KR101747727B1 - 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 공정을 단순화하며 제조 비용을 절감할 수 있는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법은 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 롤 몰드를 마련하는 단계와; 배향막이 도포된 기판을 스테이지 상에 안착하는 단계와; 상기 배향막 상에서 상기 롤 몰드를 회전시켜 상기 배향막에 상기 제1 및 제2 복제 패턴과 대응하는 제1 및 제2 배향 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2 배향 패턴이 형성된 배향층 상에 액정층을 도포하는 단계와; 상기 액정층이 상기 제1 및 제2 배향 패턴을 따라 정렬되도록 상기 액정층에 광조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법{METHOD OF FABRICATING RETARDER FOR STEREOSCOPIC IMAGE DISPLAY}

본 발명은 공정을 단순화하며 제조 비용을 절감할 수 있는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법에 관한 것이다.

입체 영상은 사람의 두 눈을 통한 스테레오 시각의 원리에 의해 이루어지는데, 두 눈이 약 65mm 정도 떨어져서 존재하기 때문에 나타나는 양안시차(binocular parallax)가 입체감의 가장 중요한 요인이라고 할 수 있다. 최근에는 의료영상, 게임,광고, 교육, 군사 등 여러 분야에서 이러한 양안 시차의 원리를 이용하여 입체 영상을 제공하는 입체 영상 디스플레이의 필요성이 크게 요구되고 있다.

양안시차방식은 입체 효과가 큰 좌우 눈의 시차 영상을 이용하며, 안경방식과 무안경방식이 있다. 안경방식은 직시형 표시소자나 프로젝터에 좌우 시차 영상의 편광 방향을 바꿔서 또는 시분할 방식으로 표시하고, 편광 안경 또는 액정셔터 안경을 사용하여 입체 영상을 구현한다. 무안경 방식은 일반적으로 좌우 시차 영상의 광축을 분리하기 위한 패럴렉스 베리어 등의 광학판을 표시 화면의 앞에 또는 뒤에 설치하는 방식이다. 안경방식은 표시패널 위의 편광 안경에 입사되는 빛의 편광특성을 절환하기 위한 패턴드 리타더(Patterned Retarder)를 포함한다. 안경방식은 표시패널에 좌안 이미지와 우안 이미지를 교대로 표시하고 패턴 리타더를 통해 편광 안경에 입사되는 편광특성을 절환한다. 이를 통해, 안경방식은 좌안 이미지와 우안 이미지를 공간적으로 분할하여 입체 영상을 구현할 수 있다.

종래 안경 방식에 이용되는 패턴 리타더의 제조 방법은 다음과 같다. 먼저, 기판 상에 광배향막을 인쇄한 후 제1 마스크를 통해 편광된 광을 이용하여 광배향막을 1차 배향한 다음, 기판을 90도 회전시킨 후 제2 마스크를 통해 편광된 광을 이용하여 광배향막을 2차 배향하여 제1 및 제2 배향 패턴을 형성한다. 제1 및 제2 배향 패턴 상에 액정층을 도포한 다음 광조사함으로써 패턴 리타더가 형성된다. 이 경우, 종래 패턴 리타더는 분할 광배향 방식으로 제1 및 제2 배향 패턴을 형성하기 위해서 2개의 마스크와 2번의 노광 공정이 필요하므로 공정이 복잡하고 비용이 증가하는 문제점이 있다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 공정을 단순화하며 제조 비용을 절감할 수 있는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법을 제공하는 것이다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법은 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 롤 몰드를 마련하는 단계와; 배향막이 도포된 기판을 스테이지 상에 안착하는 단계와; 상기 배향막 상에서 상기 롤 몰드를 회전시켜 상기 배향막에 상기 제1 및 제2 복제 패턴과 대응하는 제1 및 제2 배향 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2 배향 패턴이 형성된 배향층 상에 액정층을 도포하는 단계와; 상기 액정층이 상기 제1 및 제2 배향 패턴을 따라 정렬되도록 상기 액정층에 광조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 배향막이 도포된 기판은 플라스틱 재질 또는 유리 재질로 형성되며, 상기 기판이 플라스틱 재질로 형성되는 경우, 상기 기판의 일측단을 리와인더에 부착하고, 상기 기판의 타측단을 리와인더에 부착하여 상기 기판이 평행을 유지한 상태에서 상기 롤 몰드를 회전시키는 것을 특징으로 한다.

상기 롤 몰드를 마련하는 단계는 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 가지는 마스터 몰드를 마련하는 단계와; 상기 마스터 몰드를 광경화형 수지가 도포된 복제 기판 상에 정렬하는 단계와; 상기 마스터 몰드의 상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 상기 광경화형 수지에 임프린팅하고 경화하여 상기 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 복제 몰드를 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 복제 몰드를 베이스 롤러에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 롤 몰드를 마련하는 단계는 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 가지는 마스터 몰드를 마련하는 단계와; 광경화형 수지가 도포된 베이스 롤러를 상기 마스터 몰드 상에 정렬하는 단계와; 상기 베이스 롤러를 상기 마스터 몰드 상에서 회전시켜 상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 상기 광경화형 수지에 전사하면서 상기 광경화형 수지를 경화하여 상기 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 상기 롤 몰드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 마스터 몰드를 마련하는 단계는 마스터 기판 상에 폴리 실리콘층 및 감광성 수지층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 감광성 수지층을 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 패터닝하여 상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 형성하는 단계는 상기 감광성 수지층 상에 제1 마스크를 정렬한 후 상기 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 생성된 레이저 빔을 상기 감광성 수지층 상에 조사하여 상기 제1 그레이팅 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제1 그레이팅 패턴이 형성된 마스터 기판을 90도 회전시키는 단계와; 상기 감광성 수지층 상에 제2 마스크를 정렬한 후 상기 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 생성된 레이저 빔을 상기 감광성 수지층 상에 조사하여 상기 제2 그레이팅 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 형성하는 단계는 상기 감광성 수지층 상에 마스크를 정렬한 후 상기 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 생성된 레이저 빔을 상기 감광성 수지층 상에 조사하여 상기 제1 그레이팅 패턴을 형성하는 단계와; 상기 마스크를 패턴 피치만큼 이동시킨 후 상기 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 생성된 레이저 빔을 상기 감광성 수지층 상에 조사하여 상기 제2 그레이팅 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 장치는 배향막이 도포된 기판이 안착되는 스테이지와; 상기 배향막 상에서 회전하여 상기 배향막에 제1 및 제2 배향 패턴을 형성하도록 상기 제1 및 제2 배향 패턴과 대응하는 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 롤 몰드와; 상기 제1 및 제2 배향 패턴이 형성된 배향층 상에 액정층을 도포하는 도포 장치와; 상기 액정층이 상기 제1 및 제2 배향 패턴을 따라 정렬되도록 상기 액정층에 광조사하는 광조사장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명은 분할 광배향 방식이 아닌 롤 몰드를 이용하여 제1 및 제2 배향 패턴을 형성함으로써 제조공정이 단순화되며 비용을 절감할 수 있다. 또한, 본 발명은 레이저 간섭 리소그라피 공정을 통해 마스터 몰드를 제작함으로써 단일 기판에서 920mm×600mm크기 이상까지 패턴 제작이 가능하므로 대면적 패널에 적용가능하다. 뿐만 아니라, 본 발명은 제1 및 제2 패턴 리타더의 크기를 최대 500nm이하로 형성할 수 있어 입체 영상 구현시 크로스토크와 같은 화질 불량을 방지할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 리타더를 가지는 입체 영상 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 2a 내지 도 2c는 도 1에 도시된 리타더의 제조용 마스터 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 3은 도 2a 및 도 2b에 도시된 레이저 빔을 생성하기 위한 레이저 간섭 리소그라피 장치를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 2a 내지 도 2c에 도시된 제조 방법에 의해 형성되는 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 나타내는 사시도이다.
도 5는 도 2a 내지 도 2c에 도시된 마스터 몰드를 이용하여 형성되는 대면적 마스터 몰드의 제조 방법을 나타내는 사시도이다.
도 6a 내지 도 6c는 도 2c에 도시된 마스터 몰드를 이용하여 형성되는 복제 몰드를 나타내는 단면도들이다.
도 7a 내지 도 7c는 도 6c에 도시된 복제 몰드를 이용하여 형성되는 롤 몰드의 제조 방법의 제1 실시 예를 나타내는 단면도들이다.
도 8a 내지 도 8c는 도 2c에 도시된 마스터 몰드를 이용하여 형성되는 롤 몰드의 제조 방법의 제2 실시 예를 나타내는 단면도들이다.
도 9a 내지 도 9d는 도 7c 또는 도 8c에 도시된 롤 몰드를 이용하여 형성되는 제1 및 제2 패턴 리타더의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.

이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명의 실시 예를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.

도 1은 본 발명에 따른 리타더를 가지는 입체 영상 표시 장치를 나타내는 도면이다.

도 1에 도시된 입체 영상 표시 장치는 표시 패널(104), 백라이트 유닛(102), 패턴 리타더(108) 및 편광 안경(110)을 구비한다.

표시 패널(104)은 액정층을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 기판 및 컬러 필터 기판을 구비한다.

컬러 필터 기판은 상부 기판 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 컬럼 스페이서를 구비한다.

박막 트랜지스터 기판은 하부 기판 위에 서로 교차하게 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인과, 그 교차부에 인접한 박막 트랜지스터와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 형성된 화소 전극을 구비한다.

이러한 표시 패널(104)의 상부 기판의 전면에는 상부 편광필름(106a)이 부착되며, 하부 기판의 배면에는 하부 편광필름(106b)이 부착된다.

백라이트 유닛(102)은 하나 이상의 광원, 광원으로부터의 빛을 면광원으로 변환하여 표시패널(104)로 조사한다.

패턴 리타더(108)는 광흡수축이 서로 직교하는 제1 및 제2 패턴 리타더(108a,108b)를 포함하여 3D 영상을 편광으로 분할한다. 제1 패턴 리타더(108a)는 패턴 리타더(108)의 기수 라인에 형성되어 상부 편광필름(106a)을 통해 입사되는 빛 중에서 제1 편광(선평광 또는 원편광) 성분을 투과시킨다. 제2 패턴 리타더(108b)는 패턴 리타더(18)의 우수 라인에 형성되어 상부 편광필름(106a)을 통해 입사되는 빛 중에서 제2 편광(선평광 또는 원편광) 성분을 투과시킨다. 예를 들어, 제1 패턴 리타더(108a)는 좌원편광을 투과시키며, 제2 패턴 리타더(108b)는 우원 편광을 투과시킨다.

편광 안경(110)은 패턴 리타더(108)에서 출사되는 편광 성분들에 따라 그의 광흡수축이 서로 다르게 구현된다. 예들 들면, 편광 안경(110)의 좌안은 제1 패턴 리타더(108a)로부터 입사되는 좌원편광을 투과하고 그 이외의 다른 편광 성분의 빛을 차단하며, 편광 안경(110)의 우안은 제2 패턴 리타더(108b)로부터 입사되는 우원편광을 투과하고 그 이외의 다른 편광 성분의 빛을 차단한다. 편광 안경(110)의 좌안은 좌원편광 필터를 포함하고, 편광 안경(110)의 우안은 우원편광 필터를 포함한다.

이와 같은 본 발명에 따른 입체 영상 표시 장치의 패턴 리타더(108)는 마스터 몰드 및 복제 몰드에 의해 형성되는 롤 몰드를 이용한 롤 임프린팅 공정을 통해 형성된다.

먼저, 본 발명에 따른 입체 영상 표시 장치의 패턴 리타더용 마스터 몰드의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다.

도 2a에 도시된 바와 같이 유리로 형성되는 마스터 기판(141) 상에 폴리 실리콘층(142)과, 포토레지스트(144)가 순차적으로 형성된다. 그런 다음, 포토레지스트(144)가 형성된 마스터 기판(141) 상에 투과 영역(140a)과 차단 영역(104b)을 가지는 제1 마스크(140)가 정렬된다. 제1 마스크의 차단 영역(140b)은 레이저 간섭 리소그래피(Laser Interference Lithography) 장치에서 생성된 제1 및 제2 레이저빔을 차단시키고, 제1 마스크의 투과 영역(140a)은 레이저 간섭 리소그래피 장치에서 생성된 제1 및 제2 레이저빔을 투과시킨다. 이에 따라, 포토레지스트(144)의 제1 영역(A)에는 제1 방향으로 돌출 패턴과 홈 패턴이 반복되는 제1 그레이팅 패턴(144a)이 형성된다.

구체적으로, 도 3에 도시된 레이저 간섭 리소그래피 장치의 레이저 광원으로부터의 레이저빔은 전기적 셔터(146)와 다수의 미러(148)를 갖는 전송 경로를 통해 빔확장기(152)로 전달된다. 빔확장기(152)에 의해 확장된 레이저빔은 콜리메이팅 렌즈(Collimating Lens; 156)에 의해 평행광화된다. 평행광화된 레이저빔의 진행방향에는 레이저빔의 진행축에 소정 각도, 예를 들어 45도의 경사각을 각각 유지하는 반사기(158)와, 포토레지스트가 형성된 마스터 기판(141)이 안착된 스테이지(143)가 마련된다. 콜리메이팅 렌즈(156)를 통과한 레이저빔 중 제1 레이저빔(L1)은 제1 마스크(140)를 통해 마스터 기판(141)에 직접 입사되며 반사기(158)를 통해 반사된 제2 레이저빔(L2)은 제1 마스크(140)를 통해 마스터 기판(141)에 간접 입사된다.

이러한 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)을 이용한 노광 공정을 통해 약 +45도로 정렬된 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)에 의한 간섭 무늬가 포토레지스트(144)에 형성됨으로써 포토레지스트(144)의 제1 영역(A)에는 도 4에 도시된 바와 같이 제1 방향으로 돌출 패턴과 홈 패턴이 반복되는 제1 그레이팅 패턴(144a)이 형성된다. 이 때, 간섭 무늬를 이루는 제1 그레이팅 패턴(144a)의 피치(P)는 포토레지스트(144)에 입사하는 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)의 사이각(θ)에 의해 결정되며 그 식은 아래와 같다.

수학식 1에서, λ는 레이저의 파장을, θ는 기판의 수직방향에 대한 입사광의 각도를 나타낸다.

이와 같이, 제1 방향축을 따라 스트라이프 형태로 제1 그레이팅 패턴(144a)이 형성된 마스터 기판(141)을 90도 회전시킨 후 도 2b에 도시된 바와 같이 포토레지스트(144) 상부에 제2 마스크(150)가 정렬된다. 그런 다음, 제2 마스크(150)의 차단 영역(150b)은 레이저 간섭 리소그래피(Laser Interference Lithography) 장치에서 생성된 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)이 차단되도록 제1 그레이팅 패턴(144a)과 대응하는 제1 영역(A)에 정렬되고, 제2 마스크(150)의 투과 영역(150a)은 레이저 간섭 리소그래피 장치에서 생성된 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)이 투과되도록 제1 그레이팅 패턴들(144a) 사이의 제2 영역(B)에 정렬된다. 이러한 제2 마스크(150)를 투과한 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)을 이용한 노광 공정을 통해 약 -45도로 정렬된 제1 및 제2 레이저빔(L1,L2)에 의한 간섭 무늬가 포토레지스트(144)에 형성됨으로써 포토레지스트의 제2 영역(A)에는 제1 방향축과 수직한 제2 방향축으로 돌출 패턴과 홈 패턴이 반복되는 제2 그레이팅 패턴(144b)이 형성된다.

한편, 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)을 형성하기 위해, 제1 및 제2 마스크(150)를 이용하는 경우를 예로 들어 설명하였지만 하나의 마스크를 이용하여 형성할 수도 있다. 즉, 마스크를 원하는 위치에 정렬한 후 레이저빔을 조사하고, 그 마스크를 패턴 피치만큼 이동시킨 후 레이저빔을 조사한 후 현상함으로써 하나의 마스크를 이용하여 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)을 형성할 수 있다.

그런 다음, 도 2c에 도시된 바와 같이 비노광된 포토레지스트(144)는 현상 공정을 통해 제거됨으로써 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)을 가지는 마스터 몰드(160)가 완성된다.

한편, 완성된 마스터 몰드를 이용해 도 5에 도시된 바와 같이 대면적 마스터 몰드를 형성할 수도 있다.

구체적으로, 도 2c에 도시된 마스터 몰드(160)가 완성되면, 마스터 몰드(160)와 동일 크기로 이루어진 영역이 다수개 마련된 베이스 기판(161) 상의 소정 영역에 광경화형 수지(164)를 분사 노즐(162)을 통해 형성한다. 그런 다음, 도 2c에 도시된 마스터 몰드(160)와 광경화형 수지(164)가 접촉하도록 광경화형 수지(164)를 임프린팅한 후 광경화 수지(164)를 경화함으로써 베이스 기판(161) 상에 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)을 형성한다. 그런 다음,베이스 기판(161) 전면에 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)이 형성될 때까지 상기 과정을 반복한다.

도 6a 내지 도 6d는 본 발명에 따른 복제 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.

도 6a에 도시된 바와 같이, 플렉서블 재질의 복제 기판(171) 상에 몰드용 광경화형 수지(166)가 도포된다. 그 광경화형 수지(166) 상부에 도 6b에 도시된 바와 같이 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)을 가지는 마스터 몰드(160)가 정렬된다. 정렬된 마스터 몰드(160)를 이용하여 도 6c에 도시된 바와 같이 광경화형 수지(166)를 임프린팅한 후 광경화한다. 그러면, 광경화형 수지(166)에 마스터 몰드(160)의 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)이 전사됨으로써 도 6d에 도시된 바와 같이 제1 및 제2 복제 패턴(132a,132b)을 가지는 복제 몰드(170)가 완성된다. 그런 다음, 마스터 몰드(160)는 복제 몰드(170)로부터 이격되어 분리된다. 제1 복제 패턴(132a)은 제1 그레이팅 패턴(144a)의 홈 패턴 및 돌출 패턴과 대응하는 홈 패턴 및 돌출 패턴을 가지며, 제2 복제 패턴(132b)은 제2 그레이팅 패턴(144b)의 홈 패턴 및 돌출 패턴과 대응하는 홈 패턴 및 돌출 패턴을 가진다.

도 7a 내지 도 7c는 도 6d에 도시된 복제 몰드를 이용해 형성되는 롤 몰드의 제조 방법의 제1 실시 예를 설명하기 위한 단면도들이다.

도 7a에 도시된 바와 같이 복제 몰드(170)의 제1 및 제2 복제 패턴(132a,132b)을 보호하기 위해 제1 및 제2 복제 패턴(132a,132b) 상에 보호필름(184)이 점착된다. 그런 다음, 도 7b에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(176) 상에 분사 노즐(174)을 통해 분사되는 접착 수지층(178)이 도포된다. 그런 다음, 접착 수지층(178)이 도포된 베이스 롤러(176)는 도 7c에 도시된 바와 같이 복제 몰드(170)의 플렉서블 기판(171) 상에서 회전하게 된다. 이와 동시에 베이스 롤러(176) 내에 위치하는 경화 장치(182)를 통해 접착 수지층(178)은 광경화된다. 이에 따라, 도 7d에 도시된 바와 같이 접착 수지층(178)을 통해 베이스 롤러(176) 상에 복제 몰드(170)가 부착 및 고정되므로 제1 및 제2 복제 패턴(132a,132b)을 가지는 롤 몰드(130)가 완성된다.

도 8a 내지 도 8c는 도 2c에 도시된 마스터 몰드 또는 도 6d에 도시된 복제 몰드를 이용해 형성되는 롤 몰드의 제조 방법의 제2 실시 예를 설명하기 위한 단면도들이다.

도 8a에 도시된 바와 같이 베이스 롤러(176)는 도 2c에 도시된 마스터 몰드(160) 또는 도 6d에 도시된 복제 몰드(170) 상부에 정렬된다. 여기서, 베이스 롤러(176)는 베이스 롤러(176)의 회전시 가해지는 압력에 의한 손상을 최소화하기 위해 플렉서블 재질의 복제 기판(171)을 가지는 복제 몰드(170)보다는 강도가 강한 유리 재질의 마스터 기판(141)을 가지는 마스터 몰드(160) 상부에 정렬되는 것이 바람직하다.

그런 다음, 베이스 롤러(176) 상에 분사 노즐(174)을 통해 접착 수지층(178) 및 몰드 표면층(180)이 순차적으로 도포된다. 접착 수지층(178) 및 몰드 표면층(180)이 도포된 베이스 롤러(176)는 도 8b에 도시된 바와 같이 마스터 몰드(160) 상에서 회전하게 된다. 이와 동시에 베이스 롤러(176) 내에 위치하는 경화 장치(182)를 통해 몰드 표면층(180) 및 접착 수지층(178)은 광경화된다. 이에 따라, 마스터 몰드(160)의 제1 및 제2 그레이팅 패턴(144a,144b)이 몰드 표면층(180)에 전사됨으로써 도 8c에 도시된 바와 같이 제1 및 제2 복제 패턴(132a,132b)이 형성된 롤 몰드(130)가 완성된다.

도 9a 내지 도 9d는 본 발명에 따른 롤 몰드를 이용하여 형성되는 패턴드 리타더의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.

도 9a에 도시된 바와 같이 리와인더(Re-winder, 118)와 언와인더(Un-winder, 116)에 감겨 평행 상태를 유지하는 플라스틱 필름(112)은 스테이지(114) 상에 안착된다. 여기서, 플라스틱 필름(112) 대신에 리와인더(118) 및 언와인더(116) 없이도 평행 상태를 유지가능한 유리 기판이 이용될 수도 있다. 그런 다음, 도 9b에 도시된 바와 같이 플라스틱 필름(112) 상에 최대 0.1㎛의 두께의 광배향막(120)이 형성된다. 광배향막(120) 상에서 제1 및 제2 복제 패턴(132a,132b)이 형성된 롤 몰드(130)가 회전하게 됨으로써 광배향막(120)에 제1 및 제2 배향 패턴(120a,120b)이 형성된다. 제1 배향 패턴(120a)은 제1 복제 패턴(132a)의 홈 패턴 및 돌출 패턴과 대응하는 홈 패턴 및 돌출 패턴을 가지며, 제2 배향 패턴(120b)은 제2 복제 패턴(132b)의 홈 패턴 및 돌출 패턴과 대응하는 홈 패턴 및 돌출 패턴을 가진다.

제1 및 제2 배향 패턴(120a,120b)이 형성된 광배향막(120) 상에 도포 장치를 통해 도 9c에 도시된 바와 같이 반응성 메소젠 액정층(121)이 최대 2㎛의 두께로 도포된 후 광조사장치를 통해 광경화된다. 이에 따라, 제1 배향 패턴(120a)과 대응하는 제1 패턴 리타더(108a) 및 제2 배향 패턴(120b)과 대응하는 제2 패턴 리타더(108b)를 포함하는 리타더가 형성된다. 제1 패턴 리타더(108a)는 제1 배향 패턴(120a)의 홈 패턴을 따라 형성되는 광축을 가지며, 제2 패턴 리타더(108b)는 제1 배향 패턴에 수직한 제2 배향 패턴(120b)의 홈 패턴을 따라 형성되는 광축을 가진다. 예를 들어, 제1 패턴 리타더(108a)는 약 +45도 광축을 가지며, 제2 패턴 리타더(108b)는 약 -45도의 광축을 가진다.

본 발명에 따른 제1 및 제2 패턴 리타더(108a,18b)를 가지는 패턴 리타더(108)는 종래 분할 광배향 방식이 아닌 롤 몰드(130)를 이용하여 형성됨으로써 종래에 비해 제조공정이 단순화되며 비용을 절감할 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

102 : 백라이트 유닛 104 : 표시 패널
108 : 패턴 리타더 110 : 편광 안경
130 : 롤 몰드 160 : 마스터 몰드
170 : 복제 몰드

Claims (9)

1. 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 가지는 마스터 몰드를 마련하는 단계와;
   상기 마스터 몰드를 이용하여 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 롤 몰드를 마련하는 단계와;
   배향막이 도포된 기판을 스테이지 상에 안착하는 단계와;
   상기 배향막 상에서 상기 롤 몰드를 회전시켜 상기 배향막에 상기 제1 및 제2 복제 패턴과 대응하는 제1 및 제2 배향 패턴을 형성하는 단계와;
   상기 제1 및 제2 배향 패턴이 형성된 배향층 상에 액정층을 도포하는 단계와;
   상기 액정층이 상기 제1 및 제2 배향 패턴을 따라 정렬되도록 상기 액정층에 광조사하는 단계를 포함하며,
   상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 가지는 상기 마스터 몰드를 마련하는 단계는
   마스터 기판 상에 폴리 실리콘층 및 감광성 수지층을 순차적으로 형성하는 단계와;
   상기 감광성 수지층 상에 마스크를 정렬한 후 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 생성된 레이저 빔을 상기 감광성 수지층 상에 조사하여 상기 제1 그레이팅 패턴을 형성하는 단계와;
   상기 마스크를 패턴 피치만큼 이동시킨 후 상기 레이저 간섭 리소그라피 장치를 통해 생성된 레이저 빔을 상기 감광성 수지층 상에 조사하여 상기 제2 그레이팅 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 배향막이 도포된 기판은 플라스틱 재질 또는 유리 재질로 형성되며,
   상기 기판이 플라스틱 재질로 형성되는 경우, 상기 기판의 일측단을 리와인더에 부착하고, 상기 기판의 타측단을 리와인더에 부착하여 상기 기판이 평행을 유지한 상태에서 상기 롤 몰드를 회전시키는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 롤 몰드를 마련하는 단계는
   상기 마스터 몰드를 광경화형 수지가 도포된 복제 기판 상에 정렬하는 단계와;
   상기 마스터 몰드의 상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 상기 광경화형 수지에 임프린팅하고 경화하여 상기 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 복제 몰드를 형성하는 단계와;
   상기 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 복제 몰드를 베이스 롤러에 부착하는 단계를 포함하는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 롤 몰드를 마련하는 단계는
   광경화형 수지가 도포된 베이스 롤러를 상기 마스터 몰드 상에 정렬하는 단계와;
   상기 베이스 롤러를 상기 마스터 몰드 상에서 회전시켜 상기 제1 및 제2 그레이팅 패턴을 상기 광경화형 수지에 전사하면서 상기 광경화형 수지를 경화하여 상기 제1 및 제2 복제 패턴을 가지는 상기 롤 몰드를 형성하는 단계를 포함하는 입체 영상 표시 장치의 리타더 제조 방법.
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