KR101761294B1 - 빔 집속 구조의 쵸퍼 - Google Patents
빔 집속 구조의 쵸퍼 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101761294B1 KR101761294B1 KR1020150164731A KR20150164731A KR101761294B1 KR 101761294 B1 KR101761294 B1 KR 101761294B1 KR 1020150164731 A KR1020150164731 A KR 1020150164731A KR 20150164731 A KR20150164731 A KR 20150164731A KR 101761294 B1 KR101761294 B1 KR 101761294B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode
- chopper
- main body
- region
- path
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H13/00—Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
- H05H13/04—Synchrotrons
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2277/00—Applications of particle accelerators
- H05H2277/10—Medical devices
- H05H2277/11—Radiotherapy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
본 발명은 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 전극 구조를 빔 집속 효과를 갖도록 설계한 빔 집속 구조의 쵸퍼에 관한 것으로, 원통 형상으로 내부가 빔 진행 경로가 되어 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼 본체;쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 안쪽에 위치하는 제 1 전극;제 1 전극에 대향하여 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극;를 포함하고, 상기 제1,2 전극의 길이를 서로 다르게 하여 제1,2 전극 사이의 전위차에 의해 빔의 집속이 이루어지도록 하는 것이다.
Description
본 발명은 싱크로트론(Synchrotron) 기반의 치료용 가속기에서 빔의 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 전극 구조를 빔 집속 효과를 갖도록 설계한 빔 집속 구조의 쵸퍼에 관한 것이다.
일반적으로 방사선은 암과 같은 인체의 질병 치료에 널리 사용된다. 방사선을 이용한 치료 기술 분야에서는 고전적으로 전자가속기를 이용한 전자 빔이나 엑스선, 방사성 동위원소를 활용한 감마선을 주로 이용해왔다.
하지만, 이들은 심층부에 위치한 종양을 치료하고자 할 때, 암세포 외의 정상세포에도 심각한 영향을 미칠 수 있어, 정상세포의 피해를 줄일 수 있는 기술이 지속적으로 개발되고 있다.
로봇기술과 전자가속기가 결합된 사이버나이프와 입자 빔 치료기 등이 현재 적용되고 있는 세계적인 첨단기술들이다. 입자 빔 치료기의 대표적인 원리는 입자 빔을 이용하여 암세포만을 선별적으로 파괴하는 것이다.
입자 빔 치료기의 경우 가속된 입자 빔이 조사된 표적 물질 내에서 브래그 피크(Bragg peak)를 형성한다는 특성을 활용한 것으로서, 조사하고자 하는 표적 영역 내에 적합한 확장된 브래그 피크를 형성하기 위해 다양한 빔 모듈레이션 장치들을 적용하고 있다.
특히 프로톤(양성자)와 탄소 이온빔과 같은 입자 방사선은 인체의 특정 부위에 존재하는 암세포에 선택적으로 방사선이 흡수되도록 조사가 가능하다는 장점을 가지고 있다.
즉, 건강한 세포에는 손상을 주지 않고 암 세포만 괴사시킬 수 있도록 방사선이 조사가 가능하므로 방사선 노출에 의한 정상세포의 피폭 피해를 최소화할 수 있다.
입자 방사선은 입자 가속기에 의해 고속으로 가속된 상태의 양성자 및 이온빔이 인체의 특정 부위에 입사된다. 그런데 방사선은 그 에너지의 세기에 따라 피부로부터 특정 깊이에서 최대로 흡수되는 특징이 있다. 따라서, 치료하고자 하는 부위에 효율적으로 방사선을 조사하기 위해서는 방사선의 입사 에너지를 정밀하게 조절할 필요가 있다.
도 1은 일반적인 치료용 빔 조사 장치의 구성을 나타낸 것이다.
SMPS(Scanning Magnet Power Supply)에 의한 전력 공급 및 마그넷 코일의 전류 제어에 의해 가속된 입자 빔을 조사하는(Beam Steering) 스캐닝 마그넷과, 조사되는 빔의 세기(Beam Intensity),빔 프로파일(Beam Profile) 측정 및 빔 포지션(Beam Position) 계산을 하고 조사 계획 로딩 및 빔의 세기(Beam Intensity)/빔 포지션(Beam Position) 비교를 수행하는 빔 모니터(IC)와, 조사 계획 분배 및 조사 계획 대비 차이값 조정을 하는 조사 제어 시스템(Treatment Control System) 및 조사되는 빔의 레인지 가변(Range Variation)을 위한 모듈레이터를 포함한다.
이와 같은 치료용 빔 조사 장치에서 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼는 도 2에서와 같이 구성된다.
종래 기술의 쵸퍼는 빔 진행경로 상에 대향하여 위치하는 2개의 전극(21)(22) 구조가 동일하고 길이가 동일하여 이온빔이 휘어지면서 빔의 크기가 커지는 현상이 발생한다.
이와 같이 쵸퍼를 지난 빔의 크기가 커질 경우 컵 형태의 Faraday-cup을 이용하여 빔 전류 측정이 불가하며 빔을 덤프하기 위하여 상대적으로 긴 구조물이 필요하게 되는 문제가 있다.
본 발명은 이와 같은 종래 기술의 싱크로트론(Synchrotron) 기반의 치료용 이온빔 가속기에서 쵸퍼의 문제를 해결하기 위한 것으로, 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 전극 구조를 빔 집속 효과를 갖도록 설계한 빔 집속 구조의 쵸퍼를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극의 길이를 다르게 하고 제 1,2 전극 중 한 개의 전극에만 전위차를 주었을 때 두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 가로방향(x 축 방향)의 집속이 이루어지도록 한 빔 집속 구조의 쵸퍼를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극의 어느 하나의 전극을 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 한 빔 집속 구조의 쵸퍼를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼는 원통 형상으로 내부가 빔 진행 경로가 되어 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼 본체;쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 안쪽에 위치하는 제 1 전극;제 1 전극에 대향하여 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극;를 포함하고, 상기 제1,2 전극의 길이를 서로 다르게 하고 제 1,2 전극 중 한 개의 전극에만 전위차를 주었을 때 제1,2 전극 사이의 전위차에 의해 빔의 가로방향(x축 방향)으로 집속이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극의 길이를 안쪽에 구성되는 제 1 전극의 길이보다 길게 구성하는 것을 특징으로 한다.
그리고 제 1 전극보다 제 2 전극에 높은 전압을 인가하여, 두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 빔 진행 경로의 가로방향의 집속이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 한다.
그리고 제 1,2 전극은 빔이 입사되는 영역에서는 제 1,2 전극의 끝단이 일치하고, 빔이 출사되는 영역에서 제 2 전극의 길이가 더 길게 형성되는 것을 특징으로 한다.
그리고 제 2 전극을 쵸퍼 본체와 전기적으로 이격되어 고정되도록 알루미나 세라믹(Alumina ceramic) 재질로 이루어져 제 2 전극을 지지하는 제 1,2 지지체와,제 2 전극에 연결되어 고전압을 인가하는 고전압 FT를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고 제 1,2 지지체는, 고전압 FT가 제 2 전극에 연결되는 부분을 사이에 두고 양쪽으로 이격되는 위치에 각각 구성되는 것을 특징으로 한다.
그리고 제 2 전극은, 제 1 전극과 수평으로 대향하는 제 2 전극 제 1 영역과, 제 2 전극 제 1 영역을 중심으로 양쪽에 각각 안쪽으로 일정각도 꺾이는 제 2 전극 제 2 영역과 제 2 전극 제 3 영역을 갖는 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 한다.
다른 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼는 원통 형상으로 내부가 빔 진행 경로가 되어 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼 본체;쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 안쪽에 위치하는 제 1 전극;제 1 전극에 대향하여 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극;를 포함하고, 상기 제 2 전극의 길이를 제 1 전극의 길이보다 길게 구성하여 빔 진행 경로의 가로방향의 집속이 이루어지도록 하고, 제 2 전극을, 제 1 전극과 수평으로 대향하는 제 2 전극 제 1 영역을 중심으로 양쪽에 각각 안쪽으로 일정각도 꺾이는 제 2 전극 제 2 영역과 제 2 전극 제 3 영역을 갖는 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼는 다음과 같은 효과를 갖는다.
첫째, 쵸퍼(chopper) 내부의 전극 구조를 빔 집속 효과를 갖도록 설계하여 효율적인 빔 경로 및 시간 길이의 제어가 가능하다.
둘째, 쵸퍼에 의해 이온빔이 휘어지면서 빔의 크기가 커지는 현상을 억제하여 효과적인 빔 전류의 측정이 가능하고, 싱크로트론(Synchrotron) 기반의 치료용 이온빔 가속기의 설계 유연성을 높일 수 있다.
셋째, 쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극의 길이를 다르게 하여 두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 가로방향(x 축 방향)의 집속이 효과적으로 이루어지도록 한다.
넷째, 쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극의 어느 하나의 전극을 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 효과적으로 이루어지도록 한다.
도 1은 일반적인 치료용 빔 조사 장치의 구성도
도 2는 종래 기술의 빔 조사 장치의 쵸퍼 구성도
도 3a내지 도 3c는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼 구성도
도 4a와 도 4b는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼의 빔 집속 효과를 나타낸 빔 프로파일 구성도
도 2는 종래 기술의 빔 조사 장치의 쵸퍼 구성도
도 3a내지 도 3c는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼 구성도
도 4a와 도 4b는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼의 빔 집속 효과를 나타낸 빔 프로파일 구성도
이하, 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼의 바람직한 실시 예에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼의 특징 및 이점들은 이하에서의 각 실시 예에 대한 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.
도 3a내지 도 3c는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼 구성도이고, 도 4a와 도 4b는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼의 빔 집속 효과를 나타낸 빔 프로파일 구성도이다.
본 발명은 쵸퍼의 두 전극의 길이가 같은 경우 이온 빔이 휘어지면서 빔의 크기가 커지는 문제를 해결하기 위한 것으로, 쵸퍼를 지난 빔의 크기가 커질 경우 컵 형태의 패러데이 컵(Faraday-cup)을 이용하여 빔 전류 측정이 불가하며 빔을 덤프하기 위하여 상대적으로 긴 구조물이 필요하다.
본 발명은 이와 같은 쵸퍼의 두 전극의 길이를 서로 다르게 하고 제 1,2 전극 중 긴 전극에만 + 전위차를 주어 가로방향의 집속효과를 갖도록 쵸퍼 구조를 설계하고, 세로방향의 집속효과를 위하여 + 전극의 모양을 새로운 구조로 제조한 것이다.
여기서, 쵸퍼에 입사는 하는 빔의 입사 방향을 평면에 수직한 방향이라고 정의할 때 가로 방향은 제 1 전극과 제 2 전극을 수직으로 잇는 축의 방향이고, 세로 방향은 평면 내에서 제 1 전극의 길이 방향이다.
여기서, 쵸퍼에 입사는 하는 빔의 입사 방향을 평면에 수직한 방향이라고 정의할 때 가로 방향은 제 1 전극과 제 2 전극을 수직으로 잇는 축의 방향이고, 세로 방향은 평면 내에서 제 1 전극의 길이 방향이다.
구체적으로 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극의 길이를 다르게 하고 제 1,2 전극 중 긴 전극에만 + 전위차를 주어 두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 가로방향(x축 방향)의 집속이 이루어지도록 하고, 제 1,2 전극의 어느 하나의 전극을 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 한 것이다.
여기서, 시간 길이를 제어하는 것은 쵸퍼 이후의 펄스화된 빔의 시간적 분포를 제어하는 것을 의미한다.
여기서, 시간 길이를 제어하는 것은 쵸퍼 이후의 펄스화된 빔의 시간적 분포를 제어하는 것을 의미한다.
본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼는 원통 형상으로 내부가 빔 진행 경로가 되어 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼 본체(31)와, 쵸퍼 본체(31)의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 안쪽에 위치하는 제 1 전극(35)과, 제 1 전극(35)에 대향하여 쵸퍼 본체(31)의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극(36)과, 제 2 전극(36)을 쵸퍼 본체(31)와 전기적으로 이격되어 고정되도록 알루미나 세라믹(Alumina ceramic) 재질로 이루어져 제 2 전극(36)을 지지하는 제 1,2 지지체(33)(34)와, 제 2 전극(36)에 연결되어 고전압을 인가하는 고전압 FT(High voltage feed through)(32)를 포함하고, 제 1,2 전극(35)(36)의 길이가 서로 다른 구조이다.
여기서, 제 1,2 지지체(33)(34)는 고전압 FT(32)가 제 2 전극(36)에 연결되는 부분을 사이에 두고 양쪽으로 이격되는 위치에 구성된다.
쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극(35)(36)의 길이를 다르게 하여 두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 가로방향(x 축 방향)의 집속이 이루어지도록 하는데, 쵸퍼 본체(31)의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극(36)의 길이를 안쪽에 구성되는 제 1 전극(35)의 길이보다 길게 구성한다.
그리고 제 1 전극(35)에는 0kV를 인가하고, 제 2 전극(36)에는 +9kV를 인가하여 두 전극 사이에 발생한 전위차에 의해 가로방향(x 축 방향)의 집속이 이루어지도록 한다.
그리고 제 1,2 전극(35)(36)의 길이는 도 3b에서와 같이, 빔이 입사되는 (가)영역에서는 제 1,2 전극(35)(36)의 끝단이 일치하고, 제 1 전극(35)은 (나)영역까지의 길이를 갖고, 제 2 전극(36)은 빔의 경로 및 시간 길이가 제어되어 출사되는 (다) 영역까지의 길이를 갖도록 하는 것이 바람직하다.
그리고 제 2 전극(36)은 도 3c에서와 같이, 제 1 전극(35)과 수평으로 대향하는 제 2 전극 제 1 영역(36a)을 중심으로 양쪽에 각각 안쪽으로 일정각도 꺾이는 제 2 전극 제 2 영역(36b)과 제 2 전극 제 3 영역(36c)을 갖는 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 한 것이다.
그리고 도 4a와 도 4b는 본 발명에 따른 빔 집속 구조의 쵸퍼의 빔 집속 효과를 나타낸 빔 프로파일 구성도이다.
가로방향(x 축 방향)의 집속은 두 전극 사이에 발생하는 전위차(첨부파일의 2페이지)에 의해서 발생하고, 도 4a의 전위차를 보면 오른쪽 전극부분이 전위가 높고 왼쪽 전극으로 갈수록 전위가 낮아짐을 확인할 수 있다.
따라서, 제 2 전극(36)에 가까운 빔이 더 많이 휘고 제 1 전극(35)에 가까운 빔이 적게 휘어서 가로방향으로 집속이 이루어진다.
그리고 도 4b에서와 같이, 세로방향(y축 향)의 경우에는 제 2 전극(36)의 날개에 의해서 발생하는 세로축 전위차에 의해서 집속이 이루어지는 것을 알 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 빔 경로 및 시간 길이를 제어하는 쵸퍼(chopper) 내부의 대향하는 제 1,2 전극의 길이를 다르게 하여 두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 가로방향(x 축 방향)의 집속이 이루어지도록 하고, 제 1,2 전극의 어느 하나의 전극을 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 한 것이다.
이상에서의 설명에서와 같이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 본 발명이 구현되어 있음을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 명시된 실시 예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구 범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
31. 쵸퍼 본체 32. 고전압 FT
33. 제 1 지지체 34. 제 2 지지체
35. 제 1 전극 36. 제 2 전극
33. 제 1 지지체 34. 제 2 지지체
35. 제 1 전극 36. 제 2 전극
Claims (8)
- 원통 형상으로 내부가 빔 진행 경로가 되어 빔 경로 및 쵸퍼를 지난 빔의 시간적 분포를 제어하는 쵸퍼 본체;
쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 안쪽에 위치하는 제 1 전극;
제 1 전극에 대향하여 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극;를 포함하고,
상기 제1,2 전극의 길이를 서로 다르게 하여 제1,2 전극 사이의 전위차에 의해 빔의 집속이 이루어지도록 하고, 상기 제 1,2 전극은 빔이 입사되는 영역에서는 제 1,2 전극의 끝단이 일치하고, 빔이 출사되는 영역에서 제 2 전극의 길이가 더 길게 형성되는 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼. - 제 1 항에 있어서, 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극의 길이를 안쪽에 구성되는 제 1 전극의 길이보다 길게 구성하는 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 제 1 전극보다 제 2 전극에 높은 전압을 인가하여,
두 전극 사이에 발생하는 전위차에 의해 빔 진행 경로의 가로방향의 집속이 이루어지도록 하고,
쵸퍼에 입사는 하는 빔의 입사 방향을 평면에 수직한 방향이라고 정의할 때 가로 방향은 제 1 전극과 제 2 전극을 수직으로 잇는 축의 방향인 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼. - 삭제
- 제 1 항에 있어서, 제 2 전극을 쵸퍼 본체와 전기적으로 이격되어 고정되도록 알루미나 세라믹(Alumina ceramic) 재질로 이루어져 제 2 전극을 지지하는 제 1,2 지지체와,
제 2 전극에 연결되어 고전압을 인가하는 고전압 FT를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼. - 제 5 항에 있어서, 제 1,2 지지체는,
고전압 FT가 제 2 전극에 연결되는 부분을 사이에 두고 양쪽으로 이격되는 위치에 각각 구성되는 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼. - 제 1 항에 있어서, 제 2 전극은,
제 1 전극과 수평으로 대향하는 제 2 전극 제 1 영역과,
제 2 전극 제 1 영역을 중심으로 양쪽에 각각 안쪽으로 일정각도 꺾이는 제 2 전극 제 2 영역과 제 2 전극 제 3 영역을 갖는 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 하고,
쵸퍼에 입사는 하는 빔의 입사 방향을 평면에 수직한 방향이라고 정의할 때 세로 방향은 평면 내에서 제 1 전극의 길이 방향인 것을 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼. - 원통 형상으로 내부가 빔 진행 경로가 되어 빔 경로 및 쵸퍼를 지난 빔의 시간적 분포를 제어하는 쵸퍼 본체;
쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 안쪽에 위치하는 제 1 전극;
제 1 전극에 대향하여 쵸퍼 본체의 내부에 구성되어 빔 진행 경로가 변화되는 바깥쪽에 위치하는 제 2 전극;를 포함하고,
상기 제 2 전극의 길이를 제 1 전극의 길이보다 길게 구성하여 빔 진행 경로의 가로방향의 집속이 이루어지도록 하고,
제 2 전극을, 제 1 전극과 수평으로 대향하는 제 2 전극 제 1 영역을 중심으로 양쪽에 각각 안쪽으로 일정각도 꺾이는 제 2 전극 제 2 영역과 제 2 전극 제 3 영역을 갖는 날개 형상을 갖도록 하여 세로축 전위차에 의해서 세로 방향의 집속이 이루어지도록 하고,
쵸퍼에 입사는 하는 빔의 입사 방향을 평면에 수직한 방향이라고 정의할 때 가로 방향은 제 1 전극과 제 2 전극을 수직으로 잇는 축의 방향이고, 세로 방향은 평면 내에서 제 1 전극의 길이 방향인 것을 특징으로 하는 빔 집속 구조의 쵸퍼.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150164731A KR101761294B1 (ko) | 2015-11-24 | 2015-11-24 | 빔 집속 구조의 쵸퍼 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150164731A KR101761294B1 (ko) | 2015-11-24 | 2015-11-24 | 빔 집속 구조의 쵸퍼 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170060358A KR20170060358A (ko) | 2017-06-01 |
| KR101761294B1 true KR101761294B1 (ko) | 2017-07-25 |
Family
ID=59221854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020150164731A KR101761294B1 (ko) | 2015-11-24 | 2015-11-24 | 빔 집속 구조의 쵸퍼 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101761294B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110677975A (zh) * | 2019-09-30 | 2020-01-10 | 中国原子能科学研究院 | 一种MHz量级束流切割器高频匹配方法 |
-
2015
- 2015-11-24 KR KR1020150164731A patent/KR101761294B1/ko active IP Right Grant
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 저널 'PHYSICAL REVIEW SPECIAL TOPICS - ACCELERATORS AND BEAMS', Vol. 16, p. 043502 (2013. 04. 17. 공개)* |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110677975A (zh) * | 2019-09-30 | 2020-01-10 | 中国原子能科学研究院 | 一种MHz量级束流切割器高频匹配方法 |
| CN110677975B (zh) * | 2019-09-30 | 2020-08-21 | 中国原子能科学研究院 | 一种MHz量级束流切割器高频匹配方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20170060358A (ko) | 2017-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11260246B2 (en) | Apparatus and methods for magnetic control of radiation electron beam | |
| JP6256974B2 (ja) | 荷電粒子ビームシステム | |
| Bulanov et al. | Oncological hadrontherapy with laser ion accelerators | |
| US9079027B2 (en) | Radiation irradiation device, radiation irradiation method and program storage medium | |
| JP5143606B2 (ja) | 荷電粒子線照射装置 | |
| CN107485801B (zh) | 一种准直体和治疗头 | |
| US20120228514A1 (en) | Proton irradiation using spot scanning | |
| US20120211668A1 (en) | Beam Current Controller for Laser Ion Source | |
| Winter et al. | Clinical microbeam radiation therapy with a compact source: specifications of the line-focus X-ray tube | |
| JP2012002772A (ja) | 深さ方向線量分布測定装置、粒子線治療装置及び粒子線照射装置 | |
| KR101761294B1 (ko) | 빔 집속 구조의 쵸퍼 | |
| US20220331610A1 (en) | System for radiation therapy | |
| CN116407777A (zh) | 闪光放疗装置及闪光放疗设备 | |
| US10056221B2 (en) | Apparatus for generating charged particles | |
| CN114452550B (zh) | 一种用于离子Flash治疗的束流配送系统 | |
| JP2018146265A (ja) | 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射装置の作動方法 | |
| Uesaka et al. | Advanced accelerators for medical applications | |
| JP6787771B2 (ja) | 荷電粒子線治療装置 | |
| Bräuer-Krisch et al. | Exploiting geometrical irradiation possibilities in MRT application | |
| Wang et al. | Superconducting cyclotron for flash therapy | |
| KR101682545B1 (ko) | 빔 사이즈 조정이 가능한 액티브 스캐닝 장치 및 방법 | |
| JP2015084808A (ja) | 中性子捕捉療法装置 | |
| KR101357529B1 (ko) | 성문암 치료용 메가 볼트 엑스-선 산란판 및 이를 이용한 치료방법 | |
| Yoo et al. | Effective generation of the spread-out-Bragg peak from the laser accelerated proton beams using a carbon–proton mixed target | |
| JP2000354637A (ja) | 荷電粒子照射装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |