KR101756506B1 - Transmissivity changeable film and display device including the same - Google Patents

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Abstract

상부 전극; 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층을 포함하고, 상기 상부 전극에 대향하여 이격하여 위치한 하부 전극; 및 격벽으로 구분된 마이크로 공간을 포함하고, 상기 마이크로 공간 내부에 유색 대전 입자가 포함된 잉크를 수용하며, 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 위치한 잉크 수용층; 을 포함하는 광 투과율 가변 필름을 제공한다.An upper electrode; A lower electrode including a conductive material layer formed in a linear pattern and spaced apart from the upper electrode; And an ink receiving layer disposed between the upper electrode and the lower electrode, the ink receiving layer containing ink containing colored charged particles in the micro space, the ink receiving layer being disposed between the upper electrode and the lower electrode; And a light transmittance variable film.

Description

광 투과율 가변 필름 및 이를 포함한 표시 장치{TRANSMISSIVITY CHANGEABLE FILM AND DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a variable light transmittance film,

광 투과율 가변 필름 및 이를 포함한 표시 장치에 관한 것이다.
A light transmittance variable film and a display device including the same.

일반적으로, 디지털 페이퍼 디스플레이(digital paper display)는 액정표시장치(liquid crystal display), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel), 유기 발광 소자(organic luminescence display)를 뒤이을 차세대 표시소자로 각광받고 있으며, 반사형 디스플레이 소자로서 최적의 이상적인 소자로 평가되고 있다. BACKGROUND ART In general, a digital paper display has been spotlighted as a next generation display device following a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic luminescence display. Type display device.

이러한 디스플레이 장치에 있어서, 광투과도를 조절하는 방법으로서 Electrochromic 방법, PDLC(Polymer disperized LC) 방법 등이 있다.
In such a display device, an electrochromic method, a polymer dispersed LC (PDLC) method, or the like can be used as a method of controlling the light transmittance.

본 발명의 일 구현예는 우수한 최대 투과도를 빠른 속도로 구현하는 광 투과율 가변 필름을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a light transmittance variable film that realizes excellent maximum transmittance at high speed.

본 발명의 다른 구현예는 상기 광 투과율 가변 필름을 포함한 표시 장치를 제공한다.
Another embodiment of the present invention provides a display device including the light transmittance variable film.

본 발명의 일 구현예에서, 상부 전극; 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층을 포함하고, 상기 상부 전극에 대향하여 이격하여 위치한 하부 전극; 및 격벽으로 구분된 마이크로 공간을 포함하고, 상기 마이크로 공간 내부에 유색 대전 입자가 포함된 잉크를 수용하며, 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 위치한 잉크 수용층;을 포함하는 광 투과율 가변 필름을 제공한다.In one embodiment of the present invention, an upper electrode; A lower electrode including a conductive material layer formed in a linear pattern and spaced apart from the upper electrode; And an ink receiving layer disposed between the upper electrode and the lower electrode, the ink receiving layer containing ink containing colored charged particles in the micro space, the ink receiving layer including a micro space defined by the barrier and the barrier .

상기 하부 전극은 투명 기재; 및 상기 투명 기재 상부에 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층을 포함할 수 있다. Wherein the lower electrode comprises a transparent material; And a conductive material layer formed in a linear pattern on the transparent material.

상기 도전성 물질층은 두께가 0.01㎛ 내지 2.0㎛일 수 있다.The conductive material layer may have a thickness of from 0.01 mu m to 2.0 mu m.

상기 잉크 수용층 중 상기 마이크로 공간의 바닥면을 조성하는 골격재에 의해 상기 마이크로 공간에 수용된 잉크가 상기 하부 전극과 격리될 수 있다.The ink accommodated in the micro space may be isolated from the lower electrode by the skeleton forming the bottom surface of the micro space among the ink receiving layers.

상기 잉크 수용층 중 상기 마이크로 공간의 바닥면을 조성하는 골격재의 두께가 0.1㎛ 내지 10㎛일 수 있다.The thickness of the skeleton forming the bottom surface of the microspace of the ink receiving layer may be 0.1 탆 to 10 탆.

상기 상부 전극은 투명 기재; 및 상기 투명 기재 하부에 형성된 도전성 물질층을 포함할 수 있다. Wherein the upper electrode comprises a transparent material; And a conductive material layer formed under the transparent substrate.

상기 도전성 물질층은 상기 투명 기재의 전면에 형성된 면상이거나, 또는 선형 패턴으로 형성될 수 있다.The conductive material layer may be formed on the entire surface of the transparent substrate, or may be formed in a linear pattern.

상기 상부 전극 및 상기 하부 전극은 각각 투명 기재를 포함하고, 상기 투명 기재의 두께가 50㎛ 내지 500㎛ 일 수 있다.The upper electrode and the lower electrode may each include a transparent substrate, and the thickness of the transparent substrate may be between 50 탆 and 500 탆.

상기 도전성 물질층은 산화인듐주석(Indium Tin Oxide, ITO), 산화아연(ZnO), 아연산화주석(Zinc Tin Oxide, ZTO), 그라핀, 탄소나노튜브(CNT), 불소도핑 산화주석(Fluorine-doped Tin Oxide, FTO), 은 나노와이어, 메탈, 전도성 폴리머 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The conductive material layer may include at least one of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), zinc tin oxide (ZTO), graphene, carbon nanotube (CNT), fluorine- doped Tin Oxide (FTO), silver nanowire, metal, conductive polymer, and combinations thereof.

상기 잉크 수용층의 중 상기 마이크로 공간의 측면과 바닥면을 조성하는 골격재가 투명한 광경화성 수지, 투명한 열경화성 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.A transparent thermosetting resin transparent to the skeletal material forming the side surface and the bottom surface of the ink receiving layer, a transparent thermosetting resin, and a combination thereof.

상기 상부 전극, 상기 하부 전극 또는 이들 모두가 상기 도전성 물질층 상에 보호층을 더 포함할 수 있다.The upper electrode, the lower electrode, or both may further include a protective layer on the conductive material layer.

상기 보호층은 상기 잉크 수용층 중 상기 마이크로 공간의 측면과 바닥면을 조성하는 골격재과 동일한 재질일 수 있다.The protective layer may be made of the same material as the skeleton forming the side surface and the bottom surface of the micro space of the ink receiving layer.

전압 인가시 상기 하부 전극의 도전성 물질층이 전하를 띠고, 상기 유색 대전 입자는 상기 도전성 물질층의 전하와 반대 부호의 전하를 가질 수 있다.When a voltage is applied, the conductive material layer of the lower electrode receives a charge, and the colored charged particles may have charge opposite to that of the conductive material layer.

상기 유색 대전 입자는 금속 입자, 무기질 입자, 폴리머 입자 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The colored charged particles may include at least one selected from the group consisting of metal particles, inorganic particles, polymer particles, and combinations thereof.

상기 유색 대전 입자는 전하를 갖지 않는 코어; 및 상기 코어의 표면에 코팅되고 전압 인가시 전하를 갖는 쉘;을 포함하고, 상기 코어는 입자 또는 입자들의 클러스터(cluster)로써 형성될 수 있다.Wherein the colored charged particles have a charge-free core; And a shell coated on the surface of the core and having a charge upon application of a voltage, the core being formed of a cluster or a cluster of particles.

상기 쉘은 탄소수 탄화수소기를 포함하는 유기화합물; 할로겐 원소를 포함하는 착화합물; 아민기, 티올기, 포스핀기 또는 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 배위화합물; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 전하를 갖는 물질일 수 있다.Wherein the shell comprises an organic compound comprising a carbon-carbon hydrocarbon group; A complex compound containing a halogen element; A coordination compound comprising at least one member selected from the group consisting of an amine group, a thiol group, a phosphine group, or a combination thereof; And a combination of these materials.

상기 코어는 금속 입자, 폴리머 입자, 무기질 입자, 반도체 입자 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The core may comprise at least one selected from the group consisting of metal particles, polymer particles, inorganic particles, semiconductor particles, and combinations thereof.

상기 잉크가 절연성 매질을 더 포함할 수 있다.The ink may further include an insulating medium.

상기 절연성 매질은 저유전율을 갖는 물질, 분극지수(polarity index)가 1 보다 높은 물질일 수 있다.The insulating medium may be a material having a low dielectric constant and a material having a polarity index higher than 1. [

상기 잉크 수용층은 상기 격벽 상부에 실링 필름이 더 형성되어 포함되고, 상기 실링 필름을 매개로 상기 잉크 수용층의 격벽과 상기 상부 전극이 부착될 수 있다.The ink receiving layer may include a sealing film formed on the upper portion of the barrier rib, and the barrier rib and the upper electrode may be attached to the ink receiving layer through the sealing film.

상기 실링 필름은 상기 잉크 수용층의 측면 바깥 쪽의 최외각 격벽 상부에만 형성될 수 있다.The sealing film may be formed only on the uppermost outermost barrier ribs outside the side surface of the ink receiving layer.

상기 실링 필름은 광경화성 수지, 열경화성 수지 또는 이들 모두를 포함할 수 있다.The sealing film may include a photocurable resin, a thermosetting resin, or both.

상기 광 투과율 가변 필름의 최대 투과도는 40% 내지 70%일 수 있다.The maximum transmittance of the light transmittance variable film may be 40% to 70%.

본 발명의 다른 구현예에서, 상기 광 투과율 가변 필름; 및 상기 광 투과율 가변 필름에 전기적으로 연결된 전압 인가 수단을 포함하는 표시 장치를 제공한다.
In another embodiment of the present invention, the light transmittance variable film; And a voltage application means electrically connected to the light transmittance variable film.

상기 광 투과율 가변 필름은 투과도를 빠른 속도로 변화시킬 수 있고, 우수한 최대 투과도를 구현할 수 있다.
The light transmittance variable film can change the transmittance at a high speed and can realize an excellent maximum transmittance.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 광 투과율 가변 필름의 단면을 모식적으로 나타낸다.
도 2는 전압을 인가한 경우 본 발명의 다른 구현예에 광 투과율 가변 필름의 단면에 대한 모식도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 구현예에 따른 상기 광 투과율 가변 필름의 단면을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 또 다른 구현예에 따른 상기 광 투과율 가변 필름의 단면을 나타낸다.1 schematically shows a cross section of a light transmittance variable film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view of a cross section of a light transmittance variable film according to another embodiment of the present invention when a voltage is applied.
3 shows a cross section of the light transmittance variable film according to another embodiment of the present invention.
4 shows a cross section of the light transmittance variable film according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. In the drawings, for the convenience of explanation, the thicknesses of some layers and regions are exaggerated.

이하에서 기재의 “상부 (또는 하부)” 또는 기재의 “상 (또는 하)”에 임의의 구성이 형성된다는 것은, 임의의 구성이 상기 기재의 상면 (또는 하면)에 접하여 형성되는 것을 의미할 뿐만 아니라, 상기 기재와 기재 상에 (또는 하에) 형성된 임의의 구성 사이에 다른 구성을 포함하지 않는 것으로 한정하는 것은 아니다.
Hereinafter, the formation of any structure in the "upper (or lower)" or the "upper (or lower)" of the substrate means that any structure is formed in contact with the upper surface (or lower surface) of the substrate However, the present invention is not limited to not including other configurations between the substrate and any structure formed on (or under) the substrate.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 광 투과율 가변 필름(100)의 단면을 모식적으로 나타낸다. 도 1에서, 광 투과율 가변 필름(100)은 상부 전극(110); 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층(122)을 포함하고, 상기 상부 전극(110)에 대향하여 이격하여 위치한 하부 전극(120); 및 격벽(131)으로 구분된 마이크로 공간(132)을 포함하고, 상기 마이크로 공간(132) 내부에 유색 대전 입자(134)가 포함된 잉크를 수용하며, 상기 상부 전극(110) 및 상기 하부 전극(120) 사이에 위치한 잉크 수용층(130);을 포함한다. 1 schematically shows a cross section of a light transmittance variable film 100 according to an embodiment of the present invention. 1, the light transmittance variable film 100 includes an upper electrode 110; A lower electrode 120 including a conductive material layer 122 formed in a linear pattern and spaced apart from the upper electrode 110; And a micro space 132 defined by the barrier ribs 131 and the barrier ribs 131. The micro space 132 receives the ink containing colored charged particles 134 therein and the upper electrode 110 and the lower electrode And an ink receiving layer 130 disposed between the ink receiving layer 130 and the ink receiving layer 130.

상기 광 투과율 가변 필름(100)은 전압 인가 여부에 따라 광 투과도가 변화될 수 있는 필름이다.The light transmittance variable film 100 is a film whose light transmittance can be changed depending on whether a voltage is applied or not.

상기 잉크는 전술한 마와 같이 상기 마이크로 공간(132) 내에 수용되어 있다.The ink is contained in the micro space 132 as described above.

상기 마이크로 공간(132)은 예를 들어, 상부가 개방된 마이크로 컵 또는 폐쇄 공간으로서 마이크로 캡슐 구조로써 형성될 수 있고, 이에 한정되는 것은 아니다. 도 1에서는 상기 마이크로 공간(132)은 측면은 바닥면으로 컵 형상으로 형성되고 상부가 개방된 구조의 마이크로 컵의 구조로 형성되어 있다. 상기 개별 마이크로 공간(132)의 측면은 상기 잉크 수용층(130)의 격벽(131)에 의해 형성된다.The micro space 132 may be formed as a microcapsule structure, for example, as an open top microcup or a closed space, but is not limited thereto. In FIG. 1, the micro space 132 is formed by a micro cup structure having a side surface formed in a cup shape with a bottom surface and an open top side. The side surfaces of the individual micro-spaces 132 are formed by barrier ribs 131 of the ink receiving layer 130.

상기 마이크로 공간(132) 등에서 마이크로의 의미는 수 내지 수천 마이크로 크기 규모임을 의미한다. The meaning of micro in the micro space 132 and the like means that it is several to several thousand micro scale.

상기 잉크는 절연성 매질을 추가로 포함할 수 있고, 상기 광 투과율 가변 필름에 전압을 인가하지 않은 경우 상기 마이크로 공간 내부에 수용된 유색 대전 입자(134)는 상기 절연성 매질에 무질서하게 분산된 상태로 존재할 수 있다. 상기 유색 대전 입자(134)는 광의 투과를 차단하는 역할을 할 수 있고, 전압을 인가하지 않은 경우 상기 유색 대전 입자(134)가 상기 절연성 매질에 고르게 분산된 상태로 존재하여 광의 투과를 차단하므로 상기 광 투과율 가변 필름(100)의 광 투과도는 예를 들어, 0 % 내지 약 10 %일 수 있고, 따라서 이 때의 광 투과율 가변 필름(100)은 거의 불투명 상태의 필름이다. The ink may further include an insulating medium, and when no voltage is applied to the light transmittance variable film, the colored charged particles 134 contained in the micro space may exist in a disorderly dispersed state in the insulating medium have. When the voltage is not applied, the colored charged particles 134 are dispersed evenly in the insulating medium to block the transmission of light, The light transmittance of the variable transmissive film 100 may be, for example, 0% to about 10%, and thus the light transmittance of the variable transmissive film 100 is almost opaque.

이러한 상기 광 투과율 가변 필름(100)에 전압을 인가하면 전기장이 발생되면서 상기 하부 전극(120)의 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층(122)이 전하를 띠게 된다. 상기 유색 대전 입자(134)는 상기 전압 인가시 형성되는 상기 하부 전극(120)의 도전성 물질층(122)의 전하와 반대 부호의 전하를 갖도록 하여 전압 인가시 상기 유색 대전 입자(134) 및 상기 하부 전극에 포함된 도전성 물질층(122) 간에 전기적 상호 작용에 의한 전기적 인력이 작용하게 된다. When a voltage is applied to the variable transmissivity film 100, an electric field is generated and a conductive material layer 122 formed in a linear pattern of the lower electrode 120 is charged. The colored charged particles 134 may have a charge opposite to that of the conductive material layer 122 of the lower electrode 120 formed when the voltage is applied so that the colored charged particles 134 and the lower An electrical attraction force due to electrical interaction acts between the conductive material layers 122 included in the electrodes.

이와 같이, 상기 광 투과율 가변 필름(100)에 전압 인가시 발생하는 전기적 상호 작용에 의해 상기 유색 대전 입자(134)가 전기 영동되어 상기 하부 전극(120)의 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 상부로 모이게 되면서, 상기 유색 대전 입자들(134) 역시 상기 선형 패턴에 대응되도록 배열하게 된다. The colored electrostatic particles 134 are electrophoretically moved by the electrical interaction generated when the voltage is applied to the variable transmissivity film 100 so that the upper portion of the conductive material layer 122 of the linear pattern of the lower electrode 120 The colored charged particles 134 are arranged to correspond to the linear pattern.

도 2는 전압을 인가한 경우 광 투과율 가변 필름(200)의 단면에 대한 모식도이다.2 is a schematic view of a cross section of the light transmittance variable film 200 when a voltage is applied.

상기 유색 대전 입자들(134)이 이와 같이 배열되면 각 유색 대전 입자들(134) 간의 거리가 좁아지게 되고, 그에 따라 동일 부호의 전하를 띠는 유색 대전 입자들(134) 서로 간에 작용하는 전기적 척력이 점차 증가하게 되므로 상기 유색 대전 입자들(134) 간의 간격이 무한정 좁아지는 것은 아니고, 인가된 전압에 의한 전기영동 힘 및 상기 유색 대전 입자들(134) 간에 작용하는 전기적 반발력이 힘의 균형을 이루게 되는 시점에서 그 간격이 더 이상 좁아지지 않고, 입자간 특정 거리를 유지할 수 있다. When the colored charged particles 134 are arranged in this manner, the distance between the colored charged particles 134 becomes narrow, and accordingly, the colored charged particles 134 having the same polarity as the charged charged particles 134, The gap between the colored charged particles 134 is not infinitely narrowed and the electrophoretic force due to the applied voltage and the electrical repulsive force acting between the colored charged particles 134 balance the forces The gap is not narrowed any more, and a specific distance between particles can be maintained.

이와 같이, 전압 인가시 전기적 인력에 의해 상기 유색 대전 입자(134)가 상기 하부 전극(120)의 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 상부로 모여짐에 따라, 광 투과율 가변 필름(200)으로 입사되는 광 방향에 수직한 단면에서 상기 유색 대전 입자(134)가 차지하는 면적이 점차 감소되고 상기 유색 대전 입자(134)가 존재하지 않는 면적은 점차 증가될 수 있다. 그 결과, 상기 광 투과율 가변 필름(200)의 광이 입사되는 방향에 수직한 단면에서 상기 유색 대전 입자(134)에 의한 광의 차단이 일어나지 않아 광이 투과되는 면적이 점차 증가하므로 상기 광 투과율 가변 필름(200)의 광 투과도가 점차 증가하게 되고, 상기 전기 영동 힘 및 상기 유색 대전 입자들(134) 사이 간의 전기적 반발력이 균형을 이루는 시점에 도달할 때 최대 투과도를 구현할 수 있다.When the voltage is applied, the colored charged particles 134 gather on the conductive material layer 122 of the linear pattern of the lower electrode 120 by the electrical attraction, The area occupied by the colored charged particles 134 gradually decreases and the area in which the colored charged particles 134 do not exist can be gradually increased. As a result, light blocking is not caused by the colored charged particles 134 in the cross section perpendicular to the direction in which the light of the variable transmissivity film 200 is incident, and the area through which the light is transmitted gradually increases. The light transmittance of the colored particles 200 gradually increases and the maximum transmittance can be realized when the electrophoretic force and the electrical repulsive force between the colored charged particles 134 are balanced.

즉, 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200)의 광 투과도를 전기장 유무에 따라 발생하거나 소멸되는 상기 유색 대전 입자(134)와 상기 하부 전극(120)의 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 간의 전기적 상호작용에 의해 조절할 수 있으므로 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200)의 광 투과도를 빠른 속도로 용이하게 변화시킬 수 있고, 그에 따라 투과도를 조절할 수 있다. That is, the light transmittance of the light transmittance variable films 100 and 200 is determined by the electrical property between the colored charged particles 134, which are generated in accordance with the presence or absence of an electric field, and the conductive material layer 122 of the linear pattern of the lower electrode 120, The light transmissivity of the variable transmissivity films 100 and 200 can be easily changed at a high speed and thus the transmissivity can be controlled.

상기 광 투과율 가변 필름(200)의 최대 투과도는, 예를 들어, 약 40% 이상일 수 있고, 구체적으로 약 49% 내지 약 70%일 수 있어, 우수한 최대 투과도를 구현할 수 있다. 이 때의 광 투과율 가변 필름(200)은 고 투과율을 갖는 투명 필름으로 구현될 수 있다.
The maximum transmittance of the light transmittance variable film 200 can be, for example, about 40% or more, and specifically about 49% to about 70%, thereby achieving excellent maximum transmittance. The light transmittance variable film 200 at this time can be realized as a transparent film having a high transmittance.

상기 광 투과율 가변 필름(100, 200)은 이와 같이 전압 미인가시 광투과율 약 0 내지 약 10%의 거의 불투명 상태에서 전압 인가시 광투과율 약 40% 내지 약 70%의 고투과율을 갖는 투명 필름 상태로 변할 수 있는 가변 필름이다.
The variable transmissivity films 100 and 200 may be in the form of a transparent film having a high transmittance of about 40% to about 70% when a voltage is applied in a substantially opaque state with a light transmittance of about 0 to about 10% It is a variable film that can change.

상기 마이크로 공간(132)은 상기 격벽(131)에 의해 구분되어서 전술한 전압 인가에 따른 투과율 조절이 보다 효율적으로 이루어질 수 있다.
The micro space 132 is divided by the barrier ribs 131 so that the transmittance of the micro space 132 can be controlled more effectively by applying the voltage.

상기 하부 전극(120)은 투명 기재(121); 및 상기 투명 기재(121) 상에 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층(122)을 포함할 수 있다.The lower electrode 120 includes a transparent substrate 121; And a conductive material layer 122 formed in a linear pattern on the transparent substrate 121.

상기 투명 기재(121)는 예를 들어, 투명 필름일 수 있다.The transparent substrate 121 may be, for example, a transparent film.

상기 투명 필름은 투명성과 강도가 우수한 필름이 이용될 수 있고, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리에터설폰(polyethersulfone, PES), 폴리카보네이트(poly carbonate, PC), 폴리프로필렌(poly propylene, PP), 폴리이미드(polyimide, PI), 시클로-올레핀 공중합체(cyclo-olefin copolymer), 노보르넨계 수지 및 이들의 조합을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 수지의 투명 필름으로 형성될 수 있으나 이에 제한되지 않는다.The transparent film may be a film having excellent transparency and strength. Examples of the transparent film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polycarbonate selected from the group comprising poly carbonate (PC), polypropylene (PP), polyimide (PI), cyclo-olefin copolymer, norbornene resin and combinations thereof But is not limited to, a transparent film of a resin containing at least one of them.

상기 투명 필름은 예를 들어, 두께가 약 50㎛ 내지 약 500㎛ 일 수 있다. 상기 두께 범위의 투명 필름을 포함함으로써 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200)의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 내구성 및 유연성을 적절히 조절하여 필요한 기계적 물성을 효과적으로 구현할 수 있다The transparent film may be, for example, about 50 탆 to about 500 탆 in thickness. By including the transparent film having the above-mentioned thickness range, it is possible to effectively realize necessary mechanical properties by appropriately adjusting the durability and flexibility without excessively increasing the total thickness of the light transmittance variable films 100 and 200

상기 하부 전극(120)의 도전성 물질층(122)은 예를 들어, 도전성 물질을 상기 투명 필름의 일면 상에 적층 또는 코팅하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 도전성 물질층(122)은 스퍼터링, CVD나 PECVD를 이용한 증착, 스프레이 코팅, 에어젯 코팅, 그라비어 오프셋 코팅, 로터리 스크린 코팅, 실크 스크린 코팅 등 중에서 어느 하나의 방법으로 수행될 수 있고, 상기 방법 중에서 도전성 물질층(122)의 재료로 사용 되는 도전성 물질의 종류에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다 The conductive material layer 122 of the lower electrode 120 may be formed, for example, by laminating or coating a conductive material on one side of the transparent film. For example, the conductive material layer 122 may be formed by any one of sputtering, CVD, PECVD, spray coating, air jet coating, gravure offset coating, rotary screen coating, and silk screen coating , And may be appropriately selected depending on the kind of the conductive material used as the material of the conductive material layer 122 among the above methods, but is not limited thereto

상기 도전성 물질은 예를 들어, 산화인듐주석(Indium Tin Oxide, ITO), 산화아연(ZnO), 아연산화주석(Zinc Tin Oxide, ZTO), 그라핀, 탄소나노튜브(CNT), 불소도핑 산화주석(Fluorine-doped Tin Oxide, FTO), 은 나노와이어, 메탈, 전도성 폴리머(conductive polymer) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The conductive material may be, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), zinc tin oxide (ZTO), graphene, carbon nanotube (CNT) But is not limited to, at least one selected from the group consisting of fluorine-doped tin oxide (FTO), silver nanowire, metal, conductive polymer, and combinations thereof.

상기 하부 전극(120)에 포함된 도전성 물질층(122)의 두께는 예를 들어, 약 0.01㎛ 내지 약 2.0㎛일 수 있다. 상기 두께 범위의 도전성 물질층(122)을 포함함으로써 전압 인가시 충분한 전기장을 형성하면서도 비용을 절감할 수 있다.The thickness of the conductive material layer 122 included in the lower electrode 120 may be, for example, about 0.01 μm to about 2.0 μm. By including the conductive material layer 122 in the thickness range, it is possible to reduce the cost while forming a sufficient electric field at the time of voltage application.

전술한 바와 같이 상기 도전성 물질층(122)이 선형 패턴으로 형성됨에 따라 전기장에 의해 상기 유색 대전 입자(134)의 배열을 조절하여 광 투과도의 조절이 가능하다.As described above, since the conductive material layer 122 is formed in a linear pattern, it is possible to adjust the light transmittance by adjusting the arrangement of the colored charged particles 134 by an electric field.

이러한 전기장을 형성하기 위해 인가되는 전압의 세기는, 예를 들어, 약 5 V 내지 약 50 V 일 수 있다. 상기 세기 범위의 전압을 인가함으로써 비용을 절감하면서 상기 유색 대전 입자(134) 전부를 상기 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 상부로 충분히 조밀하게 모이게 하여 우수한 투과도를 구현할 수 있다.
The intensity of the voltage applied to form this electric field may be, for example, from about 5 V to about 50 V. [ By applying a voltage in the intensity range, all of the colored charged particles 134 can be sufficiently densely gathered over the conductive material layer 122 of the linear pattern, thereby realizing excellent transmittance.

상기 상부 전극(110)은 투명 기재(111); 및 상기 투명 기재(111) 하부에 형성된 도전성 물질층(112);을 포함할 수 있다.The upper electrode 110 includes a transparent substrate 111; And a conductive material layer 112 formed under the transparent substrate 111.

또한, 상기 도전성 물질층(112)은 상기 투명 기재(111)의 전면에 형성된 면상이거나, 또는 전술한 하부 전극(120)의 상기 도전성 물질층(122)에서와 같이 선형 패턴으로 형성될 수 있다. The conductive material layer 112 may be formed on the entire surface of the transparent substrate 111 or may be formed in a linear pattern as in the conductive material layer 122 of the lower electrode 120 described above.

도 1에서, 상기 상부 전극(110)은 상기 투명 기재(111) 하부 일면 상에 전면으로 형성된 면상의 도전성 물질층(112)을 포함하는 경우이다. 1, the upper electrode 110 includes a planar conductive material layer 112 formed on a lower surface of the transparent substrate 111.

상기 도전성 물질층(112)이 면상으로 형성되는 경우 전압 인가시 전기장을 강하게 형성할 수 있어, 상기 유색 대전 입자(134) 및 상기 하부 전극(120)에 포함된 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 간에 발생하는 전기적 인력을 더욱 증가시킬 수 있다.When the conductive material layer 112 is formed on the surface, the electric field can be strongly formed when a voltage is applied. The conductive material layer 122 having a linear pattern included in the colored charged particles 134 and the lower electrode 120, The electric attraction force generated between the electrodes can be further increased.

상기 유색 대전 입자(134) 및 상기 하부 전극(120)에 포함된 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 간에 발생하는 전기적 인력이 증가되면, 상기 유색 대전 입자(134)가 상기 하부 전극(120)의 선형 패턴의 도전성 물질층(122) 상부에 더욱 조밀하게 모일 수 있어, 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200)의 광이 입사되는 방향에 수직한 단면에서 상기 유색 대전 입자(134)가 존재하지 않는 면적을 더욱 넓힐 수 있게 되어 광 투과도를 더욱 높일 수 있다. When the electrical attraction generated between the colored charged particles 134 and the linear conductive material layer 122 included in the lower electrode 120 is increased, the colored charged particles 134 are attracted to the lower electrode 120 Can be gathered more densely on the conductive material layer 122 of the linear pattern so that the colored charged particles 134 do not exist in a cross section perpendicular to the direction in which the light of the light transmittance variable films 100 and 200 is incident The area can be further widened and the light transmittance can be further increased.

상기 투명 기재(111)는 상기 하부 전극(120)에서와 같이, 투명 필름일 수 있다. 상기 투명 필름의 구체적인 예는 전술한 바와 같다.The transparent substrate 111 may be a transparent film, as in the lower electrode 120. Specific examples of the transparent film are as described above.

상기 투명 필름은 예를 들어, 두께가 약 50㎛ 내지 약 500㎛일 수 있다. 상기 두께 범위의 투명 필름을 포함함으로써 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200)의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 내구성 및 유연성을 적절히 조절하여 필요한 기계적 물성을 효과적으로 구현할 수 있다The transparent film may be, for example, about 50 탆 to about 500 탆 in thickness. By including the transparent film having the above-mentioned thickness range, it is possible to effectively realize necessary mechanical properties by appropriately adjusting the durability and flexibility without excessively increasing the total thickness of the light transmittance variable films 100 and 200

상기 상부 전극(110)의 상기 도전성 물질층(112)은 예를 들어, 도전성 물질을 상기 투명 필름의 일면 상에 적층 또는 코팅하여 형성할 수 있다. 구체적인 제조 공정은 상기 하부 전극(120)의 도전성 물질층(122)에서와 같고, 이와 같이 공지된 방법에 따라 면상 또는 선형 패턴으로 형성할 수 있다.The conductive material layer 112 of the upper electrode 110 may be formed, for example, by laminating or coating a conductive material on one side of the transparent film. The specific manufacturing process is the same as that in the conductive material layer 122 of the lower electrode 120, and may be formed in a planar or linear pattern according to the known method.

상기 상부 전극(110)의 도전성 물질층(112)의 재료로 사용될 수 있는 도전성 물질의 예시는 상기 하부 전극(120)의 도전성 물질층(122)의 재료로 사용될 수 있는 도전성 물질에 관한 설명과 같다.An example of a conductive material that can be used as the material of the conductive material layer 112 of the upper electrode 110 is the same as the description of the conductive material that can be used as the material of the conductive material layer 122 of the lower electrode 120 .

상기 상부 전극(110)의 도전성 물질층(112)의 두께는 예를 들어, 약 0.01㎛ 내지 약 2.0㎛일 수 있다. 상기 두께 범위의 도전성 물질층(112)을 포함함으로써 전압 인가시 충분한 전기장을 형성하면서도 비용을 절감할 수 있다.
The thickness of the conductive material layer 112 of the upper electrode 110 may be, for example, from about 0.01 탆 to about 2.0 탆. By including the conductive material layer 112 in the thickness range, it is possible to reduce the cost while forming a sufficient electric field at the time of voltage application.

상기 상부 전극(110)은 도전성 물질층(112) 상에 보호층을 더 형성하여 추가로 포함할 수 있다. The upper electrode 110 may further include a protective layer formed on the conductive material layer 112.

도 3은 본 발명의 다른 구현예에 따른 상기 광 투과율 가변 필름(300)의 단면을 나타내고, 도 3에서, 상기 상부 전극(110)의 도전성 물질층(112) 하부에 보호층(113)이 더 형성되어 있다. 3 illustrates a cross section of the light transmittance variable film 300 according to another embodiment of the present invention. In FIG. 3, a protective layer 113 is formed under the conductive material layer 112 of the upper electrode 110 Respectively.

상기 보호층(113)은 상기 잉크 수용층(130)에서 상기 마이크로 공간(132)의 측면과 바닥면을 조성하는 골격재과 동일한 재질로 형성될 수 있고, 예를 들어, 상기 골격재는 투명한 광경화성 수지, 투명한 열경화성 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. The passivation layer 113 may be formed of the same material as the skeleton forming the side surface and the bottom surface of the micro space 132 in the ink receiving layer 130. For example, the skeleton may include a transparent photocurable resin, A transparent thermosetting resin, and a combination thereof.

상기 유색 대전 입자(134)는 상기 마이크로 공간(132) 내부에서 자유롭게 이동할 수 있고, 그 과정에서 상기 상부 전극(110)에 포함된 도전성 물질층(112)과 반복적 충돌에 의한 물리적 접촉 등이 발생하여 상기 도전성 물질층(112)이 점차 손상될 수 있으므로 상기 도전성 물질층(112) 하부에 보호층(113)을 포함하여 상기 도전성 물질층(112)과 상기 유색 대전 입자(134) 간의 직접적인 물리적 접촉을 차단함으로써 상기 도전성 물질층(112)의 손상을 방지하여 상기 광 투과율 가변 필름(300)의 내구성을 향상시킬 수 있다.The colored charged particles 134 can freely move within the micro space 132 and during the process physical contact or the like caused by repetitive collision with the conductive material layer 112 included in the upper electrode 110 occurs Since the conductive material layer 112 may be gradually damaged, a direct physical contact between the conductive material layer 112 and the colored charged particles 134 may be prevented by including the protective layer 113 under the conductive material layer 112 It is possible to prevent the conductive material layer 112 from being damaged, thereby improving the durability of the light transmittance variable film 300.

또한, 상기 하부 전극(110)은 도전성 물질층(122) 상에 보호층(123)을 더 형성하여 추가로 포함할 수 있다. In addition, the lower electrode 110 may further include a protective layer 123 formed on the conductive material layer 122.

도 3에서, 상기 하부 전극(120)의 도전성 물질층(122) 상부에 보호층(123)이 더 형성되어 있다. In FIG. 3, a protective layer 123 is further formed on the conductive material layer 122 of the lower electrode 120.

마찬가지로, 상기 보호층(123)은 상기 잉크 수용층(130)에서 상기 마이크로 공간(132)의 측면과 바닥면을 조성하는 골격재과 동일한 재질로 형성될 수 있고, 예를 들어, 상기 골격재는 투명한 광경화성 수지, 투명한 열경화성 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. Similarly, the protective layer 123 may be formed of the same material as the skeleton material constituting the side surface and the bottom surface of the micro space 132 in the ink receiving layer 130. For example, the skeleton may include a transparent photocurable material A resin, a transparent thermosetting resin, and a combination thereof.

상기 유색 대전 입자(134)는 마이크로 공간(132)의 바닥면 쪽의 골격재로 격리되어 있으나, 상기 하부 전극(120)에 보호층(123)을 더 형성하여, 상기 하부 전극(120)의 도전성 물질층(122)과 상기 유색 대전 입자(134) 간의 직접적인 물리적 접촉을 보다 안정적으로 차단함으로써 상기 도전성 물질층(122)의 손상을 방지하여 상기 광 투과율 가변 필름(300)의 내구성을 향상시킬 수 있다.
The colored charged particles 134 are separated from the bottom surface side skeleton of the micro space 132 but a protective layer 123 is further formed on the lower electrode 120 to prevent the conductive particles The durability of the light transmittance variable film 300 can be improved by preventing the conductive material layer 122 from being damaged by more stably blocking the direct physical contact between the material layer 122 and the colored charged particles 134 .

상기 잉크 수용층(130)은 격벽(131)에 의해 수평적으로 구분된 마이크로 공간(132)을 포함하여, 상기 잉크 수용층(130)은 상기 마이크로 공간(132)을 조성하는 골격재와 상기 마이크로 공간(132), 그리고, 상기 마이크로 공간(132) 내에 수용된 잉크로 구분될 수 있다.상기 잉크 수용층(130)은 상기 상부 전극(110) 및 상기 하부 전극(120) 사이에 위치한다. The ink receiving layer 130 includes a micro space 132 horizontally divided by the barrier ribs 131 so that the ink receiving layer 130 contacts the skeleton forming the micro space 132, 132 and the ink accommodated in the micro space 132. The ink receiving layer 130 is located between the upper electrode 110 and the lower electrode 120. [

상기 마이크로 공간(132)은 대략 직육면체 형상일 수 있고, 이를 형성하는 격벽(131)은 수평 단면에서 격자형으로 형성될 수 있다.The micro space 132 may have a substantially rectangular parallelepiped shape, and the barrier ribs 131 may be formed in a lattice shape in a horizontal cross section.

구체적으로, 상기 잉크 수용층(130)에서 상기 마이크로 공간(132)은 상기 격벽(131)에 의해 수평적으로 구분되어 배열될 수 있고, 상기 격벽(131)은 상기 상부 전극(110) 및 상기 하부 전극(120) 간의 간격을 일정하게 유지하는 스페이서 역할을 할 수 있으며, 그에 따라 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300)의 내구성을 향상시키는데 기여할 수 있다.
Specifically, the micro space 132 in the ink receiving layer 130 may be horizontally divided by the barrier ribs 131, and the barrier ribs 131 may be disposed between the upper and lower electrodes 110, The variable transmissivity films 100, 200, and 300 may serve as spacers for maintaining a constant gap between the light transmissive film 120 and the light transmissive film 120, thereby improving the durability of the variable transmissivity films 100, 200, and 300.

상기 마이크로 공간(132) 내부에 상기 유색 대전 입자(134)가 포함된 잉크가 수용될 수 있고, 상기 잉크는 절연성 매질을 추가로 포함할 수 있으며, 전압을 인가하지 않은 상태에서 상기 유색 대전 입자(134)는 상기 절연성 매질에 분산된 상태로 존재하여 광의 투과를 차단하고, 전압 인가시 재배열하여 광 투과도를 높인다. 따라서, 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300)은 자유로이 광 투과도가 변화될 수 있고, 예를 들어, 광투과도가 0% 내지 약 70%일 수 있고, 최대 투과도를 40% 이상 구현할 수 있다는 점에 의미가 있다. The ink containing the colored charged particles 134 may be contained in the micro space 132, and the ink may further include an insulating medium. In the state where the voltage is not applied, the colored charged particles ( 134 exist in a state dispersed in the insulating medium so as to block the transmission of light and arrange them when a voltage is applied to increase the light transmittance. Therefore, the light transmittance of the variable film 100, 200, 300 can be changed freely, for example, the light transmittance may be 0% to about 70%, and the maximum transmittance may be 40% The point is meaningful.

상기 잉크 수용층(130)은, 예를 들어, 스크린 프린팅 또는 임프린팅 방법 등에 의해 격벽(131) 및 마이크로 공간(132)을 형성하여 제조될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 구체적으로, 광경화성 수지, 투명한 열경화성 수지, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 수지를 골격재 재료로서 포함하는 잉크 수용층 형성용 코팅 조성물을 준비한 후, 이를 도포하여 층을 형성한 뒤 임프린팅 등의 방법에 의해 격벽(131), 마이크로 공간(132) 등의 형상을 형성하고, 이어서, 광경화 또는 열경화시켜 골격재가 일체화되어 형성될 수 있다. The ink receiving layer 130 may be formed by forming the barrier ribs 131 and the micro voids 132 by, for example, a screen printing method or an imprinting method, but is not limited thereto. Specifically, a coating composition for forming an ink receptive layer containing a resin containing at least one selected from the group consisting of a photo-curing resin, a transparent thermosetting resin, and a combination thereof is prepared, and then the coating composition is applied to form a layer The shape of the barrier ribs 131 and the micro space 132 may be formed by a method such as back-imprinting or the like, and then, the skeleton may be integrally formed by photo-curing or thermosetting.

상기 마이크로 공간(132)은 높이가 예를 들어, 약 5㎛ 내지 약 50㎛ 일 수 있고, 길이와 폭이 각각 예를 들어, 약 1㎛ 내지 약 20㎛로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 발명의 목적 및 기능에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 상기 범위의 높이로 형성됨으로써 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300)의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않을 수 있고, 상기 범위의 길이와 폭으로 형성됨으로써 상기 유색 대전 입자(134)가 차지하는 광이 입사되는 방향에 수직한 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300)의 단면적을 크게 유지하여 투과도를 전압 인가 여부에 따라 적절히 변화시키면서도 일정 크기의 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300) 내에서 상기 마이크로 공간(132)을 수평적으로 구분시키는 격벽(131)이 형성될 공간을 적절히 확보하여 우수한 내구성을 구현할 수 있다. The microspaces 132 may have a height of, for example, about 5 탆 to about 50 탆, and may have a length and a width of, for example, about 1 탆 to about 20 탆, respectively, But may be variously modified in accordance with the object and function of the invention. The total thickness of the light transmittance variable films 100, 200, and 300 may not be excessively increased by the height of the range, and light of the colored charged particles 134 may be formed by the length and width of the range The light transmittance of the variable film (100, 200, 300) perpendicular to the direction in which the light is transmitted can be changed by appropriately changing the transmittance depending on whether the voltage is applied or not, It is possible to appropriately secure a space in which the barrier ribs 131 horizontally dividing the micro space 132 are formed, thereby realizing excellent durability.

상기 격벽(131)의 폭, 즉, 상기 마이크로 공간(132) 간의 수평 이격거리가 예를 들어, 약 100㎛ 내지 약 2000㎛로 형성될 수 있고, 상기 마이크로 공간(132) 바닥면을 조성하는 골격재 두께가 약 0.1㎛ 내지 약 10㎛로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 발명의 목적 및 기능에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 상기 수치 범위의 형상으로 형성됨으로써 상기 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300)의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않을 수 있고, 상기 범위의 길이와 폭으로 형성됨으로써 일정 크기의 광 투과율 가변 필름(100, 200, 300) 내에서 상기 마이크로 공간(132)이 형성될 공간을 적절히 확보하여 투과도를 전압 인가 여부에 따라 적절히 변화시키면서도 상기 상부 전극(110) 및 상기 하부 전극(120) 간의 간격을 더욱 일정하게 유지할 수 있다. The width of the barrier ribs 131, that is, the horizontal spacing distance between the micro spaces 132 may be, for example, about 100 μm to about 2000 μm, and the skeleton forming the bottom surface of the micro space 132 The thickness may be about 0.1 μm to about 10 μm, but the present invention is not limited thereto and may be variously changed according to the purpose and function of the invention. The total thickness of the light transmittance variable films 100, 200, and 300 may not be excessively increased by forming the light transmittance variable films 100, 200, and 300, the spacing between the upper electrode 110 and the lower electrode 120 may be maintained to be constant while adequately changing the transmittance according to whether a voltage is applied or not, .

상기 골격재는 예를 들어, 투명한 광경화성 수지, 투명한 열경화성 수지 또는 이들 모두를 포함할 수 있다. The skeletal material may include, for example, a transparent photocurable resin, a transparent thermosetting resin, or both.

상기 투명한 광경화성 수지는, 예를 들어, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 등의 투명 아크릴계 수지 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The transparent photocurable resin may be, for example, a transparent acrylic resin such as urethane acrylate or epoxy acrylate, but is not limited thereto.

상기 수지 조성물에 포함되는 상기 투명한 열경화성 수지는 예를 들어, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 등일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. The transparent thermosetting resin included in the resin composition may be, for example, a polyamide resin, a polyimide resin, a silicone resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyester resin, or the like, but is not limited thereto.

상기 잉크 수용층 형성용 코팅 조성물은 예를 들어, 광경화제, 열경화제 또는 이들 모두를 더 포함할 수 있다. 상기 광경화제 및 상기 열경화제는 특별한 제한없이 이 분야에서 공지된 종류를 발명의 목적 및 성질에 따라 다양하게 사용할 수 있다.
The coating composition for forming an ink receiving layer may further include, for example, a photocuring agent, a heat curing agent, or both. The photocuring agent and the thermosetting agent may be variously used in accordance with the object and nature of the invention without any particular limitation.

상기 유색 대전 입자(134)는 색을 나타내는 대전 입자를 의미하고, 상기 색은 유채색 또는 무채색 등을 나타낼 수 있고, 예를 들어 검정색일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니고 발명의 목적 및 성질에 따라 다양하게 변경될 수 있다.The colored charged particles 134 mean charged particles showing color, and the color may be chromatic or achromatic, and may be, for example, black, but it is not limited thereto and may vary depending on the purpose and nature of the invention .

상기 유색 대전 입자(134)는 예를 들어, 금속 입자, 폴리머 입자, 무기질 입자, 반도체 입자 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The colored charged particles 134 may include at least one selected from the group consisting of, for example, metal particles, polymer particles, inorganic particles, semiconductor particles, and combinations thereof.

구체적으로, 상기 유색 대전 입자(134)는 알루미늄, 구리, 은, 실리콘, 탄소, 철, 니켈, 금, 티타늄, 아연, 지르코늄, 텅스텐 등의 원소 및 이들의 조합을 포함하는 금속 입자, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리머 입자, 카본 블랙 등과 같은 무기질 입자로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Specifically, the colored charged particles 134 may include metal particles including elements such as aluminum, copper, silver, silicon, carbon, iron, nickel, gold, titanium, zinc, zirconium, tungsten, and combinations thereof, polystyrene, poly But are not limited to, inorganic particles such as polymer particles such as propylene, polyvinyl chloride, polyethylene, and polypropylene, carbon black, and the like.

또한, 예를 들어, 상기 유색 대전 입자(134)는 전술한 입자를 코어로 하여, 전하를 갖지 않는 코어에 부분적으로 전하를 띠는 물질이 흡착되어 형성된 쉘을 포함할 수 있다. 상기 코어는 입자 또는 입자들의 클러스터(cluster)로써 형성될 수 있다. 상기 클러스터는 입자 또는 입자들의 클러스터가 모여서 하나의 덩어리를 이루어 그 전체가 하나의 입자와 같이 거동하는 물질을 의미할 수 있다. In addition, for example, the colored charged particles 134 may include a shell formed by adsorbing a substance partially charged in a core having no charge, with the above-described particles as a core. The core may be formed as a cluster or a cluster of particles. The clusters may refer to a material in which clusters of particles or particles gather to form a lump and the whole behaves like a particle.

상기 전하를 가질 수 있는 물질은, 예를 들어, 탄화수소기를 포함하는 유기화합물; 할로겐 원소를 포함하는 착화합물; 아민기, 티올기, 포스핀기 또는 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 배위화합물; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 물질에 라디칼을 형성함으로써 전하가 부여된 물질일 수 있다. The material capable of having such charge includes, for example, an organic compound containing a hydrocarbon group; A complex compound containing a halogen element; A coordination compound comprising at least one member selected from the group consisting of an amine group, a thiol group, a phosphine group, or a combination thereof; And a combination thereof. The charge-imparting substance may be a compound having a charge imparted thereto by forming a radical in a substance including at least one selected from the group consisting of:

상기 탄화수소기는 예를 들어, 카르복실산, 에스테르, 아실 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 관능기를 포함할 수 있다.The hydrocarbon group may include at least one functional group selected from the group consisting of, for example, carboxylic acid, ester, acyl, and combinations thereof.

상기 잉크 수용층(130)에 수용되는 잉크는 절연성 매질을 더 포함할 수 있고, 상기 절연성 매질은 상기 유색 대전 입자(134)가 잘 혼합될 수 있도록 상기 유색 대전 입자(134)와 동일 또는 유사한 비중을 갖는 물질, 상기 유색 대전 입자(134)의 전기 영동성, 쌍안정성(bistability)를 확보하는데 적합한 물질 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. The ink contained in the ink receiving layer 130 may further include an insulating medium and the insulating medium may have a specific gravity equal to or similar to that of the colored charged particles 134 so that the colored charged particles 134 can be mixed well. And a material suitable for ensuring electrophoretic stability, bistability of the colored charged particles 134, and combinations thereof.

예를 들어, 상기 절연성 매질은 저유전율을 갖는 물질일 수 있고, 구체적으로, 할로겐 카본계 오일, 디메틸 실리콘계 오일 등과 같은 알킬 실리콘계 오일 등을 포함할 수 있다. For example, the insulating medium may be a material having a low dielectric constant. Specifically, the insulating medium may include an alkyl silicone oil such as a halogen carbon oil, a dimethyl silicone oil, and the like.

또한, 예를 들어, 상기 절연성 매질은 분극 지수(polarity index)가 약 1 보다 높은 물질일 수 있고, 구체적으로, 트리클로로에틸렌(Trichloroethylene), 카본 테트라클로라이드(Carbon Tetrachloride), 디-이소-프로필에테르(Di-Iso-Propyl Ether), 톨루엔(Toluene), 메틸-t-부틸 에테르(Methyl-t-Buytyl Ether), 크실렌(Xylene), 벤젠(Benzene), 디에틸에테르(DiEthyl Ether), 디클로로메탄(Dichloromethane), 1,2-디크로로에탄(1,2-Dichloroethane), 부틸 아세테이트(Butyl Acetate), 이소-프로판(Iso-Propanol), n-부탄올(n-Butanol), 테트라히드로퓨란(Tetrahydrofuran), n-프로판올(n-Propanol), 클로로폼(Chloroform), 에틸 아세테이트(Ethyl Acetate), 2-부타논(2-Butanone), 디옥산(Dioxane), 아세톤(Acetone), 메탄올(Metanol), 에탄올(Ethanol), 아세톤니트릴(Acetonitrile), 아세트산(Acetic Acid), 디메틸포름아미드(Dimethylformamide), 디메틸술폭사이드(Dimethyl Sulfoxide), 프로필렌 카보네이트(Propylene carbonate), N,N-디메틸포름아미드(N,N-Dimethylformamide), 디메틸아세트아미드(Dimethyl Acetamide), N-메틸피롤로돈(N-Methylpyrrolodone) 등과 같이 분극지수가 1보다 높은 물질을 포함할 수 있다. In addition, for example, the insulating medium may be a material having a polarity index of higher than about 1, and more specifically, a material having a polarity index such as Trichloroethylene, Carbon Tetrachloride, Di- (Di-Iso-Propyl Ether), toluene, methyl-t-butyl ether, xylene, benzene, diethyl ether, dichloromethane Dichloromethane, 1,2-Dichloroethane, Butyl Acetate, Iso-Propanol, n-Butanol, Tetrahydrofuran, , n-propanol, chloroform, ethylacetate, 2-butanone, dioxane, acetone, methanol, ethanol, (For example, Ethanol, Acetonitrile, Acetic Acid, Dimethylformamide, Dimethyl Sulfoxide such as propylene carbonate, N, N-dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolodone, which have a polarization index of 1 And may include higher materials.

상기 절연성 매질은 예를 들어, 투명한 물질일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니고, 발명의 목적 및 기능에 따라 상기 유색 대전 입자(134)가 포함되어 특정 파장의 빛을 반사시킴으로서 특정 색을 구현하도록 할 수 있다.
The insulating medium may be, for example, a transparent material, but the present invention is not limited thereto, and the colored charged particles 134 may be included according to the purpose and function of the invention to reflect light of a specific wavelength to realize a specific color .

상기 광 투과율 가변 필름은 실링 필름을 매개로 상기 상부 전극(110)과 상기 잉크 수용층(130)을 부착하여 형성될 수 있다.The light transmittance variable film may be formed by attaching the upper electrode 110 and the ink receiving layer 130 via a sealing film.

도 4은 본 발명의 또 다른 구현예에 따른 상기 광 투과율 가변 필름(400)의 단면을 나타내고, 도 4에서, 상기 광 투과율 가변 필름(400)은 실링 필름(135)을 더 포함한다. FIG. 4 shows a cross section of the light transmittance variable film 400 according to another embodiment of the present invention. In FIG. 4, the light transmittance varying film 400 further includes a sealing film 135.

도 4에서 나타난 바와 같이 상기 실링 필름(135)은 상기 격벽(131) 상부면 상에 모두 개재되거나, 또는 상기 잉크 수용층(130)의 측면 바깥 쪽으로 최외곽에 위치한 격벽(131a) 상부면에만 개재될 수 있다. 4, the sealing film 135 may be interposed either on the upper surface of the barrier rib 131 or only on the upper surface of the barrier rib 131a located at the outermost side of the side surface of the ink receiving layer 130 .

상기 실링 필름(135)은 상기 잉크 수용층(130)에 수용된 잉크가 상기 광 투과율 가변 필름(400)의 측면 쪽 외부로 새는 것을 차단할 수 있다.The sealing film 135 may prevent the ink contained in the ink receiving layer 130 from leaking to the outside of the lateral side of the light transmittance variable film 400.

도 4에서는, 상기 잉크 수용층(130)의 최외각 격벽(131a)과 상기 상부 전극(110)의 도전성 물질층(112) 사이에 실링 필름(135)이 개재되어 있다. 이와 같이, 상기 실링 필름(135)을 상기 광 투과율 가변 필름(400)의 최외각 격벽(131a) 상부에만 부분적으로 형성함으로써 비용을 절감하면서도 상기 마이크로 공간(132) 내부에 수용된 잉크가 상기 광 투과율 가변 필름(400)의 측면 바깥 쪽 외부로 새는 것을 효과적으로 차단할 수 있다.4, a sealing film 135 is interposed between the outermost barrier rib 131a of the ink receiving layer 130 and the conductive material layer 112 of the upper electrode 110. By forming the sealing film 135 only partially on the outermost partition wall 131a of the light transmittance varying film 400, the ink contained in the micro space 132 can be reduced in the light transmittance variable It is possible to effectively prevent leakage to the outside of the side surface of the film 400. [

예를 들어, 최외각 격벽(131a)으로 상기 광 투과율 가변 필름(400)의 모서리 4면을 따라서만 상기 실링 필름(135)이 최외각 격벽(131a) 상부면에 형성될 수 있다.For example, the sealing film 135 may be formed on the uppermost surface of the outermost barrier rib 131a only along the four corners of the light transmissivity variable film 400 as the outermost barrier rib 131a.

상기 실링 필름(135)은 예를 들어, 광경화성 수지, 열경화성 수지 및 이들 모두를 포함할 수 있고, 또한 공지된 접착 가능한 물질이 제한 없이 사용될 수 있다.The sealing film 135 may include, for example, a photo-curable resin, a thermosetting resin, and both, and a known adhesive substance may be used without limitation.

상기 실링 필름(150)의 두께는 예를 들어, 약 1㎛ 내지 약 20㎛일 수 있다.
The thickness of the sealing film 150 may be, for example, from about 1 [mu] m to about 20 [mu] m.

본 발명의 다른 구현예에서, 상기 광 투과율 가변 필름; 및 상기 광 투과율 가변 필름에 전기적으로 연결된 전압 인가 수단을 포함하는 표시장치를 제공한다. In another embodiment of the present invention, the light transmittance variable film; And a voltage application means electrically connected to the light transmittance variable film.

상기 표시 장치는 예를 들어, TV, 스마트폰, 컴퓨터, 노트북 등 전자 기기의 표시장치일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 발명의 목적 및 성질에 따라 다양한 종류의 표시 장치에 상기 광 투과율 가변 필름을 포함할 수 있다.
The display device may be, for example, a display device of an electronic device such as a TV, a smart phone, a computer, a notebook computer, or the like, but the present invention is not limited thereto. .

이상에서 본 발명의 바람직한 구현예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구 범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리 범위에 속하는 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, Of the right.

100, 200, 300, 400: 광 투과율 가변 필름
110: 상부 전극
120: 하부 전극
111, 121: 투명 필름
112: 상부 전극의 도전성 물질층
122: 하부 전극의 도전성 물질층
113, 123: 보호층
130: 잉크 수용층
131: 격벽
131a: 최외각 격벽
132: 마이크로 공간
134: 유색 대전 입자
135: 실링 필름100, 200, 300, 400: light transmittance variable film
110: upper electrode
120: Lower electrode
111, 121: Transparent film
112: conductive material layer of the upper electrode
122: conductive material layer of the lower electrode
113, 123: protective layer
130:
131:
131a:
132: micro space
134: colored charged particles
135: sealing film

Claims (24)

상부 전극;
선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층을 포함하고, 상기 상부 전극에 대향하여 이격하여 위치한 하부 전극; 및
격벽으로 구분된 마이크로 공간을 포함하고, 상기 마이크로 공간 내부에 유색 대전 입자가 포함된 잉크를 수용하며, 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 위치한 잉크 수용층;
을 포함하고,
상기 상부 전극은 투명 기재; 및 상기 투명 기재 하부에 형성된 도전성 물질층을 포함하고,
상기 하부 전극은 투명 기재; 및 상기 투명 기재 상부에 선형 패턴으로 형성된 도전성 물질층을 포함하고,
상기 잉크 수용층 중 상기 마이크로 공간의 바닥면을 조성하는 골격재에 의해 상기 마이크로 공간에 수용된 잉크가 상기 하부 전극과 격리되고,
상기 상부 전극, 상기 하부 전극 또는 이들 모두가 상기 도전성 물질층 상에 보호층을 더 포함하는
광 투과율 가변 필름.
An upper electrode;
A lower electrode including a conductive material layer formed in a linear pattern and spaced apart from the upper electrode; And
An ink receiving layer disposed between the upper electrode and the lower electrode, the ink receiving layer including an ink containing microparticles separated by a barrier, the ink containing colored charged particles in the microparticle;
/ RTI >
Wherein the upper electrode comprises a transparent material; And a conductive material layer formed below the transparent substrate,
Wherein the lower electrode comprises a transparent material; And a conductive material layer formed in a linear pattern on the transparent material,
The ink contained in the micro space is isolated from the lower electrode by the skeleton forming the bottom surface of the micro space among the ink receiving layers,
Wherein the upper electrode, the lower electrode or both all further comprise a protective layer on the layer of conductive material
Light transmittance variable film.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 도전성 물질층은 두께가 0.01㎛ 내지 2.0㎛인
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive material layer has a thickness of from 0.01 mu m to 2.0 mu m
Light transmittance variable film.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 잉크 수용층 중 상기 마이크로 공간의 바닥면을 조성하는 골격재의 두께가 0.1㎛ 내지 10㎛인
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
Wherein a thickness of the skeleton forming the bottom surface of the microspace of the ink receiving layer is 0.1 to 10 [micro] m
Light transmittance variable film.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 상부 전극의 도전성 물질층은 상기 투명 기재의 전면에 형성된 면상이거나, 또는 선형 패턴으로 형성된
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
The conductive material layer of the upper electrode may be in the form of a surface formed on the entire surface of the transparent substrate,
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
상기 상부 전극 및 상기 하부 전극의 각각의 상기 투명 기재의 두께가 50㎛ 내지 500㎛인
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the transparent substrate of each of the upper electrode and the lower electrode is 50 to 500 m
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
상기 도전성 물질층은 산화인듐주석(Indium Tin Oxide, ITO), 산화아연(ZnO), 아연산화주석(Zinc Tin Oxide, ZTO), 그라핀, 탄소나노튜브(CNT), 불소도핑 산화주석(Fluorine-doped Tin Oxide, FTO), 은 나노와이어, 메탈, 전도성 폴리머 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
The conductive material layer may include at least one of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), zinc tin oxide (ZTO), graphene, carbon nanotube (CNT), fluorine- doped Tin Oxide (FTO), silver nanowire, metal, conductive polymer, and combinations thereof.
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
상기 잉크 수용층의 중 상기 마이크로 공간의 측면과 바닥면을 조성하는 골격재가 투명한 광경화성 수지, 투명한 열경화성 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
A transparent thermosetting resin transparent to the skeletal material constituting the side surface and the bottom surface of the micro space in the ink receiving layer, a transparent thermosetting resin, and a combination thereof.
Light transmittance variable film.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 보호층은 상기 잉크 수용층 중 상기 마이크로 공간의 측면과 바닥면을 조성하는 골격재과 동일한 재질인
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
The protective layer may be made of the same material as the skeleton material constituting the side surface and the bottom surface of the microspace of the ink receiving layer
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
전압 인가시 상기 하부 전극의 도전성 물질층이 전하를 띠고, 상기 유색 대전 입자는 상기 도전성 물질층의 전하와 반대 부호의 전하를 갖는
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
When the voltage is applied, the conductive material layer of the lower electrode is charged, and the colored charged particles have a charge opposite to the charge of the conductive material layer
Light transmittance variable film.
제13항에 있어서,
상기 유색 대전 입자는 금속 입자, 무기질 입자, 폴리머 입자 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는
광 투과율 가변 필름.
14. The method of claim 13,
The colored charged particles include at least one selected from the group consisting of metal particles, inorganic particles, polymer particles, and combinations thereof
Light transmittance variable film.
제13항에 있어서,
상기 유색 대전 입자는 전하를 갖지 않는 코어; 및 상기 코어의 표면에 코팅되고 전압 인가시 전하를 갖는 쉘;을 포함하고,
상기 코어는 입자 또는 입자들의 클러스터(cluster)로써 형성된
광 투과율 가변 필름.
14. The method of claim 13,
Wherein the colored charged particles have a charge-free core; And a shell coated on the surface of the core and having charge upon application of voltage,
The core may be formed as a cluster of particles or particles
Light transmittance variable film.
제15항에 있어서,
상기 쉘은 탄소수 탄화수소기를 포함하는 유기화합물; 할로겐 원소를 포함하는 착화합물; 아민기, 티올기, 포스핀기 또는 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 배위화합물; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 전하를 갖는 물질인
광 투과율 가변 필름.
16. The method of claim 15,
Wherein the shell comprises an organic compound comprising a carbon-carbon hydrocarbon group; A complex compound containing a halogen element; A coordination compound comprising at least one member selected from the group consisting of an amine group, a thiol group, a phosphine group, or a combination thereof; And a material having a charge including at least one selected from the group consisting of combinations thereof.
Light transmittance variable film.
제15항에 있어서,
상기 코어는 금속 입자, 폴리머 입자, 무기질 입자, 반도체 입자 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는
광 투과율 가변 필름.
16. The method of claim 15,
Wherein the core comprises at least one selected from the group consisting of metal particles, polymer particles, inorganic particles, semiconductor particles and combinations thereof
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
상기 잉크가 절연성 매질을 더 포함하는
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the ink further comprises an insulating medium
Light transmittance variable film.
제18항에 있어서,
상기 절연성 매질은 저유전율을 갖는 물질, 분극지수(polarity index)가 1 보다 높은 물질인
광 투과율 가변 필름.
19. The method of claim 18,
The insulating medium may be a material having a low dielectric constant, a material having a polarity index higher than 1
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
상기 잉크 수용층은 상기 격벽 상부에 실링 필름이 더 형성되어 포함되고, 상기 실링 필름을 매개로 상기 잉크 수용층의 격벽과 상기 상부 전극이 부착된
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
The ink-receiving layer may further include a sealing film formed on an upper portion of the barrier rib. The barrier ribs of the ink-receiving layer and the upper electrode,
Light transmittance variable film.
제20항에 있어서,
상기 실링 필름은 상기 잉크 수용층의 측면 바깥 쪽의 최외각 격벽 상부에만 형성된
광 투과율 가변 필름.
21. The method of claim 20,
The sealing film is formed only on the uppermost outermost barrier ribs outside the side surface of the ink receiving layer
Light transmittance variable film.
제21항에 있어서,
상기 실링 필름은 광경화성 수지, 열경화성 수지 또는 이들 모두를 포함하는
광 투과율 가변 필름.
22. The method of claim 21,
Wherein the sealing film comprises a photo-curing resin, a thermosetting resin,
Light transmittance variable film.
제1항에 있어서,
상기 광 투과율 가변 필름의 최대 투과도는 40% 내지 70%인
광 투과율 가변 필름.
The method according to claim 1,
The maximum transmittance of the light transmittance variable film is 40% to 70%
Light transmittance variable film.
제1항, 제3항, 제5항, 제7항 내지 제10항 및 제12항 내지 제23항 중 어느 한 항에 따른 광 투과율 가변 필름; 및
상기 광 투과율 가변 필름에 전기적으로 연결된 전압 인가 수단을 포함하는 표시 장치.A light transmittance variable film according to any one of claims 1, 3, 5, 7 to 10, and 12 to 23; And
And a voltage application means electrically connected to the light transmittance variable film.
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