KR101750237B1 - 비대칭 구조의 단위셀 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 단위셀 - Google Patents

비대칭 구조의 단위셀 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 단위셀 Download PDF

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Abstract

본 발명은 서로 다른 극성을 가진 전극판들 사이에 분리막이 개재되어 있는 단위셀을 제조하는 방법으로서,
(a) 전극판의 외주면 중에서 적어도 일 변 또는 하나의 엣지에 평면상으로 전극판을 가로지는 중심축을 기준으로 비대칭 구조를 가지도록 전극판을 재단하는 과정;
(b) 상기 과정(a)에서 재단된 비대칭 구조를 가지는 전극판으로, 서로 다른 극성을 가지는 전극판들 사이에 분리막을 개재하여 적층하는 과정; 및
(c) 전극판들과 분리막을 라미네이션 하는 과정으로서, 상기 과정(b)에서 도입된 분리막을 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 변형하는 과정;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법 및 상기 제조방법에 의해 제조된 단위셀을 제공하여 비대칭 구조를 가지는 단위셀의 제조 공정성을 향상시킬 수 있다.

Description

비대칭 구조의 단위셀 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 단위셀{Method for Preparing Unit Cell of Asymmetirc Structure and Unit Cell Prepared thereby}
본 발명은 비대칭 구조의 단위셀 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 단위셀에 관한 것으로, 상세하게는, 분리막을 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 변형하는 과정을 포함하여 제조 공정성을 향상시킨 비대칭 구조의 단위셀 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 단위셀에 관한 것이다.
다양한 기기에 대한 기술 개발과 수요가 증가함에 따라 에너지원으로서의 이차전지의 수요가 급격히 증가하고 있고, 그러한 이차전지 중 높은 에너지 밀도와 전압을 가지고, 사이클 수명이 길며, 자기방전율이 낮은 리튬 이차전지가 상용화되어 널리 사용되고 있다.
리튬 이차전지는 그것의 외형에 따라 크게 원통형 전지, 각형 전지, 파우치형 전지 등으로 분류되며, 전해액의 형태에 따라 리튬이온 전지, 리튬이온 폴리머 전지, 리튬 폴리머 전지 등으로 분류되기도 한다.
모바일 기기의 소형화에 대한 최근의 경향으로 인해, 두께가 얇은 각형 전지, 파우치형 전지에 대한 수요가 증가하고 있으며, 특히, 형태의 변형이 용이하고 제조비용이 저렴하며 중량이 작은 파우치형 전지에 대한 관심이 높은 실정이다.
최근 슬림한 타입 또는 다양한 디자인의 추세 변화(trend change)로 인하여 새로운 형태의 전지셀이 요구되고 있다.
그러나, 동일한 다수의 전지셀들은 동일한 크기 또는 용량을 갖는 것으로 구성되어, 전지팩이 적용되는 디바이스의 디자인을 고려하여 가볍고 얇게 만들기 위해서는, 전지팩의 용량을 줄이거나 더 큰 크기로 디바이스의 디자인을 변경해야 하는 문제점이 있다. 또한, 이러한 디자인 변경 과정에서 전기적 연결 방식이 복잡해짐으로 인해 소망하는 조건을 만족하는 전지팩의 제작이 어려워지는 문제점도 있다. 이에, 다양한 형태의 비대칭 구조를 가지는 전지셀이 제안되고 있다.
도 1에는 종래 비대칭 구조를 가지는 단위셀(10)의 제조과정을 모식적으로 도시하고 있다.
도 1을 참조하면, 종래 비대칭 구조를 가지는 단위셀(10)은 비대칭 구조를 가지도록 전극판(11)을 재단하는 과정(i), 과정(i)에서 재단된 비대칭 구조를 가지며 서로 다른 극성을 가지는 전극판들 사이에 분리막(21)을 개재하여 적층하는 과정(ii), 상기 과정(ii)에서 적층된 분리막을 금형 부재를 이용하여 비대칭 구조을 가지는 전극판의 외주면에 대응하는 형상으로 분리막의 잉여부분(빨간 점선)을 절단하는 라미네이션 과정(iii)를 통해 단위셀(10)을 제조하였다.
그러나, 이러한 과정에서는 비대칭 구조을 가지는 전극판의 형상과 대응되도록 금형 부재를 이용하여 분리막을 절단하는 과정을 포함하므로, 다양한 형태의 전극판을 제조할 때마다 분리막을 절단하는 금형 부재를 각각 새로 제작해야 하는 바, 공정 추가에 따른 많은 비용 및 시간이 소요되어 다양한 형태의 비대칭 구조를 가지는 전극판을 효율적으로 생산을 할 수 없다는 문제점이 있었다.
따라서, 이러한 문제점을 해결하여, 비대칭 구조를 가지는 단위셀의 제조 공정성을 향상시킬 수 있는 기술에 대한 필요성이 높은 실정이다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 분리막을 변형하는 과정을 포함하여 제조 공정성이 크게 향상된 단위셀의 제조 방법을 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 다양한 형태의 디바이스에 적용될 수 있는 비대칭 구조를 가지는 단위셀 및 이를 포함하는 전지셀을 제공하는 데 있다.
따라서, 본 발명은 서로 다른 극성을 가진 전극판들 사이에 분리막이 개재되어 있는 단위셀을 제조하는 방법으로서,
(a) 전극판의 외주면 중에서 적어도 일 변 또는 하나의 엣지에 평면상으로 전극판을 가로지는 중심축을 기준으로 비대칭 구조를 가지도록 전극판을 재단하는 과정;
(b) 상기 과정(a)에서 재단된 비대칭 구조를 가지는 전극판으로, 서로 다른 극성을 가지는 전극판들 사이에 분리막을 개재하여 적층하는 과정; 및
(c) 전극판들과 분리막을 라미네이션 하는 과정으로서, 상기 과정(b)에서 도입된 분리막을 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 변형하는 과정;
을 포함하는 단위셀 제조방법을 제공한다.
앞서 설명한 바와 같이, 종래 비대칭 구조를 가지는 단위셀을 생산하기 위해서 금형 부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 분리막을 절단하는 과정이 필요했으므로, 다양한 형태의 단위셀을 제조하기 위해서는, 대응되는 분리막의 비대칭 부분을 절단하기 위한 각각의 금형 부재가 필요했다.
이에, 본 발명에서는, 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 분리막을 변형하는 과정을 포함하므로, 별도의 금형 부재 없이 비대칭 구조를 가지는 단위셀을 효율적으로 제조할 수 있는 바 제조 공정성을 크게 향상시킬 수 있다.
구체적으로, 상기 과정(c)는, 전극판의 비대칭 부분에서 외측 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분 상에 발열부재를 위치시켜 분리막을 용융시키는 과정을 포함할 수 있다. 발열부재는 전극판의 비대칭 부분에서 외측 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분을 녹일 수 있다면, 형상의 제한은 없으나, 하나의 예로, 전극판의 비대칭 부분의 외면 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다.
규격화된 분리막을 과정(b)에서 도입하는 경우, 경우에 따라, 전극판의 비대칭 부분뿐만 아니라, 이러한 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면 전체 형상과 대응하도록 분리막을 변형시킬 필요가 있다.
따라서, 본 발명은, 상기 과정(c)는, 비대칭 구조를 포함하는 전극판의 외주면 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분 상에 발열부재를 위치시켜 분리막을 용융시키는 과정을 포함할 수 있다. 발열부재는 비대칭 구조를 포함하는 전극판에서 외주면 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분을 녹일 수 있다면, 형상의 제한은 없으나, 하나의 예로, 비대칭 구조를 포함하는 전극판의 외주면 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다.
상기 발열부재는 분리막을 용융시킬 수 있다면, 제한이 없으나, 상세하게는 열선 및/또는 열판을 포함할 수 있고, 더욱 상세하게는, 열선일 수 있다. 발열부재는 한 개의 이상의 열선이 꼬아진 형태일 수 있으나, 경우에 따라서는 상기 열선이 열판 및 기타 다양한 부재와 결합하여 발열 기능을 효과적으로 수행할 수 있다.
상기 발열부재의 발열 온도는 섭씨 150도 이상 내지 섭씨 250도 이하의 범위일 수 있고, 좀 더 상세하게는 섭씨 150도 이상 내지 섭씨 230도 이하일 수 있다.
발열부재의 발열 온도가 섭씨 150도 미만일 경우 분리막의 용융점보다 낮아지므로 분리막을 용융시키기가 힘들고, 발열 온도가 섭씨 250도를 초과할 경우 오히려 전극판이 용융되거나, 분리막을 원하는 형태로 용융시키기가 힘들어 바람직하지 않다.
본 발명의 비대칭 구조를 가지는 전극판에서, 비대칭 구조는 적용하는 디바이스에 따라 다양하게 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 평면상의 4변 중의 1변 또는 2변 이상에 형성될 수 있으며, 형상에는 제한이 없으나, 직선부, 곡선부 또는 이들의 혼합부로 이루어질 수 있다.
상기 과정(b)에서 분리막에 접착제를 효율적으로 적층하기 위하여 분리막은 접착제가 코팅된 상태일 수 있다.
상기 과정(c)에서, 적층된 전극판들과 분리막이 열과 압력에 의해 접합하는 라미네이션 과정을 포함할 수 있다.
본 발명에서, 발열부재를 이용하여 분리막을 변형하는 과정은 이러한 라미네이션 과정 중에서 수행되며, 상세하게는, 전극판들과 분리막을 열과 압력에 의해 접합한 후, 전극판의 외주면 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분을 발열부재를 이용하여 용융시킬 수 있다.
구체적으로 상기 전극판들과 분리막은 섭씨 70도 내지 섭씨 100도 범위의 온도에서 50 kgf/cm2내지 500 kgf/cm2의 압력 조건, 상세하게는 70 kgf/cm2내지 100 kgf/cm2 의 압력 조건 에서 접합될 수 있다.
즉, 본 발명은 상기와 같은 온도와 압력 조건에서 전극판들과 분리막을 접합시킨 후, 소정의 발열 온도를 가지는 발열부재를 이용하여 전극판의 외주면 방향으로 연장된 분리막의 잉여부분을 용융시키는 과정을 포함하므로, 별도의 금형 부재를 사용하지 않아도, 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 분리막을 효율적으로 변형할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 방법으로 제조되는 단위셀을 제공한다.
상기 단위셀은, 풀셀, C형 바이셀 및 A형 바이셀로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상으로 비대칭 구조를 가질 수 있다. 이러한 풀셀, C형 바이셀 및 A형 바이셀의 각각의 양극판, 음극판 및 분리막의 배열 방식은 당업계에 공지되어 있는 바, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
본 발명은 우수한 제조 공정성으로 비대칭 구조의 단위셀을 제조할 수 있는 바, 상기 단위셀의 분리막은 전극판의 외주면 방향으로 연장되어 있고 전극판으로부터 0.1 mm 내지 10 mm의 잉여 폭을 가질 수 있으며, 상세하게는 0.3 mm 내지 7 mm의 잉여 폭을 가질 수 있다. 즉, 본 발명은, 발열부재를 이용하여 분리막은 비대칭 구조를 포함하는 전극판의 형상과 대응되도록 변형하는 과정을 포함하므로, 상당히 균일한 잉여폭을 가질 수 있다. 이러한 잉여 폭은 상기 범위 내에서 분리막의 용융 과정에서 사용한 발열부재의 종류, 발열 온도 등에 따라 달라질 수 있다.
한편, 본 발명에서 “분리막”은 높은 이온 투과도와 기계적 강도를 가지는 절연성의 얇은 박막으로 분리막의 기공 직경은 일반적으로 0.01 ~ 10 ㎛이고, 두께는 일반적으로 5 ~ 300 ㎛일 수 있다. 이러한 분리막으로는, 예를 들어, 내화학성 및 소수성의 폴리프로필렌 등의 올레핀계 폴리머; 유리섬유 또는 폴리에틸렌 등으로 만들어진 시트나 부직포 등이 사용될 수 있다.
또한, 상기 분리막은 유/무기 복합 다공성의 SRS(Safety-Reinforcing Separator) 분리막일 수 있다. SRS 분리막은 폴리올레핀 계열 분리막 기재상에 무기물 입자와 바인더 고분자로 이루어진 활성층 성분이 도포되어 제조되며, 이때 분리막 기재 자체에 포함된 기공 구조와 더불어 활성층 성분인 무기물 입자들간의 빈 공간(interstitial volume)에 의해 형성된 균일한 기공 구조를 갖는다.
상기 무기물 입자는 (a) 압전성(piezoelectricity)을 갖는 무기물 입자 및 (b) 리튬 이온 전달 능력을 갖는 무기물 입자로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기 압전성을 갖는 무기물 입자의 예로는 BaTiO3, Pb(Zr,Ti)O3 (PZT), Pb1-xLaxZr1-yTiyO3 (PLZT), Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3 (PMN-PT), hafnia (HfO2), SrTiO3, SnO2, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZnO, ZrO2, Y2O3, Al2O3, TiO2, SiC 또는 이들의 혼합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 리튬 이온 전달 능력을 갖는 무기물 입자의 예로는 리튬포스페이트(Li3PO4), 리튬티타늄포스페이트(LixTiy(PO4)3, 0<x<2, 0<y<3), 리튬알루미늄티타늄포스페이트 (LixAlyTiz(PO4)3, 0<x<2, 0<y<1, 0<z<3), 14Li2O-9Al2O3-38TiO2-39P2O5 등과 같은 (LiAlTiP)xOy 계열 glass(0<x<4, 0<y<13), 리튬란탄티타네이트 (LixLayTiO3, 0<x<2, 0<y<3), Li3.25Ge0.25P0.75S4 등과 같은 리튬게르마니움티오포스페이트 (LixGeyPzSw, 0<x<4, 0<y<1, 0<z<1, 0<w<5), Li3N 등과 같은 리튬나이트라이드 (LixNy, 0<x<4, 0<y<2), Li3PO4-Li2S-SiS2 등과 같은 SiS2 계열 glass(LixSiySz, 0<x<3, 0<y<2, 0<z<4), LiI-Li2S-P2S5 등과 같은 P2S5 계열 glass(LixPySz, 0<x<3, 0<y< 3, 0<z<7) 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 활성층 성분인 무기물 입자 및 바인더 고분자의 조성비는 크게 제약은 없으나, 10:90 내지 99:1 중량% 비 범위 내에서 조절 가능하며, 80:20 내지 99:1 중량% 비 범위가 바람직하다. 10:90 중량% 비 미만인 경우, 고분자의 함량이 지나치게 많게 되어 무기물 입자들 사이에 형성된 빈 공간의 감소로 인한 기공 크기 및 기공도가 감소되어 최종 전지 성능 저하가 야기되며, 반대로 99:1 중량% 비를 초과하는 경우, 고분자 함량이 너무 적기 때문에 무기물 사이의 접착력 약화로 인해 최종 유/무기 복합 다공성 분리막의 기계적 물성이 저하될 수 있다.
또한, 본 발명에서 “서로 다른 극성을 가진 전극판들”은, 각각 양극판과 음극판을 의미하며, 양극판은 양극 집전체의 일면 또는 양면에 양극 활물질을 포함하는 양극 합제를 도포하여 제조할 수 있으며, 음극판은 음극 집전체의 일면 또는 양면에 음극 활물질을 포함하는 음극 합제를 도포하여 제조할 수 있다.
이러한 양극판 및 음극판의 구성요소들은 당업계에서 일반적으로 공지된 물질을 사용할 수 있으며, 자세한 제조 방법 역시 당업계에서 공지되어 있으므로, 이에 대한 자세한 설명은 본 명세서에서 생략한다.
본 발명은 또한, 상기 단위셀을 포함하는 전극조립체를 제공하고, 상기 전극조립체가 전지 케이스 내에 내장되어 전해액으로 함침되고 밀봉된 구조로 이루어진 전지셀을 제공한다.
비대칭 구조를 가지는 단위셀을 포함하는 전극조립체의 경우, 비대칭 구조를 가질 수 있는 바, 전지케이스는 상기 전극조립체의 외면 형상에 대응하는 내면 구조를 가진 수납부가 형성되어 있을 수 있다.
상기 전지셀은 리튬 이온 전지셀 또는 리튬 이온 폴리머 전지셀일 수 있지만, 이들만으로 한정되지 않음은 물론이다.
본 발명은 상기 전지셀을 전원으로 포함하고 있는 디바이스를 제공한다.
상기 디바이스는 휴대폰, 휴대용 컴퓨터, 스마트폰, 태플릿 PC, 스마트 패드, 넷북, 웨어러블 전자기기, LEV(Light Electronic Vehicle), 전기자동차, 하이브리드 전기자동차, 플러그-인 하이브리드 전기자동차, 및 전력저장장치로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.
이들 디바이스의 구조 및 그것의 제작 방법은 당업계에 공지되어 있으므로, 본 명세서에서는 그에 대한 자세한 설명은 생략한다.
본 발명에 따른 단위셀 제조방법은, 전극판들과 분리막을 라미네이션 하는 과정에서, 분리막을 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 용융하는 과정을 포함하므로, 분리막을 절단하기 위한 금형 부재가 별도로 필요 없는 바, 공정 추가에 따른 비용 및 시간을 절감할 수 있어 경제성이 향상될 수 있고, 우수한 제조 공정성을 가질 수 있다.
또한, 상기 방법을 이용하여 다양한 형태의 디바이스에 적용될 수 있는 비대칭 구조를 가지는 단위셀 및 이를 포함하는 전지셀을 효율적으로 제조할 수 있는 바, 생산성이 크게 향상될 수 있다.
도 1은 종래의 단위셀 제작공정 모식도이다; 및
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 단위셀 제작 공정 모식도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하지만, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범주가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 단위셀(100)의 제조과정을 모식적으로 도시하고 있다.
도 2(A)를 참조하면, 우선, 전극판의 외주면 중에서 일 변에 평면상으로 전극판을 가로지는 중심축을 기준으로 비대칭 구조(검은 원)를 가지도록 전극판들(110)을 재단한다.
상기 전극판들은 양극판과 음극판을 포함하며, 상기 양극판은 양극 집전체의 일면 또는 양면에 양극 활물질을 포함하는 양극 합제가 도포되어 있고, 상기 음극판은 음극 집전체의 일면 또는 양면에 음극 활물질을 포함하는 음극 합제가 도포되어 있을 수 있다.
도 2(B)를 참조하면, 도 2(A)에서 재단된 비대칭 구조를 가지는 전극판으로, 양극판과 음극판 사이에 분리막(120)을 개재 후 적층하여 단위셀을 제조한다. 상기 도 2(B)에 따른 단위셀의 분리막(120)은 전극판의 비대칭 부분에서 외측 방향으로 연장된 잉여 부분(검은 원)을 가진다.
도 2(C)를 참조하면, 도 2(B)에서 적층한 전극판들과 분리막을 라미네이션하여 도 2(C)에 따른 단위셀을 제조한다.
상기 라미네이션 과정은 우선, 도 2(B)에서 적층된 전극판들과 분리막을 섭씨 70도 내지 섭씨 100도 범위의 온도와 70 kgf/cm2 내지 100 kgf/cm2의 압력 조건에서 접합하는 과정을 포함한다.
그 후, 전극판의 비대칭 부분에서 외측 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분(검은 원) 상에 발열부재(130)를 위치시켜, 비대칭 부분의 분리막을 전극판 비대칭 부분의 외면 형상과 대응하는 형상(빨간 점선)으로 용융시킨다.
상기 발열부재는 하나 이상의 열선이 꼬아진 형태일 수 있다.
도면에는 도시하지 않았지만, 경우에 따라, 비대칭 구조를 포함하는 전극판의 외주면 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분 상에 열선을 위치시켜 전극판의 비대칭 부분뿐만 아니라 전극판의 전체 외주면과 대응하는 형상으로 분리막을 용융시킬 수 있다.

Claims (19)

  1. 서로 다른 극성을 가진 전극판들 사이에 분리막이 개재되어 있는 단위셀을 제조하는 방법으로서,
    (a) 전극판의 외주면 중에서 적어도 일 변 또는 하나의 엣지에 평면상으로 전극판을 가로지는 중심축을 기준으로 비대칭 구조를 가지도록 전극판을 재단하는 과정;
    (b) 상기 과정(a)에서 재단된 비대칭 구조를 가지는 전극판으로, 서로 다른 극성을 가지는 전극판들 사이에 분리막을 개재하여 적층하는 과정; 및
    (c) 전극판들과 분리막을 라미네이션 하는 과정으로서, 상기 과정(b)에서 도입된 분리막을 발열부재를 이용하여 비대칭 구조를 가지는 전극판의 외주면과 대응하는 형상으로 변형하는 과정;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 과정(c)는, 전극판의 비대칭 부분에서 외측 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분 상에 발열부재를 위치시켜 분리막을 용융시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 발열부재는 전극판의 비대칭 부분의 외면 형상에 대응하는 형상을 가진 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 과정(c)는, 비대칭 구조를 포함하는 전극판의 외주면 방향으로 연장된 분리막의 잉여 부분 상에 발열부재를 위치시켜 분리막을 용융시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 발열부재는 열선 및/또는 열판을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 발열부재는 열선인 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 발열부재의 발열 온도는 섭씨 150도 이상 내지 섭씨 250도 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 비대칭 구조는 평면상의 4변 중의 1변 또는 2변 이상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 비대칭 구조는 직선부, 곡선부 또는 이들의 혼합부로 이루어진 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 과정(c)는, 전극판들과 분리막을 섭씨 70도 내지 섭씨 100도 범위의 온도에서 50 kgf/cm2 내지 500 kgf/cm2의 압력 조건에서 접합시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 단위셀 제조방법.
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