KR101713996B1 - Polyamide-imide resin, thermosetting resin composition, method for producing cured product of thermosetting resin composition and polyamide-imide resin - Google Patents

Polyamide-imide resin, thermosetting resin composition, method for producing cured product of thermosetting resin composition and polyamide-imide resin Download PDF

Info

Publication number
KR101713996B1
KR101713996B1 KR1020160083300A KR20160083300A KR101713996B1 KR 101713996 B1 KR101713996 B1 KR 101713996B1 KR 1020160083300 A KR1020160083300 A KR 1020160083300A KR 20160083300 A KR20160083300 A KR 20160083300A KR 101713996 B1 KR101713996 B1 KR 101713996B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
acid
diamine
resin
polyamide
imide
Prior art date
Application number
KR1020160083300A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20170020220A (en
Inventor
신지 온다
Original Assignee
에아.워타 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에아.워타 가부시키가이샤 filed Critical 에아.워타 가부시키가이샤
Publication of KR20170020220A publication Critical patent/KR20170020220A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101713996B1 publication Critical patent/KR101713996B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14Polyamide-imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1035Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diisocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/08Stabilised against heat, light or radiation or oxydation

Abstract

본 발명은, 적절한 알칼리 용해성을 가지며, 유전 특성이 우수한 경화물을 형성 가능한 열경화성 수지 조성물의 성분으로 될 수 있는 폴리아미드이미드 수지를 제공하는 것을 과제로 한다.
이러한 과제를 해결하기 위해서, 하기 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 하기 일반식(2)으로 표시되는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지를 제공한다.

Figure 112016063804013-pat00010

(X1는 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 잔기, X2는 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)의 잔기, Y는 각각 독립하여 시클로헥산환 또는 방향환이다)An object of the present invention is to provide a polyamideimide resin which can be a component of a thermosetting resin composition capable of forming a cured product having an appropriate alkali solubility and an excellent dielectric property.
In order to solve such a problem, there is provided a polyamideimide resin characterized by having a structure represented by the following general formula (1) and a structure represented by the following general formula (2).
Figure 112016063804013-pat00010

(X 1 is a moiety having a carbon number of the ring, Y are each independently a cyclohexane ring or a direction of the 24-48 residues of an aliphatic diamine (a) of the dimer acid-derived, X 2 is an aromatic diamine (b) having a carboxyl group)

Description

폴리아미드이미드 수지, 열경화성 수지 조성물, 당해 열경화성 수지 조성물의 경화물 및 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법{POLYAMIDE-IMIDE RESIN, THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED PRODUCT OF THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND POLYAMIDE-IMIDE RESIN}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a polyamide-imide resin, a polyamide-imide resin, a thermosetting resin composition, a cured product of the thermosetting resin composition and a process for producing a polyamide-

본 발명은, 폴리아미드이미드 수지 및 당해 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법, 그리고 열경화성 수지 조성물 및 당해 열경화성 수지 조성물의 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to a polyamideimide resin, a process for producing the polyamideimide resin, a thermosetting resin composition and a cured product of the thermosetting resin composition.

전기 전자 산업을 중심으로 각종 분야에 있어서, 알칼리 용액에 대한 용해성이 우수한 수지 재료로서, 절연 재료, 접착제, 필름 원료용 수지 등에 사용할 수 있는 수지 재료가 요구되고 있다.There is a demand for a resin material that can be used for an insulating material, an adhesive, a resin for a film raw material, and the like as a resin material excellent in solubility in an alkali solution in various fields centering on the electric and electronic industry.

이러한 요구에 응할 수 있는 재료로서, 특허문헌 1에는, 적어도, (a1)카르복시기 및 감광성기를 갖는 화합물을 함유하는 A제와, (b1)에폭시 수지, (b2)옥심에스테르계 광중합개시제를 함유하는 B제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 (b1)에폭시 수지가, B제 중에서, 실온(25℃)에 있어서, 고체로 존재하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다. 당해 문헌에 있어서의 (a1)카르복시기 및 감광성기를 갖는 화합물은, 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 및 아크릴화아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 카르복시기 및 감광성기를 갖는 화합물이다.Patent Document 1 discloses, as a material capable of meeting such a demand, at least (A1) an A agent containing a compound having a carboxyl group and a photosensitive group, (B1) an epoxy resin, and (B2) an oxime ester photopolymerization initiator. Wherein the epoxy resin (b1) is present as a solid at room temperature (25 占 폚) in the agent B. The photosensitive resin composition according to claim 1, The (a1) compound having a carboxyl group and a photosensitive group in the document is a compound having at least one kind of a carboxyl group and a photosensitive group selected from the group consisting of epoxy acrylate, urethane acrylate and acrylated acrylate.

최근, 알칼리 용해성 수지에 요망되는 요구는 고도화해 가고 있으며, 특히, 기계 특성이나 내열성의 향상이 요구되고 있다. 특허문헌 1에 개시되는 바와 같은 에폭시아크릴레이트계나 우레탄아크릴레이트계의 수지로는, 이 요구에 부응하는 것이 곤란하다.In recent years, a demand for an alkali-soluble resin has been advanced, and in particular, improvement in mechanical properties and heat resistance has been demanded. It is difficult for an epoxy acrylate type or urethane acrylate type resin as disclosed in Patent Document 1 to meet this demand.

이 점에 관하여, 특허문헌 2에는, Tg가 200℃ 이상, 5중량% 수산화나트륨 수용액에 대한 용해 시간이 10분 이내, 350㎚의 광선투과율이 5% 이상인 것을 특징으로 하는 알칼리 용해성 수지가 개시되어 있다. 특허문헌 2에 개시되는 폴리아미드이미드 수지는, 상기한 기계 특성이나 내열성의 향상이라는 요구에 부응하는 것이 가능하다.With respect to this point, Patent Document 2 discloses an alkali-soluble resin having a Tg of 200 ° C or higher, a dissolution time of 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution of 10 minutes or less, and a light transmittance of 350 nm of 5% have. The polyamide-imide resin disclosed in Patent Document 2 can meet the above-mentioned demand for improvement in mechanical properties and heat resistance.

일본국 특개2012-98470호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2012-98470 일본국 특개2002-88154호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-88154

그러나, 특허문헌 2에 개시되는 폴리아미드이미드 수지는, 알칼리 용해성의 관점에서, 다음과 같은 문제를 갖고 있다. 즉, 특허문헌 1에 개시되는 바와 같은, 에폭시아크릴레이트나 우레탄아크릴레이트 등의 수지를 함유하는 종래의 알칼리 용해성 수지는, 1.0질량%의 탄산나트륨 수용액 정도의 약알칼리 수용액에 대해서 충분한 용해성을 갖고 있다. 이에 대해, 특허문헌 2에 개시되는 폴리아미드이미드 수지는, 그 실시예에 나타나는 바와 같이, 5질량%의 수산화나트륨 수용액과 같은 강알칼리 수용액을 현상액으로서 사용할 필요가 있다.However, the polyamide-imide resin disclosed in Patent Document 2 has the following problems from the viewpoint of alkali solubility. That is, the conventional alkali-soluble resin containing a resin such as epoxy acrylate or urethane acrylate as disclosed in Patent Document 1 has sufficient solubility in a weakly alkaline aqueous solution of about 1.0% by mass aqueous solution of sodium carbonate. On the other hand, in the polyamide-imide resin disclosed in Patent Document 2, it is necessary to use a strong alkaline aqueous solution such as 5 mass% aqueous sodium hydroxide solution as a developer, as shown in the examples.

이 때문에, 종래기술에 따른 알칼리 용해성 수지와 특허문헌 2에 개시되는 알칼리 용해성 수지를, 제품이나 용도에 따라 분별해서 사용하려고 하면, 그 때마다, 현상액을, 약알칼리의 수용액으로부터 강알칼리의 수용액으로, 또는 그 반대로 교환하는 작업이 필요해져, 생산성이 현저하게 저하해버린다. 또한, 현상액이 약알칼리 수용액으로부터 강알칼리 수용액으로 변경되면, 약알칼리 수용액에 대응해 있던 폐액 처리를 강알칼리 수용액에도 대응 가능하게 변경하지 않으면 안 된다. 이 폐액 처리의 변경은, 고액의 설비 투자가 필요해지는, 러닝 코스트가 높아지는 공업적 생산성의 저하를 야기할 가능성이 있다.Therefore, when the alkali soluble resin according to the prior art and the alkali soluble resin disclosed in the patent document 2 are to be used separately in accordance with the product and the application, the developer is mixed with an aqueous solution of a strong alkali from an aqueous solution of weak alkaline, Or vice versa, so that the productivity is remarkably lowered. Further, when the developing solution is changed from a slightly alkaline aqueous solution to a strong alkaline aqueous solution, the waste liquid treatment corresponding to the weak alkaline aqueous solution must be changed correspondingly to the strong alkaline aqueous solution. The change of the waste liquid treatment may cause a decrease in industrial productivity in which a large amount of equipment investment is required and the running cost is increased.

따라서, 공업적 생산성을 확보하는 관점에서, 알칼리 용해성 수지는, 지금까지와 마찬가지로, 1.0중량%의 탄산나트륨 수용액과 같은, 약알칼리 수용액에서 충분한 용해성을 갖고 있는 것이 요망되고 있다.Therefore, from the viewpoint of securing industrial productivity, it is desired that the alkali-soluble resin has sufficient solubility in a weakly alkaline aqueous solution such as 1.0% by weight aqueous sodium carbonate solution.

또한, 전기 전자 산업의 분야에 적용될 경우에는, 알칼리 용해성 수지를 함유하는 경화성 수지 조성물의 경화물은 유전 특성이 우수한 것(구체적으로는, 유전율이 낮은 것이나 유전 손실이 낮은 것이 예시된다)이 바람직하다.When applied to the field of the electrical and electronics industry, the cured product of the curable resin composition containing an alkali soluble resin is preferably one having excellent dielectric properties (specifically, one having a low dielectric constant and a low dielectric loss) .

본 발명은, 1.0질량%의 탄산나트륨 수용액이 알칼리 용액으로서 사용된 경우여도 용해 가능하며, 즉, 적절한 알칼리 용해성을 가지며, 유전 특성이 우수한 경화물을 형성 가능한 열경화성 수지 조성물의 성분으로 될 수 있는 폴리아미드이미드 수지 및 당해 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은, 상기한 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 열경화성 수지 조성물, 당해 열경화성 수지 조성물을 경화시켜서 얻어지는 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to a thermosetting resin composition which can be dissolved even when an aqueous solution of 1.0% by mass of sodium carbonate is used as an alkali solution, that is, a polyamide capable of being a component of a thermosetting resin composition capable of forming a cured product having appropriate alkali solubility, And a process for producing the polyamide-imide resin. The present invention also provides a thermosetting resin composition containing the above-described polyamideimide resin, and a cured product obtained by curing the thermosetting resin composition.

상기한 과제를 해결하기 위하여 제공되는 본 발명은 다음과 같다.In order to solve the above problems, the present invention is as follows.

〔1〕 하기 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 하기 일반식(2)으로 표시되는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지.[1] A polyamideimide resin having a structure represented by the following general formula (1) and a structure represented by the following general formula (2).

Figure 112016063804013-pat00001
Figure 112016063804013-pat00001

(X1는 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 잔기, X2는 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)의 잔기, Y는 각각 독립하여 시클로헥산환 또는 방향환이다)(X 1 is a moiety having a carbon number of the ring, Y are each independently a cyclohexane ring or a direction of the 24-48 residues of an aliphatic diamine (a) of the dimer acid-derived, X 2 is an aromatic diamine (b) having a carboxyl group)

〔2〕 산가가 30㎎KOH/g 이상 150㎎KOH/g 이하인 상기 〔1〕에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[2] The polyamideimide resin according to the above [1], wherein the acid value is 30 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less.

〔3〕 상기 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 함유율이 20∼60중량%인 상기 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[3] The polyamideimide resin according to [1] or [2], wherein the content of the aliphatic diamine (a) derived from dimeric acid having 24 to 48 carbon atoms is 20 to 60% by weight.

〔4〕 상기 일반식(1) 및 상기 일반식(2)에 있어서 Y로 표시되는 시클로헥산환 및 방향환에서 선택되는 어느 하나 또는 둘(다만, Y가 모두 방향환인 경우는 제외함)은, 시클로헥산환의 함유량의 방향환의 함유량에 대한 몰비가 85/15∼100/0인 상기 〔1〕 내지 〔3〕 중 어느 하나에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[4] Any one or two selected from a cyclohexane ring and an aromatic ring represented by Y in the general formulas (1) and (2) (except when Y is an aromatic ring) The polyamideimide resin according to any one of [1] to [3], wherein the molar ratio of the cyclohexane ring content to the aromatic ring content is 85 / 15-100 / 0.

〔5〕 상기 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)은, 3,5-디아미노벤조산 및 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 〔1〕 내지 〔4〕 중 어느 하나에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[5] The aromatic diamine (b) having a carboxyl group is at least one selected from the group consisting of 3,5-diaminobenzoic acid and 5,5'-methylenebis (anthranilic acid). Is a polyamideimide resin according to any one of [4] to [4].

〔6〕 상기 〔1〕 내지 〔5〕 중 어느 하나에 기재되는 폴리아미드이미드 수지 및 열경화성 재료를 함유하는 열경화성 수지 조성물.[6] A thermosetting resin composition comprising the polyamide-imide resin and the thermosetting material according to any one of [1] to [5].

〔7〕 상기 열경화성 재료가 에폭시 수지인 상기 〔6〕에 기재된 열경화성 수지 조성물.[7] The thermosetting resin composition according to the above [6], wherein the thermosetting material is an epoxy resin.

〔8〕 열경화촉진제를 더 함유하는, 상기 〔6〕 또는 〔7〕에 기재된 열경화성 수지 조성물.[8] The thermosetting resin composition according to the above [6] or [7], further comprising a thermosetting accelerator.

〔9〕 상기 〔6〕 내지 〔8〕 중 어느 하나에 기재되는 열경화성 수지 조성물의 경화물.[9] A cured product of the thermosetting resin composition according to any one of [6] to [8].

〔10〕 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a), 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b), 및 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)과 무수트리멜리트산(d)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종을 반응시켜서 이미드화물(A)을 얻는 이미드화 공정과, 상기 이미드화 공정에 의해 얻어진 상기 이미드화물(A)에, 디이소시아네이트 화합물(e)을 반응시켜서 하기 일반식(3)으로 표시되는 폴리아미드이미드 수지를 얻는 아미드이미드화 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.[10] A process for producing an aliphatic diamine compound (a), which comprises reacting an aliphatic diamine (a) derived from a dimer acid having a carbon number of 24 to 48, an aromatic diamine (b) having a carboxy group and a cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid- An imidization step of reacting one or two selected from the group consisting of trimellitic anhydride (d) to obtain an imide (A), and a step of adding an imide (A) And a diisocyanate compound (e) are reacted with each other to obtain a polyamide-imide resin represented by the following general formula (3).

Figure 112016063804013-pat00002
Figure 112016063804013-pat00002

(상기 일반식(3) 중, X는 각각 독립하여 디아민 잔기, Y는 각각 독립하여 시클로헥산환 또는 방향환, Z는 디이소시아네이트 화합물(e)의 잔기이고, n은 자연수이다)(Wherein X is each independently a diamine residue, Y is independently a cyclohexane ring or an aromatic ring, Z is a residue of a diisocyanate compound (e), and n is a natural number)

〔11〕 상기 아미드이미드화 공정에 의해 얻어진 상기 폴리아미드이미드 수지는, 산가가 30㎎KOH/g 이상 150㎎KOH/g이하인 상기 〔10〕에 기재된 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.[11] The process for producing a polyamide-imide resin according to the above [10], wherein the polyamide-imide resin obtained by the amideimidation step has an acid value of 30 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less.

〔12〕 상기 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 투입량은, 상기 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 함유율이 20∼60중량%로 되는 양인 상기 〔10〕 또는 〔11〕에 기재된 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.[12] The amount of the aliphatic diamine (a) derived from dimeric acid having 24 to 48 carbon atoms is preferably such that the content of the aliphatic diamine (a) derived from dimeric acid having 24 to 48 carbon atoms is 20 to 60 wt% The method for producing a polyamide-imide resin according to the above [10] or [11].

〔13〕 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)의 사용량의, 무수트리멜리트산(d)의 사용량에 대한 몰비가 85/15∼100/0인 상기 〔10〕 내지 〔12〕 중 어느 하나에 기재된 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.[13] The method for producing a polymer according to [13], wherein the amount of the cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) used is in the range of from 85/15 to 100/0 with respect to the amount of the trimellitic anhydride (d) 10] to [12], wherein the polyamide-imide resin is a polyamide-imide resin.

〔14〕 상기 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)은, 3,5-디아미노벤조산 및 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 〔10〕 내지 〔13〕 중 어느 하나에 기재된 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.[14] The aromatic diamine (b) having a carboxyl group is at least one selected from the group consisting of 3,5-diaminobenzoic acid and 5,5'-methylenebis (anthranilic acid). [13] A process for producing a polyamide-imide resin as described in any one of [1] to [13].

〔15〕 상기 디이소시아네이트 화합물(e)은, 지방족 이소시아네이트 화합물인 상기 〔10〕 내지 〔14〕 중 어느 하나에 기재된 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.[15] The process for producing a polyamide-imide resin according to any one of [10] to [14], wherein the diisocyanate compound (e) is an aliphatic isocyanate compound.

본 발명에 의해, 1.0질량%의 탄산나트륨 수용액과 같은 마일드한 알칼리 용액이 사용된 경우여도 용해할 수 있는 폴리아미드이미드 수지 및 그 제조 방법이 제공된다.According to the present invention, there is provided a polyamide-imide resin capable of dissolving even when a mild alkaline solution such as 1.0% by mass aqueous sodium carbonate solution is used and a method for producing the same.

또한, 본 발명에 의해, 1.0질량%의 탄산나트륨 수용액과 같은 마일드한 알칼리 용액이 사용된 경우여도 용해할 수 있는 열경화성 수지 조성물이 제공된다. 또한, 본 발명에 의해, 상기한 열경화성 수지 조성물의 경화물로서, 우수한 유전 특성을 갖는 경화물이 제공된다.Further, the present invention provides a thermosetting resin composition which can dissolve even when a mild alkaline solution such as 1.0% by mass aqueous sodium carbonate solution is used. Further, according to the present invention, a cured product having excellent dielectric properties is provided as a cured product of the above-mentioned thermosetting resin composition.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지는, 하기 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 하기 일반식(2)으로 표시되는 구조를 갖는다.The polyamideimide resin according to one embodiment of the present invention has a structure represented by the following general formula (1) and a structure represented by the following general formula (2).

Figure 112016063804013-pat00003
Figure 112016063804013-pat00003

여기에서, X1는 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)(본 명세서에 있어서 「다이머디아민(a)」이라고도 한다)의 잔기이다. X2는 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)(본 명세서에 있어서 「카르복시기 함유 디아민(b)」이라고도 한다)의 잔기이다. Y는 각각 독립하여 시클로헥산 또는 방향환이다.Here, X 1 is a residue of an aliphatic diamine (a) derived from a dimer acid having 24 to 48 carbon atoms (also referred to as "dimer diamine (a)" in this specification). X 2 is a residue of an aromatic diamine (b) having a carboxyl group (also referred to as "carboxyl group-containing diamine (b)" in this specification). Y are each independently cyclohexane or an aromatic ring.

상기 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 상기 일반식(2)으로 표시되는 구조를 포함함에 의해, 1.0질량%의 탄산나트륨 수용액과 같은 마일드한 알칼리 용액이 사용된 경우여도 용해할 수 있는 알칼리 용해성이 우수한 폴리아미드이미드 수지로 할 수 있다. 또한, 이러한 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물의 경화물은, 우수한 유전 특성을 가질 수 있다.By including the structure represented by the general formula (1) and the structure represented by the general formula (2), even when a mild alkali solution such as 1.0% by mass aqueous sodium carbonate solution is used, the alkali solubility An excellent polyamideimide resin can be obtained. In addition, the cured product of the thermosetting resin composition containing such a polyamideimide resin can have excellent dielectric properties.

다이머디아민(a)은, 탄소수 12∼24의 지방족 불포화 카르복시산의 이량체(二量體)에 있어서의 카르복시기를 환원적 아미노화함에 의해 얻을 수 있다. 즉, 다이머산 유래의 지방족 디아민인 다이머디아민(a)은, 예를 들면 올레산, 리놀산 등의 불포화 지방산을 중합시켜서 다이머산으로 하고, 이것을 환원한 후, 아미노화함으로써 얻어진다. 이러한 지방족 디아민으로서, 예를 들면 탄소수 36의 골격을 갖는 디아민인 PRIAMINE 1073, 1074, 1075(크로다재팬사제, 상품명) 등의 시판품을 사용할 수 있다. 다이머디아민(a)은, 탄소수가 28∼44인 다이머산 유래인 것이 바람직한 경우가 있으며, 탄소수가 32∼40인 다이머산 유래인 것이 보다 바람직한 경우가 있다.The dimer diamine (a) can be obtained by reductive amination of a carboxyl group in a dimer of an aliphatic unsaturated carboxylic acid having 12 to 24 carbon atoms. Namely, the dimer diamine (a), which is an aliphatic diamine derived from dimer acid, is obtained by polymerizing an unsaturated fatty acid such as oleic acid or linolic acid into a dimer acid, reducing it and then aminating it. As such an aliphatic diamine, for example, a commercially available product such as PRIAMINE 1073, 1074, 1075 (trade name, manufactured by Kuroda Japan Co., Ltd.), which is a diamine having a skeleton of 36 carbon atoms, can be used. The dimer diamine (a) is preferably derived from a dimer acid having a carbon number of 28 to 44, and more preferably a dimer acid derived from a dimer acid having a carbon number of 32 to 40.

카르복시기 함유 디아민(b)의 구체예로서는, 3,5-디아미노벤조산, 3,4-디아미노벤조산, 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산), 벤지딘-3,3'-디카르복시산 등을 들 수 있다. 카르복시기 함유 디아민(b)은 1종류의 화합물로 구성되어 있어도 되고, 복수 종류의 화합물로 구성되어 있어도 된다. 원료 입수성의 관점에서, 카르복시기 함유 디아민(b)은, 3,5-디아미노벤조산, 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산)을 함유하는 것이 바람직하다.Specific examples of the carboxyl group-containing diamine (b) include 3,5-diaminobenzoic acid, 3,4-diaminobenzoic acid, 5,5'-methylenebis (anthranilic acid), benzidine-3,3'-dicarboxylic acid, . The carboxyl group-containing diamine (b) may be composed of one kind of compound or a plurality of kinds of compounds. From the viewpoint of raw material availability, it is preferable that the carboxyl group-containing diamine (b) contains 3,5-diaminobenzoic acid and 5,5'-methylenebis (anthranilic acid).

본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지에 있어서의, 상기 일반식(1)으로 표시되는 구조의 함유량과 상기 일반식(2)으로 표시되는 구조의 함유량과의 관계는 한정되지 않는다. 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성과, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물의 경화물의 기계 특성 등 다른 특성과의 밸런스를 양호하게 하는 관점에서, 다이머디아민(a)의 함유량(단위 : 중량%)은, 20∼60중량%가 바람직하며, 30∼50중량%가 보다 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 「다이머디아민(a)의 함유량」이란, 폴리아미드이미드 수지를 제조할 때의 원료의 하나로서 자리 매김되는 다이머디아민(a)의 투입량의, 제조된 폴리아미드이미드 수지의 중량에 대한 비율을 의미한다. 여기에서, 「제조된 폴리아미드이미드 수지의 중량」은, 폴리아미드이미드 수지를 제조하기 위한 모든 원료의 투입량으로부터, 이미드화에서 생기는 물(H2O) 및 아미드화에서 생기는 탄산 가스(CO2)의 이론량을 차감한 값이다.The relationship between the content of the structure represented by the general formula (1) and the content of the structure represented by the general formula (2) in the polyamideimide resin according to one embodiment of the present invention is not limited. (Unit:% by weight) of the dimer diamine (a) from the viewpoint of improving the balance between the alkali solubility of the polyamide-imide resin and other characteristics such as the mechanical properties of the cured product of the thermosetting resin composition including the polyamide- Is preferably 20 to 60% by weight, and more preferably 30 to 50% by weight. In the present specification, the "content of dimer diamine (a)" means the amount of dimer diamine (a) introduced as one of the raw materials in the production of polyamideimide resin by the weight of the polyamideimide resin . Here, the " weight of the produced polyamideimide resin " means the weight of water (H 2 O) generated in the imidization and the carbon dioxide gas (CO 2 ) generated in the amidation from the amounts of all raw materials for producing the polyamide- Is the value obtained by subtracting the theoretical amount of.

폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성과, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물의 경화물의 기계 특성 등 다른 특성과의 밸런스를 양호하게 하는 관점에서, 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지의 산가(고형분 산가)는, 30㎎KOH/g 이상으로 하는 것이 바람직하며, 30㎎KOH/g 이상 150㎎KOH/g 이하로 하는 것이 보다 바람직하고, 50㎎KOH/g 이상 120㎎KOH/g 이하로 하는 것이 특히 바람직하다.From the standpoint of improving the balance between the alkali solubility of the polyamide-imide resin and other characteristics such as the mechanical properties of the cured product of the thermosetting resin composition including the polyamide-imide resin, the polyamide- The acid value (solid acid value) is preferably 30 mgKOH / g or more, more preferably 30 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less, still more preferably 50 mgKOH / g or more and 120 mgKOH / g or less Is particularly preferable.

폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성을 높이는 관점에서, 상기 일반식(1) 및 상기 일반식(2)에 있어서 Y로 표시되는 부분은, 시클로헥산환을 갖는 것이 바람직하다. 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성과, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물의 경화물의 기계 특성 등 다른 특성과의 밸런스를 양호하게 하는 관점에서, 상기한 Y로 표시되는 부분에 있어서의 방향환과 시클로헥산환과의 양적 관계는, 시클로헥산환의 함유량의 방향환의 함유량에 대한 몰비가, 85/15∼100/0인 것이 바람직하며, 90/10∼99/1인 것이 보다 바람직하고, 90/10∼98/2인 것이 더 바람직하다.From the viewpoint of enhancing the alkali solubility of the polyamide-imide resin, the moiety represented by Y in the general formula (1) and the general formula (2) preferably has a cyclohexane ring. From the viewpoint of improving the balance between the alkali solubility of the polyamide-imide resin and other characteristics such as the mechanical properties of the cured product of the thermosetting resin composition including the polyamide-imide resin, it is preferable that the aromatic ring and the cyclo The molar ratio of the content of the cyclohexane ring to the content of the aromatic ring is preferably 85/15 to 100/0, more preferably 90/10 to 99/1, and most preferably 90/10 to 98/1, / 2 is more preferable.

본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지는, 하기 일반식(i)으로 표시되는 부분 구조를 더 갖고 있어도 된다.The polyamideimide resin according to one embodiment of the present invention may further have a partial structure represented by the following general formula (i).

Figure 112016063804013-pat00004
Figure 112016063804013-pat00004

여기에서, X3는, 다이머디아민(a) 및 카르복시기 함유 디아민(b) 이외의 디아민(f)(본 명세서에 있어서, 「다른 디아민(f)」이라고도 한다)의 잔기이고, Y는, 상기 일반식(1) 및 상기 일반식(2)과 마찬가지로, 각각 독립하여 방향환 또는 시클로헥산환이다. 다른 디아민(f)은 1종류의 화합물로 구성되어 있어도 되고, 복수 종류의 화합물로 구성되어 있어도 된다.Here, X 3 is a residue of a diamine (f) other than the dimer diamine (a) and the diamine (b) containing a carboxyl group (also referred to as "other diamine (f)" in this specification) Are each independently an aromatic ring or a cyclohexane ring as in the formulas (1) and (2). The other diamine (f) may be composed of one kind of compound or a plurality of kinds of compounds.

다른 디아민(f)의 구체예로서는, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]설폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]메탄, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]케톤, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2'-디메틸비페닐-4,4'-디아민, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐-4,4'-디아민, 2,6,2',6'-테트라메틸-4,4'-디아민, 5,5'-디메틸-2,2'-설포닐-비페닐-4,4'-디아민, 3,3'-디히드록시비페닐-4,4'-디아민, (4,4'-디아미노)디페닐에테르, (4,4'-디아미노)디페닐설폰, (4,4'-디아미노)벤조페논, (3,3'-디아미노)벤조페논, (4,4'-디아미노)디페닐메탄, (4,4'-디아미노)디페닐에테르, (3,3'-디아미노)디페닐에테르 등의 방향족 디아민을 들 수 있으며, 헥사메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 데카메틸렌디아민, 도데카메틸렌디아민, 옥타데카메틸렌디아민, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민), 이소포론디아민, 1,4-시클로헥산디아민, 노르보르넨디아민 등 지방족 디아민을 들 수 있다.Specific examples of other diamines (f) include bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 4,4'-bis (aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, (4-aminophenoxy) benzene, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl- 4,4'-diamine, 2,6,2 ', 6'-tetramethyl-4,4'-diamine, 5,5'-dimethyl-2,2'-sulfonyl- Diamine, 3,3'-dihydroxybiphenyl-4,4'-diamine, (4,4'-diamino) diphenyl ether, (4,4'-diamino) diphenylsulfone, (Diamino) benzophenone, (3,3'-diamino) benzophenone, (4,4'-diamino) diphenylmethane, (4,4'-diamino) '- Dia Aromatic diamines such as hexamethylenediamine, octamethylenediamine, decamethylenediamine, dodecamethylenediamine, octadecamethylenediamine, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), iso Aliphatic diamines such as phthalic anhydride, peronediamine, 1,4-cyclohexanediamine and norbornenediamine.

본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지는, 하기 일반식(ⅱ)으로 표시되는 구조를 갖고 있어도 된다.The polyamideimide resin according to one embodiment of the present invention may have a structure represented by the following general formula (ii).

Figure 112016063804013-pat00005
Figure 112016063804013-pat00005

여기에서, Z는 지방족기여도 되고, 방향족을 포함하는 기여도 된다. 지방족기일 경우에는, 시클로헥산환 등 지환기를 포함하고 있어도 된다. 후술하는 제조 방법에 따르면, Z는 디이소시아네이트 화합물(e)의 잔기로 된다.Here, Z may be an aliphatic or aromatic containing moiety. When it is an aliphatic group, it may contain an alicyclic group such as a cyclohexane ring. According to the production method described later, Z is a residue of the diisocyanate compound (e).

본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법은 한정되지 않는다. 하기의 제조 방법을 채용하면, 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지를 효율적으로 제조하는 것이 가능하다.The method for producing the polyamide-imide resin according to one embodiment of the present invention is not limited. When the following production method is employed, it is possible to efficiently produce the polyamide-imide resin according to one embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법은, 이미드화 공정 및 아미드이미드화 공정을 구비한다.A process for producing a polyamideimide resin according to an embodiment of the present invention comprises an imidization process and an amidimidation process.

이미드 공정에서는, 다이머디아민(a), 카르복시기 함유 디아민(b), 및 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)과 무수트리멜리트산(d)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종을 반응시켜서 이미드화물(A)을 얻는다.In the imide process, a group consisting of dimer diamine (a), a carboxyl group-containing diamine (b), cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) and trimellitic anhydride Is reacted to obtain an imide (A).

다이머디아민(a)의 투입량은, 다이머디아민(a)의 함유량이 20∼60중량%로 되는 양이 바람직하며, 다이머디아민(a)의 함유량이 30∼50중량%로 되는 양이 보다 바람직하다. 다이머디아민(a)의 함유량의 정의는 상술한 바와 같다.The amount of the dimer diamine (a) is preferably such that the content of the dimer diamine (a) is 20 to 60 wt%, and the content of the dimer diamine (a) is more preferably 30 to 50 wt%. The definition of the content of the dimer diamine (a) is as described above.

필요에 따라서, 다이머디아민(a) 및 카르복시기 함유 디아민(b)과 함께, 그 밖의 디아민(f)을 사용해도 된다.If necessary, other diamine (f) may be used together with the dimer diamine (a) and the carboxyl group-containing diamine (b).

폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성을 높이는 관점에서, 이미드화 공정에 있어서, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)을 사용하는 것이 바람직하다. 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)의 사용량의, 무수트리멜리트산(d)의 사용량에 대한 몰비는, 85/15∼100/0인 것이 바람직하며, 90/10∼99/1인 것이 보다 바람직하고, 90/10∼98/2인 것이 더 바람직하다.From the viewpoint of enhancing the alkali solubility of the polyamide-imide resin, it is preferable to use cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) in the imidation step. The molar ratio of the amount of the cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) to the amount of the anhydrous trimellitic acid (d) used is preferably 85/15 to 100/0, More preferably 90/10 to 99/1, and even more preferably 90/10 to 98/2.

이미드화물(A)을 얻기 위하여 사용되는 디아민 화합물(B)(구체적으로는, 다이머디아민(a) 및 카르복시기 함유 디아민(b) 그리고 필요에 따라 사용되는 그 밖의 디아민(f)을 의미한다)의 양과 산무수물(C)(구체적으로는, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)과 무수트리멜리트산(d)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종을 의미한다)의 양과의 관계는 한정되지 않는다. 산무수물(C)의 사용량은, 디아민 화합물(B)의 사용량에 대한 몰비율이 2.0 이상 2.4 이하로 되는 양인 것이 바람직하며, 당해 몰비율이 2.0 이상 2.2 이하로 되는 양인 것이 보다 바람직하다.Means diamine compound (B) (specifically, dimer diamine (a) and carboxyl group-containing diamine (b) used for obtaining imide cargo (A) and other diamine (f) (C) (specifically, one or two selected from the group consisting of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) and anhydrous trimellitic acid ) Is not limited. The amount of the acid anhydride (C) to be used is preferably such that the molar ratio with respect to the amount of the diamine compound (B) is 2.0 or more and 2.4 or less, more preferably 2.0 or more and 2.2 or less.

이미드화물(A)을 얻기 위하여 디아민 화합물(B)과 산무수물(c)을 반응시키는 반응 온도는 한정되지 않는다. 통상적으로, 120℃ 내지 200℃의 범위 내인 것이 바람직하며, 140℃ 내지 180℃의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.The reaction temperature at which the diamine compound (B) and the acid anhydride (c) are reacted to obtain the imide cargo (A) is not limited. It is usually preferred to be in the range of 120 to 200 DEG C, and more preferably in the range of 140 to 180 DEG C.

이미드화물(A)을 얻기 위한 반응 용매는 한정되지 않는다. 이러한 반응 용매의 구체예로서, γ-부티로락톤, 시클로헥산온, 디메틸아세트아미드(DMAC), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸설폭시드, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 설포란, 시클로펜탄온, 디글라임, 트리글라임 등을 들 수 있다. 이미드화물(A)을 얻기 위한 반응 용매는 1종류의 화합물로 구성되어 있어도 되며, 2종 이상의 화합물을 조합해서 반응 용매로서 사용해도 된다. 그 중에서도, 이미드화물(A)을 생성시키는 공정은 높은 반응 온도를 필요로 하기 때문에, 비점이 높으며, 얻어지는 폴리머의 용해성이 비교적 양호하고, 폴리머 용액을 사용할 때에 엄격한 습도 관리가 불필요한 γ-부티로락톤, 시클로헥산온, 트리글라임, 디글라임 및 시클로펜탄온으로 이루어지는 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상을, 이미드화물(A)을 얻기 위한 반응 용매로서 사용하는 것이 바람직하다.The reaction solvent for obtaining the imide cargo (A) is not limited. Specific examples of such reaction solvents include γ-butyrolactone, cyclohexanone, dimethylacetamide (DMAC), dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone Propane, cyclopentane, diglyme, triglyme, and the like. The reaction solvent for obtaining the imide cargo (A) may be composed of one kind of compound, or two or more kinds of compounds may be combined and used as a reaction solvent. Among them, the step of producing the imide cargo (A) requires a high reaction temperature, so that the boiling point is high, the solubility of the resulting polymer is relatively good, and the γ- It is preferable to use at least one member selected from the group consisting of lactone, cyclohexanone, triglyme, diglyme and cyclopentanone as a reaction solvent for obtaining the imide (A).

이미드화 반응에서는 물이 생성하므로, 이미드화물(A)을 얻기 위한 반응을 행할 경우에는, 이미드화 반응에서 생성하는 물과 공비 가능한 방향족 탄화수소를 존재시키는 것이 바람직하다. 이러한 방향족 탄화수소로서는, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 메시틸렌 등을 들 수 있다. 그 중에서도 독성이 비교적 낮고, 비점이 낮기 때문에 증류 제거하기 쉬우므로, 톨루엔이 바람직하다.In the imidization reaction, water is produced. Therefore, when the reaction for obtaining the imide (A) is carried out, it is preferable that an aromatic hydrocarbon capable of being azeotropic with water generated in the imidization reaction is present. Examples of such aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, and mesitylene. Among them, toluene is preferable because it is relatively low in toxicity and low in boiling point, and therefore, it is easy to remove by distillation.

아미드이미드화 공정에서는, 상기한 이미드화 공정에 의해 얻어진 이미드화물(A)에, 디이소시아네이트 화합물(e)을 반응시켜서 하기 일반식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 물질을 포함하는 폴리아미드이미드 수지를 얻는다.In the amideimidation step, the diisocyanate compound (e) is reacted with the imide (A) obtained by the imidation process described above to obtain a polyamideimide containing a substance having a structure represented by the following general formula (3) A resin is obtained.

디이소시아네이트 화합물(e)의 구체적인 종류는 한정되지 않는다. 디이소시아네이트 화합물(e)은 1종류의 화합물로 구성되어 있어도 되고, 복수 종류의 화합물로 구성되어 있어도 된다.The specific kind of the diisocyanate compound (e) is not limited. The diisocyanate compound (e) may be composed of one kind of compound or plural kinds of compounds.

디이소시아네이트 화합물(e)의 구체예로서는, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, o-자일릴렌디이소시아네이트, m-자일릴렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌 다이머 등의 방향족 디이소시아네이트; 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 노르보르넨디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트 등을 들 수 있다. 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성 및 폴리아미드이미드 수지의 광투과성을 함께 양호하게 하는 관점에서, 디이소시아네이트 화합물(e)은 지방족 이소시아네이트를 함유하는 것이 바람직하며, 디이소시아네이트 화합물(e)은 지방족 이소시아네이트인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the diisocyanate compound (e) include 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, Aromatic diisocyanates such as randy isocyanate, m-xylylene diisocyanate, and 2,4-tolylene dimer; And aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, and norbornene diisocyanate. From the viewpoint of improving the alkali solubility of the polyamide-imide resin and the light transmittance of the polyamide-imide resin, the diisocyanate compound (e) preferably contains an aliphatic isocyanate and the diisocyanate compound (e) is an aliphatic isocyanate More preferable.

아미드이미드화 공정에 있어서의 디이소시아네이트 화합물(h)의 사용량은 한정되지 않는다. 폴리아미드이미드 수지에 적당한 알칼리 용해성을 부여하는 관점에서, 디이소시아네이트 화합물(h)의 사용량은, 이미드 화합물(A)을 얻기 위하여 사용한 디아민 화합물(B)의 양에 대한 몰비율로서, 0.3 이상 1.0 이하로 하는 것이 바람직하며, 0.4 이상 0.95 이하로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.50 이상 0.90 이하로 하는 것이 특히 바람직하다.The amount of the diisocyanate compound (h) used in the amideimidation step is not limited. The amount of the diisocyanate compound (h) to be used is preferably from 0.3 to 1.0 (molar ratio) to the amount of the diamine compound (B) used for obtaining the imide compound (A) from the viewpoint of imparting appropriate alkali solubility to the polyamide- Or less, more preferably 0.4 or more and 0.95 or less, and particularly preferably 0.50 or more and 0.90 or less.

아미드이미드화 공정에 있어서의 아미드이미드화 반응의 반응 온도는 한정되지 않는다. 아미드이미드화 반응의 반응 온도의 일 구체예를 들면, 130℃ 이상 200℃ 이하의 범위이며, 150℃ 이상 180℃ 이하의 범위 내에서 반응시키는 것이 바람직한 경우도 있다.The reaction temperature of the amideimidation reaction in the amideimidation step is not limited. In one specific example of the reaction temperature of the amideimidation reaction, the reaction is preferably carried out in the range of 130 占 폚 to 200 占 폚, and in the range of 150 占 폚 to 180 占 폚.

아미드이미드화 공정에 있어서의 아미드이미드화 반응에는, 필요에 따라서 촉매를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 촉매의 구체적인 예로서는, 트리에틸아민, 루티딘, 피콜린, 트리에틸렌디아민 등의 아민류; 리튬메틸레이트, 나트륨메틸레이트, 리튬에틸레이트, 나트륨에틸레이트, 마그네슘에틸레이트, 칼륨부톡사이드, 불화칼륨, 불화나트륨 등의 알칼리 금속 또는 알칼리토류 금속의 화합물; 코발트, 티타늄, 주석, 아연 등의 금속 또는 반금속의 화합물 등을 들 수 있다.For the amidimidation reaction in the amideimidation step, a catalyst can be used if necessary. Specific examples of the catalyst that can be used include amines such as triethylamine, lutidine, picoline, and triethylenediamine; Compounds of alkali metals or alkaline earth metals such as lithium methylate, sodium methylate, lithium ethylate, sodium ethylate, magnesium ethylate, potassium butoxide, potassium fluoride, and sodium fluoride; Cobalt, titanium, tin, and zinc, and the like.

이상의 제조 방법에 의해 제조되는 폴리아미드이미드 수지는, 하기 일반식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 물질을 포함한다.The polyamideimide resin produced by the above production method includes a substance having a structure represented by the following general formula (3).

Figure 112016063804013-pat00006
Figure 112016063804013-pat00006

상기 일반식(3) 중, X는 각각 독립하여 디아민 잔기(디아민 화합물(B)의 잔기), Y는 각각 독립하여 방향환 또는 시클로헥산환, Z는 디이소시아네이트 화합물(e)의 잔기이다. n은 자연수이다.In the general formula (3), X is independently a diamine residue (residue of the diamine compound (B)), Y is independently an aromatic ring or cyclohexane ring, and Z is a residue of the diisocyanate compound (e). n is a natural number.

이상의 제조 방법에 의해 제조된 폴리아미드이미드 수지는, 카르복시기를 함유한다. 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성을 높이는 관점에서, 산가는 50㎎KOH/g 이상인 것이 바람직하다. 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성을 높이는 관점에서는, 상기한 산가의 상한은 한정되지 않는다. 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물의 경화물의 기계 특성 등 다른 특성과, 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성과의 밸런스를 양호하게 하는 관점에서, 상기한 산가는 150㎎KOH/g 이하로 하는 것이 바람직하며, 120㎎KOH/g 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.The polyamideimide resin produced by the above production method contains a carboxyl group. From the viewpoint of enhancing the alkali solubility of the polyamide-imide resin, the acid value is preferably 50 mgKOH / g or more. From the viewpoint of enhancing the alkali solubility of the polyamide-imide resin, the upper limit of the acid value is not limited. From the viewpoint of improving the balance between the other properties such as the mechanical properties of the cured product of the thermosetting resin composition including the polyamide-imide resin and the alkali solubility of the polyamide-imide resin, it is preferable that the acid value is 150 mgKOH / g or less And more preferably 120 mgKOH / g or less.

다음으로, 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지를 사용한 열경화성 수지 조성물에 대하여 설명한다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지는 카르복시기를 갖기 때문에, 적절한 열경화성 재료를 사용함에 의해, 이 카르복시기를 반응 부위로 해서, 중합 반응(경화 반응)을 행하게 하는 것이 가능하다. 따라서, 본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지 및 열경화성 재료를 함유한다. 이러한 열경화성 재료는 1종류의 물질로 구성되어 있어도 되고, 복수 종류의 물질로 구성되어 있어도 된다.Next, the thermosetting resin composition using the polyamide-imide resin according to one embodiment of the present invention will be described. Since the polyamide-imide resin according to one embodiment of the present invention has a carboxyl group, it is possible to cause the polymerization reaction (curing reaction) to take place using the carboxyl group as a reaction site by using an appropriate thermosetting material. Therefore, the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention contains the polyamideimide resin and the thermosetting material according to one embodiment of the present invention. The thermosetting material may be composed of one kind of material or may be composed of a plurality of kinds of materials.

열경화성 재료는, 열에 의해 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지가 갖는 카르복시기와 반응하는 것이 가능한 재료이다. 그러한 재료로서, 에폭시기를 갖는 화합물, 이소시아네이트기를 갖는 화합물 등이 예시된다. 어떠한 화합물도, 카르복시기와 반응할 수 있는 관능기(본 명세서에 있어서 「반응성 관능기」라고도 한다)를 복수 갖는 것이 바람직하다.The thermosetting material is a material capable of reacting with a carboxyl group possessed by the polyamideimide resin according to one embodiment of the present invention by heat. As such a material, a compound having an epoxy group, a compound having an isocyanate group, and the like are exemplified. Any compound preferably has a plurality of functional groups (also referred to as " reactive functional groups " in the present specification) capable of reacting with a carboxyl group.

에폭시기를 갖는 화합물의 일례로서, 에폭시 수지를 들 수 있다. 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 비스페놀S형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지; 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸노볼락에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지 등의 노볼락형 에폭시 수지; 디시클로펜타디엔과 페놀류를 반응시켜서 얻어지는 디시클로펜타디엔형 페놀 수지의 에폭시화물; 2,2′,6,6′-테트라메틸비페놀의 에폭시화물 등의 비페닐형 에폭시 수지; 나프탈렌 골격을 갖는 에폭시 수지; 플루오렌 골격을 갖는 에폭시 수지 등의 방향족계 에폭시 수지나 이들 방향족계 에폭시 수지의 수소 첨가물; 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 등의 지방족 에폭시 수지; 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트, 비스-(3,4-에폭시시클로헥실)아디페이트 등의 지환식 에폭시 수지; 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 헤테로환 함유 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As an example of the compound having an epoxy group, an epoxy resin can be mentioned. Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and bisphenol S type epoxy resin; Novolak type epoxy resins such as phenol novolak epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, and bisphenol A novolak type epoxy resin; An epoxide of a dicyclopentadiene type phenolic resin obtained by reacting dicyclopentadiene with a phenol; Biphenyl type epoxy resins such as epoxy compounds of 2,2 ', 6,6'-tetramethylbiphenol; An epoxy resin having a naphthalene skeleton; Aromatic epoxy resins such as epoxy resins having a fluorene skeleton, hydrogenated products of these aromatic epoxy resins; Aliphatic epoxy resins such as ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diglycidyl ether; Alicyclic epoxy resins such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and bis- (3,4-epoxycyclohexyl) adipate; And heterocycle-containing epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate.

본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물의 경화물의 내열성 및 기계 특성을 높이는 관점에서, 열경화성 재료가 에폭시 수지를 함유할 경우에는, 비스페놀형 에폭시 수지 및 비페닐형 에폭시 수지의 적어도 한쪽을 함유하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of enhancing the heat resistance and mechanical properties of the cured product of the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention, when the thermosetting material contains an epoxy resin, it is preferable to use an epoxy resin containing at least one of a bisphenol- .

본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물에 함유되는 폴리아미드이미드 수지의 양과 에폭시 수지 등 열경화성 재료의 양과의 관계는 한정되지 않는다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물의 경화물의 기계 특성, 내열성 등을 높이는 관점에서, 폴리아미드이미드 수지의 카르복시기 당량(폴리아미드이미드 수지의 산가로부터 산출할 수 있다)에 대한, 에폭시 수지의 에폭시 당량 등의 반응성 관능기 당량의 비율이, 0.6 이상 1.3 이하인 것이 바람직하며, 0.8 이상 1.2 이하인 것이 보다 바람직하다.The relationship between the amount of the polyamide-imide resin contained in the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention and the amount of the thermosetting material such as epoxy resin is not limited. From the viewpoint of enhancing the mechanical properties, heat resistance and the like of the cured product of the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention, it is preferable that the ratio of the carboxyl group equivalent of the polyamideimide resin (which can be calculated from the acid value of the polyamideimide resin) Epoxy equivalent and the like is preferably 0.6 or more and 1.3 or less, more preferably 0.8 or more and 1.2 or less.

본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물은 경화촉진제를 함유해도 된다. 즉, 본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 폴리아미드이미드 수지, 에폭시 수지 및 경화촉진제를 함유해도 된다.The thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention may contain a curing accelerator. That is, the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention may contain a polyamideimide resin, an epoxy resin and a curing accelerator according to one embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물이 경화촉진제를 함유할 경우에 있어서, 경화촉진제의 종류는 한정되지 않는다. 경화촉진제는 1종류의 물질로 구성되어 있어도 되고, 복수 종류의 물질로 구성되어 있어도 된다.When the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention contains a curing accelerator, the kind of the curing accelerator is not limited. The curing accelerator may be composed of one kind of material or a plurality of kinds of materials.

경화촉진제가, 열경화를 촉진하는 재료인 경우를 예로 하면, 3급아민 화합물, 4급암모늄염, 이미다졸류, 포스핀 화합물, 포스포늄염 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 3급아민 화합물; 2-메틸이미다졸, 2,4-디메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류; 트리페닐포스핀, 트리부틸포스핀, 트리(p-메틸페닐)포스핀, 트리(노닐페닐)포스핀 등의 포스핀 화합물; 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 테트라페닐포스포늄테트라나프토에산보레이트 등의 포스포늄염; 트리페닐포스포니오페놀레이트, 벤조퀴논과 트리페닐포스핀의 반응물 등의 베타인상 유기 인 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the case where the curing accelerator is a material promoting thermosetting include tertiary amine compounds, quaternary ammonium salts, imidazoles, phosphine compounds, and phosphonium salts. More specifically, there may be mentioned triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo Of a tertiary amine compound; Imidazoles such as 2-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole; Phosphine compounds such as triphenylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, and tri (nonylphenyl) phosphine; Phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and tetraphenylphosphonium tetranaphthoateborate; Triphenylphosphonoformate, triphenylphosphonium phenolate, and a reaction product of benzoquinone and triphenylphosphine.

본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물이 열경화성 재료를 함유할 경우에는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 열경화성 수지 조성물을 가열함에 의해, 당해 열경화성 수지 조성물을 경화시킬 수 있다. 경화 온도, 경화 시간 등의 경화 조건은 열경화성 수지 조성물에 함유되는 성분에 따라서 적의(適宜) 설정하면 된다. 경화 조건의 일례로서, 경화 온도를 80℃ 이상 300℃ 이하로 하고, 30분간∼6시간의 경화 시간으로 하는 것을 들 수 있다.When the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention contains a thermosetting material, the thermosetting resin composition can be cured by heating the thermosetting resin composition according to one embodiment of the present invention. The curing conditions such as the curing temperature and the curing time may be appropriately set depending on the components contained in the thermosetting resin composition. As an example of the curing condition, a curing temperature of 80 ° C or more and 300 ° C or less and a curing time of 30 minutes to 6 hours can be cited.

이상 설명한 실시형태는, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위하여 기재된 것으로서, 본 발명을 한정하기 위하여 기재된 것은 아니다. 따라서, 상기 실시형태에 개시된 각 요소는, 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계 변경이나 균등물도 포함하는 취지이다.The above-described embodiments are described for the purpose of facilitating understanding of the present invention, and are not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design modifications and equivalents falling within the technical scope of the present invention.

[실시예] [Example]

이하에 실시예에 의해서 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

(실시예 1)(Example 1)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에, 다이머디아민(a)으로서의 탄소수 36의 다이머산에 유래하는 지방족 디아민(크로다재팬사제, 제품명 PRIAMINE 1075) 28.61g(0.052mol), 카르복시기 함유 디아민(b)으로서의 3,5-디아미노벤조산 4.26g(0.028mol), γ-부티로락톤 85.8g을 실온에서 투입하고 용해했다.28.01 g (0.052 mol) of an aliphatic diamine (product name: PRIAMINE 1075, manufactured by Kuroda Japan Co., Ltd.) derived from dimer acid having a carbon number of 36 as dimer diamine (a) was added to four 300 ml flasks equipped with a stirrer, , 4.26 g (0.028 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid as a carboxyl group-containing diamine (b) and 85.8 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물(c) 30.12g(0.152mol), 무수트리멜리트산(d) 3.07g(0.016mol)을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물을 함유하는 용액을 얻었다.Next, 30.12 g (0.152 mol) of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride (c) and 3.07 g (0.016 mol) of anhydrous trimellitic acid (d) were added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain a solution containing the imide.

얻어진 이미드화물을 함유하는 용액에, 디이소시아네이트 화합물(e)로서의 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 14.30g(0.068mol)을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지해서, 시클로헥산온 21.4g으로 희석함으로써 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 용액(A-1)을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량Mw는 5250, 고형분은 41.5질량%, 산가는 63㎎KOH/g, 다이머디아민(a)의 함유량은 40.0중량%였다.14.30 g (0.068 mol) of trimethylhexamethylene diisocyanate as a diisocyanate compound (e) was added to a solution containing the obtained imide compound, and the solution was kept at 160 캜 for 32 hours and diluted with 21.4 g of cyclohexanone Thereby obtaining a solution (A-1) containing a polyamide-imide resin. The polyamide-imide resin thus obtained had a weight average molecular weight Mw of 5250, a solid content of 41.5% by mass, an acid value of 63 mgKOH / g and a content of dimer diamine (a) of 40.0% by weight.

(실시예 2)(Example 2)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에, 다이머디아민(a)으로서의 탄소수 36의 다이머산에 유래하는 지방족 디아민(크로다재팬사제, 제품명 PRIAMINE 1075) 29.49g(0.054mol), 카르복시기 함유 디아민(b)으로서의 3,5-디아미노벤조산 4.02g(0.026mol), γ-부티로락톤 73.5g을 실온에서 투입하고 용해했다.29.49 g (0.054 mol) of an aliphatic diamine (product name: PRIAMINE 1075, manufactured by Kuroda Japan Co., Ltd.) derived from a dimer acid having a carbon number of 36 as a dimer diamine (a) was added to four 300 ml flasks equipped with a stirrer, , 4.02 g (0.026 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid as the carboxyl group-containing diamine (b) and 73.5 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물(c) 31.71g(0.160mol), 무수트리멜리트산(d) 1.54g(0.008mol)을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물을 함유하는 용액을 얻었다.Next, 31.71 g (0.160 mol) of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride (c) and 1.54 g (0.008 mol) of anhydrous trimellitic acid (d) were added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain a solution containing the imide.

얻어진 이미드화물을 함유하는 용액에, 디이소시아네이트 화합물(e)로서의, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 6.90g(0.033mol) 및 디시클로헥실메탄디이소시아네이트 8.61g(0.033mol)을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지해서, 시클로헥산온 36.8g으로 희석함으로써 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 용액(A-2)을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량Mw는 5840, 고형분은 40.4질량%, 산가는 62㎎KOH/g, 다이머디아민(a)의 함유량은 40.1중량%였다.6.90 g (0.033 mol) of trimethylhexamethylene diisocyanate and 8.61 g (0.033 mol) of dicyclohexylmethane diisocyanate as a diisocyanate compound (e) were fed into a solution containing the obtained imide cargo, , And the solution was diluted with 36.8 g of cyclohexanone to obtain a solution (A-2) containing the polyamideimide resin. The polyamide-imide resin thus obtained had a weight average molecular weight Mw of 5840, a solid content of 40.4% by weight, an acid value of 62 mgKOH / g and a content of dimer diamine (a) of 40.1% by weight.

(실시예 3)(Example 3)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에, 다이머디아민(a)으로서의 탄소수 36의 다이머산에 유래하는 지방족 디아민(크로다재팬사제, 제품명 PRIAMINE 1075) 29.49g(0.054mol), 카르복시기 함유 디아민(b)으로서의 3,5-디아미노벤조산 4.02g(0.026mol), γ-부티로락톤 75.0g을 실온에서 투입하고 용해했다.29.49 g (0.054 mol) of an aliphatic diamine (product name: PRIAMINE 1075, manufactured by Kuroda Japan Co., Ltd.) derived from a dimer acid having a carbon number of 36 as a dimer diamine (a) was added to four 300 ml flasks equipped with a stirrer, , 4.02 g (0.026 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid as the carboxyl group-containing diamine (b) and 75.0 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물(c) 33.29g(0.168mol)을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물을 함유하는 용액을 얻었다.Next, 33.29 g (0.168 mol) of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride (c) was added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain a solution containing the imide.

얻어진 이미드화물을 함유하는 용액에, 디이소시아네이트 화합물(e)로서의 디시클로헥실메탄디이소시아네이트 16.79g(0.064mol)을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지해서, 시클로헥산온 37.5g으로 희석함으로써 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 용액(A-3)을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량Mw는 6430, 고형분은 41.2질량%, 산가는 63㎎KOH/g, 다이머디아민(a)의 함유량은 39.3중량%였다.16.79 g (0.064 mol) of dicyclohexylmethane diisocyanate as the diisocyanate compound (e) was added to a solution containing the imide compound obtained, and the solution was kept at 160 ° C for 32 hours, diluted with 37.5 g of cyclohexanone To obtain a solution (A-3) containing a polyamideimide resin. The polyamide-imide resin thus obtained had a weight average molecular weight Mw of 6430, a solid content of 41.2% by mass, an acid value of 63 mgKOH / g and a content of dimer diamine (a) of 39.3% by weight.

(실시예 4)(Example 4)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에, 다이머디아민(a)으로서의 탄소수 36의 다이머산에 유래하는 지방족 디아민(크로다재팬사제, 제품명 PRIAMINE 1075) 33.01g(0.060mol), 카르복시기 함유 디아민(b)으로서의 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산) 5.73g(0.020mol), γ-부티로락톤 95.4g을 실온에서 투입하고 용해했다.33.01 g (0.060 mol) of an aliphatic diamine (product name: PRIAMINE 1075, manufactured by Kuroda Japan Co., Ltd.) derived from a dimer acid having a carbon number of 36 as a dimer diamine (a) was added to four 300 ml flasks equipped with a stirrer, 5.73 g (0.020 mol) of 5,5'-methylenebis (anthranilic acid) as a carboxyl group-containing diamine (b) and 95.4 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물(c) 31.71g(0.160mol), 무수트리멜리트산(d) 1.54g(0.008mol)을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물을 함유하는 용액을 얻었다.Next, 31.71 g (0.160 mol) of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride (c) and 1.54 g (0.008 mol) of anhydrous trimellitic acid (d) were added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain a solution containing the imide.

얻어진 이미드화물을 함유하는 용액에, 디이소시아네이트 화합물(e)로서의 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 7.40g(0.035mol) 및 디시클로헥실메탄디이소시아네이트 9.23g(0.035mol)을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지해서, 시클로헥산온 23.9g으로 희석함으로써 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 용액(A-4)을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량Mw는 8310, 고형분은 41.3질량%, 산가는 70㎎KOH/g, 다이머디아민(a)의 함유량은 41.5중량%였다.7.40 g (0.035 mol) of trimethylhexamethylene diisocyanate as a diisocyanate compound (e) and 9.23 g (0.035 mol) of dicyclohexylmethane diisocyanate were fed into a solution containing the obtained imide compound at a temperature of 160 ° C. The solution was kept for 32 hours and diluted with 23.9 g of cyclohexanone to obtain a solution (A-4) containing the polyamideimide resin. The polyamide-imide resin thus obtained had a weight average molecular weight Mw of 8310, a solid content of 41.3% by mass, an acid value of 70 mgKOH / g and a content of dimer diamine (a) of 41.5% by weight.

(실시예 5)(Example 5)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에, 다이머디아민(a)으로서의 탄소수 36의 다이머산에 유래하는 지방족 디아민(크로다재팬사제, 제품명 PRIAMINE 1075) 33.01g(0.060mol), 카르복시기 함유 디아민(b)으로서의 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산) 5.73g(0.020mol), γ-부티로락톤 96.5g을 실온에서 투입하고 용해했다.33.01 g (0.060 mol) of an aliphatic diamine (product name: PRIAMINE 1075, manufactured by Kuroda Japan Co., Ltd.) derived from a dimer acid having a carbon number of 36 as a dimer diamine (a) was added to four 300 ml flasks equipped with a stirrer, 5.73 g (0.020 mol) of 5,5'-methylenebis (anthranilic acid) as a carboxyl group-containing diamine (b) and 96.5 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물(c) 31.71g(0.160mol), 무수트리멜리트산(d) 1.54g(0.008mol)을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물을 함유하는 용액을 얻었다.Next, 31.71 g (0.160 mol) of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride (c) and 1.54 g (0.008 mol) of anhydrous trimellitic acid (d) were added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain a solution containing the imide.

얻어진 이미드화물을 함유하는 용액에, 디이소시아네이트 화합물(e)로서의 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 3.70g(0.018mol) 및 디시클로헥실메탄디이소시아네이트 13.85g(0.053mol)을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지해서, 시클로헥산온 24.1g으로 희석함으로써 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 용액(A-5)을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량Mw는 8900, 고형분은 41.0질량%, 산가는 69㎎KOH/g, 다이머디아민(a)의 함유량은 41.0중량%였다.3.70 g (0.018 mol) of trimethylhexamethylene diisocyanate as a diisocyanate compound (e) and 13.85 g (0.053 mol) of dicyclohexylmethane diisocyanate were fed into a solution containing the obtained imide compound at a temperature of 160 ° C. The solution was kept for 32 hours and diluted with 24.1 g of cyclohexanone to obtain a solution (A-5) containing the polyamideimide resin. The polyamide-imide resin thus obtained had a weight average molecular weight Mw of 8900, a solid content of 41.0% by mass, an acid value of 69 mgKOH / g and a content of dimer diamine (a) of 41.0% by weight.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에 2,2'-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 6.98g, 3,5-디아미노벤조산 3.80g, 폴리에테르디아민(한츠만사제, 제품명 에라스타민RT1000, 분자량 1025.64) 8.21g, 및 γ-부티로락톤 86.49g을 실온에서 투입하고 용해했다.In a four-necked 300 ml flask equipped with a nitrogen gas introducing tube, a thermometer and a stirrer, 6.98 g of 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 3.80 g of 3,5-diaminobenzoic acid, , 8.21 g of etherdiamine (product name: Erastamine RT1000, molecular weight 1025.64) and 86.49 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물 17.84g 및 무수트리멜리트산 2.88g을 투입하고, 실온에서 30분간 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물 용액을 얻었다.Next, 17.84 g of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride and 2.88 g of trimellitic anhydride were added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain an imide freed solution.

얻어진 이미드화물 용액에, 무수트리멜리트산 9.61g 및 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 17.45g을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지했다. 이렇게 해서, 카르복시기를 함유하는 폴리아미드이미드 수지 용액(B-1)을 얻었다. 고형분은 40.1질량%, 산가는 83㎎KOH/g이었다.9.61 g of trimellitic anhydride and 17.45 g of trimethylhexamethylene diisocyanate were added to the resulting imide cargo solution, and the mixture was kept at 160 ° C for 32 hours. Thus, a polyamideimide resin solution (B-1) containing a carboxyl group was obtained. The solid content was 40.1% by mass and the acid value was 83 mgKOH / g.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에 3,5-디아미노벤조산 4.05g, 변성 실리콘 오일(신에츠가가쿠고교사제, 제품명 X-22-9409, 아민 당량 680g/eq) 39.98g, γ-부티로락톤 76.72g을 실온에서 투입하고 용해했다.Diaminobenzoic acid, 4.05 g of a modified silicone oil (product name: X-22-9409, amine equivalent: 680 g / eq, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was placed in a four-necked 300 ml flask equipped with a stirrer, And 76.72 g of? -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물 20.11g, 무수트리멜리트산 2.69g을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드화물 용액을 얻었다.Then, 20.11 g of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic anhydride and 2.69 g of trimellitic anhydride were added and kept at room temperature for 30 minutes. 30 g of toluene was further charged, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was maintained for 3 hours and cooled to room temperature to obtain an imide freed solution.

얻어진 이미드화물 용액에, 무수트리멜리트산 0.94g, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물 1.80g, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트 13.77g을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지함으로써 카르복시기 함유의 폴리아미드이미드 수지 용액(B-2)을 얻었다. 고형분은 52.0질량%, 산가는 65㎎KOH/g이었다.0.94 g of trimellitic anhydride, 1.80 g of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride and 13.77 g of dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate were added to the obtained imide cargo solution, And maintained at a temperature for 32 hours to obtain a polyamide-imide resin solution (B-2) containing a carboxyl group. The solid content was 52.0 mass% and the acid value was 65 mg KOH / g.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

질소 가스 도입관, 온도계, 교반기를 구비한 4구의 300㎖ 플라스크에 2,2'-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 10.26g, 3,5-디아미노벤조산 3.80g, γ-부티로락톤 79.48g을 실온에서 투입하고 용해했다.In a four-necked 300 ml flask equipped with a nitrogen gas introducing tube, a thermometer and a stirrer, 10.26 g of 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 3.80 g of 3,5- -Butyrolactone were added and dissolved at room temperature.

다음으로, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산무수물 17.84g, 무수트리멜리트산 2.88g을 투입하고, 실온에서 30분 유지했다. 추가로 톨루엔 30g을 투입하고, 160℃까지 승온해서, 톨루엔과 함께 생성하는 물을 제거한 후, 3시간 유지하고, 실온까지 냉각함으로써 이미드디카르복시산 용액을 얻었다.Next, 17.84 g of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic anhydride and 2.88 g of trimellitic anhydride were added and kept at room temperature for 30 minutes. Further, 30 g of toluene was added, the temperature was raised to 160 캜, water produced together with toluene was removed, and the mixture was kept for 3 hours and cooled to room temperature to obtain an imidodicarboxylic acid solution.

얻어진 이미드디카르복시산 용액에, 무수트리멜리트산 9.61g, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 17.87g을 투입하고, 160℃의 온도에서 32시간 유지함으로써 카르복시기 함유의 폴리아미드이미드 수지 용액(B-3)을 얻었다. 고형분은 40.2질량%, 산가는 90㎎KOH/g이었다.To the obtained imidodicarboxylic acid solution, 9.61 g of trimellitic anhydride and 17.87 g of trimethylhexamethylene diisocyanate were charged and maintained at 160 ° C for 32 hours to obtain a polyamideimide resin solution (B-3) containing a carboxyl group. The solid content was 40.2% by mass and the acid value was 90 mgKOH / g.

(실시예 6∼10)(Examples 6 to 10)

열경화성 수지로서의 비스페놀A형 액상 에폭시 수지(미쓰비시가가쿠사제, 제품명 JER828, 에폭시 당량 185g/eq), 경화촉진제로서의 1-벤질-2-페닐이미다졸(시코쿠가세이공업사제, 제품명 1B2PZ) 및 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 일반식(2)으로 표시되는 구조를 포함하고 있는 폴리아미드이미드 수지의 바니시로서의 실시예 1∼5의 폴리아미드이미드 수지 중 어느 하나를 함유하는 열경화성 수지 조성물을 제작했다(실시예 6∼10). 열경화성 수지 조성물 1∼5는 모두, 폴리아미드이미드 수지의 산가에 의거해 산출한 폴리아미드 수지의 카르복시기 당량과 에폭시 수지의 에폭시기 당량의 당량비가 1/1로서, 폴리아미드이미드 수지의 100질량부당 경화촉진제를 1질량부 함유하고 있는 것이었다.1-benzyl-2-phenylimidazole (product name: 1B2PZ, manufactured by Shikoku Chemicals) as a curing accelerator, and bisphenol A-type liquid epoxy resin as a thermosetting resin (product name: JER828, epoxy equivalent: 185 g / eq; manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) A thermosetting resin composition containing any one of the polyamide-imide resins of Examples 1 to 5 as a varnish of a polyamide-imide resin containing the structure represented by the formula (1) and the structure represented by the formula (2) (Examples 6 to 10). In all of the thermosetting resin compositions 1 to 5, the equivalent ratio of the carboxyl group equivalent of the polyamide resin to the epoxy equivalent of the epoxy resin calculated on the basis of the acid value of the polyamideimide resin was 1/1, and the curing accelerator per 100 parts by mass of the polyamide- Was contained in an amount of 1 part by mass.

(비교예 4∼6)(Comparative Examples 4 to 6)

열경화성 수지로서의 비스페놀A형 액상 에폭시 수지(미쓰비시가가쿠사제, 제품명 JER828, 에폭시 당량 185g/eq), 경화촉진제로서의 1-벤질-2-페닐이미다졸(시코쿠가세이공업사제, 제품명1B2PZ) 및 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 일반식(2)으로 표시되는 구조 중 어느 하나의 구조도 포함하고 있지 않은 폴리아미드이미드 수지의 바니시로서의 비교예 1∼3의 폴리아미드이미드 수지 중 어느 하나를 함유하는 비교 열경화성 수지 조성물을 제작했다(비교예 4∼6). 비교 열경화성 수지 조성물 1∼3은 모두, 폴리아미드이미드 수지의 산가에 의거해 산출한 폴리아미드 수지의 카르복시기 당량과 에폭시 수지의 에폭시기 당량의 당량비가 1/1로서, 폴리아미드이미드 수지의 100질량부당 경화촉진제를 1질량부 함유하고 있는 것이었다.1-benzyl-2-phenylimidazole (product name: 1B2PZ, manufactured by Shikoku Chemicals) as a curing accelerator, and bisphenol A-type liquid epoxy resin as a thermosetting resin (product name: JER828, epoxy equivalent: 185 g / eq; manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Any one of the polyamide-imide resins of Comparative Examples 1 to 3 as a varnish of polyamide-imide resin which does not contain any one of the structure represented by the formula (1) and the structure represented by the formula (2) (Comparative Examples 4 to 6). All of the comparative thermosetting resin compositions 1 to 3 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the equivalent ratio of the carboxyl group equivalent of the polyamide resin to the epoxy equivalent of the epoxy resin calculated on the basis of the acid value of the polyamideimide resin was 1/1, And 1 part by mass of an accelerator.

[시험예 1] 폴리아미드이미드 수지의 알칼리 용해성의 평가[Test Example 1] Evaluation of alkali solubility of polyamide-imide resin

상기와 같이 해서 제작한 실시예 5∼8의 열경화성 수지 조성물 및 비교예 4∼6의 비교 열경화성 수지 조성물을 각각, 건조 막두께가 25㎛로 되도록 구리박에 도포해, 90℃의 온도에서 30분 건조해서 건조막을 얻었다. 얻어진 건조막을 알프스엔지니어링가부시키가이샤제 알칼리 현상기 DV-40L로, 온도 30℃, 스프레이압 0.2㎫에서 1질량% 탄산나트륨 수용액을 사용해 용해하고, 건조막의 상태를 관찰하고, 하기의 기준에 따라서, 열경화성 수지 조성물로서의 알칼리 용해성을 평가했다.The thermosetting resin compositions of Examples 5 to 8 and the comparative thermosetting resin compositions of Comparative Examples 4 to 6 thus prepared were each applied to a copper foil so as to have a dry film thickness of 25 占 퐉 and dried at 90 占 폚 for 30 minutes And dried to obtain a dried film. The dried film thus obtained was dissolved in an alkali developing machine DV-40L manufactured by Alps Engineering Co., Ltd. at a temperature of 30 DEG C and a spray pressure of 0.2 MPa using a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution and the state of the dried film was observed. The alkali solubility as a composition was evaluated.

A : 60초 이내로 용해할 수 있었던 것A: What could be dissolved within 60 seconds

B : 120초 이내로 용해할 수 있었던 것B: What was dissolved within 120 seconds

C : 180초 이내로 용해할 수 있었던 것C: What was able to dissolve within 180 seconds

D : 180초 이내로 용해할 수 없었던 것D: What could not be dissolved within 180 seconds

[시험예 2] 인장 탄성률, 인장 강도, 신장률의 측정[Test Example 2] Measurement of tensile modulus, tensile strength and elongation

표 1에 기재된 배합 조성으로 제작한 실시예 5∼8 및 비교예 4∼6의 열경화성 수지 조성물을 각각 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)에 도포하고, 오븐으로 90℃의 온도에서 30분 건조, 180℃에서 60분 경화하고, PET로부터 벗겨서 막두께 80㎛의 경화 필름을 제작하고, 경화 필름을 소정의 크기로 잘라내서 측정용의 샘플로 했다.The thermosetting resin compositions of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 4 to 6 prepared with the composition shown in Table 1 were applied to polyethylene terephthalate (PET), dried in an oven at a temperature of 90 DEG C for 30 minutes, Cured for 60 minutes, peeled from PET to prepare a cured film having a thickness of 80 mu m, and the cured film was cut into a predetermined size to obtain a sample for measurement.

측정 기기 : 시마즈세이사쿠쇼사제, 제품명 오토그래프 AG-XplusMeasuring instrument: manufactured by Shimadzu Corporation, product name Autograph AG-Xplus

인장 속도 : 5㎜/min.Tensile speed: 5 mm / min.

샘플 치수 : 10㎜×150㎜Sample size: 10 mm x 150 mm

[시험예 3] 유리 전이 온도, 5% 중량 감소 온도의 측정[Test Example 3] Measurement of glass transition temperature, 5% weight reduction temperature

시험예 2에 기재된 방법으로 제작한 경화 필름을 잘라내서, 하기의 측정 용기에 투입하고 측정했다.The cured film produced by the method described in Test Example 2 was cut out and put into the following measuring container and measured.

측정 기기 : 히타치하이테크사제, 제품명 TG/DTA7220Measuring instrument: manufactured by Hitachi Hi-Tech Co., Ltd. Product name TG / DTA7220

분위기 : 공기 중Atmosphere: In the air

측정 온도 : 25∼400℃Measuring temperature: 25 to 400 DEG C

[시험예 4] 유전 특성(유전율, 유전 정접)의 평가[Test Example 4] Evaluation of dielectric properties (dielectric constant, dielectric tangent)

시험예 2에 기재된 방법으로 제작한 경화 필름을 잘라내, 하기의 측정 기기를 사용해서 측정을 행했다.The cured film produced by the method described in Test Example 2 was cut out, and measurement was carried out using the following measuring instrument.

측정 기기 : 기사이트테크놀로지사제, 제품명 네트워크애널라이저 E5071CMeasuring instrument: manufactured by Gisite Technologies, Ltd. Product name Network analyzer E5071C

간토덴시오요우가이하츠샤제, 공동 공진기 섭동법 유전율 측정 장치Kanto Denshi Yogai Hearts Co., Ltd. Cavity resonator Pulsating method Permittivity measuring device

주파수 : 1㎓Frequency: 1 GHz

샘플 치수 : 폭 2㎜×길이 100㎜×두께 0.080㎜Sample dimensions: width 2 mm x length 100 mm x thickness 0.080 mm

[표 1] [Table 1]

Figure 112016063804013-pat00007
Figure 112016063804013-pat00007

실시예 1∼5의 폴리아미드이미드 수지 용액을 함유하는 실시예 6∼10의 열경화성 조성물은, 알칼리 용해성, 유전 특성 모두 우수한 것이었다.The thermosetting compositions of Examples 6 to 10 containing the polyamide-imide resin solutions of Examples 1 to 5 were all excellent in alkali solubility and dielectric properties.

한편, 비교예 1∼3의 폴리아미드이미드 수지 용액을 함유하는 비교예 4∼6의 열경화성 조성물은, 실시예 6∼10의 열경화성 조성물에 비해서 유전 특성이 뒤떨어지고, 알칼리 용해성도 뒤떨어지는 것이었다.On the other hand, the thermosetting compositions of Comparative Examples 4 to 6 containing the polyamide-imide resin solution of Comparative Examples 1 to 3 were inferior in dielectric properties and in alkali solubility as compared with the thermosetting compositions of Examples 6 to 10.

본 발명에 의해 제공되는 폴리아미드이미드 수지는, 알칼리 용해성이 우수한 카르복시기 함유 폴리아미드이미드 수지이다.The polyamideimide resin provided by the present invention is a carboxyl group-containing polyamideimide resin having excellent alkali solubility.

본 발명에 의해 제공되는 열경화성 수지 조성물은, 알칼리 용해성, 기계 특성 및 내열성이 우수한 경화물을 부여할 수 있는 조성물로서, 구체적인 일례로는, 에폭시 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물이다.The thermosetting resin composition provided by the present invention is a composition capable of giving a cured product excellent in alkali solubility, mechanical properties and heat resistance, and a concrete example is a thermosetting resin composition containing an epoxy resin.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 함유하는 열경화성 수지 조성물의 경화물은, 기계 특성, 내열성, 유전 특성이 우수하다. 이 점에서, 본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 플렉서블 프린트 배선판의 절연 재료, 접착제, 필름 원료용 수지 등에 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 알칼리 용해성이 우수하므로, 본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 광반응성의 재료와 혼합시킴으로써, 감광성의 필름이나 접착제로서 사용할 수 있고, 이 경우에는, 회로 기판의 피복 재료 등으로서도 유용하다.The cured product of the thermosetting resin composition containing the polyamideimide resin of the present invention is excellent in mechanical properties, heat resistance and dielectric properties. In this respect, the polyamide-imide resin of the present invention can be used as an insulating material for a flexible printed wiring board, an adhesive, a resin for a film raw material, and the like. Since the polyamide-imide resin of the present invention is excellent in alkali solubility, it can be used as a photosensitive film or an adhesive by mixing the polyamide-imide resin of the present invention with a photoreactive material. In this case, It is also useful as a coating material or the like.

Claims (15)

하기 일반식(1)으로 표시되는 구조 및 하기 일반식(2)으로 표시되는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지.
Figure 112016063804013-pat00008

(X1는 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 잔기, X2는 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)의 잔기, Y는 각각 독립하여 시클로헥산환 또는 방향환이다)
A polyamideimide resin characterized by having a structure represented by the following general formula (1) and a structure represented by the following general formula (2).
Figure 112016063804013-pat00008

(X 1 is a moiety having a carbon number of the ring, Y are each independently a cyclohexane ring or a direction of the 24-48 residues of an aliphatic diamine (a) of the dimer acid-derived, X 2 is an aromatic diamine (b) having a carboxyl group)
제1항에 있어서,
산가가 30㎎KOH/g 이상 150㎎KOH/g 이하인 폴리아미드이미드 수지.
The method according to claim 1,
Wherein the acid value is not less than 30 mgKOH / g and not more than 150 mgKOH / g.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 함유율이 20∼60중량%인 폴리아미드이미드 수지.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the content of the aliphatic diamine (a) derived from a dimer acid having a carbon number of 24 to 48 is 20 to 60% by weight.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 일반식(1) 및 상기 일반식(2)에 있어서 Y로 표시되는 시클로헥산환 및 방향환에서 선택되는 어느 하나 또는 둘(다만, Y가 모두 방향환인 경우는 제외함)은, 시클로헥산환의 함유량의 방향환의 함유량에 대한 몰비가 85/15∼100/0인 폴리아미드이미드 수지.
3. The method according to claim 1 or 2,
Any one or two selected from a cyclohexane ring and an aromatic ring represented by Y in the general formula (1) and the general formula (2) (except when Y is an aromatic ring) may be a cyclohexane ring Wherein the molar ratio of the content of aromatic rings to the content of aromatic rings is 85 / 15-100 / 0.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)은, 3,5-디아미노벤조산 및 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 폴리아미드이미드 수지.
3. The method according to claim 1 or 2,
The aromatic diamine (b) having a carboxyl group includes at least one selected from the group consisting of 3,5-diaminobenzoic acid and 5,5'-methylenebis (anthranilic acid).
제1항 또는 제2항에 기재되는 폴리아미드이미드 수지 및 열경화성 재료를 함유하는 열경화성 수지 조성물.A thermosetting resin composition comprising the polyamide-imide resin and the thermosetting material according to claim 1 or 2. 제6항에 있어서,
상기 열경화성 재료가 에폭시 수지인 열경화성 수지 조성물.
The method according to claim 6,
Wherein the thermosetting material is an epoxy resin.
제6항에 있어서,
열경화촉진제를 더 함유하는 열경화성 수지 조성물.
The method according to claim 6,
A thermosetting resin composition further comprising a thermosetting accelerator.
제6항에 기재되는 열경화성 수지 조성물의 경화물.A cured product of the thermosetting resin composition according to claim 6. 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a), 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b), 및 시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)과 무수트리멜리트산(d)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종을 반응시켜서 이미드화물(A)을 얻는 이미드화 공정, 및
상기 이미드화 공정에 의해 얻어진 상기 이미드화물(A)에, 디이소시아네이트 화합물(e)을 반응시켜서 하기 일반식(3)으로 표시되는 폴리아미드이미드 수지를 얻는 아미드이미드화 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.
Figure 112016063804013-pat00009

(상기 일반식(3) 중, X는 각각 독립하여 디아민 잔기, Y는 각각 독립하여 시클로헥산환 또는 방향환, Z는 디이소시아네이트 화합물(e)의 잔기이고, n은 자연수이다)
An aliphatic diamine (a) derived from a dimer acid having 24 to 48 carbon atoms, an aromatic diamine (b) having a carboxyl group, and cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) (D), to obtain an imide compound (A), and a step of reacting the imide compound
And an amideimidation step of reacting the imide compound (A) obtained by the imidation step with a diisocyanate compound (e) to obtain a polyamideimide resin represented by the following general formula (3) By weight based on the total weight of the polyamide-imide resin.
Figure 112016063804013-pat00009

(Wherein X is each independently a diamine residue, Y is independently a cyclohexane ring or an aromatic ring, Z is a residue of a diisocyanate compound (e), and n is a natural number)
제10항에 있어서,
상기 아미드이미드화 공정에 의해 얻어진 상기 폴리아미드이미드 수지는, 산가가 30㎎KOH/g 이상 150㎎KOH/g 이하인 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the polyamide-imide resin obtained by the amidimidation step has an acid value of 30 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less.
제10항 또는 제11항에 있어서,
상기 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 투입량은, 상기 탄소수가 24∼48인 다이머산 유래의 지방족 디아민(a)의 함유율이 20∼60중량%로 되는 양인 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.
The method according to claim 10 or 11,
The amount of the aliphatic diamine (a) derived from the dimeric acid having 24 to 48 carbon atoms is preferably such that the content of the aliphatic diamine (a) derived from dimeric acid having 24 to 48 carbon atoms is 20 to 60 wt% A method for producing a resin.
제10항 또는 제11항에 있어서,
시클로헥산-1,2,4-트리카르복시산-1,2-무수물(c)의 사용량의, 무수트리멜리트산(d)의 사용량에 대한 몰비가 85/15∼100/0인 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.
The method according to claim 10 or 11,
The amount of the cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (c) to be used is in the range of from 85/15 to 100/0 in terms of the amount of the trimellitic anhydride (d) Gt;
제10항 또는 제11항에 있어서,
상기 카르복시기를 갖는 방향족 디아민(b)은, 3,5-디아미노벤조산 및 5,5'-메틸렌비스(안트라닐산)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.
The method according to claim 10 or 11,
Wherein the aromatic diamine (b) having a carboxyl group comprises at least one member selected from the group consisting of 3,5-diaminobenzoic acid and 5,5'-methylenebis (anthranilic acid).
제10항 또는 제11항에 있어서,
상기 디이소시아네이트 화합물(e)은, 지방족 이소시아네이트 화합물인 폴리아미드이미드 수지의 제조 방법.
The method according to claim 10 or 11,
Wherein the diisocyanate compound (e) is an aliphatic isocyanate compound.
KR1020160083300A 2015-08-12 2016-07-01 Polyamide-imide resin, thermosetting resin composition, method for producing cured product of thermosetting resin composition and polyamide-imide resin KR101713996B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015159407A JP5934419B1 (en) 2015-08-12 2015-08-12 Polyamideimide resin, thermosetting resin composition, cured product of the thermosetting resin composition, and method for producing polyamideimide resin
JPJP-P-2015-159407 2015-08-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170020220A KR20170020220A (en) 2017-02-22
KR101713996B1 true KR101713996B1 (en) 2017-03-07

Family

ID=56120517

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160083300A KR101713996B1 (en) 2015-08-12 2016-07-01 Polyamide-imide resin, thermosetting resin composition, method for producing cured product of thermosetting resin composition and polyamide-imide resin

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5934419B1 (en)
KR (1) KR101713996B1 (en)
CN (1) CN106432725B (en)
TW (1) TWI574998B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021048075A1 (en) * 2019-09-09 2021-03-18 Solvay Specialty Polymers Usa, Llc Polyamide-imide polymer and process for its manufacture

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2016171101A1 (en) * 2015-04-20 2018-02-15 宇部興産株式会社 Polyimide, curable resin composition, cured product
JP6869078B2 (en) * 2017-03-31 2021-05-12 太陽インキ製造株式会社 Curable resin compositions, laminated structures, cured products thereof, and electronic components
CN108693702A (en) * 2017-03-31 2018-10-23 太阳油墨制造株式会社 Hardening resin composition, laminate structure, its solidfied material and electronic unit
GB2561907A (en) * 2017-04-28 2018-10-31 Mahle Int Gmbh Bearing material, bearing and method
JP7205335B2 (en) * 2018-03-28 2023-01-17 荒川化学工業株式会社 Polyimide, adhesive, cross-linking agent, film-like adhesive, adhesive layer, adhesive sheet, resin-coated copper foil, copper-clad laminate, printed wiring board, multilayer wiring board, and manufacturing method thereof
JP2020086387A (en) * 2018-11-30 2020-06-04 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive thermosetting resin composition, dry film and printed wiring board
TWI827786B (en) * 2019-01-29 2024-01-01 日商東洋紡Mc股份有限公司 Adhesive composition containing dimer glycol copolymer polyimide urethane resin
CN111333841A (en) * 2020-03-20 2020-06-26 住井工业(湖南)有限公司 Polyamide-imide resin, insulating film, insulated wire, coil, and motor
CN111574923A (en) * 2020-05-28 2020-08-25 苏州东特绝缘科技有限公司 Polyamide-imide insulating paint and preparation method thereof
JP6981522B1 (en) * 2020-12-15 2021-12-15 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermosetting resin composition and its use
US11964730B2 (en) 2021-05-22 2024-04-23 Sram, Llc Controller indication
WO2023276093A1 (en) * 2021-06-30 2023-01-05 昭和電工マテリアルズ株式会社 Resin composition and method for producing semiconductor device
JP2023177415A (en) * 2022-06-02 2023-12-14 株式会社レゾナック Polyamide-imide and polyamide-imide film

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012224703A (en) 2011-04-18 2012-11-15 Hitachi Chemical Co Ltd Polyamide-imide resin, production method therefor, thermosetting resin composition, insulation coating material and electric insulated wire
JP5176128B2 (en) * 2006-04-14 2013-04-03 日立化成株式会社 Polyamideimide resin, method for producing the same, and resin composition containing the polyamideimide resin

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5157097A (en) * 1990-08-23 1992-10-20 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Polyamide-imide resins and production thereof
JP4792626B2 (en) 2000-09-14 2011-10-12 東洋紡績株式会社 Alkali-soluble polyamideimide copolymer
WO2008041426A1 (en) * 2006-10-04 2008-04-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Polyamideimide resin, adhesive agent, material for flexible substrate, flexible laminate, and flexible print wiring board
JP5732815B2 (en) * 2009-10-30 2015-06-10 日立化成株式会社 Photosensitive adhesive composition, film adhesive using the same, adhesive sheet, adhesive pattern, semiconductor wafer with adhesive layer, transparent substrate with adhesive layer, and semiconductor device.
JP2012098470A (en) 2010-11-01 2012-05-24 Kaneka Corp Novel photosensitive resin composition and utilization of the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5176128B2 (en) * 2006-04-14 2013-04-03 日立化成株式会社 Polyamideimide resin, method for producing the same, and resin composition containing the polyamideimide resin
JP2012224703A (en) 2011-04-18 2012-11-15 Hitachi Chemical Co Ltd Polyamide-imide resin, production method therefor, thermosetting resin composition, insulation coating material and electric insulated wire

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021048075A1 (en) * 2019-09-09 2021-03-18 Solvay Specialty Polymers Usa, Llc Polyamide-imide polymer and process for its manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
JP5934419B1 (en) 2016-06-15
JP2017036407A (en) 2017-02-16
CN106432725A (en) 2017-02-22
CN106432725B (en) 2018-03-27
TWI574998B (en) 2017-03-21
TW201706335A (en) 2017-02-16
KR20170020220A (en) 2017-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101713996B1 (en) Polyamide-imide resin, thermosetting resin composition, method for producing cured product of thermosetting resin composition and polyamide-imide resin
US9232636B2 (en) Flexible printed wiring board and laminate for production of flexible printed wiring board
KR102323830B1 (en) Polyimide, adhesive, film-shaped adhesive material, adhesive layer, adhesive sheet, copper foil with resin, copper clad laminate, printed wiring board, and multi-layer board and manufacturing method thereof
WO2009145224A1 (en) Epoxy resin composition for printed wiring board, solder resist composition, resin film, resin sheet, prepreg, metal foil with resin, cover lay, and flexible printed wiring board
JP6287840B2 (en) Metal foil laminate
JP4616771B2 (en) Flame retardant epoxy resin composition and cured product thereof
TWI500695B (en) Thermosetting composition
JP6869078B2 (en) Curable resin compositions, laminated structures, cured products thereof, and electronic components
JP2011046782A (en) Epoxy resin composition for printed wiring board, resin film, prepreg, metal foil with resin, and flexible printed wiring board
KR20160004942A (en) Photosensitive thermosetting resin composition, dry film and printed wiring board
TWI424004B (en) Polyimide silicone resin and thermosetting composition containing the same
CN107709462A (en) Polyamide and its resin combination containing dimer
TWI653257B (en) Polyamide-imide resin and production method of polyamide-imide resin
JP5505240B2 (en) Polyamideimide resin and method for producing the same
JP4428505B2 (en) Aromatic polyamide resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5973003B2 (en) Polyamideimide resin, method for producing the polyamideimide resin, thermosetting resin composition, and cured product of the thermosetting resin composition
CN100343302C (en) Flame-retardant epoxy resin composition and cured product obtained therefrom
JP2002012739A (en) Flame-retardant epoxy resin composition and use thereof
JP2010053189A (en) Epoxy resin composition and material for flexible printed wiring board
JP4474961B2 (en) Polyamideimide and resin composition containing the same
JP2002012740A (en) Flame-retardant epoxy resin composition and use thereof
JP6420171B2 (en) Polyamideimide resin, method for producing the polyamideimide resin, thermosetting resin composition, and cured product of the thermosetting resin composition
JP2010275375A (en) Epoxy resin composition for printed circuit board, resin film, prepreg, metal foil with resin, flexible printed circuit board
KR20240037163A (en) Resin composition, adhesive, coating agent, cured product, adhesive sheet, copper foil with resin, copper clad laminate and printed wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right