)가 매우 낮고, 유리전이 온도는 나타나지 않았다. As can be seen from the results of Table 3, the substrate prepared using the composition for forming a substrate containing the soluble structural unit had a very low coefficient of thermal expansion (CTE) and no glass transition temperature.

실시예 6-9Examples 6-9

4-아미노페놀과 4,4-디히드록시비페닐의 사용 몰비를 변화시켜, 가용성 구조단위 (아미노페놀기)의 함량을 하기 표 4에 나타낸 바와 같이 달리한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일한 방법으로 열경화성 방향족 올리고머를 제조하였다. Except that the molar ratio of 4-aminophenol to 4,4-dihydroxybiphenyl was changed and the content of soluble structural unit (aminophenol group) was changed as shown in Table 4 below. A thermosetting aromatic oligomer was prepared in the same manner.

상기에서 제조된 열경화성 방향족 올리고머를 각각 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 기판 형성용 조성물을 제조하고, 열경화성 방향족 올리고머의 용해도를 측정하여 하기 표 4에 나타내었다. The composition for forming a substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thermosetting aromatic oligomer prepared above was used, and the solubility of the thermosetting aromatic oligomer was measured and shown in Table 4 below.

또한, 상기에서 제조된 열경화성 방향족 올리고머를 각각 사용한 것을 제외하고는, 실시예 3과 동일하게 실시하여 유리섬유 시편을 제조하고, 동일한 방법으로 유리전이온도(Tg), 열팽창계수(CTE)를 측정하여 그 결과를 하기 표 4에 함께 나타내었다. The glass transition temperature (Tg) and the thermal expansion coefficient (CTE) were measured in the same manner as in Example 3 except that the thermosetting aromatic oligomer prepared above was used in place of the thermosetting aromatic oligomer The results are shown together in Table 4 below.

  실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 실시예 8Example 8 실시예 9Example 9 가용성 구조단위 함량(몰%)Soluble structural unit content (mol%) 1010 2020 5050 5555 유리전이온도(℃)Glass transition temperature (캜) -- -- -- -
-
열팽창계수(ppm/℃)Thermal Expansion Coefficient ( ppm / ° C) 3.1123.112 3.6553.655 6.7216.721 9.3229.322 용해도Solubility

상기 표 4의 결과를 통해서 확인되는 바와 같이, 본 발명의 구현예들의 기판 형성용 조성물은 열특성(열팽창계수, 유리전이 온도)과 가용성이 우수하다. As can be seen from the results of Table 4, the composition for forming a substrate of the embodiments of the present invention is excellent in thermal characteristics (thermal expansion coefficient, glass transition temperature) and solubility.

실시예 10Example 10

40g의 NMP에 제조예 1에서 수득된 열경화성 방향족 올리고머 3g과 제조예 5에서 제조한 방향족 고분자(poly amide-ester) 7g을 첨가하여 혼합 용액을 제조하였다. 상기의 혼합 용액을 40x40x0.05 (mm) 크기의 유리섬유에 함침시키고 이 시편을 전해 동박 위에 올려 고온 퍼니스에서 상온에서 300도로 올려 두 시간 동안 건조시켰다. 제조된 시편을 50 중량부의 질산용액으로 처리하여 깨끗하게 동박을 제거하여 프리프레그(prepreg)를 수득하였다. 이때 유리섬유 1중량부에 대해 함침한 고분자의 양은 1 중량부였다. 3 g of the thermosetting aromatic oligomer obtained in Preparation Example 1 and 7 g of the polyamide-ester prepared in Preparation Example 5 were added to 40 g of NMP to prepare a mixed solution. The mixed solution was impregnated with 40x40x0.05 (mm) glass fiber, and the specimen was placed on the electrolytic copper foil and dried at a temperature of 300 ° C in a high-temperature furnace for two hours. The prepared specimen was treated with a nitric acid solution of 50 parts by weight to cleanly remove the copper foil to obtain a prepreg. The amount of the polymer impregnated into 1 part by weight of the glass fiber was 1 part by weight.

이렇게 하여 제조된 프리프레그를 열분석기(TMA: Thermomechanical Analyzer, TA Instruments TMA 2940)를 이용하여 유리전이온도 및 열팽창계수를 측정하여, 그 결과를 하기 표 6에 나타내었다.  열팽창계수(CTE)는 질소 하에서 측정하였으며, 이때 온도는 5℃/min의 비율로 증가시키면서 측정하였다.The prepreg thus prepared was measured for glass transition temperature and thermal expansion coefficient using a thermal analyzer (TMA: Thermomechanical Analyzer, TA Instruments TMA 2940). The results are shown in Table 6 below. The coefficient of thermal expansion (CTE) was measured under nitrogen, at which time the temperature was increased at a rate of 5 ° C / min.

또한, 상기에서 수득한 프리프레그에 대해 유연성을 측정하여, 그 결과를 하기 표 6에 나타내었다. 유연성은 기재를 45도 휘었을 때 깨질 경우 ×로 평가하였고, 기재가 90도 휘었을 때 깨질 경우에는 △로 평가하였으며, 기재가 90도 휘었을 때 깨지지 않는 경우에는 ○로 평가하였다. Flexibility was measured for the prepreg obtained above, and the results are shown in Table 6 below. Flexibility was evaluated as x when the substrate was cracked when it was bent at 45 degrees, and when it was cracked when the substrate was warped by 90 degrees, and when it was not cracked when the substrate was warped by 90 degrees.

실시예 11~12Examples 11-12

제조예 1에서 수득된 열경화성 방향족 올리고머 대신 제조예 2 및 3에서 제조된 열경화성 방향족 올리고머 각각을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 10과 동일하게 실시하여 프리프레그를 제조하였다.Prepregs were prepared in the same manner as in Example 10, except that each of the thermosetting aromatic oligomers prepared in Preparation Examples 2 and 3 was used in place of the thermosetting aromatic oligomer obtained in Preparation Example 1.

상기에서 수득한 프리프레그에 대해 실시예 10과 동일한 방법으로 열팽창계수를 측정하여, 그 결과를 하기 표 5에 함께 나타내었다. 또한, 상기에서 수득한 프리프레그의 일부에 대해 실시예 10과 동일한 방법으로 Tg 를 측정하여, 그 결과를 하기 표 5에 함께 나타내었다. The thermal expansion coefficient was measured for the prepreg obtained in the same manner as in Example 10, and the results are shown in Table 5 below. Tg was measured for a part of the prepreg obtained in the same manner as in Example 10, and the results are also shown in Table 5 below.

또한, 상기에서 수득한 프리프레그의 일부에 대해 유연성을 측정하여, 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다. Further, flexibility was measured for a part of the prepreg obtained above, and the results are shown in Table 5 below.

구분    division 실시예 10Example 10 실시예 11Example 11 실시예 12Example 12  열경화성 방향족 올리고머Thermosetting aromatic oligomer 제조예 1 Production Example 1 제조예 2 Production Example 2 제조예 3 Production Example 3 Tg (℃)Tg (占 폚) 244.37244.37 281.80281.80 281.75281.75 CTE (ppm/℃)CTE (ppm / ° C) 7.1697.169 8.4108.410 10.2210.22 유연성flexibility

상기 표 5의 결과를 통해서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 구현예들의 기판 형성용 조성물은 프리프레그 제조시 열특성(유리전이 온도 및 열팽창계수)이 매우 우수할 뿐 아니라, 유연한 특성을 나타낸다.As can be seen from the results of Table 5, the composition for forming a substrate of the embodiments of the present invention exhibits not only excellent thermal properties (glass transition temperature and thermal expansion coefficient) but also flexibility properties in preparing prepregs.

실시예 13Example 13

제조예 1에서 수득된 열경화성 방향족 올리고머 대신 제조예 4에서 제조된 열경화성 방향족 올리고머 각각을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 10과 동일하게 실시하여 프리프레그를 제조하였다.A prepreg was produced in the same manner as in Example 10, except that each of the thermosetting aromatic oligomers prepared in Preparation Example 4 was used in place of the thermosetting aromatic oligomer obtained in Preparation Example 1.

상기에서 수득한 프리프레그들에 대해 실시예 10과 동일한 방법으로 Tg 를 측정한 결과, 280℃ 부근에서 유리전이온도가 나타났다.As a result of measuring Tg in the same manner as in Example 10 for the prepregs obtained above, a glass transition temperature was observed at around 280 ° C.

또한, 제조예 4에서 합성된 열경화성 방향족 올리고머를 사용하여 제조된 프리프레그에 대해 실시예 10과 동일한 방법으로 열팽창계수를 측정한 결과, 11 ppm/℃로 나타났다. The thermal expansion coefficient of the prepreg prepared using the thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 4 was measured in the same manner as in Example 10 and found to be 11 ppm / ° C.

이상에서 본 발명의 바람직한 구현예를 들어 본 발명에 대해서 상세하게 설명하였으나, 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명이 다양하게 변경 또는 변형될 수 있음은 당업자에게 자명하므로, 이러한 모든 변경 및 변형예들도 본 발명의 보호범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the appended claims. Modifications and variations are intended to be included within the scope of the present invention.

도 1은 제조예 4-2에서 합성된 열경화성 방향족 올리고머의 NMR 결과 그래프이다. 1 is a graph showing NMR results of the thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 4-2.

도 2는 제조예 4-2에서 합성된 열경화성 방향족 올리고머의 반응온도를 DSC(TA Instrument DSC 2010)를 사용하여 측정한 결과를 나타낸 그래프이다. 2 is a graph showing the results of measurement of the reaction temperature of the thermosetting aromatic oligomer synthesized in Production Example 4-2 using DSC (TA Instrument DSC 2010).

Claims (27)

용매와 열경화성 방향족 올리고머를 포함하는 기판 형성용 조성물로서, 상기 열경화성 방향족 올리고머는 주쇄에 하나 이상의 하기 화학식 1의 가용성 구조단위와 하기 화학식 4의 메소겐 구조 단위를 갖고, 주쇄의 양 말단 중 하나 이상에 열경화성 그룹을 갖는 기판 형성용 조성물로서, 1. A composition for forming a substrate comprising a solvent and a thermosetting aromatic oligomer, wherein the thermosetting aromatic oligomer has at least one soluble structural unit represented by the following formula (1 ) and a mesogen structural unit represented by the following formula (4) A composition for forming a substrate having a thermosetting group, [화학식 1][Chemical Formula 1]
Figure 112014125062230-pat00031
Figure 112014125062230-pat00031
상기 식에서 Ar은 C4-C30의 아릴기이며; X1 및 Y1은 각각 독립적으로 COO, O, CONR'', NR''' 및 CO로 이루어진 군에서 선택되는 것이며, 여기서 상기 R'' 및 R'''는 각각 독립적으로 수소 원자, C1 내지 C20의 알킬기, 및 C6 내지 C30의 아릴기로 이루어진 군에서 선택되는 것이며, X1 및 Y1 중 적어도 하나 이상은 CONR'' 또는 NR'''이며, Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group; X 1 and Y 1 are each independently selected from the group consisting of COO, O, CONR ", NR '" and CO, wherein R "and R'" each independently represent a hydrogen atom, will be selected from alkyl groups, and C6 to C30 aryl group consisting of C20, at least one of X 1 and Y 1 is CONR '', or NR ''', [화학식 4] [Chemical Formula 4]
Figure 112014125062230-pat00032
Figure 112014125062230-pat00032
상기 식에서 Ar은 C4-C30의 아릴기이며; X2 및 Y2은 각각 독립적으로 COO, O, CONR'', NR''' 및 CO로 이루어진 군에서 선택되는 것이며, 여기서 상기 R'' 및 R'''는 각각 독립적으로 수소 원자, C1 내지 C20의 알킬기, 및 C6 내지 C30의 아릴기로 이루어진 군에서 선택되며, Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group; X 2 and Y 2 are each independently selected from the group consisting of COO, O, CONR ", NR '" and CO, wherein R "and R'" each independently represent a hydrogen atom, C20 alkyl group, and a C6 to C30 aryl group, 상기 열경화성 그룹은 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 및 시아네이트(cyanate)로 이루어진 군으로부터 선택되며, The thermosetting group may be selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene, and cyanate. ≪ / RTI > 상기 가용성 구조단위는 전체 구조단위의 합계에 대하여 5몰% 초과 60 몰% 이하로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 형성용 조성물. Wherein the soluble structural unit is contained in an amount of more than 5 mol% to 60 mol% or less based on the total amount of all the structural units .
제 1 항에 있어서, 상기 가용성 구조단위는 C4-C30 아릴-아민기 또는 C4-C30 아릴-아마이드기를 포함하는 것인 기판 형성용 조성물.The composition of claim 1, wherein the soluble structural unit comprises a C 4 -C 30 aryl-amine group or a C 4 -C 30 aryl-amide group. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 가용성 구조단위는 하기 화학식 2 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위를 포함하는 것인 기판 형성용 조성물. The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the soluble structural unit comprises one or two or more structural units selected from the following structural formula (2). [화학식 2](2)
Figure 112014125062230-pat00019
Figure 112014125062230-pat00019
상기 식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group.
제 4 항에 있어서, 상기 Ar은 하기 화학식 3에서 선택되는 아릴기 또는 이들의 치환체인 것인 기판 형성용 조성물.The composition for forming a substrate according to claim 4, wherein Ar is an aryl group selected from the following general formula (3) or a substituent thereof. [화학식 3](3)
Figure 112008071668235-pat00020
Figure 112008071668235-pat00020
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 화학식 4의 구조단위는 하기 화학식 5 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위를 포함하는 기판 형성용 조성물.The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the structural unit of formula (4) comprises one or two or more structural units selected from the following formula (5). [화학식 5][Chemical Formula 5]
Figure 112014125062230-pat00022
Figure 112014125062230-pat00022
상기 식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. Wherein Ar is a C 4 -C 30 aryl group.
제 8항에 있어서, 상기 Ar은 하기 화학식 3에서 선택되는 것인 기판 형성용 조성물.9. The composition for forming a substrate according to claim 8, wherein Ar is selected from the following formula (3). [화학식 3](3)
Figure 112014125062230-pat00033
Figure 112014125062230-pat00033
제 1 항에 있어서, 상기 열경화성 그룹은 열가교성 반응기인 기판 형성용 조성물. 2. The composition of claim 1, wherein the thermosetting group is a heat-crosslinkable reactor. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 열경화성 방향족 올리고머는 하기 화학식 7 또는 화학식 8의 구조를 갖는 것인 기판 형성용 조성물: The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the thermosetting aromatic oligomer has a structure represented by the following formula (7) or (8): [화학식 7](7)
Figure 112008071668235-pat00024
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[화학식 8] [Chemical Formula 8]
Figure 112008071668235-pat00025
Figure 112008071668235-pat00025
상기 식에서, Z1 및 Z2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸 렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며Wherein Z 1 and Z 2 are the same or different and are each selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalimide, acetylene, propagyl ether, Is selected from the group consisting of benzocyclobutene, cyanate and substituents or derivatives thereof, m은 1 내지 50이고, n은 1 내지 50임.m is from 1 to 50, and n is from 1 to 50;
제 1 항에 있어서, 상기 열경화성 방향족 올리고머의 수평균 분자량은 500 ~ 15,000인 기판 형성용 조성물. The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the thermosetting aromatic oligomer has a number average molecular weight of 500 to 15,000. 제 1 항에 있어서, 상기 용매는 극성 비프로톤성 용매인 것인 기판 형성용 조성물.The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the solvent is a polar aprotic solvent. 제 14 항에 있어서, 상기 극성 비프로톤성 용매는 N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈(NMP), N-메틸카프로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, N,N-디에틸아세트아미드, N-메틸프로피온아미드, 디메틸술폭시드, γ-부틸 락톤, 디메틸이미다졸리디논, 테트라메틸포스포릭 아미드 및 에틸셀로솔브 아세테이트 및 이들 중 2 이상의 혼합 용매로 이루어진 군에서 선택되는 것인 기판 형성용 조성물.15. The method of claim 14, wherein the polar aprotic solvent is selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, N, Ethylformamide, N, N-diethylacetamide, N-methylpropionamide, dimethylsulfoxide, gamma -butyllactone, dimethylimidazolidinone, tetramethylphosphoric amide and ethylcellosolve acetate, And a mixed solvent. 제 1 항에 있어서, 상기 조성물이 용매 100 중량부에 대하여 열경화성 방향족 올리고머 0.1 ~ 300 중량부를 포함하는 것인 기판 형성용 조성물. The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the composition comprises 0.1 to 300 parts by weight of a thermosetting aromatic oligomer relative to 100 parts by weight of a solvent. 제 1 항에 있어서, 상기 조성물이 강인화제를 더 포함하는 것인 기판 형성용 조성물.2. The composition of claim 1, wherein the composition further comprises a toughening agent. 제 17 항에 있어서, 상기 강인화제는 방향족 고분자인 것인 기판 형성용 조성물.18. The composition for forming a substrate according to claim 17, wherein the toughening agent is an aromatic polymer. 제 18항에 있어서, 상기 방향족 고분자의 수평균 분자량은 2,000 ~500,000인 것인 기판 형성용 조성물.The composition for forming a substrate according to claim 18, wherein the aromatic polymer has a number average molecular weight of 2,000 to 500,000. 제 18 항에 있어서, 상기 방향족 고분자는 주쇄에 에스테르, 에스테르-아미드, 에스테르-이미드, 에스테르-에테르, 및 에스테르-카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 메소겐 그룹을 포함하는 것인 기판 형성용 조성물. 19. The method of claim 18, wherein the aromatic polymer comprises at least one mesogen group selected from the group consisting of an ester, an ester-amide, an ester-imide, an ester-ether, and an ester-carbonate in the main chain / RTI > 제 17 항에 있어서, 상기 열경화성 방향족 올리고머 및 강인화제의 혼합비는 중량비로 99.5:0.5 ~ 35: 65인 것인 기판 형성용 조성물.The composition for forming a substrate according to claim 17, wherein the mixing ratio of the thermosetting aromatic oligomer and the toughening agent is 99.5: 0.5 to 35: 65 by weight. 제 1 항에 있어서, 상기 조성물에서 고형분 함량은 전체 조성물 100 중량부에 대해 5 내지 95 중량부인 기판 형성용 조성물. The composition for forming a substrate according to claim 1, wherein the solid content in the composition is 5 to 95 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition. 제1항, 제2항, 제4항, 제5항, 제8항 내지 제10항, 제12항 내지 제22항 중 어느 한 항의 기판 형성용 조성물로부터 제조되는 프리프레그. A prepreg produced from the composition for forming a substrate according to any one of claims 1, 2, 4, 5, 8 to 10, and 12 to 22. 제1항, 제2항, 제4항, 제5항, 제8항 내지 제10항, 제12항 내지 제22항 중 어느 한 항의 기판 형성용 조성물로부터 제조되는 기판. A substrate made from the composition for forming a substrate according to any one of claims 1, 2, 4, 5, 8 to 10, and 12 to 22. 제 24항에 있어서, 상기 기판이 인쇄보드 또는 구리 피복 적층물인 기판.  25. The substrate of claim 24, wherein the substrate is a printed board or a copper clad laminate. 제 25항에 있어서, 상기 기판이 CCL 또는 플렉서블 CCL인 기판. 26. The substrate of claim 25, wherein the substrate is a CCL or a flexible CCL. 하기 화학식 6으로 표시되는 열경화성 방향족 올리고머로서:A thermosetting aromatic oligomer represented by the following formula (6): [화학식 6][Chemical Formula 6]
Figure 112014125062230-pat00026
Figure 112014125062230-pat00026
상기 식에서, R1은 하기 하기 화학식 2 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위이며; R2는 하기 화학식 5 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 구조단위이며; Z1 및 Z2 는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소, 할로겐, 히드록시기, 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 시아네이트(cyanate) 및 이들의 치환체 또는 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되며, Z1 및 Z2 중 하나 이상은 말레이미드(maleimide), 네드이미드(nadimide), 프탈이미드(phthalimide), 아세틸렌(acetylene), 프로파질 에테르(propagyl ether), 벤조시클로부텐(benzocyclobutene), 및 시아네이트(cyanate)로 이루어진 군으로부터 선택되며; n과 m은 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이며; Wherein R < 1 > is one or two or more structural units selected from the following formula (2); R 2 is one or two or more structural units selected from the following general formula (5); Z 1 and Z 2 are the same or different from each other and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a maleimide group, a nadimide group, a phthalimide group, an acetylene group, a propyl ether group, Benzocyclobutene, cyanate and substituents or derivatives thereof, and at least one of Z 1 and Z 2 is selected from the group consisting of maleimide, nadimide, phthalimide, selected from the group consisting of phthalimide, acetylene, propagyl ether, benzocyclobutene, and cyanate; n and m are each independently an integer of 1 to 50; [화학식 2](2)
Figure 112014125062230-pat00027
Figure 112014125062230-pat00027
상기 화학식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. In the above formula, Ar is a C 4 -C 30 aryl group. [화학식 5][Chemical Formula 5]
Figure 112014125062230-pat00028
Figure 112014125062230-pat00028
상기 화학식에서, Ar은 C4-C30의 아릴기임. In the above formula, Ar is a C 4 -C 30 aryl group. 상기 화학식 2의 가용성 구조단위는 전체 구조단위의 합계에 대하여 5몰% 초과 60 몰% 이하로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 열경화성 방향족 올리고머. Wherein the soluble structural unit of Formula 2 is contained in an amount of more than 5 mol% to 60 mol% or less based on the total amount of all the structural units .
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