KR101764613B1 - Deposition mask - Google Patents

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Abstract

본 발명은 복수의 개구부들이 형성된 마스크 시트(100), 상기 마스크 시트(100)의 가장자리 저면을 따라서 용접되는 제1마스크 프레임(200), 및 CFRP 재질 또는 Ti합금 재질을 가지며, 상기 제1마스크 프레임(200)의 저면에 결합되는 제2마스크 프레임(300)을 포함하는 증착 마스크가 제공함으로써 경량이면서 구조적 강도가 큰 재질을 가지는 제2마스크 프레임의 조합에 의하여 자중이 현저하게 감소되어 이송이 편리하며 제조가 용이하다.The present invention provides a mask frame having a mask sheet (100) having a plurality of openings formed therein, a first mask frame (200) welded along a bottom edge of the mask sheet (100), and a CFRP material or a Ti alloy material, And the second mask frame 300 coupled to the bottom surface of the substrate 200, the weight of the second mask frame is reduced by the combination of the second mask frame having a light weight and high structural strength, It is easy to manufacture.

Description

증착 마스크 {Deposition mask}Deposition mask

본 발명은 증착 마스크에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기전계 발광 표시장치의 제조에 사용되는 증착 마스크에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition mask, and more particularly, to a deposition mask used for manufacturing an organic light emitting display.

전계 발광 소자는 자발광 표시 소자로, 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점이 있어 차세대 표시 소자로 주목을 받고 있다.The electroluminescent device is a self-luminous display device, and has a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed, and is attracting attention as a next generation display device.

이러한 전계 발광 소자는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 전계 발광 소자와 유기 전계 발광 소자로 구분되는데, 유기 전계 발광 소자는 무기 전계 발광 소자에 비해 휘도 및 응답속도 등의 특성이 우수하고, 컬러디스플레이가 가능하다는 장점이 있어 최근 그 개발이 활발하게 진행되고 있다.The electroluminescent device is divided into an inorganic electroluminescent device and an organic electroluminescent device depending on the material forming the light emitting layer. The organic electroluminescent device is excellent in characteristics such as brightness and response speed as compared with an inorganic electroluminescent device, The development is being actively carried out in recent years because it has the merit of being possible.

유기 전계 발광 소자를 이용한 표시 장치 등은 다양한 증착 공정을 거쳐서 제조된다. 일부의 제조 단계에서 증착 마스크가 사용된다. 증착 마스크는 마스크 프레임과 마스크 시트를 포함한다.Display devices using organic electroluminescent devices are manufactured through various deposition processes. A deposition mask is used in some manufacturing steps. The deposition mask includes a mask frame and a mask sheet.

종래의 증착 마스크로서 한국 공개특허 제2012-0105292호가 있다.Korean Patent Publication No. 2012-0105292 discloses a conventional deposition mask.

한편 유기 전계 발광 소자를 이용한 표시 장치가 대형화되면서 이의 제조를 위한 증착 마스크 또한 대형화됨에 따라 다음과 같은 문제점들이 있다.On the other hand, as a display device using an organic electroluminescent device becomes larger and a deposition mask for manufacturing the same becomes larger, there are the following problems.

첫째, 증착 마스크의 자중이 증가하여 공정챔버는 물론 증착 공정을 위한 시스템 내에서의 이송이 어려운 문제점이 있다.First, since the self-weight of the deposition mask increases, it is difficult to transfer the deposition chamber in the system for the deposition process as well as the process chamber.

둘째, 자중 증가에 따른 처짐을 방지하기 위하여 고강도의 프레임을 사용하는 경우 프레임 및 시트 간의 용접이 어려우며 자중 증가에 따른 이송의 어려움을 야기하는 문제점이 있다.Second, when a high-strength frame is used to prevent deflection due to an increase in self-weight, welding between the frame and the seat is difficult, resulting in difficulty in transportation due to an increase in weight.

본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 자중이 현저하게 감소되어 이송이 편리하며 제조가 용이한 증착 마스크 및 증착 마스크의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a deposition mask and a manufacturing method of a deposition mask which are remarkably reduced in self weight and are easy to transport and easy to manufacture.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 복수의 개구부들이 형성된 마스크 시트(100), 상기 마스크 시트(100)의 가장자리 저면을 따라서 용접되는 제1마스크 프레임(200), 및 CFRP 재질 또는 Ti합금 재질을 가지며, 상기 제1마스크 프레임(200)의 저면에 결합되는 제2마스크 프레임(300)을 포함하는 증착 마스크가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma display apparatus including a mask sheet having a plurality of openings formed therein, a first mask frame 200 welded along a bottom edge of the mask sheet, and a CFRP material or a Ti alloy material And a second mask frame (300) coupled to the bottom surface of the first mask frame (200).

상기 제1마스크 프레임(200) 및 상기 제2마스크 프레임(300)이 접하는 면은 단차가 형성될 수 있다.The surface of the first mask frame 200 and the second mask frame 300 that are in contact with each other may be stepped.

상기 제1마스크 프레임(200) 및 상기 제2마스크 프레임(300)은, 접착물질에 의한 접착 및 볼트에 의한 결합 중 적어도 어느 하나에 결합될 수 있다.The first mask frame 200 and the second mask frame 300 may be bonded to at least one of bonding by an adhesive material and bonding by a bolt.

상기 제1마스크 프레임(200) 및 상기 제2마스크 프레임(300) 사이에는 티타늄, 티타늄합금, 알루미늄, 알루미늄합금, 인바, 및 SUS 중 어느 하나로 이루어진 금속시트(240)가 설치될 수 있다.A metal sheet 240 made of any one of titanium, titanium alloy, aluminum, aluminum alloy, invar, and SUS may be provided between the first mask frame 200 and the second mask frame 300.

상기 금속시트(240)는, 상기 제2마스크 프레임(300)에 접착된 후 상기 제1마스크 프레임(200)와 볼팅결합 또는 용접결합될 수 있다.The metal sheet 240 may be bolted or welded to the first mask frame 200 after being adhered to the second mask frame 300.

상기 금속시트(240)는, 상기 제2마스크 프레임(300)에 접착된 후 상기 제1마스크 프레임(200)와 볼팅결합 또는 용접결합될 수 있다.The metal sheet 240 may be bolted or welded to the first mask frame 200 after being adhered to the second mask frame 300.

상기 제1마스크 프레임(200)은 상기 제2마스크 프레임(300)에 접착되는 티타늄, 티타늄합금, 알루미늄, 알루미늄합금, 인바, 및 SUS 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.The first mask frame 200 may be made of any one of titanium, titanium alloy, aluminum, aluminum alloy, Invar, and SUS, which are bonded to the second mask frame 300.

본 발명에 따른 증착 마스크는 마스크 시트의 지지 및 결합을 위한 마스크 프레임의 구성에 있어서 마스크 시트와 동일 재질 또는 유사한 재질을 가지는 제1마스크 프레임에 경량이면서 구조적 강도가 큰 재질을 가지는 제2마스크 프레임의 조합에 의하여 자중이 현저하게 감소되어 이송이 편리하며 제조가 용이하다.A deposition mask according to the present invention is a mask frame for supporting and coupling a mask sheet. The mask frame has a first mask frame having the same material as or similar material to the mask sheet, a second mask frame having a lightweight, Due to the combination, its own weight is significantly reduced, making it easy to transport and easy to manufacture.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 증착 마스크의 평면도,
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ방향에서 본 단면도,
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 증착 마스크를 보여주는 단면도,
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 증착 마스크를 보여주는 단면도,
도 5는 본 발명의 제4실시예에 따른 증착 마스크를 보여주는 단면도,
도 6a 내지 도 6c는 본 발명에 따른 증착 마스크 제조방법을 보여주는 단면도들이다.1 is a plan view of a deposition mask according to a first embodiment of the present invention,
Fig. 2 is a sectional view taken along a line II-II in Fig. 1,
3 is a sectional view showing a deposition mask according to a second embodiment of the present invention,
4 is a sectional view showing a deposition mask according to a third embodiment of the present invention,
5 is a cross-sectional view showing a deposition mask according to a fourth embodiment of the present invention,
6A to 6C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a deposition mask according to the present invention.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 증착 마스크의 평면도, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ방향에서 본 단면도,도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 증착 마스크를 보여주는 단면도, 도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 증착 마스크를 보여주는 단면도, 도 5는 본 발명의 제4실시예에 따른 증착 마스크를 보여주는 단면도, 도 6a 내지 도 6c는 본 발명에 따른 증착 마스크 제조방법을 보여주는 단면도들이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view of a deposition mask according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG. 1, FIG. 3 is a sectional view showing a deposition mask according to a second embodiment of the present invention, 4 is a cross-sectional view showing a deposition mask according to a third embodiment of the present invention, FIG. 5 is a cross-sectional view showing a deposition mask according to a fourth embodiment of the present invention, and FIGS. 6A to 6C show a method of manufacturing a deposition mask according to the present invention Fig.

도시된 바에 의하면, 본 발명에 따른 증착마스크는 마스크 시트(100), 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)을 포함한다.The deposition mask according to the present invention includes a mask sheet 100, a first mask frame 200, and a second mask frame 300.

마스크 시트(100)는 기판표면에 밀착되어 미리 설계된 증착막을 형성하는 구성이다.The mask sheet 100 is a structure that is closely attached to the substrate surface to form a vapor-deposited film designed in advance.

예를 들면, 기판표면에 형성되는 증착막은 유기 전계 발광 소자를 이루기 위한 유기막, 무기막, 금속막이 될 수 있으며, 이를 위하여 마스크 시트(100)는 미리 설계된 각 소자들에 대응되는 등 다양한 패턴으로 복수의 개구부(110)들이 관통형성될 수 있다.For example, the deposition film formed on the substrate surface may be an organic film, an inorganic film, or a metal film for forming an organic electroluminescent device. For this purpose, the mask sheet 100 may be formed in various patterns A plurality of openings 110 may be formed through.

마스크 시트(100)의 재질은 SUS, 인바(invar) 등 다양한 재질을 가질 수 있다.The material of the mask sheet 100 may have various materials such as SUS, invar, and the like.

제1마스크 프레임(200)은 마스크 시트(100)의 가장자리 저면을 따라서 용접됨으로써 마스크 시트(100)를 지지고정하기 위한 구성이다.The first mask frame 200 is configured to support and fix the mask sheet 100 by being welded along the bottom edge of the mask sheet 100.

제1마스크 프레임(200)은 마스크 시트(100)와 용접에 의하여 결합되어 마스크 시트(100)를 지지할 수 있으면 어떠한 구성도 가능하며 상면이 마스크 시트(100)와 연속된 면을 이루기 위하여 마스크 시트(100)의 두께를 고려한 단차가 형성될 수 있다.The first mask frame 200 may be of any configuration as long as it is welded to the mask sheet 100 so as to support the mask sheet 100, A step may be formed in consideration of the thickness of the substrate 100.

또한 제1마스크 프레임(200)은 마스크 시트(100)의 저면이 용접되는 부분에서 내측으로 가면서 그 두께가 감소되는 경사면(220)이 형성될 수 있다.In addition, the first mask frame 200 may be formed with an inclined surface 220 whose thickness decreases while going inward at a portion where the bottom surface of the mask sheet 100 is welded.

경사면(220)의 형성에 의하여 마스크 시트(100)와 결합된 부분에서의 응력집중을 막아 크랙 등의 형성 등 마스크 프레임(200)의 파손을 방지할 수 있다.By forming the inclined surface 220, stress concentration at a portion coupled with the mask sheet 100 can be prevented, and damage to the mask frame 200, such as formation of cracks, can be prevented.

제1마스크 프레임(200)의 재질은 마스크 시트(100)와 동일하거나 유사한 재질을 가짐이 바람직하며 SUS, 인바(invar) 등 다양한 재질을 가질 수 있다.The first mask frame 200 preferably has the same or similar material as the mask sheet 100, and may have various materials such as SUS, invar, and the like.

한편 본 발명의 배경 기술에서 언급하였듯이 대형기판에 대응하기 위하여 증착 마스크 또한 그 크기가 증대되면서 자중이 큰 문제로 대두된다.Meanwhile, as mentioned in the background of the present invention, the size of the deposition mask is also increased to cope with a large substrate, and the self weight becomes a big problem.

이에, 본 발명에 따른 증착 마스크는 마스크 시트(100)의 지지 및 결합을 위한 마스크 프레임의 구성에 있어서 마스크 시트(100)와 동일 재질 또는 유사한 재질을 가지는 제1마스크 프레임(200)에 경량이면서 구조적 강도가 큰 재질을 가지는 제2마스크 프레임(200)의 조합에 의하여 자중이 현저하게 감소되어 이송이 편리하며 제조가 용이하게 한데 특징이 있다.Accordingly, the deposition mask according to the present invention can be applied to the first mask frame 200 having the same or similar material as the mask sheet 100 in the structure of the mask frame for supporting and coupling the mask sheet 100, The weight of the second mask frame 200 having a high strength is remarkably reduced by the combination of the second mask frame 200, which facilitates the transfer and facilitates the manufacture.

즉, 본 발명에 따른 증착 마스크는 CFRP 재질 또는 Ti합금 재질을 가지며, 제1마스크 프레임(200)의 저면에 결합되는 제2마스크 프레임(300)을 더 포함한다.That is, the deposition mask according to the present invention further includes a second mask frame 300 having a CFRP material or a Ti alloy material and coupled to the bottom surface of the first mask frame 200.

제2마스크 프레임(300)은 CFRP 재질 또는 Ti합금 재질을 가짐으로써 경량인 동시에 구조적 강도가 커 증착 마스크의 자중을 현저하게 감소시킬 수 있다.Since the second mask frame 300 has a CFRP material or a Ti alloy material, the second mask frame 300 is lightweight and has a high structural strength, so that the weight of the deposition mask can be remarkably reduced.

특히 제2마스크 프레임(300)은 CFRP 재질 또는 Ti합금 재질이 SUS 또는 인바와 열팽창계수에 큰 차이가 없어 고열 환경에서도 열팽창에 따른 파손을 방지할 수 있다.Particularly, since the CFRP material or the Ti alloy material of the second mask frame 300 does not have a large difference in thermal expansion coefficient from SUS or Invar, it is possible to prevent breakage due to thermal expansion even in a high temperature environment.

여기서 제2마스크 프레임(300)가 CFRP 재질을 가지는 경우 탄소섬유 및 함침수지로 이루어지는데 정전척 장치가 고온 환경 하에 노출되므로 함침수지는 고온에 강한 폴리이미드(polyimide)인 것이 바람직하다.If the second mask frame 300 is made of CFRP material, it is made of carbon fiber and impregnation resin. Since the electrostatic chucking device is exposed in a high temperature environment, the impregnation resin is preferably polyimide resistant to high temperature.

한편 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)은 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이 결합강도를 높이기 위하여 서로 접하는 면이 단차가 형성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, as shown in FIGS. 3 to 5, the first mask frame 200 and the second mask frame 300 are preferably formed with a stepped surface in contact with each other to increase the bonding strength.

여기서 단차는 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)의 조립시 비틀림 없이 정밀하게 결합시키기 위한 구성으로 가장자리 부분이 내측보다 더 높게 형성될 수 있다.Here, the stepped portion may be formed so that the edge portion is higher than the inner side in a structure for precisely joining the first mask frame 200 and the second mask frame 300 without twisting at the time of assembling the first mask frame 200 and the second mask frame 300.

또한 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)은 다양한 방법에 의하여 결합될 수 있다.Also, the first mask frame 200 and the second mask frame 300 may be combined by various methods.

첫 번째 결합방법으로서 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 서로 접착될 수 있다.As a first bonding method, the first mask frame 200 and the second mask frame 300 may be adhered to each other as shown in FIGS.

제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)의 접착방법은 제2마스크 프레임(300)에서 제1마스크 프레임(200)가 접착될 부분에 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)의 접착을 위한 접착물질이 도포된 후 서로 결합된다.The first mask frame 200 and the second mask frame 300 may be adhered to the first mask frame 200 and the second mask frame 300 in the second mask frame 300, An adhesive material for bonding the frame 300 is applied and then bonded to each other.

접착물질은 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)를 접착시킬 수 있는 재질이면 에폭시, 폴리이미드 등 어떠한 재질도 가능하다.The adhesive material may be any material such as epoxy, polyimide or the like as long as it can adhere the first mask frame 200 and the second mask frame 300.

한편 제2마스크 프레임(300)가 CFRP 재질을 가지는 경우 SUS 또는 인바 재질을 가지는 제1마스크 프레임(200)과 이종 재질임을 고려하여 제2마스크 프레임(300)에 결합층(미도시)이 형성된 후에 제1마스크 프레임(200)이 결합될 수 있다.When the second mask frame 300 has a CFRP material, a bonding layer (not shown) is formed on the second mask frame 300 in consideration of a different material from the first mask frame 200 having SUS or Invar material The first mask frame 200 may be coupled.

결합층은 제1마스크 프레임(200)과의 견고한 결합을 위하여 제1마스크 프레임(200)이 결합되는 부분에 형성된다.The bonding layer is formed at a portion where the first mask frame 200 is joined for a strong coupling with the first mask frame 200.

결합층은 탄소강화플라스틱과 결합력이 높으면서 동시에 SUS 또는 인바 재질을 가지는 제1마스크 프레임(200)과의 견고한 결합이 가능한 Ni입자 및 바인더로 이루어질 수 있다.The bonding layer may be composed of Ni particles and a binder capable of firmly bonding with the first mask frame 200 having a high bonding strength with the carbon-reinforced plastic and simultaneously having SUS or Invar.

또한 결합층은 20㎛~90㎛의 두께를 가지는 것이 바람직하다.It is also preferable that the bonding layer has a thickness of 20 占 퐉 to 90 占 퐉.

두 번째 결합방법으로서 제1마스크 프레임(200)은 도 4에 도시된 바와 같이, 제2마스크 프레임(300)에 금속시트(240)가 접착된 후에 제1마스크 프레임(200)가 용접될 수 있다.The first mask frame 200 may be welded to the first mask frame 200 after the metal sheet 240 is adhered to the second mask frame 300 as shown in FIG. .

금속시트(240)는 금속재질의 마스크 시트(100) 또는 제1마스크 프레임(200)가 용접되는 구성으로 티타늄, 티타늄합금, 알루미늄, 알루미늄합금, 인바, SUS 등 마스크 시트(100) 또는 제1마스크 프레임(200)과 동일한 재질이 사용됨이 바람직하다.The metal sheet 240 is formed by welding a mask sheet 100 made of a metal or a first mask frame 200 and is made of a mask sheet 100 made of titanium, titanium alloy, aluminum, aluminum alloy, It is preferable that the same material as the frame 200 is used.

한편 제1마스크 프레임(200)이 금속시트(240)를 이룰 수 있으며 이 경우 제1마스크 프레임(200)은 제2마스크 프레임(300)에 접착된 후에 마스크 시트(100)가 용접되어 결합될 수 있다.The first mask frame 200 may form the metal sheet 240 and the first mask frame 200 may be welded to the second mask frame 300 after the mask sheet 100 is welded thereto have.

세 번째 결합방법으로서 도 5에 도시된 바와 같이, 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)은, 볼트(250)에 의하여 결합될 수 있다.5, the first mask frame 200 and the second mask frame 300 can be coupled by the bolts 250. As shown in FIG.

여기서 세 번째 결합방법은 앞서 설명한 두 번째 및 세 번째 결합방법과 조압될 수 있음은 물론이다.It is a matter of course that the third coupling method can be controlled with the second and third coupling methods described above.

또한 제1마스크 프레임(200) 및 제2마스크 프레임(300)이 볼트(250)에 결합되는 경우 결합위치를 지정하기 위하여 복수의 핀부재(260)가 사용될 수 있다.Also, a plurality of pin members 260 may be used to designate the engagement position when the first mask frame 200 and the second mask frame 300 are coupled to the bolt 250.

본 발명에 따른 증착 마스크는 상기와 같이 구성됨으로써 충분한 구조적 강도를 가지면서 자중이 현저히 절감됨에 따라서 기판처리시스템 내에서 이송이 편리하며, 이송시 파티클의 발생(자중이 큰 경우 마찰 등에 의하여 파티클 발생이 큼)을 줄일 수 있다.Since the deposition mask according to the present invention is constructed as described above, it has a sufficient structural strength and remarkably reduces its own weight. Therefore, it is easy to transfer in the substrate processing system. Particles generated during transportation (when particles have a large weight, Large) can be reduced.

한편 상기와 같은 구성을 가지는 증착 마스크는 다음과 같은 제조방법에 의하여 제조될 수 있다.Meanwhile, the deposition mask having the above-described structure can be manufactured by the following manufacturing method.

도 6a에 도시된 바와 같이, CFRP 재질 또는 Ti합금 재질을 가지며, 제1마스크 프레임(200)의 저면에 결합되는 제2마스크 프레임(300)을 준비한다.As shown in FIG. 6A, a second mask frame 300 having a CFRP material or a Ti alloy material and coupled to the bottom surface of the first mask frame 200 is prepared.

여기서 제2마스크 프레임(300)은 CFRP재질을 가지는 경우 탄소섬유에 폴리이미드와 같은 수지를 함침시켜 제조한다.Here, the second mask frame 300 is made by impregnating a carbon fiber with a resin such as polyimide when the second mask frame 300 has a CFRP material.

그리고 제2마스크 프레임(300)의 준비와 함께 복수의 개구부들이 형성된 마스크 시트(100) 및 제1마스크 프레임(200)의 준비 후 용접에 의하여 서로 결합한다.Then, with the preparation of the second mask frame 300, the plurality of openings are combined with each other by welding after preparation of the mask sheet 100 and the first mask frame 200 formed.

여기서 앞서 설명한 바와 같이, 제2마스크 프레임(300) 상에 금속시트(240)가 결합되고 금속시트(240)에 마스크 시트(100)가 용접되는 경우 별도의 제1마스크 프레임(200)의 준비는 불필요하다.As described above, when the metal sheet 240 is bonded onto the second mask frame 300 and the mask sheet 100 is welded to the metal sheet 240, the preparation of the first mask frame 200 It is unnecessary.

상기와 같이 제2마스크 프레임(300), 마스크 시트(100) 및 제1마스크 프레임(200)이 준비되면 도 6b에 도시된 바와 같이, 마스크 시트(100) 및 제1마스크 프레임(200)을 용접, 부착, 볼팅결합 등을 통하여 제2마스크 프레임(300)에 결합시켜 도 6c에 도시된 바와 같은 증착 마스크를 완성한다.When the second mask frame 300, the mask sheet 100 and the first mask frame 200 are prepared as described above, the mask sheet 100 and the first mask frame 200 are welded The second mask frame 300 is coupled to the second mask frame 300 through the attachment, the bolting, and the like, thereby completing the deposition mask as shown in FIG. 6C.

100... 마스크 시트 200... 제1마스크 프레임
300... 제2마스크 프레임100 ... mask sheet 200 ... first mask frame
300 ... second mask frame

Claims (7)

삭제delete 인바 및 SUS 중 어느 하나로 이루어지며, 복수의 개구부들이 형성된 마스크 시트(100),
티타늄, 티타늄합금, 알루미늄, 알루미늄합금, 인바, 및 SUS 중 어느 하나로 이루어지며, 상기 마스크 시트(100)의 가장자리 저면을 따라서 용접되는 제1마스크 프레임(200), 및
CFRP 재질을 가지며, 상기 제1마스크 프레임(200)의 저면에 결합되는 제2마스크 프레임(300)을 포함하며,
상기 제1마스크 프레임(200) 및 상기 제2마스크 프레임(300) 사이에는 상기 제1마스크 프레임(200)과 상기 제2마스크 프레임(300)를 결합시키는 금속시트(240)가 설치되며,
상기 금속시트(240)는 상기 제2마스크 프레임(300)과 접착된 후에 상기 제1마스크 프레임(200)에 용접되는 증착 마스크.A mask sheet 100 formed of one of Invar and SUS and having a plurality of openings,
A first mask frame 200 made of any one of titanium, titanium alloy, aluminum, aluminum alloy, Invar, and SUS and welded along the bottom edge of the mask sheet 100,
And a second mask frame (300) having a CFRP material and coupled to a bottom surface of the first mask frame (200)
A metal sheet 240 for coupling the first mask frame 200 and the second mask frame 300 is provided between the first mask frame 200 and the second mask frame 300,
Wherein the metal sheet (240) is welded to the first mask frame (200) after being adhered to the second mask frame (300). 제2항에 있어서,
상기 제1마스크 프레임(200) 및 상기 제2마스크 프레임(300)이 접하는 면은 단차가 형성된 증착 마스크.3. The method of claim 2,
Wherein the first mask frame (200) and the second mask frame (300) are in contact with each other. 삭제delete 제2항에 있어서,
상기 금속시트(240)는, 티타늄, 티타늄합금, 알루미늄, 알루미늄합금, 인바, 및 SUS 중 어느 하나로 이루어진 증착 마스크.3. The method of claim 2,
The metal sheet 240 is made of any one of titanium, titanium alloy, aluminum, aluminum alloy, Invar, and SUS. 삭제delete 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101658801B1 (en) * 2016-05-12 2016-09-22 최종성 Mask Frame for Organic Light Emitting Diodes with type of recycling
JP7149196B2 (en) * 2019-02-01 2022-10-06 株式会社ジャパンディスプレイ Evaporation mask
JP7233954B2 (en) * 2019-02-19 2023-03-07 株式会社ジャパンディスプレイ Evaporation mask

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003151768A (en) * 2001-08-31 2003-05-23 Sanyo Electric Co Ltd Method of manufacturing electroluminescent element and vapor deposition mask
JP2005232474A (en) 2004-02-17 2005-09-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Mask for vapor deposition
JP2012077328A (en) * 2010-09-30 2012-04-19 Mitsubishi Plastics Inc Vapor deposition mask, manufacturing method of the same, and vapor deposition method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003151768A (en) * 2001-08-31 2003-05-23 Sanyo Electric Co Ltd Method of manufacturing electroluminescent element and vapor deposition mask
JP2005232474A (en) 2004-02-17 2005-09-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Mask for vapor deposition
JP2012077328A (en) * 2010-09-30 2012-04-19 Mitsubishi Plastics Inc Vapor deposition mask, manufacturing method of the same, and vapor deposition method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190140775A (en) 2018-06-12 2019-12-20 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Mask Frame and Mask Assembly

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