KR101766282B1 - Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same - Google Patents

Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same Download PDF

Info

Publication number
KR101766282B1
KR101766282B1 KR1020160109819A KR20160109819A KR101766282B1 KR 101766282 B1 KR101766282 B1 KR 101766282B1 KR 1020160109819 A KR1020160109819 A KR 1020160109819A KR 20160109819 A KR20160109819 A KR 20160109819A KR 101766282 B1 KR101766282 B1 KR 101766282B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
specimen
unit
specimen holder
shaft
etching
Prior art date
Application number
KR1020160109819A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정연대
탁영준
Original Assignee
주식회사 포스코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 포스코 filed Critical 주식회사 포스코
Priority to KR1020160109819A priority Critical patent/KR101766282B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101766282B1 publication Critical patent/KR101766282B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/02—Etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/02—Etching
    • C25F3/06—Etching of iron or steel

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

The present invention disclose a specimen holder where a specimen is able to reciprocate in one direction by a flow of an electrolyte during electrolytic etching; and an electrolytic etching device including the same. According to an embodiment of the present invention, the specimen holder comprises: a specimen mounting unit to support the specimen; and a guide rail to guide one-directional movement of the specimen placing unit, wherein the specimen holder is able to perform a reciprocating motion or a pendulum motion around the shaft. In addition, the electrolytic etching device in accordance with an embodiment of the present invention is able to control the reciprocating motion of the specimen to be uniform by a flow generation device, a sensor unit, and a control unit; thereby shortening an etching time and obtaining an etching result of a uniform quality.

Description

시편 거치대 및 이를 포함하는 전해 에칭 장치{SPECIMEN HOLDER AND ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS INCLUDING THE SAME}Technical Field [0001] The present invention relates to a specimen holder, and an electrolytic etching apparatus including the same.

본 발명은 시편 거치대 및 이를 포함하는 전해 에칭 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 전해액 유동에 의해 시편 거치대가 일 방향으로 왕복 운동이 가능하도록 함으로써 보다 빠르고 균일한 에칭이 가능한 시편 거치대 및 전해 에칭 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a specimen holder and an electrolytic etching apparatus including the same, and more particularly, to a specimen holder and an electrolytic etching apparatus capable of performing faster and uniform etching by allowing a specimen holder to reciprocate in one direction by an electrolyte flow .

일반적으로, 철 및 비철합금 등의 금속재료의 미세조직을 관찰할 때는 에칭 처리를 하고 있는데, 스테인리스강과 같이 부식이 용이하지 않은 금속은 일반적인 화학 에칭법을 사용할 수 없으므로 미세 조직의 분석을 위해 전기화학반응을 이용한 전해 에칭 장치를 주로 사용한다. 즉, 처리조에 반응용액을 저장한 상태로, 에칭 대상 금속에 전류를 부여하여, 에칭 대상 금속에서 해리된 철 이온과의 반응을 분석하여 에칭 대상 금속의 메시 조직의 분석을 실시한다.In general, etching is performed to observe the microstructure of a metal material such as iron and a non-ferrous alloy. Since a metal which is not easily corrodible, such as stainless steel, can not use a general chemical etching method, An electrolytic etching apparatus using a reaction is mainly used. That is, in the state in which the reaction solution is stored in the treatment tank, current is applied to the metal to be etched and the reaction with the dissociated iron ions is analyzed in the metal to be etched to analyze the mesh structure of the metal to be etched.

종전의 전해 에칭으로 금속의 조직을 현출하는 방법으로는, 도 1에 도시된 바와 같이 전해액을 에칭조(50)에 채우고 음극 전극봉(62a)를 삽입 후 양극 전극(61a)을 시편(10)에 접촉시켜 전해액에 담군다. 전류를 인가하면 전기화학반응이 일어나 금속 표면층을 부식시켜 금속의 조직을 현출할 수 있게 된다. 이 과정에서 에칭 대상 금속의 해리된 철 이온으로 인해 혼탁한 용액이 발생하여 에칭 정도의 파악이 어려운 문제점과 시간이 다소 소요되고 간헐적으로 에칭이 고르게 되지 않는 경우가 발생하는 문제점이 있었다.As shown in Fig. 1, an electrolytic solution is filled in an etching bath 50 and a cathode electrode rod 62a is inserted. Then, an anode electrode 61a is placed on the test piece 10 Contacted and immersed in an electrolytic solution. When an electric current is applied, an electrochemical reaction occurs and the metal surface layer can be corroded, so that the metal structure can be exposed. In this process, a turbid solution is generated due to the dissociated iron ions of the metal to be etched, so that it is difficult to grasp the degree of etching, and it takes a long time and the etching may not be performed intermittently.

한국 공개특허공보 제10-2011-0140968호 (2011.12.23.)Korean Patent Laid-Open No. 10-2011-0140968 (December 23, 2011)

본 발명은 전해 에칭 중 전해액의 유동에 의해 시편을 움직일 수 있게 하여 에칭 시간을 단축하고 에칭 품질이 균일한 시편 거치대 및 전해 에칭 장치를 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a specimen holder and an electrolytic etching apparatus capable of moving a specimen by flow of an electrolytic solution during electrolytic etching to shorten the etching time and uniform the etching quality.

본 발명의 일 실시예에 따른 처리조에 설치되는 시편 거치대는, 상기 시편을 지지하는 시편 거치 유닛;과, 상기 시편 거치 유닛의 일 방향 이동을 가이드 하는 가이드레일;을 포함할 수 있고, 상기 시편 거치 유닛은 하부 면이 볼록한 곡면으로 마련되어 일 방향으로 왕복 운동할 수 있다.The specimen holder may include a specimen holder for supporting the specimen and a guide rail for guiding movement of the specimen holder in one direction, The unit is provided with a curved surface whose lower surface is convex, and can reciprocate in one direction.

또한, 상기 가이드레일은 상기 시편 거치 유닛의 양 측면에 평행하게 배치될 수 있다.In addition, the guide rails may be disposed parallel to both sides of the specimen placing unit.

또한, 상기 시편 거치 유닛은 상기 가이드레일과 평행하게 일 방향으로 오뚝이 왕복 운동할 수 있다.In addition, the specimen placing unit may reciprocate in one direction in parallel with the guide rails.

또한, 상기 시편 거치 유닛은 양 측면에 축이 형성되고, 상기 축은 한 쌍의 상기 가이드레일에 형성되는 축 가이드 홈과 결합되며, 상기 축 가이드 홈을 따라 오뚝이 왕복 운동할 수 있다.In addition, the specimen holder unit may have a shaft on both sides thereof, the shaft may be coupled with a shaft guide groove formed in the pair of guide rails, and the shaft may reciprocate along the shaft guide groove.

또한, 상기 시편 거치 유닛은 상부 면에 상기 시편의 하부를 수용하는 시편 거치부가 형성될 수 있다.In addition, the specimen placing unit may have a specimen placing portion for receiving a lower portion of the specimen on an upper surface thereof.

또한, 상기 시편의 상부에 설치되고, 전류가 인가되는 시편 덮개부;를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a specimen cover provided on the specimen and to which a current is applied.

또한, 상기 시편 덮개부는 하부에 상기 시편의 상부를 수용하는 수용부가 형성될 수 있다.In addition, the accommodating portion for accommodating the upper portion of the specimen may be formed on the lower portion of the specimen cover.

또한, 상기 시편 거치부의 볼록한 곡면 전방 또는 후방에 설치되어 상기 시편 거치부의 전복을 방지하는 하나 이상의 스토퍼;를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include at least one stopper disposed at a front side or a rear side of the convex curved surface of the specimen holder to prevent rollover of the specimen holder.

또한, 상기 시편 거치 유닛은 축을 중심으로 진자 운동할 수 있다.In addition, the specimen placing unit can perform pendulum movement about an axis.

또한, 상기 시편 거치 유닛은 양 측면에 축이 형성되고, 상기 축은 한 쌍의 상기 가이드레일에 형성되는 축 수용 홈과 결합되며, 상기 축을 중심으로 진자 운동할 수 있다.In addition, the specimen holder unit may have a shaft on both sides thereof, the shaft may be coupled with a shaft receiving groove formed in a pair of the guide rails, and may be pivotally moved about the shaft.

본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치는 시편의 에칭을 위한 전해액을 수용하는 에칭조; 상기 에칭조에 수용되고, 상기 시편을 지지하는 시편 거치 유닛; 상기 시편의 상부에 설치되고, 전류가 인가되는 양극 시편 덮개부; 상기 시편 거치 유닛의 일 방향 이동을 가이드하는 가이드레일; 및 상기 시편과 떨어져 설치되는 음극 전극판;을 포함하고, 상기 시편 거치 유닛은 하부 면이 볼록한 곡면으로 마련되어 일 방향으로 왕복 운동할 수 있다.An electrolytic etching apparatus according to an embodiment of the present invention includes an etching bath for receiving an electrolyte solution for etching a specimen; A specimen placing unit housed in the etching bath and supporting the specimen; A cathode specimen cover provided on the specimen and to which a current is applied; A guide rail for guiding one direction movement of the specimen placing unit; And a cathode electrode plate spaced apart from the specimen, wherein the specimen holder unit is provided with a curved surface having a convex lower surface and reciprocating in one direction.

또한, 상기 시편 거치 유닛은 한 쌍의 상기 가이드레일과 결합하는 축을 중심으로 상기 가이드레일과 평행하게 일 방향으로 왕복 운동할 수 있다.In addition, the specimen placing unit may reciprocate in one direction parallel to the guide rails about a shaft engaged with the pair of guide rails.

또한, 상기 에칭조의 일 측에 설치되어 상기 전해액의 유동을 발생시키는 유동 발생 장치;를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a flow generating device installed at one side of the etching bath to generate a flow of the electrolytic solution.

또한, 상기 시편 거치 유닛의 회전 정도를 감지하는 센서부;와, 상기 센서부로부터 신호를 받아 상기 유동 발생 장치의 구동을 제어하는 제어부;를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a sensor unit for sensing a degree of rotation of the specimen placing unit, and a control unit for receiving a signal from the sensor unit and controlling driving of the flow generating apparatus.

또한, 상기 센서부는 상기 시편 거치 유닛 또는 상기 시편의 회전 정도에 관한 신호를 상기 제어부에 전달하고, 상기 제어부는 상기 센서부의 신호가 기준값의 하한에 미달하는 경우에 상기 유동 발생 장치를 동작시키고, 상기 센서부의 신호가 기준값의 상한을 초과하는 경우에 상기 유동 발생 장치의 동작을 중단시킬 수 있다.The sensor unit may transmit a signal regarding the degree of rotation of the specimen holder or the specimen to the controller, and the controller may operate the flow generator when the signal of the sensor unit is lower than the lower limit of the reference value, The operation of the flow generating device can be stopped when the signal of the sensor part exceeds the upper limit of the reference value.

본 발명의 실시예에 따른 시편 거치대는 자체 구동력 없이 전해액의 유동에 따라 시편을 흔드는 효과를 나타낼 수 있다.The specimen holder according to the embodiment of the present invention can exhibit the effect of shaking the specimen according to the flow of the electrolyte without its own driving force.

본 발명의 실시예에 따른 전해 에칭 장치는 전해액의 유동에 따라 시편이 움직일 수 있어 전기화학반응을 촉진시켜 에칭 시간을 단축할 수 있으며, 균일한 에칭이 가능하여 에칭 품질을 향상시킬 수 있다.The electrolytic etching apparatus according to the embodiment of the present invention can move the specimen according to the flow of the electrolytic solution, thereby facilitating the electrochemical reaction and shortening the etching time, and uniform etching can be performed to improve the etching quality.

또한, 전해 에칭 장치를 병렬로 연결하는 경우 다수의 금속 시편의 조직을 빠르게 현출함으로써 분석 효율을 높일 수 있다.In addition, when the electrolytic etching apparatuses are connected in parallel, the structure of a large number of metal specimens can be rapidly developed, thereby improving the analysis efficiency.

도 1은 종래 전해 에칭 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 시편 거치대의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 3은 시편 거치 유닛의 축과 가이드레일의 축 가이드 홈의 결합을 나타내는 도면이다.
도 4는 시편 거치대의 스토퍼를 나타내는 도면이다.
도 5는 시편 거치 유닛의 축과 가이드레일의 축 수용 홈의 결합을 나타내는 도면이다.
도 6는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 7은 유동 발생 장치의 작동원리를 나타내는 제어 순서도이다.
도 8은 병렬 연결된 전해 에칭 장치를 나타내는 개략도이다.1 is a perspective view showing a conventional electrolytic etching apparatus.
2 is a schematic view showing the configuration of a specimen holder according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing the coupling of the shaft of the specimen-holding unit and the shaft guide groove of the guide rail.
4 is a view showing a stopper of the specimen holder.
5 is a view showing the coupling of the shaft of the specimen-holding unit and the shaft receiving groove of the guide rail.
6 is a schematic view showing a configuration of an electrolytic etching apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a control flowchart showing the operation principle of the flow generation device.
8 is a schematic view showing a parallel-connected electrolytic etching apparatus.

이하에서는 본 발명의 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하의 실시 예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 충분히 전달하기 위해 제시하는 것이다. 본 발명은 여기서 제시한 실시 예만으로 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 도면은 본 발명을 명확히 하기 위해 설명과 관계 없는 부분의 도시를 생략하고, 이해를 돕기 위해 구성요소의 크기를 다소 과장하여 표현할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following embodiments are provided to fully convey the spirit of the present invention to a person having ordinary skill in the art to which the present invention belongs. The present invention is not limited to the embodiments shown herein but may be embodied in other forms. For the sake of clarity, the drawings are not drawn to scale, and the size of the elements may be slightly exaggerated to facilitate understanding.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 시편 거치대(100)의 구성을 나타내는 개략도이다.2 is a schematic view showing the configuration of a specimen holder 100 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 시편 거치대(100)는 시편(10)을 지지하는 시편 거치 유닛(20)과, 시편 거치 유닛(20)의 일 방향 이동을 가이드하는 가이드레일(30)을 포함할 수 있다. 상기 시편 거치 유닛(20)은 하부 면이 볼록한 곡면(21)으로 마련되어 일 방향으로 왕복 운동할 수 있다.2, a specimen holder 100 according to an embodiment of the present invention includes a specimen holder 20 for holding a specimen 10, a guide rail for guiding one direction movement of the specimen holder 20, (30). The specimen placing unit 20 is provided with a curved surface 21 whose lower surface is convex, and can reciprocate in one direction.

가이드레일(30)은 시편 거치 유닛(20)이 왕복 운동하는 일 방향을 기준으로 양 측에 한 쌍(31, 32)이 평행하게 배치되며, 처리조 등의 바닥 면에 고정되어 설치될 수 있다. 이 때, 시편 거치 유닛(20)이 왕복 운동하며 측면으로 전도되거나 다른 시편과의 접촉을 방지하도록 충분히 가까이 설치될 수 있으나, 시편 거치 유닛(20)과의 마찰 방지를 위해 서로 접촉하지 않을 정도의 간격을 유지할 수 있다.The pair of guide rails 30 are arranged on both sides in parallel with one direction of the reciprocation of the specimen placing unit 20 and can be fixed to the bottom surface of the treatment tank or the like . At this time, the specimen holder unit 20 may reciprocate and be installed sufficiently close to prevent side contact or contact with other specimens. However, the specimen holder unit 20 must be sufficiently close to prevent contact with the specimen holder unit 20 The interval can be maintained.

시편 거치 유닛(20)은 평행하게 배치된 상기 한 쌍의 가이드레일(31, 32) 사이에 위치하여, 일 방향으로 오뚝이 왕복 운동을 할 수 있다. 오뚝이 운동이란 중력의 원리를 이용하며, 하부의 질량을 크게 하여 무게중심을 아래쪽에 둠으로써 직립 시의 위치 에너지가 극소점에 해당하고, 운동 에너지 없이 운동을 시작한 물체가 극소점의 위치에너지를 따라 진동 운동하는 것을 말한다. 본 발명의 시편 거치 유닛(20)은 하부 면을 일 방향의 곡면(21)으로 마련하여, 일 방향으로의 오뚝이 왕복 운동이 가능하도록 설계되었다. 따라서 시편 거치 유닛(20)은 작은 힘에도 전도되지 않고 일 방향으로 오뚝이 운동을 할 수 있다. 또한, 시편 거치 유닛(20)은 시편(10)을 지지할 수 있도록 상부 면에 시편 거치부(22)가 형성될 수 있다. 시편 거치부(22)는 시편(10)을 수용할 수 있도록 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The specimen placing unit 20 is positioned between the pair of guide rails 31 and 32 arranged in parallel, and can reciprocate in one direction. By using the principle of gravity and increasing the mass of the lower part by placing the center of gravity at the lower side, the position energy at the upright position corresponds to the minimum point, and the object which starts the motion without kinetic energy moves along the position energy of the minimum point Vibrating motion. The specimen placing unit 20 of the present invention is designed such that the lower surface thereof is provided with a curved surface 21 in one direction so that the tumbler can reciprocate in one direction. Therefore, the specimen-placing unit 20 can move in one direction without being transmitted to a small force. In addition, the specimen placing unit 20 may be formed with a specimen placing portion 22 on its upper surface so as to support the specimen 10. The specimen mounting portion 22 may be formed in various shapes to accommodate the specimen 10.

예를 들어, 시편(10)의 하부를 수용할 수 있도록 시편 거치 유닛(20)의 상부 면에 홈 형상으로 마련될 수 있으며, 이 경우 시편(10)의 크기에 따라 다양한 형상 또는 깊이의 홈이 마련될 수 있다. 일반적으로 200 X 300 mm 크기 이하의 시편이 사용되나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 시편(10)의 크기에 따라 다양하게 설계될 수 있다. 다른 예로, 시편 거치부(22)는 시편(10)을 지지할 수 있는 수용 돌기 또는 클램프의 형태로 형성될 수 있다. 상기 수용 돌기는 시편(10)의 크기에 따라 시편 거치 유닛(20)의 상부 면의 적절한 위치에 마련될 수 있으며, 상기 클램프 또한 시편(10)을 지지하기 위해 필요한 개수로 마련될 수 있다.For example, a groove may be formed on the upper surface of the specimen holder 20 so as to accommodate the lower portion of the specimen 10. In this case, grooves of various shapes or depths may be formed depending on the size of the specimen 10 . Generally, a specimen having a size of 200 X 300 mm or less is used, but the present invention is not limited thereto and can be variously designed according to the size of the specimen 10. As another example, the specimen mounting portion 22 may be formed in the form of a receiving protrusion or a clamp capable of supporting the specimen 10. The receiving protrusions may be provided at appropriate positions on the upper surface of the specimen mounting unit 20 according to the size of the specimen 10 and the clamps may be provided in the required number to support the specimen 10.

도면에는 시편 거치부(22)가 시편(10)의 하부를 수용하는 홈 형상으로 도시되었으나, 이에 한정되지 않으며 상술한 바와 같이 시편(10)을 거치할 수 있는 다양한 형상으로 마련될 수 있다.Although the specimen mounting portion 22 is shown in the form of a groove for receiving the lower portion of the specimen 10 in the figure, it is not limited thereto and may be provided in various shapes for mounting the specimen 10 as described above.

전해 에칭에 사용되는 시편(10)은 예를 들어 철, 비철 합금 또는 스테인리스강 등의 금속 시편일 수 있으며, 상기 예시에 한정되지 않고 통상의 화학 에칭 또는 전해 에칭이 가능한 시편이라면 어떤 것이든 무방하다.The test piece 10 used for electrolytic etching may be, for example, a metal specimen such as an iron, a non-ferrous alloy, or stainless steel, and is not limited to the above example but may be any specimen that can be subjected to ordinary chemical etching or electrolytic etching .

본 발명의 일 실시예에 따른 시편 거치대(100)는 시편(10)의 상부에 설치되고 전류가 인가되는 시편 덮개부(60)를 더 포함할 수 있다. 시편 덮개부(60)는 시편(10)의 상부를 덮어 시편(10)을 고정할 뿐 아니라 시편 거치대(100)의 상부에 무게를 더하여 오뚝이 왕복 운동이 효율적으로 이루어질 수 있도록 한다.The specimen holder 100 according to an embodiment of the present invention may further include a specimen cover 60 mounted on the specimen 10 and to which a current is applied. The specimen cover 60 covers the upper portion of the specimen 10 to fix the specimen 10 and weight the upper part of the specimen holder 100 so that the back and forth movements can be efficiently performed.

시편 덮개부(60)는 시편(10)의 상부를 수용할 수 있도록 하부 면에 수용부(미도시)가 형성될 수 있다. 상기 수용부(미도시)는 시편(10)의 상부와 접촉하여 고정되도록 다양한 형상으로 형성될 수 있다. The specimen cover 60 may be formed with a receiving portion (not shown) on the lower surface thereof to receive the upper portion of the specimen 10. The receiving portion (not shown) may be formed in various shapes so as to be held in contact with the upper portion of the test piece 10.

예를 들어, 상기 수용부(미도시)는 시편(10)의 상부를 수용할 수 있도록 시편 덮개부(60)의 하부 면에 홈 형상으로 마련될 수 있으며, 이 경우 시편(10)의 크기에 따라 다양한 형상 또는 깊이로 마련되어 시편(10)의 상부와 요철(凹凸)로 결합될 수 있다. 일반적으로 200 X 300 mm 크기 이하의 시편이 사용되나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 시편의 크기에 따라 다양하게 설계될 수 있다. 다른 예로, 상기 수용부(미도시)는 시편(10)과 접촉하여 결합할 수 있는 수용 돌기 또는 클램프 형태로 형성될 수 있다. 상기 수용 돌기는 시편(10)의 크기에 따라 시편 덮개부(60)의 하부 면의 적절한 위치에 마련될 수 있으며, 상기 클램프 또한 시편(10)을 지지하기 위해 필요한 개수로 마련될 수 있다.For example, the receiving portion (not shown) may be provided in a groove shape on the lower surface of the specimen cover 60 so as to accommodate the upper portion of the specimen 10. In this case, And may be coupled to the upper surface of the test piece 10 in a concavo-convex shape. Generally, a specimen having a size of 200 X 300 mm or less is used, but the present invention is not limited thereto, and various sizes can be designed according to the size of the specimen. As another example, the receiving portion (not shown) may be formed in the form of a receiving projection or a clamp capable of engaging with the specimen 10 in contact therewith. The receiving protrusions may be provided at appropriate positions on the lower surface of the specimen cover 60 according to the size of the specimen 10 and the clamps may also be provided in the required number to support the specimen 10.

시편 덮개부(60)의 하부의 수용부(미도시)는 시편의 형상에 따라 시편 거치 유닛(20) 상부 면의 시편 거치부(22)와 대응하도록 마련될 수 있다.The receiving portion (not shown) of the lower portion of the sample cover 60 may be provided to correspond to the sample mounting portion 22 on the upper surface of the sample mounting unit 20 according to the shape of the sample.

또한, 시편 덮개부(60)에는 후술할 전해 에칭 장치(200)에서 시편(10)에 전류를 인가하도록 양극 전극 케이블이 연결될 수 있다.The anode electrode cable may be connected to the specimen cover 60 to apply a current to the specimen 10 in the electrolytic etching apparatus 200 to be described later.

도 3은 시편 거치 유닛(20)의 축(40)과 가이드레일(30)의 축 가이드 홈(42)의 결합을 나타내는 도면이다.3 is a view showing the coupling between the shaft 40 of the specimen-holding unit 20 and the shaft guide groove 42 of the guide rail 30. As shown in Fig.

도 3을 참조하면, 시편 거치 유닛(20)의 양 측면에 축(40)이 형성될 수 있으며, 상기 축은 한 쌍의 가이드레일(30)에 형성되는 축 가이드 홈(42)과 결합되어, 시편 거치 유닛(20)은 상기 축 가이드 홈(42)을 따라 오뚝이 왕복 운동할 수 있다.3, an axis 40 can be formed on both sides of the specimen holder unit 20 and the shaft is engaged with a shaft guide groove 42 formed in the pair of guide rails 30, The stationary unit 20 can reciprocate along the shaft guide grooves 42.

상기 축(40)이 형성되는 위치는 시편 거치 유닛(20) 양 측면이며, 측면의 가로 너비의 중간 지점에 형성될 수 있고, 축의 높이는 가이드레일(30)의 높이와 축 가이드 홈(42)의 위치에 따라 적절한 높이로 형성될 수 있다. 상기 축(40)은 도면에는 원기둥 형상으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않으며, 축 가이드 홈(42)과의 결합을 이루도록 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 상기 축 가이드 홈(42)은 시편 거치 유닛(20)의 오뚝이 운동에 의해 축(40)이 이동하는 이동경로를 따라 홈이 형성될 수 있으며, 축(40)과의 마찰을 줄여 원활한 오뚝이 운동이 가능하도록 축(40)의 지름보다 넓게 형성될 수 있다.The position of the shaft 40 is formed on both sides of the specimen holder unit 20 and may be formed at a midpoint between the widths of the sides of the specimen holder unit 20. The height of the shaft is determined by the height of the guide rails 30, And may be formed at an appropriate height depending on the position. Although the shaft 40 is shown in the form of a cylinder in the drawing, the shaft 40 is not limited thereto, and may be formed in various shapes to engage with the shaft guide groove 42. The shaft guide groove 42 can be formed with a groove along the movement path in which the shaft 40 moves due to the shaking motion of the specimen holder unit 20 and the friction with the shaft 40 is reduced, The diameter of the shaft 40 may be larger than the diameter of the shaft 40.

상기 축(40)과 축 가이드 홈(42)의 결합을 통해 시편 거치 유닛(20)은 전해액 유동에 의한 전복이나 밀림의 우려 없이 안정적으로 오뚝이 왕복 운동할 수 있다.Through the engagement of the shaft 40 and the shaft guide groove 42, the specimen placing unit 20 can stably reciprocate without fear of overturning or bending due to the flow of the electrolyte solution.

본 발명의 일 실시예에 따른 시편 거치대(100)의 시편 거치 유닛(20)은 하부의 볼록한 곡면(21) 전방 또는 후방에 설치되어 시편 거치 유닛(20)의 전복을 방지하는 하나 이상의 스토퍼(23)를 더 포함할 수 있다.The specimen placing unit 20 of the specimen holder 100 according to the embodiment of the present invention may be provided at the front or rear side of the convex curved surface 21 of the lower portion to prevent the specimen holder 20 from being rolled over by one or more stoppers 23 ).

도 4를 참조하면, 시편 거치 유닛(20)의 곡면(21) 전방 또는 후방에 스토퍼(23)가 배치되어 오뚝이 왕복 운동 시 전복을 방지할 수 있다. 에칭액 또는 전해액의 유동이 강한 경우 시편 거치 유닛(20)이 큰 각도로 오뚝이 운동하게 되고, 스토퍼(23)를 배치함으로써 전방 또는 후방으로의 전복을 방지할 수 있다. 또한, 일 방향으로의 유동에서는 시편 거치 유닛(20)의 유동 방향으로의 밀림을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 4, a stopper 23 is disposed in front of or behind the curved surface 21 of the specimen-holding unit 20 to prevent rollover during reciprocation. When the flow of the etching liquid or the electrolytic solution is strong, the specimen placing unit 20 moves with a large angle, and the stopper 23 can be disposed to prevent the forward or backward rollover. Further, in the flow in one direction, it is possible to prevent the sample holding unit 20 from being pushed in the flow direction.

도 5는 시편 거치 유닛(20)의 축(40)과 가이드레일의 축 수용 홈(41)의 결합을 도시한다.5 shows the engagement of the shaft 40 of the specimen-holding unit 20 with the shaft receiving groove 41 of the guide rail.

도 5을 참조하면, 시편 거치 유닛(20)의 양 측면에 축(40)이 형성될 수 있으며, 상기 축(40)은 한 쌍의 가이드레일(30)에 형성되는 축 수용 홈(41)에 거치되어, 시편 거치 유닛(20)은 상기 축 수용 홈(41)을 따라 진자 운동할 수 있다.5, the shaft 40 may be formed on both sides of the specimen-holding unit 20, and the shaft 40 may be formed in the shaft receiving groove 41 formed in the pair of guide rails 30 So that the specimen holder unit 20 can pendulously move along the shaft receiving groove 41. [

진자 운동이란, 중력의 영향 하에서 한 점에 고정되어 운동하며, 가운데로 향할수록 점점 빨라지고 양 끝으로 향할수록 점점 느려지는 왕복 운동을 말한다. 본원발명에서는 한 쌍의 가이드레일(30)에 형성되는 축 수용 홈(41)에 거치된 시편 거치 유닛(20)의 축(40)을 기준으로 하여, 고정된 축을 중심으로 시편 거치 유닛(20) 하부의 무게중심이 진자 운동을 하게 된다. 이 경우 시편 거치 유닛(20)의 진자 운동이 원활하도록, 시편 거치대(100)의 무게중심은 시편 거치 유닛(20) 양 측면의 축(40)의 높이보다 낮게 위치할 수 있고, 시편 거치 유닛(20)의 하부 곡면(21)은 바닥과 닿지 않을 수 있다.Pendulum movement is a movement that is fixed at one point under the influence of gravity, and it is a reciprocating motion that gradually gets faster as it goes toward the center and slows down as it goes toward both ends. In the present invention, the specimen placing unit 20 is rotated about a fixed axis with respect to the axis 40 of the specimen placing unit 20, which is placed in the axial receiving groove 41 formed in the pair of guide rails 30, The center of gravity of the lower part makes pendulum motion. In this case, the center of gravity of the specimen holder 100 may be positioned lower than the height of the shaft 40 on both sides of the specimen holder unit 20 so that the pendulum movement of the specimen holder unit 20 is smooth, 20 may not touch the bottom.

상기 축(40)이 형성되는 위치는 시편 거치 유닛(20) 양 측면이며, 측면의 가로 너비의 중간 지점에 형성될 수 있고, 축의 높이는 시편 거치 유닛(20), 시편(10) 및 시편 덮개부(60)의 총 무게에 대한 무게중심보다 높게 형성될 수 있다. 상기 축(40)은 도면에는 원기둥 형상으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않으며, 축 수용 홈(41)과의 결합을 이루도록 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 상기 축 수용 홈(41)은 도면과 달리 가이드레일(30) 상부 면에 돌출되어 형성될 수 있으며, 상기 축(40)의 형상에 따라 결합 가능한 다양한 형상으로 마련될 수 있음은 물론이다. 또한, 축(40)과의 마찰을 줄여 원활한 진자 운동이 가능하도록 축 수용 홈(41)은 축(40)의 지름보다 넓게 형성될 수 있다.The position at which the shaft 40 is formed can be formed at both sides of the specimen holder unit 20 and at the midpoint of the lateral width of the side and the height of the shaft can be measured by the specimen holder 20, May be formed higher than the center of gravity with respect to the total weight of the body 60. Although the shaft 40 is shown in the form of a cylinder in the drawing, the shaft 40 is not limited thereto, and may be formed in various shapes to engage with the shaft receiving groove 41. The shaft receiving grooves 41 may protrude from the upper surface of the guide rail 30 and may be formed in various shapes that can be coupled with the shaft 40 according to the shape of the shaft 40. [ In addition, the shaft receiving groove 41 may be formed to be wider than the diameter of the shaft 40 so that friction with the shaft 40 can be reduced and smooth pendulum movement can be performed.

상기 축(40)과 축 수용 홈(41)의 결합을 통해 시편 거치 유닛(20)은 전해액 유동에 의해 안정적으로 진자 운동할 수 있다.Through the engagement of the shaft 40 and the shaft receiving groove 41, the specimen holder unit 20 can stably perform the pendulum movement by the electrolyte flow.

도 6는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치의 구성을 도시한다.6 shows a configuration of an electrolytic etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치(200)는, 시편(10)의 에칭을 위한 전해액을 수용하는 에칭조(50)와, 에칭조(50)에 수용되고 시편(10)을 지지하는 시편 거치 유닛(20)과, 시편(10)의 상부에 설치되고 전류가 인가되는 양극 시편 덮개부(61)와, 시편 거치 유닛(20)의 일 방향 이동을 가이드하는 가이드레일(30)과, 시편(10)과 떨어져 설치되는 음극 전극판(62)을 포함할 수 있으며, 시편 거치 유닛(20)은 하부 면이 볼록한 곡면(21)으로 마련되어 일 방향으로 왕복 운동할 수 있다.Referring to FIG. 6, an electrolytic etching apparatus 200 according to an embodiment of the present invention includes an etching bath 50 for receiving an electrolyte solution for etching a specimen 10, A specimen clamping unit 20 for holding the specimen 10 and a specimen clamping unit 20 for clamping the specimen 10 and applying a current to the specimen clamping unit 20, The specimen clamping unit 20 may include a rail 30 and a cathode electrode plate 62 spaced apart from the specimen 10. The specimen clamping unit 20 may be provided with a curved surface 21 having a convex lower surface, have.

에칭조(50)에는 상기 시편 거치대(100)가 수용되며, 시편(10)이 모두 잠겨 에칭될 수 있을 정도의 전해액이 채워질 수 있다. 전해액은 시편에 따라 조성을 달리할 수 있으며, 본 발명에서는 메탄올 89%, 아세틸아세톤 10%, 테트라메틸암모늄클로라이드 1% 조성의 AA용액을 사용하였다.The etch bath 50 accommodates the specimen holder 100 and may be filled with electrolyte to such an extent that the specimen 10 can be all immersed and etched. In the present invention, an AA solution having a composition of 89% methanol, 10% acetylacetone, and 1% tetramethylammonium chloride was used as the electrolytic solution.

에칭조(50)의 바닥 면에는 한 쌍의 가이드레일(30)이 시편 거치 유닛(20)의 일 방향 왕복 운동을 가이드하도록 시편 거치 유닛(20)의 양 측면에 평행하게 배치되며, 가이드레일(30)은 에칭조(50)의 바닥 면에 고정될 수 있다.A pair of guide rails 30 are disposed on the bottom surface of the etching tank 50 so as to be parallel to both sides of the specimen holder unit 20 so as to guide reciprocating movement of the specimen holder unit 20 in one direction, 30 may be fixed to the bottom surface of the etching bath 50.

양극 시편 덮개부(61)는 하부 면에 수용부(미도시)가 형성되어 시편(10)의 상부와 요철(凹凸)로 결합될 수 있으며, 시편(10)에 전류가 인가되도록 양극 전극 케이블이 연결될 수 있다. 음극 전극판(62)은 음극 전극 케이블이 연결되어 시편(10) 및 시편 거치 유닛(20)과 떨어져 설치될 수 있고, 바람직하게는 시편(10)과 최대한 가까이 평행하게 설치될 수 있다. 또한 양극 시편 덮개부(61)와 음극 전극판(62)에 인가되는 전류는 전원 인가부에 의해 공급될 수 있다. 전원 인가부는 별도의 전원 공급장치를 이용하여 전원을 인가하는 것도 가능하고, 후술하는 제어부(90)에 포함되어 전원을 인가하는 것도 가능하다.The anode specimen cover 61 may have an accommodating portion (not shown) formed on the lower surface thereof and may be coupled to the upper portion of the specimen 10 in a concavo-convex manner. Can be connected. The cathode electrode plate 62 may be installed apart from the specimen 10 and the specimen holder unit 20 by being connected to the cathode electrode cable, and may preferably be installed as close as possible to the specimen 10. The current applied to the anode specimen cover 61 and the cathode electrode plate 62 may be supplied by the power application unit. The power applying unit may be powered by a separate power supply, or may be included in the control unit 90 to be described later.

시편 거치 유닛(20)은 양 측면에 평행하게 고정 배치된 한 쌍의 가이드레일(30) 사이에 위치하여 일 방향으로 운동할 수 있으며, 이는 일 방향으로의 오뚝이 왕복 운동 또는 진자 운동일 수 있다. 또한 상술한 시편 거치대(100)와 같이 시편 거치 유닛(20)은 가이드레일(30)과 축(40)으로 결합되어, 축(40)을 중심으로 오뚝이 왕복 운동 또는 진자 운동할 수 있다. 가이드레일(30)과의 축(40) 결합 형태는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양하게 마련될 수 있다.The specimen placing unit 20 is positioned between a pair of guide rails 30 fixedly arranged on both sides and can move in one direction, which may be a reciprocating movement or a pendulum movement in one direction. The specimen placing unit 20 may be coupled to the guide rail 30 and the shaft 40 as in the case of the specimen holder 100 described above so that the stirrups can reciprocate or pivot about the shaft 40. The shape of coupling the shaft 40 with the guide rail 30 may be variously formed by those skilled in the art.

도 6를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치(200)는 에칭조(50)의 일 측에 설치되어 전해액의 유동을 발생시키는 유동 발생 장치(70)를 더 포함할 수 있다. 유동 발생 장치(70)는 시편 거치 유닛(20)이 운동하는 방향으로 전해액의 유동을 발생시킬 수 있도록, 가이드레일(30)과 수직한 에칭조(50)의 일 측면에 설치될 수 있다. 유동 발생 장치(70)는 효율적인 전해액 유동을 위해 에칭조(50)의 상기 일 측면의 2/3 높이에 설치되는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 6, the electrolytic etching apparatus 200 according to an embodiment of the present invention may further include a flow generating device 70 installed at one side of the etching tank 50 to generate a flow of an electrolytic solution . The flow generating device 70 may be installed on one side of the etching tank 50 perpendicular to the guide rail 30 so as to generate a flow of electrolyte in the direction in which the specimen holder 20 moves. The flow generating device 70 is preferably installed at 2/3 of the one side of the etch bath 50 for efficient electrolyte flow.

유동 발생 장치(70)는 전해액의 유동을 발생시킬 수 있는 것이라면 어떤 것이라도 가능하며, 일 예로 스크류 장치일 수 있다. 유동 발생 장치(70)에 의해 발생된 전해액의 유동은 시편 거치대(100)가 가이드레일(30)과 평행한 일 방향으로 오뚝이 왕복 운동 또는 진자 운동을 가능하도록 한다. 즉, 시편 거치대(100)는 자체 구동력 없이 전해액의 유동에 의해 운동하게 되므로, 유동 발생 장치(70)의 구동을 제어함으로써 일정한 각도의 왕복 운동이 가능할 수 있다. The flow generating device 70 may be any device capable of generating the flow of the electrolytic solution, and may be, for example, a screw device. The flow of the electrolytic solution generated by the flow generating device 70 allows the specimen holder 100 to reciprocate or pendulum move in one direction parallel to the guide rail 30. That is, since the specimen holder 100 is moved by the flow of the electrolyte without its own driving force, it is possible to make a reciprocating motion at a constant angle by controlling the driving of the flow generator 70.

시편 거치대(100)의 왕복 운동을 제어하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치(200)는 시편 거치 유닛(20)의 회전 정도를 감지하는 센서부(80)와, 센서부(80)로부터 신호를 받아 유동 발생 장치(70)의 구동을 제어하는 제어부(90)를 더 포함할 수 있다.The electrolytic etching apparatus 200 according to an embodiment of the present invention includes a sensor unit 80 for sensing the degree of rotation of the specimen holder unit 20, 80) for controlling the operation of the flow generation device (70).

센서부(80)는 시편 거치 유닛(20)의 회전 정도를 감지하기 위하여, 에칭조(50)의 바닥 면 또는 가이드레일(30)에 부착되어 시편 거치 유닛(20)과의 거리를 측정할 수 있으며, 또는 축(40)에 고정 부착되어 축(40)과 함께 회전할 수 있다. 축(40)에 부착되는 센서의 예로는 엔코더(Encoder) 또는 포텐쇼미터(Potentiometer)가 있다. 그 밖에, 시편 거치 유닛(20)의 회전 정도를 감지할 수 있는 센서라면 어떠한 것이라도 무방하다.The sensor unit 80 may be attached to the bottom surface of the etching tank 50 or the guide rail 30 to measure the distance from the specimen holder 20 in order to sense the degree of rotation of the specimen holder unit 20. [ Or may be fixedly attached to the shaft 40 and rotated together with the shaft 40. An example of a sensor attached to the shaft 40 is an encoder or a potentiometer. In addition, any sensor may be used as long as it can detect the degree of rotation of the specimen placing unit 20. [

도 7에 도시된 바와 같이, 제어부(90)는 센서부(80)로부터 시편 거치 유닛(20)의 회전 정도에 관한 신호를 받아 유동 발생 장치(70)의 구동을 제어할 수 있다. 제어부(90)는 에칭조(50) 외부 또는 유동 발생 장치(70)와 함께 설치될 수 있으며, 센서부(80)로부터의 신호는 유선 또는 무선으로 전달될 수 있다. 제어부(90)는 전달된 신호를 통하여 시편 거치 유닛(20)의 회전 정도, 즉 회전 각도가 기준값의 하한에 미달하는 경우, 유동 발생 장치(70)를 동작시킬 수 있다. As shown in FIG. 7, the control unit 90 receives a signal from the sensor unit 80 regarding the degree of rotation of the specimen holder unit 20, and can control driving of the flow generator 70. The control unit 90 may be installed outside the etching tank 50 or with the flow generating device 70, and the signal from the sensor unit 80 may be transmitted by wire or wirelessly. The control unit 90 can operate the flow generating device 70 when the degree of rotation of the specimen handling unit 20, that is, the degree of rotation is less than the lower limit of the reference value, through the transmitted signal.

반대로, 유동 발생 장치(70)의 동작 중 센서부(80)로부터 전달된 신호가 기준값의 상한을 초과하는 경우, 제어부(90)는 유동 발생 장치(70)의 동작을 중단시킬 수 있다. 이러한 회전축(40)의 회전 각도에 대한 기준값은 범위를 지정하여 설정될 수 있으며, 시편(10)의 크기 또는 무게에 따라 다르게 설정될 수 있다.Conversely, when the signal transmitted from the sensor unit 80 exceeds the upper limit of the reference value during the operation of the flow generating device 70, the controller 90 may stop the operation of the flow generating device 70. The reference value for the rotation angle of the rotary shaft 40 may be set by designating a range and may be set differently depending on the size or the weight of the specimen 10.

이처럼 본 발명에 따른 전해 에칭 장치(200)는 전해 에칭 시 전해액의 유동으로 시편(10)이 일 방향 오뚝이 왕복 운동 또는 진자 운동이 가능하여, 전기화학반응을 촉진되어 에칭 시간을 단축할 수 있으며, 균일한 표면 조직을 현출하여 에칭 품질을 향상시킬 수 있다.As described above, in the electrolytic etching apparatus 200 according to the present invention, the test piece 10 can be reciprocated in one direction or pendulum motion due to the flow of electrolytic solution during electrolytic etching, thereby facilitating the electrochemical reaction and shortening the etching time, Uniform surface texture can be obtained and the etching quality can be improved.

도 8은 병렬 연결된 전해 에칭 장치(300)를 나타내는 개략도이다.Fig. 8 is a schematic view showing a parallel-connected electrolytic etching apparatus 300. Fig.

본 발명의 일 실시예에 따른 전해 에칭 장치(200)는 복수 개가 병렬로 연결되어 동시에 다수의 시편을 에칭할 수 있다. 병렬 연결 전해 에칭 장치(300)는 동일한 시편(10)들을 상이한 환경에서 에칭하여 현출된 조직을 분석할 수 있고, 또는 상이한 시편(10)들을 동일한 환경에서 에칭하여 현출된 조직을 분석 비교할 수 있다.A plurality of electrolytic etching apparatuses 200 according to an embodiment of the present invention may be connected in parallel to simultaneously etch a plurality of specimens. The parallel connected electrolytic etching apparatus 300 can analyze the exposed tissue by etching the same specimens 10 in different environments or can analyze and compare the exposed tissue by etching the different specimens 10 in the same environment.

병렬 연결 전해 에칭 장치(300)의 복수 개의 에칭조(50)에 설치된 각각의 센서부(80)는 하나의 제어부(90)로 각 시편 거치 유닛(20)의 회전 정도에 관한 신호를 전달할 수 있고, 제어부(90)는 상기 신호들을 개별적으로 처리하여 각 에칭조(50)의 일 측에 설치된 유동 발생 장치(70)의 구동을 제어할 수 있다. 즉, 하나의 제어부(90)로 각 에칭조(50) 내의 시편 거치유닛(20)들이 동일한 회전 정도를 유지하여 동일한 에칭 환경을 조성할 수 있다.Each of the sensor units 80 provided in the plurality of etching tanks 50 of the parallel connection electrolytic etching apparatus 300 can transmit a signal concerning the degree of rotation of each specimen placing unit 20 to one control unit 90 , The control unit 90 can individually process the signals to control the operation of the flow generation device 70 installed on one side of each etching bath 50. In other words, the single control unit 90 can maintain the same degree of rotation of the specimen holder units 20 in each etching tank 50 to create the same etching environment.

상술한 바에 있어서, 본 발명의 예시적인 실시예들을 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 다음에 기재하는 청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변경 및 변형이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited thereto. Those skilled in the art will recognize that other embodiments may occur to those skilled in the art without departing from the scope and spirit of the following claims. It will be understood that various changes and modifications may be made.

10: 시편 20: 시편 거치 유닛
30: 가이드레일 40: 축
50: 에칭조 60: 시편 덮개부
61: 양극 시편 덮개부 62: 음극 전극판
70: 유동 발생 장치 80: 센서부
90: 제어부 100: 시편 거치대
200: 전해 에칭 장치 300: 병렬 연결 전해 에칭 장치10: Piece 20: Specimen mounting unit
30: Guide rail 40: Axle
50: etching bath 60: specimen cover part
61: anode specimen cover part 62: cathode electrode plate
70: Flow generating device 80: Sensor part
90: control unit 100: specimen holder
200: electrolytic etching apparatus 300: parallel connection electrolytic etching apparatus

Claims (15)

처리조에 설치되어 시편을 거치하는 시편 거치대에 있어서,
상기 시편을 지지하는 시편 거치 유닛;과,
상기 시편 거치 유닛의 일 방향 이동을 가이드 하는 가이드레일;을 포함하고,
상기 시편 거치 유닛은 상기 처리조 내의 상기 일 방향으로의 전해액의 유동에 의해 왕복 운동할 수 있도록 하부 면이 볼록한 곡면으로 마련되는 시편 거치대.In a specimen holder installed in a treatment tank for holding a specimen,
A specimen placing unit for supporting the specimen;
And a guide rail for guiding one direction movement of the specimen placing unit,
Wherein the specimen placing unit is provided with a convex curved lower surface so as to reciprocate by the flow of the electrolytic solution in the one direction in the treatment tank. 제1항에 있어서,
상기 가이드레일은 상기 시편 거치 유닛의 양 측면에 평행하게 배치되는 시편 거치대.The method according to claim 1,
Wherein the guide rails are disposed parallel to both sides of the specimen placing unit. 제1항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛은 상기 가이드레일과 평행하게 일 방향으로 오뚝이 왕복 운동하는 시편 거치대.The method according to claim 1,
Wherein the specimen holder unit reciprocates in one direction in parallel with the guide rails. 제3항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛은 양 측면에 축이 형성되고,
상기 축은 한 쌍의 상기 가이드레일에 형성되는 축 가이드 홈과 결합되며,
상기 축 가이드 홈을 따라 오뚝이 왕복 운동하는 시편 거치대.The method of claim 3,
The specimen holder unit is provided with shafts on both sides thereof,
The shaft is engaged with a shaft guide groove formed in the pair of guide rails,
A specimen holder which reciprocates along the shaft guide groove. 제1항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛은 상부 면에 상기 시편의 하부를 수용하는 시편 거치부가 형성되는 시편 거치대.The method according to claim 1,
Wherein the specimen holder unit has a specimen holder for receiving a lower portion of the specimen on an upper surface thereof. 제1항에 있어서,
상기 시편의 상부에 설치되고, 전류가 인가되는 시편 덮개부;를 더 포함하는 시편 거치대.The method according to claim 1,
And a specimen cover provided on the specimen and to which a current is applied. 제6항에 있어서,
상기 시편 덮개부는 하부에 상기 시편의 상부를 수용하는 수용부가 형성되는 시편 거치대.The method according to claim 6,
And a receiving portion for receiving an upper portion of the specimen is formed at a lower portion of the specimen cover. 제1항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛의 볼록한 곡면 전방 또는 후방에 설치되어 상기 시편 거치 유닛의 전복을 방지하는 하나 이상의 스토퍼;를 더 포함하는 시편 거치대.The method according to claim 1,
Further comprising: at least one stopper installed at a front or rear side of the convex curved surface of the specimen holder unit to prevent rollover of the specimen holder unit. 제1항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛은 축을 중심으로 진자 운동하는 시편 거치대.The method according to claim 1,
Wherein the specimen holder unit is pivotally moved about an axis. 제9항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛은 양 측면에 축이 형성되고,
상기 축은 한 쌍의 상기 가이드레일에 형성되는 축 수용 홈과 결합되며,
상기 축을 중심으로 진자 운동하는 시편 거치대.10. The method of claim 9,
The specimen holder unit is provided with shafts on both sides thereof,
Wherein the shaft is engaged with a shaft receiving groove formed in the pair of guide rails,
A specimen holder that pendulum moves around the axis. 시편의 에칭을 위한 전해액을 수용하는 에칭조;
상기 에칭조에 수용되고, 상기 시편을 지지하는 시편 거치 유닛;
상기 시편의 상부에 설치되고, 전류가 인가되는 양극 시편 덮개부;
상기 시편 거치 유닛의 일 방향 이동을 가이드하는 가이드레일;
상기 시편과 떨어져 설치되는 음극 전극판; 및
상기 에칭조의 일 측에 설치되어 상기 전해액의 유동을 발생시키는 유동 발생 장치를 포함하고,
상기 시편 거치 유닛은 상기 유동에 의해 왕복 운동할 수 있도록 하부 면이 볼록한 곡면으로 마련되는 전해 에칭 장치.An etching bath for receiving an electrolyte solution for etching the specimen;
A specimen placing unit housed in the etching bath and supporting the specimen;
A cathode specimen cover provided on the specimen and to which a current is applied;
A guide rail for guiding one direction movement of the specimen placing unit;
A negative electrode plate installed apart from the specimen; And
And a flow generating device installed on one side of the etching tank to generate a flow of the electrolytic solution,
Wherein the specimen placing unit is provided with a curved surface having a convex lower surface so as to reciprocate by the flow. 제11항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛은 한 쌍의 상기 가이드레일과 결합하는 축을 중심으로 상기 가이드레일과 평행하게 일 방향으로 왕복 운동하는 전해 에칭 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the specimen placing unit reciprocates in one direction parallel to the guide rails about an axis that engages with the pair of guide rails. 삭제delete 제11항에 있어서,
상기 시편 거치 유닛의 회전 정도를 감지하는 센서부;와,
상기 센서부로부터 신호를 받아 상기 유동 발생 장치의 구동을 제어하는 제어부;를 더 포함하는 전해 에칭 장치.12. The method of claim 11,
A sensor unit for detecting a degree of rotation of the specimen placing unit,
And a control unit receiving a signal from the sensor unit and controlling driving of the flow generation device. 제14항에 있어서,
상기 센서부는 상기 시편 거치 유닛 또는 상기 시편의 회전 정도에 관한 신호를 상기 제어부에 전달하고,
상기 제어부는 상기 센서부의 신호가 기준값의 하한에 미달하는 경우에 상기 유동 발생 장치를 동작시키고,
상기 센서부의 신호가 기준값의 상한을 초과하는 경우에 상기 유동 발생 장치의 동작을 중단시키는 전해 에칭 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the sensor unit transmits a signal regarding the degree of rotation of the specimen holder unit or the specimen to the controller,
Wherein the control unit operates the flow generating device when the signal of the sensor unit is lower than the lower limit of the reference value,
And stops the operation of the flow generating device when the signal of the sensor portion exceeds the upper limit of the reference value.
KR1020160109819A 2016-08-29 2016-08-29 Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same KR101766282B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160109819A KR101766282B1 (en) 2016-08-29 2016-08-29 Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160109819A KR101766282B1 (en) 2016-08-29 2016-08-29 Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101766282B1 true KR101766282B1 (en) 2017-08-24

Family

ID=59758385

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160109819A KR101766282B1 (en) 2016-08-29 2016-08-29 Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101766282B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210002892U (en) * 2020-06-17 2021-12-24 두산중공업 주식회사 Multi-terminal jig for electrolytic etching test

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101182267B1 (en) 2010-07-12 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 Cleaning device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101182267B1 (en) 2010-07-12 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 Cleaning device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210002892U (en) * 2020-06-17 2021-12-24 두산중공업 주식회사 Multi-terminal jig for electrolytic etching test
KR200496071Y1 (en) * 2020-06-17 2022-10-26 두산에너빌리티 (주) Multi-terminal jig for electrolytic etching test

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Park et al. Scanning microsensors for measurement of local pH distributions at the microscale
Bastos et al. Localised measurements of pH and dissolved oxygen as complements to SVET in the investigation of corrosion at defects in coated aluminum alloy
KR101766282B1 (en) Specimen holder and electrolytic etching apparatus including the same
CN102721616A (en) Electroosmosis shear apparatus
CN105699158A (en) Electrolytic etching device and test system for cutting residual stress distribution test
CN106226167A (en) A kind of measurement becomes the assay device of test button anti-hydrogen embrittlement performance under the conditions of prestressing force
JP5083825B2 (en) Plasma discharge device in liquid
JP2007270320A (en) Polarization curve measurement method and electrolytic treatment apparatus
Chin An experimental study of mass transfer on a rotating spherical electrode
Dastafkan et al. Operando monitoring of gas bubble evolution in water electrolysis by single high-frequency impedance
KR20130036535A (en) Hydrogen treating device for analysis of hydrogen brittleness of steel member
Baś et al. Rapid pretreatment of a solid silver electrode for routine analytical practice
JP2019164020A (en) Liquid film thickness measuring device
CN207163535U (en) Novel water level measuring instrument and novel water level measuring apparatus
KR20160142358A (en) Transfer membrane holder, and separation transfer device
JP3799965B2 (en) Electrode reaction state evaluation cell
KR20110113964A (en) High speed electro-pickling simulator
JP2014055827A (en) Permeation speed measuring device, and sample holding tool used for the same
CN213590324U (en) Material chemistry preparation sampling analysis device
JP7028087B2 (en) Polarization measuring device and polarization measuring method
JP6112617B2 (en) Black skin evaluation method for steel
KR20040055987A (en) Apparatus for elecrto-chemical etching with adjustable rod
CN110208177B (en) Electrochemical experimental device
JP2010065289A (en) Polarization curve measurement apparatus and polarization curve measurement method
CN104931569A (en) Thin-layer cyclic voltammetry method for detecting continuous multi-step electron transfer on liquid-liquid interface

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant