KR101710064B1 - Deposition material detecting device having improved service life - Google Patents

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문정일
이명선
윤성원
강민기
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for measuring the amount of a deposited material vaporized in a crucible disposed in a chamber, comprising a sensor unit, a reflection unit, and a heating unit. The sensor unit is installed on one side of the chamber in which the crucible is arranged, and includes a sensing unit for calculating the vaporization amount of the deposition material vaporized in the crucible. The reflection unit is arranged to be separated from the upper or lower sides of the sensor unit, and reflects a part of the deposition material toward the sensor unit. The heating unit heats the reflection unit so that the deposition material deposited on the reflection unit is vaporized.

Description

사용수명이 향상된 증착물질 감지장치{Deposition material detecting device having improved service life}[0001] The present invention relates to a deposition material detecting device having improved service life,

본 발명은 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 챔버 내에 배치된 도가니에서 기화되는 증착물질의 양을 측정하는 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition material sensing device having an improved service life, and more particularly, to a deposition material sensing device having an improved life span for measuring the amount of deposition material vaporized in a crucible disposed in a chamber.

일반적으로 반도체, OLED, CIGS(태양전지판) 등과 같은 기판을 제조하기 위해서는 박막을 증착하는 증착 장비가 이용된다. 증착 장비는 주로 진공 열 증착장비(Thermal evaporation system)가 이용된다. 진공 열 증착장비는 챔버의 상부에 증착 공간부가 마련되고, 그 하부에 증착물질을 제공하는 도가니 및 이를 가열하여 증착물질을 기화시키는 가열장치가 구비된다. 특히, 기판에 증착되는 박막의 두께를 환산하여 계산할 수 있도록, 챔버의 내부에는 도가니에서 증발된 증착물질의 증발량을 측정하는 증착물질 감지장치가 구비된다.In general, a deposition apparatus for depositing a thin film is used to manufacture a substrate such as a semiconductor, an OLED, and a CIGS (solar panel). The deposition equipment is mainly a thermal evaporation system. In the vacuum thermal deposition apparatus, a deposition space is provided at an upper portion of a chamber, a crucible for providing a deposition material at a lower portion thereof, and a heating device for heating the deposition material to vaporize the deposition material. Particularly, in order to calculate the thickness of the thin film deposited on the substrate, a deposition material sensing device for measuring the evaporation amount of the evaporation material vaporized in the crucible is provided in the chamber.

도 1은 종래의 증착물질 감지장치의 일례를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an example of a conventional evaporation material sensing apparatus.

도 1을 참고하면, 종래의 증착물질 감지장치는 모니터 헤드(12)의 앞쪽에 크리스탈 센서(QCM sensor, 13)가 구비된다. 이러한 증착물질 감지장치의 앞쪽에는 증착물질의 일부를 차단하면서 박막의 두께를 측정할 수 있도록 그물 구조로 이루어진 그리드(17) 및 이를 지지하는 그리드 지지대(16)가 구비된다. 그러나 종래의 증착물질 감지장치는 앞쪽에 그리드(17)가 구비되어 있기 때문에 초기 측정시에는 증발물질의 일부를 차단하면서 박막의 두께 측정이 가능하나, 어느 정도 시간이 경과하게 되면, 그리드(17)에 증발 물질의 입자들이 축적되면서 그리드가 막히는 문제가 발생되고, 이에 따라 박막의 두께 측정이 불가능해지는 문제점이 있었다.Referring to FIG. 1, a conventional deposition material sensing apparatus is provided with a crystal sensor (QCM sensor) 13 in front of a monitor head 12. In order to measure the thickness of the thin film while blocking a part of the deposition material, a grid 17 and a grid support 16 for supporting the grid 17 are provided in front of the deposition material sensing device. However, since the conventional deposition material sensing device is equipped with the grid 17 at the front side, it is possible to measure the thickness of the thin film while blocking a part of the evaporation material at the initial measurement. However, There is a problem that the grid is clogged due to the accumulation of particles of evaporated material in the thin film, thereby making it impossible to measure the thickness of the thin film.

대한민국 등록실용신안 제20-0218573호(2001. 05. 02. 등록공고, 발명의 명칭 : 기판 박막 증착장치의 크리스탈 센서 보호장치)Korean Registered Utility Model No. 20-0218573 (Registered on May 05, 2001, entitled "Crystal Sensor Protection Device of Substrate Thin Film Deposition Device")

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 센서부가 증착물질에 의해 오염되는 것을 최소화할 수 있고, 이를 위해 구비되는 별도의 수단도 증착물질에 의해 오염되지 않도록 할 수 있는 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to minimize the contamination of the sensor portion by the deposition material and to prevent contamination by the deposition material. And an object of the present invention is to provide a deposition material sensing device with improved service life.

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상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 도가니가 내부에 배치되는 챔버의 일측에 설치되고, 상기 도가니에서 기화되는 증착물질의 기화량을 산출하기 위한 감지수단이 구비되는 센서부; 상기 센서부의 상측 또는 하측으로부터 이격되어 배치되고, 상기 증착물질 중 일부를 상기 센서부를 향해 반사시키는 반사부; 및상기 반사부에 증착된 증착물질이 기화되도록 상기 반사부를 가열시키는 가열부;를 포함하고, 상기 반사부는, 상기 센서부와 마주보게 배치되는 평판과, 상기 평판의 양측에 결합되어 상기 센서부를 향해 돌출되는 한 쌍의 경사판을 구비하며, 상기 한 쌍의 경사판은 상기 센서부로 갈수록 서로 간격이 넓어지도록, 상기 평판에 경사지게 결합되고, 상기 경사판의 단부에 탈부착 가능하게 결합되는 확장부재;를 더 포함하며, 상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 기준치 미만일 경우, 상기 경사판의 단부에 상기 확장부재를 결합함으로써, 상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 늘어날 수 있도록 구성된 것을 특징으로 한다.In order to accomplish the above object, the present invention provides an apparatus for detecting a deposited material having improved service life, comprising: a sensing unit installed at a side of a chamber in which a crucible is disposed, for sensing vaporized amount of evaporated material vaporized in the crucible; A sensor unit including the sensor unit; A reflection part disposed to be spaced from an upper side or a lower side of the sensor part and reflecting a part of the evaporation material toward the sensor part; And a heating unit heating the reflection unit to vaporize the evaporation material deposited on the reflection unit, wherein the reflection unit includes: a flat plate disposed opposite the sensor unit; and a heating unit coupled to both sides of the flat plate, And an expanding member slidably coupled to the flat plate and detachably coupled to the end of the swash plate so that a distance between the pair of swash plates is increased toward the sensor unit And the amount of the evaporation material reaching the sensor unit is increased by coupling the expansion member to the end of the swash plate when the amount of the evaporation material reaching the sensor unit is less than the reference value.

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상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 도가니가 내부에 배치되는 챔버의 일측에 설치되고, 상기 도가니에서 기화되는 증착물질의 기화량을 산출하기 위한 감지수단이 구비되는 센서부; 상기 센서부의 상측 또는 하측으로부터 이격되어 배치되고, 상기 증착물질 중 일부를 상기 센서부를 향해 반사시키는 반사부; 및 상기 반사부에 증착된 증착물질이 기화되도록 상기 반사부를 가열시키는 가열부;를 포함하고, 상기 반사부는, 상기 센서부와 마주보게 배치되고, 면적이 다른 복수의 반사판이 양단에 결합된 구동바를 구비하며, 상기 구동바를 상기 구동바의 중심부를 기준으로 회전시키는 회전구동부; 및 상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 기준치 미만일 경우, 상기 구동바가 상기 회전구동부에 의해 회전되어 상기 복수의 반사판 중 면적이 큰 반사판이 상기 센서부를 향해 배치되고, 상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 기준치 이상일 경우, 상기 구동바가 상기 회전구동부에 의해 회전되어 상기 복수의 반사판 중 면적이 작은 반사판이 상기 센서부를 향해 배치되도록 상기 회전구동부를 제어하는 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to accomplish the above object, the present invention provides an apparatus for detecting a deposited material having improved service life, comprising: a sensing unit installed at a side of a chamber in which a crucible is disposed, for sensing vaporized amount of evaporated material vaporized in the crucible; A sensor unit including the sensor unit; A reflection part disposed to be spaced from an upper side or a lower side of the sensor part and reflecting a part of the evaporation material toward the sensor part; And a heating unit heating the reflection unit to vaporize the evaporation material deposited on the reflection unit, wherein the reflection unit includes a plurality of reflection plates arranged opposite to the sensor unit, A rotation driving unit for rotating the driving bar with respect to the center of the driving bar; And when the amount of the evaporation material reaching the sensor unit is less than a reference value, the driving bar is rotated by the rotation driving unit so that a reflection plate having a large area among the plurality of reflection plates is disposed toward the sensor unit, And a control unit for controlling the rotation driving unit such that the driving bar is rotated by the rotation driving unit so that a reflection plate having a small area among the plurality of reflection plates is disposed toward the sensor unit when the amount of the evaporation material is greater than a reference value .

본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 센서부의 사용수명을 연장할 수 있고, 센서부의 교체에 따른 증착 공정의 중단을 최소화할 수 있으며, 이에 따라 장비 가동율을 향상시킬 수 있다.According to the deposition material sensing apparatus of the present invention having an improved service life, the service life of the sensor unit can be extended, the interruption of the deposition process due to the replacement of the sensor unit can be minimized, and thus the equipment operation rate can be improved.

또한, 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 반사부가 증착물질로 뒤덮히는 것을 방지할 수 있고, 이를 통해 센서부의 측정 신뢰도를 보다 높일 수 있다.Further, according to the evaporation material sensing apparatus of the present invention having improved service life, it is possible to prevent the reflection portion from being covered with the evaporation material, thereby increasing the measurement reliability of the sensor portion.

또한, 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 센서부에 도달하는 증착물질의 양을 증가시킴으로써, 센서부의 측정 신뢰도를 보다 높일 수 있다.Further, according to the evaporation material sensing apparatus having the improved service life of the present invention, it is possible to increase the measurement reliability of the sensor unit by increasing the amount of evaporation material reaching the sensor unit.

또한, 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 반사부에 확장부재를 탈부착하여 센서부에 도달하는 증착물질의 양을 조정함으로써, 센서부의 측정 신뢰도를 유지하면서, 센서부의 사용수명을 극대화할 수 있다.In addition, according to the deposition material sensing apparatus of the present invention having an improved service life, it is possible to improve the service life of the sensor unit while maintaining the measurement reliability of the sensor unit by adjusting the amount of evaporation material reaching the sensor unit by attaching / Can be maximized.

또한, 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 반사부의 반사각도를 조절하여 센서부에 도달하는 증착물질의 양을 조절할 수 있고, 이를 통해 센서부의 측정 신뢰도를 유지하면서, 센서부의 사용수명을 극대화할 수 있다.According to the deposition material sensing apparatus of the present invention, the amount of evaporation material reaching the sensor unit can be controlled by adjusting the reflection angle of the reflection unit, thereby maintaining the measurement reliability of the sensor unit, The life can be maximized.

또한, 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 틸트부를 통해 반사부의 각도를 쉽고 간편하게 조정할 수 있다.Further, according to the deposition material sensing apparatus of the present invention having an improved service life, the angle of the reflection portion can be easily and easily adjusted through the tilt portion.

또한, 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 따르면, 센서부에 도달하는 증착물질의 양에 따라 반사판의 면적을 변경함으로써, 센서부의 수명이 단축되는 것을 최소화할 수 있고, 반사판의 변경 작업이 제어부에 의해 자동으로 이루어짐으로써, 이에 따른 인력과 시간을 절감할 수 있다.According to the deposition material sensing apparatus of the present invention, the life of the sensor unit can be minimized by changing the area of the reflection plate according to the amount of evaporation material reaching the sensor unit, Is automatically performed by the control unit, it is possible to save manpower and time.

도 1은 종래의 증착물질 감지장치의 일례를 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 구성을 개략적으로 나타낸 단면도이고,
도 3은 도 2의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 구성된 센서부에 도가니에서 기화된 증착물질 중 일부만 도달하는 것을 설명하기 위한 도면이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 구성된 반사부의 변형례를 나타낸 도면이고,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 구성에 확장부재가 추가로 구성된 것을 나타낸 도면이고,
도 6은 도 2의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 구성된 틸트부 부분을 확대하여 나타낸 단면도이고,
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 구성에 회전구동부와 제어부가 추가로 구성된 것을 나타낸 도면이고,
도 8는 도 8의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 반사부를 정면에서 바라본 도면이다.1 is a view showing an example of a conventional evaporation material sensing apparatus,
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a deposition material sensing apparatus having an improved service life according to an embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a view for explaining that only a part of the evaporated material vaporized in the crucible reaches the sensor unit configured in the evaporation material sensing apparatus with improved service life in FIG. 2,
FIG. 4 is a view illustrating a modification of the reflection unit configured in the deposition material sensing apparatus with improved service life according to an embodiment of the present invention,
FIG. 5 is a view showing that an expansion member is additionally constructed in the structure of the deposition material sensing apparatus with improved service life according to an embodiment of the present invention,
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a tilted portion of the deposition material sensing apparatus of FIG. 2,
FIG. 7 is a view showing a structure of a deposition material sensing apparatus with improved service life according to an embodiment of the present invention, in which a rotation driving unit and a control unit are additionally constructed,
FIG. 8 is a front view of the reflection unit of the deposition material sensing apparatus with improved service life shown in FIG. 8. FIG.

이하, 본 발명에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a deposition material sensing apparatus with improved service life according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 증착물질 감지장치의 일례를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 구성을 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 3은 도 2의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 구성된 센서부에 도가니에서 기화된 증착물질 중 일부만 도달하는 것을 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 구성된 반사부의 변형례를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 구성에 확장부재가 추가로 구성된 것을 나타낸 도면이고, 도 6은 도 2의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치에 구성된 틸트부 부분을 확대하여 나타낸 단면도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 구성에 회전구동부와 제어부가 추가로 구성된 것을 나타낸 도면이고, 도 8는 도 8의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치의 반사부를 정면에서 바라본 도면이다.FIG. 1 is a view showing an example of a conventional evaporation material sensing apparatus, FIG. 2 is a sectional view schematically showing the construction of a deposition material sensing apparatus having an improved service life according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a cross- FIG. 4 is a view for explaining that only a part of the evaporated material vaporized in the crucible reaches the sensor unit constituted in the evaporated material sensing apparatus having improved service life, and FIG. 4 is a view for explaining the evaporated material sensing apparatus having improved service life according to an embodiment of the present invention FIG. 5 is a view showing a modification of the constitution of the reflection unit constructed in accordance with the embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a tilted portion configured in a deposition material sensing apparatus having an improved life span. FIG. 7 is a cross- FIG. 8 is a front view of the reflection unit of the deposition material sensing apparatus of FIG. 8 with improved service life; FIG.

도 2 내지 도 8를 참조하면, 본 실시예에 따른 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치(1)는 챔버(C) 내에 배치된 도가니(D)에서 기화되는 증착물질(M)의 양을 측정하는 장치로서, 센서부(100)와, 반사부(200)와, 가열부(300)를 포함한다.2 to 8, the deposition material sensing apparatus 1 with improved service life according to the present embodiment is configured to measure the amount of the evaporation material M vaporized in the crucible D disposed in the chamber C The apparatus includes a sensor unit 100, a reflection unit 200, and a heating unit 300.

상기 센서부(100)는 도 2에 도시된 바와 같이 도가니(D)가 내부에 배치되는 챔버(C)의 일측에 설치되고, 도가니(D)에서 기화되는 증착물질(M)의 기화량을 산출하기 위한 감지수단(110)을 구비한다.2, the sensor unit 100 is installed at one side of the chamber C in which the crucible D is disposed, and calculates the vaporization amount of the evaporation material M vaporized in the crucible D And a sensing means 110 for sensing the position.

센서부(100)는 구체적으로, 도가니(D)에서 기화되어 기판(S) 쪽으로 확산되는 증착물질(M)의 확산영역(A) 밖에 설치된다. 감지수단(110)은 통상의 QCM(Quartz crystal microbalance) 센서로서, 센서부(100)의 일면에 내장된다. The sensor unit 100 is installed outside the diffusion region A of the evaporation material M vaporized in the crucible D and diffused toward the substrate S. [ The sensing means 110 is a conventional quartz crystal microbalance (QCM) sensor and is embedded in one surface of the sensor unit 100.

감지수단(110)에 구비된 수정자(미도시)는 압전효과에 의해 일정 주파수로 진동하는데, 여기에 증착물질(M)이 증착됨에 따라 수정자의 주파수에 변화가 생기고, 이러한 주파수 변화를 통해 증착물질(M)의 증착 속도 및 증착 두께를 측정하게 된다.The modifier (not shown) provided in the sensing means 110 vibrates at a certain frequency by the piezoelectric effect. As the evaporation material M is deposited on the modifier, the frequency of the modifier is changed. The deposition rate of the material M and the deposition thickness are measured.

상기 반사부(200)는 센서부(100)의 상측 또는 하측으로부터 이격되어 배치되고, 도 3에 도시된 바와 같이 증착물질(M) 중 일부(M1)를 센서부(100)를 향해 반사시킨다. 반사부(200)는 증착물질(M)에 대해 내식성과 내열성을 갖는 재질로 제작되며, 구체적으로는 티타늄이나 인코넬(inconel)과 같은 특수합금으로 제작될 수 있다.The reflector 200 is spaced from the upper side or the lower side of the sensor unit 100 and reflects a part M1 of the evaporation material M toward the sensor unit 100 as shown in FIG. The reflective portion 200 is made of a material having corrosion resistance and heat resistance with respect to the evaporation material M, specifically, a special alloy such as titanium or inconel.

반사부(200)는 증착물질(M)의 확산영역(A) 내에 배치되고, 반사부(200)의 이면에 결합되는 지지대(50)를 매개로 챔버(C)의 일측에 고정된다. 반사부(200)에 도달하는 증착물질(M) 중 일부(M1)는 반사부(200)에 의해 센서부(100)로 반사되고, 나머지(M2)는 반사부(200)에 의해 센서부(100) 밖으로 반사된다.The reflector 200 is disposed in the diffusion region A of the evaporation material M and is fixed to one side of the chamber C via a supporter 50 coupled to the backside of the reflector 200. A part M1 of evaporation material M reaching the reflection part 200 is reflected by the reflection part 200 to the sensor part 100 and the rest M2 is reflected by the reflection part 200 100).

종래에는 센서부(100)가 증착물질(M)의 확산영역(A) 내에 설치되어 있어, 센서부(100)에 증착물질(M)이 쌓이게 되고, 보통 하루 정도를 사용하고 센서부(100)를 교체해줘야 했다. 반면, 본 발명은 센서부(100)가 증착물질(M)의 확산영역(A) 밖에 설치되고, 반사부(200)가 증착물질(M)의 확산영역(A) 내에 설치됨에 따라, 증착물질(M) 중 일부(M1)만 반사부(200)를 통해 센서부(100)에 도달하게 된다.The sensor unit 100 is installed in the diffusion region A of the deposition material M so that the deposition material M is accumulated on the sensor unit 100 and the sensor unit 100 is normally used for about one day, I had to replace it. In contrast, in the present invention, since the sensor unit 100 is installed outside the diffusion region A of the deposition material M and the reflection unit 200 is installed in the diffusion region A of the deposition material M, Only a part M1 of the sensor M reaches the sensor unit 100 through the reflection unit 200. [

즉, 일정시간 동안 센서부(100)에 증착되는 증착물질(M)의 양이 줄어들기 때문에, 센서부(100)의 사용수명이 연장될 수 있다. 또한, 센서부(100)의 사용수명 연장은 곧 센서부(100)의 교체주기의 연장을 의미하므로, 센서부(100)의 교체에 따른 증착 공정의 중단을 최소화할 수 있고, 이에 따라 장비 가동율도 향상될 수 있다.That is, since the amount of the evaporation material M deposited on the sensor unit 100 is reduced for a predetermined time, the service life of the sensor unit 100 can be extended. Since the extension of the service life of the sensor unit 100 means the extension of the replacement period of the sensor unit 100, it is possible to minimize the interruption of the deposition process due to the replacement of the sensor unit 100, Can also be improved.

상기 가열부(300)는 반사부(200)에 증착된 증착물질(M)이 기화되도록 반사부(200)를 가열시킨다. 만약, 반사부(200)에 증착물질(M)이 증착되어 증착물질(M)이 반사부(200)를 뒤덮게 되면, 반사부(200)가 제 기능을 하지 못함은 물론, 센서부(100)의 측정 신뢰도도 떨어지기 때문에 기판(S)에 형성되는 박막의 품질도 저하될 수 있다. 또한, 반사부에 증착된 증착물질이 수시로 청소/제거해야 하므로 증창 공정의 효율도 저하된다.The heating unit 300 heats the reflector 200 so that the evaporation material M deposited on the reflector 200 is vaporized. If the deposition material M is deposited on the reflective portion 200 and the deposition material M covers the reflective portion 200, the reflective portion 200 may not function, The quality of the thin film formed on the substrate S may also be deteriorated. In addition, since the evaporation material deposited on the reflective portion has to be cleaned / removed from time to time, the efficiency of the deposition process is lowered.

가열부(300)는 코일 형태의 열선이 반사부(200)에 내장되어 구성될 수도 있고, 반사부(200)의 내부에 고온매체가 유동할 수 있는 유로가 형성되어 구성될 수도 있으며, 자기장에 의해 발생하는 유도전류를 이용하여 구성될 수도 있다. 이외에 다양한 공지기술들이 적용될 수 있다.The heating unit 300 may be constructed such that a coil-shaped heat ray is embedded in the reflection unit 200 or a flow path through which the high-temperature medium can flow in the reflection unit 200 may be formed, Or the like. Various known technologies may be applied.

한편, 반사부(200)는 도 4에 도시된 바와 같이 센서부(100)와 이격되어 배치되는 평판(210)과, 평판(210)의 양측에 결합되어 센서부(100)를 향해 돌출되는 한 쌍의 경사판(220)을 구비하고, 한 쌍의 경사판(220)은 센서부(100)로 갈수록 서로 간격이 넓어지도록, 평판(210)에 경사지게 결합될 수 있다.4, the reflection unit 200 includes a flat plate 210 spaced apart from the sensor unit 100, and a pair of flat plates 210 coupled to both sides of the flat plate 210 and protruding toward the sensor unit 100 And the pair of swash plates 220 may be inclined to the flat plate 210 so that the distance between the swash plate 220 and the sensor unit 100 increases.

이는 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양을 증가시키기 위함인데, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 센서부(100)가 감지할 수 있는 양보다 부족할 경우, 반사부(200)의 형태를 상기와 같이 콘(cone) 혹은 혼(horn) 형태로 하여, 반사부(200)로 입사되는 증착물질(M)이 반사부(200) 안쪽으로 모아져 반사되게 함으로써, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양을 증가시킬 수 있다.This is to increase the amount of the evaporation material M reaching the sensor unit 100. The amount of the evaporation material M reaching the sensor unit 100 is larger than the amount that the sensor unit 100 can detect The evaporation material M incident on the reflective portion 200 is gathered toward the inside of the reflective portion 200 and is reflected by the reflection portion 200. As a result, The amount of evaporation material M reaching the sensor unit 100 can be increased.

여기서 반사부(200)의 범위가 더 확장될 수 있도록 경사판(220)의 단부에 탈부착 가능하게 결합되는 확장부재(400)를 더 포함할 수 있다. 도 5를 참조하면, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 기준치 미만일 경우, 경사판(220)의 단부에 확장부재(400)를 결합함으로써, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 늘어나도록 할 수 있고, 반대로, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 기준치 이상일 경우, 경사판(220)의 단부에서 확장부재(400)를 분리함으로써, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 줄어들도록 할 수 있다. 즉, 반사부(200)에 확장부재(400)를 탈부착하여 반사부(200)의 범위를 조정함으로써, 센서부(100)의 측정 신뢰도는 유지한 상태에서 센서부(100)에 쌓이는 증착물질(M)의 양을 최소화하는 것이다. 이를 통해 센서부(100)의 사용수명을 극대화할 수 있게 된다.And may further include an extension member 400 detachably coupled to an end of the swash plate 220 so that the range of the reflection portion 200 can be further extended. 5, when the amount of the evaporation material M arriving at the sensor unit 100 is less than the reference value, the expansion member 400 is coupled to the end of the swash plate 220, The amount of the evaporation material M can be increased and the expansion member 400 can be separated from the end of the swash plate 220 when the amount of the evaporation material M reaching the sensor unit 100 is equal to or greater than the reference value The amount of evaporation material M reaching the sensor unit 100 can be reduced. That is, by adjusting the range of the reflector 200 by attaching and detaching the extension member 400 to the reflector 200, the deposition reliability of the sensor unit 100 can be maintained, M) is minimized. The service life of the sensor unit 100 can be maximized.

확장부재(400)는 끼움홈과 끼움돌기가 상호 억지끼움으로 결합되거나, 림 형상의 돌기에 림의 내경보다 조금 큰 직경을 갖는 끼움구를 삽입하는 방식 등 다양한 결합 방식이 적용될 수 있다.The extension member 400 may be formed by a variety of coupling methods such as a method in which the fitting grooves and the fitting protrusions are coupled with each other by interference fit or a method in which a fitting having a diameter slightly larger than the inner diameter of the rim is inserted into the rim-shaped protrusions.

센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양을 조절하기 위해, 반사부(200)의 반사각도를 조절할 수도 있다. 이때, 반사부(200)는 판 형상으로, 센서부(100)를 향해 상하좌우로 회전가능하게 챔버(C)에 결합되고, 반사부(200)의 각도에 따라 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 조절된다.In order to adjust the amount of evaporation material M reaching the sensor unit 100, the reflection angle of the reflection unit 200 may be adjusted. The reflector 200 is formed in a plate shape and is coupled to the chamber C so as to be rotatable up and down and to the left and right toward the sensor unit 100. The reflector 200 is connected to the sensor unit 100 according to the angle of the reflector 200 The amount of the deposition material (M) is controlled.

센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 과하거나 부족할 경우, 센서부(100)의 측정 요구량에 맞도록 반사부(200)의 각도를 조정함으로써, 센서부(100)의 수명이 단축되는 것을 최소화하면서 원하는 측정 데이터를 얻을 수 있다.The angle of the reflection portion 200 is adjusted so as to match the measurement required amount of the sensor portion 100 when the amount of evaporation material M reaching the sensor portion 100 is excessive or insufficient, Desired measurement data can be obtained while minimizing the shortening.

반사부(200)의 각도 조절을 위하여 틸트부(500)가 더 포함될 수 있다.The tilt part 500 may be further included for adjusting the angle of the reflection part 200.

상기 틸트부(500)는 도 6에 도시된 바와 같이 반사부(200)와 지지대(50) 사이, 또는 지지대(50)와 챔버(C) 사이에 설치될 수 있고, 본 실시예에서는 반사부(200)와 지지대(50) 사이에 설치된다. 틸트부(500)는 고정플레이트(510)와, 고정로드(520)와, 클러치(530)와, 너트(540)와, 스프링(550)을 포함하여 구성된다.The tilt part 500 may be installed between the reflection part 200 and the support 50 or between the support 50 and the chamber C as shown in FIG. 200 and the support base 50. The tilt portion 500 includes a fixed plate 510, a fixed rod 520, a clutch 530, a nut 540, and a spring 550.

고정플레이트(510)는 지지대(50)의 단부에 결합되는 일측면에 내측으로 함몰된 요홈(511)을 구비하고, 타측면에 반구 형상의 슬라이딩홈(512)을 구비하며, 중심부를 관통하는 중공을 구비한다. 반사부(200)의 이면에 반구 형상으로 돌출된 범프(201)가 슬라이딩홈(512)에 안착되고, 범프(201)의 중심부에는 관통홀이 형성된다. 중공 및 관통홀에는 고정로드(520)가 삽입되는데, 고정로드(520)의 일단부에는 걸림부(521)가 형성되어 요홈(511)에 안착되고, 타단부는 나사산(미도시)이 형성되어 범프(201)의 내측으로 돌출된다. 반구 형상의 클러치(530)가 고정로드(520)의 타단부에 삽입되는데, 클러치(530)의 외주면이 범프(201)의 내측면에 밀착되도록 삽입된다. 고정로드(520)의 타단부에 스프링(550)과 너트(540)가 차례로 삽입되고, 너트(540)가 조여짐에 따라 클러치(530)가 범프에 압착된다.The fixing plate 510 has a recess 511 recessed inwardly on one side thereof coupled to an end of the supporter 50 and a semi-spherical sliding groove 512 on the other side thereof. Respectively. A bump 201 protruding in a hemispherical shape on the back surface of the reflecting portion 200 is seated in the sliding groove 512 and a through hole is formed in the center of the bump 201. A fixing rod 520 is inserted into the hollow and the through hole. The fixing rod 520 has a latching portion 521 formed at one end thereof and is seated in the groove 511 and the other end is formed with a thread (not shown) And protrudes inward of the bump 201. The hemispherical clutch 530 is inserted into the other end of the fixed rod 520. The outer circumferential surface of the clutch 530 is inserted into the bumper 201 so as to be in close contact with the inner surface thereof. The spring 550 and the nut 540 are sequentially inserted into the other end of the fixed rod 520 and the nut 540 is tightened so that the clutch 530 is pressed against the bump.

이때, 범프(201)에 형성된 관통홀의 직경이 고정로드(520)의 직경보다는 크고, 클러치(530)의 원호 길이보다는 작게 형성되어 있어서, 반사부(200)가 일정범위 안에서 상하좌우로 자유롭게 회전될 수 있고, 클러치(530)가 반사부(200)를 압착하여 가고정하기 때문에 반사부(200)의 각도가 유지될 수 있다. 이러한 틸트부(500)를 통해 반사부(200)의 각도를 쉽고 간편하게 조정할 수 있게 된다. The diameter of the through hole formed in the bump 201 is larger than the diameter of the fixing rod 520 and smaller than the arc length of the clutch 530 so that the reflection portion 200 is freely rotated up and down, And the angle of the reflection portion 200 can be maintained because the clutch 530 presses and fixes the reflection portion 200. The angle of the reflection unit 200 can be easily and easily adjusted through the tilt unit 500.

틸트부(500)의 구성과 구조는 본 실시예에 한정되는 것이 아니고, 균등범위 내에서 다양한 공지기술로 치환 또는 변형될 수 있다.The structure and structure of the tilt portion 500 are not limited to the present embodiment, and can be replaced or modified by various known techniques within an equal range.

센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양을 조절하기 위해 반사부(200)의 구성과 형태를 다음과 같이 할 수도 있다.The configuration and shape of the reflection unit 200 may be modified as follows to adjust the amount of the evaporation material M reaching the sensor unit 100.

도 7 또는 도 8을 참조하면, 반사부(200)는 센서부(100)와 마주보게 배치되고, 면적이 다른 복수의 반사판(251a, 251b)이 양단에 결합된 구동바(250)를 구비한다. 여기에 구동바(250)를 구동바(250)의 중심부를 기준으로 회전시키는 회전구동부(600)가 더 포함되며, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 기준치 미만일 경우, 구동바(250)가 회전구동부(600)에 의해 회전되어 복수의 반사판(251) 중 면적이 큰 반사판(251a)이 센서부(100)를 향해 배치되고, 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 기준치 이상일 경우, 구동바(250)가 회전구동부(600)에 의해 회전되어 복수의 반사판(251) 중 면적이 작은 반사판(251b)이 센서부(100)를 향해 배치되도록 회전구동부(600)를 제어하는 제어부(700)가 더 포함된다.7 or 8, the reflector 200 includes a plurality of reflectors 251a and 251b disposed opposite to the sensor unit 100 and each having a different area, . The rotation driving unit 600 further rotates the driving bar 250 about the center of the driving bar 250. When the amount of the evaporation material M arriving at the sensor unit 100 is less than the reference value, The driving bar 250 is rotated by the rotation driving unit 600 so that a reflection plate 251a having a large area among the plurality of reflection plates 251 is disposed toward the sensor unit 100, The driving bar 250 is rotated by the rotation driving unit 600 so that the reflection plate 251b having a smaller area among the plurality of reflection plates 251 is rotated toward the sensor unit 100 And a control unit 700 for controlling the driving unit 600.

이를 통해 센서부(100)에 도달하는 증착물질(M)의 양이 과하거나 부족할 경우, 센서부(100)의 측정 요구량에 맞춰 반사판(251)의 면적을 변경함으로써, 센서부(100)의 수명이 단축되는 것을 최소화할 수 있고, 반사판(251)의 변경 작업이 제어부(700)에 의해 자동으로 이루어짐으로써, 이에 따른 인력과 시간을 절감할 수 있다.The area of the reflection plate 251 is changed in accordance with the measurement required amount of the sensor unit 100 so that the life span of the sensor unit 100 can be improved by changing the area of the reflection plate 251 when the amount of the evaporation material M reaching the sensor unit 100 is excessive or insufficient. And the change of the reflection plate 251 is automatically performed by the control unit 700, thereby saving manpower and time.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 증착물질 중 일부만 반사부를 통해 센서부에 도달하게 함으로써, 센서부의 사용수명을 연장할 수 있고, 센서부의 교체에 따른 증착 공정의 중단을 최소화할 수 있으며, 이에 따라 장비 가동율을 향상시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.The apparatus for detecting a deposited material having an improved service life according to the present invention configured as described above can extend the service life of the sensor unit by allowing only a part of the deposition material to reach the sensor unit through the reflecting unit, It is possible to minimize the disruption, thereby improving the equipment operation rate.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 가열부를 통해 반사부가 증착물질로 뒤덮히는 것을 방지할 수 있고, 이를 통해 센서부의 측정 신뢰도를 보다 높일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the evaporation material sensing device of the present invention having the above-described life span as described above can prevent the reflection portion from being covered with the evaporation material through the heating portion, thereby increasing the measurement reliability of the sensor portion Can be obtained.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 반사부로 입사되는 증착물질이 반사부 안쪽으로 모아져 반사되게 하여, 센서부에 도달하는 증착물질의 양을 증가시킴으로써, 센서부의 측정 신뢰도를 보다 높일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the evaporation material sensing device of the present invention having the above-described life span of the present invention having the improved life span of the present invention can increase the amount of the evaporation material reaching the sensor part by causing the evaporation material incident on the reflection part to be collected and reflected inside the reflection part, It is possible to obtain an effect of further increasing the measurement reliability of the part.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 반사부에 확장부재를 탈부착하여 반사부의 범위를 조정함으로써, 센서부의 측정 신뢰도를 유지하면서, 센서부의 사용수명을 극대화할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the deposition material sensing device of the present invention having the above-described life span as described above can maximize the service life of the sensor portion while maintaining the measurement reliability of the sensor portion by detachably attaching the extension member to the reflection portion to adjust the range of the reflection portion The effect can be obtained.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 반사부의 반사각도를 조절하여 센서부에 도달하는 증착물질의 양을 조절할 수 있고, 이를 통해 센서부의 측정 신뢰도를 유지하면서, 센서부의 사용수명을 극대화할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the evaporation material sensing device of the present invention having the above-described life span as described above can control the amount of evaporation material reaching the sensor portion by adjusting the reflection angle of the reflection portion, thereby maintaining the measurement reliability of the sensor portion , It is possible to maximize the service life of the sensor unit.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 틸트부를 통해 반사부의 각도를 쉽고 간편하게 조정할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the deposition material sensing apparatus of the present invention having the above-described life span with improved service life can easily and easily adjust the angle of the reflective portion through the tilt portion.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치는, 반사부에 서로 면적이 다른 복수의 반사판을 구비하고, 센서부에 도달하는 증착물질의 양에 따라 반사판을 변경함으로써, 센서부의 수명이 단축되는 것을 최소화할 수 있고, 반사판의 변경 작업이 제어부에 의해 자동으로 이루어짐으로써, 이에 따른 인력과 시간을 절감할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.Further, the deposition material sensing device of the present invention having the above-described structure having improved service life includes a plurality of reflection plates having different areas on the reflection part, and by changing the reflection plate according to the amount of deposition material reaching the sensor part, It is possible to minimize the shortening of the service life of the sensor unit and to automatically change the reflection plate by the control unit, thereby saving labor and time.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예 및 변형례에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, but can be implemented in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the appended claims.

1 : 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치
100 : 센서부
200 : 반사부
300 : 가열부
400 : 확장부재
500 : 틸트부
600 : 회전구동부
700 : 제어부1: Deposition material sensing device with improved service life
100:
200:
300: heating part
400: extension member
500: tilt part
600:
700:

Claims (5)

삭제delete 삭제delete 도가니가 내부에 배치되는 챔버의 일측에 설치되고, 상기 도가니에서 기화되는 증착물질의 기화량을 산출하기 위한 감지수단이 구비되는 센서부;
상기 센서부의 상측 또는 하측으로부터 이격되어 배치되고, 상기 증착물질 중 일부를 상기 센서부를 향해 반사시키는 반사부; 및
상기 반사부에 증착된 증착물질이 기화되도록 상기 반사부를 가열시키는 가열부;를 포함하고,
상기 반사부는, 상기 센서부와 마주보게 배치되는 평판과, 상기 평판의 양측에 결합되어 상기 센서부를 향해 돌출되는 한 쌍의 경사판을 구비하며,
상기 한 쌍의 경사판은 상기 센서부로 갈수록 서로 간격이 넓어지도록, 상기 평판에 경사지게 결합되고,
상기 경사판의 단부에 탈부착 가능하게 결합되는 확장부재;를 더 포함하며,
상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 기준치 미만일 경우, 상기 경사판의 단부에 상기 확장부재를 결합함으로써, 상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 늘어날 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치.A sensor unit provided at one side of a chamber in which a crucible is disposed and equipped with sensing means for calculating a vaporization amount of evaporation material vaporized in the crucible;
A reflection part disposed to be spaced from an upper side or a lower side of the sensor part and reflecting a part of the evaporation material toward the sensor part; And
And a heating unit for heating the reflection unit to vaporize the evaporation material deposited on the reflection unit,
Wherein the reflection unit includes a flat plate disposed to face the sensor unit and a pair of swash plates coupled to both sides of the flat plate and protruding toward the sensor unit,
Wherein the pair of swash plates are inclined to the flat plate so that the distance between the swash plate and the sensor unit increases,
And an extension member detachably coupled to an end of the swash plate,
Wherein when the amount of the evaporation material reaching the sensor portion is less than a reference value, the amount of the evaporation material reaching the sensor portion can be increased by engaging the expansion member at the end portion of the swash plate. This improved deposition material sensing device. 삭제delete 도가니가 내부에 배치되는 챔버의 일측에 설치되고, 상기 도가니에서 기화되는 증착물질의 기화량을 산출하기 위한 감지수단이 구비되는 센서부;
상기 센서부의 상측 또는 하측으로부터 이격되어 배치되고, 상기 증착물질 중 일부를 상기 센서부를 향해 반사시키는 반사부; 및
상기 반사부에 증착된 증착물질이 기화되도록 상기 반사부를 가열시키는 가열부;를 포함하고,
상기 반사부는, 상기 센서부와 마주보게 배치되고, 면적이 다른 복수의 반사판이 양단에 결합된 구동바를 구비하며,
상기 구동바를 상기 구동바의 중심부를 기준으로 회전시키는 회전구동부; 및
상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 기준치 미만일 경우, 상기 구동바가 상기 회전구동부에 의해 회전되어 상기 복수의 반사판 중 면적이 큰 반사판이 상기 센서부를 향해 배치되고, 상기 센서부에 도달하는 상기 증착물질의 양이 기준치 이상일 경우, 상기 구동바가 상기 회전구동부에 의해 회전되어 상기 복수의 반사판 중 면적이 작은 반사판이 상기 센서부를 향해 배치되도록 상기 회전구동부를 제어하는 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사용수명이 향상된 증착물질 감지장치.A sensor unit provided at one side of a chamber in which a crucible is disposed and equipped with sensing means for calculating a vaporization amount of evaporation material vaporized in the crucible;
A reflection part disposed to be spaced from an upper side or a lower side of the sensor part and reflecting a part of the evaporation material toward the sensor part; And
And a heating unit for heating the reflection unit to vaporize the evaporation material deposited on the reflection unit,
The reflective portion may include a driving bar disposed opposite to the sensor portion and having a plurality of reflection plates having different areas coupled to both ends,
A rotation driving unit for rotating the driving bar with respect to the center of the driving bar; And
Wherein when the amount of the evaporation material reaching the sensor unit is less than a reference value, the driving bar is rotated by the rotation driving unit such that a reflection plate having a large area among the plurality of reflection plates is disposed toward the sensor unit, And a control unit for controlling the rotation driving unit such that the driving bar is rotated by the rotation driving unit so that a reflection plate having a small area among the plurality of reflection plates is disposed toward the sensor unit when the amount of the evaporation material is not less than a reference value. A deposition material sensing device with improved service life.
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